KR20000025581A - 유니폴라형 척을 갖춘 건식 식각장치의 냉각 시스템 및 그 제어방법 - Google Patents

유니폴라형 척을 갖춘 건식 식각장치의 냉각 시스템 및 그 제어방법 Download PDF

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Abstract

유니폴라(unipolar)형 ESC(Electro Static Chuck)을 갖춘 건식 식각 장치의 냉각 시스템 및 그 제어 방법에 관하여 개시한다. 본 발명의 냉각 시스템은 헬륨 가스를 상기 식각 챔버 내로 공급하기 위한 메인 헬륨 밸브와, 상기 식각 챔버와 진공 라인과의 사이에 연결되어 있는 발라스트(ballast) 밸브와, 상기 식각 챔버와 상기 발라스트 밸브 사이에 설치되어 있는 식각 챔버측 메인 밸브와, 상기 ESC 상에 있는 웨이퍼의 배면으로 플로우되는 헬륨 가스를 진공 라인으로 펌핑하기 위한 펌핑 밸브를 구비한다. 상기 건식 식각 장치에서 식각 공정의 런(run) 진행시에는 상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 식각 챔버측 메인 밸브는 개방하고, 상기 펌핑 밸브는 폐쇄한다. 상기 건식 식각 장치의 식각 챔버 내에서 웨이퍼의 디척킹(dechucking)시에는 상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 펌핑 밸브는 개방하고, 상기 식각 챔버측 메인 밸브는 폐쇄한다.

