KR19990085793A - 반도체장치 제조용 세정장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 다수의 배쓰들을 효과적으로 밀폐하기 위한 배쓰커버와 이 배쓰커버를 자동으로 개폐시킬 수 있는 로봇아암을 포함하는 반도체장치 제조용 세정장치에 관한 것이다.

도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 세정장치는, 다수개의 배쓰(3)들이 형성되어 있는 본체(1)와 상기 배쓰(3)들을 덮는 배쓰커버(4)들 및 상기 본체(1) 자체를 덮어주며, 배쓰(3)내의 화학약품들로부터 발생되는 증기를 배출시키기 위한 증기배출구(6)가 형성된 세정장치에 있어서, 상기 배쓰(3)들 주위에 내측하방으로 향하여 경사진 경사면을 갖는 커버수용홈(11)이 형성되고, 상기 배쓰(3)들을 덮는 배쓰커버(4)들이 로봇아암(13)에 연결되어 이루어짐을 특징으로 한다.

따라서, 배쓰(3)내의 화학약품의 증발 또는 휘발을 억제할 수 있도록 긴밀하게 배쓰(3)를 밀폐할 수 있으며, 또한 로봇아암(13)에 의하여 자동적으로 개폐될 수 있는 배쓰커버(4)를 갖는 세정장치를 제공하는 효과가 있다.

Description

반도체장치 제조용 세정장치

본 발명은 반도체장치 제조용 세정장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다수의 배쓰들을 효과적으로 밀폐하기 위한 배쓰커버와 이 배쓰커버를 자동으로 개폐시킬 수 있는 로봇아암을 포함하는 반도체장치 제조용 세정장치에 관한 것이다.

반도체장치의 제조를 위하여는 웨이퍼의 표면에 포토레지스트를 도포하고, 소정의 패턴이 형성된 마스크를 웨이퍼와 정렬시킨 후, 노광, 현상, 식각, 불순물확산 및 전극증착 등의 일련의 공정들을 통하여 소정의 전기특성을 갖는 회로를 웨이퍼 상에 형성시키고, 후속되는 EDS공정 및 검사공정 등을 통하게 된다.

또한, 반도체장치의 수율의 향상을 위하여 상기 각 공정들 사이에는 통상적으로 외부로부터 유입될 수 있는 불순물들을 제거하기 위한 세정공정들이 일반적으로 수행된다.

세정공정은 통상 탈이온수에 의한 세정, 화학약품에 의한 세정으로 대별될 수 있으며, 화학약품에 의한 세정의 전후에는 역시 세정에 사용된 화학약품의 제거를 위하여 탈이온수에 의한 세정을 더하게 된다. 특히, 화학약품에 의한 세정 중 일반적인 세정으로 산수용액에 의한 세정이 많이 수행되며, 산으로서는 질산과 혼산 등이 널리 사용되고 있다.

따라서, 화학약품과 탈이온수에 의한 연속적인 세정이 가능하도록 통상의 세정장치에는 다수의 배쓰들이 형성되어 있으며, 그 일 구체예를 도 1에 나타내었다.

도 1에 도시한 바와 같이, 종래의 일반적인 반도체장치 제조용 세정장치에는 적어도 2개 이상의 다수개의 배쓰(3)들이 형성된 본체(1)와, 이를 덮어주는 덮개(2)를 포함하며, 상기 배쓰(3)는 그 상단부가 돌출되어 있어 배쓰커버(4)에 의하여 덮여지도록 되어 있으며, 또한 상기 덮개(2)에는 상기 배쓰(3)들 중에 담겨있는 화학약품들로부터 발생되는 증기를 제거하기 위한 증기배출구(6)가 형성되어 있다.

그러나, 이러한 종래의 세정장치에서는 화학약품을 담고 있는 배쓰(3)를 덮는 배쓰커버(4)가 그 배면에 하방으로 향하는 커버리브(5)를 포함하고 있으나, 도 2 및 도 3에 각각 도시한 바와 같이, 배쓰(3)의 상단부와 배쓰커버(4) 또는 커버리브(5)와 긴밀하게 접촉하지 못하고, 약간의 틈이 형성될 수 밖에 없는 구조를 가지고 있어, 배쓰(3)내의 화학약품이 자연적으로 또는 강제배기 등에 의하여 쉽게 증발 또는 휘발될 수 있으며, 그에 의하여 화학약품의 소모량이 증대됨은 물론 작업장으로서의 청정실의 오염 및 환경오염의 문제를 일으키는 단점이 있었다.

또한, 상기 배쓰커버(4)는 작업자가 인위적으로 개폐하여야만 하였기 때문에 작업시에는 항상 숙련된 작업자가 대기하면서 단조로운 개폐작업을 반복하여야만 하는 불편점이 있었다.

본 발명의 목적은 배쓰내의 화학약품의 증발 또는 휘발을 억제할 수 있도록 긴밀하게 배쓰를 밀폐할 수 있으며, 또한 로봇아암에 의하여 자동적으로 개폐될 수 있는 배쓰커버를 갖는 반도체장치 제조용 세정장치를 제공하는 데 있다.

도 1은 종래의 반도체장치 제조용 세정장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.

도 2는 도 1의 A-A선을 따라 절단하여 배쓰커버와 배쓰의 일 구체예를 개략적으로 도시한 부분단면도이다.

도 3은 도 1의 A-A선을 따라 절단하여 배쓰커버와 배쓰의 다른 일 구체예를 개략적으로 도시한 부분단면도이다.

도 4는 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 세정장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.

도 5는 도 4의 B-B선을 따라 절단하여 배쓰커버와 배쓰를 개략적으로 도시한 부분단면도이다.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 본체 2 : 덮개

3 : 배쓰 4 : 배쓰커버

5 : 커버리브 6 : 증기배출구

11 : 커버수용홈 12 : 경사리브

13 : 로봇아암 14 : 아암가이드

15 : 아암패널

본 발명에 따른 반도체장치 제조용 세정장치는, 다수개의 배쓰들이 형성되어 있는 본체와 상기 배쓰들을 덮는 배쓰커버들 및 상기 본체 자체를 덮어주며, 배쓰내의 화학약품들로부터 발생되는 증기를 배출시키기 위한 증기배출구가 형성된 세정장치에 있어서, 상기 배쓰들 주위에 내측하방으로 향하여 경사진 경사면을 갖는 커버수용홈이 형성되고, 상기 배쓰들을 덮는 배쓰커버들이 로봇아암에 연결되어 이루어짐을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도 4에 개략적으로 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 세정장치는, 다수의 배쓰(3)들이 형성된 본체(1)와 증기배출구(6)가 형성된 덮개(2) 및 상기 배쓰(3)들을 덮는 배쓰커버(4)들을 포함하며, 상기 배쓰커버(4)에는 그 저면에 하방으로 향하여 커버리브(5)가 형성되어 있으며, 이 배쓰커버(4)의 커버리브(5)가 상기 배쓰(3)들의 주위에 형성된 커버수용홈(11)내로 삽입되도록 하여 배쓰커버(4)를 배쓰(3)에 덮어주어 배쓰(3)내의 화학약품들의 증발 및 휘발을 억제토록 할 수 있다. 상기 커버수용홈(11)은 내측하방으로 향하여 소정의 경사각도(α)로 경사지도록 형성되어 있어, 적어도 이 경사면이 상기 배쓰커버(4)의 커버리브(5)의 단부와 맞닿을 때 적어도 하나의 긴밀한 밀봉선을 형성토록 하여 배쓰(3)를 긴밀하게 밀봉하도록 할 수 있다.

또한, 상기 배쓰커버(4)의 커버리브(5)도 내측하방으로 향하여 소정의 경사각도(β)로 경사지도록 형성된 경사리브(12)가 될 수 있으며, 이 경사리브(12)가 상기 배쓰(3)의 가장자리에 형성된 커버수용홈(11)내로 삽입될 때, 보다 긴밀한 밀봉면을 형성할 수 있도록 함으로써 배쓰커버(4)로 배쓰(3)를 덮을 때 보다 긴밀한 밀봉이 가능하도록 할 수 있다.

더욱이, 상기 배쓰커버(4)는 로봇아암(13)에 연결될 수 있으며, 이 로봇아암(13)은 상기 배쓰(3)가 형성된 본체(1)의 후면에 취부된 아암패널(15)에 형성된 아암가이드(14)를 따라 이동하여 다수의 배쓰(3)들 중 하나의 배쓰(3)를 선택하여 덮을 수 있도록 할 수 있다.

특히, 상기 로봇아암(13)은 상기 아암가이드(14)를 따라 수평, 수직방향으로 이동할 수 있으며, 또한 자체적으로 회전운동을 할 수 있다. 그에 따라, 배쓰커버(4)를 자동적으로 개폐하도록 할 수 있다.

따라서, 본 발명에 의하면 배쓰(3)내의 화학약품의 증발 또는 휘발을 억제할 수 있도록 긴밀하게 배쓰(3)를 밀폐할 수 있으며, 또한 로봇아암(13)에 의하여 자동적으로 개폐될 수 있는 배쓰커버(4)를 갖는 세정장치를 제공하는 효과가 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (3)

1. 다수개의 배쓰들이 형성되어 있는 본체와 상기 배쓰들을 덮는 배쓰커버들 및 상기 본체 자체를 덮어주며, 배쓰내의 화학약품들로부터 발생되는 증기를 배출시키기 위한 증기배출구가 형성된 세정장치에 있어서,

   상기 배쓰들 주위에 내측하방으로 향하여 경사진 경사면을 갖는 커버수용홈이 형성되고, 상기 배쓰들을 덮는 배쓰커버들이 로봇아암에 연결되어 이루어짐을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 세정장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 배쓰커버가 그 저면에 내측하방으로 향하여 소정의 경사각도(β)로 경사지도록 형성된 경사리브가 형성되어 이루어짐을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 세정장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 로봇아암이 상기 배쓰가 형성된 본체의 후면에 취부된 아암패널에 형성된 아암가이드를 따라 수평, 수직이동은 물론 회전운동을 하도록 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 세정장치.