KR19980703516A - 하드 ｘ-선을 사용한 위상차 화상용 단순화 조건 및 구성 - Google Patents

하드 ｘ-선을 사용한 위상차 화상용 단순화 조건 및 구성 Download PDF

Info

Publication number
KR19980703516A
KR19980703516A KR1019970706920A KR19970706920A KR19980703516A KR 19980703516 A KR19980703516 A KR 19980703516A KR 1019970706920 A KR1019970706920 A KR 1019970706920A KR 19970706920 A KR19970706920 A KR 19970706920A KR 19980703516 A KR19980703516 A KR 19980703516A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
boundary
image
radiation
deviation
refractive index
Prior art date
Application number
KR1019970706920A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100455232B1 (ko
Inventor
윌킨스스티븐윌리엄
Original Assignee
블레어존그레엄
코몬웰스사이언티픽앤드인더스트리얼리서어치오가니세이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 블레어존그레엄, 코몬웰스사이언티픽앤드인더스트리얼리서어치오가니세이션 filed Critical 블레어존그레엄
Publication of KR19980703516A publication Critical patent/KR19980703516A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100455232B1 publication Critical patent/KR100455232B1/ko

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/48—Diagnostic techniques
    • A61B6/484—Diagnostic techniques involving phase contrast X-ray imaging
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
    • H05G1/02—Constructional details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • G01N23/041—Phase-contrast imaging, e.g. using grating interferometers
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2207/00—Particular details of imaging devices or methods using ionizing electromagnetic radiation such as X-rays or gamma rays
    • G21K2207/005—Methods and devices obtaining contrast from non-absorbing interaction of the radiation with matter, e.g. phase contrast

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Surgery (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Ultra Sonic Daignosis Equipment (AREA)

Abstract

물체 경계의 화상을 얻는 방법, 상기 경계는 굴절율 편차를 나타내며, 상기 방법은 고도의 측면 공간 코히어런스와 상기 굴절율 편차를 가로지르는 전파 성분을 가지는 투과성 방사로 상기 경계를 조사하고, 화상면 상의 적어도 한 부분에서 수용하여 화상을 형성하고, 상기 방사는 경계에 의해 굴절되어 경계가 이에 상당하는 휘상 편차로 화상에 표시되는 것을 포함하여 이루어진다.

Description

하드 Ｘ-선을 사용한 위상차 화상용 단순화 조건 및 구성
본 출원인의 국제 특허 공개 WO95/05725(PCT/AU94/00480) 및 임시 특허 출원 PN5811/95는 하드 X-선을 사용하여 상이한 위상차 화상에 적합한 다양한 구성 및 조건을 개시하고 있다. 소련 특허 제 1402871호 및 미합중국특허 제 5319694호에서 다른 내용이 개시되어 있다. 적어도 몇가지 실시예에서, 흡수차 방사선 사진의 전통적인 방법과 더욱 밀접한 관련이 있되, 상대적으로 더 단순한 조건 및 구성이 하드 X-선을 사용한 상이한 위상차 화상용으로 사용될 수 있다.
본 발명에 따라서 굴절률 편차를 나타내는 물체 경계의 화상을 얻는 방법이 제공된다. 상기 방법은,
높은 측면 공간 코히어런스와 상기 굴절률 편차에 대하여 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사(penentrating radiation)로 상기 경계를 조사하는 단계;
상기 경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 나타나도록 상기 경계에 의해 굴절된 상기 방사의 일부분이라도 상기 화상을 형성하도록 화상 면에 수용하는 단계를 포함한다.
본 발명은 또한 굴절률 편차를 나타내는 물체 경계의 화상을 얻기 위한 장치를 제공한다. 상기 장치는,
측면 공간 코히어런스와 상기 굴절률 편차에 대하여 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사로 상기 경계를 조사하기 위한 광원;
상기 경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 나타나도록 상기 경계에 의해 굴절된 상기 방사의 일부분이라도 상기 화상을 형성하도록 수용하기 위한 검출기를 포함한다.
본 발명은 또한 뚜렷한 굴절률 편차를 갖거나 두께 편차에 의해 규정된 내부 경계의 위상차 기록을 유도하는 방법을 제공한다. 상기 방법은,
상기 굴절률 편차의 방향에 대하여 가로지르거나 또는 상기 두께 편차의 방향에 전파 벡터의 중요 성분이 있도록 전파 방향을 갖고, 경계에서 방사 웨이브프런트의 국지적 전파 방향에서 검출가능한 편차가 일어나도록 굴절률 또는 두께의 편차에 대해 상당히 높은 측면 공간 코히어런스를 갖는 관통 방사로 경계를 조사하는 단계;
국지적 전파 방향에서의 상기 편차의 효과가 관찰 가능하기 때문에, 사실상 경계를 화상화하는 국지적 감소 또는 방사 강도의 빠른 편차에 따라 상기 효과가 기록되는 방법으로 상기 경계를 가로지른 상기 방사의 일부분이라도 검출하고 기록하는 단계를 포함한다.
본 발명은 또한 뚜렷한 굴절률 편차를 갖거나 두께 편차에 의해 규정된 내부 경계의 위상차 기록을 유도하기 위한 장치를 제공한다. 상기 장치는,
상기 굴절률 편차 방향에 대하여 가로지르거나 또는 상기 두께 편차 방향에 전파 벡터의 중요 성분이 있도록 전파 방향을 갖고, 경계에서 방사 웨이브프런트의 국지적 전파 방향에서 검출 가능한 편차가 발생하도록 굴절률 또는 두께의 편차를 위하여 상당히 높은 측면 공간 코히어런스를 갖는 X-선 방사로 상기 경계를 조사하는 수단;
국지적 전파 방향에서의 상기 편차의 효과가 관찰 가능하기 때문에, 사실상 경게를 화상화하는 국지적 감소 또는 방사 강도의 빠른 편차에 따라 상기 효과가 기록되는 방법으로 상기 경계를 가로지른 상기 방사의 일부분이라도 검출하고 기록하는 수단을 포함한다.
본 발명은 또한 굴절률 편차를 나타내는 물체의 경계의 화상을 얻는 방법을 제공한다. 상기 방법은,
높은 측면 공간 코히어런스와 상기 굴절률 편차에 대해 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사로 상기 경계를 조사하는 단계와;
경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 표시되도록 상기 경계에 의해 파스넬 회절되어진 상기 방사의 일부분이라도 상기 화상을 형성하도록 화상면에 수용하는 단계를 포함한다.
본 발명은 또한 굴절률의 편차를 나타내는 물체 경계의 화상을 얻기 위한 장치를 제공한다. 상기 장치는,
상기 높은 측면 공간 코히어런스와 굴절률 편차에 대하여 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사로 상기 경계를 조사하기 위한 광원;
상기 경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 나타나도록 상기 경계에 의해 파스넬 회절된 상기 방사의 일부분이라도 상기 화상을 형성하도록 수용하기 위한 검출기를 포함한다.
본 발명은 또한 화상의 휘상을 결정하는 방법을 제공하는데 이 방법은 상기 화상의 위상차 화상 데이타를 처리하는 단계를 포함한다.
국지적 전파 방향에서의 편차의 강도 효과는 바람직하게도 상기 기록을 포함하는 화상에서 관찰될 수 있다. 상기 기록 및 그에 따른 화상은 사진 기술에 의한 것일 수도 있고, 또는 전자적인 것일 수도 있다. 따라서 "화상"이란 용어는, 예를 들어, 테이블이나 저장된 강도값들의 다른 기록과 같은 한 세트의 강도 데이타에서 관찰가능한 효과를 말하는 것으로서, 가시적인 환경으로 한정되지 않는다. 기록 매체는 2차원의 검출기, 즉 전하 결합 소자(charge-coupled device; CCD) 어레이와 같은 전자 검출기를 포함할 수도 있다.
조사 수단은 바람직하게는 직경이 20μ이하인 광원을 포함하는데, 여기서 직경은 최대 강도의 반에서의 광원의 강도 분산의 전체폭을 말한다. 상기 장치는 편리하도록 화상화될 내부 경계를 포함하는 시료를 위한 적당한 스테이지나 홀더를 더욱 포함할 수 있다.
관통 방사, 즉 X-선 방사는 다색성일 수 있으며 하드 X-선 범위, 예를 들어, 1 keV에서 1 MeV까지의 범위 내에 있는 것이 바람직하다.
경계와 검출 수단의 분리는 화상의 해상도를 개선하기 위해서 바람직하게 선택된다. 예를 들어, 더욱 선명한 화상, 즉 더 나은 콘트라스트를 갖는 화상은 분리를 증가시킴으로써 얻어질 수 있음이 관찰되어 왔다. 예를 들어, 콘트라스트는 적어도 0.4 m의 분리에 관하여 약 1 m의 분리를 위하여 개선된다. 이것은 분리가 증가함에 따라 배경 잡음은 감소되지만 전파의 국지적 방향에서의 편차로부터 야기되는 강도 편차 효과는 대체로 남겨지기 때문일 것이다.
여기서 "측면 공간 코히어런스"은 웨이브의 전파 방향으로 가로지르는 상이한 점들간에 웨이브의 복잡한 진폭의 상관을 말한다. 측면 공간 코히어런스는 웨이브프런트상의 각각의 점들이 시간상에서 변하지 않는 전파 방향을 가질 때 일어나는 것으로 알려졌다. 사실상, 높은 측면 공간 코히어런스은, 예를 들어, 작은 유효 크기의 광원을 사용하거나 광원으로부터 멀리 떨어진 위치에서 빔을 관찰함으로써 얻어질 수 있다. 예를 들어, 20 keV X-선을 위하여 광원 크기는 통상 직경이 20㎛ 이하인 것이 적당하다. 광원의 크기가 작으면 작을수록 본 발명의 목적을 위해서 광원으로부터의 총 플럭스가 더욱 충분하게 제공된다. 광원의 X-선 창의 세심한 선택, 즉 고도로 균일한 두께와 동질성의 것이 되도록 함으로써 측면 공간 코히어런스를 보존하는 것이 필요할 수 있다.
본 발명은 일반적으로 X-선과 같이 관통하는 방사를 사용하여 물체의 구조적 특성을 관찰하는 데 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 그러나 배타적이지는 않게, 본 발명은 외부 경계 특성의 X-선 위상차 기록(recodal), 예를 들어 화상에 관한 것이다.
도 1은 평행한 빔에 의해 조사될 단면이 원형인 물체를 설명하고 보여주기 위하여 세 부분으로 나타낸 도;
도 2는 다색의 빔에 의해 조사될 단면이 원형인 물체와 만들어진 위상차 화상의 강도를 나타낸 도;
도 3은 본 발명의 실시예에 다른 X-선 광학 구조를 나타낸 도;
도 4 및 도 5는 본 발명에 따라 유도된 다양한 경계의 X-선 화상을 상당히 자세히 나타낸 도이다.
본 발명의 바람직한 실시예를 오직 하나만 첨부된 도면을 참조로 하여 아래에 설명한다.
우선, 본 발명의 수학적 원리를 개략적으로 제시하고자 한다.
시료의 두께 및 x-선 굴절률, n(λ)=1-δ(λ)-iβ(λ)의 편차는 언제나 시료를 통과하는 x-선 웨이브 프론트의 형태를 변화시킬 것이다. n의 실수 성분인 1-δ(λ)는 굴절도와 관련되며, 허수 성분인 -iβ(λ)는 흡수도와 관련된다. 더욱 상세히 하면, 단일 요소 물체에서,
단, 상기 식에서 μ(λ)는 선 흡수 계수이고, γ0은 고전적인 전자 반경이고, N0은 단위 체적 당 원자수이고, fR은 산란각 0에서의 원자 산란 인자의 실수 부분이다. 계수 δ는 λ2에 비례하고 및 β는 λ4에 비례하며, 또한, λ는 1/광원으로부터 방출되는 x-선 광자 에너지에 비례한다.
웨이브프론트 왜곡의 크기는 웨이브프론트 전파 방향을 가로지르는 화상 진폭의 그래디언트와 관련된다. 기하학적 광학 근사값에서, 물체를 통과하는 선 경로에 대한 위상차, Φ는 선 경로를 따른 굴절률,δ의 실수 부분의 감소율을 적분한 것에 비례한다. 이는 도 1의 좌표계에서 일반적으로 다음과 같이 표시할 수 있다.
단,상기 식에서 k는 2π/λ와 동일하다. 국지적 입사 파 벡터의 각편차 Δα로부터 국지적 산란 파 벡터의 각 편차 Δα는 국지적 입사 파벡터에 수직 방향으로 위상차의 그래디언트에 비례한다. "국지적"이라는 용어는 파면 화상의 점 (x, y, z)을 의미한다. 국지적 산란 파 벡터는 수학적으로 도 1의 좌표계에서 다음과 같이 나타낼 수 있다.
단, 상기 식에서 s(x, y, z)는 점(x, y, z)에서의 파면 평균값이며, 상기 관계는 동위축 근사값 (∂Φ/∂x)2+(∂Φ/∂y)2≪K2일때 유효하다. 각 편차 Δα는 다음과 같이 나타낼 수 있다.
각 편차 Δα는 전파 파벡터에 수직인 굴절률 편차에 따라 결정되며, 편차량은 편차가 파벡터 방향으로 발생하는 길이, 예를 들면 시료의 두께에 따라 결정된다.
상기 작용을 설명하고자, 도 1 및 도 2에서와 같이 굴절률 n0이 1인 매질 내에 있는 굴절률 nM인 구형 물체 Ω의 경우를 고려해 본다.
진공을 지나는 경우에 대하여 시료를 통과하는 x-선의 광학적 경로 길이차는 상대적으로 위상차 Φ(x)가 나타나도록 하며, 따라서, 국지적 전파 방향을 가로지르는 방향(도 1)으로 화상 그래디언트 ∂Φ/∂x가 나타나도록 한다. 일정한 거리에서 z-축에 평행한 물체 Ω를 통과하는 선(ray) 1과 기준 선(reference ray) 0의 위상차는 다음과 같다.
단, 상기 식에서 z(x, y)는 Ω인 선 1의 단면 길이이다.
R 은 Ω의 반경이고, δ는 굴절률 계수의 감소율이다. 수학적으로 x-z 평면에 있는 원형 단면 물체에서, 주어진 x에 대하여 ∂Φ/∂x 및 입사선과 상응하는 굴절선 간의 각 편차Δα에 관한 식은 다음과 같다.
수학식 8에서, δ(λ)는 변화가 느리고, 화상 그래디언트가 x=±R에 발산하는 것을 쉽게 관찰할 수 있다. 이 때, 선들은 광학축으로부터 매우 큰 각으로 편차가 나타날 수 있다. 이러한 극한에서, 산란빔의 각 편차는 매우 크게 될 수 있으며, 상응하는 전방에서의 강도 I가 식별 가능할 정도로 손실된다. 이 위치는 도 2의 다색 빔 B에서 나타나는 바와 같이 파장에 무관하다. 굴절률 계수,δ의 감소율은 광 요소들 및 하드 X-선들에 대하여 차수 10-5내지 10-6가 전형적이고, 편차각 Δα는 x가 ±R에 근접할 때, 즉 시료 경계 또는 내부 경계 부분에서 상당히 크게 될 수 있다.
광원 크기, 물체-광원 거리 및 물체-화상 거리 및 광원의 스펙트럼 분포가 상이한 조건 하에서 얻어진 콘트라스트 성질을 고려해 볼 필요가 있다. 또한, 물체로 들어가는 파면의 변형도도 콘트라스트에 영향을 주는 것으로 보인다.
평면파의 경우, 화상 형성의 콘트라스트에 미치는 이러한 인자들의 작용을 이해하는 것을 돕고자, 위상 물체로부터의 프레스넬 회절 콘트라스트(Fresnel diffraction contrast)에 대한 Cowley 유도식(J.M.Cowley,"Diffraction Physics", 2nd Ed., p.60, North Holland, 1981)을 사용하여 1차 근사값을 얻을 수 있다. 이 식에 따르면, 파장 λ인 평면파 하에 위상 변화, Φ(x)를 생성하는 1차원 위상 물체에서, 물체로부터의 거리 R2에서 강도 분포는 다음과 같다.
단, 상기식에서, 양 (R2λ/2π)ψ″(x)은 1차이며 적은 값으로 보인다. 이러한 매우 단순한 식으로부터, 몇가지 중요한 결론을 얻어낼 수 있다.
i) 콘트라스트는 직접적으로 R2에 의해 변한다.
ii) 화상의 구조는 λ와 무관하며 콘트라스트에만 영향을 미친다. 다색 광원에서, 식의 λ를 분광학적 부가합으로 치환할 수 있다.
본 x-선의 경우, 상기 식의 유효 범위를 알아내고자, 물체가 물체에 의해 전이되는 위상이 측면 거리 10 미크론일 때 1 라디온 변화하는 특성이 있는 것으로 가정해 본다. 이 때, Φ"∼1010m-2이고 λ∼1Å에서 R2∼1m이므로, (R2λ/2π)Φ'"(x)≤1이다. 따라서, 이 식은 위상이 작은 물체에도 유효하고 위상의 빠른 편차에도 합리적이다. 그러나, 매우 급격하게 변하는 가장자리 또는 경사의 변화에서, 인위적 실험 물체(예를 들면, 섬유)로 계산시 종종 사용되는 것처럼, Φ"는 매우 크게 될 수 있어(무한대까지도 가능) 상기 식은 옳지 못하다. 그러나, 이러한 경우에도, 이러한 불연속으로부터 회절에 전형적인 부차 줄무늬가 아닌, 화상의 일반적 형태(급격한 단계의 물체에서 흑색선/백색선)가 재생된다. 반면에, 더 작은 Φ", 즉 작고 빠른 측면 편차를 갖는다는 큰 특성에서, 콘트라스트는 작고, 실질적으로 관찰 가능성이 제한될 수 있다는 것을 알게 된다(실질적으로 좀더 중요할 수 있다).
최근, Fresnel 회절을 통하여 평면파를 갖는 이러한 형태의 화상화를 더욱 정확하게 수학적으로 처리할 수 있게 되었다(P.Cloetens, R. Barrett, J.Baruchel, J.P. Guigay and M. Schlenker, J. Phys D.: Appld. Phys., 1996 29, 133-46; J.P. Guigay, Optik, 1977 49, 121-5). 이러한 처리를 통해 1차로 표현되는 상기와 동일한 식을 얻는다. 그러나, 좀더 정확히 처리하면, 공간 주기(spatial frequency) u에 대한 최대 콘트라스트는 적어도 위상-콘트라스트 방사사진에서 예상되는 일반적인 상태 범위에서 2λR2u2=1 일 때 발생한다. 공간 주기 u는 화상화된 물체의 구조와 관련이 있으며, u는 1/A이고, A는 화상화된 물체의 푸리에 성분의 공간 주기이다.
이러한 모든 처리는 이상적인 평면파를 갖는 일루미네이션(illumination)를 참조한다. 빔의 어떤 발산시, R2에 비례하는 양(이 때, 통상적인 방사 사진에서와 동일한 방식으로 행동)에 의하여 화상이 희미해진다. 상기 저자(Cloetens et al.)는 여기서 콘트라스트 및 분해능을 모두 고려해 총체적인 최적 R2를 다음과 같이 제시한다.
R2≤ 2λ/α2
단, 상기 식에서 α=s/R1은 광원에 의한 물체로의 각이고, (거의) 평면파 경우와 관련이 있다. Cloetens 등이 특히 x-선의 단색 광원의 필요성을 기재하였고 평면파의 경우만을 고려하였음을 하기 바람직한 실시예와 대비하여 주목해야 한다.
지적한 바와 같이, 상기 처리는 특히 평면파의 경우에 관한 것이지만, 통상적인 방사 사진과 더욱 밀접하게 관련된 구형파의 경우를 원칙적으로 고려한다. 공간파의 경우를 이해하기 쉽도록, 물체로부터 거리 R1에서 점 광원으로 물체를 화상화하는 경우 Fresnel-Kerchhoff 표현을 단순히 분석하여 유용하게 확립 가능한 두 가지 간의 관계를 고려한다(구형파의 경우). 이를 통하여, 평면파의 경우를 포함하는 구형파의 경우에 다음 식과 같이 거리 R'에서 화상화하는 변형된 물체를 사용함과 (R1+ R2)/R1으로 확대된 상을 사용함에 단순한 관계가 있음을 알게 된다.
선 광학을 기초한 단순한 기하학적 논의로부터, 화상 및 광원 크기가 모두 확대될 때 광원 크기에 기인한 분해능 또는 콘트라스트의 손실이, 후자에서 큰 R2와 동일한 인자로 접근하는 R2/R1에 의하여, 구형파 경우에 문제가 되지 않는다. 구형파의 경우, 콘트라스트에 영향을 주는 인자는 (방사 사진과 관련된 에너지 범위 및 공간 분해능에서) 2λR2(1+R2/R1)u2이 커지는 것이다(전형적으로는 1보다 작다). 이것은 R2가 크거나 λ 또는 공간 주기, u가 크기 때문에 커질 수 있다. 설명한 바와 같이, 실질적인 방사 사진의 목적으로, 다음 값이 λ=0.2Å; u≤2x105(20 미크론 이상의 공간 주기에 상응)나타내어 R2= 2.5m(R2/R1=3)가 최고 공간 주기에서 최대 콘트라스트를 나타내는 역할을 할 수 있다. R2의 큰 값은 적은 공간 주기의 최대 콘트라스트에 적합하다.
함수 Φ"는 화상(image)에서 위상 물체의 가장자리 및 경계를 개선하는 경향이 있다는 것을 주목할 수 있다. 또한 물체의 흡수 성분이 있다면, 적어도 1차적으로, 화상 콘트라스트(예를 들면, Guigay, 1977의 식 7)를 직접적으로 증진시킬 것이다. 본 기술은 새로운 지식을 얻을 뿐 아니라 일반적인 방사 사진의 화상을 개선하고 보완하려는 것이다. 또한, 미분 화상-콘트라스트를 포함하여 화상의 콘트라스트를 적당히 처리하려면, 예를 들면 화상, Φ(x)를 검색하기 위한 강도에 관한 식의 변환 해(solution)를 통하여 화상을 수 처리해야 함을 주목할 수 있다(본 명세서에 참조로 병합되어 있는 T.E.Gureyev, A.Roberts and K.Nugent, Journal of Optical Society of America, Vol.A12, pp.1932 and pp.1942, 1995).
이제, 이로부터 얻어진 개념을 적용하기 위한 실질적인 장치를 살펴본다. 실시예 1(도 3)에서, 고도의 공간 코히어런스의 광원 S 및 x-선 화상화 검출기 D, 예를 들면 필름, 광자극 형광체(phosphor) 플래이트(예를 들면, Fuji Image Plates) 또는 이차원 전자 검출기가 있다. 전파 방향을 가로지르는 급격한 굴절률 편차 또는 전파 방향으로의 두께 편차 영역은 이러한 영역을 통과하는 파면의 국지적 전파 방향에 큰 변화를 줄 수 있다. 따라서 점 광원(S)로부터 방사된 나선형 웨이브프런트(wavefront)(W1)는 물체(O)를 통과한 후의 웨이브프런트(W2)로 왜곡된다. 시료로부터 충분히 멀리 떨어진 위치에 있는 웨이브프런트의 강도를 기록함으로써, 갑자기 꺾이는 굴절률에 기인한 강도 편차와 시료의 두께 편차가 검출되고 그들의 위치는 화상으로 기록될 수 있다. 이것은 상이한 위상차 화상화의 한 형태에 상당한다. 상기 화상화 검출기의 위치는, 검출기의 공간 분해능이 웨이브프런트의 심각한 왜곡으로부터 초래되는 강도차를 분해하고 콘트라스트를 최적화하기에 충분하도록 선택되며, 상술한 바와 같이, 실제적으로 고려될 수 있다.
전형적으로, 굴절율 또는 두께의 급격한 그래디언트는 화상의 해당 점에서 강도의 급격한 손실 또는 빠른 편차로 화상화될 것이다. 주어진 화상의 점에서의 이러한 강도 손실 또는 빠른 편차의 특성은 본질적으로 파장에 무관하므로, 다색 광원을 사용한 경우에 조차, 화상에서 매우 급격한 콘트라스트 편차를 야기한다.
이러한 구성은 원 광원 분포를 위하여, 화상의 공간 분해능이 양측에서 동일하며, 본질적으로 광원의 크기에 의해 결정된다는 특성을 가진다. 또한, 상당한 크기의 화상이 가능하므로, 후지 화상 플래이트(Fuji Image Plates)와 같은 기록 매체가 사용될 수 있어, 넓은 동적 범위, 고감도 등의 많은 바람직한 특성을 가지나, 고도의 공간 분해능은 없다.
광원 및 검출기가 이러한 구성에 포함될 뿐아니라, 고분해능의 각 분석기가 시료와 검출기 사이에 삽입될 수 있다. 고분해능의 각 분석기는 예를 들어, Laue 기하에서 광원의 몇가지 적당한 특정 파장용으로 선택된 곡률을 가지는 적합하게 구부러진 결정일 수 있다. 제 1 구성으로 관찰될 수 있는 것보다, 시료의 굴절율 및 두께의 더 약한 편차를 분해하기 위해서, 이렇게 방법을 변화시킨다. 상당한 크기의 화상이 가능하므로, 후지 화상 플래이트와 같은 훨씬 더 낮은 공간 분해능의 검출기를 사용할 때 조차, 화상에서 대단히 고도한 공간 분해능이 달성될 수 있음에 주목해야 한다. 또한, 화상 형성 방법이 본질적으로 X-선 에너지와 무관하므로, 광원이 높은 관 전압에서 작동될 수 있어, 시료에 흡수되는 양이 작아짐을 알수 있으며, 이는 임상 적용에 있어 중요하다.
앞으로 설명할 기술을 사용하여 기록된 위상차 화상의 몇몇 실시예가 도 4 내지 5에 나타나 있다. 도 4는 Davis, Gao, Gureyev, Stevenson 및 Wilkins(Phys. Rev. Letter, 1995, Vol. 74, p. 3173)에서 사용한 것과 동일하며, 순수한 위상 물체에 해당하는 10㎛ 플라스틱 필름 가장자리의 화상을 나타낸다. 도 5는 Davis, Gao, Gureyev, Stevenson 및 Wilkins(Nature Vol.373 pp.595-8,1995)에서 사용한 것과 동일하며, 거의 순수한 위상 물체에 해당하는 폴리머 매트릭스내의 공기 방울 및 유리섬유의 화상을 나타낸다. 각각의 경우, 보통의 흡수-차 화상에서 기대되는 것 이상의 선명한 부가적 콘트라스트가 나타날 수 있다. 특히, 도 4에서, 필름의 가장자리는 흑/백 콘트라스트 특성으로 선명하게 보일 수 있으며, 방울 및 섬유의 가장자리도 그러하다. 광원으로는 40kV에서 작동하는 Cu 양극을 가지는 근소한 10㎛ 지름의 마이크로포커스 광원(Kevex Model PXS)를 사용하였다. 도 4에서, 광원과 시료 및 시료와 필름 사이의 거리는 모두 700mm였으나, 도 5에서는 해당 거리가 각각 120mm 및 1000mm이었다. 본 예에서는 광원의 공간 코히어런스가 커서, 콘트라스트를 거의 완전하게 볼 수 있다. 콘트라스트는 일차적으로 강도 손실 콘트라스트이며, 이점에서 보통의 흡수와 유사하나, 수학식 8에 나타낸 바와 같이 물체의 경계에서 굴절 산란(또는 Fresnel 회절)로 인한 강도 손실이 나타난다는 점에서 상이하다. 보통의 0.1mm 지름 미세 초점 광원은 사진에 나타나는 약 0.1mm 스케일 바 길이의 투사크기를 가지므로 콘트라스트가 상당히 희미해진다.
본 명세서에서 설명하는 위상차 화상과 표준 흡수 화상을 비교하여 하기 표 1에 나타내었으며, 65% 흡수를 달성하기에 필요한 탄소 시료의 흡수 두께를 ta, 상이한 광원 에너지 E에 대하여, 2π의 ψ로 상 편차를 달성하는 데 필요한 시료의 상 두께를 tp로 나타내었다.
E keV λ(Å) ta(㎛) tp(㎛)
50 0.25 435000 133
12 1 5000 30
1.2 10 4 3
0.25 50 1.3 1.2
상기 표의 결과는 어떻게 위상차 화상을 높은 에너지원을 사용하여 매우 작은 물체를 화상화 하는 데 사용할 수 있는 지를 나타낸다.
광학적 질이 X-선 빔의 코히어런스에 불리한 효과를 주지 않을 정도가 되도록 공기 산란 효과를 감소시키기 위해서, 시료와 검출기 사이의 빔 경로에 X-선 투과창을 가진 진공관 또는 이와 유사한 수단이 포함될 수 있어 유리하다.
본 방법은 본질적으로 다양한 형태의 물질에서 크랙, 보이드 및 박리효과와 같은 특성의 화상화에 매우 적합한 데, 이러한 특성들은 X-선 굴절율의 차이가 최대이고, 공간 편차가 지극히 급격할 수 있기 때문이다. 관찰할 수 있는 콘트라스트를 얻기 위해서, 광원은 매우 작은 효과적인 크기, 즉 20㎛이하 정도가 바람직하며, 검출기로는 X-선 필름 또는 이차원 전극 검출기, 예를 들어 CCD 어레이와 같은 고분해능 화상 검출기가 바람직하다. 본 방법은 또한 임상적인 방사사진에서 중요한 특성의 콘트라스트를 증가시키는 데 상당히 유용함이 증명될 수 있다.
본 출원은 X-선과 같은 투과성 방사를 사용하여 상이한 위상차 화상용의 몇가지 단순화된 조건 및 구성을 설명하며, 특히, 임상적 또는 산업적 응용을 목적으로 한다. 이러한 새로운 접근은 흡수차 방사사진용으로 사용되는 전통적인 방법과 더욱 밀접하게 관련되며, 특히 조사 영역이 넓은 경우, 상기한 본 출원인이 WO95/05725 및 PN5811/95에 기재한 방법보다 실시하기가 더욱 쉽다.
또한, 광원으로부터 매우 넓은 스펙트럼을 사용할 수 있어, 주어진 광원 출력의 노출 시간이 이전의 단색성 방법보다 상당히 짧다.
본 명세서 전반에 걸쳐, 문맥상 다른 것이 아니라면, "포함한다" 또는 "포함하고" 또는 "포함하여" 등과 같이 어미변화된 단어는 언급되지 않은 다른 구현을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

Claims (40)

  1. 물체 경계의 화상을 얻는 방법에 있어서, 상기 경계가 굴절율 편차를 나타내며, 상기 방법이;
    높은 측면 공간 코히어런스와 상기 굴절률 편차에 대하여 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사로 상기 경계를 조사하는 단계;
    상기 경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 나타나도록 상기 경계에 의해 굴절된 상기 방사의 적어도 일부분이 상기 화상을 형성하도록 화상 면에 수용하는 단계를 포함하여 이루어지는 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 강도 손실에 상당하는 상기 이미지의 일부분과 상기 화상의 잔상사이의 콘트라스트를 증가시키는 거리로 경계 및 상기 화상면을 분리하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 거리가 0.3m 이상임을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 거리가 0.7m 이상임을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 방사의 굴절 크기는 길이에 의존하고, 상기 굴절율 편차는 상기 전파성분의 방향으로 상기 경계에서 유지되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 방사가 1 keV 내지 1MeV 범위의 에너지를 가지는 X-선 방사임을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 방사가 다색성 X-선임을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 방사를 지름이 20㎛이하인 광원을 사용하여 생성시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 강도 편차가 급격하며, 국지화된 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 물체 경계의 화상을 얻기위한 장치에 있어서, 상기 경계는 굴절율 편차로 나타나며,
    측면 공간 코히어런스와 상기 굴절률 편차에 대하여 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사로 상기 경계를 조사하기 위한 광원;
    상기 경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 나타나도록 상기 경계에 의해 굴절된 상기 방사의 적어도 일부분이 상기 화상을 형성하도록 수용하기 위한 검출기를 포함하여 이루어지는 장치.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 강도 손실에 해당하는 상기 화상의 일부분과 상기 화상의 잔상 사이의 콘트라스트를 증가시키도록, 상기 경계와 상기 검출기 사이에 거리를 두는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 거리가 0.3m 이상임을 특징으로 하는 장치.
  13. 제 11항에 있어서,
    상기 거리가 0.7m 이상임을 특징으로 하는 장치.
  14. 제 10항에 있어서,
    상기 방사의 굴절 정도는 길이에 의존하고, 상기 굴절율 편차는 상기 전파성분의 방향으로 상기 경계에서 유지되는 것을 것을 특징으로 하는 장치.
  15. 제 10항에 있어서,
    상기 광원이 1 keV 내지 1MeV 범위의 에너지를 가지는 X-선 방사를 발생하는 것임을 특징으로 하는 장치.
  16. 제 10항에 있어서,
    상기 광원이 다색성 X-선 방사를 발생하는 것임을 특징으로 하는 장치.
  17. 제 10항에 있어서,
    상기 광원이 지름이 20㎛이하임을 특징으로 하는 장치.
  18. 제 10항에 있어서,
    상기 강도 편차가 급격하며, 국지화됨을 특징으로 하는 장치.
  19. 뚜렷한 굴절률 편차를 갖거나 두께 편차에 의해 규정된 내부 경계의 위상-콘트라스트 기록을 유도하는 방법에 있어서, 상기 방법이,
    상기 굴절률 편차의 방향에 대하여 가로지르거나 또는 상기 두께 편차의 방향에 전파 벡터의 중요 성분이 있도록 전파 방향을 갖고, 경계에서 방사 웨이브프런트의 국지적 전파 방향에서 검출가능한 변화가 일어나도록 굴절률 또는 두께의 편차에 대해 상당히 높은 측면 공간 코히어런스를 갖는 관통 방사로 경계를 조사하는 단계;
    국지적 전파 방향에서의 상기 변화의 효과가 관찰 가능하기 때문에, 사실상 경계를 화상화하는 국지적 감소 또는 방사 강도의 빠른 편차에 따라 상기 효과가 기록되는 방법으로 상기 경계를 가로지른 후, 상기 방사의 적어도 일부분을 검출하고 기록하는 단계를 포함하여 이루어지는 방법.
  20. 제 19항에 있어서,
    상기 방사가 다색성 X-선임을 특징으로 하는 방법.
  21. 제 19항에 있어서,
    상기 방사가 1 keV 내지 1MeV 범위의 에너지를 가지는 X-선 방사임을 특징으로 하는 방법.
  22. 제 19항에 있어서,
    지름이 20㎛ 이하인 X-선 광원을 사용하여 상기 경계를 조사하는 것을 특징으로 하는 방법.
  23. 제 19항에 있어서,
    강도의 국지적 감소 또는 급격한 편차의 기록를 포함하는 화상의 분해능을 증가시키는 거리로 상기 경계와 상기 방사의 상기 부분을 검출하는 위치를 분리하는 단계를 포함하여 이루어지는 방법.
  24. 제 23항에 있어서,
    상기 거리가 0.3m이상임을 특징으로 하는 방법.
  25. 제 23항에 있어서,
    상기 거리가 0.7m이상임을 특징으로 하는 방법.
  26. 뚜렷한 굴절률 편차를 갖거나 두께 편차에 의해 규정된 내부 경계의 위상-콘트라스트 기록을 유도하기 위한 장치에 있어서,
    상기 굴절률 편차 방향에 대하여 가로지르거나 또는 상기 두께 편차 방향에 전파 벡터의 중요 성분이 있도록 전파 방향을 갖고, 경계에서 방사 웨이브프런트의 국지적 전파 방향에서 검출 가능한 변화가 발생하도록 굴절률 또는 두께의 편차를 위하여 상당히 높은 측면 공간 코히어런스를 갖는 X-선 방사로 상기 경계를 조사하는 수단;
    국지적 전파 방향에서의 상기 편차의 효과가 관찰 가능하기 때문에, 사실상 경계를 화상화하는 국지적 감소 또는 방사 강도의 빠른 편차에 따라 상기 효과가 기록되는 방법으로 상기 경계를 가로지른 후, 상기 방사의 적어도 일부분이 검출하고 기록하는 수단을 포함하는 장치.
  27. 제 26항에 있어서,
    상기 방사가 다색성 X-선임을 특징으로 하는 장치.
  28. 제 26항에 있어서,
    상기 방사가 1KeV 내지 1MeV 범위의 에너지를 가지는 X-선 방사임을 특징으로 하는 장치.
  29. 제 26항에 있어서,
    상기 조사 수단이 20㎛ 이하의 지름을 가지는 X-선의 광원임을 특징으로 하는 장치.
  30. 제 26항에 있어서,
    상기 강도의 국지적 감소 기록을 포함하는 화상의 분해능을 증가시키는 거리로 상기 경계와 상기 방사의 상기 부분을 검출하는 위치를 분리하는 것을 특징으로 하는 장치.
  31. 제 30항에 있어서,
    상기 거리가 0.3m이상임을 특징으로 하는 장치.
  32. 제 30항에 있어서,
    상기 거리가 0.7m이상임을 특징으로 하는 장치.
  33. 물체 경계의 화상을 얻기위한 방법에 있어서, 상기 경계는 굴절율 편차로 나타나며,
    높은 측면 공간 코히어런스와 상기 굴절률 편차에 대하여 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사로 상기 경계를 조사하는 단계;
    상기 경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 나타나도록 상기 경계에 의해 파스넬 굴절된 상기 방사의 적어도 일부분이 상기 화상을 형성하도록 화상 면에 수용하는 단계를 포함하여 이루어지는 방법.
  34. 물체 경계의 화상을 얻기 위한 장치에 있어서, 상기 경계는 굴절률의 편차를 나타내고,
    상기 높은 측면 공간 코히어런스와 굴절률 편차에 대하여 가로지르는 전파 성분을 갖는 관통 방사로 상기 경계를 조사하기 위한 광원;
    상기 경계가 대응하는 강도 편차에 의해 상기 화상에 나타나도록 상기 경계에 의해 파스넬 회절된 상기 방사의 적어도 일부분이 상기 화상을 형성하도록 수용하기 위한 검출기를 포함하는 장치.
  35. 화상의 위상을 결정하는 방법에 있어서, 상기 화상의 위상-콘트라스트 화상 데이터를 처리하는 단계를 포함하여 이루어지는 방법.
  36. 제 35항에 있어서,
    상기 처리가 전자기방사용 맥스웰 방정식에 기초하는 것을 특징으로 하는 방법.
  37. 제 36항에 있어서,
    상기 방정식이 강도 방정식의 변환임을 특징으로 하는 방법.
  38. 제 1항 내지 9항 또는 제 19항 내지 23항 중의 어느 한 항에 따른 방법을 사용하여 얻어진 화상을 처리하는 단계를 포함하여 이루어지는, 화상의 위상을 결정하는 방법.
  39. 제 38항에 있어서,
    상기 처리가 전자기 방사용 맥스웰 방정식에 기초한 것임을 특징으로 하는 방법.
  40. 제 39항에 있어서,
    상기 방정식이 강도 방정식의 변환임을 특징으로 하는 방법.
KR1019970706920A 1995-03-28 1996-03-28 위상콘트라스트 이미징 방법 및 장치,그리고 이를 이용하여 위상분포를 판정하는방법 KR100455232B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AUPN2012 1995-03-28
AUPN2012A AUPN201295A0 (en) 1995-03-28 1995-03-28 Simplified conditions and configurations for phase-contrast imaging with hard x-rays

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980703516A true KR19980703516A (ko) 1998-11-05
KR100455232B1 KR100455232B1 (ko) 2005-05-17

Family

ID=3786368

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970706920A KR100455232B1 (ko) 1995-03-28 1996-03-28 위상콘트라스트 이미징 방법 및 장치,그리고 이를 이용하여 위상분포를 판정하는방법

Country Status (11)

Country Link
US (2) US6018564A (ko)
EP (1) EP0818131B1 (ko)
JP (2) JP3836509B2 (ko)
KR (1) KR100455232B1 (ko)
CN (1) CN1184862C (ko)
AT (1) ATE279850T1 (ko)
AU (1) AUPN201295A0 (ko)
CA (1) CA2216907C (ko)
DE (1) DE69633618T2 (ko)
HK (1) HK1012871A1 (ko)
WO (1) WO1996031098A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101254607B1 (ko) * 2010-10-05 2013-04-15 주식회사 아이스피 강화글라스 패널의 실리콘층 절단장치

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AUPN201295A0 (en) * 1995-03-28 1995-04-27 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Simplified conditions and configurations for phase-contrast imaging with hard x-rays
JP4436459B2 (ja) * 1996-12-24 2010-03-24 エックスアールティ・リミテッド 位相回収式の位相コントラスト画像
AU747809B2 (en) * 1997-04-08 2002-05-23 Xrt Limited High resolution X-ray imaging of very small objects
RU2224311C2 (ru) * 1997-04-08 2004-02-20 Экс Эр Ти Лимитед Получение рентгеновского изображения с высоким разрешением очень малых объектов
AUPP690098A0 (en) 1998-11-02 1998-11-26 University Of Melbourne, The Phase determination of a radiation wave field
EP1069429B2 (en) 1999-07-16 2011-10-19 Konica Corporation X-ray image radiographing method
EP1086651B1 (en) * 1999-09-21 2005-08-17 Konica Corporation Apparatus and method for x-ray imaging
US6526121B1 (en) 2000-03-29 2003-02-25 Yeu-Kuang Hwu Apparatus and method for imaging an object with real-time response
US6870896B2 (en) 2000-12-28 2005-03-22 Osmic, Inc. Dark-field phase contrast imaging
JP4586159B2 (ja) * 2000-12-31 2010-11-24 国立大学法人 鹿児島大学 マイクロカプセルによるｘ線回折造影装置
US6804324B2 (en) * 2001-03-01 2004-10-12 Osmo, Inc. X-ray phase contrast imaging using a fabry-perot interferometer concept
WO2003040712A1 (en) * 2001-11-05 2003-05-15 Vanderbilt University Phase-contrast enhanced computed tomography
JP3843830B2 (ja) * 2001-12-21 2006-11-08 コニカミノルタホールディングス株式会社 デジタル位相コントラストｘ線画像撮影システム
DE10245676B4 (de) * 2002-09-30 2008-01-17 Siemens Ag Phasenkontrast-Röntgengerät mit Strichfokus zur Erstellung eines Phasenkontrast-Bildes eines Objekts und Verfahren zum Erstellen des Phasenkontrast-Bildes
US7991454B2 (en) * 2003-03-04 2011-08-02 Academia Sinica Imaging of biological structures
CN1295561C (zh) * 2004-02-16 2007-01-17 中国科学院上海光学精密机械研究所 超快脉冲x射线相衬成像装置
US7412024B1 (en) * 2004-04-09 2008-08-12 Xradia, Inc. X-ray mammography
US7286640B2 (en) * 2004-04-09 2007-10-23 Xradia, Inc. Dual-band detector system for x-ray imaging of biological samples
GB0409572D0 (en) * 2004-04-29 2004-06-02 Univ Sheffield High resolution imaging
DE102006063048B3 (de) * 2006-02-01 2018-03-29 Siemens Healthcare Gmbh Fokus/Detektor-System einer Röntgenapparatur zur Erzeugung von Phasenkontrastaufnahmen
CN101594825B (zh) * 2006-02-27 2014-07-23 罗切斯特大学 锥束ct动态成像的方法和设备
AU2007221086A1 (en) * 2006-02-27 2007-09-07 University Of Rochester Phase contrast cone-beam CT imaging
JP2007330530A (ja) * 2006-06-15 2007-12-27 Toshiba Corp Ｘ線検査方法およびｘ線検査装置
JP2008018155A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Ｘ線撮影装置
ATE434342T1 (de) * 2006-08-22 2009-07-15 Konica Minolta Med & Graphic Röntgenbildverarbeitungssystem
US7505561B1 (en) * 2006-11-20 2009-03-17 Michael Keith Fuller Schlieren-type radiography using a line source and focusing optics
JP2008197593A (ja) * 2007-02-16 2008-08-28 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Ｘ線用透過型回折格子、ｘ線タルボ干渉計およびｘ線撮像装置
WO2009076700A1 (en) * 2007-12-14 2009-06-25 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Phase-contrast imaging method and apparatus
US8023767B1 (en) 2008-03-10 2011-09-20 University Of Rochester Method and apparatus for 3D metal and high-density artifact correction for cone-beam and fan-beam CT imaging
US7949095B2 (en) * 2009-03-02 2011-05-24 University Of Rochester Methods and apparatus for differential phase-contrast fan beam CT, cone-beam CT and hybrid cone-beam CT
JP2009165902A (ja) * 2009-05-08 2009-07-30 Konica Minolta Holdings Inc 位相コントラスト放射線画像撮影装置
JP5646906B2 (ja) * 2010-08-06 2014-12-24 キヤノン株式会社 Ｘ線装置およびｘ線測定方法
KR101764612B1 (ko) 2011-01-27 2017-08-14 삼성전자주식회사 전기기기, 전력 관리기, 그를 가지는 전력 관리 시스템 및 그 제어 방법
US9364191B2 (en) 2013-02-11 2016-06-14 University Of Rochester Method and apparatus of spectral differential phase-contrast cone-beam CT and hybrid cone-beam CT
JP7272833B2 (ja) * 2019-03-15 2023-05-12 住友重機械工業株式会社 Ｘ線ｃｔ装置、画像再構成装置、及び画像再構成方法
US20220260505A1 (en) * 2019-06-11 2022-08-18 PRC-DeSoto Intemational, Inc. Method and system of inspecting pre-molded sealant parts

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4200354A (en) * 1974-09-05 1980-04-29 Robert Hoffman Microscopy systems with rectangular illumination particularly adapted for viewing transparent objects
US5016267A (en) * 1986-08-15 1991-05-14 Commonwealth Scientific And Industrial Research Instrumentation for conditioning X-ray or neutron beams
NL8603108A (nl) * 1986-12-08 1988-07-01 Philips Nv Mikroskoop.
CH678663A5 (ko) * 1988-06-09 1991-10-15 Zeiss Carl Fa
US5173928A (en) * 1990-07-09 1992-12-22 Hitachi, Ltd. Tomograph using phase information of a signal beam having transmitted through a to-be-inspected object
RU2012872C1 (ru) * 1991-05-14 1994-05-15 Виктор Натанович Ингал Способ получения изображения внутренней структуры объекта
US5446540A (en) * 1992-10-30 1995-08-29 International Business Machines Corporation Method of inspecting phase shift masks employing phase-error enhancing
US5802137A (en) * 1993-08-16 1998-09-01 Commonwealth Scientific And Industrial Research X-ray optics, especially for phase contrast imaging
AUPN201295A0 (en) * 1995-03-28 1995-04-27 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Simplified conditions and configurations for phase-contrast imaging with hard x-rays
JPH09187455A (ja) * 1996-01-10 1997-07-22 Hitachi Ltd 位相型ｘ線ｃｔ装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101254607B1 (ko) * 2010-10-05 2013-04-15 주식회사 아이스피 강화글라스 패널의 실리콘층 절단장치

Also Published As

Publication number Publication date
CA2216907C (en) 2008-08-26
CA2216907A1 (en) 1996-10-03
CN1183886A (zh) 1998-06-03
EP0818131A1 (en) 1998-01-14
CN1184862C (zh) 2005-01-12
AUPN201295A0 (en) 1995-04-27
US6212254B1 (en) 2001-04-03
EP0818131B1 (en) 2004-10-13
WO1996031098A1 (en) 1996-10-03
JPH11502620A (ja) 1999-03-02
US6018564A (en) 2000-01-25
DE69633618D1 (de) 2004-11-18
DE69633618T2 (de) 2006-02-09
HK1012871A1 (en) 1999-08-13
EP0818131A4 (en) 1998-04-22
JP2006061712A (ja) 2006-03-09
ATE279850T1 (de) 2004-10-15
JP3971776B2 (ja) 2007-09-05
JP3836509B2 (ja) 2006-10-25
KR100455232B1 (ko) 2005-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR19980703516A (ko) 하드 ｘ-선을 사용한 위상차 화상용 단순화 조건 및 구성
US6226353B1 (en) Phase retrieval in phase contrast imaging
Gureyev et al. Quantitative in-line phase-contrast imaging with multienergy x rays
Bravin Exploiting the X-ray refraction contrast with an analyser: the state of the art
US7787588B1 (en) System and method for quantitative reconstruction of Zernike phase-contrast images
Bashir et al. Phase imaging using focused polycapillary optics
Suhonen et al. Refraction and scattering of X-rays in analyzer-based imaging
Peele et al. X-ray phase contrast tomography with a bending magnet source
Bushuev et al. Wave theory of x-ray phase-contrast radiography
Sun et al. Propagation-based and mesh-based x-ray quantitative phase imaging with conventional sources
Maksimenko et al. Dark-field imaging using an asymmetric Bragg case transmission analyser
Lewis et al. Diffraction-enhanced imaging: improved contrast and lower dose X-ray imaging
Thornton et al. The detection and sizing of flaws in components from the hot-end of gas turbines using phase-contrast radiography with neutrons: a feasibility study
Suzuki et al. Refraction-contrast imaging using undulator radiation at SPring-8
Olumorin Investigation of Size Specific Fe2O3 Nanoparticles: Towards Single Nanoparticle Resolved Spectro-Ptychography
JPH05340894A (ja) Ｋ吸収端差分法を用いたｘ線画像撮影装置並びにｘ線ｃｔ装置
Rao et al. Synchrotron-based non-destructive diffraction-enhanced imaging systems to image walnut at 20 keV
Li et al. Hard X-ray diffraction enhanced imaging only using two crystals
Hartman et al. Phase-contrast hard X-ray microtomography by Bragg-Fresnel optics
Momose et al. Recent observations with phase-contrast X-ray computed tomography
Arhatari High resolution phase contrast x-ray radiography
Gude et al. 3D x-ray diffraction imaging of optically thin samples
Menk High resolution Imaging based on X-ray Holography
Rao et al. Roberto Cesareo, Antonio Brunetti, Tako Akatsuka, Tetsuya Yuasa, Zhong Zhong, Tohoru Takeda, et al.
Rokhlin et al. X-ray microscopy

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120424

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee