KR20000016191U - Connecting structure connected to a plurality of pump - Google Patents
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- 238000010926 purge Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B23/00—Pumping installations or systems
- F04B23/04—Combinations of two or more pumps
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B53/00—Component parts, details or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B23/00 or F04B39/00 - F04B47/00
- F04B53/22—Arrangements for enabling ready assembly or disassembly
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Abstract
본 고안은 진공 펌프 랙에 장착된 다수의 펌프에 연결되는 유틸리티 라인의 연결 구조에 관한 것으로, N2퍼지 가스라인(42)과 냉각수 유출입 라인(44,46)으로 구성된 다수쌍의 유틸리티 라인과, 각각 상기 유틸리티 라인의 각각을 장착하도록 배기라인(16)의 좌우에 설치되는 한쌍의 패널(50)로 이루어지고, 상기 패널(50)의 각각에 장착된 상기 유틸리티 라인의 각각은 수평랙(4)을 따라 연장되면서 드라이 펌프(14)의 후면에서 상하로 분기되어 상기 드라이 펌프(14)의 각각에 연결되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a connection structure of a utility line connected to a plurality of pumps mounted in a vacuum pump rack, a plurality of pairs of utility lines consisting of N 2 purge gas line 42 and the coolant inflow and outflow lines (44, 46), It consists of a pair of panels 50 installed on the left and right sides of the exhaust line 16 so as to mount each of the utility lines, and each of the utility lines mounted on each of the panels 50 is a horizontal rack 4. It extends along and branched up and down at the rear of the dry pump 14, characterized in that connected to each of the dry pump (14).
본 고안에 따르면, 펌프의 분해검사(pump overhaul)시 펌프의 제거 및 각종 게이지의 점검이 용이하고, 유틸리티 라인의 설치가 용이한 효과를 가진다.According to the present invention, it is easy to remove the pump and inspect the various gauges during the pump overhaul, and to install the utility line.
Description
본 고안은 다수의 펌프에 연결되는 유틸리티 라인의 연결 구조에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 반도체 프로세싱시 발생되는 가스의 처리를 위해 다수의 펌프에 연결되는 유틸리티 라인을 연결하여 진공 펌프 랙으로 부터의 펌프의 제거가 용이하고, 각종 게이지의 점검이 용이하고, 설치가 용이한 펌프 유틸리티 라인의 연결 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a connection structure of a utility line connected to a plurality of pumps, and more particularly, from a vacuum pump rack by connecting utility lines connected to a plurality of pumps for processing gas generated during semiconductor processing. It is related with the connection structure of the pump utility line which is easy to remove a pump, the inspection of various gauges, and easy installation.
일반적으로, 반도체 프로세싱에 있어서, 건식각(dry etch)은 약 120℃이상의 고온의 가스를 사용하여 플라즈마(plasma)상태에서 물리적 반응을 일으켜 식각하는 것으로, 이러한 건식각장치는 식각하고자 하는 물질에 따라 CF2CHF3가스, SF6CF4+ O2가스, SF6, F113(프레온) 가스, SF6, BCl3, CHF3가스등을 주입하는 진공상태의 챔버에 RF 교류전압의 고에너지(high energy:R.F POWER)를 가하면, 가스에 이온화가 일어나고 발광하는 현상이 발생하게 되므로서 웨이퍼의 막에 식각이 발생하는 것이다. 이후, 건식각장치에 주입된 유독 가스는, 진공 펌프를 이용하여 10-3이하의 진공상태를 유지한 후, 배기라인(exhaust line)을 통해 스크러버(scrubber: 가스 진공정화기)로 배기하여 처리하였다.In general, in semiconductor processing, dry etching is performed by etching a physical reaction in a plasma state using a gas having a temperature of about 120 ° C. or higher, and such a dry etching apparatus may be etched according to a material to be etched. High energy of RF alternating voltage to the vacuum chamber to inject CF 2 CHF 3 gas, SF 6 CF 4 + O 2 gas, SF 6 , F 113 (freon) gas, SF 6 , BCl 3 , CHF 3 gas When energy (RF POWER) is applied, etching occurs in the film of the wafer since ionization occurs in the gas and light emission occurs. Subsequently, the toxic gas injected into the dry etching apparatus was treated by maintaining a vacuum of 10 -3 or less using a vacuum pump, and then evacuating the exhaust gas through a exhaust line to a scrubber (gas vacuum cleaner). .
이러한 진공 펌프는 배기량에 따라 다수의 펌프설비들을 요하게 되므로, 종래에는 도 1에 도시된 바와 같은 수직랙(2)과 수평랙(4)에 의해 상하로 분리된 한쌍의 진공 펌프 랙(10)(vacuum pump rack)내에 다수의 펌프설비들을 각각 제거가능하게 설치하였다. 이러한 펌프설비는 서로 연통되는 부스터 펌프(12) 및 드라이 펌프(14)와, 부스터 펌프(12)에 연결되는 배기라인(16)으로 각각 구성되는 바, 부스터 펌프(12)는 10-1정도로 진공상태를 만든 후, 드라이 펌프(14)에 의해 10-3이하의 진공상태를 유지한다. 진공 펌프 랙(10)에 설치되는 펌프설비들에는 그 내부에 잔류하는 파우더을 제거 및 희석하는 N2퍼지 가스라인(22)과, 펌프 냉각수 유출입라인(24,26) 등의 유틸리티 라인이 연결되며, 유티리티 라인마다 조절밸브(28)가 부착되어 있고, N2퍼지 가스라인(22)에는 유입량 조절수단(21)이 부착되어 있고, 냉각수 유입라인(26)에는 유량계(23)(flow meter)가 더 장착되어 있다. N2퍼지 가스라인(22)은 진공 펌프 랙(10)에 위치된 드라이 펌프(14)의 각각으로 분기되며, 냉각수 유출입라인(24)(26)은 각각 4개의 분기관으로서, 드라이 펌프(14)의 각각을 통해서 서로 연결된다. 도면 중, 미설명 부호 (30)은 이동할 수 있도록 드라이 펌프(14)의 하부 또는 진공 펌프 랙(10)의 하부에 장착된 바퀴를 나타낸다.Since such a vacuum pump requires a plurality of pump facilities according to the displacement, a pair of vacuum pump racks 10 (vertically separated vertically by a vertical rack 2 and a horizontal rack 4 as shown in FIG. 1) In the vacuum pump rack, a number of pumps were installed, each removable. These pump facilities are each composed of a booster pump 12 and a dry pump 14 and the exhaust line 16 connected to the booster pump 12, the booster pump 12 is a vacuum of about 10 -1 After making a state, the dry pump 14 maintains a vacuum of 10 -3 or less. Pump facilities installed in the vacuum pump rack 10 are connected to the N 2 purge gas line 22 for removing and diluting the powder remaining therein, and utility lines such as pump cooling water inflow and outflow lines 24 and 26, A control valve 28 is attached to each utility line, an inflow rate adjusting means 21 is attached to the N 2 purge gas line 22, and a flow meter 23 is provided to the cooling water inflow line 26. It is more equipped. The N 2 purge gas lines 22 branch to each of the dry pumps 14 located in the vacuum pump rack 10, and the cooling water inlet and output lines 24 and 26 are four branch pipes, respectively, and the dry pump 14 Are connected to each other through In the figure, reference numeral 30 denotes a wheel mounted to the bottom of the dry pump 14 or the bottom of the vacuum pump rack 10 so as to be movable.
하지만, 이러한 유틸리티 라인은 통상적으로 진공 펌프 랙의 전면에 장착되어 있기 때문에, 각각의 펌프설비를 제거하고자 하는 경우, 예를 들어 펌프의 PM(preventive maintenance: 사전예방정비)시, 유틸리티 라인을 모두 철거해야 하는 문제가 있었고, 설치역시 용이하지 않았고, 또한, 유틸리티 라인에 장착되는 각종 게이지의 확인이 어려운 문제가 있었다.However, these utility lines are usually mounted on the front of the vacuum pump rack, so if you want to remove each pumping facility, for example during the PM (preventive maintenance) of the pump, remove all the utility lines. There was a problem that had to be done, the installation was not easy, and it was difficult to identify the various gauges mounted on the utility line.
따라서, 본 고안은 이에 따라 안출된 것으로, 그 목적은 펌프에 연결되는 유틸리티 라인을 연결하여 펌프의 제거가 용이하고, 각종 게이지의 점검이 용이하고, 설치가 용이한 펌프 유틸리티 라인의 연결 구조를 제공하는 것이다.Therefore, the present invention has been devised accordingly, and its object is to provide a connection structure of a pump utility line that is easy to remove the pump, easy to check the various gauges, easy to install by connecting the utility line connected to the pump It is.
이러한 목적을 달성하기 위한 수단으로서, 본 고안은 진공 펌프 랙에 장착된 다수의 펌프에 연결되는 유틸리티 라인의 연결 구조에 있어서, N2퍼지 가스라인과 냉각수 유출입 라인으로 구성된 두쌍의 유틸리티 라인과, 각각 상기 유틸리티 라인의 각각을 장착하도록 배기라인의 좌우에 설치되는 한쌍의 패널로 이루어지고, 상기 패널의 각각에 장착된 상기 유틸리티 라인의 각각은 수평랙을 따라 연장되면서 드라이 펌프의 후면에서 상하로 분기되어 드라이 펌프의 각각에 연결되는 것을 특징으로 한다.As a means for achieving the above object, the present invention in the connection structure of the utility line connected to a plurality of pumps mounted in the vacuum pump rack, two pairs of utility lines consisting of N 2 purge gas line and the coolant inlet and outlet lines, respectively It consists of a pair of panels installed on the left and right of the exhaust line to mount each of the utility line, each of the utility line mounted to each of the panel is branched up and down at the rear of the dry pump while extending along a horizontal rack It is characterized in that it is connected to each of the dry pump.
도 1은 진공 펌프 랙에 장착된 다수의 펌프에 연결된 유틸리티 라인의 종래의 연결구조를 나타내는 개략 정면도이고,1 is a schematic front view showing a conventional connection structure of a utility line connected to a plurality of pumps mounted in a vacuum pump rack,
도 2는 본 고안의 바람직한 일실시예에 따라 진공 펌프 랙에 장착된 다수의 펌프에 연결된 유틸리티 라인의 연결 구조를 나타내는 일부 상세 측면도이고,2 is a partial detailed side view showing a connection structure of a utility line connected to a plurality of pumps mounted on a vacuum pump rack according to an embodiment of the present invention,
도 3은 도 2의 일부 상세 정면도이다.3 is a partial detailed front view of FIG. 2.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
2 : 수직랙2: vertical rack
4 : 수평랙4: horizontal rack
10 : 진공 펌프 랙(vacuum pump rack)10: vacuum pump rack
12 : 부스터 펌프(booster pump)12 booster pump
14 : 드라이 펌프(dry pump)14 dry pump
16 : 배기 라인(exhaust line)16: exhaust line
21 : 조절수단(regulator)21: regulator
22 : N2퍼지 가스라인22: N 2 purge gas line
23 : 유량계(flowmeter)23 flowmeter
24,26 : 냉각수 유출입 라인24,26: cooling water inflow and outflow line
28 : 조절 밸브28: regulating valve
30 : 바퀴30: wheels
42 : N2퍼지 가스라인42: N 2 purge gas line
44,46 : 냉각수 유출입 라인44,46: coolant inflow and outflow line
50 : 판넬50: panel
이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 고안의 일실시예에 따라 다수의 펌프에 연결되는 유틸리티 라인의 연결 구조를 상세히 설명한다.Hereinafter, a connection structure of a utility line connected to a plurality of pumps according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2 및 도 3은 본 고안의 바람직한 일실시예에 의한 펌프 유틸리티 라인의 연결 구조를 나타내는 것으로, 종래와 동일한 구성요소에는 동일한 참조부호를 첨부하였다.2 and 3 show the connection structure of the pump utility line according to a preferred embodiment of the present invention, the same reference numerals are attached to the same components as in the prior art.
도시된 바와 같이, 본 고안은 좌우 한쌍의 진공 펌프 랙(10)에 장착된 다수의 펌프에 연결되는 유틸리티 라인을 연결한 것으로, 이러한 유틸리티 라인은 N2퍼지 가스라인(42)과 냉각수 유출입 라인(44,46)으로 구성되는 것이지만, 본 고안에서는 두쌍이 설치된다.As shown, the present invention connects a utility line connected to a plurality of pumps mounted on a pair of left and right vacuum pump racks 10, and the utility line is connected to the N 2 purge gas line 42 and the coolant inflow and outflow line ( 44,46), but in the present invention, two pairs are installed.
이러한 유틸리티 라인의 각각은 배기라인(16)의 좌우 한쌍의 패널(50)의 각각에 설치된다. 이러한 패널(50)의 각각에 장착된 유틸리티 라인의 각각은 수평랙(4)을 따라 연장되면서 드라이 펌프(14)의 후면에서 상하로 분기되어 드라이 펌프(14)의 각각에 연결된다. 즉, 좌측의 유틸리티 라인의 N2퍼지 가스라인(42)과 냉각수 유출입라인(44,46)은 패널(50)에서 수평랙(4)을 따라서 설치되어 드라이 펌프(14)의 후면에서 상하로 분기되어 드라이 펌프(14)의 각각에 연결되는 것이고, 우측의 유틸리티 라인역시 이와 마찬가지로 드라이 펌프(14)의 각각에 연결되는 것이다. 이때, 수평랙(4)의 부분은 서스 튜브(sus tube)(43)로 구성하고, 드라이 펌프(14)에 연결되는 부분은 플랙시블호스(45)로 구성하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 본 고안은 유틸리티 라인이 수평랙(4)을 따라 연장되면서 설치되어 있으므로, 펌프의 분해검사(pump overhaul)시 펌프를 제거하더라도, 유틸리티 라인과는 간섭되지 않으므로, 펌프의 제거가 용이해진다.Each of these utility lines is installed in each of the left and right pairs of panels 50 of the exhaust line 16. Each of the utility lines mounted to each of these panels 50 extends along the horizontal rack 4 and branches up and down at the rear of the dry pump 14 to connect to each of the dry pumps 14. That is, the N 2 purge gas line 42 and the coolant inlet and outlet lines 44 and 46 of the utility line on the left side are installed along the horizontal rack 4 in the panel 50 and branched up and down from the rear of the dry pump 14. And is connected to each of the dry pumps 14 and the utility line on the right side is likewise connected to each of the dry pumps 14. At this time, the portion of the horizontal rack (4) is preferably composed of a sus tube (sus tube) 43, the portion connected to the dry pump 14 is preferably composed of a flexible hose (45). As described above, the present invention is installed while the utility line extends along the horizontal rack 4, so even if the pump is removed during the pump overhaul, it does not interfere with the utility line, so that the pump is easily removed. .
도 3에 잘 나타난 바와 같이, 유틸리티 라인에는 조절밸브(28)가 부착되어 있고, N2퍼지 가스라인(22)에는 유입량 조절수단(21)이 부착되어 있고, 냉각수 유입라인(26)에는 유량계(23)(flow meter)가 더 장착되어 있다. 이러한 조절밸브(28), 유입량 조절수단(21) 및 유량계(23)와 같은 게이지는 패널(50)에 연결되는 것이 바람직하다. 이와 같이 연결되는 각종 게이지들에 따라 전면의 패널(50) 디자인을 달리할 수 있고, 펌프의 점검 및 관리가 용이해지며, 설치역시 용이해진다.As shown in FIG. 3, a control valve 28 is attached to the utility line, an inflow rate adjusting means 21 is attached to the N 2 purge gas line 22, and a flow meter () to the cooling water inlet line 26. 23) (flow meter) is further attached. Such a control valve 28, the flow rate adjusting means 21 and the gauge such as the flow meter 23 is preferably connected to the panel 50. According to the various gauges connected in this way, the design of the front panel 50 may be different, and the inspection and management of the pump may be easy, and the installation may also be easy.
상술한 바와 같이 본 고안의 연결 구조는 펌프의 분해검사(pump overhaul)시 펌프의 제거 및 각종 게이지의 점검이 용이하고, 유틸리티 라인의 설치가 용이한 효과를 가진다.As described above, the connection structure of the present invention facilitates the removal of the pump and the inspection of various gauges during the pump overhaul, and the utility line can be easily installed.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019990001070U KR20000016191U (en) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | Connecting structure connected to a plurality of pump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019990001070U KR20000016191U (en) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | Connecting structure connected to a plurality of pump |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000016191U true KR20000016191U (en) | 2000-08-25 |
Family
ID=54758603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019990001070U KR20000016191U (en) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | Connecting structure connected to a plurality of pump |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20000016191U (en) |
-
1999
- 1999-01-27 KR KR2019990001070U patent/KR20000016191U/en not_active Application Discontinuation
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