KR19990006475A - 자동 광섬유 브래그 회절 격자 기록을 위한 정밀 파장제어 - Google Patents

자동 광섬유 브래그 회절 격자 기록을 위한 정밀 파장제어 Download PDF

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KR19990006475A
KR19990006475A KR1019980018129A KR19980018129A KR19990006475A KR 19990006475 A KR19990006475 A KR 19990006475A KR 1019980018129 A KR1019980018129 A KR 1019980018129A KR 19980018129 A KR19980018129 A KR 19980018129A KR 19990006475 A KR19990006475 A KR 19990006475A
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optical fiber
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KR1019980018129A
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마이클 지. 위크햄
Original Assignee
갈라스 윌리엄 이.
티알더블유 인코포레이티드
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    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
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    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
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Abstract

본 발명은 고품질의 광섬유 브래그 회절 격자를 생성하기 위한 컴퓨터로 제어되는 장치 및 방법을 제공한다. 본 발명에 따라, 상기 장치(10)는 자외선 빔(18)을 발생시키기 위한 레이저(12), 상기 빔(18)을 수용하기 위해 레이저의 하방으로 배치된 회전 가능한 스크래퍼 거울(32), 그리고 상기 거울(32)에 의해 생성된 높은 프린지 주파수의 인터페로그램을 수용하기 위해 거울(32)의 에지 가까이에 배치되는 광섬유(48)를 포함한다. 거울(32)은 섬유 코어에서 브래그 파장을 변동시키기 위해 빔(18)의 입사에 대하여 미리 선택된 피봇 지점(36) 주위로 거울(32)을 회전시키는 회전 스테이지(14)에 결합된다.

Description

자동 광섬유 브래그 회절 격자 기록을 위한 정밀 파장 제어
본 발명은 일반적으로 브래그 회절 격자(Bragg gratings)에 관한 것이며, 더 자세하게는, 브래그 중심 파장의 정밀한 제어로 고품질의 광섬유 브래그 회절 격자를 생성하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
대부분의 광섬유 브래그 회절 격자는 섬유의 코어를 방사선 중의 강렬하고 공간 변조된 자외선(UV)에 노출시킴으로써 제조된다. 자외선(UV) 광은 광섬유에서 코어 물질의 굴절률의 증가를 유도한다. 따라서, 섬유의 코어에 발사된 광선은, 단지 공간 변조 주기(Λ)와 자외선 광(λ)의 파장이 브래그 조건, λB= 2nΛ (n은 섬유 코어의 평균 굴절률),을 만족시킬 경우에만 반사된다.
종래의 기술에 따르면, 광섬유 브래그 회절 격자에서 반사 파장 중심의 정밀한 배치를 위해 광학 장치의 지루한 재배열을 필요로 한다. 적절한 프린지(fringe) 공간을 갖는 홀로그래피 프린지 패턴의 제품은 공개된 홀로그래픽 기술에서는 거울을 결합하고 렌즈의 초점을 맞추는, 프리즘 및 프리즘 기술과 빔 스플리터의 원통형 렌즈와 같은 광학 장치를 결합하는 빔의 정밀한 배치를 필요로 한다. 상기는 광섬유 브래그 회절 격자를 제작하는데 시간이 많이 소요되고 큰 규모를 기반으로 해서는 상업적으로 실용적이지 못하게 한다. 그렇기 때문에, 해당 기술에서는 브래그 중심 파장의 정밀한 제어로 광섬유 브래그 회절 격자를 규칙적으로 제작하는 장치 및 방법을 제공할 필요가 있다.
상기와 다른 목적들은 고품질의 광섬유 브래그 회절 격자를 생성하기 위해 컴퓨터로 제어되는 장치 및 방법에 의해 제공된다. 상기 장치는 자외선 빔을 발생시키기 위한 레이저(laser), 빔(beam)을 수용하기 위해 상기 레이저의 하방으로 배치된 회전 가능한 스크래퍼 거울(scrapper mirror), 그리고 스크래퍼 거울에 의해 형성된 높은 프린지 주파수의 인터페로그램(high fringe frequency interferrogram)을 수용하기 위해 스크래퍼 거울의 에지부에 수직으로 배치된 광섬유를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 거울은 섬유 코어에서 브래그 파장을 변화시키기 위해 빔의 입사각에 대하여 미리 선택된 피봇 지점(pivot point)을 중심으로 거울을 회전시키기 위한 회전 스테이지(rotation stage)에 결합된다.
도 1은 본 발명에 따른 브래그 중심 파장을 정밀하게 제어하는 광섬유 브래그 회절 격자를 제조하는 장치의 평면 개략도.
도 2는 2-2선을 따라 취한 도 1의 스크래퍼 거울 및 회전 스테이지의 상세도.
도 3a 내지 3c는 도 1의 광섬유 마운트 및 회전 스테이지의 개략도.
도 4는 고주파 인터페로그램을 형성하기 위해 중복하는 입사 자외선 빔의 다수의 방사선 경로의 개략도.
도면 주요 부분에 대한 부호의 설명
12 : 레이저 14 : 회전 스테이지
16 : 제어기 18 : 자외선 빔
22 : 갈릴레오식 망원경 30 : 원통형 렌즈
32 : 스크래퍼 거울 34 : 나노 제어기
36 : 피봇 지름 48 : 광섬유
50 : 섬유 마운트 62 : 광학 스펙트럼 분석기
84 : 에지부 86 : 인터페로그램
본 발명의 우수성과 목표가 달성되는 방식을 이해시키기 위하여, 첨부된 도면에서 도시된 특정의 실시예를 참조하여 본 발명의 보다 상세한 설명이 이루어질 것이다. 이러한 도면들이 단지 본 발명의 바람직한 실시예만을 설명하고 따라서 범위의 제한이 고려되지 않는다는 것을 이해한다면, 본 발명은 첨부된 도면을 이용하여 보다 명확하고 상세하게 묘사되고 설명될 것이다.
이제 도면으로 돌아가면, 도 1은 본 발명에 따른 광섬유 브래그 회절 격자를 생성하는 장치를 일반적으로 참조 번호 10으로 도시하고 있다. 상기 장치(10)는 일반적으로 레이저(12), 회전 스테이지(14) 그리고 제어기(16)를 포함한다.
레이저(12)는 바람직하게는 자외선 빔(18)을 발생시키기에 적합한 상업적으로 이용 가능한 연속파(CW) 레이저이다. 보다 바람직하게는, 상기 레이저(12)는 배가된 주파수 출력을 제공하는 레이저 공동부(cavity) 내에 베타 바륨 붕산염(Beta-Barium Borate, BBO) 결정체를 포함하는 아르곤 이온 레이저(Argon ion laser)이다. 한 예로, 레이저(12)는 긴 코히어런스 길이(coherence length)와 고품질 빔으로 244nm 파장을 가진 100mW CW 빔을 생성할 수 있다. 관(19)은 개방 대기 흐름에 의한 파면(wave front) 왜곡을 방지하기 위해 빔을 봉합하는데 사용된다.
반조각의 파형 플레이트(waveplate)(20)는 빔(18)의 편광을 90°만큼 회전시키기 위해 레이저(12)와 광학적으로 통해있다. 빔(18)의 편광을 회전시키는 것은 아래에서 설명될 정확한 높은 프린지 주파수 패턴을 형성하는데 필요하다. 갈릴레오식 망원경(galilean telescope)(22)은 빔(18)을 수용하기 위해 파형 플레이트(20)의 하방으로 배치된다.
상기 갈릴레오식 망원경(22)은 빔 확장을 위한 오목 렌즈(negative lens), 레이저(12)로부터 중앙 빔을 분리하기 위한 개구(26), 그리고 원하는 직경으로 빔을 시준하기 위한 볼록 렌즈(positive lens)(28)를 포함한다. 바람직하게는, 1.6cm 직경의 빔이 여기에 사용된다. 원통형 렌즈(30)는 빔(18)으로부터 라인 초점을 형성하기 위해 갈릴레오식 망원경(22)에 빛을 수용하는 관계로 배치된다. 15cm의 초점거리를 갖는 원통형 렌즈는 상기 목적을 위해 특히 잘 어울린다고 알려져 있다.
스크래퍼 거울(32)은 회전 스테이지(14)에 연결되어 원통형 렌즈(30)로부터 라인 초점을 수용한다. 바람직하게는, 상기 스크래퍼 거울은 S 방향으로 편광을 위해 최적화된 100% 반사율의 코팅을 가진 3인치(76.2mm)형 거울이다. 회전 스테이지(14)는 빔(18)의 입사각에 대하여 정밀하게 거울(32)을 회전시키기 위해 제어기(16)의 나노 제어기(nano-controller)(34)와 통해 있다. 거울(32)을 회전시킴으로써, 브래그 파장은 변동될 수 있다. 플라스틱 밀봉부(35)는 파면 왜곡을 최소화하기 위하여 광학 장치 트레인을 수용한다.
잠시 도 2를 참조하면, 거울(32)이 주위로 회전하는 피봇 지점(36)은, 상기 거울(32)이 회전 격자 간격을 변경하기 위하여 회전될 때, 섬유 코어로 라인 초점의 적당한 배열을 보장한다. 아래에서 보다 더 자세하게 설명되는 것처럼, 피봇 지점(36)을 적절하게 선택함으로써 광섬유 브래그 회절 격자의 자동화된 제작이 강화된다. 적절한 선택을 통하여, 피봇 지점(36)은 새로운 브래그 파장으로 변환할 때 거울(32)을 병진할 필요를 경감시킨다.
도 1을 다시 참조하면, 나노 제어기(34)는 컴퓨터 또는 중앙 처리 장치(CPU)(38), 모니터(40), 그리고 키보드(42)를 포함한다. CPU(38)는 또한 전용 키보드(46)를 포함하는 빔 진단 시스템(44)과 통해 있다. 아래에서 보다 상세히 설명되는 것처럼, 나노 제어기(34)는 거울(32)의 각을 조정하기 위해 구동 신호를 제공한다. 상기 조정은 CPU(38)에 의해서 제어된다.
광섬유(48)는 섬유 마운트(fiber mount)(50)에 의하여 거울(32)에 근접하게 결속된다. 도 3a 내지 3c에 가장 잘 도시된 것처럼, 섬유(48)는, 바람직하게 1 미크론의 조정 분해능을 가진 세 개의 축 병진 스테이지(52) 상에 인장력에 의하여 고정된다. 섬유(48)의 코어 직경이 2 내지 5 마이크론만큼 작을 수 있기 때문에, 상기 수준의 조정이 바람직하다. 최종 병진 스테이지(54)는 섬유(48)의 일단부를 상하로 이동시켜, 입사 빔의 두 경로로부터 생긴 라인 초점들(하나는 직접적이며, 하나는 거울(32)로부터 반사된 것임)이 섬유 코어와 일치하는 것을 보장한다. 최종 정렬은 섬유 코어를 회절시키는 두개의 라인 초점에 의해 발생된 단일 슬릿 회절 패턴(single slit diffraction pattern)을 조정함으로써 제공된다.
섬유(48)에 가해지는 인장력은 섬유 마운트(50)에 설치된 게이지(58)에서 표시되는 값을 측정하여 설정된다. 파장의 변환은 섬유(48)에 가해지는 특정의 인장력에 의해서 실현된다. 이러한 알려져 있는 양은 파장 배치를 설정할 때 고려되어진다.
