KR19990018791U - 포토레지스트 현상장치 - Google Patents

포토레지스트 현상장치 Download PDF

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Abstract

본 고안은 포토레지스트 현상장치에 관한 것으로 세정수를 공급하는 세정수 공급관과, 상기 세정수 공급관으로 공급되는 세정수의 양을 조절하는 세정수 조절 밸브와, 현상액을 공급하는 현상액 공급관과, 상기 현상액 공급관으로 공급되는 현상액의 양을 조절하는 현상액 조절 밸브와, 상기 세정액 공급관과 현상액 공급관의 말단을 공유하고 있는 일체형 스프레이 노즐과, 상기 일체형 스프레이 노즐속의 상부에 위치하여 현상액 또는 세정액을 선택하여 상기 일체형 스프레이 노즐에 공급하는 분사액 선택밸브를 포함하여, 현상액과 세정액이 하나의 분사 노즐을 통하여 분사되므로 현상액에 의한 부식이 방지되므로 샤워 노즐에도 적용이 가능하여 불순물에 의한 웨이퍼의 손상이 줄이면서 웨이퍼 표면에 현상액을 균일하게 분사할 수 있다.

Description

포토레지스트 현상장치
본 고안은 반도체 제조장비중 노광된 웨이퍼를 현상하는 포토레지스트 현상장치에 관한 것으로서, 특히, 현상액 분사노즐에서 발생하는 불순물 입자를 감소시킬 수 있는 포토레지스트 현상장치에 관한 것이다.
도 1a 는 종래의 포토레지스트 현상장치의 제 1 실시예이다.
종래의 포토레지스트 현상장치는 노광된 웨이퍼(W)위에 현상액을 분사하는 스프레이 노즐(12)과, 상기 현상액이 분사된 일정시간후 웨이퍼(W)상에 남아있는 현상액을 제거하는 세정수를 분사하는 세정수 분사노즐(11)을 포함한다.
상기 종래의 포토레지스트 현상장치는 스프레이(SPRAY) 노즐(12)이 노광된 웨이퍼(W)의 중심부로 이동하며 현상액을 분사한후 웨이퍼(W)의 외부로 이동한다. 그리고 일정시간(즉, 분사된 현상액이 웨이퍼(W)의 노광된 포토레지스트와 반응하여 현상되는 시간)의 경과후 세정수 분사노즐(101)을 웨이퍼(W)의 중심으로 이동시켜 세정수를 분사하여 웨이퍼(W)상에 남아있는 현상액을 제거한다.
도 1b 는 종래의 포토레지스트 현상장치의 제 2 실시예이고, 도 1c 는 종래의 포토레지스트 현상장치의 제 3 실시예이다.
종래의 포토레지스트 현상장치의 제 2 실시예는 현상액이 공급되는 그대로 분사하지 않고 웨이퍼(W)위에 흘려보내는 스트림(STREAM) 노즐(22)이나, 종래의 포토레지스트 현상장치의 제 3 실시예와 같이 현상액이 웨이퍼(W)위에 동시 분사될수 있는 샤워 노즐(32)을 사용하기도 한다.
그러나, 상기 종래의 포토레지스트 현상장치에서 스프레이 노즐과 샤워노즐은 웨이퍼 전면에 균일하게 현상액을 분사할 수 있으나 약알카리성분인 현상액에 의하여 노즐이 오염되어 미세한 불순물 입자가 발생하여 웨이퍼 표면이 손상되는 문제점을 가지며 불순물 발생이 적은 스트림 노즐은 웨이퍼에 분사되는 현상액이 균일하지 못하여 정확한 현상작업이 이루어지지 못하는 문제점을 가진다.
따라서, 본 고안의 목적은 상기 문제점을 해결하여 웨이퍼에 분사되는 현상액이 균일하고 오염을 방지 할 수 있는 일체형 노즐을 가지는 포토레지스트 현상장치를 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치는 세정수를 공급하는 세정수 공급관과, 상기 세정수 공급관으로 공급되는 세정수의 양을 조절하는 세정수 조절 밸브와, 현상액을 공급하는 현상액 공급관과, 상기 현상액 공급관으로 공급되는 현상액의 양을 조절하는 현상액 조절 밸브와, 상기 세정액 공급관과 현상액 공급관의 말단을 공유하고 있는 일체형 스프레이 노즐과, 상기 일체형 스프레이 노즐속의 상부에 위치하여 현상액 또는 세정액을 선택하여 상기 일체형 스프레이 노즐에 공급하는 분사액 선택밸브를 포함한다.
상기 일체형 노즐은 일체형 스프레이 노즐, 일체형 스트림 노즐, 일체형 샤워 노즐에 모두 적용이 가능하다.
도 1a 는 종래의 포토레지스트 현상장치의 제 1 실시예
도 1b 는 종래의 포토레지스트 현상장치의 제 2 실시예
도 1c 는 종래의 포토레지스트 현상장치의 제 3 실시예
도 2a 는 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치의 제 1 실시예
도 2b 는 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치의 제 2 실시예
도 2c 는 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치의 제 3 실시예
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
11. 세정수 분사노즐 12. 스프레이 노즐
22. 스트림 노즐 32. 샤워 노즐
101. 세정수 공급관 102. 세정수 조절 밸브
103. 현상액 공급관 104. 현상액 조절 밸브
105. 분사액 선택밸브 106. 일체형 스프레이 노즐
206. 일체형 스트림 노즐 306. 일체형 샤워 노즐
W. 웨이퍼
이하, 도면을 참고하여 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치를 상세히 설명한다.
도 2a 는 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치의 제 1 실시예이다.
본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치는 세정수를 공급하는 세정수 공급관(101)과, 상기 세정수 공급관(101)으로 공급되는 세정수의 양을 조절하는 세정수 조절 밸브(102)와, 현상액을 공급하는 현상액 공급관(103)과, 상기 현상액 공급관(103)으로 공급되는 현상액의 양을 조절하는 현상액 조절 밸브(104)와, 상기 세정액 공급관(101)과 현상액 공급관(103)의 말단을 공유하고 있는 일체형 스프레이 노즐(106)과, 상기 일체형 스프레이 노즐(106)속의 상부에 위치하여 현상액 또는 세정액 선택라인을 조정하여 상기 일체형 스프레이 노즐(106)에 현상액 또는 세정액을 공급하는 분사액 선택밸브(105)를 포함한다.
도 2b 는 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치의 제 2 실시예이고, 도 2c 는 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치의 제 3 실시예이다.
상기 도 2b 및 도 2c에서와 같이 분사 노즐은 일체형 스트림 노즐(206) 또는 일체형 샤워 노즐(306)으로도 구성할 수 있다.
상기 본 고안에 따른 포토레지스트 현상장치는 노광된 웨이퍼(W)를 현상하기 위하여 현상액 공급밸브(104)을 열어줌과 동시에 분사액 선택밸브(105)를 현상액을 공급하여 현상액이 일체형 스프레이(SPRAY) 노즐(106)에서 현상액의 분사를 확인한 후 현상액 공급밸브(104)를 닫는다. 이후 일체형 스프레이(SPRAY) 노즐(106)을 웨이퍼(W)의 중앙으로 이동시킨후 이동하며 현상액 조절 밸브(104)를 열어 웨이퍼(W)에 현상액을 분사한다. 현상액이 웨이퍼(W)위에 균일하게 분사된 후 다시 현상액 조절 밸브(104)를 닫아 현상액의 공급을 중단하다.
이후 일정시간(즉, 분사된 현상액이 웨이퍼(W)의 노광된 포토레지스트와 반응하여 현상되는 시간)의 경과후 세정수 공급관(103)을 열어줌과 동시에 분사액 선택밸브(105)를 세정수가 공급하도록 조정한다. 그러면 세정수가 일체형 스프레이(SPRAY) 노즐(106)을 통하여 웨이퍼(W)위에 분사되어 웨이퍼(W)상에 남아있는 현상액을 제거한다.
상기 동작은 일체형 스트림 노즐(206) 및 일체형 샤워 노즐(306)을 사용하여도 동일하다.
따라서, 고안은 현상액과 세정액이 하나의 분사 노즐을 통하여 분사되므로 현상액에 의한 부식이 방지되므로 샤워 노즐에도 적용이 가능하여 불순물에 의한 웨이퍼의 손상이 줄이면서 웨이퍼 표면에 현상액을 균일하게 분사할 수 있는 잇점을 가진다.

Claims (3)

  1. 세정수를 공급하는 세정수 공급관과,
    상기 세정수 공급관에 공급되는 세정수의 양을 조절하는 세정수 조절 밸브와,
    현상액을 공급하는 현상액 공급관과,
    상기 현상액 공급관에 공급되는 현상액의 양을 조절하는 현상액 조절 밸브와,
    상기 세정액 공급관과 현상액 공급관의 말단을 공유하고 있는 일체형 스프레이 노즐과,
    상기 일체형 스프레이 노즐속의 상부에 위치하여 현상액 또는 세정액을 선택하여 상기 일체형 스프레이 노즐에 공급하는 분사액 선택밸브를 포함하여 일체형 스프레이 노즐의 부식을 방지할 수 있는 것이 특징인 포토레지스트 현상장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 일체형 스프레이 노즐을
    일체형 스트림 노즐로 구성하는 것이 특징인 포토레지스트 현상장치.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 일체형 스프레이 노즐을
    일체형 샤워 노즐로 구성하는 것이 특징인 포토레지스트 현상장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20030094680A (ko) * 2002-06-07 2003-12-18 삼성전자주식회사 감광액 도포 장치

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