KR19980701519A - 미립자 활성제 및 양이온 중합체를 갖는 비듬 방지 샴푸(anti-dandruff shampoos with particulate active agent and cationic polymer) - Google Patents

미립자 활성제 및 양이온 중합체를 갖는 비듬 방지 샴푸(anti-dandruff shampoos with particulate active agent and cationic polymer) Download PDF

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티모씨 우드로우 코핀데퍼
Philip Earl) 코드란 필립 얼(COTHRAN
Thomas Francis) 거티어 토마쓰 프랜시스(GAUTHIER
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데이서 제이코버스 코넬리스
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Abstract

(a) 음이온 세정 계면활성제 약 8 중량% 내지 약 40 중량%; (b) 평균 입자 크기 약 0.35 μ 내지 약 5 μ를 갖는 미립자 비듬방지제 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%; (c) 상기 비듬방지제용 안정제 약 0.01 중량% 내지 약 1.0 중량%(상기 안정제는 가용성 양이온 중합체이다); (d) 물 약 50 중량% 내지 약 91.89 중량%를 포함하는 비듬방지 샴푸 조성물로서, 상기 샴푸 조성물은 결정성 현탁제 및 음이온, 비이온 및 양쪽성 중합체성 현탁제로 구성된 군중에서 선택된 현탁제가 거의 없는 샴푸 조성물을 제공한다. 또한 상기 미립자 비듬방지제 및 상기 양이온 중합체를 음이온 세정 계면활성제 존재하에 수중에서 혼합하는 본 발명의 조성물의 제조 방법이 제공된다.

Description

미립자 활성제 및 양이온 중합체를 갖는 비듬 방지 샴푸
비듬방지제를 또한 함유하는 모발 세척용 샴푸 조성물은 잘 알려져 있다. 바람직한 비등방지제 유형 중에는 황, 이황화 셀레늄 및 피리딘티온의 중금속 염과 같은 미립자, 결정성 비듬방지제가 있다. 상기 유형의 샴푸가 들어있는 포장을 결렬하게 혼합하지 않고도 효과적이고 일정한 성능 수준을 제공하기 위해서는, 현탁제의 도움으로 샴푸를 조성물 상태로 현탁시키는 것이 통상의 관례이다. 샴푸는 장기간 동안 선반 위나 저장소에 놓이기 쉽기 때문에, 현탁제가 비교적 장기간 동안 미립자 비듬방지제를 잘 현탁된 상태로 유지시키는 것이 중요한다. 미립자 비들방지제를 현탁시키기에 바람직한 현탁제는 샴푸가 정지상태에 있을 때 샴푸에서 결정성 망상구조를 형성하나 사용자가 병에서 따를 때와 같이 전단이 적용될 때 조성물이 용이하게 흐르도록 허용하는 것이다. 이러한 현탁제를 예를 들면 에틸렌 글리콜 디스테아레이트 및 N,N-디(수소화 탈로우)아미도 벤조산을 포함한다. 시장에서 미립자 비듬방지제를 현탁시키기 위해 현재 바람직한 방법은 결정성 현탁제를 사용하는 것이다.
공지된 다른 현탁제는 셀룰로즈 검 및 아크릴산/아크릴레이트 중합체와 같은 친수성 중합체성 농후화제가 있으며, 아크릴산/아크릴레이트 중합체는 흔히 카보머라 불린다. 이들 물질이 미립자 물질을 현탁시키는데 효과적이지만, 다량으로 사용하면 불만족스럽게 미끈거리는 느낌을 부여하는 경향이 있다.
비듬방지제를 현탁시키는 것만큼 중요한 것은, 또한 사용하는 동안 현탁제가 비듬방지제를 두피에 부착시켜야만 한다는 것이다. 아주 적은 양의 비듬방지제가 부착된다면, 우수한 비듬방지 효능을 제골할 수 없을 것이다. 중합체성 현탁제는 결정성 현탁제보다 두피 및 모발 위에 활성 성분을 부착시키는데 덜 효과적으로 생각된다.
결정성 현탁제의 또다른 결점은 이들이 고급의 안정한 현탁액을 제조하기 위해 조성물을 제조할 때 고비용의 가열 및 냉각 단계를 필요로 한다는 점이다.
비듬방지 삼푸의 배합시 또다른 중요한 변수는 비누거품 형성이다. 소비자들은 많은 비누거품과 효과적인 세척을 종종 연관지으며, 전형적으로 심미적인 관점에서 비누거품이 적은 샴푸보다 비누거품이 많은 샴푸를 더 선호한다. 불행히도, 결정성 현탁제는 비누거품 형성 성능에 불리한 효과를 미치는 경향이 있다.
또한 2-머팝토피리딘-N-옥사이드의 미분 다가 금속염, 예를 들면 아연 피리딘티온을 이용하여 항균성 조성물을 제조하는 것은 공지되어 있다. 예를 들면, 미국 특허 제 4,832,950 호(Takaya et al., 1989년 5월 23일 허여됨) 및 미국 특허 제 4,670,430 호(Inamura et al., 1987년 6월 2일 허여됨)을 참조하시오. 이들 조성물에서, 0.2 μ보다 적은 매우 작은 평균 입자 크기는 이보다 큰 입자를 현탁시키는 중합체성 현탁제 또는 다른 수단을 사용하지 않고 개선된 분산 안정성을 제공하는 것으로 알려져 있다. 이러한 선행 조성물과 비교하여, 이마무라 등의 조성물은 개선된 흡착성을 제공하는 것으로 알려져 있다. 타카야 등은 (A) 폴리글리콜/폴리아민, 폴리글리콜/폴리아민/알킬아민 또는 알킬렌아민 축합 중합체; (B) 하이드록시알킬셀룰로즈 및 그의 부분적으로 4급화된 생성물, 및 적어도 하나의 비이온 계면활성제로 구성된 군중에서 선택된 수용성 중합체; 및 (C) 적어도 하나의 양이온성 중합체 화합물 및 적오도 하나의 무기 염으로 구성된 군중에서 선택된 특정 분산제를 사용하여 이마무라 등의 작은 입자의 현탁 안정성을 더욱 개선시키는 것을 교지하고 있다.
상기 조성물이 통상의 현탁제의 사용을 피하고 있지만, 미립자 금속 염의 부착 효능은 대단히 작은 크기의 상기 입자에 의해 손상된다. 이들의 작음 크기에 의해, 대부분은 두피, 피부 또는 모발에 부착되기 보다는 오히려 용액상태로 분산된 채로 있을 것이다.
따라서, 상기 특허에 명시된 것보다 큰 입자를 사용하나 농후화 목적으로 가해진 결정성 현탁제 또는 중합체와 같은 통상의 현탁제를 사용할 필요가 없는 분산된, 안정한 비듬방지제를 갖는 액체 국소 조성물을 제공하는 것이 바람직할 것이다.
본 발명의 목적은 결정성 현탁제를 필요로 하지 않고 현탁되나 여전히 모발 또는 두피 상에 비듬방지제를 효과적으로 부착시키는 미립자 비듬방지제 함유 비듬 방지 샴푸를 제공하는 것이다. 본 발명의 또다른 목적은 친수성 중합체성 농후화제를 필요로 하지 않고 현탁되나 모발 또는 두피 상에 비듬방지제를 여전히 효과적으로 부착시키는 미립자 비듬방지제 함유 비듬 방지 샴푸를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 미끈거리는 느낌이 없이 좋은, 전술한 바와 같은 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 도다른 목적은 액체 국소 조성물에서 미립자 물질에 대한 통상의 현탁제에 비해 피부, 두피 및/또는 모발 상에서 개선된 부착 효능을 갖는 전술한 바돠 같은 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 또다른 목적은 결정성 현탁제가 사용될 때 통상적으로 사용된 것과 같은 고비용의 가열 및 냉각 단계를 필요로 하지 않고 제조할 수 있는 전술한 바와 같은 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 상기 목적에 부합하는 비듬 방지 샴푸의 제조 방법을 제공하는 것이다.
이들 목적 및 기타 목적은 명백하거나 아니면 하기에 기술하는 본 발명에 따라 실현 또는 이룩될 수 있다.
달리 언급하지 않으면, 모든 퍼센트는 전체 조성물의 중량을 기준으로 계산하며, 모든 비율은 중량 기준으로 계산한다. 달리 언급한 바 없으면, 성분은 활성 성분의 양을 기준으로 하고 따라서 상업적으로 시판하는 물질 안에 포함될 수 있는 담체 또는 부산물은 포함하지 않는다. 본 발명은 그 안에 기술한 임의의 필수 성분 및 다양한 임의 성분 및/또는 바람직한 성분 및 원소들을 포함할 수 있거나, 이로 구성될 수 있거나 또는 이들로 필수적으로 구성될 수 있다.
발명의 개요
상기 목적에 부합하는 비듬 방지 샴푸가 실현될 수 있음이 이제 밝혀졌다. 특히, 비교적 작은 입자 크기의 미립자 비듬방지제를 입자를 현탁시키기 위해 결정성 현탁제 또는 중합체성 농후화제를 필요로 하지 않고 음이온 계면활성제 및 비교적 소량의 샴푸 가용성 양이온 중합체를 함유하는 샴푸 조성물에 현탁시킬 수 있음을 밝혀냈다. 본 발명은 약 0.35 μ 내지 약 5 μ의 평균 입자 직경을 갖는 입자를 사용한다. 이론상, 및 본 발명을 필수적으로 제한할 의도 없이, 본 발명의 양이온 중합체는 음이온 계면활성제의 미셀을 가교시키므로써 망 같은 현탁액을 형성하는 것으로 생각된다. 작은 입자 크기의 미립자 비듬방지제를 이어서 상기 망상구조 안에 현탁시킨다.
더욱 구체적으로, 본 발명은 (a) 음이온 세정 계면활성제 약 8 중량% 내지 약 40 중량%; (b) 평균 입자 크기 약 0.35 μ 내지 약 5 μ를 갖는 미립자 비듬방지제 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%; (c) 상기 비듬방지제용 안정제 약 0.01 중량% 내지 약 1.0 중량%(상기 안정제는 가용성 양이온 중합체이다); (d) 물 약 50 중량% 내지 약 91.89 중량%를 포함하는 비듬 방지 샴푸 조성물로서, 상기 샴푸 조성물은 결정성 현탁제 및 음이온, 비이온 및 양쪽성 중합체성 현탁제로 구성된 군중에서 선택된 현탁제가 거의 없는 샴푸 조성물이 제공된다.
또한, 본 발명의 조성물을 제조하는데 사용된 방법은 최종 조성물의 안정성에 중요할 수 있음이 밝혀졌다. 특히, 상기 미립자 비듬방지제 및 상기 양이온 중합체를 음이온 계면활성제 존재하에 오직 수성 조건하에서 서로 조합 또는 혼합하는 것이 바람직하다. 음이온 계면활성제 없이 수성 조건하에 미립자 비듬방지제 및 양이온 중합체를 혼합하면 원치 않게 미립자 비듬방지제의 응집을 야기할 수 있다.
더욱 구체적으로, 본 발명은 (a) 음이온 세정 계면활성제 약 8 중량% 냐자 약 40 중량%; (b) 용량 평균 입자 크기 약 0.35 μ 내지 약 5 μ를 갖는 미립자 비듬방지제 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%; (c) 상기 비듬방지제용 안정제 약 0.01 중량% 내지 약 1.0 중량%(상기 안정제는 샴푸에 용해되는 양이온 중합체이다); (d) 물 약 50 중량% 내지 약 91.89 중량%의 혼합물을 제조함을 포함하는 안정한 비듬 방지 샴푸 조성물을 제조하는 방법을 제공하며, 여기서 상기 미립자 비듬방지제 및 상기 양이온 중합체를 음이온 세정 계면활성제 존재하에 수중에서 혼합하며, 상기 조성물은 결정성 현탁제 및 음이온, 비이온 및 양쪽성 중합체성 현탁제가 거의 없다.
본 발명은 샴푸에 탁월한 비듬방지 효능, 세척 및 비누거품성을 제공할 수 있다. 추가로, 본 발명은 본 발명의 양이온 중합체보다 전형적으로 다량으로 사용되거나, 또는 결정성 현탁제의 경우 현탁 물질을 가공하는데 별도의 가열 및 냉각 단계를 필요로 하는 통상의 현탁제를 배제하므로써 상당한 비용 절감을 야기할 수 있다. 더욱더, 본 발명의 조성물은 증대된 비누거품성 및 피부/두피를 포함하여 모발위에 비듬발지 활성제의 탁원할 부착을 제공할 수 있다.
본 발명은 미립자 비듬방지제를 함유하는 샴푸 조성물에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 미립자 비듬방지제 및 양이온 중합체를 함유하는 샴푸 조성물에 관한 것이다.
세정 계면활성제 성분
본 발명의 조성물은 알킬 설페이트, 알킬 에톡시화 설페이트, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 음이온 세정 계면활성제 성분을 함유한다. 본 발명의 조성물은 또한 다른 유형의 음이온 계면활성제를 포함할 수 있고 추가로 비이온 및 양쪽성 계면활성제를 함유할 수 있다.
음이온 세정 계면활성제 성분은 조성물의 약 8 중량% 내지 약 40 중량%, 바람직하게는 약 10 중량% 내지 약 30 중량%, 더욱 바람직하게는 약 12 중량% 내지 약 22 중량%의 양으로 존재하는 것이 일반적이다.
설페이트 계면활성제
본 발명의 조성물은 알킬 설페이트, 알킬 에톡시화 설페이트, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것이 바람직할 것이다. 이들 물질은 각각 화학식 (1) ROSO3M 및 (2) RO(C2H4O)XSO3M(여기서, R은 탄소수 약 8 내지 약 30의 알킬 또는 알케닐이고, x는 1 내지 10이고, M은 H 또는 암모늄과 같은 가용성 염 형성 양이온, 트리에탄올아민과 같은 알카놀아민, 나트륨 및 칼륨과 같은 일가 금속 및 마그네슘 및 칼슘과 같은 다가 금속 양이온이다)를 갖는다. 음이온 계면활성제의 양이온 M은 음이온 계면활성제 성분이 수용성이도록 선택해야 한다. 음이온 계면활성제의 용해도는 일반적으로 선택된 특정 음이온 계면활성제 및 양이온에 따라 변할 것이다. 음이온 계면활성제의 적절한 혼합물을 결정하는데 도움을 주기 위해, 음이온 계면활성제는 크라프트 온도가 약 15℃ 이하, 바람직하게는 약 10℃ 이하, 더욱 바람직하게는 약 0℃ 이하이도록 선택해야 한다. 또한 음이온 계면활성제는 본 발명의 조성물에서 가용성인 것이 바람직하다.
바람직하게는, R은 알킬 및 알킬 에톡시화 설페이트 모두에서 탄소수 약 10 내지 약 18을 갖는다. 알킬 에톡시화 설페이트는 전형적으로 탄소수 약 8 내지 약 24를 갖는 에틸렌 옥사이드와 일가 알콜의 축합 생성물로 제조하는 것이 전형적이다. 알콜은 예를 들면, 코코넛 오일, 야자핵유, 또는 탈로우와 같은 지방에서 유도할 수 있거나, 또는 합성할 수 있다. 이러한 알콜을 바람직하게는 약 1 내지 약 10, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 약 4, 가장 바랍직하게는 약 2 내지 약 3.5 몰비율의 에틸렌 옥사이드와 반응시키고, 알콜 몰당 평균 3몰의 에틸렌 옥사이드를 갖는 분자종의 생성된 혼합물을 황화시키고, 중화시킨다.
본 발명에 사용할 수 있는 알킬 에테르 설페이트의 구체예를 들면 코코넛 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트의 나트륨 및 암모늄 염; 탈로우 알킬 드리에틸렌 글리콜 에테르 설페이트, 및 탈로우 알킬 헥사옥시에틸렌 설페이트가 있다. 대단히 바람직한 알킬 에테르 설페이트는 개별 화합물의 혼합물을 포함하는 것이며, 상기 혼합물은 탄소수 약 12 내지 약 16의 평균 알킬 쇄 길이 및 에틸렌 옥사이드 약 1 내지 약 4몰의 평균 에톡시화도를 갖는다.
셀페이트 계면활성제는 에톡시화 및 비에톡시화 설페이트의 조합물로 구성되는 것이 바람직하다. 알킬 설페이트 대 알킬 에톡시화 설페이트의 중량비는 바람직하게는 약 4:1 내지 약 1:10, 더욱 바람직하게는 약 2:1 내지 약 1:8, 더한층 더욱 바람직하게는 약 1:1 내지 약 1:5, 가장 바람직하게는 약 1:2 내지 약 1:4이다. 전술한 바와 같은 중량비는 비누거품, 세척 및 미립자 비담방지제 성능의 최적 조합을 제공한다는 점에서 바람직하다. 알킬 설페이트는 탁월한 세척 및 비누거품 성능을 제공할 수 있다. 알킬 에톡시화 설페이트는 탁월한 세척 성능을 제공할 수 있고, 피부에 순하며, 알킬 설페이트에 비해 미립자 비등방지제의 부착을 증대시킬 수 있다.
기타 음이온 계면활성제
음이온 계면활성제, 특히 음이온 설페이트 계면활성제와 조합하여 사용하기 바람직한 유형의 음이온 계면활성제는 N-아실 아미노산 계면활성제이다. 본 발명의 목적을 위해 N-아실 아미노산 계면활성제는 하기와 같이 화학식 (3)으로 나타낸 것과 같은 N-아실 하이드로카빌 산 및 그의 염을 포함한다:
상기식에서,
R1은 C8-C24알킬 또는 알케닐 라디칼, 바람직하게는 C10-C18이고; R2는 -H, C1-C4알킬, 페닐, 또는 -CH2COOM, 바람직하게는 C1-C4알킬, 더욱 바람직하게는 C1-C2알킬이고; R3은 -CR4 2- 또는 C1-C2알콕시이고, 각각의 R4는 독립적으로 -H 또는 C1-C6알킬 또는 알킬에스테르이고, n은 1 내지 4, 바람직하게는 1 또는 2이고, M은 -H 또는 상기에서 정의한 바와 같은 양이온, 바람직하게는 나트륨 또는 칼륨과 같
Surfactants, Part Ⅱ, Surfactant Science Series, Vol. Ⅶ, 편집자 워너 엠, 린필드, Marcel Dekker, Inc.(New York and Basel), 1976; pp. 581-617]에 기술되어 있다.
특히 바람직한 것은 R2가 메틸이고, R3이 -CH2-이고, n이 1인 화학식 (2)의 화합물이며, 이것은 N-아실 사코시네이트 및 그의 산으로 공지되어 있다. 구체예를 들면 바람직하게는 나트륨 및 칼륨 염 형태의 라우로일 사코시네이트, 미리스토일 사코시네이트, 코코일 사코시네이트 및 올레오일 사코시네이트가 있다.
본원에 기술된 계면활성제에서, 알킬 또눈 알케닐이란 용어는 에테르 또는 폴리에테르 결합 또는 비작용성 치환체, 예를 들면 하이드록실 또는 할로겐 라디칼(이 라디칼은 소수성 특징을 보유한다)과 같은 비작용성 치환체와 같은 하나 이상의 중간 결합을 함유할 수 있는 라디칼의 혼합물을 포함하는 것으로 생각해야 한다.
또다른 유형의 음이온 세정 계면활성제는 하기 화학식 (4)의 유기, 황산 반응 생성물의 수용성 염으로 나타내는 바와 같은 지방족 설포네이트이다:
R1-SO3-M
상기식에서, R1은 탄소수 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 12 내지 약 18을 갖는 직쇄 또는 분지쇄, 포화 지방족 탄화수소 라디칼로 구성된 군중에서 선택되고, M은 상기에서 논의한 바와 같은 다가 금속 양이온과 관련하여 동일한 제한이 적용되는 전술한 바와 같은 양이온이다. 중요한 예를 들면 탄소수 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 약 12 내지 약 18을 갖는, 이소-, 네오- 및 n-파라핀을 포함하는 메탄 시리즈의 탄화수소와 표백 및 가수분해를 포함하는 공지된 설폰화 방법에 따라 수득된, 예를 들면 SO3, H2SO4, 발연 황산과 같은 설폰화제의 유기 황산 반응 생성물의 염이다. 알칼리 금속 및 암모늄 설폰화 C12-C18파라핀(예를 들면, 노르말 및 2급 파라핀)이 바람직하다.
본 발명의 용어 안에 있는 음이온 세정 계면활성제의 추가예로는 이세티온산으로 에스테르화되고, 수산화 나트륨으로 중화된 지방산의 반응 생성물(여기서, 예를 들면, 지방산은 코코넛 오일로부터 유래된다); 지방산이 에를 들면 코코넛 오일로부터 유래되는 메틸 타우리드의 지방산 아미드의 나트륨 또는 칼륨 염이다. 다른 합성 음이온 세정 계면활성제는 미국 특허 제 2,486,921 호; 제 2,486,922 호 및 제 2,396,278 호에 나타나 있다.
여전히 다른 음이온 세정 계면활성제는 숙시네이트로 표시된 류이다. 이 류에는 이나트륨 N-옥타데실설포숙시네이트; 사나트륨 N-(1,2-디카복시에틸)-N-옥타데실설포숙시네이트; 나트륨 설포숙신산의 디아밀 에스테르; 나트륨 설포숙신산의 디헥실 에스테르; 나트륨 설포숙신산의 디옥틸 에스테르와 같은 표면활성제가 포함된다.
다른 적합한 음이온 세정 계면활성제는 탄소수 약 12 내지 약 24를 갖는 올레핀 설포네이트를 포함한다. 올레핀 설포네이트란 용어는 복합체가 아닌 황 트리옥사이드에 의해 알파-올레핀을 설폰화한 후 반응 중에 형성된 임의의 설폰이 가수분해되어 상응하는 하이드록시-알칸설포네이트를 제공하는 조건 하에 산 반응 혼합물을 중화시켜 제조할 수 있는 화합물을 의미하는 것으로 본원에서 사용한다. 황 트리옥사이드는 액체 또는 기체일 수 있으며, 불활성 희석제, 예를 들면 액체 형태로 사용될 때 액체 SO2, 염소화 탄화수도 등에 의해 또는 기체 형태로 사용할 때 공기, 질소, 기상 SO2등에 의해 희석하는 것이 통상적이나, 이것이 반드시 필수적인 것은 아니다.
올레핀 설포네이트가 유래되는 알파-올레핀은 탄소수 약 12 내지 약 24, 바람직하게는 약 14 내지 약 16을 갖는 모노-올레핀이다. 바람직하게는 이들은 직쇄 올레핀이다.
알켄 설포네이트 및 하이드록시-알칸설포네이트의 비율에 추가하여, 올레핀 설포네이트는 반응 조건, 반응물의 비율, 출발 올레핀의 특성 및 올레핀 원료 중의 불순물 및 설폰화 공정 주의 부반응에 따라 알켄 디설포네이트와 같은 소량의 기타 물질을 함유할 수 있다.
상기 유형의 특정 알파-올레핀 설포네이트 혼합물은 본원에 참고로 인용한, 1967년 7원 25일 허여된 플라우머와 케슬러(Pflaumer and Kessler)의 미국 특허 제 3,332,880 호에 더욱 충분히 기술되어 있다.
또다른 부류의 음이온 세정 계면활성제는 베타-알킬옥시 알칸 설포네이트이다. 이들 화합물은 하기 화학식 (5)를 갖는다.
상기식에서, R1은 탄소수 약 6 내지 약 20을 갖는 직쇄 알킬 그룹이고, R2는 탄소수 약 1(바람직함) 내지 약 3을 갖는 저급 알킬 그룹이고, M은 상기에서 기술한 바와 같은 수용성 양이온이다.
많은 추가의 합성 음이온 계면활성제가 문헌[McCutcheon's Emulsifiers and Detergents, 1989 Annual, M. C. Publishing Co.에서 출판함]에 기술되어 있으며, 이를 본원에 참고로 인용하였다. 또한 1975년 12월 30일 러푸린(Laughlin) 등에게 허여된 미국 특허 제 3,929,678 호는 다른 계면활성제 유형 뿐 아니라 많은 기타 음이온 계면활성제를 기술하고 있으며, 이를 본원에 참고로 인용하였다.
본 발명의 샴푸 조성물에 사용하는데 바람직한 음이온 세정 계면활성제는 암모늄 라우릴 설페이트, 암모늄 라우레트 설페이트, 트리에틸아민 라우릴 설페이트, 트리에틸아민 라우레트 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우레트 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 라우레트 설페이트, 디에탄올아민 라우릴 설페이트, 디에탄올아민 라우레트 설페이트, 라우르산 모노글리세라이드 나트륨 설페이트, 나트륨 라우릴 설페이트, 나트륨 라우레트 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 칼륨 라우레트 설페이트, 나트륨 라우릴 사코시네이트, 나트륨 라우로일 사코시네이트, 라우릴 사코신, 코코일 사코신, 암모늄 코코일 설페이트, 암모늄 라우로일 설페이트, 나트륨 코코일 설페이트, 나트륨 라우로일 설페이트, 칼륨 코코일 설페이트, 칼륨 코코일 설페이트, 칼륨 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 코코일 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 나트륨 트리데실 벤젠 설포네이트 및 나트륨 도데실 벤젠 설포네이트가 있다.
양쪽성 계면활성제
본 발명의 조성물 및 공정에 양쪽성 계면활성제를 임의로 사용할 수 있다. 본 발명에 사용할 수 있는 양쪽성 계면활성제를 예를 들면 지방족 이차 및 삼차 아민의 유도체(여기서, 지방족 라디칼은 직쇄 또는 분지쇄일 수 있으며, 지방족 치환체 중 하나는 탄소수 약 8 내지 약 18을 함유하며, 하나는 음이온 수 가용성 그룹, 예를 들면 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트, 또는 포스포네이트를 함유한다)로 광범위하게 기술되는 것을 포함한다.
본 발명의 양쪽성 계면활성제는 하기 화학식 (6)으로 나타낸 것과 같은 이미다졸리늄 양쪽성 계면활성제를 포함한다:
상기식에서, R1은 C8-C22알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 C12-C16이고, R2는 수소 또는 CH2CO2M2이고, R3은 CH2CH2OH 또는 CH2CH2OCH2CH COOM이고, R4는 수소, CH2CHOH 또는 CH2CH2OCH2CH2COOM이고, Z는 CO2M 또는 CH2CO2M이고, n은 2 또는 3, 바람직하게는 2이고, M은 수소 또는 양이온, 예를 들면 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄, 또는 알칸올 암모늄이다.
상기 유형의 적합한 물질은 상품명 MIRANOL로 시판하며 종의 복합 혼합물을 포함하는 것으로 생각되고, R2에 수소를 가질 수 있는 종에 있엇, pH에 따라 양자화 및 비양자화된 종으로 존재할 수 있다. 그의 이미다졸리늄 양쪽성 계면활성제는 이미다졸리늄 중간체에 의해 유도될 수 있다. 그러나, 당해 분야의 숙련가들에게는 이미다졸리늄에 의해 반드시 유도될 필요가 없다고 생각될 것이다.
화학식 (7)의 바람직한 양쪽성 계면활성제로는 모노카복실레이트 및 디카복실레이트가 있다. 이들 물질을 예를 들면 코코암포카복시프로피오네이트, 코코암포카복시프로피온산, 코코암포카복시글리시네이트(다른 말로는 코코암포디아세테이트로 부름) 및 코코암포아세테이트가 있다.
본 발명의 이미다졸리늄 유도체 성분을 제공하는 특정 상업적 생성물은 등록 상표 MIRANOL C2M CONC. N.P., MIRANOL C2M CONC. O.P., MIRANOL C2M SF, MIRANOL CM SPECIAL, MIRANOL ULTRAD(Miranol, Inc.); ALKATERIC 2CIP(Alkaril Chemicals); AMPHOTERGE W-2(Lonza, Inc.); MONATERIC CDX-38, MONATERIC CSH-32(Mona Industries); REWOTERIC AM-2C(Rewo Chemical Group) 및 SCHEROTERIC MS-2(Scher Chemicals)로 시판된 것을 포함한다.
양쪽성 계면활성제는 또한 화학식 (7)의 아미노알카노에이트 및 화학식 (8)의 아미노알카노에이트 및 이의 혼합물을 포함한다.
R-NH(CH2)nCOOM
R-N[(CH2)mCOOM]2
상기식에서, n 및 m은 4의 수이고, R은 C8-C22알킬 또는 알케닐이고, M은 수소, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄 또는 알카놀암모늄이다.
상기 양쪽성 계면활성제를 예를 들면 n-알킬아미노프로피오네이트 및 n-알킬 이미노디프로피오네이트가 있다. 이러한 물질은 헨켈에서 등록 상표 DERIPHAT로 및 미라놀, 인코포레이티드에서 MIRATAINE으로 시판한다. 구체예를 들면 N-라우릴-베타-아미노 프로피온산 또는 그의 염 및 N-라우릴-베타-이미노-디프로피온산 또는 그의 염이 있다.
사용할 수 있는 기타 양쪽성 계면활성제는 하기 화학식 (9)로 나타낸 것을 포함하는, 베타인 계면활성제를 포함한다:
상기식에서,
R1은 COOM 및으로 구성된 군중에서 선택된 구성원이고,
R2는 C1-C3알킬 또는 하이드록시(C1-C3)알킬이고,
R3은 C1-C3알킬 또는 하이드록시(C1-C3)알킬이고,
R4는 수소 및 C1-C3알킬로 구성된 군중에서 선택된 구성원이고,
R5는 C8-C20알킬 또는 알케닐이고,
Y는 C1-C3알킬이고,
m은 2 내지 7의 정수이고,
n은 1 또는 0의 정수이고,
M은 수소, 또는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 양이온 금속, 암모늄, 또는 알카놀아미드와 같은 양이온이다.
알킬 또는 하이드록시알킬이란 용어는 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 하이드록시프로필, 하이드록시에틸 등과 같은 직쇄 또는 분지쇄, 포화, 지방족 탄화수고 라디칼 및 치환된 탄화수소 라디칼을 의미한다.
비이온 계면활성제
비이온 세정 계면활성제를 또한 본 발명에 임의로 사용할 수 있다. 비이온 계면활성제는 알킬렌 옥사이드 그룹(친수성 특성)을 유기 소수성 화합물로 축합하여 제조한 화합물로 광범위하게 정의한 것으로 포함하며, 이것은 특성상 지방족 또는 알킬 방향족일 수 있다. 바람직한 비이온 세정 계면활성제를 예를 들면
1. 알킬 페놀의 폴리에틸렌 옥사이드 축합물, 예를 들면 직쇄 또는 분재쇄 형태에 탄소수 약 6 내지 약 20을 함유하는 알킬 그룹을 갖는 알킬 페놀을 에틸렌 옥사이드로 축합한 반응 생성물, 상기 에틸렌 옥사이드는 알킬 페놀 몰당 에틸렌 옥사이드 약 10 내지 약 60 몰과 같은 양으로 존재한다.
2. 에틸렌 옥사이드를 프로필렌 옥사이드와 에틸렌 디아민 생성물을 반응시켜 생성된 생성물로 축합하여 유도한 계면활성제.
3. 직쇄 또는 분지쇄 형태에 탄소수 약 8 내지 약 18을 갖는 지방족 알콜을 에틸렌 옥사이드로 축합한 축합 생성물, 예를 들면 코코넛 알콜 몰당 에틸렌 옥사이드 약 10 내지 약 30 몰을 갖는 코코넛 알콜 에틸렌 옥사이드 축합물, 코코넛 알콜 분획은 탄소수 약 10 내지 약 14를 갖는다.
4. 하기 화학식에 상응하는 장쇄 3차 아민 옥사이드:
R1R2R3N→O
상기식에서, R1은 탄소수 약 8 내지 약 18의 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시 알킬 라디칼, 에틸렌 옥사이드 잔기 약 0 내지 약 10 및 글리세릴 잔기 약 0 내지 약 1을 함유하고, R2및 R3은 탄소수 약 1 내지 약 3 및 하이드록시 그룹 약 0 내지 약 11을 함유하고, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 하이드록시에틸, 또는 하이드록시프로필 라디칼이고, 화학식에서 화살표는 반극성 결합의 통성적인 표시이다.
5. 하기 화학식에 상응하는 장쇄 3차 포스핀 옥사이드:
RR'R''P→O
상기식에서, R은 탄소수 약 8 내지 약 18의 쇄 길이, 에틸렌 옥사이드 잔기 0 내지 약 10 및 글리세릴 잔기 0 내지 약 1을 함유하는 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시알킬 라디칼을 함유하고, R' 및 R''는 각각 탄소수 약 1 내지 약 3을 함유하는 알킬 또는 모노하이드록시알킬 그룹이다.
6. 탄소수 약 1 내지 약 3의 하나의 단쇄 알킬 또는 하이드록시 알킬 라디칼(보통 메틸) 및 탄소수 약 8 내지 약 20, 에틸렌 옥사이드 잔기 0 내지 약 10 및 글리세릴 잔기 0 내지 약 1을 함유하는 알킬, 알케닐, 하이드록시 알킬, 또는 케토 알킬 라디칼을 포함하는 하나의 소수성 장쇄를 함유하는 장쇄 디알킬 설폭사이드.
7. 알킬 폴리글리코사이드와 같은 알킬 폴리사카라이드(APS) 계면활성제. 상기 계면활성제는 본원에 참고로 인용한 미국 특허 제 4,565,647 호(Llenado, 1986년 1월 21일 허여됨)에 기술되어 있으며, 이것은 탄소수 약 6 내지 약 30을 갖는 소수성 그룹 및 친수성 그룹으로 폴리사카라이드(예를 들면, 폴리글리코사이드)를 갖는 APS 계면활성제를 기술한다. 임의로, 소수성 잔기와 친수성 잔기를 결합시키는 폴리알킬렌-옥사이드 그룹이 있을 수 있다. 알킬 그룹(즉, 소수성 잔기)은 포화 또는 불포화, 분지 또는 비분지 및 비치환 또는 치환될 수 있다(예를 들면, 하이드록시 또는 환상 고리로).
8. 화학식 R(O)OCH2CH(OH)CH2(OCH2CH2)nOH의 에스테르와 같은 폴리에틸렌 글리콜(PEG) 글리세릴 지방산 에스테르(여기서, n은 약 5 내지 약 200, 바람직하게는 약 20 내지 약 100이고, R은 탄소수 약 8 내지 약 20을 갖는 지방족 하이드로카빌이다).
9. 하기 화학식의 폴리하이드록시 지방산 아미드:
상기식에서, R1은 H, 2-C1-C4하이드로카빌, 2-하이드록시 에틸, 2-하이드록시 프로필 또는 그의 혼합물, 바람직하게는 C1-C4알킬, 더욱 바람직하게는 C1또는 C2알킬, 가장 바람직하게는 C1알킬(즉, 메틸)이고, R2는 C5-C31하이드로카빌 잔기, 바람직하게는 직쇄 C7-C19알킬 또는 알케닐, 더욱 바람직하게는 직쇄 C9-C17알킬 또는 알케닐, 가장 바람직하게는 직쇄 C11-C15알킬 또는 알케닐, 또는 그의 혼합물이고, Z는 쇄에 직접 결합된 적어도 3개의 하이드록실을 갖는 선형 하이드로카빌 쇄를 갖는 폴리하이드록시하이드로카빌 잔기 또는 그의 알콕시화 유도체(바람직하게는 에톡시화 또는 프로폭시화 유도체)이다. Z는 환원성 아미노화 반응에서 환원 당으로부터 유래되는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 Z는 글리시틸 잔기이다. 적합한 환원당은 글루코즈, 프럭토즈, 말토즈, 락토즈, 갈락토즈, 만노즈 및 자일로즈를 포함한다. 원료 물질로, 상기에서 열거한 개병 당 뿐 아니라 고 덱스트로즈 옥수수 시럽, 고 프럭토즈 옥수수 시럽, 및 고 말토즈 옥수수 시럽을 사용할 수 있다. 이들 옥수수 시럽은 Z에 대해 당 성분의 혼합물을 생상할 수 있다. 결코 다른 적합한 원료 물질을 배제하는 것으로 생각되서는 안 된다. Z는 -CH2-(CHOH)n-CH2OH, -CH(CH2OH)-(CHOH)n-1-CH2OH, -CH2-(CHOH)2(CHOR')(CHOH)-CH2OH로 구성된 군중에서 선택되는 것이 바람직할 것이고, n은 합하여 3 내지 5의 정수이고, R'은 H 또는 환상 또는 지방족 모노사카라이드 및 그의 알콕시화 유도체이다. 가장 바람직한 것은 n이 4, 특히 -CH2-(CHOH)4-CH2OH인 글리시틸이다.
상기 화학식에서, R1은 예를 들면 N-메틸, N-에틸, N-프로필, N-이소프로필, N-부틸, N-2-하이드록시 에틸, 또는 N-2-하이도록시 프로필일 수 있다.
R2-CO-N는 예를 들면 코카미드, 스테아르아미드, 올레아미드, 라우르아미드, 미리스트아미드, 카프리아미드, 팔미트아미드, 탈로우아미드 등일 수 있다.
Z는 1-데옥시글루시틸, 2-데옥시프럭티틸, 1-데옥시말티틸, 1-데옥시아티틸, 1-데옥시갈락티틸, 1-데옥시만니틸, 1-데옥시말토트리오티틸 등일 수 있다.
다가 지방산 아미드는 예를 들면 1959년 2월 18일 토마스 헤들리 앤 캄파니(Thomas Hedley Co. Ltd.)에 의해 공개된 영국 특허 명세서 제 809,060 호, 1960년 12월 20일 이. 알. 윌슨(E. R. Wilson)에게 허여된 미국 특허 제 2,965,576 호 및 1955년 3월 8일 안토니 엠. 슈발츠(Anthony M. Schwaltz)에게 허여된 미국 특허 제 2,703,798 호, 및 1934년 12원 25일 피고트(Piggott)에게 허여된 미국 특허 제 1,985,424 호에 기술되어 있으며, 이들 각각은 본원에 참고로 인용하였다.
사용했을 때, 임의의 양쪽성 및 비이온 계면활성제는 전형적으로는 약 0.05% 내지 약 20%, 더욱 전형적으로는 약 0.1% 내지 약 10%, 바람직하게는 약 0.5% 내지 약 5%의 양으로 존재하며, 이보다 많거나 적은 양을 사용할 수 있다.
미립자 비들방지제
샴푸 조성물은 또한 하나 이상의 미립자 비듬방지제를 함유한다. 두피의 비듬을 억제하기 위한 안전 효과량의 비듬방지 활성제를 사용한다. 미립자 비듬방지제로는 예를 들면 활, 황화 셀레늄 및 피리딘티온 염이 있다. 1-하이드록시-2-피리딘티온 및 셀레늄 디설파이드의 중금속 염이 바람직하다. 미립자 비듬방지제는 결정성 형태이고, 조성물에 용해되지 않는다. 일반적으로, 미립자 비듬방지제는 조성물의 약 0.1 내지 약 5 중량%, 바람직하게는 약 0.3 중량% 내지 약 2 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 조성물을 모발을 샴푸하는데 사용할 때 비듬을 방지하기 위해 안전 효과량을 사용하는 한 사용된 특정량은 중요하지 않다.
미립자 비듬방지제는 용량 평균 입자 크기 약 0.35 μ 내지 약 5 μ, 바람직하게는 약 0.40 μ 내지 약 3 μ, 더욱 바람직하게는 약 0.45 μ 내지 약 2 μ를 갖는다. 용량 평균 입자 크기는 헬륨 네온 레어지 빈(632.8 ㎚) 및 50 와트 텅스텐 램프 또는 등가물을 사용하여 프라운호퍼 및 미에 광 산란 이론을 적용하는 전방 레이저 광 산란 장비에 의해 결정한다. 적합한 장비를 예를 들면 호리바 LA 910 광 산란 입자 크기 분석기(Horiba Ltd. Kyoto, Jpapn)을 포함한다. 바람직하게는 입자의 적어도 약 50%가 상기 수치 범위 안의 입자 크기를 가질 것이며, 더욱 바람직하게는 입자의 적오도 약 75%가 상기 수치 범위 안의 입자 크기를 가질 것이다.
황화 셀레늄은 상업적으로 중요한 품목이다. 황화 셀레늄은 일반적으로 1 목의 셀레늄과 2 몰의 황을 갖는 화합물로 여겨진다. 그러나, 환상 구조, SexSy의 형태를 취할 수 있다(여기서, x + y = 8).
1954년 11월 16일 허여된 발드윈(Baldwin) 등의 미국 특허 제 2,694,668 호; 1984년 10월 6일 허여된 카프랄(Kapral)의 미국 특허 제 3,152,046 호; 1978년 5월 16일 허여된 브링크만(Brinkman)의 미국 특허 제 4,089,945 호 및 1989년 12월 12일 허여된 웨쩨엘(Wetzel)의 미국 특허 제 4,885,107 호는 비듬방지 샴푸 조성물에서 활성 성분으로 이황화 셀레늄을 기술하고 있으며, 이들 모두는 본원에 참고로 이용하였다.
사용하는 경우, 황화 셀레늄은 본 발명의 샴푸 조성물에 약 0.1 중량% 내지 약 5.0 중량%, 바람직하게는 약 0.3 중량% 내지 약 2.5 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.5 중량% 내지 약 1.5 중량%의 양으로 존재하는 것이 전형적이다.
바람직한 피리딘티온 비듬방지제는 수 불용성 1-하이드록시-2-피리딘티온염이다. 바람직한 염은 아연, 주석, 카드뮴, 마그네슘, 알루미늄 및 지르코늄과 같은 중금속으로부터 제조한다. 가장 바람직한 금속은 아연이다. 가장 바람직한 활성제는 흔히 아연 피리딘티온(ZPT)로 부르는 1-하이드록시-2-피리딘티온의 아연 염이다. 나트륨과 같은 기타 양이온이 또한 적합할 수 있다. 이들 유형의 비듬방지제는 당해 분야에 잘 알려져 있다. 1-하이드록시-2-피리딘티온 염은 1957년 10월 15일 번스타인(Bernstein)에게 허여된 미국 특허 제 2,809,971 호; 1996년 2월 22일 허여된 카스텐(Karsten) 등의 미국 특허 제 3,236,733 호; 1973년 8월 21일 파란(Parran)에게 허여된 미국 특허 제 3,753,196 호; 1973년 9월 25일 허여된 파란의 미국 특허 제 3,761,418 호; 1982년 8월 17일 허여된 볼리치(Bolich)의 미국 특허 제 4,345,080 호; 1982년 4월 6일 볼리치(Bolich) 등의 미국 특허 제 4,323,683 호; 1983년 4월 12일 허여된 볼리치의 미국 특허 제 4,379,753 호 및 1984년 9월 11일 허여된 윙클러(Winkler)의 미국 특허 제 4,470,982 호에 비듬방지 샴푸에 사용하기 위해 기술되어 있으며, 이들 모두는 본원에 참고로 인용하였다.
피리딘티온 염은 샴푸 조성물의 바람직하게는 약 0.1 중량% 내지 약 3 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.3 중량% 내지 약 2 중량%의 양으로 사용한다.
다른 미립자 비듬방지 활성제는 황을 포함한다. 황은 조성물의 바람직하게는 양 1 중량% 내지 약 5 중량%, 더욱 바람직하게는 약 2 중량% 내지 약 5 중량%의 양으로 비듬방지제로 사용되는 것이 전형적이다.
작은 입자 크기의 비듬방지제를 상업적인 공급처로부터 얻을 수 있거나 또는 이보다 큰 입자 크기의 물질을 전단 밀링에 의해 원하는 크기로 감소시키므로써 제조할 수 있다.
양이온 중합체
본 발명의 조성물은 미립자 비듬방지제를 위한 안정제를 적어도 약 0.01 중량%, 바람직하게는 약 0.01 중량% 내지 약 1 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.02 중량% 내지 약 0.5 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.02 중량% 내지 약 0.1 중량%의 양으로 함유한다. 비듬방지제 현탁액의 안정선 잇점이 달성되는 한 이보다 적은 양도 고려된다. 본 발명의 안정제는 샴푸 용해서 양이온 중합체이다. 매우 작은 양의 상기 양이온 중합체가 통상의 현탁 기법에 비해 실질적으로 감소된 부착 교화조건과 함께 본 발명의 샴푸 조성물에서 미립자 비듬방지제의 현탁 안정성을 효과적으로 도와줄 수 있음을 밝혀냈다. 샴푸 가용성이 의미하는 것은 양이온 중합체가 샴푸에 용해된 형태로 존재함을 의미한다. 샴푸 가용성 양이온 중합체는 유리이온 형태로 존재할 수 있거나 또는 음이온 계면활성제에 의해 형성된 코아세르베이트로 존재할 수 있다.
양이온 중합체, 음이온 계면활성제 및 미립자 비듬방지제를 최종 조성물에 혼입하는 순서가 최종 생성물에 영향을 미치는 것으로 밝혀졌다. 특히, 양이온 중합체 또는 미립자 비듬방지제(둘다는 제외함) 중 어느 하나를 수중에서 음이온 계면활성제와 혼합한 후 양이온 중합체 및 비듬방지제를 수성 조건하에서, 조성물을 준비하는 동안 함께 혼합한다. 환언하면, 미립자 비듬방지제 및 양이온 중합체가 수성 조건(즉, 수중에서)하에 함께 존재할 때, 음이온 계면활성제가 존재해야 한다. 이것은 음으로 하전된 비듬방지 입자 또는 음으로 하전된 분산 보조제, 예를 들면 음이온 중합체 또는 분산 보조제에 의해 분산된 비듬 방지 입자의 경우 특히 중요하다. 또한 양이온 중합체 및 비듬방지제를 건조 조건하에 혼합한 후 이 혼합물을 수성 음이온 계면활성제 용액에 가함을 포함하는 광범위한 대안적 조건하에 조성물을 제조하는 것은 본 발명 및 상기 설명의 범위내에 있다고 생각된다. 특히 미립자 비듬방지제 및 음이온 계면활성제를 함유하는 중간 수성 혼합물을 제조한 후 양이온 중합체를 가하는 것이 바람직한다.
본 발명의 바람직한 태양에서, 본 발명의 조성물은 (a) (ⅰ) 음이온 계면활성제, (ⅱ) 물, 및 (ⅲ) 미립자 비듬방지제 또는 양이온 중합체, 바람직하게는 미립자 비듬방지제를 포함하는 수성 혼합물을 제조하는 단계; 및 (b) (a) 단계 후 남아 있는 것이 무엇이든지 (a)의 수성 혼합물에 미립자 비듬방지제 또는 양이온 중합체를 혼합하는 단계에 의해 제조한다.
성분들, 바람직한 성분들 및 양 및 바람직한 양은 전술한 바와 같다. 본 발명에 의해 제조한 조성물은 결정성 현탁제, 음이온 중합체성 현탁제, 양쪽성 중합체성 현탁제 및 비이온 중합체성 현탁제가 거의 없는 것이 바람직하다.
수성 계면활성제 용액에 존재하는 음이온 계면활성제의 농도는 양이온 중합체와 비듬방지제의 응집을 방지하기에 충분해야 한다. 일반적으로, 음이온 계면활성제:양이온 중합체의 중량비는 적어도 약 20:1, 바람직하게는 적어도 약 50:1, 더욱 바람직하게는 적어도 약 100:1, 가장 바람직하게는 적어도 약 200:1이어야 한다.
본 발명의 양이온 중합체는 적어도 약 50,000, 전형적으로 적어도 약 100,000 및 약 천만 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 것이 일반적이다. 바람직하게는, 분자량은 약 200,000 내지 약 500만, 더욱 바람직하게는 약 40만 내지 약 100만이다. 양이온 중합체는 4급 암모늄 또는 양이온 아미노 잔기와 같은 양이온 질소 함유 잔기 또는 이의 혼합물을 가질 것이다.
양이온 전하 밀도는 바람직하게는 적어도 약 0.3 meq/g, 더욱 바람직하게는 적어도 약 0.6 meq/g, 더한층 바람직하게는 적어도 약 1.0 meq/g, 가장 바람직하게는 적어도 약 1.2 meq/g이다. 일반적으로 양이온 전하 밀도는 약 4 meq/g 이하, 더욱 바람직하게는 약 3.0 meq/g 이하일 것이다. 양이온 중합체의 양이온 전하 밀도는 케달 방법(Kjeldahl Method)에 따라 측정할 수 있다. 당해 분야의 숙련가들은 최종 생성물에서 아미노 함유 중합체의 전하 밀도가 아미노 그룹의 pH 및 등전점에 따라 변할 수 있다고 인식할 것이다. 전하 밀도는 의도한 용도의 pH에서 상기 한도 내에 있어야 한다.
수용성 한계에 부합하는 한 임의의 음이온 반대이온을 양이온 중합체에 사용할 수 있다. 적합한 반대이온은 할로겐화물(예를 들면, Cl, Br, I 또는 F, 바람직하게는 Cl, Br, 또는 I), 설페이트, 및 메틸설페이트를 포함한다. 상기 열거가 총 망라한 것으로 생각되지 않기 때문에 다른 것을 또한 사용할 수 있다.
양이온 질소 함유 잔기는 양이온 모발 콘디셔닝 중합체의 전체 단량체 단위의 분획으로 또는 치환체로 일반적으로 존재할 것이다. 따라서, 양이온 중합체는 사급 암모늄 또는 양이온 아민 치환된 단량체 단위의 공중합체, 삼원공중합체 등 및 본원에서 스페이서 단량체 단위로 언급한 다른 비양이온 단위를 포함할 수 있다. 상기 중합체는 당해 분야에 공지되어 있으며, 문헌[CTFA Cosmetic Ingredient Dictionary, 3rd edition, edited by Estrin, Crosley, and Haynes, (The Cosmetic, Toiletry, and Fragrance Association, Inc., Washington, D. C., 1982)]에서 찾을 수 있다.
적합한 양이온 중합체는 예를 들면 양이온 아민 또는 4급 암모늄 작용기를 갖는 비닐 단량체와 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 알킬 및 디알킬 아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 메타크릴아미드, 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트, 비닐 카프로락톤 및 비닐 피롤리돈과 같은 수용성 스페이서 단량체의 공중합체를 포함한다. 알킬 및 디알킬 치환된 단량체는 바람직하게는 C1-C7알킬 그룹, 더욱 바람직하게는 C1-C3알킬 그룹을 갖는다. 기타 적합한 스페이서 단량체는 비닐 에스테르, 비닐 알콜(폴리비닐 아세테이트를 가수분해하여 제조함), 말레산 무수물, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜을 포함한다.
양이온 아민은 특정 종 및 샴푸의 pH에 따라 일차, 이차, 또는 삼차 아민일 수 있다. 일반적으로, 이차 및 삼차 아민, 특히 삼차 아민이 바람직하다.
아민 치환된 비닐 단량체는 아민 형태로 중합될 수 있으며, 그후 임의로 사원화 반응에 의해 암모늄으로 전환될 수 있다. 아민도 또한 중합체를 형성한 후 비슷하게 사원화될 수 있다. 예를 들면, 3차 아민 작용기를 화학식 R'X(여기서, R'는 단쇄 알킬, 바람직하게는 C1-C7알킬, 더욱 바람직하게는 C1-C3알킬이고, X는 사원화된 암모늄과 수용성 염을 형성하는 음이온이다)의 염과의 반응에 의해 사원화할 수 있다.
적합한 양이온 아미노 및 사급 암모늄 단량체는 예를 들면 디알킬아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬, 메타크릴레이트, 모노알킬아미노알킨 아크릴레이트, 모노알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 트리알킬 메타크릴록시알킬 암모늄 염, 트리알킬 아크릴록시알킬 암모늄 염, 디알릴 사급 암모늄 염 및 피리디늄, 이미다졸리늄 및 사원화된 피롤리돈, 예를 들면 알킬 비닐 이미다졸리늄, 알킬 비닐 피리디늄, 알킬 비닐 피롤리돈 염과 같은 환상 양이온 잘소 함유 고리를 갖는 비닐 사급 암모늄 단량체로 치환된 비닐 화합물을 포함한다. 이들 단량체의 알킬 부분은 C1-C3알킬, 더욱 바람직하게는 C1및 C2알킬과 같은 저급 알킬이 바람직하다.
본원에서 사용하기 적합한 아민 치환된 비닐 단량체는 디알킬 아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 디알킬아미노알킬 아크릴아미드 및 디알킬아미노알킬 메타크릴아미드를 포함하며, 알킬 그룹은 바람직하게는 C1-C7하이드로카빌, 더욱 바람직하게는 C1-C3알킬이다.
본 발명의 양이온 중합체는 아민 및/또는 사급 암모늄 치환된 단량체 및/또는 상용성 스페이서 단량체로부터 유도된 단량체 단위의 혼합물을 포함할 수 있다.
적합한 양이온 모발 컨디셔닝 중합체는 에를 들면 BASF Wyandotte Corp.(Parsippany, NJ, USA)에서 LUVIQAT 상표명(예를 들면, LUVIQAT FC 370)으로 시판하는 것과 같은 1-비닐-2-피롤리돈 및 1-비닐-3-메틸이미다졸리늄 염(예를 들면, 염화물 염)의 공중합체(당해 산업에서 Cosmetic, Toiletry and Fragrance Association(CTFA)에 의해 폴리쿼터늄-16으로 불리운다); ISP Corporation(Wayne, NJ, USA)에서 GAFQUAT 등록상표(예를 들면, GAFQUAT 755N)으로 시판하는 것과 같은 1-비닐-2-피롤리돈 및 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합체(당해 산업에서 CTFA에 의해 폴리쿼터늄-11로 부름); 예를 들면 폴리쿼터늄 6 및 폴리쿼터늄 7로 각각 당해 산업(CTFA)에서 부르는 디메틸디알릴암모늄 염화물 단독중합체 및 아크릴아미드와 디메틸디알릴암모늄 염화물의 공중합체를 포함하는 양이온 디알릴 사급 암모늄 함유 중합체; 및 본원에 참고로 인용한 미국 특허 제 4,009,256 호에 기술된 바와 같이 탄소수 3 니재 5를 갖는 불포화된 카복실산의 단독중합체 및 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산 염을 포함한다.
사용할 수 있는 기타 양이온 중합체는 양이온 셀룰로즈 유도체 및 양이온 전분 유도체와 같은 폴리사카라이드 중합체를 포함한다.
본원에 사용하기 적합한 양이온 폴리사카라이드 중합체 물질은 하기 화학식의 것을 포함한다:
상기식에서, A는 전분 또는 설룰로즈 무수글루코즈 잔기와 같은 무수글루코즈 잔류 그룹이고, R은 알킬렌 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌, 또는 하이드록시알킬렌 그룹, 또는 그의 혼합물이고, R1, R2및 R3은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬, 또는 알콕시아릴 그룹이고, 각각의 그룹은 탄소수 약 18개 이하를 함유하고, 각 양이온 잔기당 총 탄소수(즉, R1, R2및 R3에서 탄소 원자의 합)는 약 20 이하가 바람직하고, X는 전술한 바와 같은 음이온 반대이온이다.
양이온 셀룰로즈는 트리메틸 암모늄 치환된 에폭사이드와 반응한 하이드록시 에틸 셀룰로즈 의 염으로서 폴리머 JRTN, LRTN및 LKTN시리즈의 중합체로 애머숄 코포레이션(Amerchol Corp.)(Edison, NJ, USA)에서 시판하며, 당해 산업(CTFA)에서는 폴리쿼터늄 10으로 부른다. 또다른 유형의 양이온 셀룰로즈는 라우릴 디메ㅌ칠암모늄 치환된 에폭사이드와 반응한 하이드록시에틸 셀룰로즈의 중합체성 사급 암모늄 염으로 당해 산업(CTFA)에서는 폴리쿼터늄 24로 부르는 것을 포함한다. 이들 물질은 애머숄 코포레이션에서 등록 상표 폴리머 LM-200으로 시판한다.
사용할 수 있는 다른 양이온 중합체는 구아 하이드록시프로필트리모늄 염화물과 같은 양이온 구아 검 유도체(재구아 T-8 시리즈로 셀라니즈 코포레이션에서 입수할 수 있다)를 포함한다. 기타 물질은 4급 질소 함유 셀룰로즈 에테르(예를 들면, 본원에 참고로 인용한 미국 특허 제 3,962,418 호에 기술된 바와 같음) 및 에테르화된 셀룰로즈와 전분의 공중합체(예를 들면, 본원에 참고로 인용한 미국 특허 제 3,958,581 호에 기술된 바와 같음)를 포함한다. 특히 바람직한 양이온 중합체는 폴리쿼터늄 10을 포함한다.
거의 없는 통상의 현탁제
본 발명의 조성물은 결정성 현탁제 및 음이온, 양쪽성 및 비이온 중합체성 농후화제가 거의 없는 것이 바람직하다. 일반적으로, 거의 없는이 의미하는 것은 상기 현탁제의 양이 약 0.5% 이하, 더욱 바람직하게는 약 0.3% 이하, 더한층 바람직하게는 약 0.1% 이하, 가장 바람직하게는 0% 또는 약 0.05% 이하를 의미한다. 상기 통상의 현탁제는 존재하지 않는 것이 바람직하거나 또는 이들이 비듬방지제 입자에 현탁 안정성을 제공하지 않을 정도로 충분히 적은 양으로 단지 존재해야 한다.
결정성 현탁제는 장쇄(예를 들면, C8-C22, 바람직하게는 C14-C22, 더욱 바람직하게는 C16-C22) 지방족 그룹, 즉 장쇄 아실 유도체 물질 및 장쇄 아민 옥사이드 뿐 아니라 상기 물질의 혼합물을 포함한다. 여기에는 에틸렌 글리콜 장쇄 에스테르, 장쇄 지방산의 알칸올 아미드, 장쇄 지방산의 장쇄 에스테르, 글리세릴 장쇄 에스테르, 장쇄 알칸올아미드의 장쇄 에스테르 및 장쇄 알킬 디메틸 아민 옥사이드 및 이들의 혼합물이 포함된다. 통상의 현탁제는 예를 들면 탄소수 바람직하게는 약 14 내지 약 22, 더욱 바람직하게는 16 내지 22를 갖는 지방산의 에틸렌 글리콜 에스테르를 포함한다. 다른 현탁제는 스테아르산 모노에탄올아미드, 스테아르산 디에탄올아미드, 스테아르산 모노이소프로판올아미드 및 스테아르산 모노에탄올아미드 스테아레이트와 같은 지방산과 알칸올 아미드의 C16-C22, 알칸올 아미드를 포함한다. 기타 장쇄 아실 유도체는 장쇄 지방산의 장쇄 에스테르(예를 들면, 스테아릴 스테아레이트, 세틸 팔미테이트); 글리세릴 에스테르(예를 들면, 글리세릴 디스테아레이트) 및 장쇄 알칸올 아미드의 장쇄 에스테르(예를 들면, 스테아르마이드 디에탄올아미드 디스테아레이트, 스테아르아미드 모노에탄올아미드 스테아레이트)를 포함한다. 결정성 현탁제는 또한 알킬(C16-C22)디메틸 아민 옥사이드, 예를 들면 스테아릴 디메틸 아민옥사이드와 같은 장쇄 아민 옥사이드를 포함한다. 다른 결정성 현탁제는 N,N-디하이드로카빌(C12-C22)아미도 벤조산과 같은 장쇄 아실 유도체 및 그의 가용성 염(예를 들면, Na 및 K 염)을 포함한다.
중합체성 현탁제는 본 발명의 수성 계면활성제 조성물에서 농후화제로 작용하는 임의의 음이온성, 비이온, 또는 양쪽성 중합체성 물질을 포함한다. 여기에는 예를 들면, 본원에 참고로 인용한, 1957년 7월 2일 브라운(Brwon)에게 허여된 미국 특허 제 2,798,053 호에 기술된 바와 같은 폴리알릴슈크로즈로 가교결합된 아크릴산의 공중합체와 같은 카복시비닐 중합체가 있다. 카복시비닐 중합체는 단량체성 올레핀형으로 불포화된 카복실산 및 다기 알콜의 폴리에테르(여기서, 다가 알콜은 적어도 3개의 수산기가 부착되는 적어도 4개의 탄소 원자를 함유하고, 폴리에테르는 분자당 알케닐 그룹을 하나 이상 함유한다)를 전체 단량체의 중량을 기준으로 약 0.01 중량% 내지 약 10 중량% 포함하는 단량체 혼합물의 인터폴리머이다.
다른 중합체성 현탁제는 조성물에 겔같은 점도를 부여할 수 있는 것, 예를 들면 수용성 또는 셀룰로즈 에테르와 같은 콜로이드적으로 수용성인 중합체(예를 들면, 카복시메틸셀룰로즈 하이드록시에틸 셀를로즈), 구아 검, 크산탄 검, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 피롤리돈, 하이드록시프로필 구아 검, 전분 및 전분 유도체가 있다. 다른 중합체성 농후화제는 아크릴산 및/또는 아크릴레이트 중합체, 특히 아크릴산/C10-C30아크릴레이트 가교결합된 중합체, 예를 들면 카보머 중합체를 포함한다. 중합체성 현탁제는 또한 소수성으로 변형된 수용성 중합체, 특히 하이드록시에틸 셀룰로즈와 같은 C12-C22알킬 치환된 셀룰로즈 중합체를 포함한다. 상기 중합체를 계면활성제 또는 수용성 중합체와 합하여 농후화를 이룩하고, 후속단계로 현탁을 이룩할 수 있다. 상기 중합체는 예를 들면, 볼리치(Bolich) 등에게 1992년 4월 21일 허여된 미국 특허 제 5,106,609 호, 볼리치 등에게 1992년 3월 31일 허여된 미국 특허 제 5,100,658 호, 볼리치 등에게 1992년 4월 14일 허여된 미국 특허 제 5,104,646 호 및 안셔-잭슨(Ansher-Jackson) 등에게 1992년 3월 31일 허여된 미국 특허 제 5,100,657 호에 기술되어 있으며, 이들 모두는 본원에 참고로 인용하였다.
물
본 발명의 조성물은 물 약 50 중량% 내지 약 91.89 중량%, 바람직하게는 약 55 중량% 내지 약 89.68 중량%, 더욱 바람직하게는 약 60 중량% 내지 약 87.68 중량%를 포함할 것이다.
본 발명의 조성물의 pH는 일반적으로 중요하지 않으며, 2 내지 약 10, 바람직하게는 약 3 내지 약 9, 더욱 바람직하게는 약 4 내지 약 8, 가장 바람직하게는 약 5.5 내지 약 7.5의 범위일 수 있다.
콘디셔닝제
피부 또는 모발을 위한 콘디셔닝제를 임의로 본 발명의 조성물에 가할 수 있다. 본원에서 사용하기 위한 콘디셔닝제는 샴푸 가용성 콘디셔닝제 및 결정성 콘디셔닝제를 포함한다.
가용성 콘디셔닝제는 가용성 실리콘 유체, 예를 들면 폴리알콕시 실리콘(예를 들면, 폴리에틸렌 옥사이드 및 폴리(에틸렌/프로필렌) 옥사이드 변형된 폴리알킬실록산(바람직하게는 폴리메틸 실록산), 예를 들면 디메티콘 코폴리올), C8-C18지방산, C8-C18지방산의 C1-C4에스테르, 글리세린 및 기타 다가 알콜, 예를 들면 C3-C6이가 알콜 및 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리에틸렌/폴리프로필렌 글리콜 중합체를 포함할 수 있다.
다양한 이들 콘디셔닝제는 조성물에서 선택한 특정 성분 및 추가 성분의 선택 및 양에 따라, 특히 다른 계면활성제의 유형 및 양, 염 및 물의 양에 따라 특정양까지 조성물에서 용해될 수 있다. 상기 성분의 양은 가해진 전체 양이 조성물에서 가용성이도록 선택하는 것이 바람직하다.
사용할 수 있는 폴리에테르 실록산 공중합체는 예를 들면 폴리에틸렌 옥사이드 변형된 폴리디메틸실록산(예를 들면, 다우 코닝 DC-1248)을 포함하지만, 프로필렌 옥사이드 또는 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 혼합물을 또한 사용할 수 있다. 에틸렌 옥사이드와 폴리프로필렌 옥사이드의 양은 조성물에 용해도를 제공하기에 충분히 높아야 한다.
양이온 계면활성제를 또한 임의 성분으로 사용할 수 있다. 본 발명의 조성물에 유용한 양이온 계면활성제, 특히 콘디셔너 조성물은 본 발명의 수성 조성물에 용해될 때 양으로 하전되는 아미노 또는 사급 암모늄 친수성 잔기를 함유한다. 본원에서 유용한 것 중 양이온 계면활성제는 하기 문헌에 기술되어 있으며, 이를 본원에 참고로 인용한다:[M.C. Publishing Co., McCutcheon's Detergents Emulsifiers, (North Amerocan edition 1979); Schwartz, et al., Surface Active Agents, Their Chemistry and Technology, Nww York: Interscience Publishers; 1964년 11월 3일 힐퍼(Hilfer)에게 허여된 미국 특허 제 3,155,591 호; 1975년 12월 30일 러프린(Laughlin) 등에게 허여된 미국 특허 제 3,929,678 호; 1976년 5월 25일 베일리(Bailey) 등에게 허여된 미국 특허 제 3,959,461 호 및 1983년 6월 7일 볼리치, 쥬니어에게 허여된 미국 특허 제 4,387,090 호].
본원에서 유용한 사급 암모늄 함유 양이온 계면활성제 중에는 하기 화학식의 계면활성제가 있다.
상기식에서, R1-R4는 독립적으로 탄소수 약 1 내지 약 22의 지방족 그룹, 아릴 , 또는 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 하이드록시알킬, 또는 탄소수 약 1 내지 약 22를 갖는 알킬아릴 그룹이고, X는 할로겐, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트 및 알킬설페이트라디칼 중에서 선탠된 음이온이다. 지방족 그룹은 탄소 및 수소 원좌 외에도 에테르 결합 및 아미노 그룹과 같은 기타 그룹을 포함할 수 있다. 장쇄 지방족 그룹, 예를 들면 탄소수 약 12 또는 이보다 많은 수를 갖는 그룹은 포화 또는 불포화될 수 있다.
사급 암모늄 염은 디알킬디메틸-암모늄 염화물을 포함하여, 알킬 그룹은 탄소수 약 12 내지 약 22를 가지며, 수소화 탈로우 지방산(탈로우 지방산은 R1및 R2가 주로 탄소수 16 내지 18을 갖는 사급 화합물을 산출한다)과 같은 장쇄 지방산에서 유도된다. 기타 양이온 계면활성제는 R1-R4라디칼이 알콕시(바람직하게는 C1-C3알콕시), 폴리옥시알킬렌(바람직하게는 C1-C3폴리옥시알킬렌), 알킬아미도, 하이드록시알킬, 알킬에스테르 및 이의 혼합물 중에서 선택된 하나 이상의 친수성 잔기를 함유하는 것을 포함한다. 바람직하게는, 양이온 콘디셔닝 계면활성제는 전술한 범위 안에 놓인 비이온 친수성 잔기 2 내지 약 10개를 함유한다. 본 발명을 위해, 각각의 친수성 아미도, 알콕시, 하이드록시알킬, 알킬에스테르, 알킬아미도 또는 기타 단위는 독특한 비이온 친수성 잔기일 것으로 생각된다. X는 할로겐(특히 염소), 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트, 설포네이트 및 알킬 설페이트 라디칼 중에서 선택되는 것이 바람직한 가용성 염 형성 음이온이다.
본원에서 유용한 기타 사급 암모늄 염은 탈로우 프로판 디암모늄 디클로라이드와 같은 디사급 암모늄 염이다.
일차, 이차 및 삼차 지방 아민의 염이 또한 적합한 양이온 계면활성제 물질이다. 상기 아민의 알킬 그룹은 탄소수 약 12 내지 약 22를 갖는 것이 바람직하며, 치환되거나 비치환될 수 있다. 본원에 유용한 상기 아민은 스테으르아미도 프로필디메틸 아민, 디에틸 아미노 에틸 스테아르아미드, 디메틸 스테아르아민, 디메틸 소야민, 소야민, 미리스틸 아미, 트리데실 아민, 에틸 스테아릴아민, N-탈로우프로판디아민, 에톡시화(E.O. 5몰) 스테아릴아민, 디하이드록시 에틸 스테아릴아민 및 아리키딜베헤닐아민을 포함한다. 적합한 아민 염은 할로겐, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트, 시트레이트, 락테이트 및 알킬 설페이트 염을 포함한다. 상기 염은 스테아릴아민 하이드로클로라이드, 소야민 클로라이드, 스테아릴아민 포메이트, N-탈로우프로판 디아민 디클로라이드 및 스테아르아미도프로필 디메틸아민 시트레이트를 포함한다. 본 발명에 유용한 것에 포함된 양이온 아민 계면활성제는 1981년 6월 23일 나치티갈(Nachtigal)에게 허여된 미국 특허 제 4,275,055 호에 기술되어 있으며, 이를 본원에 참고로 인용한다.
임의 성분
다양한 기타 임의 성분을 하기에 기술한다. 하기 설명은 사실상 예시적이다.
상기 임의 성분은 예를 들면 벤질 알콜, 메틸 파라벤, 프로필 파라벤 및 이미다졸리디닐 우레아와 같은 보존제; 양이온 계면활성제; 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 블록 중합체, 예를 들면 BASF Wyandotte에서 제공한 Pluronic F88; 염화 나트륨, 황산 나트륨과 같은 염, 암모늄 크실렌 설포네이트와 같은 점도 개질제; 프로필렌 글리콜; 폴리비닐 알콜; 에틸 알콜; 시트르산, 숙신산, 인산 및 그의 염과 같은 pH 조절제, 수산화 나트륨, 탄산 나트륨 등; C8-C18모노- 및 디-에탄올 아미드, 특히 코코 모노- 및 디-에탄올 아미드와 같은 발포 촉진제; 향료 및 염료를 포함한다. 이들 임의 성분은 조성물의 약 0.01% 내지 약 10%의 양으로 전형적으로 사용된다. 임의 성분의 상기 목록은 배타적인 것이 아니며, 다른 임의 성분을 사용할 수 있다.
사용 방법
본 발명의 조성물은 모발을 세척하고 두피상에서 비듬을 억제하기 위해 통상의 방식으로 사용한다. 본 발명의 조성물은 또한 세척하고 피부(예를 들면, 일반적으로 겨드랑이 및 가랑이 부위를 포함하는 몸)와 관련된 악취를 억제하는데 효과적일 수 있다. 모발, 두피 또는 몸의 다른 부위를 세척하기 위한 조성물의 효과량, 전형적으로 조성물의 약 1 g 내지 약 20 g을 모발, 두피 또는 다른 부위에 적용하며, 물로 적시는 것이 바람직하고, 그 후 헹군다. 모발에 대한 적용은 모발 및 두피의 대부분 또는 전부가 조성물과 접촉하도록 모발 및 두피를 통해 조성물을 작용시킴을 포함한다.
하기 실시예는 본 발명의 범위 안에서 바람직한 태양을 기술하고 입증한다. 실시예는 단지 에시할 목적으로 나타낸 것이며 본 발명의 많은 변화가 본 발명의 진의 및 범주로부터 벗어나지 않고 가능하다면 본 발명을 제한하는 것으로 해석되지 않는다.
실시예 Ⅰ-ⅩⅩ
하기 실시예는 본 발명의 샴푸 조성물을 예시한다.
조성물은 다음과 같이 제조한다.
지방 알콜, 및/또는 CMEA를 사용한다면, 전체 알킬 설페이트 계면활성제(암모늄 라우레트-3 설페이트(26 중량% 용액으로 가함) 및/또는 암모늄 라우릴 설페이트(25 중량% 용액으로 가함)) 약 1/3 내지 전부를 자켓 혼합 탱크에 가하고 약 65℃로 가열한다. 지방 알콜 및/또는 CMEA를 서서히 진탕하면서 가해 계면활성제 용액을 형성한다. 방부제를 탱크에 가하고, 분산시킨다. 약 35℃로 냉각시킨다. 이어서, 암모늄 라우레트 설페이트, 라우릴 설페이트 및 기타 성분의 나머지를 진탕하면서 가해 확실히 균질한 혼합물을 제조한다. 폴리쿼터늄 10을 최종 혼합물에 가하기 전에 1% 수용액으로 수중에 분산시킨다. 일단 모든 성분을 가하고, 암모늄 크실렌 설포네이트 또는 추가의 나트륨 설페이트를 혼합물에 가해 각각 희석 또는 농후화하여 원하는 제품 점도를 이룩할 수 있다. 바람직한 점도는 25℃에서 약 2500 내지 약 6000 cS의 범위이다(전단 속도 15/s에서 웰즈-브룩필드 원뿔 및 판형 점도계로 측정한다).
실시예의 조성물은 탁월한 사용 모발 세척성, 비누거품 형성, 비듬방지 활성제의 전달 및 비듬 억제를 제공할 수 있다.

Claims (9)

  1. (a) 음이온 세정 계면활성제 8 중량% 내지 40 중량%; (b) 용량 평균 입자 크기 0.35 μ 내지 5 μ를 갖는 미립자 비듬방지제 0.1 중량% 내지 5 중량%; (c) 상기 비듬방지제용 안정제 0.01 중량% 내지 1.0 중량%(상기 안정제는 샴푸 가용성 양이온 중합체이다); (d) 물 50 중량% 내지 91.89 중량%를 포함하는 비듬방지 샴푸 조성물로서, 상기 샴푸 조성물이 결정성 현탁제 및 음이온, 비이온 및 양쪽성 중합체성 현탁제로 구성된 군중에서 선택된 현탁제가 거의 없는 샴푸 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 양이온 중합체가 중량 평균 분자량 적어도 50,000, 바람직하게는 적어도 100,000 및 가장 바람직하게는 200,000 내지 5,000,000을 갖는 비듬방지 샴푸 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 양이온 중합체가 전하 밀도 적어도 0.3 meq/g, 바람직하게는 0.6 meq/g 내지 4 meq/g을 갖는 비듬방지 샴푸 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비듬방지제가 용량 평균 입자 크기 0.4 μ 내지 3 μ을 갖는 비듬방지 샴푸 조성물.
  5. 재 1 항 니재 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비듬방지제가 황, 황화 셀레늄, 피리딘티온 염 및 그의 혼합물로 구성된 군중에서 선택되고, 바람직하게는 상기 비듬방지제가 아연 피리딘티온인 비듬방지 샴푸 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 상기 현탁제를 0.3 중량% 이하 함유하는 비듬방지 샴푸 조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 상기 현탁제를 0.1 중량% 이하, 바람직하게는 0.05 중량% 이하로 함유하는 비듬방지 샴푸 조성물.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 (a) 상기 음이온 세정 계면활성제 10 중량% 내지 30 중량%; (b) 상기 비듬방지제 0.3 중량% 내지 2 중량%; (c) 상기 안정제 0.02 중량% 내지 0.5 중량%를 포함하고, 상기 양이온 중합체가 전하 밀도 적어도 0.3 meq/g을 갖는 샴푸 조성물.
  9. (a) 음이온 세정 계면활성제 8 중량% 내지 30 중량%; (b) 용량 평균 입자 크기 약 0.35 μ 내지 약 5 μ를 갖는 미립자 비듬방지제 0.1 중량% 내지 5 중량%; (c) 상기 비듬방지제용 안정제 0.01 중량% 내지 1.0 중량%(상기 안정제는 샴푸 가용성 양이온 중합체이다); (d) 물 50 중량% 내지 91.89 중량%의 혼합물을 제조함을 포함하는 비듬방지 샴푸 조성물의 제조 방법에 있어서, 상기 미립자 비듬방지제와 상기 양이온 중합체를 음이온 세정 계면활성제 존재하에 수중에서 혼합하고, 상기 조성물이 결정성 현탁제 및 음이온, 비이온 및 양쪽성 중합체성 현탁제가 거의 없는 비듬 방지 샴푸 조성물의 제조 방법.
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