이제 다시 도 1을 참조하면, 나노 제어기(34)는 거울(32)의 각을 조정하기 위해 회전 구동 장치(104)의 모우먼트 암(102)을 이동시키는 나노 구동 장치(100)에 구동 신호를 제공한다. 나노 구동 장치(100)는 마이크로 라디안 각 간격(micro-radian angular interval)을 제공하기 위해 나노 구동 장치(100)를 단계적으로 구동하는 CPU(38)에 의해 제어된다. 거울(32)의 특정한 각은 아래에서 설명되는 것처럼 바람직한 브래그 파장에 요구되는 각으로 설정한다.
도 1에서 도시되는 것처럼, 광섬유(48)는 발광 다이오드(LED)와 광학 스펙트럼 분석기(62) 사이로 연장된다. 이러한 방식으로, 거울(32)을 경유해서 광섬유(48)에 의해 수용된 방사선은 LED(60)에서 관측될 수 있다. 또한, 전도 스펙트럼은 브래그 회절 격자의 파장과 반사율을 확인하기 위해서 회절 격자가 형성되는 동안에 분석기(62)에서 측정될 수 있다. 그렇게, 임의의 요구되는 반사율이 달성될 수 있다.
이제 도 4로 돌아가면, 거울(32)은 미리 선택된 파장에서 브래그 회절 격자를 기록하기 위해 적절한 제 1 위치에 도시된다. 예를 들면, 상기 파장은 통신 산업에서 특별한 관심이 될 수 있다. 그러나, 본 발명은 다른 파장 범위 내의 브래그 회절 격자를 기록하는데 또한 적합하다는 것이 인지되어야만 한다. 게다가, 본 상세한 설명에 기술된 제 1, 제 2, 혹은 미리 선택된 파장은 파장의 범위를 설명하며, 그러므로 언급된 임의의 특정한 파장에 제한되지 않는다는 것이 이해되어야만 한다. 상기에서 서술된 바와 같이, 거울(32)은 미리 선택된 피봇 지점(36) 주위로 상기 거울(32)을 회전시킴으로써 새로운 브래그 파장 위치로 이동될 수 있다. 그러나, 만약 피봇 지점(36)이 부적절하게 선택된다면, 거울(32)은 또한 최적 정렬을 유지하기 위해 이동되어야 한다. 도 4에서 도시된 것처럼, 거울(32)은 공지된 파장의 브래그 회절 격자를 기록하기 위해 적절한 위치에 있다. 도시된 바와 같이, UV 기록 빔 중심축(72)은 거울(32)의 표면(74)상으로 입사한다. 거울(32)의 표면(74)에 대한 UV 빔의 입사각 θ과의 특정한 관계는 다음의 수식으로 주어진다.
브래그 파장에서 섬유 코어의 굴절률
입사각
UV 광의 파장
브래그 파장
도면을 첨부하여 설명된 실시예에서, 빔(18)의 좌측 부분(78)이 섬유(48)로 일직선으로 나가는 반면에, 빔(18)의 우측 부분(82)은 거울(32)의 표면(74)에서 비스듬하게 반사한다. 섬유(48)에서, 빔(18)의 좌측 부분(78)은 빔(18)의 우측 부분(82)과 오버랩 되어서 브래그 회절 격자를 기록하는데 필요한 높은 프린지 주파수의 인터페로그램(86)을 발생시킨다.
빔(18)의 중심축(72)이 거울(32)의 선단(76)에 교차하지 않는다면, 빔 오버랩은 대칭이 아니라는 것이 이해될 수 있다. 다시 말해서, 빔(18)의 좌측 부분(78) 또는 우측 부분(82)은 빔(18)의 다른 쪽 부분(82, 78)과 동일한 공간 연장을 갖지 않는다. 대칭 오버랩은 브래그 파장을 바꾸기 위해서 최적 피봇 지점(36) 주위로 거울(32)을 회전시킴으로써 보장된다. 만약 회전이 잘못된 피봇 지점(36) 주위에서 실행된다면, UV 기록 빔(18)의 좌측 부분(78) 및 우측 부분(82)의 대칭 오버랩을 달성하기 위해서 거울(32)의 병진이 요구될 수 있다.
