KR20000016190U - Modural gas pump scrubber - Google Patents

Modural gas pump scrubber Download PDF

Info

Publication number
KR20000016190U
KR20000016190U KR2019990001069U KR19990001069U KR20000016190U KR 20000016190 U KR20000016190 U KR 20000016190U KR 2019990001069 U KR2019990001069 U KR 2019990001069U KR 19990001069 U KR19990001069 U KR 19990001069U KR 20000016190 U KR20000016190 U KR 20000016190U
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cartridge
pump
equipment
casing
gas vacuum
Prior art date
Application number
KR2019990001069U
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR200374862Y1 (en
Inventor
박춘복
Original Assignee
김규현
아남반도체 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김규현, 아남반도체 주식회사 filed Critical 김규현
Priority to KR20-1999-0001069U priority Critical patent/KR200374862Y1/en
Publication of KR20000016190U publication Critical patent/KR20000016190U/en
Application granted granted Critical
Publication of KR200374862Y1 publication Critical patent/KR200374862Y1/en

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/0002—Casings; Housings; Frame constructions
    • B01D46/0005—Mounting of filtering elements within casings, housings or frames
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/42—Auxiliary equipment or operation thereof
    • B01D46/4254—Allowing or improving visual supervision, e.g. lamps, transparent parts, windows
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2273/00—Operation of filters specially adapted for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D2273/28—Making use of vacuum or underpressure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2273/00—Operation of filters specially adapted for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D2273/30—Means for generating a circulation of a fluid in a filtration system, e.g. using a pump or a fan

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

본 고안은 모듈화된 가스 진공 정화기에 관한 것으로, 내부가 수직랙(12)과 수평랙(14)에 의해 전면부 및 후면 상하부로 구성된 케이싱(10)과, 상기 케이싱(10)의 전면부의 하부에 위치되는 카트리지(20)와, 상기 케이싱(10)의 후면 상하부에 각각 위치되는 펌프장비(30)와, 상기 펌프장비(30)와 카트리지(20)의 상태를 표시하는 디스플레이부(40)와, 상기 펌프장비(30)와 카트리지(20)를 작동하는 키패드부(50)와, 상기 케이싱(10)의 외부에서 상기 카트리지(20)와 펌프장비(30)에 연결된 유틸리티 배관으로 구성된 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a modular gas vacuum purifier, which has a casing (10) having a front portion and a rear upper and lower portions formed by a vertical rack (12) and a horizontal rack (14), and a lower portion of the front portion of the casing (10). A cartridge 20 to be positioned, a pump device 30 respectively positioned at the upper and lower rear portions of the casing 10, a display unit 40 for displaying the states of the pump device 30 and the cartridge 20, The keypad unit 50 for operating the pump equipment 30 and the cartridge 20, and the utility pipe connected to the cartridge 20 and the pump equipment 30 from the outside of the casing 10 is characterized in that it is configured .

이러한 본 고안은 케이싱내에 카트리지와 펌핑장비가 내장되므로서, 카트리지와 펌핑장비를 연결하는 배기라인의 길이를 실질적으로 짧게 할 수 있어서, 파우더의 생성으로 인한 펌프의 손상을 방지할 수 있고, PM주기가 길어지게 되며, 각종 유틸리티 배관을 단일화하여 설치하므로서, 설치비용 및 장비의 가격이 절감되며, 디스플레이부에 의해 장비의 작동상태를 파악할 수 있으므로, 관리 및 유지보수가 용이하고, 장비의 작동을 프로그램화하여 키패드로 조작할 수 있으므로, 작동이 간편한 이점이 있다. 또한, 본 고안의 가스 진공 정화기는 모듈화되므로서, 설치공간이 작아지는 효과를 가진다.The present invention has a cartridge and pumping equipment in the casing, so that the length of the exhaust line connecting the cartridge and the pumping equipment can be substantially shortened, thereby preventing damage to the pump due to the production of powder, PM cycle The installation cost and equipment cost can be reduced by unified installation of various utility pipes, and the operation status of the equipment can be grasped by the display unit, so it is easy to manage and maintain, and program the operation of the equipment. Because it can be operated by the keypad, it is easy to operate. In addition, the gas vacuum purifier of the present invention is modularized, the installation space is reduced.