Description

유니폴라형 척을 갖춘 건식 식각 장치의 냉각 시스템 및 그 제어 방법
본 발명은 반도체 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 건식 식각 장치의 냉각 시스템 및 그 제어 방법에 관한 것이다.
현재, 반도체 제조를 위하여 ESC(Electro Static Chuck)를 이용하는 건식 식각 장치에서 웨이퍼를 가공할 때, 냉각 가스로서 헬륨이 식각 챔버 내로 플로우되면서 웨이퍼상의 소정의 막질이 식각된다.
도 1은 종래 기술에 의한 건식 식각 장치의 헬륨 냉각 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 도 1의 건식 식각 장치에 구비된 바이폴라형 ESC의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 종래의 건식 식각 장치에 구비된 바이폴라형 ESC는 하부 전극(12)이 2개의 전극으로 구성되고, 각각의 전극에 + 및 - 전압을 인가할 때 정전기가 발생되어 웨이퍼(14)를 척킹(chucking)하게 된다. 상기 하부 전극(12)을 덮고 있는 절연층(16)은 애노다이즈드 알루미나(anodized alumina)로 이루어진다.
도 1을 참조하여 상기 식각 챔버(10) 내에서 웨이퍼(14)를 냉각시키기 위하여 구비된 종래의 냉각 시스템의 동작을 설명하면 다음과 같다.
스타트 버튼(도시 생략)이 눌려지면 헬륨 이송 보조 밸브(V85) 및 펌프 발라스트(pump ballast)(30)의 밸브가 폐쇄되고, 헬륨 이베큐에이션(evacuation) 밸브(V92)가 오픈된다. 상기 펌프 발라스트(30)는 진공 라인(도시 생략)과 연결되어 있다.
레시피(recipe)가 헬륨 압력 설정치를 예를 들면 8 토르(Torr)로 정할 때 헬륨 이송 메인 밸브(V90) 및 헬륨 안정화 밸브(V90A)가 개방된다.
헬륨 압력 콘트롤러(PC9)는 웨이퍼(14)가 받는 압력이 100 토르 이하로 되도록 헬륨 압력을 결정한다. 이 때, 웨이퍼(14)의 배면과 척 사이로 헬륨이 플로우된다.
헬륨 압력을 끄면, 헬륨 이송 메인 밸브(V90) 및 헬륨 안정화 밸브(V90A)는 폐쇄되고, 헬륨 이베큐에이션 밸브(V92) 및 펌프 발라스트(30)의 밸브가 개방되어 웨이퍼(14) 아래에 있던 헬륨 가스가 펌프 발라스트(30)쪽으로 펌핑된다.
모든 웨이퍼에 대하여 식각 공정 처리가 완료되고 시스템이 아이들(idle) 상태를 유지하고 있으면, 헬륨 이송 보조 밸브(V85)는 다시 개방되고, 헬륨 이베큐에이션 밸브(V92)는 폐쇄된다.
도 1에 있어서, 도면 참조 부호 "HV90"은 수동 셧-오프 밸브, "40"은 헬륨 공급원을 나타낸다.
상기와 같은 구성을 가지는 종래의 건식 식각 장치에서는 식각 공정이 진행되는 런(run) 진행시 도 1에서 화살표 "A"로 표시한 바와 같이 식각 챔버 내에서 헬륨 가스가 웨이퍼의 배면과 척 사이로 약 8 ∼ 10 sccm 정도의 양으로 플로우된다. 따라서, 웨이퍼상의 포토레지스트가 버닝(burning)될 염려가 있다.
식각 챔버 내에 구비된 척(chuck)이 바이폴라형 ESC로 구성되어 있으므로 척킹(chucking) 및 디척킹(dechucking)시 순간적이고 재현성이 우수하며 플라즈마 사용이 불필요한 장점은 있으나, 바이폴라형 ESC는 웨이퍼와 척 사이에서 플로우되는 헬륨 가스의 유량이 예를 들면 16 sccm 이상과 같이 커질 때 포토레지스트 물질이 심하게 버닝(burning)되는 문제가 발생되고, RF 바이어스가 커짐에 따라 척킹하는 힘이 작아진다. 또한, 장시간 사용 후에는 디척킹시 동작 페일(fail)이 생긴다.
또한, 하부 전극(12)을 덮고 있는 절연층(16)은 애노다이즈드 알루미나(anodized alumina)로 이루어지므로, 두께와 재질에 따라 헬륨 가스에 많은 영향을 미치며, ESC의 표면에 각종 이물질이 떨어지면 웨이퍼의 배면에서 민감한 반응이 일어나서 헬륨이 플로우될 때 악영향을 미치게 된다.
본 발명의 목적은 식각 챔버 내에서 웨이퍼의 배면과 척 사이에서 플로우되는 헬륨 가스량을 효율적으로 제어할 수 있는 건식 식각 장치의 냉각 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기한 건식 식각 장치의 냉각 시스템을 효율적으로 제어하는 방법을 제공하는 것이다.
도 1은 종래 기술에 의한 건식 식각 장치의 헬륨 냉각 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 건식 식각 장치에 구비된 바이폴라형 ESC의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3a 및 도 3b는 각각 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 건식 식각 장치의 헬륨 냉각 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면으로서, 도 3a는 식각 공정의 런(run) 진행시 냉각 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 3b는 웨이퍼의 디척킹(dechucking)시 냉각 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 도 3a 및 도 3b의 건식 식각 장치에 구비된 유니폴라형 ESC의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 식각 챔버, 112 : ESC
114 : 웨이퍼, 116 : 절연층
118 : 캐소드, AV1 : 메인 헬륨 밸브
AV2 : 발라스트 밸브, AV3 : 식각 챔버측 메인 밸브
AV4 : 펌핑 밸브
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 건식 식각 장치의 냉각 시스템은 식각 챔버 내에 유니폴라(unipolar)형 ESC(Electro Static Chuck)를 갖춘 건식 식각 장치에 구비되고, 헬륨 가스를 상기 식각 챔버 내로 공급하기 위한 메인 헬륨 밸브와, 상기 식각 챔버와 진공 라인과의 사이에 연결되어 있는 발라스트(ballast) 밸브와, 상기 식각 챔버와 상기 발라스트 밸브 사이에 설치되어 있는 식각 챔버측 메인 밸브와, 상기 ESC 상에 있는 웨이퍼의 배면으로 플로우되는 헬륨 가스를 진공 라인으로 펌핑하기 위한 펌핑 밸브를 구비한다.
상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 식각 챔버측 메인 밸브는 노말 클로즈(normal close) 타입이고, 상기 펌핑 밸브는 노말 오픈(normal open) 타입이다.
상기 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 건식 식각 장치의 냉각 시스템의 제어 방법에서는 상기 건식 식각 장치에서 식각 공정의 런(run) 진행시에는 상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 식각 챔버측 메인 밸브는 개방하고, 상기 펌핑 밸브는 폐쇄한다. 또한, 상기 건식 식각 장치의 식각 챔버 내에서 웨이퍼의 디척킹(dechucking)시에는 상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 펌핑 밸브는 개방하고, 상기 식각 챔버측 메인 밸브는 폐쇄한다.
본 발명에 의하면, 간단한 구성을 갖는 냉각 시스템에 의하여 웨이퍼 배면에서의 헬륨 가스 플로우량을 효과적으로 제어할 수 있다. 그 결과, 설비의 다운(down)을 줄이고 설비를 효율적으로 운영하여 설비 가동율 및 생산성을 향상시킬 수 있다.
다음에, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 건식 식각 장치의 헬륨 냉각 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 도면으로서, 도 3a는 식각 공정의 런(run) 진행시 냉각 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 3b는 웨이퍼의 디척킹(dechucking)시 냉각 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a를 참조하면, 본 발명에 따른 건식 식각 장치의 냉각 시스템에서는 식각 챔버(100)내에서 식각 공정이 진행되는 런(run) 진행시에는 헬륨 가스를 식각 챔버(100) 내로 공급하기 위한 노말 클로즈(normal close) 타입의 메인 헬륨 밸브(AV1), 노말 클로즈 타입이며 상기 식각 챔버(100)와 진공 라인과의 사이에 연결되어 있는 발라스트 밸브(AV2), 및 상기 식각 챔버(100)와 상기 발라스트 밸브(AV2) 사이에 설치되어 있고 노말 클로즈 타입인 식각 챔버(100)측 메인 밸브(AV3)는 개방되고, 노말 오픈(normal open) 타입인 펌핑 밸브(AV4)는 폐쇄된다. 이 때, ESC(112) 위에 있는 웨이퍼(114)의 배면에서 헬륨 가스의 플로우가 억제되어, 이 곳에서의 헬륨 가스의 유량은 2 sccm 이하이다.
상기 펌핑 밸브(AV4)는 웨이퍼(114)의 배면으로 플로우되는 헬륨 가스를 진공 라인으로 펌핑하기 위한 밸브이다.
도 3a에서 화살표 "AA"는 헬륨 가스의 플로우 상태를 나타낸다.
이와 같이 식각 공정이 진행되는 동안 웨이퍼(114)의 배면에서 플로우되는 헬륨 가스가 웨이퍼(114)와 ESC(112) 사이로 플로우되는 것을 최대한 억제하는 구성에 의하여 헬륨이 누설되는 것을 누구나 쉽게 확인할 수 있다.
도 3b를 참조하면, 디척킹(dechucking)시에는 웨이퍼(112)의 리프트(lift)가 진행되면서 메인 헬륨 밸브(AV1), 발라스트 밸브(AV2) 및 펌핑 밸브(AV4)는 개방되고, 식각 챔버(100)측 메인 밸브(AV3)만 폐쇄된다. 이 때, 도 3b에서 화살표 "BB"로 표시한 바와 같이 헬륨 가스는 계속 플로우되고, 노말 오픈(normal open) 타입인 펌핑 밸브(AV4)를 통하여 각 라인에 남아 있는 헬륨 가스를 펌핑 라인으로 펌핑하게 된다.
도 3a 및 도 3b에 도시된 건식 식각 장치의 ESC(112)는 유니폴라(unipolar)형 ESC이다.
도 4는 도 3a 및 도 3b의 건식 식각 장치에 구비된 유니폴라형 ESC의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3a, 도 3b 및 도 4를 참조하면, 건식 식각 장치에 구비된 유니폴라형 ESC(112)는 애노드인 ESC(112)에 + 전압을 인가하고, 플라즈마 온(on)일 때 발생되는 - 이온으로 전계가 구성되어 웨이퍼의 척킹이 이루어진다. 상기 ESC(112)는 그 표면이 폴리이미드로 이루어지는 절연층(116)으로 덮여있다. 도 4에서 도면 참조 부호 "118"은 캐소드를 나타낸다.
이와 같은 유니폴라형 ESC(112)를 채용하는 경우에는 척킹력이 우수하여 웨이퍼(114)의 배면에 플로우되는 헬륨 가스가 척킹시 웨이퍼(114)와 ESC(112) 사이로 나오지 않아서 ESC를 쉽게 관리할 수 있다.
따라서, 종래의 건식 식각 장치에서 런 진행시 웨이퍼의 배면에서의 헬륨 플로우에 의한 영향을 극소화할 수 있다. 바이폴라형 ESC는 헬륨 가스가 16 sccm 이상의 유량으로 플로우될 때 포토레지스트 물질의 버닝(burning)이 발생하지만, 본 발명에서와 같이 유니폴라형 ESC를 구비한 건식 식각 장치에서는 냉각 시스템에서 웨이퍼의 배면에서 헬륨 가스를 플로우시키는 방식이 아니므로 포토레지스트 물질이 버닝될 염려가 없고, 저단가의 공정이 가능하다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 의하면 유니폴라형 ESC를 구비한 건식 식각 장치에서 웨이퍼와 ESC 사이에서 헬륨 가스가 플로우되지 않도록 억제할 수 있는 냉각 시스템을 제공함으로써 웨이퍼 배면에서의 헬륨 가스 플로우량을 효과적으로 제어할 수 있다. 따라서, 설비의 다운(down)을 줄이고 설비를 효율적으로 운영하여 설비 가동율 및 생산성을 향상시킬 수 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.

Claims (3)

  1. 식각 챔버 내에 유니폴라(unipolar)형 ESC(Electro Static Chuck)를 갖춘 건식 식각 장치의 냉각 시스템에 있어서,
    헬륨 가스를 상기 식각 챔버 내로 공급하기 위한 메인 헬륨 밸브와,
    상기 식각 챔버와 진공 라인과의 사이에 연결되어 있는 발라스트(ballast) 밸브와,
    상기 식각 챔버와 상기 발라스트 밸브 사이에 설치되어 있는 식각 챔버측 메인 밸브와,
    상기 ESC 상에 있는 웨이퍼의 배면으로 플로우되는 헬륨 가스를 진공 라인으로 펌핑하기 위한 펌핑 밸브를 구비한 것을 특징으로 하는 건식 식각 장치의 냉각 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 식각 챔버측 메인 밸브는 노말 클로즈(normal close) 타입이고, 상기 펌핑 밸브는 노말 오픈(normal open) 타입인 것을 특징으로 하는 건식 식각 장치의 냉각 시스템.
  3. 제1항의 건식 식각 장치의 냉각 시스템의 제어 방법에 있어서,
    상기 건식 식각 장치에서 식각 공정의 런(run) 진행시에는 상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 식각 챔버측 메인 밸브는 개방하고, 상기 펌핑 밸브는 폐쇄하고,
    상기 건식 식각 장치의 식각 챔버 내에서 웨이퍼의 디척킹(dechucking)시에는 상기 메인 헬륨 밸브, 발라스트 밸브 및 펌핑 밸브는 개방하고, 상기 식각 챔버측 메인 밸브는 폐쇄하는 것을 특징으로 하는 냉각 시스템의 제어 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100847368B1 (ko) * 2001-02-14 2008-07-21 어드밴스드 마이크로 디바이시즈, 인코포레이티드 식각 선택도를 제어하기 위한 방법 및 장치

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