거울(32)은 공지된 파장을 가진 브래그 기록 위치의 범위 중 하나에 상기 거울(32)을 선택적으로 배치하기 위해 피봇 지점(36) 주위로 회전될 수 있다. 빔(18)의 원통형 초점이 섬유(48)의 코어와 접촉하도록, UV 빔(18)을 따라서 축위치가 선택된다(도 1).
여전히 도 4를 참조하면, 섬유(48)로 라인 초점의 적절한 정렬을 보장하기 위하여, 빔(18)에 대하여 원통형 렌즈(30)를 회전시키는 것이 필요할 수 있다. 이것을 달성하기 위하여, 원통형 렌즈(30)는 섬유(48)에 평행하게 회전되어 라인 초점이 상기 섬유(48)에 수직이 되게 한다. 상기는 섬유(48)에 적절하게 어울리는 간섭을 보장하고, 상기 간섭은 섬유(48)의 코어에서 고주파 공간 인터페로그램(86)을 생성하며, 상기 간섭은 광섬유 브래그 회절 격자를 생성하는데 필요한 공간적으로 변조된 자외선(UV)광을 형성한다.
그러므로, 거울(32)을 위한 피봇 지점(36)은 어떤 파장 범위에서 다른 파장 범위, 예를 들면 1300nm 내지 1500nm의 파장 범위로 변환할 때 유효하다. 도면을 첨부하여 설명된 실시예에서, 피봇 지점(36)의 위치는 넓은 범위의 입사각에 대해 유효하다. 따라서, 고품질의 브래그 회절 격자가 브래그 중심 파장의 정밀한 제어로 규칙적으로 제조될 수 있다. 더욱이, 서로 다른 파장들을 기록할 때 종래 기술의 시스템에서 요구되었던 장치 요소들의 지루한 재정렬은 경감된다.
당업자는 이제 위의 설명으로부터 본 발명의 광범위한 가르침이 다양한 형태로 실행될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 본 발명이 특정한 실시예와 연관되어 설명이 되었을지라도, 본 발명의 진정한 범위는 제한되지 않으며, 다른 변형이 도면, 상세한 설명 및 뒤이은 청구항을 토대로 당업자에게는 명확할 것이다.

Claims (20)

  1. 브래그 파장 범위에 대해서 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치에 있어서,
    자외선 빔을 발생시키기 위한 레이저와,
    상기 빔이 거울의 표면상에 입사되도록 상기 레이저의 하방으로 배치되는 상기 거울과,
    상기 거울의 상기 표면과 평행한 상기 빔의 라인 초점을 정렬하기 위해 상기 레이저와 상기 거울 사이에 배치되는 원통형 렌즈와,
    상기 범위 내에서 상기 브래그 파장을 변동시키기 위해 상기 빔의 입사각에 대하여 미리 선택된 피봇 지점 주위로 상기 거울을 회전시키기 위하여 상기 거울에 결합된 회전 스테이지와,
    상기 광섬유의 코어 위치에 있는 상기 빔으로부터 상기 거울에 의해 형성되는 높은 프렌지 주파수의 인터페로그램을 수용하기 위한 상기 거울의 에지부의 가까이에 배치되는 광섬유를 구비하되, 상기 높은 프렌지 주파수의 인터페로그램은 상기 브래그 회절 격자를 기록하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 거울은 스크래퍼 거울을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 거울의 상기 에지부의 가까이에 있는 상기 섬유를 고정시키는 섬유마운트를 더 구비하되, 상기 섬유마운트는 상기 라인 초점에 대하여 상기 코어의 위치를 조정하기 위한 세 개의 축 병진 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 빔의 편광을 90°만큼 회전시키기 위해 상기 레이저와 상기 원통형 렌즈 사이에 배치되는 반조각의 파형 플레이트를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 빔의 직경을 소정의 크기로 바꾸기 위해 상기 레이저와 상기 원통형 렌즈 사이에 배치되는 갈릴레오식 망원경을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 브래그 회절 격자가 형성되는 동안에 상기 코어의 파장과 반사율을 측정하기 위해 상기 광섬유의 제 1단부에 결합되는 광 스펙트럼 분석기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 빔에 대하여 상기 거울을 정밀하게 회전시키기 위해 상기 회전 스테이지에 작동 가능하게 결합되는 나노 제어기를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 피봇 지점은, 상기 거울이 제 1 파장에서 브래그 회절 격자를 기록하기 위한 제 1 방향과 제 2 파장에서 브래그 회절 격자를 기록하기 위한 제 2 방향 사이에서 상기 피봇 지점 주위로 회전될 수 있는 장소에 위치되는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 레이저는 배가된 주파수 출력을 제공하기 위해 베타 바륨 붕산염 결정체를 포함하는 아르곤 이온 레이저를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 빔은 244nm 파장에서 100mW 연속파 빔을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 거울은 S 방향으로 편광되어 배치된 100% 반사율의 코팅을 가지는 3인치(76.2mm)형 스크래퍼 거울을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 원통형 렌즈는 15cm의 초점거리를 가지는 원통형 렌즈를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  13. 제 3항에 있어서,
    상기 섬유 마운트는 상기 섬유의 상기 코어로 상기 라인 초점을 정렬하기 위해 상기 거울에 대하여 수직으로 상기 섬유의 일단부를 이동시키기 위한 최종 병진 스테이지를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  14. 제 3항에 대하여,
    상기 섬유 마운트는 상기 섬유에 적용되는 인장력에 따라 상기 브래그 파장을 변경하기 위한 인장 부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  15. 제 5항에 있어서, 상기 갈릴레오식 망원경은,
    상기 빔의 직경을 확장하기 위한 빔 스프레더와,
    상기 빔을 미리 선택된 직경으로 유지하기 위한 시준 렌즈를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 미리 선택된 직경은 1.6cm인 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  17. 제 7항에 있어서, 상기 나노 제어기는 빔 진단 시스템에 작동 가능하게 결합되는 컴퓨터를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 장치.
  18. 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 방법에 있어서,
    자외선 빔을 발생시키기 위한 레이저를 선택하는 단계와,
    상기 빔이 거울의 표면상에 입사되도록 상기 레이저의 하방으로 상기 거울을 배치하는 단계와,
    상기 거울의 상기 표면과 평행한 상기 빔의 라인 초점을 정렬하기 위해 상기 레이저와 상기 거울 사이에 원통형 렌즈를 배치하는 단계와,
    상기 범위 내에서 상기 브래그 파장을 변동시키기 위해 상기 빔의 입사각에 대하여 미리 선택된 피봇 지점 주위로 상기 거울을 회전시키기 위하여 상기 거울에 회전 스테이지를 결합하는 단계와,
    상기 거울의 코어 위치에 있는 상기 빔으로부터 상기 거울에 의해 형성되고 상기 브래그 회절 격자를 기록하는 높은 프렌지 주파수의 인터페로그램을 수용하기 위한 상기 거울의 에지부 가까이에 광섬유를 배치하는 단계와,
    상기 라인 초점이 상기 섬유의 상기 코어부에 닿게 하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 방법.
  19. 제 18항에 있어서,
    상기 거울의 상기 에지부 근처에 상기 섬유를 고정시키기 위해 섬유 마운트를 제공하는 단계를 더 구비하되, 상기 섬유 마운트는 상기 라인 초점에 대하여 상기 코어의 위치를 조정하기 위한 세 개의 축 병진 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 방법.
  20. 제 18항에 있어서, 상기 거울은 스크래퍼 거울을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 브래그 파장 범위 이상의 광섬유 브래그 회절 격자를 기록하는 방법.
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