KR19980022381A - Back Pressure Monitoring System for Spin Dryers for Semiconductor Manufacturing - Google Patents
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Abstract
웨이퍼 건조작업을 위한 챔버내의 공기흐름을 항시 모니터링하여 외부로부터 공기유입시 인터록(Interlock)시켜 대형 공정불량 사고를 사전에 방지할 수 있도록 한 반도체 제조용 스핀드라이어의 역압 모니터링 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a back pressure monitoring system of a spin dryer for semiconductor manufacturing, which monitors air flow in a chamber for wafer drying at all times and interlocks air inflow from the outside to prevent a large process defect.
본 발명은 스핀드라이어(11)의 챔버(13)내에 설치되어 내부압을 검출하는 제 1 차압감지센서(18)와, 드레인 탱크(16)내에 설치되어 내부압을 검출하는 제 2 차압감지센서(19)와, 상기 제 1 및 제 2 차압감지센서로부터 출력된 데이터를 비교하여 제 1 차압감지센서에서 출력된 압력이 제 2 차압감지센서에서 출력된 압력보다 작을 때 스핀드라이어의 구동을 일시정지시키는 제어부(20)와, 상기 드레인 탱크(16)와 스핀드라이어의 배기라인(12) 사이에 연결된 연결라인(22)으로 이루어진 것이다.The present invention provides a first differential pressure sensor 18 installed in the chamber 13 of the spin dryer 11 to detect internal pressure, and a second differential pressure sensor installed within the drain tank 16 to detect internal pressure. 19) and comparing the data output from the first and second differential pressure sensor to stop the driving of the spin dryer when the pressure output from the first differential pressure sensor is less than the pressure output from the second differential pressure sensor. It consists of a control line 20, the connection line 22 connected between the drain tank 16 and the exhaust line 12 of the spin dryer.
따라서 챔버내의 공기흐름이 항시 모니터링되어 공기의 유입 또는 유입가능성이 있을 때 즉시 인터록시킴으로써 웨이퍼를 외부공기의 오염으로부터 방지할 수 있는 것이고, 이로인해 생산수율이 증가되어 제품단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.Therefore, the air flow in the chamber is always monitored to immediately interlock when there is a possibility of inflow or inflow of air, thereby preventing the wafer from contamination of external air, thereby increasing production yield and lowering product cost. .
Description
본 발명은 반도체 제조용 스핀드라이어(Spin Dryer)의 역압 모니터링 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼 건조작업을 위한 챔버내의 공기흐름을 항시 모니터링하여 외부로부터 공기유입시 인터록(Interlock)시켜 대형 공정불량 사고를 사전에 방지할 수 있도록 한 반도체 제조용 스핀드라이어의 역압 모니터링 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a back pressure monitoring system of a spin dryer for semiconductor manufacturing, and more particularly, to monitor the air flow in a chamber for wafer drying at all times to interlock when inflowing air from the outside, thereby causing a large process defect. It relates to a back pressure monitoring system of a spin dryer for manufacturing a semiconductor that can be prevented in advance.
일반적으로 스핀드라이어는 반도체 제조공정에서 습식공정후 웨이퍼를 건조시키기 위해 사용되는 장치로서, 도 1에 도시된 바와 같이 스핀드라이어(1)에 웨이퍼 건조작업시 에어를 배출하도록 배기라인(2)이 설치되어 있고, 정기적으로 스핀드라이어(1)의 챔버(3)내부를 H2O로 세척할 때 H2O를 배출하기 위한 제 1 및 제 2 드레인 라인(4)(5)이 설치되어 있다.In general, a spin dryer is a device used to dry a wafer after a wet process in a semiconductor manufacturing process, and as shown in FIG. 1, an exhaust line 2 is installed in the spin dryer 1 to discharge air during a wafer drying operation. It is, and has a first and a second drain line 4 (5) for discharging the H 2 O is provided to clean the interior of the chamber 3 of the periodic spin-dryer (1) in H 2 O.
또한 제 1 드레인 라인(4)과 제 2 드레인 라인(5) 사이에 드레인 탱크(6)가 설치되어 있고, 드레인 탱크(6)내의 제 2 드레인 라인(5) 끝단에 캡(7)이 설치되어 드레인 라인의 역압에 의해 건조작업시 챔버(3)내부로 공기가 유입되는 것을 방지하도록 구성되어 있다.In addition, a drain tank 6 is provided between the first drain line 4 and the second drain line 5, and a cap 7 is provided at the end of the second drain line 5 in the drain tank 6. The back pressure of the drain line is configured to prevent air from flowing into the chamber 3 during the drying operation.
그러나 제 2 드레인 라인(5)에 역압이 크게 작용하는 경우에는 캡(7)이 역압을 완전히 차단하지 못하여 일부공기가 제 1 드레인 라인(4)을 통해 챔버(3)내로 유입된다. 이때 종래의 스핀드라이어(1)는 정지상태(비회전시)에서 챔버(3)내부의 공기흐름을 모니터링할 수 있는 기능은 없고, 단지 스핀드라이어(1)의 건조작업시(회전시) 배기라인(2)으로 배출되는 공기의 양만을 측정할 수 있도록 되어 있다.However, when the back pressure is largely applied to the second drain line 5, the cap 7 does not completely block the back pressure so that some air flows into the chamber 3 through the first drain line 4. At this time, the conventional spin dryer 1 does not have a function of monitoring the air flow in the chamber 3 in the stationary state (non-rotation), but only during the drying operation of the spin dryer 1 (when rotating). Only the amount of air discharged to (2) can be measured.
따라서 스핀드라이어(1)가 정지한 상태에서는 챔버(3) 내부의 공기흐름을 검출할 수 없는 것이므로 이때에 제 1 및 제 2 드레인 라인(4)(5)을 통해 챔버(3) 내부로 공기가 유입되어도 알 수 없었던 것이고, 이 상태에서 챔버(3)내에 웨이퍼를 넣고 건조작업을 수행하는 경우 외부로부터 유입된 공기에 의해 웨이퍼가 오염됨으로써 이후에 수행되어질 공정에서 불량을 초래하게 되었으며, 이로인해 생산수율이 저하되어 제품단가를 상승시키는 문제점이 있었다.Therefore, since the air flow inside the chamber 3 cannot be detected when the spin dryer 1 is stopped, air flows into the chamber 3 through the first and second drain lines 4 and 5 at this time. If the wafer was placed in the chamber 3 and dried in this state, the wafer was contaminated by air introduced from the outside, resulting in defects in the process to be performed later. There was a problem that the yield is lowered to increase the product cost.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 챔버내부의 공기흐름을 항시 검출하여 외부로부터 공기가 유입되는 경우 즉시 작업을 중단시킴으로써 외부로부터 유입된 공기에 의해 웨이퍼가 오염되는 것을 방지할 수 있는 반도체 제조용 스핀드라이어의 역압 모니터링 시스템을 제공하는 것이다.The present invention is to solve the above conventional problems, the object is to detect the air flow in the chamber at all times, if the air flows from the outside to stop the work immediately by contamination of the wafer by the air introduced from the outside It is to provide a back pressure monitoring system of a spin dryer for semiconductor manufacturing that can be prevented.
도 1은 종래의 스핀드라이어를 개략적으로 나타낸 구성도이다.1 is a schematic view showing a conventional spin dryer.
도 2는 본 발명에 따른 역압 모니터링 시스템이 설치된 스핀드라이어를 개략적으로 나타낸 구성도이다.Figure 2 is a schematic diagram showing a spin dryer installed with a back pressure monitoring system according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1, 11 : 스핀드라이어 2, 12 : 배기라인1, 11: spin dryer 2, 12: exhaust line
3, 13 : 챔버 4, 5, 14, 15 : 드레인 라인3, 13: chamber 4, 5, 14, 15: drain line
6, 16 : 드레인 탱크 7, 17 : 캡6, 16: drain tank 7, 17: cap
18, 19 : 차압감지센서 20 : 제어부18, 19: differential pressure sensor 20: control unit
21 : 구동부 22 : 연결라인21: drive unit 22: connection line
23 : 개폐밸브23: on-off valve
상기의 목적은 스핀드라이어의 챔버내에 설치되어 내부압을 검출하는 제 1 차압감지센서와, 드레인 탱크내에 설치되어 내부압을 검출하는 제 2 차압감지센서와, 상기 제 1 및 제 2 차압감지센서로부터 출력된 데이터를 비교하여 제 1 차압감지센서에서 출력된 압력이 제 2 차압감지센서에서 출력된 압력보다 작을 때 스핀드라이어의 구동을 일시정지시키는 제어부와, 상기 드레인 탱크와 스핀드라이어의 배기라인 사이에 드레인 탱크내의 공기를 배출시키도록 연결된 연결라인으로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조용 스핀드라이어의 역압 모니터링 시스템에 의해 달성될 수 있다.The above object is provided by a first differential pressure sensor installed in the chamber of the spin dryer for detecting the internal pressure, a second differential pressure sensor installed in the drain tank for detecting the internal pressure, and the first and second differential pressure sensors. Comparing the output data between the controller for stopping the driving of the spin dryer when the pressure output from the first differential pressure sensor is less than the pressure output from the second differential pressure sensor, between the drain tank and the exhaust line of the spin dryer It can be achieved by the back pressure monitoring system of the spin dryer for semiconductor manufacturing, characterized in that the connection line is connected to discharge the air in the drain tank.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 따른 역압 모니터링 시스템이 설치된 스핀드라이어를 나타낸 것으로, 스핀드라이어(11)에 배기라인(12)이 설치되어 있고, 스핀드라이어(11)의 챔버(13)를 H2O로 세척할 때 H2O를 배출하기 위한 제 1 및 제 2 드레인 라인(14)(15)이 설치되어 있다.Figure 2 shows a spin dryer with a back pressure monitoring system according to the present invention, the exhaust line 12 is installed in the spin dryer 11, washing the chamber 13 of the spin dryer 11 with H 2 O First and second drain lines 14 and 15 for discharging H 2 O are provided.
상기 제 1 드레인 라인(14)과 제 2 드레인 라인(15) 사이에 드레인 탱크(16)가 설치되어 있고, 이 드레인 탱크(16)내에는 역압을 방지하기 위한 캡(17)이 제 2 드레인 라인(15)의 끝단에 설치되어 있다.A drain tank 16 is disposed between the first drain line 14 and the second drain line 15, and a cap 17 for preventing back pressure is provided in the drain tank 16. It is installed at the end of (15).
또한 상기 스핀드라이어(11)의 챔버(13)내에는 챔버(13)내의 공기압을 검출하는 제 1 차압감지센서(18)가 설치되어 있고, 상기 드레인 탱크(16)내에는 드레인 탱크(16)내의 공기압을 검출하는 제 2 차압감지센서(19)가 설치되어 있으며, 상기 제 1 및 제 2 차압감지센서(18)(19)가 검출하여 출력된 데이터는 제어부(20)로 전달되고, 제어부(20)는 두 데이터를 비교하여 제 1 차압감지센서(18)에서 검출된 압력이 더 작은 경우 스핀드라이어(11)의 모든 구동을 즉시 중단시키도록 구동부(21)를 제어하도록 구성되어 있다.In addition, a first differential pressure sensor 18 for detecting air pressure in the chamber 13 is provided in the chamber 13 of the spin dryer 11. In the drain tank 16, the first differential pressure sensor 18 is provided. A second differential pressure sensor 19 for detecting air pressure is provided, and the data detected and output by the first and second differential pressure sensors 18 and 19 is transferred to the controller 20, and the controller 20 is provided. ) Is configured to control the drive unit 21 by comparing the two data to immediately stop all driving of the spin dryer 11 when the pressure detected by the first differential pressure sensor 18 is smaller.
또한 상기 드레인 탱크(16)와 배기라인(12)은 연결라인(22)으로 연결되어 있고, 이 연결라인(22)에는 개폐밸브(23)가 설치되어 있으며, 이 개폐밸브(23)는 챔버(13)내의 압력이 드레인 탱크(16)내의 압력보다 낮을 때 개방시켜 드레인 탱크(16)내의 공기가 배기라인(12)으로 배출되도록 함으로써 공기가 챔버(13)로 유입되는 것을 방지하도록 된 것이다.In addition, the drain tank 16 and the exhaust line 12 is connected to the connection line 22, the connection line 22 is provided with an on-off valve 23, the on-off valve 23 is a chamber ( 13 when the pressure in the drain tank 16 is lower than the pressure in the drain tank 16 to allow the air in the drain tank 16 to be discharged to the exhaust line 12 to prevent the air from entering the chamber (13).
이러한 구성의 본 발명은 제 1 및 제 2 차압감지센서(18)(19)가 챔버(13) 및 드레인 탱크(16)의 내부공기를 항시 검출하게 된다. 따라서 제 1 및 제 2 차압감지센서(18)(19)에서 제어부(20)로 입력된 데이터가 동일한 경우는 챔버(13)내의 압력과 드레인 탱크(16)내의 압력이 동일한 상태이므로 제 1 및 제 2 드레인 라인(14)(15)을 통해 외부에서 챔버(13)내부로 외부공기가 유입될 염려가 없는 것이고, 제어부(20)는 구동부(21)를 정상적으로 구동시켜 스핀드라이어(11)가 웨이퍼의 건조작업을 수행할 수 있도록 한다.According to the present invention, the first and second differential pressure sensors 18 and 19 detect the internal air of the chamber 13 and the drain tank 16 at all times. Therefore, when the data inputted to the control unit 20 from the first and second differential pressure sensors 18 and 19 are the same, the pressure in the chamber 13 and the pressure in the drain tank 16 are the same. There is no fear that external air flows into the chamber 13 from the outside through the two drain lines 14 and 15, and the controller 20 drives the driving unit 21 normally so that the spin dryer 11 Allow the drying operation to be carried out.
이때 제 1 및 제 2 차압감지센서(18)(19)에서 제어부(20)로 입력된 압력중, 제 1 차압감지센서(18)에서 검출된 압력이 제 2 차압감지센서(19)에서 검출된 압력보다 작게 되면, 공기는 압력이 높은 쪽에서 낮은 쪽으로 흐르기 때문에 압력이 높은 드레인 탱크(16)에서 압력이 보다 낮은 챔버(13)쪽으로 외부공기가 유입되어 웨이퍼를 오염시킬 염려가 있다.At this time, the pressure detected by the first differential pressure sensor 18 is detected by the second differential pressure sensor 19 among the pressures input from the first and second differential pressure sensors 18 and 19 to the controller 20. When the pressure is lower than the pressure, air flows from the higher pressure to the lower pressure, so that the outside air flows from the high pressure drain tank 16 toward the lower pressure chamber 13 and contaminates the wafer.
따라서 제어부(20)는 이를 즉시 감지하여 구동부(21)를 제어함으로써 스핀드라이어(11)의 모든 동작을 일시정시키거나 스핀드라이어(11)가 구동하지 않도록 인터록시키게 되는 것이다. 그 후 연결라인(22)의 개폐밸브(23)를 개방시키게 되면, 드레인 탱크(16)내의 공기가 배기라인(12)으로 배출되므로 다시 드레인 탱크(16)내의 압력이 낮아지게 되고, 이로써 다시 챔버(13)내부 압력과 동일하게 되면, 제어부(20)는 구동부(21)를 다시 제어하여 스핀드라이어(11)가 웨이퍼 건조작업을 수행할 수 있도록 하는 것이다.Therefore, the control unit 20 immediately detects this and controls the driving unit 21 to temporarily interlock all operations of the spin dryer 11 or to interlock the spin dryer 11 so as not to drive. Then, when opening and closing the valve 23 of the connection line 22, the air in the drain tank 16 is discharged to the exhaust line 12, the pressure in the drain tank 16 is lowered again, thereby again the chamber (13) When the pressure is equal to the internal pressure, the control unit 20 controls the driving unit 21 again so that the spin dryer 11 can perform the wafer drying operation.
이상에서와 같이 본 발명에 따른 반도체 제조용 스핀드라이어의 역압 모니터링 시스템에 의하면, 챔버내의 공기흐름이 항시 모니터링되어 공기의 유입 또는 유입가능성이 있을 때 즉시 인터록시킴으로써 웨이퍼를 외부공기의 오염으로부터 방지할 수 있는 것이고, 이로인해 생산수율이 증가되어 제품단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the back pressure monitoring system of the spin dryer for semiconductor manufacturing according to the present invention, the air flow in the chamber is constantly monitored so that the wafer can be immediately interlocked when there is an inflow or inflow of air, thereby preventing the wafer from contamination of external air. This increases the production yield, thereby lowering the product cost.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.
Claims (3)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100701997B1 (en) * | 2000-11-27 | 2007-03-30 | 삼성전자주식회사 | Spin dryer |
-
1996
- 1996-09-21 KR KR1019960041509A patent/KR100227975B1/en not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100701997B1 (en) * | 2000-11-27 | 2007-03-30 | 삼성전자주식회사 | Spin dryer |
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|---|---|
| KR100227975B1 (en) | 1999-11-01 |
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