KR19990034511U - 반도체 이온주입장비의 가스공급장치 - Google Patents

Abstract

본 고안은 반도체 이온주입장비의 가스공급장치에 관한 것으로, 종래에는 가스병이 가스박스내에 안치되나, 이는 가스박스의 공간적 제약으로 인해 가스병의 크기가 제한되는 것은 물론, 그 가스병을 자주 교환하여야 하므로 장비의 운전시간이 단출되어 생산성이 저하되는 문제점이 있었던 바, 본 고안에서는 밀폐용기의 외주벽에 장착되는 가스안전박스와, 그 가스안전박스의 내부에 안치되는 가스병과, 그 가스병을 상기 밀폐용기의 내측에 장착된 아크챔버에 연통시키는 가스공급라인과, 상기 가스안전박스내의 가스공급라인에 장착되는 가스차단밸브를 포함하여 구성함으로써, 가스박스의 부피를 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 가스공급장치의 가스병을 자주 교환할 필요가 없도록 하여 장비의 생산성을 향상시킬 수 있다.

Description

반도체 이온주입장비의 가스공급장치

본 고안은 반도체 이온주입장비에 관한 것으로, 특히 가스통을 밀폐용기의 외곽에 안치하여 가스박스을 줄이고 장비의 가동율을 향상시킨 반도체 이온주입장비의 가스공급장치에 관한 것이다.

일반적인 이온주입장비는 도 1에 도시된 바와 같이, 소정형상의 밀폐용기(1)와, 그 밀폐용기(1)의 내부에 장착되는 터미널(Terminal)(2)과, 그 터미널(2)의 내부에 장착되는 가스박스(3)와, 그 가스박스(3)의 내부에 안치되는 가스병(4)과, 그 가스병(4)의 일측에 설치되는 필라멘트 전원공급기(5) 및 아크 전원공급기(6)와, 상기 가스병(3)과 가스공급라인(7)으로 연통되도록 하여 가스박스(3)의 외측에 설치되는 아크챔버(8)와, 그 아크챔버(8)의 내부에 설치되어 상기 필라멘트 전원공급기(5)와 접속되는 필라멘트(9)와, 상기 아크 전원공급기(6)가 연결된 가스박스(3)와 연결되어 상기 아크챔버(8)에 대향 설치되는 추출전극판(10)과, 그 추출전극판(10)의 후방에 배치되어 터미널(2)과 연결되는 접지전극판(11)으로 구성되어 있다.

도면중 미설명 부호인 12는 가스조절기, 13는 가감속 전원공급기, 14는 고전압 전원공급기, 15는 추출이다.

상기와 같이 구성된 종래의 이온주입장비는 다음과 같이 동작된다.

즉, 상기 가스통(4)으로부터 아크챔버(8)에 주입된 가스는 필라멘트(9), 필라멘트 전원공급기(5), 아크 전원공급기(6) 및 소스자석(미도시)에 의해 이온화되고, 그 중에서 +이온들은 아크챔버(8)와 추출전극판(10) 및 접지전극판(11)의 전위차에 의해서 추출되며, 다시 터미널(2)과 밀폐용기(1)의 전위차에 의해서 가속된다.

여기서, 상기 밀폐용기(1)와 터미널(2) 그리고 가스박스(3)는 서로 다른 전위차를 갖게 되는데, 상기 밀폐용기(1)와 터미널(2)의 전위차는 통상 수백kV인데 반해 터미널(2)과 가스박스(3)의 전위차는 통상 수십 kV이므로, 이러한 구역을 지나는 모든 라인은 수 메가오옴(MΩ) 이상의 저항을 갖는 절연체여야 한다. 이 때문에 이온주입에 필요한 가스는 일정한 크기의 가스병(4)에 담아 가스박스(3)내에 장착하고 있었다.

그러나, 상기와 같은 종래의 가스공급장치에 있어서는, 통상적인 가스병(4)이 가스박스(3)내에 안치되나, 이는 가스박스(3)의 공간적 제약으로 인해 가스병(4)의 크기가 제한되는 것은 물론, 그 가스병(4)을 자주 교환하여야 하므로 장비의 운전시간이 단출되어 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.

따라서, 본 고안은 상기와 같은 종래의 가스공급장치가 가지는 문제점을 감안하여 안출한 것으로, 가스박스의 부피를 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 가스공급장치의 가스병을 자주 교환할 필요가 없도록 하여 장비의 생산성을 향상시킬 수 있는 이온주입장비의 가스공급장치를 제공하려는데 본 고안의 목적이 있다.

도 1은 종래 이온주입장비를 개략적으로 보인 배관도.

도 2는 본 고안에 의한 이온주입장비의 가스공급장치를 개략적으로 보인 배관도.

도 3은 본 고안에 의한 가스공급장치의 가스공급라인을 단면하여 보인 종단면도.

***도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명***

20 : 가스안전박스 21 : 가스병

22 : 가스공급라인 23 : 가스차단밸브

24 : 가스제어기

이와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 밀폐용기의 외주벽에 장착되는 가스안전박스와, 그 가스안전박스의 내부에 안치되는 가스병과, 그 가스병을 상기 밀폐용기의 내측에 장착된 아크챔버에 연통시키는 가스공급라인과, 상기 가스안전박스내의 가스공급라인에 장착되는 가스차단밸브를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 이온주입장비의 가스공급장치가 제공된다.

이하, 본 고안에 의한 반도체 이온주입장비의 가스공급장치를 첨부도면에 도시된 일실시예에 의거하여 상세하게 설명한다.

도 2는 본 고안에 의한 이온주입장비의 가스공급장치를 개략적으로 보인 배관도이고, 도 3은 본 고안에 의한 가스공급장치의 가스공급라인을 단면하여 보인 종단면도이다.

이에 도시된 바와 같이 본 고안에 의한 가스공급장치는, 아크챔버(8) 및 추출전극판(미도시) 그리고 접지전극판(미도시)이 내장되는 밀폐용기(1)의 외주벽에 가스안전박스(20)가 장착되고, 그 가스안전박스(20)의 내부에는 가스병(21)이 안치되며, 그 가스병(21)은 상기 밀폐용기(1)의 내측에 장착된 아크챔버(8)에 가스공급라인(22)으로 연통되고, 상기 가스안전박스(20)내의 가스공급라인(22)에는 가스차단밸브(23)가 장착된다.

상기 가스안전박스(20) 및 밀폐용기(1)의 각 일측에는 독성가스를 배출시키기 위한 독성배기구(1a,20a)가 형성됨과 아울러 그 독성배기구(1a,20a)를 온/오프시키기 위한 독성가스 검출기(미도시)가 설치되고, 상기 가스안전박스(20)의 일측에는 독성가스 검출기(미도시)에 의해 가스유출의 검출시 상기 가스차단밸브(23)을 온/오프시키기 위한 가스제어기(24)가 장착된다.

상기 가스공급라인(22)은 절연체로서, 봉형의 테프론(22a) 내부에 가스가 유동되기 위한 수개의 유리관(22b)이 삽입되어 형성된다.

도면중 종래와 동일한 부분에 대하여는 동일한 부호를 부여하였다.

도면중 미설명 부호인 2는 터미널, 3은 가스박스, 12는 가스조절기이다.

상기와 같이 구성되는 본 고안에 의한 가스주입장치는 다음과 같이 동작된다.

상기 밀폐용기(1)의 외주벽에 가스안전박스(20)가 장착되고, 그 가스안전박스(20)에 안치되는 가스병(21)으로부터 가스가 가스차단밸브(23), 절연가스라인(22) 등을 통해 가스박스(3)내의 가스량조절기(12)로 유입되고, 그 가스량조절기(12)로 유입된 가스는 적절하게 유동량이 조절되면서 가스공급라인(22)을 통해 아크챔버(8)에 공급된다.

이렇게 아크챔버(8)로 공급된 가스는 전술한 바와 같이, 필라멘트(미도시), 필라멘트 전원공급장치(미도시), 아크 전원공급기(미도시) 및 소스자석(미도시)에 의해 이온화되고, 그 중에서 +이온들은 아크챔버(8)와 추출전극판(미도시) 및 접지전극판(미도시)의 전위차에 의해서 추출되고, 다시 터미널(2)과 밀폐용기(1)의 전위차에 의해서 가속되는 것이다.

이때, 상기 밀폐용기(1) 및 가스안전박스(20)에서 독성가스가 누출되면, 각 독성가스 검출기(미도시)가 작동하여 가스제어기(24)가 가스차단밸브(23)를 차단시키게 된다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 고안에 의한 반도체 이온주입장비의 가스공급장치는, 밀폐용기의 외주벽에 장착되는 가스안전박스와, 그 가스안전박스의 내부에 안치되는 가스병과, 그 가스병을 상기 밀폐용기의 내측에 장착된 아크챔버에 연통시키는 가스공급라인과, 상기 가스안전박스내의 가스공급라인에 장착되는 가스차단밸브를 포함하여 구성함으로써, 가스박스의 부피를 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 가스공급장치의 가스병을 자주 교환할 필요가 없도록 하여 장비의 생산성을 향상시킬 수 있다.

Claims (2)

1. 밀폐용기의 외주벽에 장착되는 가스안전박스와, 그 가스안전박스의 내부에 안치되는 가스병과, 그 가스병을 상기 밀폐용기의 내측에 장착된 아크챔버에 연통시키는 가스공급라인과, 상기 가스안전박스내의 가스공급라인에 장착되는 가스차단밸브를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 이온주입장비의 가스공급장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 가스공급라인은 봉형의 테프론 내부에 가스가 유동되기 위한 수개의 유리관이 삽입되어 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 이온주입장비의 가스공급장치.