KR19990074650A - 반도체장치 제조용 가스케비넷 - Google Patents

반도체장치 제조용 가스케비넷 Download PDF

Info

Publication number
KR19990074650A
KR19990074650A KR1019980008367A KR19980008367A KR19990074650A KR 19990074650 A KR19990074650 A KR 19990074650A KR 1019980008367 A KR1019980008367 A KR 1019980008367A KR 19980008367 A KR19980008367 A KR 19980008367A KR 19990074650 A KR19990074650 A KR 19990074650A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
supply line
gas supply
semiconductor device
line
Prior art date
Application number
KR1019980008367A
Other languages
English (en)
Inventor
이용욱
김종철
Original Assignee
윤종용
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자 주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019980008367A priority Critical patent/KR19990074650A/ko
Publication of KR19990074650A publication Critical patent/KR19990074650A/ko

Links

Landscapes

  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
  • Pipeline Systems (AREA)

Abstract

본 발명은 다수의 가스실린더가 구비되는 반도체장치 제조용 가스케비넷에 관한 것이다.
본 발명은, 가스공급라인에 의해서 서로 연결된 다수의 가스실린더로 이루어지는 다수의 가스실린더군이 내부에 구비되어 있는 것을 특징으로 한다.
따라서, 하나의 가스케비넷 내부에 다수의 가스실린더군으로 이루어지는 다수의 가스실린더를 구비함으로서 가스실린더 교체주기를 연장할 수 있고, 가스케비넷이 위치되는 작업공간을 줄일 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체장치 제조용 가스케비넷
본 발명은 반도체장치 제조용 가스케비넷에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체장치 제조공정에 사용되는 일정량의 가스가 저장된 다수의 가스실린더가 구비되는 반도체장치 제조용 가스케비넷에 관한 것이다.
통상, 반도체장치 제조공정에서는 반응가스, 운반가스, 세정가스 등의 용도로 여러 가지 종류의 가스(Gas)가 사용되고 있으며, 상기 가스는 가스케비넷(Gas cabinet) 등의 가스공급원으로부터 방출된 후, 가스공급라인을 통해서 반도체장치 제조설비 내부로 공급되고 있다.
종래의 상기 가스케비넷 내부에는 2개의 가스실린더가 구비되어 있다. 즉, 직접 반도체장치 제조설비 내부로 가스를 공급하는 제 1 가스실린더 및 비상용으로 제 2 가스실린더가 구비됨으로서 상기 제 1 가스실린더 내부의 가스가 모두 소모되면 자동적으로 제 2 가스실린더 내부의 가스가 반도체장치 제조설비로 공급되도록 되어 있다.
그런데, 최근의 반도체장치가 고집적화되고, 반도체장치의 생산량이 대량화됨에 따라 반도체장치 제조라인 내부에 다수의 상기 가스케비넷이 구비됨으로서 다수의 가스케비넷이 점유하는 작업공간이 증가되어야만 하고, 가스케비넷 내부에 2개의 가스실린더가 구비됨으로서 가스실린더 교체주기가 단축되어 가스실린더 교체에 따른 로스타임(Loss time)이 발생하는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 가스케비넷 내부에 다수의 가스실린더를 구비함으로서 가스실린더 교체에 소요되는 로스타임을 줄일 수 있고, 가스케비넷이 점유하는 작업공간을 줄일 수 있는 반도체장치 제조용 가스케비넷을 제공하는 데 있다.
도1은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 가스케비넷의 일 실시예를 설명하기 위한 구성도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 46 : 제 1 가스실린더 12, 48 : 제 2 가스실린더
14, 50 : 제 3 가스실린더 16, 52 : 제 4 가스실린더
18 : 제 1 가스실린더군 20, 56 : 압력게이지
22, 34, 58, 70, 80 : 에어밸브
24, 32, 38, 44, 60, 68, 74 : 3-웨이 밸브
26 : 제 1 연결라인 28 : 제 1 가스공급라인
30 : 제 1 순환라인 36, 72 : 레귤레이터
40, 76 : 체크밸브 42, 78 : 필터
54 : 제 2 가스실린더군 62 : 제 2 연결라인
64 : 제 2 가스공급라인 66 : 제 2 순환라인
82 : 세정가스 공급라인 84 : 체크가스 공급라인
86 : 배기라인 88 : 진공라인
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 가스케비넷은, 가스공급라인에 의해서 서로 연결된 다수의 가스실린더로 이루어지는 다수의 가스실린더군이 내부에 구비되어 있는 것을 특징으로 한다.
상기 가스공급라인을 세정할 수 있는 세정가스를 공급하는 세정가스 공급라인 및 상기 가스공급라인의 누설을 체크할 수 있는 체크가스를 공급하는 체크가스 공급라인이 더 형성될 수 있다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 반도체장치 제조용 가스케비넷 내부에는 도1에 도시된 바와 같이 일정량의 반응가스가 저장된 제 1 가스실리더(10), 제 2 가스실린더(12), 제 3 가스실린더(14) 및 제 4 가스실린더(16)로 이루어지는 제 1 가스실린더군(18)이 구비되어 있다. 상기 각 가스실린더(10, 12, 14, 16) 상부에는 압력게이지(20), 에어밸브(22) 및 3-웨이 밸브(24)가 순차적으로 연결되어 있고, 상기 각 3-웨이 밸브(24)는 제 1 연결라인(26)에 의해서 서로 연결되어 있다.
그리고, 상기 제 1 가스실린더군(18)의 제 1 가스실린더(10)와 연결된 3-웨이 밸브(24)와 제 1 가스공급라인(28)이 연결되어 있다. 상기 제 1 가스공급라인(28) 상에 제 1 순환라인(30)이 형성되어 있고, 상기 제 1 가스공급라인(38)과 제 1 순환라인(30)이 서로 합쳐지는 2개의 지점에는 3-웨이 밸브(32, 38)가 각각 설치되어 있고, 상기 3-웨이 밸브(32, 38) 사이의 제 1 가스공급라인(28) 상에는 에어밸브(34) 및 압력게이지(도시되지 않음)가 구비된 레귤레이터(Regulator : 36)가 설치되어 있다. 그리고, 상기 제 1 순환라인(30) 상에는 체크밸브(40)가 설치되어 있다.
또한, 상기 제 1 가스공급라인(28)과 제 1 순환라인(30)이 합쳐지는 지점에 설치된 3-웨이 밸브(38) 이후의 제 1 가스공급라인(28) 상에는 필터(42) 및 3-웨이 밸브(44)가 순차적으로 설치되어 있다.
또한, 일정량의 반응가스가 저장된 제 2 가스실린더(46), 제 2 가스실린더(48), 제 3 가스실린더(50) 및 제 4 가스실린더(52)로 이루어지는 제 2 가스실린더군(54)이 구비되어 있다. 상기 각 가스실린더(46, 48, 50, 52) 상부에는 압력게이지(56), 에어밸브(58) 및 3-웨이 밸브(60)가 순차적으로 연결되어 있고, 상기 각 3-웨이 밸브(60)가 제 2 연결라인(62)에 의해서 서로 연결되어 있다.
그리고, 상기 제 2 가스실린더군(54)의 제 1 가스실린더(46)와 연결된 3-웨이 밸브(60)와 제 2 가스공급라인(64)이 연결되어 있다. 상기 제 2 가스공급라인(64) 상에 제 2 순환라인(66)이 형성되어 있고, 상기 제 2 가스공급라인(64)과 제 2 순환라인(66)이 서로 합쳐지는 2개의 지점에는 3-웨이 밸브(68, 74)가 각각 설치되어 있고, 상기 3-웨이 밸브(68, 74) 사이의 제 2 가스공급라인(64) 상에는 에어밸브(70) 및 압력게이지(도시되지 않음)가 구비된 레귤레이터(72)가 설치되어 있다. 그리고, 상기 제 2 순환라인(66) 상에는 체크밸브(76)가 설치되어 있다.
또한, 상기 제 2 가스공급라인(64)과 제 2 순환라인(66)이 합쳐지는 지점에 설치된 3-웨이 밸브(74) 이후의 제 2 가스공급라인(28) 상에는 필터(78) 및 에어밸브(80)가 순차적으로 설치되고, 상기 에어밸브(80)와 제 1 가스공급라인(28) 상에 설치된 3-웨이 밸브(44)가 서로 연결되어 있다.
그리고, 상기 제 1 가스공급라인(28), 제 2 가스공급라인(64), 제 1 순환라인(30) 및 제 2 순환라인(66) 상에 설치된 다수의 에어밸브 및 3-웨이 밸브를 선택적으로 개방한 후, 가스공급라인(28, 64) 및 순환라인(30, 66) 내부를 세정할 수 있는 질소(N2)가스 등의 세정가스를 공급하는 세정가스 공급라인(82)이 형성되어 있고, 가스공급라인(28, 64) 및 순환라인(30, 66) 내부에 발생된 누설(Leak)을 검사할 수 있는 헬륨(He)가스 등의 체크가스를 공급할 수 있는 체크가스 공급라인(84)이 형성되어 있고, 상기 세정가스 및 체크가스가 방출되는 배기라인(86)이 형성되어 있고, 상기 가스공급라인(28, 64) 및 순환라인(30, 66) 내부의 압력상태를 조절할 수 있도록 진공펌프(도시되지 않음)와 연결된 진공라인(88)이 형성되어 있다.
따라서, 제 1 가스실린더(10, 46), 제 2 가스실린더(12, 48), 제 3 가스실린더(14, 50) 및 제 4 가스실린더(16, 52)로 이루어지는 제 1 가스실린더군(18) 및 제 2 가스실린더군(54) 내부에 저장된 일정량의 가스는 각각 압력게이지(20, 56)를 통과하며 그 압력이 측정된 후, 에어밸브(22, 58) 및 3-웨이 밸브(24, 60)를 통과한다.
그리고, 상기 3-웨이 밸브(24, 60)를 통과한 가스는 가스공급라인(28, 64) 상에 설치된 3-웨이 밸브(32, 68), 에어밸브(34, 70) 및 레귤레이터(36, 72)를 통과한 후, 다시 3-웨이 밸브(38, 74)를 통과하여 순환라인(30, 66) 상에 설치된 체크밸브(40, 76)를 통과하여 다시 가스공급라인(28, 66)으로 순환한다. 이후, 상기 가스는 다시 가스공급라인(28, 66) 상에 설치된 3-웨이 밸브(32, 68), 에어밸브(34, 70), 레귤레이터(36, 72) 및 3-웨이 밸브(38, 74)를 통과한다.
이어서, 상기 3-웨이 밸브(38, 74)를 통과한 가스는 가스공급라인(28, 64)) 상에 설치된 필터(42, 78)를 통과하며 가스에 포함된 불순물이 제거되는 필터링공정이 진행된 후, 3-웨이 밸브(44) 또는 에어밸브(80) 및 3-웨이 밸브(44)를 통과하여 반도체장치 제조설비 내부로 공급된다.
그리고, 정기적 또는 비정기적으로, 가스공급라인(28, 64) 및 순환라인(30, 66) 상에 설치된 에어밸브 또는 3-웨이 밸브를 선택적으로 개방한 후, 세정가스 공급라인(82)의 질소가스 등의 세정가스를 가스공급라인(28, 64) 및 순환라인(30, 66) 내부로 공급한다. 이에 따라, 가스공급라인(28, 64) 및 순환라인(30, 66) 내부에 축적된 불순물은 세정가스에 의해서 제거된 후, 진공라인(88)의 펌핑에 의해서 배기라인(86)을 통해서 외부로 방출된다.
따라서, 본 발명에 의하면 하나의 가스케비넷 내부에 다수의 가스실린더군으로 이루어지는 다수의 가스실린더를 구비함으로서 가스실린더 교체주기를 연장할 수 있고, 가스케비넷이 점유하는 작업공간을 줄일 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (2)

  1. 가스공급라인에 의해서 서로 연결된 다수의 가스실린더로 이루어지는 다수의 가스실린더군이 내부에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 가스케비넷.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 가스공급라인을 세정할 수 있는 세정가스를 공급하는 세정가스 공급라인 및 상기 가스공급라인의 누설을 체크할 수 있는 체크가스를 공급하는 체크가스 공급라인이 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 가스케비넷.
KR1019980008367A 1998-03-12 1998-03-12 반도체장치 제조용 가스케비넷 KR19990074650A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980008367A KR19990074650A (ko) 1998-03-12 1998-03-12 반도체장치 제조용 가스케비넷

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980008367A KR19990074650A (ko) 1998-03-12 1998-03-12 반도체장치 제조용 가스케비넷

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR19990074650A true KR19990074650A (ko) 1999-10-05

Family

ID=65908943

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980008367A KR19990074650A (ko) 1998-03-12 1998-03-12 반도체장치 제조용 가스케비넷

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR19990074650A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020049146A (ko) * 2000-12-19 2002-06-26 박종섭 반도체 제조용 공정가스 공급 캐비넷

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020049146A (ko) * 2000-12-19 2002-06-26 박종섭 반도체 제조용 공정가스 공급 캐비넷

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR19990074650A (ko) 반도체장치 제조용 가스케비넷
ES2047160T3 (es) Metodo y aparato de inspeccion de fugas de helio en las barras de combustible nuclear.
KR20000019931A (ko) 반도체장치 제조용 가스공급장치
KR20000019928A (ko) 반도체장치 제조용 가스공급장치의 리크체크 시스템
KR100505060B1 (ko) 약품 공급 시스템
KR100457036B1 (ko) 반도체장치 제조용 가스분석설비
CN218971398U (zh) 一种真空泵综合磨合测试台
KR200293094Y1 (ko) 반도체 제조용 가스공급장치
CN217540384U (zh) 特气分流箱的双通道结构及特气分流箱
US20080173353A1 (en) Gas supply piping system and method for replacing purifier
KR20020025328A (ko) 반도체 제조용 공정가스 공급 캐비넷
CN108844674A (zh) 一种移动真空度检测维修车
KR970072056A (ko) 반도체 소자 제조용 가스 공급 처리 장치
CN219348516U (zh) 压力冲击试验机
CN212691500U (zh) 一种真空系统
JPH1089517A (ja) マニホールド
JP2006233882A (ja) 生産システム
FI20002037A (fi) Menetelmä tekstiilien teolliseen pesemiseen tarvittavan konemoduulin valmistamiseksi ja konemoduuli
KR200158864Y1 (ko) 진공조의 진공배기작업용 익스펜션 작동 점검장치
KR19990040498A (ko) 반도체장치 제조설비용 가스공급시스템
CN117105161A (zh) 液体输送系统、液体输液系统不间断供应实现方法及系统
KR100253331B1 (ko) 반도체 제조장비에 사용되는 필터의 케미컬 웨팅장치
KR20090071724A (ko) 듀얼 진공 펌프 시스템
KR0123421Y1 (ko) 화학용액 순환라인의 과압제어 장치
KR20230033548A (ko) 검사 장치 및 이를 이용한 검사 방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination