KR19990031418U - Semiconductor wet station - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체의 웨트 스테이션에 관한 것으로, 종래에는 탱크에 담겨있는 염산이 이 액체와 기체의 혼합으로 되어 있기 때문에 시간이 지날수록 주위의 산소 성분과 반응을 일으켜 파우더(powder)로 변하고, 이 파우더는 주위의 부품들을 자주 손상시키고 라인으로 확산되어 각종 금속류를 오염시키는 문제점이 있었던 바, 본 고안의 반도체의 웨트 스테이션은 탱크 주위의 시스템을 외부와 완전히 밀폐시킨 후 질소를 공급하여 분위기를 질소화함으로써, 장치의 각종 부식을 방지하고 안전성의 극대화와 청정실의 오염을 최소화할 수 있게 한 것이다.The present invention relates to a wet station of a semiconductor, and conventionally, since hydrochloric acid contained in a tank is a mixture of this liquid and a gas, it reacts with the surrounding oxygen component and turns into a powder as time passes. In the semiconductor device of the present invention, the wet station of the present invention completely encloses the system around the tank with the outside and supplies nitrogen to supply nitrogen to atmosphere. In addition, it prevents various corrosion of the device, maximizes safety and minimizes contamination of the clean room.
Description
본 고안은 반도체 장치에 관한 것으로, 특히 반도체의 웨트 스테이션에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a wet station of a semiconductor.
종래의 반도체의 웨트 스테이션은 도 1에 도시한 바와 같이, 세정액이 담겨지는 탱크(7)와, 이 탱크(7)에 세정액을 공급하는 세정액 공급부(1)와, 상기 탱크(7)에서 세정액을 공급받아 공정을 진행하는 베스(6)와, 상기 탱크(7)내 불필요한 세정액을 배수하는 배출관(4)과, 상기 탱크(7)에서 상기 베스(6)로 세정액을 공급할 때 차압에 의하여 역류되는 분위기를 필터링해주도록 설치되는 필터(5)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the conventional wet station of a semiconductor includes a tank 7 in which a cleaning liquid is contained, a cleaning liquid supply part 1 supplying the cleaning liquid to the tank 7, and a cleaning liquid in the tank 7. The vessel 6 which is supplied and proceeds the process, the discharge pipe 4 which drains the unnecessary cleaning liquid in the tank 7, and is flowed back by the differential pressure when the cleaning liquid is supplied from the tank 7 to the bath 6. And a filter 5 installed to filter the atmosphere.
또한, 상기 세정액 공급부(1)에서 공급되는 세정액을 차단시킬 수 있도록 에어 밸브(2)가 설치되어 있으며, 상기 베스(6)로의 세정액 공급을 차단할 수 있도록 에어밸브(3)가 설치되어 있다.In addition, an air valve 2 is provided to block the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply unit 1, and an air valve 3 is provided to block the cleaning liquid supply to the bath 6.
상기 탱크(7)에는 탱크(7)내 액면 상태를 모니터링해주는 3개의 센서(8)가 설치되어 있다.The tank 7 is provided with three sensors 8 for monitoring the liquid level state in the tank 7.
이 3개의 센서(8)는 오버(over)센서와, 스톱(stop)센서와, 로우(low)센서로 구성된다.These three sensors 8 consist of an over sensor, a stop sensor, and a low sensor.
일반적으로 세정액으로는 염산이 사용된다.In general, hydrochloric acid is used as the cleaning liquid.
상기와 같은 구성을 가진 종래의 반도체의 웨트 스테이션의 동작 및 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and operation of the conventional wet station of the semiconductor having the above configuration as follows.
먼저, 상기 세정액 공급부(1)가 상기 탱크(7)로 염산을 공급하여 탱크(7)의 측면에 설치된 스톱 센서(8)만큼 탱크(7)에 염산이 공급되면 이의 공급을 중단한다. 공급이 완료되면 상기 베스(6)에서 프로세스를 진행한 후 액을 교환하기 위해 탱크(7)에서 베스(6)로 염산이 다시 공급된다.First, when the cleaning liquid supply unit 1 supplies hydrochloric acid to the tank 7, and hydrochloric acid is supplied to the tank 7 by the stop sensor 8 installed on the side of the tank 7, the supply of the hydrochloric acid is stopped. When the supply is complete, hydrochloric acid is supplied from the tank 7 to the bath 6 again in order to exchange the liquid after the process is performed in the bath 6.
