KR19980020129A - 반도체 공정챔버의 내부확인장치 - Google Patents

Abstract

공정챔버 내부로 빛이 조사되는 램프(Lamp)를 설치하여 반사경을 통한 공정챔버 내부확인시 보다 자세하고 정확하게 확인할 수 있어 공정관리의 신뢰도가 향상되도록 개선시킨 반도체 공정챔버의 내부확인장치에 관한 것이다.

본 발명은, 공정챔버의 내부를 육안으로 확인하기 위하여 반사경이 구비된 반도체 공정챔버 내부확인장치에 있어서, 상기 반사경을 통하여 상기 공정챔버의 내부를 육안으로 확인할 때 상기 공정챔버의 내부를 밝힐수 있도록 빛을 조사(照射)하는 램프가 상기 공정챔버에 설치되어 이루어짐을 특징으로 한다.

따라서, 본 발명에 의하면 보다 정확하고 자세하게 공정챔버의 내부를 확인할 수 있어 공정관리의 신뢰도를 향상시키는 효과가 있다.

Description

반도체 공정챔버의 내부확인장치

본 발명은 반도체 공정챔버(Process Chamber)의 내부확인장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 공정챔버 내부로 빛이 조사되는 램프(Lamp)를 설치하여 반사경을 통한 공정챔버 내부확인시 보다 자세하고 정확하게 확인할 수 있어 공정관리의 신뢰도가 향상되도록 개선시킨 반도체 공정챔버의 내부확인장치에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 제조설비는 공정이 직접적으로 수행되는 공정챔버와 상기 공정챔버에 웨이퍼(Wafer)를 로딩(Loading) 및 언로딩(Unloading)시키는 로더부(Loader) 및 이러한 각 부에서 일어나는 일련의 작업을 제어하는 콘솔부(Console)로 구성될 수 있고, 또한 반도체 제조를 위한 대부분의 공정이 일정한 진공도를 필요로 하기 때문에 진공상태를 만드는 진공부를 포함하여 크게 네 부분이 하나로 구성되어, 상기 각 부들이 유기적으로 동작하여 공정을 수행하는 것이다.

여기서 실제 웨이퍼에 막을 입히거나 식각을 하는 등의 공정은 공정챔버에서 수행되고, 웨이퍼 이동, 정렬상태(Align), 기타 이상상태 등의 공정등을 확인할 수 있도록 하여야 한다.

도1은 종래의 반도체 공정챔버의 내부확인장치를 나타내는 모식도이다.

먼저, 공정이 직접 수행되는 공정챔버(10) 및 공정챔버(10) 내부를 외부에서 육안으로 확인할 수 있도록 일정한 각도로 반사경(12)이 설치되어 있다.

여기서 종래에는 반사경(12)을 통하여 육안으로 공정챔버(10) 내부를 확인할 때 공정챔버(10)의 내부가 너무 어두워서 손전등(14)으로 반사경(12)을 직접 비추어(화살표 방향) 공정챔버(10) 내부를 확인하였다.

그러나 반사경(12)으로부터의 빛의 반사 및 작업자의 확인위치 등으로 인해 공정챔버(10) 내부를 자세하고 정확하게 확인할 수 없었다.

즉, 반사경(12)이 일정한 각도를 유지하고 있기 때문에 손전등(14)의 조사각도가 좁아지고, 또한 손전등(14)에서 조사되는 빛 때문에 작업자의 눈이 부시어서 자세하고 정확한 확인이 어려운 것이다.

따라서 종래에는 공정챔버의 내부확인이 정확하고 자세하게 수행되지 않아 공정관리의 신뢰도가 저하되는 문제점이 있었다.

본 발명의 목적은, 육안으로 공정챔버의 내부를 보다 자세하고 정확한 확인으로 공정관리의 신뢰도를 향상시키기 위한 반도체 공정챔버의 내부확인장치를 제공하는 데 있다.

도1은 종래의 반도체 공정챔버의 내부확인장치를 나타내는 모식도이다.

도2는 본 발명에 따른 반도체 공정챔버의 내부확인장치의 실시예를 나타내는 모식도이다.

※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10, 16 : 공정챔버 12, 18 : 반사경

14 : 손전등 20 : 스위치

22 ; 램프 24 : 튜브

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 공정챔버의 내부확인장치는, 공정챔버의 내부를 육안으로 확인하기 위하여 반사경이 구비된 반도체 공정챔버 내부확인장치에 있어서, 상기 반사경을 통하여 상기 공정챔버의 내부를 육안으로 확인할 때 상기 공정챔버의 내부를 밝힐수 있도록 빛을 조사(照射)하는 램프가 상기 공정챔버에 설치되어 이루어짐을 특징으로 한다.

그리고, 상기 램프는 상기 공정챔버 일면의 외벽에 설치되어, 스위치 조작으로 온/오프(On/Off)가 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 외부의 빛을 차단할 수 있도록 상기 반사경을 둘러쌀 수 있는 튜브가 더 설치되어, 상기 반사경을 통하여 육안으로 확인할 수 있는 부분으로는 뚫어져 있고, 그 반대편으로는 닫혀져 있는 것이 바람직하다.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도2는 본 발명에 따른 반도체 공정챔버의 내부확인장치의 실시예를 나타내는 모식도이다.

먼저, 공정이 직접 수행되는 공정챔버(16) 및 공정챔버(16) 내부를 외부에서 육안으로 확인할 수 있도록 일정한 각도로 반사경(18)이 설치되어 있다.

그리고 반사경(18)을 통하여 공정챔버(16) 내부를 확인할 때 빛을 조사할 수 있도록(화살표 방향) 스위치(Switch)(20) 조작으로 온/오프(On/Off)가 이루어지는 램프(22)가 공정챔버(16) 일면의 외벽으로 설치되어 있다.

또한 육안으로 확인하는 부분으로는 뚫어져 있고, 그 반대편으로는 닫혀져 외부의 빛을 차단하는 튜브(Tube)(24)가 반사경(18)을 덮을 수 있도록 설치되어 있다.

여기서 실시예는 스퍼터링(Sputtering)공정이 수행되는 공정챔버(16)이며, 반사경(18)을 통하여 공정챔버(16) 내부에서의 웨이퍼 이동, 정렬상태 및 기타 이상상태 등을 확인한다.

즉, 이렇게 반사경(18)을 통하여 공정챔버(16) 내부를 확인할 때 램프(22)를 이용하여 공정챔버(16) 내부를 밝힐 수 있도록 빛을 조사하는 것이다.

그러면 램프(22)에 의해 조사되는 빛이 공정챔버(16) 내부를 밝힐 수 있어 자세하고 정확하게 공정챔버(16) 내부를 확인할 수 있다.

그리고 스위치(20) 조작으로 램프(22)를 온/오프할 수 있어 공정챔버(16) 내부를 확인할 때만 이용함으로서 공정 수행에는 아무런 지장을 주지 않는다.

또한 실시예는 외부의 빛을 차단할 수 있도록 반사경(18)을 둘러싸는 튜브(24)를 설치하여 공정챔버(16) 내부를 확인할 때 그 효과를 극대화한다.

즉, 공정챔버(16) 내부를 확인할 때 튜브(24)에 의해 외부의 빛이 차단되고 램프(22)에 의해 공정챔버(16) 내부에만 빛이 조사되기 때문에 명암의 극명한 대조에 의해 확인하고자 하는 부분을 보다 정확하고 자세하게 볼 수 있는 것이다.

그래서 본 발명은 램프 및 튜브를 설치하여 보다 정확하고 자세하게 공정챔버의 내부를 확인할 수 있다.

따라서, 본 발명에 의하면 보다 정확하고 자세하게 공정챔버의 내부를 확인할 수 있어 공정관리의 신뢰도를 향상시키는 효과가 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (5)

1. 공정챔버의 내부를 육안으로 확인하기 위하여 반사경이 구비된 반도체 공정챔버 내부확인장치에 있어서,

   상기 반사경을 통하여 상기 공정챔버의 내부를 육안으로 확인할 때 상기 공정챔버의 내부를 밝힐수 있도록 빛을 조사(照射)하는 램프가 상기 공정챔버에 설치되어 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 공정챔버의 내부확인장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 램프는 상기 공정챔버 일면의 외벽에 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 공정챔버의 내부확인장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 램프는 스위치 조작으로 온/오프(On/Off)가 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 공정챔버의 내부확인장치.
4. 제 1 항에 있어서,

   외부의 빛을 차단할 수 있도록 상기 반사경을 둘러쌀 수 있는 튜브가 더 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 공정챔버의 내부확인장치.
5. 제 4 항에 있어서,

   상기 튜브는 상기 반사경을 통하여 육안으로 확인할 수 있는 부분으로는 뚫어져 있고, 그 반대편으로는 닫혀져 있음을 특징으로 하는 상기 반도체 공정챔버의 내부확인장치.