KR19990015478A - 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것으로, 후면판 위에 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층 및 상부 격벽층을 순차 코팅한 후 건조시켜 전체 격벽층을 성형하는 격벽층 성형공정과, 상기 격벽층 성형공정 후의 상기 후면판 및 상,하부 격벽층을 소성을 실시해 상기 상부 격벽층은 비정질 구조화, 상기 하부 격벽층은 입계 구조화시키는 소성 가공공정과, 상기 소성 가공공정 후의 상기 상부 격벽층 위에 에칭의 저항층을 이루는 감광막을 코팅 건조하는 건조공정과, 상기 건조공정에 의하여 코팅 건조되어진 감광막 위에 포토 마스크를 이용하여 격벽형상을 노광하는 노광공정과, 상기 노광공정에서 미노광된 부분을 제거하는 현상공정과, 상기 현상공정에 의하여 노출된 상기 전체 격벽층을 산 에칭액으로 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭공정과, 상기 에칭공정 후의 격벽 위에 도포된 감광막을 제거하는 감광막 박리공정으로 이루어진다. 즉, 상기 하부 격벽층을 입계 구조로, 상기 상부 격벽층을 비정질 구조로 각각 구분 성형하여, 폭이 좁은 고정세 격벽을 형성할 수 있음과 동시에 에칭팩터를 더욱 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법

본 발명은 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 후면판 위에 성형되는 전체 격벽층을 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층 및 상부 격벽층으로 각각 구분하여 폭이 좁은 고정세 격벽을 형성할 수 있음과 동시에 격벽의 원하는 깊이까지 자유롭게 에칭을 이룰 수 있는 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 플라스마 디스플레이 패널은 도 1의 단면도에 도시된 바와 같이, 후면판(1)에 음극(3), 전면판(5)에 양극(4)이 각각 설치되고, 격벽(2a)에 의하여 발광셀이 구분되는 구조로 이루어진다. 이때, 상기 후면판(1)에는 형광체(6)가 덮혀져 음극(3)과 양극(4)의 플라스마 방전을 통하여 생성된 자외선이 상기 형광체(6)를 여기시키므로써 색채가 표출되도록 한다.

여기서, 상기 격벽(2a)을 제조하는 방법을 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.

도 2는 종래 기술에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 설명하기 위한 공정도이다.

도 2에 도시된 바와 같이 종래 기술에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은, 후면판(1) 위에 격벽층(2)을 인쇄한 후 유리화시키는 소성 가공공정(S1)과, 상기 소성 가공공정(S1)에 의하여 유리화된 격벽층(2) 위에 에칭의 저항층을 이루는 감광막(3)을 코팅 건조하는 건조공정(S2)과, 상기 건조공정(S2)에 의하여 코팅 건조되어진 감광막(3) 위에 포토 마스크(4)를 이용하여 격벽형상을 노광하는 노광공정(S3)과, 상기 노광공정(S3)에서 미노광된 부분을 제거하는 현상공정(S4)과, 상기 현상공정(S4)에 의하여 노출된 격벽층(2)을 에칭액으로 에칭하여 격벽(2a)을 형성하는 에칭공정(S5)과, 상기 에칭공정(S5) 후의 격벽(2a) 위에 도포된 감광막(3)을 제거하는 감광막 제거공정(S6)으로 이루어진다.

상기 공정으로 이루어진 종래 기술에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조동작을 도 3을 참조하여 설명하면 다음과 같다.

도 3은 일반적인 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 설명하기 위한 후면판을 포함한 요부 단면도이다.

먼저, 도 1에 도시된 바와 같이 후면판(1) 위에 산화납이 함유된 저융점 글라스 재료를 사용해 격벽층(2)을 인쇄한 후 400∼700℃로 소성해 유리화시킨다. 이때, 상기 유리구조를 가지는 격벽층(2) 위에 에칭의 저항층을 이루는 감광막(3)을 도포 및 건조한 후 격벽형상이 새겨진 포토 마스크(4)를 이용해 노광 및 현상해 감광막에 패턴을 형성한다. 패턴이 형성된 상기 격벽층(2)을 산을 이용해 에칭을 행하면 상기 격벽층은(2) 등방적인 유리구조이기 때문에 도 3에 도시된 바와 같이 깊이(h) 방향과 폭(ℓ) 방향의 에칭이 동일한 속도를 가지게 된다. 예를 들면, 깊이(h) 150㎛를 가지는 격벽(2a)을 성형하기 위해서는 최소한 폭(ℓ) 300㎛ 이상의 폭을 가져야 된다.

이후, 상기 격벽 위에 잔존하는 감광막(3)을 제거하게 되면 격벽(2a)을 최종 완성하게 된다.

그런데, 종래 기술에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은, 산화납이 함유된 글래스 페이스트의 격벽층을 소성하게 되면 비정질의 등방성 구조를 갖게 되므로 에칭액으로 에칭을 할 경우 방향성이 없어 깊이 방향과 폭 방향의 에칭속도가 동일하게 되어 격벽간의 간격이 좁은 고정세를 유지할 수 없는 커다란 단점이 있었다.

이에, 본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로, 그 목적으로 하는 바는 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층 및 상부 격벽층으로 각각 구분되는 전체 격벽층을 후면판 위에 성형하여 에칭공정시 폭이 좁은 고정세 격벽을 형성할 수 있음과 동시에 에칭팩터를 더욱 향상시킬 수 있는 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 제공함에 있다.

도 1은 일반적인 플라스마 디스플레이 패널을 나타내는 단면도

도 2는 종래 기술에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 설명하기 위한 공정도

도 3은 일반적인 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 설명하기 위한 기판을 포함한 요부 단면도

도 4는 본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 설명하기 위한 공정도

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

10 : 후면판 21 : 하부 격벽층

22 : 상부 격벽층 20 : 전체 격벽층

20a : 격벽 30 : 감광막

40 : 포토 마스크 S10 : 격벽층 성형공정

S20 : 소성 가공공정 S30 : 건조공정

S40 : 노광공정 S50 : 현상공정

S60 : 에칭공정 S70 : 박리공정

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은, 후면판 위에 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층 및 상부 격벽층을 순차 코팅한 후 건조시켜 전체 격벽층을 성형하는 격벽층 성형공정과, 상기 격벽층 성형공정 후의 상기 후면판 및 상,하부 격벽층을 소성을 실시해 상기 상부 격벽층은 비정질 구조화, 상기 하부 격벽층은 입계 구조화시키는 소성 가공공정과, 상기 소성 가공공정 후의 상기 상부 격벽층 위에 에칭의 저항층을 이루는 감광막을 코팅 건조하는 건조공정과, 상기 건조공정에 의하여 코팅 건조되어진 감광막 위에 포토 마스크를 이용하여 격벽형상을 노광하는 노광공정과, 상기 노광공정에서 미노광된 부분을 제거하는 현상공정과, 상기 현상공정에 의하여 노출된 상기 전체 격벽층을 산 에칭액으로 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭공정과, 상기 에칭공정 후의 격벽 위에 도포된 감광막을 제거하는 감광막 박리공정으로 이루어진다.

상기 방법에 있어서, 상기 격벽층 성형공정 및 소성 가공공정을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층 중의 상부 격벽층의 입경은 10㎛ 이하인 비정질 구조로 실시하는 것이 바람직하다.

상기 방법에 있어서, 상기 격벽층 성형공정 및 소성 가공공정을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층 중의 하부 격벽층의 입경은 200㎛ 이하인 입계 구조로 실시하는 것이 바람직하다.

상기 방법에 있어서, 상기 격벽층 성형공정 및 소성 가공공정을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층 중의 상부 격벽층은 10∼50%, 상기 하부 격벽층은 50∼90%의 구성비율로 실시하는 것이 바람직하다.

이하, 본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 바람직한 실시예를 도 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다.

도 4는 본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 설명하기 위한 공정도이다.

본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은 도 4에 도시된 바와 같이, 후면판(10) 위에 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층(21) 및 상부 격벽층(22)을 순차 코팅한 후 건조시켜 전체 격벽층(20)을 성형하는 격벽층 성형공정(S10)과, 상기 격벽층 성형공정(S10) 후의 상기 후면판(10) 및 상,하부 격벽층(22),(21)을 400∼700℃의 온도 범위에서 소성을 실시해 상기 상부 격벽층(22)은 비정질 구조화, 상기 하부 격벽층(21)은 입계 구조화시키는 소성 가공공정(S20)과, 상기 소성 가공공정(S20) 후의 상기 상부 격벽층(22) 위에 에칭의 저항층을 이루는 감광막(30)을 코팅 건조하는 건조공정(S30)과, 상기 건조공정(S30)에 의하여 코팅 건조되어진 감광막(30) 위에 포토 마스크(40)를 이용하여 격벽형상을 노광하는 노광공정(S40)과, 상기 노광공정(S40)에서 미노광된 부분을 제거하는 현상공정(S50)과, 상기 현상공정(S50)에 의하여 노출된 상기 전체 격벽층(20)을 산 에칭액으로 에칭하여 격벽(20a)을 형성하는 에칭공정(S60)과, 상기 에칭공정(S60) 후의 격벽(20a) 위에 도포된 감광막(30)을 제거하는 감광막(30) 박리공정(S70)으로 이루어진다.

이때, 상기 격벽층 성형공정(S10) 및 소성 가공공정(S20)을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층(20) 중의 상부 격벽층(22)의 입경은 10㎛ 이하인 비정질 구조로 실시하고, 상기 격벽층 성형공정(S10) 및 소성 가공공정(S20)을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층(20) 중의 하부 격벽층(21)의 입경은 200㎛ 이하인 입계 구조로 실시한다.

또한, 상기 격벽층 성형공정(S10) 및 소성 가공공정(S20)을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층(20) 중의 상부 격벽층(22)은 10∼50%의 비율로 , 상기 하부 격벽층(21)은 50∼90%의 구성비율로 실시한다.

상기 공정으로 이루어진 본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 더욱 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

먼저, 도 4에 도시된 바와 같이 후면판(10) 위에 입경이 10∼100㎛의 크기를 가지는 하부 격벽층(21)을 코팅 건조시킨 다음, 상기 하부 격벽층(21) 위에 10㎛ 이하의 크기를 가지는 상부 격벽층(22)을 코팅 건조시킨다.

이때, 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층(21) 및 상부 격벽층(22)을 후면판(10) 위에 순차 코팅한 후 건조시켜 전체 격벽층(20)을 성형하고, 소성 가공하게 되면, 상기 상부 격벽층(22)은 비정질 구조로 되어 깊이(h), 폭(ℓ) 방향의 에칭속도가 동일하게 되지만, 상기 하부 격벽층(21)은 입계 구조로 되기 때문에 에칭의 방향성을 갖게 되어 원하는 깊이(h) 방향에 대하여 폭(ℓ) 방향의 에칭을 줄일 수 있음과 동시에 상부 격벽층(22)의 비정질 구조에 비하여 에칭속도를 빠르게 할 수 있게 된다.

이러한 에칭 특성을 얻기 위하여 본 발명에서는 전체 격벽층(20)의 성형시 비정질 구조의 상부 격벽층(22) 및 입계 구조의 하부 격벽층(21)로 각각 나누어 성형한 후 에칭공정(S60)을 행하면 폭(ℓ)이 좁은 고정세 격벽(20a)을 생산할 수 있게 된다.

즉, 서로 다른 입경을 가지는 상부 격벽층(22) 및 하부 격벽층(21)을 소성할 때 10㎛ 이하의 입경을 가지는 상부 격벽층(22)의 재료를 비정질 구조로 하여 소성을 하게 되면, 상기 상부 격벽층(22)은 입경이 작아 쉽게 녹으나, 상기 하부 격벽층(21)의 입경은 10∼100㎛로 되어 완전히 녹질 않게 되는 특성을 이용하여 에칭공정(S60)시의 폭(ℓ)이 좁은 고정세 격벽(20a)을 최종 제조할 수 있게 되는 것이다.

이상에서와 같이 본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 의하면, 후면판 위에 성형되는 전체 격벽층을 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층 및 상부 격벽층으로 각각 구분하므로써, 즉, 상기 하부 격벽층은 입계 구조로, 상기 상부 격벽층은 비정질 구조로 각각 구분 성형하므로써, 폭이 좁은 고정세 격벽을 형성할 수 있음과 동시에 격벽의 원하는 깊이까지 자유롭게 에칭을 이룰 수 있고, 에칭팩터를 더욱 향상시킬 수 있는 탁월한 효과가 있다.

Claims (4)

1. 후면판 위에 서로 다른 입경을 가지는 하부 격벽층 및 상부 격벽층을 순차 코팅한 후 건조시켜 전체 격벽층을 성형하는 격벽층 성형공정과,

   상기 격벽층 성형공정 후의 상기 후면판 및 상,하부 격벽층을 소성을 실시해 상기 상부 격벽층은 비정질 구조화, 상기 하부 격벽층은 입계 구조화시키는 소성 가공공정과,

   상기 소성 가공공정 후의 상기 상부 격벽층 위에 에칭의 저항층을 이루는 감광막을 코팅 건조하는 건조공정과,

   상기 건조공정에 의하여 코팅 건조되어진 감광막 위에 포토 마스크를 이용하여 격벽형상을 노광하는 노광공정과,

   상기 노광공정에서 미노광된 부분을 제거하는 현상공정과,

   상기 현상공정에 의하여 노출된 상기 전체 격벽층을 산 에칭액으로 에칭하여 격벽을 형성하는 에칭공정과,

   상기 에칭공정 후의 격벽 위에 도포된 감광막을 제거하는 감광막 박리공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 격벽층 성형공정 및 소성 가공공정을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층 중의 상부 격벽층의 입경은 10㎛ 이하인 비정질 구조로 실시하는 것을 특징으로 하는 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 격벽층 성형공정 및 소성 가공공정을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층 중의 하부 격벽층의 입경은 200㎛ 이하인 입계 구조로 실시하는 것을 특징으로 하는 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 격벽층 성형공정 및 소성 가공공정을 통하여 성형된 상기 전체 격벽층 중의 상부 격벽층은 10∼50%, 상기 하부 격벽층은 50∼90%의 구성비율로 실시하는 것을 특징으로 하는 플라스마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.