탱크(7)에서 베스(6)로 염산이 공급완료되면 탱크(7)는 비어 있으므로 상기 세정액 공급부(1)를 통해 다시 염산이 공급된다.When the hydrochloric acid is supplied from the tank 7 to the bath 6, the hydrochloric acid is supplied again through the cleaning liquid supply part 1 because the tank 7 is empty.
그러나, 상기와 같은 종래의 반도체의 웨트 스테이션은 탱크(7)내 담겨있는 염산이 액체와 기체의 혼합으로 되어 있기 때문에 시간이 지날수록 주위의 산소 성분과 반응을 일으켜 파우더(powder)로 변하게 되고 이로 인해 주위의 부품들이 자주 손상되고, 이 파우더가 라인으로 확산되어 각종 금속류를 오염시키는 문제점이 있었다.However, since the hydrochloric acid contained in the tank 7 is a mixture of a liquid and a gas, the wet station of the conventional semiconductor as described above reacts with the surrounding oxygen component to change into a powder as time passes. Due to frequent damage to the surrounding parts, this powder was diffused to the line has a problem of contaminating various metals.
특히, 여기서 발생된 연무(fume)가 인체에 닿거나 그 냄새를 사람이 맡으면 인체에 상당한 해를 주기 때문에 별도의 특별한 안전관리가 필요한 문제점이 있었던 바, 이에 대한 보완이 요구되어 왔다.In particular, since the fumes generated in this case come in contact with the human body or smell the human body, which causes considerable harm to the human body, a separate special safety management has been required.
따라서, 본 고안은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로서, 장치의 각종 부식을 방지하고, 안전성의 극대화와 청정실의 오염을 최소화할 수 있는 반도체의 웨트 스테이션을 제공하는 데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a wet station of a semiconductor that can prevent various corrosion of the device, maximize safety and minimize contamination of a clean room.
도 1은 종래의 반도체의 웨트 스테이션을 도시한 개략도.1 is a schematic diagram illustrating a wet station of a conventional semiconductor.
도 2는 본 고안의 반도체의 웨트 스테이션을 도시한 개략도.2 is a schematic diagram illustrating a wet station of a semiconductor of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
6 : 베스7 : 탱크6: Beth 7: tank
10 : 밀폐박스20 : 질소공급부10: sealed box 20: nitrogen supply unit
21 : 제1에어밸브22 : 제1역류방지밸브21: first air valve 22: first backflow check valve
23 : 레귤레이터24 : 압력 게이지23 regulator 24 pressure gauge
30 : 배출부31 : 제2에어밸브30: outlet 31: second air valve
32 : 제2역류방지밸브32: second check valve
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 고안은 공정이 진행되는 베스와, 이 베스에 공급하기 위한 세정액이 담겨지는 탱크를 포함하여 구성된 반도체의 웨트 스테이션에 있어서, 상기 베스를 제외한 상기 탱크 주위의 시스템을 외부와 완전히 밀폐시키도록 밀폐박스를 설치하고, 이 밀폐박스 내 분위기를 질소화로 만들도록 상기 밀폐박스의 일측에 질소를 공급하는 질소공급부를 설치하고, 상기 밀폐박스 내 가스를 주기적으로 배출하여 상기 밀폐박스 내를 초클린 질소분위기로 만들도록 상기 밀폐박스의 타측에 배출부를 설치하는 것을 특징으로 하는 반도체의 웨트 스테이션이 제공된다.In order to achieve the above object, the present invention provides a wet station of a semiconductor including a bath in which a process is carried out and a tank containing a cleaning liquid for supplying the bath. Install an airtight box to completely seal the outside, and install a nitrogen supply unit for supplying nitrogen to one side of the airtight box to nitrogenize the atmosphere in the airtight box, and periodically discharge the gas in the airtight box to seal the airtight. There is provided a wet station of a semiconductor, characterized in that an outlet is provided on the other side of the sealed box to make the box into a super clean nitrogen atmosphere.
상기 질소공급부에는 질소의 공급을 차단하도록 개폐되는 제1에어 밸브가 설치되고, 상기 질소를 일방향으로만 흐르게 하도록 제1역류방지밸브가 설치되고, 공급되는 질소의 양을 조절가능하도록 하는 레귤레이터가 설치되고, 공급되는 질소의 양을 혹인가능하게 하는 압력 게이지가 설치된다.The nitrogen supply unit is provided with a first air valve that opens and closes to block the supply of nitrogen, a first backflow prevention valve is installed to allow the nitrogen to flow in only one direction, and a regulator is installed to control the amount of nitrogen supplied. And a pressure gauge is provided which enables the amount of nitrogen to be supplied.
상기 배출부에는 질소의 배출을 차단하도록 개폐되는 제2에어 밸브가 설치되고, 배출되는 질소의 역류를 방지하도록 제2역류방지밸브가 설치된다.The discharge part is provided with a second air valve that opens and closes to block the discharge of nitrogen, and a second backflow prevention valve is installed to prevent backflow of the discharged nitrogen.
상기 밀폐박스는 테플론 재질로 되는 것을 특징으로 한다.The sealed box is characterized in that the Teflon material.
이하, 본 고안의 반도체의 웨트 스테이션을 첨부한 도면을 참조로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the wet station of the semiconductor of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 고안의 반도체의 웨트 스테이션은 도 2에 도시한 바와 같이, 세정액이 담겨지는 탱크(7)와, 이 탱크(7)에 세정액을 공급하는 세정액 공급부(1)와, 상기 탱크(7)에서 세정액을 공급받아 공정을 진행하는 베스(6)와, 상기 탱크(7)내 불필요한 세정액을 배수하는 배출관(4)과, 상기 탱크(7)에서 상기 베스(6)로 세정액을 공급할 때 차압에 의하여 역류되는 분위기를 필터링해주도록 설치되는 필터(5)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 2, the wet station of the semiconductor of the present invention includes a tank 7 in which a cleaning liquid is contained, a cleaning liquid supply part 1 for supplying the cleaning liquid to the tank 7, and a cleaning liquid in the tank 7. The vessel 6 which receives the process and proceeds the process, the discharge pipe 4 which drains the unnecessary cleaning liquid in the tank 7, and the back flow by the differential pressure when the cleaning liquid is supplied from the tank 7 to the bath 6. It is configured to include a filter (5) is installed to filter the atmosphere to be.
또한, 상기 세정액 공급부(1)에서 공급되는 세정액을 차단시킬 수 있도록 에어 밸브(2)가 설치되어 있으며, 상기 베스(6)로의 세정액 공급을 차단할 수 있도록 에어 밸브(3)가 설치되어 있다.In addition, an air valve 2 is provided to block the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply unit 1, and an air valve 3 is provided to block the cleaning liquid supply to the bath 6.
상기 탱크(7)에는 탱크(7)내 액면 상태를 모니터링해주는 3개의 센서(8)가 설치되어 있다.The tank 7 is provided with three sensors 8 for monitoring the liquid level state in the tank 7.
이 3개의 센서(8)는 오버(over) 센서와, 스톱(stop)센서와, 로우(low)센서로 구성된다.These three sensors 8 consist of an over sensor, a stop sensor, and a low sensor.
상기 탱크(7)주위에는 상기 베스(6)를 제외한 모든 시스템을 외부와 완전히 밀폐시키는 밀폐박스(10)가 설치되어 있고, 이 밀폐박스(10)의 일측에는 밀폐박스(10)내 분위기를 질소화로 만들도록 질소를 공급하는 질소공급부(20)가 설치되어 있고, 상기 밀폐박스(10)의 타측에는 밀폐박스(10) 내 가스를 주기적으로 배출하는 배출부(30)가 설치되어 있다.Around the tank 7, a sealed box 10 is installed to completely seal all systems except the bath 6 to the outside. At one side of the sealed box 10, the atmosphere in the sealed box 10 is nitrogen. A nitrogen supply unit 20 for supplying nitrogen to make a furnace is installed, and the other side of the sealed box 10 is provided with a discharge unit 30 for periodically discharging the gas in the sealed box 10.
상기 질소공급부(20)에는 질소의 공급을 차단하도록 신호에 의해 개폐되는 에어 밸브(21)가 설치되어 있고, 상기 질소를 일방향으로만 흐르게 하도록 역류방지밸브(22)가 설치되어 있고, 공급되는 질소의 양을 조절가능하도록 하는 레귤레이터(regulator)(23)가 설치되어 있고, 공급되는 질소의 양을 확인가능하게 하는 압력 게이지(24)가 설치되어 있다.The nitrogen supply unit 20 is provided with an air valve 21 that is opened and closed by a signal to cut off the supply of nitrogen, and a backflow prevention valve 22 is installed so that the nitrogen flows in only one direction, and the supplied nitrogen A regulator 23 is provided to control the amount of nitrogen, and a pressure gauge 24 is provided to confirm the amount of nitrogen supplied.
또한, 상기 배출부(30)에는 질소의 배출을 차단하도록 개폐되는 에어 밸브(31)가 설치되어 있고, 배출되는 질소의 역류를 방지하도록 역류방지밸브(32)가 설치되어 있다.In addition, the discharge part 30 is provided with an air valve 31 which opens and closes to block the discharge of nitrogen, and a non-return valve 32 is installed to prevent the reverse flow of the discharged nitrogen.
상기 밀폐박스(10)는 테플론 재질로 되는 것이 바람직하다.The sealed box 10 is preferably made of Teflon material.
상기와 같은 구성의 반도체의 웨트 스테이션의 동작 및 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and operation of the wet station of the semiconductor having the above configuration is as follows.
상기 질소공급부(20)를 통해 일정량의 질소가 상기 밀폐박스(10)로 공급된다.A certain amount of nitrogen is supplied to the sealed box 10 through the nitrogen supply unit 20.
이때 탱크(7) 주위는 산소에서 질소 분위기로 점차 바뀌어져 일정시간이 경과하면 완전히 질소분위기가 된다.At this time, the surroundings of the tank 7 gradually change from oxygen to nitrogen atmosphere, and after a predetermined time, the atmosphere is completely nitrogen.
탱크(7)내 담겨있는 기체 상태의 미세한 염산은 산소와 반응하여 부식을 일으키지만 본 고안의 탱크(7) 주위는 질소분위기이므로 반응조건이 성립하지 못하여 부식으로 진행하지 않는다.The fine hydrochloric acid in the gaseous state contained in the tank 7 reacts with oxygen to cause corrosion, but the surroundings of the tank 7 of the present invention do not proceed to corrosion because the reaction conditions are not established because of the nitrogen atmosphere.
이후 일정량의 질소를 계속적으로 공급하는 상태에서 배출부(30)의 에어 밸브(31)를 일정주기로 개폐하여 밀폐박스(10) 내 가스를 조금씩 배출시키면 탱크(7) 주위는 항상 초클린 질소분위기가 형성되므로 염산에 의해 주위 부품들에 부식이 진행되는 것을 근원적으로 방지할 수 있다.Thereafter, when the air valve 31 of the discharge part 30 is opened and closed at a predetermined cycle in a state of continuously supplying a certain amount of nitrogen, and the gas in the sealed box 10 is discharged little by little, the super clean nitrogen atmosphere is always around the tank 7. As a result, it is possible to fundamentally prevent the progress of corrosion of the surrounding components by hydrochloric acid.
상기 질소공급부(20)에서는 역류방지밸브(22)가 있어 역류를 방지할 수 있으며, 레귤레이터(23)로 원하는 압력을 일정하게 공급할 수 있다.The nitrogen supply unit 20 has a non-return valve 22 to prevent the reverse flow, it is possible to constantly supply the desired pressure to the regulator (23).
또한, 메인(main)질소압이 감소되었을 경우 이를 감지하는 센서를 부착해서 알람을 발생시키는 기능도 첨가할 수 있다.It is also possible to add a function to generate an alarm by attaching a sensor that detects when the main nitrogen pressure is reduced.
본 고안의 반도체의 웨트 스테이션에 의하면 기체상태의 염산으로 인한 파우더의 발생을 방지할 수 있으므로 탱크 주위의 부품들이 파우더로 인해 손상되어 수명이 단축되거나 각종 금속류를 오염시키는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the wet station of the semiconductor of the present invention, it is possible to prevent the generation of powder due to gaseous hydrochloric acid, thereby preventing the parts around the tank from being damaged by the powder, which may shorten the lifespan or contaminate various metals. .
또한, 완전히 밀폐된 공간에서 염산이 다뤄지므로 일정한 주기로 탱크주위를 세정할 필요가 없어 염산이 인체에 닿거나 냄새를 맡지 않아도 되므로 안전성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, since hydrochloric acid is handled in a completely enclosed space, there is no need to clean the tank around at regular intervals, so the hydrochloric acid does not have to touch or smell the human body, thereby improving safety.
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