KR19990058608A - Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same - Google Patents

Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same Download PDF

Info

Publication number
KR19990058608A
KR19990058608A KR1019970078750A KR19970078750A KR19990058608A KR 19990058608 A KR19990058608 A KR 19990058608A KR 1019970078750 A KR1019970078750 A KR 1019970078750A KR 19970078750 A KR19970078750 A KR 19970078750A KR 19990058608 A KR19990058608 A KR 19990058608A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
air
main body
air filter
clean room
filter
Prior art date
Application number
KR1019970078750A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이현주
Original Assignee
윤종용
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자 주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019970078750A priority Critical patent/KR19990058608A/en
Publication of KR19990058608A publication Critical patent/KR19990058608A/en

Links

Landscapes

  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Abstract

본 발명은 클린룸용 에어필터 평가장치 및 이를 이용한 평가방법에 관한 것이다.The present invention relates to an air filter evaluation device for a clean room and an evaluation method using the same.

본 발명은, 소정의 공간을 갖는 본체; 상기 본체의 상부에 위치하는 에어공급부; 상기 본체 내에 위치하며 평가할 에어필터를 고정하는 지지대; 및 상기 본체의 하부 후면에 형성되는 에어배기구를 구비하여 이루어진다.The present invention, the main body having a predetermined space; An air supply unit located above the main body; A support positioned in the main body to fix the air filter to be evaluated; And an air exhaust port formed at a lower rear surface of the main body.

본 발명에 따른 에어필터의 평가방법은 상기 평가장치의 바닥에 오염도를 측정할 웨이퍼를 내재시키는 단계; 에어공급관을 통하여 강제 오염시킨 에어를 공급하는 단계; 상기 에어의 상기 에어필터 통과 전·후 상기 에어 분석단계; 및 상기 웨이퍼의 표면을 분석하는 단계 구비하여 이루어진다.An evaluation method of an air filter according to the present invention includes the steps of embedding a wafer to measure the degree of contamination at the bottom of the evaluation device; Supplying forcedly contaminated air through an air supply pipe; The air analyzing step before and after the air passes through the air filter; And analyzing the surface of the wafer.

따라서, 작업장소와 같은 분위기의 환경이 조성되어 실제와 유사한 가상실험(Simulation)을 할 수 있으며, 일부분이 아닌 실제 크기와 같은 에어필터가 사용되므로 정확한 평가가 될 수 있는 효과가 있다.Therefore, an environment of an atmosphere such as a work place can be created to perform a virtual simulation (Simulation) similar to the actual, and since the air filter of the actual size is used instead of a part, there is an effect that can be accurate evaluation.

Description

클린룸용 에어필터 평가장치 및 이를 이용한 평가방법Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same

본 발명은 클린룸용 에어필터 평가장치 및 이를 이용한 평가방법에 관한 것한 것이다.The present invention relates to an air filter evaluation device for a clean room and an evaluation method using the same.

현대는 첨단산업의 시대로 생산공정의 초정밀화, 고순도화 및 무균화 추세에 따라 첨단제품의 성능과 생산수율을 향상시키기 위한 청정기술은 핵심기술이다.In the era of high-tech industry, clean technology is the key technology to improve the performance and production yield of high-tech products according to the trend of ultra precision, high purity and aseptic production.

이러한 청정기술을 바탕으로 국부적이 아닌 총체적인 개념하에 생산공간의 환경을 청정하게 만드는 설비가 클린룸이다.The clean room is a facility that cleans the environment of the production space based on this clean technology under the general concept rather than locality.

상기 클린룸은 일정 목적의 작업공간으로써 그 공간의 공기 중에 떠다니는 부유입자를 원하는 숫자이하로 제어함으로써 그 공간에서 행하여지는 작업대상체의 내부 및 외부에 먼지가 다다르지 못하게 하는 공간을 말한다. 따라서 상기 클린룸은 미립자가 주로 문제가 되는 반도체, 액정화면표시장치, 전자, 신소재, 정밀기계공업 분야, 반도체용 화학약품을 제조하는 화학공장, 식품공업, 농업분야 나아가 우주개발에도 사용되고 있다.The clean room refers to a space for preventing a dust from reaching inside and outside of a work object performed in the space by controlling floating particles floating in the air of the space to a desired number as a work space for a predetermined purpose. Therefore, the clean room is used in semiconductors, liquid crystal display devices, electronics, new materials, precision machinery industry, chemical factories for manufacturing semiconductor chemicals, food industry, agriculture, and space development.

현재 반도체소자는 64MDRAM이 양산되고 있으며, 256MDRAM의 양산준비와 함께 1GDRAM 및 4GDRAM 개발에 박차를 가하고 있다.Currently, 64MDRAM is being mass-produced in semiconductor devices, and 1GDRAM and 4GDRAM are being accelerated with preparation of 256MDRAM.

또한 적층되는 실리콘산화막의 박막두께는 8nm 이하로서 최첨단의 초미세가공기술을 구사하지 않으면 안된다. 이러한 초미세가공기술을 지원하는 것이 클린룸 기술이다.In addition, the thin film thickness of the silicon oxide film to be laminated is 8 nm or less, and the state of the art ultrafine processing technology must be utilized. Supporting such ultra-fine processing technology is clean room technology.

상기 클린룸의 청정도를 유지하기 위하여 가장 중요한 역할을 하는 것이 에어필터(Air Filter)이다.The most important role to maintain the cleanliness of the clean room is an air filter.

상기 에어필터를 평가하기 위하여 종래에는 상기 에어필터를 부분적으로 절단하여 평가하였다. 그러나 상기 에어필터를 부분적으로 평가하는 것은 실제 상황과 많은 차이가 보이며, 상기 부분평가의 결과로부터 클린룸 전체 상황으로 확대해석하는 것은 어려움이 있다.In order to evaluate the air filter, the air filter was partially cut and evaluated. However, it is difficult to partially evaluate the air filter from the actual situation, and it is difficult to expand the analysis of the air filter from the results of the partial evaluation to the entire clean room.

본 발명의 목적은, 상기 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 평가할 필터를 절단하지 않고 상기 필터의 필터링 성능을 평가할 수 있는 평가장치를 제작하여 정확한 평가 결과를 얻는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and to obtain an accurate evaluation result by fabricating an evaluation apparatus capable of evaluating the filtering performance of the filter without cutting the filter to be evaluated.

도1은 본 발명에 의한 클린룸용 에어필터 평가장치를 나타내는 정면도이다.1 is a front view showing an air filter evaluation apparatus for a clean room according to the present invention.

도2는 본 발명에 의한 클린룸용 에어필터 평가장치를 나타내는 측면도이다.2 is a side view showing an air filter evaluation device for a clean room according to the present invention.

도3은 본 발명에 의한 클린룸용 에어필터 평가장치를 이용하여 상기 에어필터를 평가하는 방법을 나타내는 공정순서도이다.3 is a process flowchart showing a method of evaluating the air filter using the air filter evaluation device for clean room according to the present invention.

※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of symbols for main parts of drawing

2 ; 에어공급부 4 ; 본체2 ; Air supply part 4; main body

6 ; 에어필터 7 ; 받침대6; Air filter 7; Pedestal

8 ; 문 10 ; 타공판8 ; Q. 10; Perforated plate

12 ; 에어배기구 14 ; 바퀴12; Air exhaust 14; wheel

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 클린룸용 에어필터 평가장치는 소정의 내부 공간을 갖는 본체, 상기 본체의 내부 공간으로 에어를 공급하기위해 상기 본체의 상부에 위치하는 에어공급부, 상기 본체 내에 위치하며 평가할 에어필터를 고정할 수 있는 지지대 및 상기 본체의 내부로 공급된 에어를 배기하기 위하여 상기 본체의 하부 후면에 형성되어 있는 에어배기구를 구비하여 이루어진다.Air filter evaluation device for a clean room according to the present invention for achieving the above object is a main body having a predetermined internal space, an air supply unit located in the upper portion of the main body to supply air to the internal space of the main body, located in the main body And an air vent formed on a lower rear surface of the main body to exhaust the air supplied into the main body and to support the air filter to be evaluated.

상기 에어필터는 헤파(HEPA : High Efficiency Paticulate Air) 필터 또는 유울파(ULPA : Ultra Low Penetration Air) 필터일 수 있다.The air filter may be a HEPA (High Efficiency Paticulate Air) filter or a ULPA (Ultra Low Penetration Air) filter.

상기 본체의 앞면은 소정의 문이 형성되어 있어 상기 본체 내로 상기 에어필터 또는 오염도를 평가하기 위한 웨이퍼를 넣을 수 있으며, 상기 본체 하단에는 이동이 가능하도록 소형의 바퀴가 부착될 수 있다.The front surface of the main body is a predetermined door is formed to put the wafer to evaluate the air filter or contamination level into the main body, a small wheel can be attached to the lower end of the main body to enable movement.

상기 에어배기구 앞에는 다수의 구멍이 형성된 소정의 판이 구성될 수 있다.A predetermined plate having a plurality of holes may be formed in front of the air exhaust port.

상기 평가장치의 재료는 피브이시(PVC)로 할 수 있다.The material of the evaluation apparatus may be made of PVC.

본 발명에 따른 에어필터의 평가방법은 상기 평가장치의 바닥에 오염도를 측정할 웨이퍼를 내재시키는 단계, 에어공급부를 통하여 강제 오염시킨 에어를 공급하는 단계, 상기 에어의 상기 에어필터 통과 전 상기 에어 분석단계, 상기 에어의 상기 에어필터 통과 후 상기 에어 분석단계; 및The method of evaluating the air filter according to the present invention includes the steps of embedding a wafer on the bottom of the evaluation device to measure the degree of contamination, supplying contaminated air through an air supply unit, analyzing the air before passing the air filter through the air. Step, the air analysis step after passing the air filter of the air; And

상기 웨이퍼의 표면을 분석하는 단계를 구비하여 이루어진다.Analyzing the surface of the wafer.

상기 강제오염시키는 오염물질은 금속성, 이온성 및 유기성 오염물 일 수 있다.The contaminants forcibly polluted may be metallic, ionic and organic contaminants.

이하, 본 발명의 구체적인 일 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings a specific embodiment of the present invention will be described in detail.

도1은 본 발명에 의한 클린룸용 에어필터 평가장치를 나타내는 정면도이다.1 is a front view showing an air filter evaluation apparatus for a clean room according to the present invention.

도2는 본 발명에 의한 클린룸용 에어필터 평가장치를 나타내는 측면도이다.2 is a side view showing an air filter evaluation device for a clean room according to the present invention.

도1 및 도2에서 보는 바와 같이 소정의 공간을 갖는 본체(4), 상기 본체 상부에는 작업장소와 같은 분위기의 환경이 조성되도록 실제와 같은 에어를 상기 본체로 넣어주는 에어공급부(2)가 있다. 상기 본체(4)의 앞면에는 소정의 문(8)이 형성되어 있어 상기 본체 내로 평가할 에어필터(6) 또는 오염정도를 알아보기 위한 웨이퍼를 넣을 수 있다. 상기 본체(4) 내에는 상기 에어필터(6)를 지지하는 받침대(7)가 설치되어 있다. 상기 본체(4) 하부 후면에는 상기 에어필터(6)를 통과한 에어를 배기하는 에어배기구(12)가 설치되어 있다. 상기 에어배기구(12) 앞에는 다수의 구멍이 형성된 타공판(10)이 설치되어 있다. 상기 타공판(10)은 상기 에어의 흐름을 조절하는 역할을 하며, 상기 에어가 빠르게 배기되는 것을 방지한다. 상기 본체(4)의 하단부에는 상기 평가장치를 손쉽게 이동하기 위한 바퀴(14)가 설치되어 있다.As shown in Figs. 1 and 2, there is a main body 4 having a predetermined space, and an upper part of the main body has an air supply unit 2 for putting actual air into the main body so as to create an environment of an atmosphere like a work place. . A predetermined door 8 is formed on the front surface of the main body 4 so that the air filter 6 to be evaluated or the wafer for checking the degree of contamination can be inserted into the main body. In the main body 4, a pedestal 7 for supporting the air filter 6 is provided. On the lower rear surface of the main body 4, an air exhaust port 12 for exhausting air passing through the air filter 6 is provided. The perforated plate 10 having a plurality of holes is provided in front of the air exhaust port 12. The perforated plate 10 serves to adjust the flow of the air, and prevents the air is quickly exhausted. The lower end of the main body 4 is provided with a wheel 14 for easily moving the evaluation device.

상기 평가장치의 재료는 피브이시(PVC)로 하여 상기 평가장치로부터 역오염되는 것을 최소화 한다.The material of the evaluation device is made of PVC to minimize back contamination from the evaluation device.

도3은 본 발명에 의한 클린룸용 에어필터 평가장치를 이용하여 상기 에어필터를 평가하는 방법을 나타내는 공정순서도이다.3 is a process flowchart showing a method of evaluating the air filter using the air filter evaluation device for clean room according to the present invention.

도3에서 보는 바와 같이 처음 평가장치의 바닥에 에어의 오염도를 측정할 웨이퍼를 내재시킨다. 다음 금속성, 이온성 및 유기성 파티클을 강제오염시킨 에어를 에어공급부를 통하여 공급시킨다. 다음 상기 오염된 에어가 필터를 통과하기 전에 상기 에어의 오염정도를 분석한다. 다음 상기 에어가 상기 필터를 통과 후에 상기 에어의 오염정도를 분석하여 상기 필터의 필터링 능력을 분석한다. 또한 상기 분석장치의 바닥에 내재되었던 상기 웨이퍼 표면을 분석하여 실질적인 상기 필터의 성능을 평가한다.As shown in Fig. 3, a wafer to measure the degree of contamination of air is embedded at the bottom of the evaluation apparatus. Next, air that is contaminated with metallic, ionic and organic particles is supplied through the air supply unit. The degree of contamination of the air is then analyzed before the contaminated air passes through the filter. Next, after the air passes through the filter, the degree of contamination of the air is analyzed to analyze the filtering capability of the filter. The wafer surface, which was inherent in the bottom of the analyzer, is also analyzed to evaluate the substantial performance of the filter.

따라서, 본 발명에 의하면 상술한 바와 같이 작업장소와 같은 분위기의 환경이 조성되어 실제와 유사한 가상실험(Simulation)을 할 수 있으며, 일부분이 아닌 실제 크기와 같은 에어필터가 사용되므로 정확한 평가가 될 수 있는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, as described above, an environment of an atmosphere such as a work place can be created, and thus, a virtual simulation can be performed. It has an effect.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.

Claims (7)

소정의 내부 공간을 갖는 본체;A main body having a predetermined internal space; 상기 본체의 내부 공간으로 에어를 공급하기위해 상기 본체의 상부에 위치하는 에어공급부;An air supply unit located above the main body to supply air to the internal space of the main body; 상기 본체 내에 위치하며 평가할 에어필터를 고정할 수 있는 지지대; 및A support positioned in the main body to fix the air filter to be evaluated; And 상기 본체의 내부로 공급된 에어를 배기하기 위하여 상기 본체의 하부 후면에 형성되어 있는 에어배기구;An air exhaust port formed at a lower rear surface of the main body to exhaust the air supplied into the main body; 를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 클린룸용 에어필터 평가장치.Clean room air filter evaluation apparatus comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 에어필터는 헤파(HEPA : High Efficiency Paticulate Air) 필터 또는 유울파(ULPA : Ultra Low Penetration Air) 필터인 것을 특징으로 하는 상기 클린룸용 에어필터 평가장치.The air filter is a HEPA (High Efficiency Paticulate Air) filter or ULPA (Ultra Low Penetration Air) filter, characterized in that the air filter evaluation device for the clean room. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 본체의 앞면은 소정의 문이 형성되어 있어 상기 본체 내로 상기 에어필터 및 오염도를 알아보기 위한 웨이퍼를 넣을 수 있는 것을 특징으로 하는 상기 클린룸용 에어필터 평가장치.The front surface of the main body is a predetermined door is formed, the air filter evaluation device for the clean room, characterized in that the air filter and a wafer for checking the contamination level can be inserted into the main body. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 본체 하단에는 이동이 가능하도록 소형의 바퀴가 부착된 것을 특징으로 하는 상기 클린룸용 에어필터 평가장치.An apparatus for evaluating the air filter for the clean room, characterized in that a small wheel is attached to the lower end of the main body so as to be movable. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 에어배기구 앞에는 다수의 구멍이 형성된 소정의 판이 구성되는 것을 특징으로 하는 상기 클린룸용 에어필터 평가장치.And a predetermined plate having a plurality of holes formed in front of the air exhaust port. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 평가장치의 재료는 피브이시(PVC)인 것을 특징으로 하는 상기 클린룸용 에어필터 평가장치.And the material of the evaluation device is a fibish (PVC). 소정의 내부 공간을 갖는 본체와 상기 본체의 내부 공간으로 에어를 공급하는 에어공급부와 상기 본체의 내부로 공급된 에어를 배기하기 위하여 상기 본체의 하부 후면에 형성되어 있는 에어배기구를 구비하여 이루어지는 클린룸용 에어필터 평가장치를 사용한 에어필터의 평가방법에 있어서,For a clean room including a main body having a predetermined internal space, an air supply unit for supplying air to the internal space of the main body, and an air exhaust port formed at a lower rear surface of the main body to exhaust the air supplied into the main body; In the evaluation method of the air filter using the air filter evaluation device, 상기 평가장치의 바닥에 오염도를 측정할 웨이퍼를 내재시키는 단계;Embedding a wafer on the bottom of the evaluation apparatus to measure the degree of contamination; 에어공급관을 통하여 강제 오염시킨 에어를 공급하는 단계;Supplying forcedly contaminated air through an air supply pipe; 상기 에어의 상기 에어필터 통과 전 상기 에어 분석단계;Analyzing the air before passing the air filter through the air; 상기 에어의 상기 에어필터 통과 후 상기 에어 분석단계; 및Analyzing the air after passing the air filter through the air; And 상기 웨이퍼의 표면을 분석하는 단계;Analyzing the surface of the wafer; 를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 클린룸용 에어필터 평가방법.Clean room air filter evaluation method characterized in that it comprises a.
KR1019970078750A 1997-12-30 1997-12-30 Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same KR19990058608A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970078750A KR19990058608A (en) 1997-12-30 1997-12-30 Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970078750A KR19990058608A (en) 1997-12-30 1997-12-30 Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR19990058608A true KR19990058608A (en) 1999-07-15

Family

ID=66180634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970078750A KR19990058608A (en) 1997-12-30 1997-12-30 Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR19990058608A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100391655B1 (en) * 2000-12-29 2003-07-12 현대자동차주식회사 A method for damper clutch controlling of automatic transmission in vehicle
KR101514300B1 (en) * 2013-11-06 2015-04-22 (주) 크린필텍 Measuring method and filter performance measuring device of filter use of clean room

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100391655B1 (en) * 2000-12-29 2003-07-12 현대자동차주식회사 A method for damper clutch controlling of automatic transmission in vehicle
KR101514300B1 (en) * 2013-11-06 2015-04-22 (주) 크린필텍 Measuring method and filter performance measuring device of filter use of clean room

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100485024B1 (en) Apparatus and method for cleaning a photomask
JP5068466B2 (en) Method and apparatus for monitoring substrate wafer contamination
KR100567621B1 (en) Contamination control apparatus and management system having the same
KR101507436B1 (en) Apparatus for monitoring contaminants in air
JP4846638B2 (en) Surface inspection device
KR19990058608A (en) Clean room air filter evaluation device and evaluation method using the same
KR0163548B1 (en) A vacuum tweezer
JP4244176B2 (en) Substrate processing equipment
JP2004281907A (en) Large substrate holder
JP2000304734A (en) Detecting method for contaminant in air
JP2004020293A (en) Environment monitoring method and system therefor
EP1411342B1 (en) Method of evaluating a particle concentration in an atmosphere of a clean-room or a mini-environment
JP4401008B2 (en) Pretreatment method and apparatus for impurity analysis on semiconductor surface
JPH01291142A (en) Monitor device for contamination in clean room
JPH08247513A (en) Clean unit
US20050252537A1 (en) System for cleaning substrate
US20230066693A1 (en) Method for detecting environmental parameter in semiconductor fabrication facility
JPH09180974A (en) Substrate treating apparatus with air filter
Camenzind et al. How clean is your cleanroom air?
KR20010060133A (en) Apparatus for keeping mask of semiconductor manufacturing
JPH08276163A (en) Treatment of surface of plate-like specimen
CN116613088A (en) Regenerated silicon Wafer ID information collection device and collection process
KR100475460B1 (en) Clean Room Pollution Assessment Method
KR19980076568A (en) Semiconductor air pollution measuring device
JPH09318507A (en) Recovery method and recovery equipment of surface contaminant

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination