KR20000010115A - Erasing method in a flash memory device - Google Patents

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KR20000010115A KR1019980030858A KR19980030858A KR20000010115A KR 20000010115 A KR20000010115 A KR 20000010115A KR 1019980030858 A KR1019980030858 A KR 1019980030858A KR 19980030858 A KR19980030858 A KR 19980030858A KR 20000010115 A KR20000010115 A KR 20000010115A
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홍성희
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김영환
현대전자산업 주식회사
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    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • G11C16/3468Prevention of overerasure or overprogramming, e.g. by verifying whilst erasing or writing
    • G11C16/3477Circuits or methods to prevent overerasing of nonvolatile memory cells, e.g. by detecting onset or cessation of current flow in cells and using the detector output to terminate erasing

Abstract

PURPOSE: An erasing method in a flash memory device is provided to have a cell have a normal erasing threshold voltage so that the cell may not be over-erased by carrying out an afterward program at regular intervals during an erasing operation. CONSTITUTION: The erasing method comprises the steps of: initializing(S300) an address; carrying out(S302) a previous program which programs in the case of an erased cell and leaves the cell as it is by changing the address of a desired sector; carrying out(S304) the previous program(S302) again if any one of overall cells is not programmed; comparing(S306) the sector address with a last sector address when the previous program is carried out normally; carrying out(S308) the previous program regarding other sectors by increasing the sector address if the sector address is the last one; initializing(S310) the address for an erasing operation if the previous program is carried out regarding the last sector; erasing(S312) by applying an erase bias to every cell of the first sector; carrying out(S314) an afterward programming which increases a threshold voltage of an over-erased cell to that of a normally erased cell by applying an afterward programming bias to cells of columns in a sector after a predetermined repetition of erasing; determining(S316) whether the cells are erased normally and carrying out(S312) the erasing operation when the cell erasion is not completed; finishing(S318) the erasing operation if the sector address is the last sector address when every cell of the sector is erased; and carrying out(S312) the erasing operation again for erasing the next sector by increasing a sector address if the sector address is not last one.

Description

플래쉬 메모리의 소거 방법How to erase flash memory

본 발명은 플래쉬 메모리의 소거 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플래쉬 메모리의 소거시 모든 셀들을 소거한 후 후프로그램을 수행할 때 셀 특성에 따라 지나치게 과소거된 셀들이 후프로그램되지 않거나 후프로그램되는 시간이 많이 소요되어 정상적으로 동작하지 않는 다는 문제점을 해결하기 위해 셀들을 소거하면서 일정한 간격으로 후프로그램을 수행하도록 하는 플래쉬 메모리의 소거 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of erasing a flash memory, and more particularly, in a case of performing a post-program after erasing all cells during erasing of a flash memory, cells that are over-erased according to cell characteristics are not post-programmed or post-programmed. The present invention relates to a method of erasing a flash memory to perform post-programming at regular intervals while erasing cells in order to solve a problem in that it does not operate normally due to a long time.

메모리는 데이터를 저장해 두고 필요할 때에 꺼내어 읽어볼 수 있는 장치를 일컫는 말로서 DRAM을 중심으로 하는 반도체 메모리로부터 마그네틱 디스크, 광학 디스크 등 다양한 종류가 있다. 이중에서도 반도체 메모리는 소형이며 높은 신뢰도 및 저렴한 가격이라는 장점 이외에도 상대적으로 고속 동작이 가능해서 매우 급속히 개발, 보급되고 있는 추세이다.The memory refers to a device that stores data and can be read out when needed. There are various types of memory, such as semiconductor memory based on DRAM, magnetic disks, and optical disks. Among them, semiconductor memory is small, high reliability and low price, and relatively high speed operation is possible, so it is developing and disseminating very rapidly.

마그네틱 메모리나 광학 메모리에 비해 반도체 메모리는 용량면에서는 뒤떨어어지지만 동작 속도가 빠르기 때문에 CPU에 더욱 가까이 배치하여 빈번히 사용되는 데이터만을 저장하는 메모리로 사용된다.Compared to magnetic memory and optical memory, semiconductor memory is inferior in terms of capacity, but because of its fast operation speed, it is used as a memory for storing only frequently used data by placing closer to the CPU.

반도체 메모리는 RAM(Random Access Memory)과 ROM(Read Only Memory)로 크게 나눌 수 있다. RAM은 데이터를 임의로 써넣고 저장하며 읽어낼 수 있는 메모리로 전원이 끊기면 저장된 데이터가 소멸되는 소위 휘발성 기억소자인 반면에, ROM은 비록 데이터를 읽어낼 수 있을 뿐이지만 사용자가 칩에 데이터를 자유로이 써넣을 수 있는 프로그래밍이 가능한 PROM(Programmable ROM)과 1회만의 프로그래밍만 허용되는 OT-PROM(One Time Programmable ROM)으로 나누어진다.Semiconductor memories can be broadly divided into random access memory (RAM) and read only memory (ROM). RAM is a so-called volatile memory device that randomly writes, stores, and reads data. When the power is cut off, so-called volatile memory device loses data. On the other hand, ROM can read data on the chip freely, even though the user can read data. It is divided into a programmable PROM (Programmable ROM) that can be inserted and an OT-PROM (One Time Programmable ROM) that allows only one programming.

OT-PROM은 공장에서 칩제조 공정시에만 프로그래밍할 수 있는 마스크 ROM과 사용자가 프로그래밍할 수 있는 퓨즈 ROM이 있으며, PROM의 경우는 EPROM(Erasable PROM)과 EEPROM(Electrically Erasable PROM)이 있다.The OT-PROM has a factory-programmable mask ROM and a user-programmable fuse ROM for the chip manufacturing process. The PROM is an erasable PROM (EPROM) and an electrically erasable PROM (EEPROM).

EPROM은 패키지에 부착된 석영 유리창을 통해서 자외선을 쪼여서 칩의 전체 셀을 한꺼번에 소거하는 것이며, EEPROM은 큰 전기장을 인가시 발생하는 터널링현상을 이용하여 소거하는 것을 가르킨다.EPROM refers to erasing the entire cell of a chip at once by irradiating UV light through a quartz glass window attached to the package. EEPROM refers to erasing using tunneling phenomena generated when a large electric field is applied.

특히, 바이트(8비트) 단위로 소거하는 대신 블록단위로 셀을 한꺼번에 소거하는 EEPROM을 플레쉬메모리라고 부르게 된다.In particular, instead of erasing by byte (8-bit) unit, EEPROM that erases cells at once by block unit is called flash memory.

플레쉬 메모리는 플로팅게이트(Floating Gate)를 이용하여 프로그래밍 동작은 아래쪽 플로팅게이트에 전자를 주입시켜서 셀트랜지스터의 문턱전압을 증가시키는 동작이고 소거동작은 플로팅게이트에 있는 전자를 뽑아내어 플로팅게이트를 전자가 없는 상태로 만들어 문턱전압을 낮추는 동작이다.The flash memory uses floating gates to increase the threshold voltage of the cell transistors by injecting electrons into the floating gates, and the erase operation extracts the electrons in the floating gates so that the floating gates have no electrons. It is the operation to lower the threshold voltage by making it into a state.

이와 같이 프로그램이나 소거를 수행한 플래쉬 메모리의 문턱전압이 프로그래밍시 6V라 하고, 소거시 2V로 할 때 위쪽 게이트에 연결된 워드라인에 5V를 인가하면 프로그래밍된 셀은 오프되고 소거된 셀은 턴온되어 흐르는 전류의 차이를 판별하여 프로그래밍된 셀은 "1"로 소거된 셀은 "0"으로 판별하게 된다.When the threshold voltage of the flash memory that has been programmed or erased is 6V during programming and 2V when erased, when 5V is applied to the word line connected to the upper gate, the programmed cell is turned off and the erased cell turns on and flows. The cell programmed by determining the difference in current is determined as "1" and the cell erased as "0".

플레쉬 메모리에 데이터를 프로그래밍하거나 소거하는 동작중에서 소거동작을 상세하게 다시 설명하면 다음과 같다.The erasing operation will be described in detail during the programming or erasing of data in the flash memory.

멀티섹터 소거동작일 경우 섹터 어드레스를 입력받은 다음 약 100㎲ 정도 대기한후 네가티브 차지펌핑을 수행하여 고전압의 부성전압을 발생시킨다. 이렇게 발생된 부성전압으로 플로팅게이트에 인가하여 플로팅게이트에 있는 전자를 뽑아내어 소거를 시킨다음 차지펌핑되어 있는 전압을 원래의 전압으로 방전시키게 된다.In the multi-sector erasing operation, a negative charge pumping is performed after waiting for about 100 ms after receiving a sector address to generate a high voltage negative voltage. The negative voltage generated as described above is applied to the floating gate to remove electrons from the floating gate, and then erases the charged pump voltage to the original voltage.

그런다음 소거가 정상적으로 수행되었는지 검증하여 정상적으로 수행되지 않았을 경우에는 다시금 소거를 시켜 정상적인 소거동작이 완료되면 과소거되었는가 판단하여 일반적인 소거상태에서의 문턱전압을 갖을 수 있도록 후프로그래밍을 수행한 후 소거동작을 완료하고 일반적인 읽기상태로 전환된다.After verifying that the erase operation has been performed normally, if the erase operation is not performed normally, the erase operation is performed again. If the erase operation is completed, the erase operation is judged to be over-erased. Complete and return to normal reading.

도 1은 종래의 플래쉬 메모리의 소거 방법을 설명하기 위해 순차적으로 도시한 흐름도이다.1 is a flowchart sequentially illustrating a conventional method of erasing a flash memory.

여기에서 보는 바와 같이, 먼저 어드레스를 초기화한다(S100). 그런다음 소거하고자 하는 섹터의 셀어드레스를 변경하면서 프로그램된 셀일 경우에는 그냥 두고 소거된 셀일 경우에는 프로그램하는 선프로그램을 수행한다(S102).As shown here, first, an address is initialized (S100). Then, if the cell is programmed while changing the cell address of the sector to be erased, the preprogrammed program is performed in the case of the erased cell (S102).

선프로그램을 수행하여 섹터내의 모든 셀이 프로그램이 되었는가 확인하여 선프로그램이 통과되지 않았을 경우에는 다시 선프로그램을 수행(S102)하게 된다(S104). 정상적으로 선프로그램이 완료되었을 경우에는 섹터 어드레스가 마직막인가 비교한다(S106). 이때 섹터 어드레스가 마지막일 경우에는 섹터 어드레스를 증가하여 다른 섹터도 선프로그램을 수행(S102)한다(S108).If the preprogram is not executed by checking whether all cells in the sector have been programmed by performing the preprogram, the preprogram is executed again (S102). When the preprogram is normally completed, it is compared whether the sector address is the last (S106). If the sector address is the last one, the sector address is increased and other sectors are also preprogrammed (S102).

그러나, 마지막 섹터까지 선프로그램을 수행한 경우에는 소거동작을 위해 다시 어드레스를 초기화 한다(S110).However, when the preprogram is executed to the last sector, the address is initialized again for the erase operation (S110).

그리고, 처음 섹터의 모든 셀에 소거 바이어스를 인가하여 소거를 수행한다(S112). 그런다음, 모든 셀이 소거되었는가 확인하여 한 개의 셀이라도 소거가 되지 않았을 경우에는 다시 소거를 수행(S112)하게 된다(S114).The erase is performed by applying an erase bias to all cells of the first sector (S112). Then, it is checked whether all the cells are erased, and if one cell is not erased again, the erase operation is performed again (S112).

그러나, 소거가 완료되었을 경우에는 다른 섹터를 소거시키기 위해 현재 소거한 섹터 어드레스가 마지막 섹터 어드레스인가 비교하게 된다(S116). 이때 섹터 어드레스가 마지막이 아닐 경우에는 계속해서 소거하기 위해 섹터 어드레스를 증가시켜 소거를 수행(S112)하게 된다(S118).However, when the erasing is completed, it is compared whether or not the sector address currently erased to erase another sector is the last sector address (S116). In this case, when the sector address is not the last, the sector address is increased in order to continue erasing (S112).

마지막 섹터까지 소거를 수행한 다음에는 다시 후프로그램을 위해 어드레스를 초기화한다(S120).After erasing is performed to the last sector, the address is initialized again for a later program (S120).

그리고, 소거된 셀이 과소거되었는가 비교한다(S122). 비교한 결과 과소거되었을 경우에는 섹터내에서 칼럼단위로 후프로그래밍 바이어스를 인가하여 과소거된 셀의 문턱전압을 정상적인 소거셀의 문턱전압으로 올리도록 한다(S124).Then, it is compared whether the erased cell is over erased (S122). If the result of comparison is over-erased, a post-programming bias is applied in column units within the sector to raise the threshold voltage of the over-erased cell to the threshold voltage of a normal erase cell (S124).

후프로그램은 셀의 게이트에 후프로그래밍 바이어스를 동일하게 인가할 때 과소거된 경우에는 후프로그래밍 바이어스에 의해 문턱전압이 상승하게 되며, 정상적으로 소거된 경우에는 변화가 없게 된다.When the post-program is applied to the gate of the cell in the same way, the threshold voltage is increased by the post-programming bias when it is over-erased, and there is no change when it is normally erased.

이렇게 섹터내에서 모든 칼럼을 후프로그램한 후 섹터 어드레스를 비교하여 마지막 섹터까지 수행했는가 판단하여 마지막 섹터일 경우에는 소거작동을 종료하게 된다(S126). 그러나 이때 마지막 섹터가 아닐경우에는 섹터 어드레스를 증가시켜 다른 섹터에서 후프로그램을 수행하게 된다(S128).After all columns are programmed in this sector, it is determined whether the last sector is performed by comparing the sector address, and if the last sector is completed, the erase operation is terminated (S126). However, in this case, if it is not the last sector, the sector address is increased to perform a later program in another sector (S128).

위와 같은 소거 방법에 간략하게 다시한번 설명하면, 모든 셀에 대해 선프로그램을 수행한 다음 셀을 소거하게 된다. 그리고, 모든 셀이 완전히 소거되었을 경우에만 과소거된 셀을 제거하기 위한 후프로그램을 수행하고 소거동작을 완료하게 된다.In brief description of the above-described erasing method, all cells are pre-programmed and then the cells are erased. Only after all cells have been completely erased, a post-program for removing the erased cells is performed and the erase operation is completed.

도2는 위와 같은 소거 방법에 의해 소거된 셀의 문턱전압 분포를 나타낸 그래프이다.2 is a graph showing the threshold voltage distribution of a cell erased by the above erase method.

여기서 (가)는 높은 소거 문턱전압을 갖도록하여 소거한 문턱전압의 분포도이고, (나)는 낮은 소거 문턱전압을 갖도록 하여 소거한 문턱전압의 분포도이다.Here, (a) is a distribution of the erased threshold voltage to have a high erase threshold voltage, (b) is a distribution of the erased threshold voltage to have a low erase threshold voltage.

여기에서 보는 바와 같이 'A'그래프는 선프로그램을 한상태의 분포도이고, 'B'는 후프로그램을 수행하지 않은 상태의 분포도이고, 'C'는 후프로그램을 한 상태의 분포도이다.As shown here, the 'A' graph shows the distribution of the preprogrammed state, the 'B' shows the distribution of the non-postprogrammed state, and the 'C' shows the distribution of the postprogrammed state.

위와 같이 후프로그램을 하기 전의 상태를 보면 과소거된 셀의 많음을 알 수 있다. 특히, 낮은 소거 문턱전압을 갖도록 한 경우가 높은 소거 문턱전압을 갖도록 한 경우보다 과소거거 되는 셀이 많음을 알 수 있다.If you look at the state before the post-program as above, you can see that there are a lot of over-erased cells. In particular, it can be seen that more cells are over-erased than those having a low erase threshold voltage than those having a high erase threshold voltage.

이와 같은 방법에 의해 소거를 할 경우 모든 셀이 소거 완료될때까지 소거하게 됨으로써 셀의 특성차이에 의해 빨리 소거되는 셀의 경우에는 늦게 소거되는 셀로 인해 반복되는 소거작동에 의해 과소거가 될 가능성이 높아지게 된다. 이렇게 과소거된 셀의 누설전류 영향으로 아직 소거되지 않은 셀이 소거가 완료된 것으로 인식되어질 경우도 있기 때문에 아직 소거가 완료되지 않았음에도 불구하고 소거가 완료된 것으로 인식되어 후 프로그램 동작으로 진행되어 질 수 있다.In the case of erasing by this method, all the cells are erased until the erasure is completed. Thus, in the case of a cell that is quickly erased due to the characteristic difference of the cell, the possibility of being erased by repeated erase operation is increased due to the late erased cell. . Since the erased cells may be recognized as erased due to the leakage current of the over erased cells, the erase may be recognized as being completed even though the erase is not completed. .

그리고, 후 프로그램 후 과소거된 셀들이 사라지게 됨으로써 소거 되지 않았음에도 소거된 것으로 판단되었던 셀이 다시 나타나게 되어 소거가 정상적으로 완료되지 않을 수 있다는 문제점이 있다.After the program is overerased, the cells that have been erased disappear after the program disappears, so that the cells that have been erased may reappear and erase may not be completed normally.

그레서, 이런 문제점으로 인해 셀을 소거할 때 소거 문턱전압을 낮게 '0'에 가깝도록 할 경우에는 (나)의 그래프에서 보는 바와 같이 과소거되는 셀이 증가함게 됨을 알 수 있다. 따라서 이렇게 과소거된 셀이 많을 경우에는 후프로그램에 많은 시간을 필요로하게 되고, 또한 과소거된 셀로 인해 비트라인의 누설전류가 증가함으로써 후프로그램이 정상적으로 동작하지 않을 수도 있다는 문제점이 있다.Therefore, when the cell is erased due to this problem, when the erase threshold voltage is set to be close to '0', it can be seen that the over-erased cell increases as shown in (b). Therefore, when there are many over-erased cells, a large amount of time is required for the post-program, and there is a problem that the post-program may not operate normally because the leakage current of the bit line increases due to the over-erased cells.

한편, 후프로그램이 정상적으로 동작하지 않아 과소거된 셀이 비트라인에 있을 경우 비트라인에서 프로그램된 셀을 읽기 위해 게이트에 전압을 인가하게 되면, 과소거된 셀의 누설전류에 의해 프로그램된 셀을 정상적으로 읽을 수 없게된다는 문제점이 있다.On the other hand, if the over-programmed cell is in the bit line because the post-program does not operate normally, if a voltage is applied to the gate to read the cell programmed in the bit line, the programmed cell is normally The problem is that it becomes unreadable.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창작된 것으로서, 본 발명의 목적은 모든 셀에 선프로그램을 수행한 후 소거를 수행할 때 반복하여 소거를 수행하는 동안 일정한 간격으로 후프로그램을 수행함으로써 셀 특성상 빨리 소거되어 반복되는 소거동작에 의해 과소거되는 셀들을 정상적인 소거 문턱전압을 갖도록 하는 플래쉬 메모리의 소거 방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to perform a post-program at regular intervals while repeatedly performing an erase after performing a preprogram on all cells. According to an aspect of the present invention, there is provided a method of erasing a flash memory in which cells that are quickly erased and are erased by repeated erase operations have a normal erase threshold voltage.

도 1은 종래의 플래쉬 메모리의 소거 방법을 설명하기 위해 순차적으로 도시한 흐름도이다.1 is a flowchart sequentially illustrating a conventional method of erasing a flash memory.

도 2는 종래의 플래쉬 메모리의 소거 방법에 의한 문턱전압의 분포를 나타낸 그래프로서 (가)는 높은 소거 문턱전압을 나타낸 그래프이고, (나)는 낮은 소거 문턱전압을 나타낸 그래프이다.FIG. 2 is a graph showing a distribution of threshold voltages according to a conventional erase method of a flash memory. (A) is a graph showing a high erase threshold voltage, and (B) is a graph showing a low erase threshold voltage.

도 3은 본 발명에 따른 플래쉬 메모리의 소거 방법을 설명하기 위해 순차적으로 도시한 흐름도이다.3 is a flowchart sequentially illustrating a method of erasing a flash memory according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 플래쉬 메모리의 소거 방법에 의한 문턱전압의 분포를 나타낸 그래프로서 (가)는 높은 소거 문턱전압을 나타낸 그래프이고, (나)는 낮은 소거 문턱전압을 나타낸 그래프이다.4 is a graph illustrating a distribution of threshold voltages according to an erase method of a flash memory according to the present invention, (a) is a graph showing a high erase threshold voltage, and (b) is a graph showing a low erase threshold voltage.

상기와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은 모든 셀이 완전히 소거된 후 후프로그램이 수행되도록 하는 플래쉬 메모리의 소거 방법에 있어서, 후프로그램이 소거가 수행되는 동안 일정한 간격으로 수행되도록 한 것을 특징으로 한다.The present invention for realizing the above object is a method of erasing a flash memory to perform a post program after all cells are completely erased, characterized in that the post program is performed at regular intervals while the erase is performed. .

위와 같이 이루어진 소거 방법은 메모리 셀들을 소거할 때 셀의 특성상 다른 셀들에 비해 먼저 소거되었음에도 불구하고 소거되지 않을 셀들로인해 계속 소거됨으로써 지나치게 과소거 되는 것을 방지하기 위해 소거동작이 반복되는 동안 일정한 간격으로 후프로그램을 실시하여 과소거된 셀을 후프로그램시킨후 소거되지 않을 셀들을 위해 계속 소거되도록 하여 지나치게 과소거되는 것을 방지할 수 있도록 작동된다.The erase method described above is performed at regular intervals while the erase operation is repeated to prevent the memory cells from being erased excessively by being erased by the cells which will not be erased despite being erased earlier than other cells due to the characteristics of the cells. After the program is over-programmed, the over-erased cell is programmed to continue erasing for the cells that are not to be erased.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 또한 본 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니고, 단지 예시로 제시된 것이며 종래 구성과 동일한 부분은 동일한 부호 및 명칭을 사용한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, the present embodiment is not intended to limit the scope of the present invention, but is presented by way of example only and the same parts as in the conventional configuration using the same reference numerals and names.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플래쉬 메모리의 소거 방법을 설명하기 위해 순차적으로 도시한 흐름도이다.3 is a flowchart sequentially illustrating a method of erasing a flash memory according to an exemplary embodiment of the present invention.

여기에서 보는 바와 같이, 먼저 어드레스를 초기화한다(S300). 그런다음 소거하고자 하는 섹터의 셀어드레스를 변경하면서 프로그램된 셀일 경우에는 그냥 두고 소거된 셀일 경우에는 프로그램하는 선프로그램을 수행한다(S302).As shown here, first, an address is initialized (S300). Then, if the cell is programmed while changing the cell address of the sector to be erased, the preprogrammed program is performed in the case of the cell that has been left out (S302).

선프로그램을 수행하여 섹터내의 모든 셀이 프로그램이 되었는가 확인하여 선프로그램이 통과되지 않았을 경우에는 다시 선프로그램을 수행(S302)하게 된다(S304). 정상적으로 선프로그램이 완료되었을 경우에는 섹터 어드레스가 마직막인가 비교한다(S306). 이때 섹터 어드레스가 마지막일 경우에는 섹터 어드레스를 증가하여 다른 섹터도 선프로그램을 수행(S302)한다(S308).If the preprogram is not executed by checking whether all cells in the sector have been programmed by performing the preprogram, the preprogram is again performed (S302). When the preprogram is normally completed, it is compared whether the sector address is the last (S306). If the sector address is the last one, the sector address is increased and other sectors are also preprogrammed (S302).

그러나, 마지막 섹터까지 선프로그램을 수행한 경우에는 소거동작을 위해 다시 어드레스를 초기화 한다(S310).However, when the preprogram is executed to the last sector, the address is initialized again for the erase operation (S310).

그리고, 처음 섹터의 모든 셀에 소거 바이어스를 인가하여 소거를 수행한다(S312). 일정횟수 만큼 소거를 수행한 후 섹터내에서 칼럼단위로 후프로그래밍 바이어스를 인가하여 과소거된 셀의 문턱전압을 정상적인 소거셀의 문턱전압으로 올리도록 후프로그램을 수행한다(S314). 이렇게 후프로그램을 수행한후 셀이 정상적으로 소거되었는가 비교하여 아직 완전히 소거되지 않았을 경우에는 소거를 다시 수행(S312)한다(S316).Erasing is performed by applying an erase bias to all cells of the first sector (S312). After the erase operation is performed a predetermined number of times, a post-programming bias is applied in the column unit in the sector to perform the post-program to raise the threshold voltage of the erased cell to the threshold voltage of the normal erase cell (S314). After the program is executed, the cell is erased normally. If not, the erase operation is performed again (S312).

그러나, 섹터내의 모든 셀이 완전히 소거되었을 경우에는 섹터 어드레스를 비교하여 마지막 섹터 어드레스인가 판단하여 마지막 섹터 어드레스일 경우에는 소거동작을 종료한다(S318). 그러나, 이때 마지막 섹터 어드레스가 아닐 경우에는 다음 섹터를 소거하기 위해 섹터 어드레스를 증가한 소거를 수행(S312)하게 된다(S320).However, when all the cells in the sector have been completely erased, the sector address is compared to determine whether it is the last sector address, and if it is the last sector address, the erase operation is terminated (S318). However, if it is not the last sector address at this time, the erase is performed by increasing the sector address (S312) to erase the next sector (S320).

이렇게 소거 동작을 수행하면서 과소거된 셀을 후프로그래밍하면서 소거하도록 하는 것이다.The erase operation is performed while the program is erased while performing the erase operation.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플래쉬 메모리의 소거 방법에 의한 문턱전압의 분포를 나타낸 그래프로서 (가)는 높은 소거 문턱전압을 나타낸 그래프이고, (나)는 낮은 소거 문턱전압을 나타낸 그래프이다.4 is a graph illustrating a distribution of threshold voltages according to an erase method of a flash memory according to an exemplary embodiment of the present invention, (a) is a graph showing a high erase threshold voltage, and (b) is a graph showing a low erase threshold voltage. .

여기서 (가)는 높은 소거 문턱전압을 갖도록하여 소거한 문턱전압의 분포도이고, (나)는 낮은 소거 문턱전압을 갖도록 하여 소거한 문턱전압의 분포도이다.Here, (a) is a distribution of the erased threshold voltage to have a high erase threshold voltage, (b) is a distribution of the erased threshold voltage to have a low erase threshold voltage.

여기에서 보는 바와 같이 'A'그래프는 선프로그램을 한상태의 분포도이고, 'D'는 소거동작의 마지막 루프에서 후프로그램을 수행하지 않은 상태의 분포도이고, 'C'는 소거동작의 마지막 루프에서 후프로그램을 수행한 상태의 분포도이다.As shown here, graph 'A' is the distribution of preprogrammed state, 'D' is the distribution of non-programmed after the last loop of erasing operation, and 'C' is the distribution of the last loop of erasing operation. This is a distribution chart of the state where the program is executed.

위와 같이 소거를 수행하면서 일정한 간격으로 후프로그램을 수행하기 때문에 소거동작의 마지막 루프에서 후프로그램을 하기 전의 상태나 후프로그램한 상태가 크게 차이가 나지 않음을 알 수 있다. 또한, 낮은 소거 문턱전압을 갖도록 한 경우나 높은 소거 문턱전압을 갖도록 한 경우 모두 거의 비슷한 분포를 갖고 있는 것을 알 수 있다. 따라서, 소거 문턱전압을 '0'에 가깝도록 낮게 설정할 수 있게 된다.Since the post program is executed at regular intervals while performing the erase operation as described above, it can be seen that the state before or after the post program is not significantly different in the last loop of the erase operation. In addition, it can be seen that the case of having a low erase threshold voltage or a case of having a high erase threshold voltage has almost similar distribution. Therefore, the erase threshold voltage can be set low to be close to '0'.

상기한 바와 같이 본 발명은 플래쉬 메모리셀의 소거시 모든 셀이 소거될때까지 반복하여 소거하면서 일정한 간격으로 후프로그램을 수행함으로써 셀 특성상 일찍 소거되는 셀들이 지나치게 과소거되는 것을 일정한 간격으로 후프로그램을 수행하면서 소거를 수행하게 되어 지나친 과소거로 인한 누설전류를 방지할 수 있다는 이점이 있다.As described above, the present invention performs the post-program at regular intervals so that the cells that are erased early due to cell characteristics are excessively erased by performing the post-program at regular intervals while repeatedly erasing until all the cells are erased. While erasing is performed, there is an advantage of preventing leakage current due to excessive over-erasing.

또한, 지나치게 과소거가 되지 않기 때문에 후프로그램을 위한 동작에서도 적은 부하로 후프로그램을 수행할 수 있어 많은 시간을 단축시킬 수 있다는 이점이 있다.In addition, there is an advantage that the post-program can be executed with a small load even in the operation for the post-program because it is not excessively erased, thereby reducing a lot of time.

한편, 소거가 진행되는 동안 일정한 간격으로 후프로그램을 수행함으로써 지나치게 과소거되는 것을 방지하여 소거 문턱전압을 낮게 설정할 수 있다는 이점이 있다.On the other hand, by performing the post-program at regular intervals while the erase is in progress, there is an advantage that the erase threshold voltage can be set low by preventing over-erasing.

Claims (1)

모든 셀이 완전히 소거된 후 후프로그램이 수행되도록 하는 플래쉬 메모리의 소거 방법에 있어서,A method of erasing a flash memory in which a post program is performed after all cells are completely erased, 상기 후프로그램이 소거가 수행되는 동안 일정한 간격으로 수행되도록 한 것The post-program being executed at regular intervals during erasing 을 특징으로 하는 플래쉬 메모리의 소거 방법.Erasing method of the flash memory, characterized in that.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100591361B1 (en) * 2004-04-24 2006-06-19 남효근 synthetic resins sewer Method
US7668019B2 (en) 2006-11-28 2010-02-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Non-volatile memory device and erasing method thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100591361B1 (en) * 2004-04-24 2006-06-19 남효근 synthetic resins sewer Method
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