KR19980040721A - Method for manufacturing mold for glass molding and apparatus for manufacturing same - Google Patents

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KR19980040721A
KR19980040721A KR1019960059946A KR19960059946A KR19980040721A KR 19980040721 A KR19980040721 A KR 19980040721A KR 1019960059946 A KR1019960059946 A KR 1019960059946A KR 19960059946 A KR19960059946 A KR 19960059946A KR 19980040721 A KR19980040721 A KR 19980040721A
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이기열
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안기훈
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Abstract

유리성형용 금형의 전주형성 방법에 관한 것으로서, 유리성형용 전주금형은 전주도금액 내에서 금형의 회전과 동시에 용액 교반으로 금형 표면의 금형 피막처리시, 발생하는 공기 및 가스 등의 배출이 용이하여 전착된 도금면에 핀홀이 생기지 않아 도금 품질, 내식성, 이형성이 우수하고 열전도성도 양호하며 유리 성형용 브라운관 금형의 조건을 가질 수 있도록 하는 등의 효과가 있다. 또한 금형 마모시에는 금형을 새로이 제작하여 사용해야하는 문제를 해결할 수 있어 금형 소재 비용 및 금형 가공 비용이 절감되고 금형 수리시마다 도금을 행하지 않아 도금시 발생되는 폐수를 없애 환경 오염을 방지하는 한편 금형 수리시 도금 공정이 없는 관계로 금형 수리 시간이 55% 단축되어 금형 수급이 원활해지는 효과를 가진다.The present invention relates to a method for forming a pole of a glass molding die, and a glass die casting mold facilitates the discharge of air and gas generated during mold coating on the surface of a mold by solution agitation and solution agitation in a plating solution. Since no pinhole is formed on the electrodeposited plating surface, the plating quality, corrosion resistance, and releasability are excellent, and thermal conductivity is also good. In addition, when the mold is worn out, it is possible to solve the problem of making and using a new mold, which reduces mold material cost and mold processing cost, and prevents environmental pollution by eliminating waste water generated during plating by eliminating plating every time the mold is repaired. Since there is no plating process, the mold repair time is shortened by 55%, which makes the mold supply and demand smooth.

Description

유리성형용 금형의 제조방법 및 그 제조장치Method for manufacturing mold for glass molding and apparatus for manufacturing same

[산업상이용분야][Industrial use]

본 발명은 유리성형용 금형에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 핀홀 등이 발생하지 않아 정밀도가 높고 계속적인 사용이 가능하며 마모 또는 손상시 금형을 재활용할 수 있는 유리성형용 금형의 제조방법 및 그 제조장치에 관한 기술이다.The present invention relates to a mold for glass molding, and more particularly, a pinhole, etc. does not occur, and thus, high precision and continuous use are possible, and a method for manufacturing a mold for glass molding which can recycle the mold when worn or damaged and its manufacture Description of the device.

[종래기술][Private Technology]

일반적으로 브라운관과 같은 매우 높은 정밀도를 요구하는 유리 제품을 성형하기 위해서는 유리성형용 금형 역시 표면이 매우 정밀하여야 한다.In general, in order to mold glass products that require very high precision, such as CRT, glass molding molds must also have very precise surfaces.

종래의 브라운관을 제조하기 위하여 사용되어온 유리성형용 금형은 SUS420J2 주조물 등을 금형탈거, 산화막제거, 도금벗김, 금형연마, 거칠기 형성 등의 기계 가공 후, 이형성, 부식성 및 표면을 보호하기 위하여 니켈-텅스텐 또는 크롬 도금, 도금층 연마, 1차 스티플 형성, 2차 스티플 형성의 공정으로 표면 처리를하여 제조한다. 이때 금형의 도금 두께는 수 ㎛이며 브라운관 성형을 일회 실시한 후 도금을 박리하고 다시 도금하여 금형을 재사용하고 있다.The glass molding mold that has been used to manufacture conventional CRTs is nickel-tungsten in order to protect the releasability, corrosiveness and surface after machining of SUS420J2 casting, etc. after removing the mold, removing the oxide film, peeling the metal, grinding the mold, and forming the roughness. Or it manufactures by surface-treating by the process of chromium plating, plated-layer polishing, primary stipple formation, and secondary stipple formation. At this time, the plating thickness of the mold is several μm, and once the CRT molding is performed, the plating is peeled off and plated again to reuse the mold.

그러나 상기와 같은 종래의 브라운관과 같은 유리 성형용 제조를 위한 금형은 표면 처리시, 핀홀 발생에 의한 도금 불량의 문제가 자주 발생하여 브라운관과 같은 유리 제품이 요구하는 정밀성을 충족시키지 못하는 문제점이 있다. 이와 같이 핀홀이 발생하는 이유는, 금형 구조상 하단부 표면이 넓어 도금 용액으로 도금시, 생성되는 수소 가스에 의한 기포에 의해 그 표면에 기포가 발생하여 핀홀이 발생하기 때문이다. 이와 같은 기포의 발생을 억제하기 위하여, 공기 교반이나 왕복 운동의 기계 교반을 이용하는 기술이 개발되었으나, 하부 표면이 넓어 핀홀 발생을 완전히 제거하기가 어렵다는 문제점이 있다. 그리고 이와 같이 핀홀 발생에 의하여 도금 불량이 발생하였을 경우, 또는 금형을 일회 사용한 경우, 도금층을 박리하고 새로 도금을하여 표면 처리를 한 후 브라운관 성형에 사용하고 있다. 그러나 이와 같이 도금층의 금형을 박리하고 다시 도금을 실시할 경우 많은 폐수가 발생하며 이에 소요되는 시간은 평균 6시간 내지 8시간으로 장시간이 필요하다. 그리고 금형 취급중 금형이 손상되는 경우 종래에는 새로 금형을 제조하고 있다.However, a mold for manufacturing a glass molding, such as the conventional CRT, as described above, has a problem in that plating defects due to pinholes occur frequently during surface treatment, thereby failing to meet the precision required by glass products such as CRT. The reason why pinholes are generated in this way is because the bottom surface of the mold structure is wide, and when plating with a plating solution, bubbles are generated on the surface by bubbles generated by hydrogen gas to generate pinholes. In order to suppress the occurrence of such bubbles, a technique using air agitation or mechanical agitation of reciprocating motion has been developed, but there is a problem that it is difficult to completely eliminate pinhole generation due to the wide bottom surface. In this case, when plating failure occurs due to the pinhole generation or when the mold is used once, the plating layer is peeled off, newly plated, and the surface treatment is used for forming the CRT. However, when the mold of the plating layer is peeled off and the plating is performed again, a lot of waste water is generated, and the time required is 6 hours to 8 hours on average. And when the mold is damaged during the handling of the mold is conventionally manufacturing a new mold.

한편, 전기 주조법(전주:電鑄), 즉 전기 도금의 원리를 이용한 주조 방법을 이용하여 금형을 제조할 경우 다양한 형상의 금형을 제조할 수 있어 최근 자동차, 프라스틱 금형, 각종 정밀부품의 제조는 물론 공예품 등의 제작에도 널리 이용되고 있다. 이와 같은 예로서, 대한민국 특허공고 제95-007171호에는 진공성형 금형으로 사용되는 다공성 마스터 금형의 제조 방법에 전주방법을 이용한 방법이 기술되어 있다. 이 방법은 전해액에 미량의 피트 방지제를 첨가하고 초전압을 0.5A/dm2으로하여 H2가스가 은경에 무수히 부착되어 금형에 비도체부인 핀홀을 형성하도록 한 후, 점차 전압을 1-20A/dm2로 증압하면서 전해액을 오버플로우 방식으로 5-30ℓ/분의 유속으로 순환유통시켜 약 2mm의 Ni 다공성 전주금형을 얻은 다음, 이를 가용성 수지에 침지시켜 핀홀을 봉쇄하여 비도체층을 유지하도록 한 후 다공성 전주 금형을 재입조하여 도층을 성장시켜 약 4mm 후판을 금속 전주층을 형성한 후 수지를 용해 제거하여 후판이 다공성인 전주금형을 제조하는 것이다. 이와 같은 전주 금형 방법을 이용하여 다공성 마스터 금형을 제조할 경우 적절한 핀홀을 부여하여 다공성을 갖는 금형을 제작할 수 있을 뿐만 아니라, 양호한 전착을 얻음과 동시에 두꺼운 후판을 얻을 수 있다.On the other hand, in the case of manufacturing a mold using the electroforming method (ie, casting method using the principle of electroplating), various shapes of molds can be manufactured. It is also widely used for making crafts. As such an example, Korean Patent Publication No. 95-007171 describes a method using a pole casting method in the method of manufacturing a porous master mold used as a vacuum molding die. In this method, a small amount of anti-pitcher is added to the electrolyte, and the initial voltage is 0.5 A / dm 2 , whereby H 2 gas is attached to the silver diameter innumerably to form a non-conductive pinhole in the mold, and then gradually the voltage is 1-20 A /. After increasing the pressure to dm 2 , the electrolyte was circulated through the flow at a flow rate of 5-30 l / min to obtain a Ni porous electroforming mold of about 2 mm, and then immersed in soluble resin to block the pinhole to maintain the non-conductive layer. By re-incorporating the porous pole mold, the coating layer is grown to form a metal pole layer of about 4 mm thick plate, and then the resin is dissolved and removed to manufacture the pole pole whose plate is porous. When the porous master mold is manufactured using the electroforming mold method as described above, a mold having a porosity can be manufactured by providing an appropriate pinhole, and a thick thick plate can be obtained while obtaining good electrodeposition.

본 발명자는 상기와 같은 종래의 유리성형용 금형의 제조방법이 갖는 문제점을 해결하기 위하여 연구하던중 유리성형용 금형의 제조시 상기한 전주 방법을 이용할 경우 정밀한 유리성형용 금형을 제조할 수 있음을 착안하여 본 발명을 완성하였다. 그러나 상기한 전주 방법을 이용할 경우 핀홀이 많이 발생하는 문제점이 있다.The inventors of the present invention can manufacture a precise glass molding mold when the above-described electrophoretic method is used in the manufacture of the glass molding mold while researching to solve the problems of the conventional manufacturing method of the glass molding mold as described above. With this in mind, the present invention has been completed. However, there is a problem that a lot of pinholes occur when using the above-mentioned pole method.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 첫째 목적은 핀홀의 발생이 없으며 균일한 전착을 달성하여 정밀도가 우수한 유리 성형용 금형의 제조 방법 및 제조장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 둘째 목적은 후판 도금을 할 수 있어 이들 후판이 마모될 때까지 계속적으로 사용할 수 있는 유리성형용 금형의 제조방법 및 제조장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 셋째 목적은 도금 불량이 발생하였을 경우 또는 금형이 손상됐을 경우 이를 간편하게 재활용할 수 있는 유리성형용 금형의 제조방법 및 제조장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 넷째 목적은 유리성형용 금형 제조시 폐수의 발생이 적은 유리성형용 금형의 제조방법 및 제조장치를 제공하는 것이다. 또한 본 발명은 유리성형시 도금층의 분리가 일어나지 않는 유리성형용 금형의 제조방법 및 제조장치를 제공하는 것을 다섯째 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, the first object of the present invention is to achieve a uniform electrodeposition without the occurrence of pinholes and to provide a method and apparatus for manufacturing a mold for glass molding with excellent precision. It is. It is a second object of the present invention to provide a method and apparatus for manufacturing a mold for glass molding which can be plated and can be used continuously until these plates are worn. A third object of the present invention is to provide a method and apparatus for manufacturing a mold for glass molding, which can be easily recycled when a plating failure occurs or a mold is damaged. A fourth object of the present invention is to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus for a glass molding mold with less generation of waste water during the manufacture of the glass molding mold. In another aspect, the present invention is to provide a method and apparatus for manufacturing a mold for glass molding in which the separation of the plating layer does not occur during glass molding.

도1은 본 발명의 전기 도금조 장치를 도시한 개략도.1 is a schematic diagram showing an electroplating bath apparatus of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1. 회전 장치 2. 애노드 3. 블로우 시스템1. rotating device 2. anode 3. blow system

4. 여과/오버플로우 시스템 5. 플레이팅 배쓰 6. 조절 장치4. Filtration / Overflow System 5. Plating Bath 6. Regulator

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 금형 주물을 전기 주조하여 유리성형용 금형을 제조함에 있어서, 상기 금형을 상부 회전시키면서 220∼280시간 전기 주조하여 4∼6mm 두께로 도금하는 것을 특징으로 하는 유리성형용 금형의 제조방법 제공한다. 이 때 회전은 3-6cycle/hr가 바람직하다.In order to achieve the object of the present invention as described above, the present invention, in the production of a mold for glass molding by electroforming a mold casting, electroplating 220 to 280 hours while rotating the mold to plate 4 to 6mm thickness It provides a method for producing a glass molding die, characterized in that. In this case, the rotation is preferably 3-6 cycles / hr.

상기한 본 발명에 있어서, 상기 전기 주조중인 금형 주물 주위에 전기도금액을 압입하여 용액을 교반하면서 전기 주조하는 것이 바람직하다.In the present invention described above, it is preferable to press the electroplating solution around the die casting during electroforming and electrocast while stirring the solution.

그리고 상기한 본 발명에 있어서, 상기 전기 주조용 도금 용액은 순수 1ℓ, 니켈썰파메이트 40-60g/ℓ 및 계면활성제인 피트방지제 4-6ml/ℓ을 포함하고, pH는 2 내지 4인 것이 바람직하다.In the present invention, the plating solution for electroforming includes 1 l of pure water, 40-60 g / l of nickel sulfamate, and 4-6 ml / l of anti-pitching agent which is a surfactant, and the pH is preferably 2-4. .

또 상기한 본 발명에 있어서, 상기 금형 주물의 표면 하단부는 A1203 #40-180 메쉬로 블래스팅하여 거칠기를 형성한 것이 바람직하다.In the present invention described above, it is preferable that the lower end of the surface of the mold casting is blasted with A1203 # 40-180 mesh to form a roughness.

또한 본 발명은 애노드가 설치되어 있는 전주도금액을 수납하는 플레이팅 배쓰와, 상기 플레이팅 배쓰의 상부에 설치되어 금형 주물을 플레이팅 배쓰내에서 회전이 가능하도록 지지하는 회전 장치와, 상기 플레이팅 배쓰에 설치된 격벽을 넘어 오버플로우되는 전주도금액을 여과 및 가압시켜 플레이팅 배쓰의 하부로 주입하는 여과/오버플로우 장치와, 상기 플레이팅 배쓰의 내부에서 도금액을 압입하여 전주도금액 자체를 교반시키는 블로우 시스템과, 상기 회전 장치, 애노드가 설치된 플레이팅 배쓰, 여과/오버플로우 시스템 및 블로우 시스템을 전기적으로 연결하여 이들의 작동을 조절할 수 있도록 하는 조절 장치를 포함하는 유리성형용 전기 주조 장치를 제공한다.In another aspect, the present invention provides a plating bath for storing the electroplating solution in which an anode is installed, a rotating device installed on an upper portion of the plating bath to support a mold casting to be rotated in the plating bath, and the plating. A filtration / overflow apparatus for filtering and pressurizing the electroplating solution overflowing the partition wall installed in the bath to inject the lower portion of the plating bath, and injecting the plating solution into the plating bath to stir the electroplating solution itself. It provides a blow molding system and an electroforming apparatus for glass forming comprising a rotary device, an anode-plated plating bath, a filtration / overflow system, and a control device for electrically connecting the blow system to control their operation. .

본 발명을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

[대표적인 실시예]Representative Example

(전주 도금조 장치)(Electric pole plating tank device)

본 발명에 따른 유리성형용 전주 도금 장치는 도 1과 같이 도금용액에서 금형의 회전과 동시에 용액을 교반하여 금형 표면에 발생하는 기포의 발생을 제거함으로써 핀홀이 없으면서 정밀도가 우수한 금형을 제조할 수 있는 전주 도금 장치이다. 도 1의 전주 도금 장치는 애노드(anode)(2)가 설치되어 있는 전주도금액을 수납하는 플레이팅 배쓰(5)와 상기 플레이팅 배쓰(5)의 상부에 설치되어 금형을 플레이팅 배쓰(2)내에서 회전이 가능하도록 지지하는 회전장치(1)와 플레이팅 배쓰(5)에 설치된 격벽을 넘어 오버플로우되는 전주도금액을 여과 및 가압시켜 플레이팅 배쓰(5)의 하부로 주입하는 여과/오버플로우 장치(4)와 상기 플레이팅 배쓰(5)의 내부에서 도금액을 압입하여 전주도금액 자체를 교반시키는 블로우 시스템(3)과, 상기 회전장치(1), 애노드(2)가 설치된 플레이팅 배쓰(5), 여과/오버플로우 시스템(4) 및 블로우 시스템을 전기적으로 연결하여 이들의 작동을 조절할 수 있도록 하는 조절 장치(6)로 이루어져 있다.The electroforming plating apparatus for glass molding according to the present invention can manufacture a mold having excellent pin precision without pinholes by removing the bubbles generated on the surface of the mold by stirring the solution at the same time as the rotation of the mold in the plating solution as shown in FIG. It is a pole plating device. The electroplating apparatus of FIG. 1 is provided with a plating bath 5 for storing an electroplating solution in which an anode 2 is installed, and an upper portion of the plating bath 5 to plate a mold. Filtration / injection into the lower part of the plating bath (5) by filtering and pressurizing the electroplating liquid overflowed over the partition installed in the rotating device (1) and the plating bath (5) to support rotation within the plating bath (5). Blowing system (3) for injecting a plating liquid into the overflow device (4) and the plating bath (5) to agitate the electroplating liquid itself, and the plating apparatus (1) and the anode (2) are installed. It consists of a bath (5), a filtration / overflow system (4) and an adjusting device (6) which electrically connects the blow system to regulate their operation.

(방 법)(Way)

초전압 조건하에서 SUS420J2 금속 같은 금속의 기본 표면에 주성분이 염산니켈인 1차 도금 용액을 사용하여 먼저 수 ㎛ 두께의 니켈금속을 석출시켜 1차 도금을 한 후, 상기한 본 발명의 전주 도금조 장치를 이용하여 상기 1차 도금된 금형을 니켈설파메이트, 붕산, 피트방지제를 주성분으로 하는 전기 도금액내에서 회전시킴과 동시에, 전기도금액을 블로우 시스템(3)을 통하여 도금조 내부로 압입하여 금형 주위의 도금 용액을 교반함으로써 금형 표면에 발생하는 기포를 제거하여 수 mm 두께의 균일한 전착을 금형상에 형성한다. 그리고 이때 전기 도금액은 오버플로우를 이용하여 여과 순환시키며, SUS420J2 기본 표면의 이형성에 기인하여 전착에 의한 도금층이 분리되는 문제점을 해결하기 위하여 SUS420J2 기본 표면의 하단부를 A1203 #40-180 메쉬로 블래스팅하여 거칠기를 형성하는 공정을 실시할 수 있다.The electroplating bath apparatus of the present invention as described above, after first depositing a nickel metal having a thickness of several μm using a primary plating solution whose main component is nickel hydrochloride on a basic surface of a metal such as SUS420J2 metal under ultra-voltage conditions. The primary plated mold is rotated in an electroplating solution containing nickel sulfamate, boric acid, and anti-pitcher as a main component, and the electroplating solution is pressed into the plating tank through the blow system 3 to surround the mold. By stirring the plating solution, the bubbles generated on the surface of the mold are removed to form a uniform electrodeposition of several mm on the mold. In this case, the electroplating solution is filtered and circulated using the overflow, and the bottom part of the SUS420J2 base surface is blasted with A1203 # 40-180 mesh to solve the problem that the plating layer is separated by electrodeposition due to the release of the SUS420J2 base surface. The process of forming a roughness can be performed.

다음은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 본 발명이 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.The following describes preferred examples and comparative examples to aid the understanding of the present invention. However, the following examples are merely provided to more easily understand the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

[실시예]EXAMPLE

실시예 1Example 1

초전압 조건하에서 SUS420J2 금속의 기본 표면에 주성분이 염산니켈인 1차 도금 용액을 사용하여 먼저 3㎛ 두께의 니켈금속을 석출시켜 1차 도금을 한 후, 도 1의 전주 도금조 장치를 이용하여 하기한 조성의 니켈 전주도금액의 온도를 40-55℃로하고, 전기 도금조에서 금형을 4cycle/hr으로 회전시키고 도금액을 150ℓ/min 양으로 압입하며 순환 유통을 1-5ℓ/초 유속의 오버플로우 방법을 사용하며 초전압 0.5A/dm2으로 SUS420J2 기본 표면에 Ni 전착막을 만들고 점차 전압을 증압하여 2.5A/dm2으로 하면서 240 시간 동안 전착물을 성장시켜 약 5mm 두께의 균일한 Ni 전착 전주금형을 얻을 수 있었으며, 밀착성도 양호하여 기계 가공 및 제품성형시 우수한 품질 상태(분석방법, 육안관찰)를 얻을 수 있었다.Under the high voltage condition, the primary surface of SUS420J2 metal was firstly plated by depositing a nickel metal having a thickness of 3 μm using a primary plating solution whose main component was nickel hydrochloride, and then using the electroplating bath apparatus of FIG. The temperature of the nickel electroplating solution of one composition is 40-55 ° C, the mold is rotated at 4 cycles / hr in the electroplating bath, the plating solution is pressed in the amount of 150 l / min, and the circulation flow is overflowed at a flow rate of 1-5 l / sec. Ni electrodeposited film is formed on the basic surface of SUS420J2 with super voltage 0.5A / dm 2 , and the electrode is grown for 240 hours while increasing the voltage to 2.5A / dm 2 . It was able to obtain the good adhesion and good quality state (analytical method, visual observation) during machining and molding.

니켈 전주도금액 조성Nickel Electroplating Solution

순수 1ℓ;1 liter of pure water;

니켈설파메이트 450-600g/ℓ;Nickel sulfamate 450-600 g / l;

붕산 40-60g/ℓ;Boric acid 40-60 g / l;

피트(pit)방지제(계면활성제) 4-6ml/ℓ.Pit inhibitor (surfactant) 4-6 ml / l.

실시예 2Example 2

상기한 실시예 1에서 도금액을 압입하지 않은 것을 제외하고는 상기한 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The same process as in Example 1 was performed except that the plating solution was not press-fitted in Example 1 above.

비교예 1Comparative Example 1

상기한 실시예 1에서 전기 도금조에서 금형의 회전을 실시하지 않은 것을 제외하고는 상기한 실시예 1에서와 실질적으로 동일하게 실시하였다. 그 결과 도금 두께는 2-3mm로서 도금 두께의 편차가 심하고, 도금층이 균일하지 못하였다.In Example 1 described above, except that the mold was not rotated in the electroplating bath, the same process as in Example 1 was performed. As a result, the plating thickness was 2-3 mm, the variation of the plating thickness was severe, and the plating layer was not uniform.

비교예 2Comparative Example 2

상기한 실시예 1에서 전기 도금조에서 금형을 도금층 두께의 균일화를 위하여 도금 공정 중에 주기적으로 SUS420J2 기본면을 상하 교체한점을 제외하고, 상기한 실시예 1과 동일하게 실시하였다. 그 결과 도금후 두께의 편차는 다소 해소되었으나 도금 두께를 균일하게 하기 위해 실시하는 도금체의 상하교체시 공기중 방치되는 시간이 있어 도금 표면층에 산화막 및 산화피막이 형성되나 도금은 계속 진행되며, 가공시 발생되는 열 및 응력에 의해 도금층이 분리되는 문제가 발생하였다.In Example 1, the die was subjected to the same method as in Example 1, except that the SUS420J2 base surface was periodically replaced up and down during the plating process in order to equalize the thickness of the plating layer. As a result, the thickness variation after plating was somewhat resolved, but there was a time left in the air during the up and down replacement of the plated material to make the plating thickness uniform, so that the oxide film and the oxide film were formed on the surface of the plating, but the plating continued. There was a problem that the plating layer is separated by the generated heat and stress.

비교예 3Comparative Example 3

공지의 유리성형용 금형의 제조방법에 따라 금형 주물을 지그 어셈블리후 수세하고 초음파로 탈지한 후 수세하고 산으로 에칭한 후 수세하였다. 그리고 Ni-스트라이크를 실시한 후, 수세하고 산으로 에칭한 뒤 두께 7∼20㎛의 니켈-텅스텐 도금을 실시하고 수세한 후 지그 해제를 하였다.According to a known method for producing a mold for glass molding, the mold casting was washed after the jig assembly, washed with ultrasonic waves, washed with water, etched with acid, and washed with water. After the Ni-strike was performed, water was rinsed and etched with acid, followed by nickel tungsten plating having a thickness of 7 to 20 µm, followed by washing with water, and then the jig was released.

비교예 4Comparative Example 4

공지의 유리성형용 금형의 제조방법에 따라 금형 주물을 수세하고 산으로 에칭한 후 수세하였다. 그리고 애노드를 셋팅한 후 수세하고 두께 20∼40㎛의 크롬두금을 실시한 후 애노드를 해제한 후 수세를 하였다.The mold casting was washed with water, etched with acid, and washed with water according to a known method for producing a mold for glass molding. And after setting the anode and washing with water, 20 to 40㎛ thickness of chromium was carried out, the anode was released and washed with water.

상기한 실시예 및 비교예에 의하여 제조된 유리성형용 금형의 핀홀 발생율, 폐수 발생량, 이면 도금층의 분리 여부, 금형의 사용 가능 회수, 금형 수리 시간을 비교한 결과는 다음과 같다. 하기한 결과에서 알 수 있는 바와 같이 본 발명에 따른 경우 핀홀 발생이 없거나 아주 작았으며, 금형의 재사용이 가능하였고, 금형의 수리 시간도 매우 짧았다.The result of comparing the pinhole incidence rate, wastewater generation amount, separation of the back plated layer, the number of times the mold can be used, and the mold repair time of the glass forming molds manufactured according to the above-described Examples and Comparative Examples are as follows. As can be seen from the results below, according to the present invention, no or no pinhole was generated, the mold was reusable, and the repair time of the mold was also very short.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 핀홀 발생율Pinhole occurrence rate radish 3%3% 10∼12%10 to 12% 5%5% 8%8% 금형 재사용 회수Mold reuse 40회40 times 1회1 time 폐수 발생량Wastewater Generation 20ℓ/ea20ℓ / ea 20ℓ/ea20ℓ / ea 20ℓ/ea20ℓ / ea 20ℓ/ea20ℓ / ea 400ℓ/ea400ℓ / ea 금형 수리 시간Mold repair time 137min137min 325min325min 도금층 분리 여부Plated layer separation 양호Good 양호Good 양호Good 분리detach radish

본 발명의 유리성형용 브라운관 전주금형은 전주도금액 내에서 금형의 회전과 동시에 용액 교반으로 금형 표면의 금형 피막처리시 발생하는 공기 및 가스 등의 배출이 용이하여 도금면에 핀홀이 생기지 않아 도금 품질, 내식성, 이형성이 우수하고 열전도성도 양호한 유리 성형용 금형을 제공하는 효과가 있다. 또한, 금형 마모시에는 금형을 새로이 제작하여 사용해야하는 종래의 문제를 해결할 수 있어 금형 소재 비용 및 금형 가공 비용이 절감되고 금형 수리시마다 도금을 행하지 않아 도금시 발생되는 폐수를 감소시켜 환경 오염을 방지하는 한편 금형 수리시 박리 공정이 없는 관계로 금형 수리 시간이 감축된다.The glass tube CRT for molding of the present invention is easy to discharge the air and gas generated during the mold coating process on the surface of the mold by rotating the mold in the electroplating solution, so that the pinhole does not occur on the plated surface, so the plating quality is improved. There is an effect of providing a glass molding die having excellent corrosion resistance, good releasability and good thermal conductivity. In addition, when the mold is worn out, the conventional problem of making and using a new mold can be solved, thereby reducing mold material cost and mold processing cost, and eliminating plating every time the mold is repaired, thereby reducing wastewater generated during plating to prevent environmental pollution. On the other hand, the mold repair time is reduced because there is no peeling process during mold repair.

즉 본 발명의 전주 형성 방법 처리는 핀홀이 제거된 균일한 두께의 니켈 비철금속 전착층의 표면을 가지는 금형을 제공함으로써 성형품의 정교하고 미려한 전사가 가능하며, 종래는 금형의 표면 파손시 금형 자체를 새로이 제작해야 했지만, 본 발명의 금형의 경우 표면이 파손되면 상기 전주 형성 방법으로 니켈 층을 다시 전착(electro-deposition)시키는 방식만으로 마스터 금형의 재활용이 가능해진다.That is, the electroforming method treatment of the present invention provides a mold having a surface of a nickel nonferrous metal electrodeposition layer of uniform thickness with pinholes removed, thereby enabling precise and beautiful transfer of molded products. In the case of the mold of the present invention, if the surface is damaged, the master mold can be recycled only by electro-deposition of the nickel layer by the method of forming the pole.

또한 이 장치는 전주 형성시 일반 도금 표면처리에서 ㎛ 단위로 도금하는 것과 달리 1차 도금후 2차 도금하여 금속의 기본 표면에 98% 이상의 니켈금속을 약 5mm 두께의 균일한 Ni 전착층으로 니켈 금속층을 형성시키기 위하여 장시간 도금조에서 작업하는 조건하에서도 금형 도금의 품질이 우수하다.In addition, this device has a uniform Ni electrodeposition layer of about 5mm thickness of 98% or more nickel metal on the basic surface of the metal by the second plating after the first plating, unlike the plating in the unit of μm in general plating surface treatment when forming the pole. The quality of mold plating is excellent even under the conditions of working in the plating bath for a long time to form a mold.

Claims (8)

금형 주물을 전기 주조하여 유리성형용 금형을 제조함에 있어서, 상기 금형을 회전시키면서 220∼280시간 전기 주조하여 4∼6mm 두께로 도금하는 것을 특징으로 하는 유리성형용 금형의 제조방법.A method for manufacturing a glass molding die, wherein the die casting is electroformed to manufacture a glass molding die, and the die is electroplated for 220 to 280 hours while being plated to a thickness of 4 to 6 mm. 청구항 1에 있어서, 상기 전기 주조중인 금형 주물 주위에 전기도금액을 압입하여 용액을 교반하면서 전기 주조하는 것을 특징으로 하는 유리성형용 금형의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the electroplating solution is pressed into the die casting during electroforming and electroforming while stirring the solution. 청구항 1에 있어서, 상기 회전은 3-6cycle/hr로 실시하는 유리성형용 금형의 제조방법.The method of claim 1, wherein the rotation is performed at 3-6 cycles / hr. 청구항 1에 있어서, 상기 전기 주조중인 금형 주물 주위에 전기도금액을 압입하여 용액을 교반하면서 전기 주조하는 것을 특징으로 하는 유리성형용 금형의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the electroplating solution is pressed into the die casting during electroforming and electroforming while stirring the solution. 청구항 1에 있어서, 상기 전기 주조용 도금 용액은 순수 1ℓ, 니켈썰파메이트 40-60g/ℓ 및 계면활성제인 피트방지제 4-6ml/ℓ을 포함하는 것인 유리성형용 금형의 제조방법.The method of claim 1, wherein the plating solution for electroforming comprises 1 L of pure water, 40-60 g / L of nickel sulfamate, and 4-6 ml / L of a pit inhibitor, which is a surfactant. 청구항 4에 있어서, 상기 전기 주조용 도금액의 pH는 2 내지 4인 유리성형용 금형의 제조방법.The method according to claim 4, wherein the pH of the plating solution for electroforming is 2 to 4. 청구항 1에 있어서, 상기 금형 주물의 표면 하단부는 A1203 #40-180 메쉬로 블래스팅하여 거칠기를 형성한 것인 유리성형용 금형의 제조방법.The method of claim 1, wherein the lower surface of the die casting is formed by blasting with A1203 # 40-180 mesh to form a roughness. 애노드가 설치되어 있는 전주도금액을 수납하는 플레이팅 배쓰와;A plating bath for storing the electroplating solution in which an anode is installed; 상기 플레이팅 배쓰의 상부에 설치되어 금형 주물을 플레이팅 배쓰내에서 회전이 가능하도록 지지하는 회전 장치와;A rotating device installed on an upper portion of the plating bath to support the mold casting to be rotatable in the plating bath; 상기 플레이팅 배쓰에 설치된 격벽을 넘어 오버플로우되는 전주도금액을 여과 및 가압시켜 플레이팅 배쓰의 하부로 주입하는 여과/오버플로우 장치와;A filtration / overflow device for filtering and pressurizing the electroplating solution overflowing the partition wall installed in the plating bath to inject the lower portion of the plating bath; 상기 플레이팅 배쓰의 내부에서 도금액을 압입하여 전주도금액 자체를 교반시키는 블로우 시스템과;A blow system for injecting a plating solution into the plating bath to stir the whole plating solution itself; 상기 회전장치, 애노드가 설치된 플레이팅 배쓰, 여과/오버플로우 시스템 및 블로우 시스템을 전기적으로 연결하여 이들의 작동을 조절할 수 있도록 하는 조절 장치를;A regulating device for electrically connecting the rotating device, the plating bath equipped with an anode, the filtration / overflow system and the blow system to control their operation; 포함하는 유리성형용 전기 주조 장치.Electroforming device for glass molding comprising.
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