Description

모듈화된 가스 진공 정화기{MODURAL GAS PUMP SCRUBBER}Modular Gas Vacuum Purifier {MODURAL GAS PUMP SCRUBBER}

본 고안은 가스 진공 정화장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 반도체 프로세싱시 발생되는 가스의 처리를 위한 펌프 및 스크러버들을 모듈화하여 일체로함으로서 관리가 편리한 가스 진공 정화장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas vacuum purifier, and more particularly, to a gas vacuum purifier that is easy to manage by integrating a pump and scrubbers for processing gas generated during semiconductor processing.

일반적으로, 반도체 프로세싱에 있어서, 건식각(dry etch)은 약 120℃이상의 고온의 가스를 사용하여 플라즈마(plasma)상태에서 물리적 반응을 일으켜 식각하는 것으로, 이러한 건식각장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 식각하고자 하는 물질에 따라 CF2CHF3가스, SF6CF4+ O2가스, SF6, F113(프레온) 가스, SF6, BCl3, CHF3가스등을 주입하는 진공상태의 챔버(2)에 RF 교류전압의 고에너지(high energy:R.F POWER)를 가하면, 가스에 이온화가 일어나고 발광하는 현상이 발생하게 되므로서 웨이퍼(4)의 막에 식각이 발생하는 것이다. 이후, 건식각장치에 주입된 유독 가스는, 진공 펌프를 이용하여 10-3이하의 진공상태를 유지한 후, 배기라인 (exhaust line)을 통해 스크러버(scrubber: 가스 진공정화기)로 배기하여 처리하였다.In general, in semiconductor processing, dry etching is performed by etching a physical reaction in a plasma state using a gas having a temperature of about 120 ° C. or higher, and such a dry etching apparatus is shown in FIG. 1. Similarly, a vacuum chamber injecting CF 2 CHF 3 gas, SF 6 CF 4 + O 2 gas, SF 6 , F 113 (freon) gas, SF 6 , BCl 3 , CHF 3 gas, etc. according to the material to be etched ( When high energy (RF POWER) of the RF AC voltage is applied to 2), ionization occurs and light emission occurs in the gas, and etching occurs in the film of the wafer 4. Subsequently, the toxic gas injected into the dry etching apparatus was treated by maintaining a vacuum of 10 -3 or less using a vacuum pump, and then evacuating the exhaust gas to a scrubber (gas vacuum cleaner) through an exhaust line. .

하지만, 종래에는 펌프 및 스크러버등이 각각 단독으로 설치되어 있기 때문에, 2개의 모듈을 각각 설치하는데 드는 비용과 시간등이 많이 들뿐만아니라, 유틸리티의 설치에도 많은 번거로움이 있었고, 그 관리 역시 별도의 관리 시스템으로 구성되어야 하였다. 또한, 고온의 배기가스가 비교적 긴 길이의 배기라인을 통과하는 동안, 외부와의 온도차에 의해 고체화되므로, 즉 파우더(powder)가 생성되므로, 특히, 메탈 에칭공정, CVD 질화막 증착 공정(nitride deposition)에서 파우더가 많이 생성되므로 펌프에 손상을 주는 문제가 있고, 펌프 및 스크러버의 PM(preventive maintenance: 사전예방정비)시, 장비마다 각각 실시해야 하고, 시간도 많이 들게 되는 문제가 있었다.However, conventionally, since pumps and scrubbers are installed alone, the cost and time required to install each of the two modules is not only high, but also has a lot of trouble in installing utilities, and its management is also separate. It had to be organized into a management system. In addition, since the hot exhaust gas is solidified by the temperature difference with the outside while passing through the exhaust line of a relatively long length, that is, powder is produced, in particular, the metal etching process, CVD nitride deposition process (nitride deposition) Since a lot of powder is generated in the pump, there is a problem that damages the pump, and when the PM (preventive maintenance (preventive maintenance) of the pump and scrubber, each should be carried out for each equipment, there was a problem that takes a lot of time.

따라서, 본 고안은 이에 따라 안출된 것으로, 그 목적은 펌프 및 스크러버 등의 처리장비를 단일화하여 설치비용 및 PM관리가 편리한 모듈화된 가스 진공 정화기를 제공하는 것이다.Therefore, the present invention has been devised accordingly, and its object is to provide a modular gas vacuum purifier that is convenient in installation cost and PM management by unifying treatment equipment such as pumps and scrubbers.

이러한 목적을 달성하기 위한 수단으로서, 본 고안은 모듈화된 가스 진공 정화기에 있어서, 내부가 수직랙과 수평랙에 의해 전면부 및 후면 상하부로 구성된 케이싱과, 상기 케이싱의 전면부의 하부에 위치되는 카트리지와, 상기 케이싱의 후면 상하부에 각각 위치되는 펌프장비와, 상기 펌프장비와 카트리지의 상태를 표시하는 디스플레이부와, 상기 펌프장비와 카트리지를 작동하는 키패드부와, 상기 케이싱의 외부에서 상기 카트리지와 펌프장비에 연결된 유틸리티 배관으로 구성된 것을 특징으로 한다.As a means for achieving the above object, the present invention is a modular gas vacuum purifier, the casing is composed of the front and rear upper and lower parts by a vertical rack and a horizontal rack, a cartridge located in the lower portion of the front of the casing; A pump unit positioned at upper and lower rear portions of the casing, a display unit for displaying the states of the pump unit and the cartridge, a keypad unit for operating the pump unit and the cartridge, and the cartridge and pump unit outside the casing. Characterized in that consisting of the utility pipe connected to.

도 1은 반도체 프로세싱에 사용되는 건식 식각장치의 개략도이고,1 is a schematic diagram of a dry etching apparatus used for semiconductor processing,

도 2는 본 고안의 바람직한 일실시예에 따라 두 대의 진공 펌프와 스크러버가 하나의 장치내에 모듈화된 가스 진공 정화기의 개략 측단면도이고,2 is a schematic side cross-sectional view of a gas vacuum purifier in which two vacuum pumps and scrubbers are modularized in one device according to a preferred embodiment of the present invention,

도 3은 도 2의 정면도이다.3 is a front view of FIG. 2.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

2 : 챔버(chamber)2 chamber

4 : 웨이퍼(wafer)4: wafer

10 : 케이싱10: casing

12 : 수직랙12: vertical rack

14 :수평랙14: horizontal rack

20 : 카트리지20: cartridge

22 : 산배기관22: acid exhaust pipe

24 : 열배기관24: heat exhaust pipe

26 : 배기라인(exhaust line)26: exhaust line

30 : 펌프장비30: pump equipment

32 : 부스터 펌프(booster pump)32 booster pump

34 : 드라이 펌프(dry pump)34 dry pump

36 : 펌핑 라인(pumping line)36 pumping line

40 : 디스플레이부40: display unit

50 : 키패드부50: keypad unit

62 : N2퍼지 가스라인62: N 2 purge gas line

64,66 : 냉각수 유출입라인64,66: Cooling water inflow and outflow line

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 고안의 일실시예에 따른 펌핑라인 및 배기라인내의 파우더 생성 방지장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, an apparatus for preventing powder generation in a pumping line and an exhaust line according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 고안의 실시예에 따른 모듈화된 가스 진공 정화기의 구성을 도시하고, 도 3은 도 2의 정면을 나타내고 있다.2 shows a configuration of a modular gas vacuum purifier according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 shows a front view of FIG. 2.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 고안의 모듈화된 가스 진공 정화기는 케이싱(10)의 내부를 수직랙(12)과 수평랙(14)에 의해 전면부 및 후면 상하부로 구성하고, 그 전면부의 하부에 스크러버의 설비가 내장된 카트리지(20)가 위치되고, 후면 상하부에 펌프장비(30)가 각각 위치된다. 펌프장비(30)는 부스터 펌프(32)와 드라이 펌프(34)로 구성되는 바, 부스터 펌프(32)는 10-1정도로 진공상태를 만든 후, 드라이 펌프(34)에의해 10-3이하의 진공상태를 유지한다.As shown in FIG. 2, the modular gas vacuum purifier according to the present invention comprises the front and rear upper and lower parts of the casing 10 by the vertical rack 12 and the horizontal rack 14, and the lower part of the front part thereof. The cartridge 20 in which the equipment of the scrubber is built is located, and the pump equipment 30 is located in the upper and lower rear sides, respectively. Pump equipment 30 is composed of a booster pump 32 and a dry pump 34, the booster pump 32 is made of a vacuum state of about 10 -1 , and then by the dry pump 34 is less than 10 -3 Maintain vacuum.

이러한 펌프장비(30)와 카트리지(20)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 키패드부(50)에 의해 작동되며, 디스플레이부(40)에 의해 그 작동 상태를 알게 된다. 또한, 도3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 케이싱(10)은 그 전면에 도어(16)를 설치하여 개폐할 수 있는 것이 바람직하다.The pump device 30 and the cartridge 20, as shown in Figure 3, is operated by the keypad unit 50, the display unit 40 to know the operation state. 3, it is preferable that the casing 10 can be opened and closed by providing the door 16 in the front surface.

한편, 케이싱(10)의 외부에는 카트리지(20)와 펌프장비(30)에 연결되는 유틸리티 배관들이 설치되며, 이러한 유틸리티 배관은 카트리지(20)에 연결된 산배기관(22) 및 열배기관(24)과, 부스터 펌프(32)에 연결된 펌핑라인(36)과, 펌프장비(30) 및 카트리지(20)의 내부에 잔류하는 파우더을 제거 및 희석하는 N2 퍼지 가스라인(62)과, 펌프 냉각수 유출입라인(64,66)으로 이루어진다. 또한, 펌프장비(30)의 드라이 펌프(34)의 각각은 카트리지(20)와 배기라인(26)에 의해 연결되며, 이러한 배기라인(26)을 플랙시블한 플랜지를 사용하여 교체가능한 것이 바람직하다. 도면 중, 미설명 부호 (18)은 카트리지(20)와 드라이 펌프(34)에 장착된 바퀴를 나타낸다.Meanwhile, utility pipes connected to the cartridge 20 and the pump equipment 30 are installed outside the casing 10. These utility pipes include an acid exhaust pipe 22 and a heat exhaust pipe 24 connected to the cartridge 20. , A pumping line 36 connected to the booster pump 32, an N 2 purge gas line 62 for removing and diluting powder remaining in the pump equipment 30 and the cartridge 20, and a pump cooling water inlet and outlet line 64. 66). In addition, each of the dry pump 34 of the pump equipment 30 is connected by the cartridge 20 and the exhaust line 26, it is preferable that the exhaust line 26 can be replaced using a flexible flange. . In the figure, reference numeral 18 denotes a wheel mounted to the cartridge 20 and the dry pump 34.

상술한 바와 같이 본 고안의 모듈화된 가스 진공 정화기는 케이싱내에 카트리지와 펌핑장비가 내장되므로서, 카트리지와 펌핑장비를 연결하는 배기라인의 길이를 실질적으로 짧게 할 수 있어서, 파우더의 생성으로 인한 펌프의 손상을 방지할 수 있고, PM주기가 길어지게 되며, 각종 유틸리티 배관을 단일화하여 설치하므로서, 설치비용 및 장비의 가격이 절감되며, 디스플레이부에 의해 장비의 작동상태를 파악할 수 있으므로, 관리 및 유지보수가 용이하고, 장비의 작동을 프로그램화하여 키패드로 조작할 수 있으므로, 작동이 간편한 이점이 있다. 또한, 본 고안의 가스 진공 정화기는 모듈화되므로서, 설치공간이 작아지는 효과를 가진다.As described above, the modular gas vacuum purifier of the present invention has a cartridge and pumping equipment in the casing, so that the length of the exhaust line connecting the cartridge and the pumping equipment can be substantially shortened. It can prevent damage, lengthen the PM cycle, install various utility pipes unified, and reduce installation cost and equipment price, and can monitor the operation status of the equipment by the display unit. It is easy to operate, and the operation of the equipment can be programmed and operated by the keypad, so the operation is easy. In addition, the gas vacuum purifier of the present invention is modularized, the installation space is reduced.

Claims (4)

모듈화된 가스 진공 정화기에 있어서,In the modular gas vacuum purifier, 내부가 수직랙(12)과 수평랙(14)에 의해 전면부 및 후면 상하부로 구성된 케이싱(10)과,A casing 10 having a front and rear upper and lower portions formed by vertical racks 12 and horizontal racks 14, 상기 케이싱(10)의 전면부의 하부에 위치되는 카트리지(20)와,A cartridge 20 located below the front portion of the casing 10; 상기 케이싱(10)의 후면 상하부에 각각 위치되는 펌프장비(30)와,Pump equipment 30 and respectively located in the upper and lower rear of the casing 10, 상기 펌프장비(30)와 카트리지(20)의 상태를 표시하는 디스플레이부(40)와,A display unit 40 for displaying the states of the pump equipment 30 and the cartridge 20; 상기 펌프장비(30)와 카트리지(20)를 작동하는 키패드부(50)와,The keypad unit 50 for operating the pump equipment 30 and the cartridge 20, 상기 케이싱(10)의 외부에서 상기 카트리지(20)와 펌프장비(30)에 연결된 유틸리티 배관으로 구성된 것을 특징으로 하는 모듈화된 가스 진공 정화기.Modular gas vacuum purifier, characterized in that consisting of a utility pipe connected to the cartridge (20) and the pump equipment (30) outside the casing (10). 제 1 항에 있어서, 상기 펌프장비(30)는 부스터 펌프(32)와 드라이 펌프(34)로 구성되는 것을 특징으로 하는 모듈화된 가스 진공 정화기.2. The modular gas vacuum cleaner of claim 1, wherein said pump equipment (30) comprises a booster pump (32) and a dry pump (34). 제 1 항또는 제 2 항에 있어서, 상기 유틸리티 배관은 상기 카트리지(20)에 연결된 산배기관(22)과 열배기관(24)과, 상기 부스터 펌프(32)에 연결된 펌핑라인(36)과, 상기 펌프장비(30) 및 카트리지(20)의 내부에 잔류하는 파우더을 제거 및 희석하는 N2 퍼지 가스라인(62)과, 펌프 냉각수 유출입라인(64,66)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 모듈화된 가스 진공 정화기.3. The utility pipe according to claim 1 or 2, wherein the utility pipe includes an acid exhaust pipe 22 and a heat exhaust pipe 24 connected to the cartridge 20, a pumping line 36 connected to the booster pump 32, Modified gas vacuum purifier, characterized in that consisting of the pump equipment (30) and the N2 purge gas line 62 to remove and dilute the powder remaining in the cartridge 20, and the pump cooling water inlet and outlet lines (64, 66). 제 1 항에 있어서, 상기 펌프장비(30)의 드라이 펌프(34)의 각각은 상기 카트리지(20)와 배기라인(26)에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 모듈화된 가스 진공 정화기.2. The modular gas vacuum purifier as claimed in claim 1, wherein each of the dry pumps (34) of the pump equipment (30) is connected by the cartridge (20) and the exhaust line (26).
KR20-1999-0001069U 1999-01-27 1999-01-27 Modural gas pump scrubber KR200374862Y1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20-1999-0001069U KR200374862Y1 (en) 1999-01-27 1999-01-27 Modural gas pump scrubber

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20-1999-0001069U KR200374862Y1 (en) 1999-01-27 1999-01-27 Modural gas pump scrubber

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20000016190U true KR20000016190U (en) 2000-08-25
KR200374862Y1 KR200374862Y1 (en) 2005-02-04

Family

ID=49445652

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20-1999-0001069U KR200374862Y1 (en) 1999-01-27 1999-01-27 Modural gas pump scrubber

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200374862Y1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101814579B1 (en) * 2016-01-11 2018-01-03 (주)피티씨 Scrubber apparatus capable for detecting fire and corrosion of pipe
KR101793705B1 (en) * 2016-01-11 2017-11-03 차경천 Scrubber apparatus capable for detecting fire inside housing

Also Published As

Publication number Publication date
KR200374862Y1 (en) 2005-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006501118A (en) Generation, distribution, and use of molecular fluorine in manufacturing facilities
KR20010033505A (en) Gas trap for cvd apparatus
US10889891B2 (en) Apparatus for gaseous byproduct abatement and foreline cleaning
US20150260174A1 (en) Vacuum pump with abatement function
US20150260192A1 (en) Vacuum pump with abatement function
CN109155232A (en) Pumping system for semiconductor chamber
TWI404838B (en) Microwave plasma abatement apparatus
KR101140695B1 (en) Pump cleaning
KR100549946B1 (en) Equipment for detecting vacuum leakage of semiconductor product device
KR200374862Y1 (en) Modural gas pump scrubber
KR20190002318A (en) Facility system for exhaust system
KR101150697B1 (en) Chamber cleaning system using remote plasma
JP2002217166A (en) Cleaning method of gas processing equipment
KR100778871B1 (en) Pumping line apparatus of dry etching equipment
KR20000016191U (en) Connecting structure connected to a plurality of pump
KR19980074785A (en) Powder removal device in the discharge line
KR100655588B1 (en) Method for Self Cleaning of Dry Etch System
KR100498640B1 (en) Trap structure of gas exhaust management device
KR970006837B1 (en) Apparatus for washing connection pipe of waste gas purification scrubber
KR20070008301A (en) Discharging system of waste gas
JP2990858B2 (en) Exhaust gas treatment device and its cleaning method
Hattori et al. Application of atmospheric plasma abatement system for exhausted gas from MEMS etching process
KR20040017735A (en) Dry etching apparatus having remote dry cleaning unit
KR200171667Y1 (en) Semiconductor manufacturing device with low impurity system
KR20060009471A (en) An apparatus for ashing semiconductor wafer

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080103

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee