KR19980040952A - 음극선관의 건식전자사진식 스크린제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법 - Google Patents

음극선관의 건식전자사진식 스크린제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 도너와 어셉터의 양쪽의 성질을 지니는 물질을 포함하는 음극선관의 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 이용한 스크린 제조방법을 제공한다. 그 광전도막도포용액은, 상기 광전도막의 조성이, 자외선에 감응하는 물질의 도너와 어셉터로서, n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA) 및 이들의 2 이상의 혼합물로 형성되는 군에서 선택된 0.01 내지 10중량%의 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막도포용액을 제공한다.

Description

음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법
본 발명은 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법에 관한 것으로, 특히 동일한 광전도도를 지니면서도 대전공정에서 코로방전장치에 의한 대전특성이 높은 광전도막도포용액에 관한 것이다.
일반적으로 음극선간은, 도 1에 도시된 바와 같이, 판넬(panel)(12), 펀넬(funnel)(13) 및 네트(14)로 구분되는 진공 벌브(bulb)와, 그 네크(14)내부에 장착되는 전자총(11)과, 판넬(12)의 측벽에 장착되는 새도우마스크(16)를 구비한다.
그 판넬(12)의 면판(18)의 내면에는 형광면(20)이 형성되어 있어, 전자총(11)으로부터 방출된 전자빔(19a)(19b)은 각종 렌즈계에 의해 집속 되고 가속되며, 양극보턴(15)을 통해 인가되는 고전압에 의해 크게 가속되면서 편향요크(17)에 의해 편향되고 새도우마스크(16)에 애퍼처 또는 슬로트(16a)를 통과하여 형광면(20)에 주사된다.
형광면(20)은 면판(18)의 배면에 형성되는데, 칼라의 경우 도 2에 도시된 바와 같이 일정한 배열구조의 다수의 스트라이프(stripe) 또는 도트(dot)형상의 형광체(R,G,B)와 그 각 형광체들 사이의 블랙코팅과 같은 빛흡수물질(21)로 형성된다. 또, 그 배면은 전도막층으로서 알루미늄박막층(22)이 형성되어 형광면의 휘도 증대, 형광면의 이온손상방지, 형광면의 전위강하방지 등의 역할을 하게 된다. 또한, 도시되지는 않지만, 그 알루미늄박막층(22)의 평면도 및 반사율을 높이기 위해서는 형광면(20)과 광전도막층(34)사이에 라커(lacquer)와 같은 수지가 도포된다.
이러한 형광면(20)이 발색광 인성분과 같은 형광입자들을 포함하는 현탁액(slurry) 또는 빛흡수물질을 포함하는 현탁액을 도포하고 건조시켜 형성되는 종래의 습식 사진석판술(photolithographic wet process)은, 고화질의 요구를 충족시키지 못할 뿐만 아니라 제조공정 및 제조설비가 복잡하여 제조비용이 크게 소요되며, 또한, 대량의 청정수 소모와 폐수발생, 인배출물, 6가 크롬감광체 배출 등 여러 가지 문제점들을 안고 있다. 최근에 이러한 습식사진석판술을 개량한 전자사진식(electrophotographical) 스크린제조방법이 개발되었는데, 이 전자사진식 제조방법도 습식은 여전히 상술한 문제점들을 안고 있으며, 건식제조방법에 의해서는 상술한 문제점들이 상당히 해소되었다.
그 대표적인 건식 전자사진식 스크린제조방법은 미국 특허 제 4,921,767호(1990년 5월 1일 특허됨)에 개시되어 있는 바, 이를 간략히 설명하면 다음과 같다.
도 3(a) 내지 (e)에는 그 건식전자사진식 스크린제조방법의 각 기본 공정이 개략적으로 도시된다.
판넬(12)는 스크린공정에 들어가기 전에 그 내면이 여러 가지 방법으로 세척된다. 그리고 나서, 그 판넬의 면판(18)의 내면에는 도 3a에서와 같이 전기적 전도막(32)이 코팅되고, 그 위에 광전도막(34)이 코팅된다. 이러한 전도막(32)에 사용되는 화합물로는 주석이나 인듐(indium)산화물, 또는 그 혼합물과 같은 무기전도물이 개시되어 있고, 휘발성전도막의 원료로는 Aldrich Chemical Co.의 상품명 폴리브린(Polybrene: 1.5-디메틸-1,5-디아자-언디카메틸렌 폴리메소브로마이드, 헥사디메스린 브로마이드)이 개시되어 있다. 이러한 폴리브린은 약 10 중량%의 프로판놀과 10중량% 수용성 접착 폴리머(폴리 비닐알콜, 폴리아크릴산, 폴리아미드 등)를 함유하는 수용액상태로 도포되고 건조되어 108Ω/□(ohms per square unit) 이하의 표면저항과 약 1-2㎛의 두께를 가지는 전도막(32)을 형성한다. 그 전도막(32)위에 도포되는 광전도막(34)으로는 휘발성 유기폴리머(폴리비닐 카바졸)또는 폴리머 바인더(폴리메틸메타크릴레이트 또는 폴리프로필렌 카본네이트)에 용해된 n-에틸카바졸이나 n-비닐카바졸 또는 테트라페닐부타트리엔과 같은 유기단량체와, 적당한 광전도 염료와 용매를 포함하는 도포액이 개시되어 있다. 그 광전도 염료성분으로는 가시광선(바람직하게는 400-700nm파장)에 반응하는 것으로서 크리스탈 바이오릿(crystal violet), 크로리다인 블루우(chloridine blue), 로다민 EG(rhodamine EG)와 같은 것들이 약 0.1 내지 0.4 중량 % 함유되는 것으로 개시되어 있다. 그리고 용매로는 전도막(32)을 오염시키지 아니하는 클로로벤젠이나 싸이클로펜타논과 같은 유기물이 개시되어 있다. 이와 같은 조성을 가지는 광전도막(34)은 2-6μ의 두께를 가진다.
도 3b에는 상술한 바와 같이 이중코팅된 면판(18)이 광전도막(34)에 종래의 코로나 방전장치(36)에 의해 암실에서 +전하로 대전되는 대전공정이 개략적으로 도시된다. 그 코로나 방전장치(36)는 +200 내지 +700 볼트의 직류전원의 +전극에 인가되고, -전극은 전도막(32)에 인가됨과 동시에 어스되며, 이와 같이 +전극에 인가된 코로나 방전장치(36)가 면판(18)의 광전도막(34)위를 가로질러 이동함으로써 광전도막(34)은 +전하로 대전되게 된다.
도 3c는 노광공정을 도시한 것으로 상술한 바와 같이 대전된 광전도막(34)은 역시 암실내에서 새도우마스크(16)를 통해 렌즈(40)를 구비하는 크세논 플래시 램프(38)에 의해서 노광된다. 따라서, 먼저 새도우마스크(16)가 판넬(12)에 장착되고 전도막(32)은 어스된다. 이 공정에서는 그 크세논 플래시 램프(38)를 켜서 렌즈(40)와 새도우마스크(16)를 통해 그 램프(38)의 광선을 광전도막(34)에 조사하면, 새도우마스크(16)의 애퍼처 또는 슬로트(16a)에 해당하는 광전도막(34)부분들이 노광되고, 그 가시광선에 의해 그 노광부분의 +전하가 전도막(32)을 통해 방출되어 도 3c에 도시된 바와 같이 노광부분만 비대전상태로 된다. 상술한 크세논 플래시 램프(38)는 칼라의 경우 빛흡수물질을 부착시키기 위해서는 종래와 같이 그 광선이 각 전자빔의 입사각에 일치하도록 3위치사이를 이동하는 구조가 바람직하다.
도 3d는 현상(형광입자 또는 빛흡수물질의 부착)공정을 개략적으로 도시한다. 이 공정에서는 현상용기(42)내에 건식 빛흡수물질미세분말 또는 건식의 각 형광체미세분말과, 그 각 분말과의 접촉으로 정전기를 발생시킬 수 있는 캐리어 비드(carrier bead)가 담겨진다. 그 빛흡수물질용 캐리어 비드는 미세분말과 접촉하여 빛흡수물질입자는 -전하로, 또 형광입자는 +전하로 대전시킬 수 있는 것이 적당하며, 그와 같이 전하를 띠도록 혼합된다. 새도우마스크(16)를 제거한 판넬(12)은 광전도막(34)이 그 분말에 접촉할 수 있도록 상술한 분말이 담긴 현상용기(42)위에 설치된다.
이 때 혼합된 분말 중에서 -전하를 띤 빛흡수물질은 +전하로 대전된 광전도막(34)의 비노광부분에 전기인력에 의해 부착되게 되며, +전하를 띤 형광입자는 +전하로 대전된 광전도막(34)의 비노광부분에서는 반발하고 비대전상태로 된 광전도막(34)의 노광부분에만 역현상(reversal developing)에 의해 부착하게 된다.
도 3e는 적외선 가열에 의한 고착공정을 도시한 것으로, 이 공정에서는 상술한 현상공정에서 부착된 건식 빛흡수물질입자 또는 건식의 각 형광입자들이 서로, 또한, 광전도막(34)에 고착된다. 따라서, 가열에 의해 융착되는 적당한 폴리머 성분이 그 광전도막(34)과 건식 빛흡수물질입자나 건식의 각 형광입자들에 포함된다.
상술한 공정들이 칼라음극선관의 제조를 위해서는 3종의 형광체에 대해 반복실시된다. 이와 같이 형광체 및 빛흡수물질이 형성된 다음, 라커공정에서 라커막이 종래의 방법으로 형성되고, 그 뒤, 베이킹(baking)공정으로 투입되어 대기중에서 약 30분동안 425℃에서 가열 건조됨으로써, 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분이 제거되고 빛흡수물질(21)과 각 형광체(R,G,B)가 도 2(a)(b)에서와 같이 형성된 형광면(20)이 얻어진다.
그러나, 상술한 종래의 건식전자사진식 스크린 제조방법은 광전도막이 가시광선에 쉽게 감응되지기 때문에 광전도막을 형성한 이후 고착공정에 이르기까지 모든 작업을 암실에서 수행햐여야 하는 단점이 있었다.
이에, 본 출원인은 광전도막을 자외선에 감응하는 광전도성 용액으로 조성함으로써 상기의 문제점을 해결하였다. 이때, 광전도막을 형성하기 위한 광전도성 용액으로서, 자외선에 반응하는 물질로는 도너(doner)로서 비스 디메틸 페닐 디펠닐 부타트리엔(bis-1,4-dimethyl phenyl (-1,4-diphenyl(butatriene)))과, 어셉터(acceptor)로서 트리니트로플루오리논(trinitro-fluorenone: TNF) 및 에틸 안트라퀴논(ethyl anthraquinone: EAQ)중 적어도 1종 이상을 사용하였으며, 그 광전도막도포용액으로는 0.01 내지 10중량%의 비스디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔과 고분자바인더(binder)로서 1 내지 30 중량%의 폴리스티렌(polystyrene)을 잔량인 톨루엔(toluene)이나 크실렌(xylene)에 용해시켜 사용하였다.
그러나, 도 3a와 관련하여 상술한 휘발성 유기폴리머(폴리비닐 카바졸) 또는 폴리머 바인더(폴리메틸메타크릴레이트 또는 폴리프로필렌 카본네이트)에 용해된 n-에틸 카바졸이나 n-비닐카바졸 또는 테트라페닐부타트리엔과 같은 유기단량체와, 적당한 광전도 염료와 용매를 포함하는 광전도막 도포액이나, 상술한 본 출원인에 의한 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔과, 트리니트로플루오리논 및 에틸 안트라퀴논중 적어도 1종 이상 각각 0.01 내지 10중량%와 고분자바인더(binder)로서 1 내지 30 중량%의 폴리스티렌(polystyrene)을 잔량인 톨루엔(toluene)이나 크실렌(xylene)에 용해시킨 광전도막도포용액을 판넬의 전도막위에 도포시켜 건조하여 광전도막(34)이 형성되나, 그 대전특성이 낮아 도 3b에서 크로나 방전장치(36)에 의해 그 광전도막(34)을 현상을 위한 소정의 전하로 대전시키는 데에는 광전도막(34)의 손상을 방지학기 위한 인가전위의 제한하에서 특히 상당한 시간이 걸리며, 그 전면적에 걸쳐 균일하게 대전되지 못하는 문제점이 있었으며, 상기 비스 디메틸 페닐 디페닐 부타트리엔은 벌브의 프리트(frit)공정후 완전히 휘발되지 못하고 8 내지 10중량%가 잔류한다는 문제점도 있을 뿐만 아니라, 도너와 어셉터의 두가지 물질을 사용하여야 한다는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 제거하기 위한 것으로, 대전특성이 우수하고 그 대전량의 조절 및 유지가 양호하며, 완전히 휘발(연소)될 수 있으면서도 도너로서도 작용하고 어셉터로서도 작용하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 칼라음극선관의 부분단면한 개략평면도,
도 2는 도 1의 음극선관의 스크린 구성을 나타낸 부분 확대단면도,
도 3은 건식전자사진식 스크린 제조방법을 설명하기 위한 개략도.
*도면에 사용된 주요부호의 설명*
10: 음극선관(CRT)11: 전자총
12: 판넬(panel)13: 펀넬(funnel)
14: 네크(neck)15: 양극 보턴
16: 새도우마스크17: 편향요크
18: 판넬면판19,19a,19b: 전자빔
20: 형광면(스크린)21: 빛흡수물질
22: 라커막23: 알루미늄박막층
32: 전도막34: 광전도막
36: 코로나방전장치38: 광원(가시광선)
40: 렌즈42: 현상용기
본 발명은, 상기의 목적을 달성하기 위하여, 판넬내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키며, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 광원에 의해 선택적으로 상기 광전도막의 정전하를 방출시켜서 정전하로 대전된 분말입자를 부착시키는 건식 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막 도포용액에 있어서, 상기 광전도막의 조성이, 자외선에 감응하는 물질의 도너와 어셉터로서, n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA) 및 이들의 2 이상의 혼합물로 형성되는 군에서 선택된 0.01 내지 10중량%의 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막도포용액을 제공한다.
또, 상기 광전도막의 조성은 고분자바인더(binder)로서 폴리 스티렌(polystyrene: PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate: PMMA), 폴리 알파 메틸 스티렌(polyalphamethylstyrene: PAMS) 및 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymer: PS-OX)중 적어도 일종 이상 10-20중량%을 포함하며, 솔벤트로서 20 내지 85 중량%(잔량)의 톨루엔이나 크실렌이 용해시켜 형성된다.
또한, 본 발명은, 판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키고, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 자외선광원으로부터 자외선을 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 방전전극에 의해 대전된 형광체를 부착시키는 단계들을 포함하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조방법에 있어서, 상기 광전도막이, 자외선에 감응하는 물질의 도너와 어셉터로서, n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA) 및 이들의 2 이상의 혼합물로 형성되는 군에서 선택된 0.01 내지 10중량%의 어느 하나와, 고분자바인더(binder)로서 폴리스티렌(polystyrene: PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate: PMMA), 폴리 알파 메틸 스티렌(polyalphamethylstyrene: PAMS) 및 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymer: PS-OX)중 적어도 일종 이상 10-20중량%와, 솔벤트로서 톨루엔 20 내지 85 중량%(잔량)의 톨루엔이나 크실렌에 용해시킨 광전도막 도포용액을 도포하여 형성된 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식전자사진식 스크린 제조방법을 제공한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예의 구성과 작용을 상세히 설명한다.
본 발명에 있어서도, 도 3a와 관련하여 설명된 종래의 기술에서와 같이, 판넬 내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 휘발성 광전도막을 형성시킨다. 이때 사용되는 휘발성 광전도막 도포용액은, 자외선에 감응하는 물질로서, 자외선에 감응하는 물질의 도너와 어셉터로서, n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA) 및 이들의 2 이상의 혼합물로 형성되는 군에서 선택된 0.01 내지 10중량%의 어느 하나를 포함한다. 상기 n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA)은 도너와 어셉터은 양쪽의 성질을 지니기 때문에 어느 하나의 물질을 포함하여서도 광전도막을 형성할 수 있다. 이러한 물질들은 고분자바인더(binder)로서, 폴리스티렌(polystyrene: PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate: PMMA), 폴리 알파 메틸 스티렌(polyalphamethylstyrene: PAMS) 및 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymer: PS-OX)중 적어도 일종 이상 10-20중량%와, 솔벤트로서 톨루엔 20 내지 85 중량%(잔량)의 톨루엔이나 크실렌에 용해시켜 형성된다.
이와 같이 형성된 광전도막 용액을, 상술한 바와 같이 전도막(32)위에 종래의 방법으로 도포하여 광전도막(34)을 형성하며, 그 결과 도 3b의 대전공정에 있어서 그 광전도막(34)에의 대전 특성 내지는 전기적 특성이 월등하게 나타났으며, 상술한 바와 같이 노광공정(도 3c), 현상공정(도 3d) 및 고착공정(도 3e)을 거쳐 베이킹공정에서 그 광전도막(34)은 연소, 휘발된다.
상술한 본 발명의 실시예에 있어서, 상기 n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA) 및 n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA)이 0.01 중량% 이하에서는 광전도막의 역할을 전혀 할 수 없었고, 10중량% 이상에서는 이물이 발생하여 응고되거나 기포가 발생하여 바람직스럽지 못하였다.
한편, 솔벤트로는 상술한 고분자 바인더를 용해시키는 용매로서 톨루엔과 크실렌이외에도 벤젠 또는 벤젠 유도체 및 그 혼합물이 사용될 수 있을 것이다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막 용액은 일예로서 다음과 같은 스크린 제조공정에 사용된다.
즉, (1) 판넬의 내면에 종래와 같은 유기전도막 수용액으로 휘발성 전도막을 형성시킨 후: (2) 그 전도막 위에 본 발명에 의한 광전도막 용액으로 휘발성 광전도막을 형성시키고: (3) 그 광전도막 위에 균일한 정전하를 대전시키며: (4) 그 대전된 광전도막의 정전하를 선택적으로 방출시키도록 새도우마스크를 통과시켜 노광시키며: (5) 그 후 소정의 미세분말을 대전시켜 상기 노광단계에서 정전하가 선택적으로 노광부분과 비노광부분 중 어느 하나의 영역에 대전된 미세분말을 부착시키는 현상단계를 거치게 되며, 칼라 음극선관의 경우 이러한 공정들이 3종의 형광체에 대해 실시되고 각 형광체들이 고착되며, 이와 같이 형광체 및 빛흡수물질이 형성된 다음, 라커공정에서 라커막이 종래의 방법으로 형성되고, 알루마이징공정에서 알루미늄박막도 종래의 방법을 형성되며, 그 뒤, 베이킹(baking)공정으로 투입되어 대기 중에서 약 30분동안 425℃에서 가열 건조됨으로써, 전도막(32), 광전도막(34)과 각 형광체 및 라커 등에 존재하는 용매 등의 휘발성성분이 제거되고 빛흡수물질(21)과 각 형광체(R,G,B)가 도 2에서와 같이 형성된 형광면(20)이 얻어진다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조용 광전도막도포용액 및 이를 사용하는 그 스크린 제조방법의 구성와 작용에 의하면, 자외선에 감응하는 물질의 도너와 어셉터로서 n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA) 및 이들의 2 이상의 혼합물로 형성되는 군에서 선택된 0.01 내지 10중량%의 어느 하나와, 고분자바인더(binder)로서, 폴리스티렌(polystyrene: PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate: PMMA), 폴리 알파 메틸 스티렌(polyalphamethylstyrene: PAMS) 및 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymer: PS-OX)중 적어도 일종 이상 10-20중량%와, 솔벤트로서 20 내지 85 중량%(잔량)의 톨루엔이나 크실렌에 용해시킨 광전도막 도포용액을 도포하여 광전도막을 형성시킴으로써 종래와 같이 도너와 어셉터의 양 물질을 사용할 필요가 없으며, 그 물질들이 양쪽의 성질을 지니기 때문에 그 광전도막의 대전특성이 우수하고 그 대전량의 조절 및 유지가 양호하여, 균일하게 대전되고, 그 대전능력이 뛰어나기 때문에 대전량을 용이하게 조절할 수 있으며, 전하수용능력이 월등하여 대전된 전하량을 장시간 유지할 수 있고, 나아가, 후공정에서 완전히 휘발(연소)될 수 있어 음극선관의 품질을 높일 수 있는 등의 효과가 있다.
이상에서 본 발명의 일예를 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 아니하고, 청구범위 기재사항으로부터 당업자라면 용이하게 여러 가지 응용과 변형이 가능할 것이다.

Claims (3)

  1. 판넬내면에 휘발성 전도막을 형성시키고 그 위에 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키며, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 광원에 의해 선택적으로 상기 광전도막의 정전하를 방출시켜서 정전하로 대전된 분말입자를 부착시키는 건식 전자사진식 음극선관의 스크린 제조용 광전도막 도포용액에 있어서,
    상기 광전도막의 조성이, 자외선에 감응하는 물질의 도너와 어셉터로서, n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA) 및 이들의 2 이상의 혼합물로 형성되는 군에서 선택된 0.01 내지 10중량%의 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린제조용 광전도막도포용액.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 광전도막의 조성이 고분자바인더(binder)로서, 폴리스티렌(polystyrene: PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate: PMMA), 폴리 알파 메틸 스티렌(polyalphamethylstyrene: PAMS) 및 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymer: PS-OX)중 적어도 일종 이상 10-20중량%와, 솔벤트로서 20 내지 85 중량%(잔량)의 톨루엔이나 크실렌에 용해시킨 것을 특징으로 하는 전자사진식 음극선관의 스크린제조용 광전도막도포용액.
  3. 판넬의 내면에 코팅된 휘발성 전도막위에 자외선에 감응하는 물질을 함유하는 휘발성 광전도막을 형성시키고, 그 광전도막에 균일한 정전하를 대전시킨 후, 그 광전도막을 자외선광원으로부터 자외선을 새도우마스크를 통과시켜 선택적으로 노광하고, 그 노광된 부분에 방전전극에 의해 대전된 형광체를 부착시키는 단계들을 포함하는 음극선관의 건식 전자사진식 스크린 제조방법에 있어서,
    상기 광전도막이, 자외선에 감응하는 물질의 도너와 어셉터로서, n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노벤질 메타크릴레이트(dialkyl aminobenzil methacrylate: DMABMA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 아크릴로아미드(dialkyl aminophenyl acryloamide: DMAPAA), n이 5이하인 디알킬(CnH2n+1-) 아미노페닐 메타크릴로아미드(dialkyl aminophenyl methacryloamide: DMAPMA) 및 이들의 2 이상의 혼합물로 형성되는 군에서 선택된 0.01 내지 10중량%의 어느 하나와, 고분자바인더(binder)로서, 폴리스티렌(polystyrene: PS), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate: PMMA), 폴리 알파 메틸 스티렌(polyalphamethylstyrene: PAMS) 및 폴리 스티렌-옥사졸린 코폴리머(polystyrene-oxazoline copolymer: PS-OX)중 적어도 일종 이상 10-20중량%와, 솔벤트로서 20 내지 85 중량%(잔량)의 톨루엔이나 크실렌에 용해시킨 광전도막 도포용액을 도포하여 형성된 것을 특징으로 하는 음극선관의 건식전자사진식 스크린 제조방법.
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