KR102683731B1 - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 세정 유닛을 통한 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판을 처리하는 장치는, 인덱스 모듈과; 상기 인덱스 모듈에 인접하게 배치되고, 기판을 처리하는 처리 모듈을 포함하되, 상기 처리 모듈은, 하나 또는 복수의 공정 챔버와; 상기 공정 챔버로 기판을 반송하는 메인 반송 로봇이 제공된 반송 챔버와; 상기 메인 반송 로봇을 세정하는 세정 유닛을 가질 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 방법{AN APPARATUS AND A METHOD FOR TREATING A SUBSTRATE}
본 발명은 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는 기판 처리 장치 내부에서 기판을 반송하는 로봇을 가지는 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 평판 표시 소자 제조나 반도체 제조 공정에서 유리 기판이나 웨이퍼를 처리하는 공정에는 감광액 도포 공정(photoresist coating process), 현상 공정(developing process), 식각 공정(etching process), 애싱 공정(ashing process) 등 다양한 공정이 수행된다.
각 공정에는 기판에 부착된 각종 오염물을 제거하기 위해, 약액(chemical) 또는 순수(deionized water)를 이용한 세정 공정(wet cleaning process)과 기판 표면에 잔류하는 약액 또는 순수를 건조시키기 위한 건조(drying process) 공정이 수행된다. 일반적인 기판 처리 장치는 공정 챔버에서 수행된 기판을 반출하거나, 공정 챔버로 기판을 반입하기 위해 반송 로봇을 가진다. 반송 로봇은 공정이 진행되는 전후로 기판을 직접 반송시키므로 높은 청정도를 유지하여야 한다. 그러나 마스크 또는 웨이퍼와 같은 기판을 공정 챔버에서 세정하는 과정에서 기판의 하면은 기판의 상면에 비해 세정 및 건조가 이뤄지지 않는다. 이 경우, 기판을 반송 로봇이 반송하는 도중에 기판의 하면에 잔존하는 액체 성분이 반송 로봇의 핸드를 오염시킨다. 또한, 경우에 따라서 세정을 하고 난 뒤 기판의 상면에 잔존하는 액체 성분이 기판의 엣지면을 타고 내려가 반송 로봇의 핸드를 오염시킬 수 있다.
이 경우, 반송 로봇으로 후속 기판을 반송하는 도중에 핸드에 잔류하는 오염물에 의해 후속 기판이 오염된다.
본 발명은 오염된 반송 로봇의 핸드로 인해 후속 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 장치 및 로봇 세정 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 반송 로봇의 핸드를 높은 청정도로 유지할 수 있는 기판 처리 장치 및 로봇 세정 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 인덱스 모듈 및 상기 인덱스 모듈에 인접하게 배치되고 기판을 처리하는 처리 모듈을 포함한다. 상기 처리 모듈은 하나 또는 복수의 공정 챔버, 상기 공정 챔버로 기판을 반송하는 메인 반송 로봇이 제공된 반송 챔버, 그리고 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 세정 유닛을 포함한다.
상기 세정 유닛은 하우징과 상기 하우징에 배치되며 상기 하우징 내로 반입된 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 세정 부재를 포함할 수 있다.
일 실시예에 의하면, 상기 세정 부재는 상기 하우징 내로 반입된 상기 메인 반송 로봇의 핸드의 상면으로 퍼지 가스를 토출하는 퍼지 노즐을 포함한다.
상기 세정 유닛은 상기 하우징 내에서 상기 퍼지 노즐보다 아래에 배치되는 액 받이판을 더 포함할 수 있다.
상기 세정 유닛은 상기 하우징 내부를 배기하는 배기부재를 더 포함하고, 상부에서 바라볼 때 상기 배기부재는 상기 액 받이판과 중첩되도록 상기 액 받이판보다 아래 위치에서 상기 하우징에 결합될 수 있다.
상기 퍼지 노즐은 아래 방향을 향해 퍼지 가스를 토출하는 토출구가 복수 개 형성되고, 상기 메인 반송 로봇의 핸드는 베이스판, 상기 기판이 놓이고 상기 베이스판으로부터 상부로 돌출되도록 배치되는 가이드를 포함하고, 상기 메인 반송 로봇의 핸드가 전진 및 후진에 의해 상기 하우징 내로 반입 및 반출시 상기 퍼지 노즐의 길이 방향은 상부에서 바라볼 때 상기 핸드의 전진 및 후진되는 방향에 대해 수직한 방향으로 제공될 수 있다.
상기 베이스판은 바디와, 상기 바디로부터 연장되는 한 쌍의 핑거를 포함하고, 상기 가이드는 상기 한 쌍의 핑거 각각의 전단에 설치된 제1가이드와 상기 한 쌍의 핑거 각각의 후단에 설치된 제2가이드를 포함하며, 상기 토출구는 상부에서 바라볼 때 상기 하우징 내로 상기 메인 반송 로봇의 핸드가 반입된 상태에서 상기 핑거와 대향되는 제1영역에 배치되는 복수의 제1홀을 포함할 수 있다.
상기 토출구는 상부에서 바라볼 때 상기 하우징 내로 상기 메인 반송 로봇의 핸드가 반입된 상태에서 상기 핑거들 사이의 공간과 대향되는 제2영역에 배치되는 복수의 제2홀을 더 포함하고, 상기 제1영역의 상기 제1홀들은 상기 제2영역의 상기 제2홀들보다 더 높은 밀도로 형성될 수 있다.
상기 세정 부재는 그 길이 방향이 퍼지 가스를 토출하는 복수의 토출구가 제공되는 보조 노즐을 더 포함하고, 상기 보조 노즐은 그 길이방향이 상하 방향으로 제공될 수 있다.
다른 실시예에 의하면, 상기 세정 부재는 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입하는 석션 부재를 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에 의하면, 상기 세정 부재는 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 닦아내는 브러쉬를 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에 의하면, 상기 세정 부재는 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입하는 석션 부재와 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 향해 퍼지 가스를 분사하는 퍼지 노즐을 포함하되, 상기 석션 부재와 상기 퍼지 노즐은 상기 핸드에 대해 수평 방향으로 이동하면서 상기 석션 부재가 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입한 후 상기 퍼지 노즐이 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 향해 퍼지 가스를 분사하도록 제공될 수 있다.
상기 메인 반송 로봇의 핸드는 베이스판과 상기 기판이 놓이고, 상기 베이스판으로부터 상부로 돌출되도록 배치되는 가이드를 포함하고, 상기 세정 부재는 상기 가이드를 세정하도록 제공될 수 있다.
또 다른 실시예에 의하면, 상기 세정 부재는 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 닦아내는 브러쉬와 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 향해 퍼지 가스를 분사하는 퍼지 노즐을 포함하되, 상기 브러쉬와 상기 퍼지 노즐은 상기 핸드에 대해 수평 방향으로 이동하면서 상기 브러쉬가 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 닦아낸 후 상기 퍼지 노즐이 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 향해 퍼지 가스를 분사하도록 제공될 수 있다.
상기 세정 유닛은 상기 세정 부재를 지지하는 지지대, 상기 지지대를 수평 방향으로 이동시키는 제1 구동기, 상기 제1 구동기에 의해 상기 지지대가 이동되는 도중에 상기 핸드의 상면과 상기 세정 부재 간의 거리를 측정하는 변위 센서, 그리고 상기 변위 센서에 의해 측정된 측정값에 근거하여 이동 중에 상기 세정 부재의 높이를 조절하는 제2 구동기를 더 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에 의하면, 상기 세정 부재는 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 향해 퍼지 가스를 분사하는 퍼지 노즐, 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입하는 흡입관을 포함하되, 상기 흡입관이 상기 메인 반송 로봇을 사이에 두고 일측에 배치되고 상기 퍼지 노즐이 타측에 배치되어 상기 흡입관과 상기 퍼지 노즐이 서로 대향하게 위치될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 세정 유닛은 상기 반송 챔버에 인접하게 설치될 수 있다.
다른 예에 의하면, 상기 세정 유닛은 상기 인덱스 모듈과 상기 반송 챔버 사이에 위치될 수 있다.
또 다른 예에 의하면, 상기 처리 모듈은 상기 인덱스 모듈과 상기 반송 챔버 사이에 배치되어 이들 간에 반송되는 기판이 일시적으로 저장되는 버퍼 모듈을 더 포함하되, 상기 세정 유닛은 상기 버퍼 모듈과 적층 되어 설치될 수 있다. 되는 기판 처리 장치.
또한, 기판을 처리하는 장치는 인덱스 모듈 및 상기 인덱스 모듈에 인접하게 배치되고, 기판을 처리하는 처리 모듈을 포함하되, 상기 처리 모듈은 하나 또는 복수의 공정 챔버, 상기 공정 챔버로 기판을 반송하는 메인 반송 로봇이 제공된 반송 챔버, 상기 메인 반송 로봇을 세정하는 세정 유닛, 그리고 상기 인덱스 모듈과 상기 반송 챔버 사이에 배치되어 이들 간에 반송되는 기판이 일시적으로 저장되는 버퍼 모듈을 포함하고, 상기 메인 반송 로봇의 핸드는 베이스판, 상기 기판이 놓이고 상기 베이스판으로부터 상부로 돌출되도록 배치되는 가이드를 포함하며, 상기 세정 유닛은 상기 버퍼 모듈과 적층 되어 설치되고, 상기 세정 유닛은 하우징, 상기 하우징에 비치되며 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 세정 부재를 포함한다. 상기 세정 부재는 상기 메인 반송 로봇의 핸드의 상기 가이드로부터 비산되는 이물질 또는 수분을 세정하도록 제공된다.
또한, 본 발명은 기판을 처리하는 방법을 제공한다. 기판 처리 방법은 상기 메인 반송 로봇에 놓인 기판을 반송하는 반송 단계와 상기 메인 반송 로봇에서 상기 기판이 제거된 상태에서 상기 세정 유닛으로 상기 메인 반송 로봇을 세정하는 세정 단계를 포함한다.
다른 예에 의하면, 기판을 처리하는 방법은 상기 메인 반송 로봇에 놓인 기판을 반송하는 반송 단계, 상기 메인 반송 로봇에서 상기 기판이 제거된 상태에서 상기 세정 유닛으로 상기 메인 반송 로봇을 세정하는 세정 단계를 포함하되, 상기 세정 단계는 상기 퍼지 노즐로부터 퍼지 가스가 분사되는 상태에서, 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 전진 또는 후진 이동하여 상기 제1가이드 및 상기 제2가이드를 순차적으로 세정한다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 오염된 반송 로봇의 핸드로 인해 후속 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 반송 로봇의 핸드를 높은 청정도로 유지할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치가 제공된 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 2는 도 1의 메인 반송 로봇의 핸드를 보여주는 사시도이다.
도 3은 도 2의 메인 반송 로봇 핸드의 제1 가이드를 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 2의 메인 반송 로봇 핸드의 제1 가이드를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 2의 메인 반송 로봇 핸드의 제2 가이드를 보여주는 사시도이다.
도 6은 도 2의 메인 반송 로봇 핸드의 제2 가이드를 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 1의 공정 챔버를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 8은 도 1의 버퍼 모듈과 세정 유닛의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 9는 도 8의 세정 부재의 다른 실시 예를 보여주는 단면도이다.
도 10 내지 도 12는 도 9의 세정 유닛을 사용하여 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다.
도 13 내지 15는 각각 도 9의 세정 유닛의 변형 예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 16은 도 8의 세정 부재의 다른 실시 예를 보여주는 단면도이다.
도 17 내지 도 19는 도 16의 세정 부재가 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다.
도 20은 도 8의 세정 부재의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 21과 도 22는 도 20의 세정 부재가 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다.
도 23은 도 20의 세정 부재의 브러쉬를 세정하는 것을 보여주는 도면이다.
도 24은 도 8의 세정 부재의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 25은 도 24의 세정 부재를 이용하여 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 상태를 보여주는 단면도이다.
도 26은 도 8의 세정 부재의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 27 내지 도 29은 도 26의 세정 부재를 이용하여 반송 로봇의 핸드를 세정하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다.
도 30은 도 8의 세정 유닛의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 31 및 도 32은 각각 도 1의 기판 처리 장치의 다른 예를 보여주는 평면도이다.
도 33는 도 1의 기판 처리 장치에서 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 방법을 보여주는 순서도이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
아래에서는 기판으로 사각 형상의 마스크를 예로 들어 설명한다. 그러나 이와 달리 기판은 웨이퍼와 같은 원형 플레이트이거나 평판 표시 디스플레이 제조에 사용되는 사각 패널일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치는 인덱스 모듈(1000)과 처리 모듈(2000)을 포함한다. 일 실시 예에 의하면, 인덱스 모듈(1000)과 처리 모듈(2000)은 일방향을 따라 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(1000)과 처리 모듈(2000)이 배치된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하고, 제1방향(12) 및 제2방향(14)에 모두 수직한 방향을 제3방향(16)이라 한다.
인덱스 모듈(1000)은 기판이 수납된 용기(1300)로부터 기판을 처리 모듈(2000)로 반송하고, 처리 모듈(2000)에서 처리가 완료된 기판을 용기(1300)로 수납한다. 인덱스 모듈(1000)의 길이 방향은 제2방향(14)으로 제공된다. 인덱스 모듈(1000)은 로드포트(1200, loadport)와 인덱스 프레임(1400)을 가진다. 인덱스 프레임(1400)을 기준으로 로드포트(1200)는 처리 모듈(2000)의 반대 측에 위치된다. 기판들이 수납된 용기(1300)는 로드포트(1200)에 놓인다. 로드포트(1200)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드포트(1200)는 제2방향(14)을 따라 배치될 수 있다.
용기(1300)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다. 용기(1300)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드포트에 놓일 수 있다.
인덱스 프레임(1400)에는 인덱스 로봇(1420)이 제공된다. 인덱스 프레임(1400) 내에는 길이 방향이 제2방향(14)으로 제공된 가이드 레일이 제공되고, 인덱스 로봇(1420)은 가이드 레일(1440) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(1420)은 기판이 놓이는 핸드(1460)를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(1460)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(1460)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진 이동할 수 있다.
처리 모듈(2000)은 버퍼 모듈(2200), 반송 챔버(2400), 공정 챔버(2600), 그리고 세정 유닛(미도시됨)을 포함한다. 버퍼 모듈(2200)은 처리 모듈(2000)로 반입되는 기판과 처리 모듈(2000)로부터 반출되는 기판이 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 반송 챔버(2400)는 버퍼 모듈(2200), 공정 챔버(2600) 간에 기판을 반송한다. 공정 챔버(2600)는 기판에 대해 공정을 수행한다. 세정 유닛은 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 세정한다.
반송 챔버(2400)는 그 길이 방향이 제1방향(12)으로 제공될 수 있다. 반송 챔버(2400)는 메인 반송 로봇(2420)을 가진다. 반송 챔버(2400) 내에는 길이 방향이 제1방향(12)으로 제공된 가이드 레일(2440)이 제공되고, 메인 반송 로봇(2420)은 가이드 레일(2440) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 메인 반송 로봇(2420)은 기판이 놓이는 핸드(2460)를 포함하며, 핸드(2460)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.
도 2는 도 1의 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 보여주는 사시도이다. 도 3은 도 2의 메인 반송 로봇(2420) 핸드(2460)의 제1 가이드(2466a, 2466b)를 보여주는 사시도이다. 도 4는 제1 가이드(2466a, 2466b)를 A-A 방향으로 바라본 단면도이다. 도 5는 도 2의 메인 반송 로봇(2420) 핸드의 제2 가이드(2468a, 2468b)를 보여주는 사시도이다. 도 6은 제2 가이드(2468a, 2468b)를 B-B방향으로 바라본 단면도이다.
도 2 내지 도 6을 참조하면, 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)는 베이스판(2461)과 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 포함한다.
베이스판(2461)은 바디(2462)와 핑거(2464a, 2464b)를 포함한다. 바디(2462)는 대체로 상면이 평평한 사각형의 판 모양으로 구성될 수 있다. 핑거(2464a, 2464b)는 바디(2462)의 전단에서 바디(2462)로부터 연장된다. 핑거(2464a, 2464b)는 2개가 제공된다. 핑거(2464a, 2464b)는 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 지지한다. 핑거(2464a, 2464b)들은 서로 평행하게 배치되고, 서로 이격되게 배치된다. 상술한 바와 달리, 핸드(2460)는 다양한 형상으로 제공될 수 있다.
가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)는 핑거(2464a, 2464b)에 설치된다. 일 예에 의하면, 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)는 각각의 핑거(2464a, 2464b)의 양 끝단에 제공된다. 따라서 하나의 핑거(2464a, 2464b)에는 2개의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)가 설치된다. 핸드(2460)는 4개의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 구비할 수 있다. 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)는 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)에 기판이 놓였을 때 기판과 직접 맞닿아 기판을 지지한다. 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)들은 핑거(2464a, 2464b)로부터 상부로 돌출되도록 핑거(2464a, 2464b)에 설치된다. 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)들은 기판의 네 모서리를 각각 지지할 수 있도록 위치된다. 핑거(2464a, 2464b)의 전단에 설치된 가이드를 제1 가이드(2466a, 2466b)라 칭하고, 핑거(2464a, 2464b)의 후단에 설치된 가이드를 제2 가이드(2468a, 2468b)라 칭한다.
도 3과 도 4를 참조하면, 제1 가이드(2466a, 2466b)는 바디를 가진다. 바디는 기판과 대향되는 내측면을 가진다. 내측면은 상측 부분(2463)과 하측 부분(2465)을 가진다. 핸드(2460)에 기판이 놓일 때, 기판은 상측 부분(2463)과 하측 부분(2465)이 만나는 부분에서 핸드에 접촉된 상태로 지지될 수 있다. 상측 부분(2463)은 제1 면과 제2 면을 가진다. 상측 부분(2463)의 중심축을 기준으로 제1 면과 제2 면은 각각 제1 면과 제2 면이 만나는 부분으로부터 멀어질수록 베이스판(2461)으로부터 멀어지는 방향으로 경사지게 형성된다. 하측 부분(2465)은 제1 면과 제2 면을 가진다. 하측 부분(2465)의 중심축을 기준으로 제1 면과 제2 면은 각각 제1 면과 제2 면이 만나는 부분으로부터 멀어질수록 하향되도록 형성된다. 상측 부분(2463)의 제1 면과 제2 면, 하측 부분(2465)의 제1 면과 제2 면은 모두 평평하게 제공될 수 있다.
도 5와 도 6을 참조하면, 제2 가이드(2468a, 2468b)는 바디를 가진다. 바디의 내측면은 제1 가이드(2466a, 2466b)와 동일 또는 유사한 형상을 가진다. 제2 가이드(2468a, 2468b)는 제1 가이드(2466a, 2466b)에 비해 긴 길이로 제공될 수 있다.
공정 챔버(2600)는 반송 챔버(2400)의 측부에 배치될 수 있다. 공정 챔버(2600)와 반송 챔버(2400)는 제2방향(14)을 따라 배치될 수 있다. 일 실시 예에 의하면, 공정 챔버(2600)들은 반송 챔버(2400)의 양측에 배치되고, 반송 챔버(2400)의 일측에서 공정 챔버(2600)들은 제1방향(12) 및 제3방향(16)을 따라 각각 A X B(A, B는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수) 배열로 제공될 수 있다. 상술한 바와 달리, 반송 챔버(2400)의 일측에만 공정 챔버(2600)들이 제공될 수 있으며, 공정 챔버(2600)는 반송 챔버(2400)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
도 7은 도 1의 공정 챔버(2600)를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 7을 참조하면, 공정 챔버(2600)는 하우징(2610), 컵(2620), 지지 유닛(2640), 액 공급 유닛(2660), 그리고 승강 유닛(2680)을 가진다. 하우징(2610)은 대체로 직육면체 형상으로 제공된다. 컵(2620), 지지 유닛(2640), 그리고 액 공급 유닛(2660)은 하우징(2610) 내에 배치된다.
컵(2620)은 상부가 개방된 처리 공간을 가지고, 기판은 처리 공간 내에서 액 처리된다. 지지 유닛(2640)은 처리 공간 내에서 기판을 지지한다. 액 공급 유닛(2660)은 지지 유닛(2640)에 지지된 기판 상으로 액을 공급한다. 액은 복수 종류로 제공되고, 기판 상으로 순차적으로 공급될 수 있다. 승강 유닛(2680)은 컵(2620)과 지지 유닛(2640) 간의 상대 높이를 조절한다.본 발명의 일 실시 예에 의하면, 컵(2620)은 복수의 회수통(2622, 2624, 2626)을 가진다. 회수통들은 각각 기판 처리에 사용된 액을 회수하는 회수 공간을 가진다. 각각의 회수통(2622, 2624, 2626)들은 지지 유닛을 감싸는 링 형상으로 제공된다. 액 처리 공정이 진행 시 기판의 회전에 의해 비산되는 처리액은 각 회수통(2622, 2624, 2626)의 유입구(2622a, 2624a, 2626a)를 통해 회수 공간으로 유입된다. 일 실시 예에 의하면, 컵(2620)은 제1회수통(2622), 제2회수통(2624), 그리고 제3회수통(2626)을 가진다. 제1회수통(2622)은 지지 유닛(2640)을 감싸도록 배치되고, 제2회수통(2624)은 제1회수통(2622)을 감싸도록 배치되고, 제3회수통(2626)은 제2회수통(2624)을 감싸도록 배치된다. 제2회수통(2624)으로 액을 유입하는 제2유입구(2624a)는 제1회수통(2622)으로 액을 유입하는 제1유입구(2622a)보다 상부에 배치되고, 제3회수통(2626)으로 액을 유입하는 제3유입구(2626a)는 제2유입구(2624a)보다 상부에 위치될 수 있다.
지지 유닛(2640)은 지지판(2642)과 구동축(2644)을 가진다. 지지판(2642)의 상면은 대체로 원형으로 제공되고 기판보다 큰 직경을 가질 수 있다. 지지판(2642)의 중앙부에는 기판의 후면을 지지하는 지지핀(2642a)이 제공되고, 지지핀(2642a)은 기판이 지지판(2642)으로부터 일정 거리 이격되도록 그 상단이 지지판(2642)으로부터 돌출되게 제공된다. 지지판(2642)의 가장자리부에는 척핀(2642b)이 제공된다. 척핀(2642b)은 지지판(2642)으로부터 상부로 돌출되게 제공되며, 기판이 회전될 때 기판이 지지 유닛으로부터 이탈되지 않도록 기판의 측
부를 지지한다. 구동축(2644)은 구동기(2646)에 의해 구동되며, 기판의 저면 중앙과 연결되며, 지지판(2642)을 그 중심축을 기준으로 회전시킨다. 상술한 바와 달리, 기판이 마스크와 같은 사각형의 모양인 경우에는 척핀(2642b)은 기판의 각 꼭지점부에 추가로 제공될 수 있다.
액 공급 유닛(2660)은 액 공급 노즐(2662)을 가진다. 액 공급 노즐(2662)은 처리액을 기판 상으로 공급한다. 처리액은 기판 상에 잔존하는 막이나 이물을 제거하는 액일 수 있다.
승강 유닛(2680)은 컵(2620)을 상하 방향으로 이동시킨다. 컵(2620)의 상하 이동에 의해 컵(2620)과 기판 간의 상대 높이가 변경된다. 이에 의해 기판에 공급되는 액의 종류에 따라 처리액을 회수하는 회수통(2622, 2624, 2626)이 변경되므로, 액들을 분리 회수할 수 있다. 상술한 바와 달리, 컵(2620)은 고정 설치되고, 승강 유닛(2680)은 지지 유닛(2640)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
도 8은 도 1의 버퍼 모듈(2200)과 세정 유닛(2800)의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 버퍼 모듈(2200)은 인덱스 모듈(1000)과 반송 챔버(2400) 사이에 배치된다. 도 8을 참조하면, 버퍼 모듈(2200)은 하우징(2220) 및 지지대(2240)를 가진다. 하우징(2220)은 대체로 직육면체 형상을 가진다. 지지대(2240)는 하우징(2220) 내에 위치된다. 지지대(2240)는 복수 개가 제공된다. 지지대(2240)들은 제3방향(16)을 따라 서로 간에 이격 되도록 배치될 수 있다. 하우징(2220)은 전면(front face)과 후면(rear face)이 개방된다. 전면은 인덱스 모듈(1000)과 마주보는 면이고, 후면은 반송 챔버(2400)와 마주보는 면이다. 인덱스 로봇(1420)은 전면을 통해 버퍼 모듈(2200)에 접근하고, 메인 반송 로봇(2420)은 후면을 통해 버퍼 모듈(2200)에 접근할 수 있다. 일 예에 의하면, 세정 유닛(2800)은 버퍼 모듈(2200)과 적층되게 배치된다. 세정 유닛(2800)은 버퍼 모듈(2200)의 아래에 배치된다. 이 경우, 기판 처리 장치에서 버퍼 모듈(2200)의 내부 및 반송 챔버(2400)가 갖는 공간에는 팬필터 유닛(미도시됨)에 의해 하강 기류가 제공된다. 따라서 세정 유닛(2800)에서 핸드(2460)를 세정할 때 발생될 수 있는 오염 물질이 버퍼 모듈(2200)에서 대기하고 있는 기판을 오염시키는 것을 방지할 수 있다.
세정 유닛(2800)은 하우징(2820), 세정 부재(2840), 그리고 배기 부재(2860)를 포함한다. 하우징(2820)은 메인 반송 로봇(2420)을 세정하는 공간을 제공한다. 하우징(2820)은 직육면체 형상을 가질 수 있다. 하우징(2820)의 측면 중 반송 챔버(2400)에 인접한 일면에는 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)가 출입되는 입구(2822)가 형성된다. 입구(2822)는 도어(도시되지 않음)에 의해 개폐될 수 있다. 핸드(2460) 세정 시에는 도어가 열리고, 핸드(2460)가 기판을 반송하는 도중에는 도어가 닫힌 상태로 제공될 수 있다. 세정 부재(2840)는 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 세정한다.
배기 부재(2860)는 하우징(2820)의 내부를 배기한다. 배기 부재(2860)는 메인 반송 로봇(2420)의 세정 시 하우징(2820)에 배기 압력을 제공한다. 배기 부재(2860)는 배기관과 감압 부재를 포함한다. 하우징징(2820) 내부의 이물질 또는 수분은 배기 라인을 통해 하우징(2820) 외부로 배출된다. 감압 부재는 배기관에 설치된다. 감압 부재는 펌프일 수 있다.
도 9는 세정 부재(2840)의 일 실시예가 도시된 세정 유닛의 내부 구조를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 세정 부재(2840)는 하우징(2820) 내로 반입된 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)로 퍼지 가스를 공급하여 핸드(2460) 상에 잔류하는 액을 핸드(2460)로부터 제거한다. 핸드(2460)에서 퍼지 가스에 의해 액이 제거되는 영역은 가이드(2466, 2468) 일 수 있다. 선택적으로 핸드(2460)에서 퍼지 가스에 의해 액이 제거되는 영역은 가이드(2466, 2468)가 설치된 핑거(2464a, 2464b)를 포함할 수 있다.
도 9를 참조하면, 세정 부재(2840)는 퍼지 노즐(2720)과 보조 노즐(2740)을 가진다.
퍼지 노즐(2720)은 그 길이 방향이 핑거(2464a, 2464b)들이 서로 간에 이격된 방향과 평행한 방향으로 제공된다. 핸드(2460)가 퍼지 노즐(2720)의 아래에 배치될 때 퍼지 노즐(2720)은 2개의 핑거(2464a, 2464b)들에 대해 동시에 퍼지 가스를 공급할 수 있는 길이로 제공된다.
퍼지 노즐(2720)은 바디(2724) 및 토출구(2726)를 가진다. 바디(2724)는 내부에는 퍼지가스가 흐르는 통로(2728)가 형성된다. 퍼지가스는 바디(2724)의 양측에서 각각 바디(2724)의 통로(2728)로 공급될 수 있다. 바디(2724)의 저면에는 통로(2728) 내의 퍼지 가스를 아래 방향으로 토출하는 토출구(2726)가 형성된다. 토출구(2726)는 복수 개가 제공된다. 복수의 토출구(2726)는 바디(2724)의 길이방향을 따라 배열될 수 있다. 예컨대, 복수의 토출구(2726)는 바디(2724)의 길이 방향을 따라 일렬로 배열되거나, 복수의 열로 배열될 수 있다.
일 예에 의하면, 복수의 토출구(2726)는 제1홀(2726)들과 제2홀(2724)들을 가진다. 제1홀(2726)들은 바디(2724)의 제1영역에 형성된다. 제2홀(2724)들은 바디(2724)의 제2영역에 형성된다. 핸드(2460)의 핑거(2464a, 2464b)가 퍼지 노즐(2720)의 아래에 배치될 때, 제1영역은 핑거(2464a, 2464b)와 대향되는 영역이고, 제2영역은 핑거(2464a, 2464b)들의 사이의 공간과 대향되는 영역이다. 제1영역에서 퍼지가스를 토출함으로써 핑거(2464a, 2464b) 또는 가이드(2466, 2468)에 잔류하는 수분을 효과적으로 제거할 수 있다. 또한, 제1영역 및 제2영역 전체에서 퍼지가스를 공급함으로써 하우징(2820) 내에서 부유하는 이물이나 수분을 퍼지가스와 함께 하우징(2820) 외부로 배기할 수 있다.
일 예에 의하면, 제1영역에서 제1홀(2726)들은 제2영역에서 제2홀(2724)들보다 높은 밀도로 형성될 수 있다. 제1홀(2726)과 제2홀(2724)의 직경을 동일하게 하고, 인접하는 제1홀(2726)들 간의 간격이 인접하는 제2홀(2724)들 간의 간격보다 좁게 형성될 수 있다. 이는 핑거(2464a, 2464b) 또는 가이드(2466, 2468)를 세정할 때, 핑거(2464a, 2464b) 또는 가이드(2466, 2468)로 상대적으로 많은 양의 퍼지 가스가 공급됨으로써 핑거(2464a, 2464b) 또는 가이드(2466, 2468)에서 수분 제거 효율을 더 향상시킬 수 있다.
보조 노즐(2740)은 그 길이 방향이 상하 "?향으?* 제공된다. 핸드(2460)가 하우징(2820) 내로 반입되었을 때 보조 노즐(2740)의 하단은 핸드(2460)보다 낮게 위치되고, 보조 노즐(2740)의 상단은 핸드(2460)보다 높게 위치된다. 보조 노즐(2740)은 하우징(2820) 내의 양 측면에 각각 배치될 수 있다. 예컨대. 핸드(2460)가 하우징(2820) 내로 반입되었을 때 핸드(2460)는 2개의 보조 노즐(2740) 사이에 위치된다. 보조 노즐(2740)들 중 하나는 핑거(2464a, 2464b)들 중 하나와 인접하게 위치되고, 보조 노즐(2740)들 중 다른 하나는 핑거(2464a, 2464b)들 중 다른 하나와 인접하게 위치된다.
보조 노즐(2740)은 바디(2742) 및 토출구(2746)를 가진다. 바디(2742)는 내부에 퍼지가스가 흐르는 통로(2744)가 형성된다. 퍼지가스는 바디(2742)의 일측 단부에서 바디(2742)의 통로(2744)로 공급될 수 있다. 이와 달리 퍼지가스는 바디(2742)의 양측 단부에서 바디(2742)의 통로(2744)로 각각 공급될 수 있다. 바디(2742)의 측면 중 핸드(2460)와 대향되는 면에는 통로(2744) 내의 퍼지 가스를 하우징(2820)의 내측 방향으로 토출구(2746)가 형성된다. 토출구(2746)는 복수 개가 제공된다. 복수의 토출구(2746)는 바디(2742)의 길이방향을 따라 배열될 수 있다. 예컨대, 복수의 토출구(2746)는 바디(2742)의 길이 방향을 따라 일렬로 배열되거나, 복수의 열로 배열될 수 있다. 복수의 토출구(2746)들은 서로 동일 간격으로 배치될 수 있다. 선택적으로 핸드(2460)와 마주보는 영역에서 토출구(2746)들은 다른 영역에서 토출구(2746)보다 조밀하게 형성될 수 있다. 보조 노즐(2740)로부터 공급되는 퍼지가스는 핑거(2464a, 2464b)의 측면, 또는 가이드(2466, 2468)의 측면에 잔류하는 액을 제거할 수 있다. 또한 보조 노즐(2740)로부터 공급되는 퍼지 가스는 하우징(2820) 내로 내의 기류를 중앙부를 향하는 방향으로 집중시킬 수 있다.
하우징(2820) 내의 저면 중앙에는 배기관(2864)이 결합될 수 있다. 이는 퍼지 노즐(2720) 또는 보조 노즐(2740)에서 퍼지 가스를 분출할 때 하우징(2820) 내에 와류 발생을 최소화할 수 있다. 감압 부재(2866)는 하우징(2820) 외부에서 배기관(2864)에 장착된다.
하우징(2820) 내에는 액 받침판(2760)이 제공될 수 있다. 액 받침판(2760)은 하우징(2820) 내로 반입된 핸드(2460)보다 낮은 위치에 배치된다. 또한, 액 받침판(2760)은 하우징(2820)의 바닥면보다 높게 위치된다. 액 받침판(2760)은 복수의 지지 로드(2762)에 의해 하우징(2820)의 바닥면으로부터 이격될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 액 받침판(2760)은 배기관(2864)의 배기구(2861)를 가리도록 위치된다. 액 받침판(2760)은 상면 및 하면이 평평한 판 형상으로 제공될 수 있다. 액 받침판(2760)은 핸드(2460)를 세정하는 과정에서 핸드(2460)에서 떨어지는 액이 배기구(2862)로 유입되는 것을 방지한다.
도 10 내지 도 12는 도 9의 세정 유닛을 사용하여 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 세정하는 과정을 순차적으로 보여준다. 도 10 내지 도 12에서 보조 노즐은 생략되었다.
도 10에 도시된 바와 같이, 핸드(2460)가 하우징(2820) 내로 반입되기 전에 퍼지 노즐(2720) 및 보조 노즐(2740)로부터 퍼지 가스가 토출된다. 핸드(2460)가 전진 이동됨에 따라 제1가이드(2466, 2468)가 퍼지 노즐(2720)의 수직 아래 위치로 진입된다. 퍼지 노즐(2720)로부터 토출되는 퍼지 가스는 제1가이드(2466, 2468)의 상면에 도달하고, 제1가이드(2466, 2468)의 상면에 잔류하는 액을 제거한다. 핸드(2460)가 계속적으로 전진함에 따라 도 11에 도시된 바와 같이, 제1가이드(2466, 2468)와 제2가이드(2466, 2468) 사이에 위치한 핑거(2464a, 2464b)의 상면으로 퍼지 가스가 직접 공급되어 액을 제거한다. 핸드(2460)가 계속적으로 전진함에 따라 도 12에 도시된 바와 같이 제2가이드(2466, 2468)가 퍼지 노즐(2720)의 수직 아래 위치로 진입된다. 퍼지 노즐(2720)로부터 토출되는 퍼지 가스는 제2가이드(2466, 2468)의 상면에 도달하고, 제2가이드(2466, 2468)의 상면에 잔류하는 액을 제거한다. 제1가이드(2466, 2468)와 제2가이드(2466, 2468)가 반복적으로 퍼지가스에 의해 세정될 수 있도록 핸드(2460)는 전진 및 후진 이동을 반복할 수 있다. 세정 과정에서 핑거(2464a, 2464b) 및 가이드(2466, 2468)로부터 떨어지는 액은 액 받침판(2760)의 상면으로 떨어진다. 그리고 하우징(2820) 내의 기류는 액 받침판(2760) 아래의 배기관(2864)을 통해 외부로 배기된다.
도 13 내지 15는 각각 도 9의 세정 유닛의 변형 예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 13에 도시된 바와 같이, 퍼지 노즐(2720a)은 제1영역과 제2영역 중 제1영역에만 토출홀들(2826a)이 제공될 수 있다. 이는 퍼지 노즐(2720)로부터 토출되는 퍼지 가스를 핑거(2464a, 2464b) 또는 가이드(2466, 2468)로 집중시켜 액 제거 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.
또한, 도 14에 도시된 바와 같이, 세정부재(2840)는 퍼지 노즐(2720)과 보조 노즐(2740) 중 퍼지 노즐(2720)만 구비할 수 있다.
또한, 도 15에 도시된 바와 같이 액 받침판(2760a)의 상면은 오목한 형상으로 제공될 수 있다. 이는 핑거(2464a, 2464b) 또는 가이드(2466, 2468)로부터 떨어지는 액이 다량인 경우, 액 받침판(2760) 상에 액을 안정적으로 보유할 수 있다.
도 16은 도 8의 세정 부재(2840)의 다른 실시 예를 보여주는 단면도이다. 도 16을 참조하면, 세정 부재(2840)는 지지대(2842), 석션 부재(2844), 퍼지 노즐(2846), 그리고 제1 구동기(2849)를 가진다.
지지대(2842)는 석션 부재(2844) 및 퍼지 노즐(2846)을 지지한다. 지지대(2842)는 그 길이 방향이 지면과 평행하게 제공된다. 지지대(2842)는 바 형상으로 제공될 수 있다. 지지대(2842)는 제1 구동기(2849)와 연결된다.
석션 부재(2844)는 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)에 있는 이물질 또는 수분을 흡입한다. 석션 부재(2844)는 환형 관의 형태로 제공되며, 지지대(2842)에 설치된다. 석션 부재(2844)는 그 흡입구가 하우징(2820) 내로 반입된 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 향하도록 배치된다.
퍼지 노즐(2846)은 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 퍼지 노즐(2846)은 지지대(2842)에 설치된다. 퍼지 노즐(2846)의 상부는 지면에 수직하게 제공되고, 퍼지 노즐(2846)의 하부는 메인 반송 로봇(2420)의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 향해 경사지게 설치된다. 지지대(2842) 내에는 퍼지 가스를 퍼지 노즐(2846)로 공급하는 공급 라인이 형성될 수 있다.
제1 구동기(2849)는 지지대(2842)를 하우징(2820) 내에 반입된 핸드와 평행한 방향으로 이동시킨다. 지지대(2842)는 메인 반송 로봇(2420) 핸드(2460)의 핑거(2464a, 2464b)를 따라 이동될 수 있다.
도 17 내지 도 19는 도 16의 세정 부재(2840)가 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 세정하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다. 도 17을 참조하면, 석션 부재(2844)가 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)에 있는 이물질 또는 수분을 흡입한다. 퍼지 노즐(2846)은 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 도 11를 참조하면, 지지대(2842)가 메인 반송 로봇(2420)의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 향해 제1 구동기(2849)에 의해 수평 이동한다. 세정 부재(2840)는 지지대(2842)의 이동 중에도 연속적으로 세정한다. 도 12를 참조하면, 세정 부재(2840)는 석션 부재(2844)가 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 세정한 후에도 수평 방향으로 이동한다. 퍼지 노즐(2846)은 계속적으로 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 이 경우, 분사된 퍼지 가스로 잔여 이물질 또는 수분을 제거한다.
세정 부재(2840)는 복수 개로 제공될 수 있다. 하나의 세정 부재(2840)가 제1 가이드(2466a, 2466b)를 향해 수평방향으로 이동하는 경우, 다른 세정 부재(2840)는 제2 가이드(2468a, 2468b)를 향해 수평방향으로 이동할 수 있다. 각각의 세정 부재(2840)는 동시에 이동하거나 별도로 이동할 수 있다.
도 20은 도 8의 세정 부재(2840)의 또 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 20을 참조하면, 세정 유닛(2800)은 하우징(2820), 세정 부재(2840), 그리고 브러쉬 세정기구를 가진다.
세정 부재(2840)는 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 세정한다. 세정 부재(2840)는 지지대(2841), 브러쉬(2843), 퍼지 노즐(2845), 그리고 제2 구동기(2850)를 포함한다. 지지대(2841)는 브러쉬(2843) 및 퍼지 노즐(2845) 지지한다. 지지대(2841)는 그 길이 방향이 지면과 평행하게 제공된다. 지지대(2841)는 바 형상으로 제공될 수 있다. 지지대(2841)는 제2 구동기(2850)와 연결된다.
브러쉬(2843)는 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460) 상에 잔류하는 이물질 또는 수분을 닦아낸다. 브러쉬(2843)는 브러쉬 바디(2843a)와 솔(2843b)을 포함한다. 브러쉬 바디(2843a)는 솔(2843b)을 고정한다. 브러쉬 바디(2843a)는 원통 형상으로 제공될 수 있다. 이 경우 브러쉬 바디(2843a)는 수직방향의 중심축을 기준으로 회전할 수 있다. 브러쉬 바디(2843a)의 저면에 솔(2843b)이 설치된다. 솔(2843b)은 핸드(2460) 상에 잔류하는 이물질 또는 수분을 닦아낸다. 솔(2843b)은 다수의 모가 브러쉬 바디(2843a)에 고정된 채로 제공된다.
퍼지 노즐(2845)은 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 퍼지 노즐(2845)은 지지대(2841)에 설치된다. 퍼지 노즐(2845)의 상부는 지면에 수직하게 제공되고, 퍼지 노즐(2845)의 하부는 메인 반송 로봇(2420)의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 향해 경사지게 설치된다. 지지대(2841) 내에는 퍼지 가스를 퍼지 노즐(2845)로 공급하는 공급 라인이 형성될 수 있다.
제2 구동기(2850)는 지지대(2841)를 하우징 내에 반입된 핸드(2460)와 평행한 방향으로 이동시킨다. 지지대(2841)는 메인 반송 로봇(2420) 핸드(2460)의 핑거(2464a, 2464b)를 따라 이동될 수 있다. 제2 구동기(2850)는 지지대(2841)를 수직 하부 방향으로 이동시킬 수 있다.
브러쉬 세정기구는 컵(2810)과 클리닝 노즐(2830)을 가진다. 컵(2810)은 브러쉬의 솔(2843b)을 세정하는 동안 이물질의 배출을 방지한다. 컵(2810)은 세정 유닛(2800)의 하부에 설치된다. 또한, 컵(2810)은 반송 로봇 핸드 핑거(2464a, 2464b)의 전단 또는 후단 하부에 위치될 수 있다. 컵(2810)은 브러쉬의 솔(2843b)을 감싸는 형상으로 제공된다. 컵(2810)은 상부가 개방된 내부 공간을 가진다. 컵(2810) 내부 공간의 이물질 또는 수분은 배출 라인을 통해 컵(2810) 외부로 배출된다.
클리닝 노즐(2830)은 액을 분사하여 브러쉬의 솔(2843b)을 세정한다. 클리닝 노즐(2830)은 환형 관의 형태로 제공될 수 있다. 클리닝 노즐(2830)은 컵(2810)의 상부 측면에 형성될 수 있다. 반송 로봇(2420)이 세정 유닛(2800)에서 제거된 상태에서 브러쉬(2843)가 하강하여 컵(2810)에 담긴다. 브러쉬(2843)가 컵(2810)에 담긴 후 클리닝 노즐(2830)이 브러쉬 솔(2843b)을 향해 DIW를 분사한다.
컵(2810)은 물이 채워진 상태로 제공될 수 있다. 물은 탈이온수(deionized water, DIW)일 수 있다. 브러쉬 솔(2843b)은 DIW 의해 세정된 후 컵(2810)에서 제거된다. 세정 후 DIW는 배출 라인을 통해 컵(2810) 외부로 배출된다.
세정 부재는 복수 개로 제공될 수 있다. 하나의 세정 부재(2840)가 제1 가이드(2466a, 2466b)를 향해 수평방향으로 이동하는 경우, 다른 세정 부재(2840)는 제2 가이드(2468a, 2468b)를 향해 수평방향으로 이동할 수 있다. 각각의 세정 부재(2840)는 동시에 이동하거나 별도로 이동할 수 있다.
도 21과 도 22는 도 20의 세정 부재(2840)가 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 세정하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다. 도 21을 참조하면, 브러쉬(2843)가 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)에 있는 이물질 또는 수분을 닦아낸다. 퍼지 노즐(2845)은 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 도 22를 참조하면, 지지대(2841)가 메인 반송 로봇(2420)의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 향해 제2 구동기(2850)에 의해 수평 이동한다. 세정 부재(2840)는 지지대(2841)의 이동 중에도 연속적으로 세정한다. 이 경우, 분사된 퍼지 가스로 잔여 이물질 또는 수분을 제거한다.
도 23은 도 13의 세정 부재의 브러쉬(2843)를 세정하는 것을 보여주는 도면이다. 도 23을 참조하면, 세정이 완료된 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)가 세정 유닛(2800)에서 제거된다. 핸드(2460)가 제거된 후 세정 부재(2840)는 세정 유닛(2800)의 하부에 있는 컵(2810)을 향해 하강한다. 브러쉬의 솔(2843b)이 컵(2810)에 반입될 때까지 하강한다. 클리닝 노즐(2830)이 DIW를 솔(2843b)을 향해 분사한다. 솔(2843b)로부터 비산된 이물질 또는 수분은 배출 라인을 통해 컵(2810) 외부로 배출된다.
도 24는 도 8의 세정 부재(2840)의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 24를 참조하면, 세정 부재(2840)는 흡입관(2847)과 퍼지 노즐(2848)을 포함한다.
흡입관(2847)은 메인 반송 로봇의 핸드(2460)로부터 이물질 또는 수분을 흡입한다. 흡입관(2847)은 환형 관의 형태로 제공될 수 있다. 흡입관(2847)은 세정 유닛(2800)의 상부에 배치된다. 퍼지 노즐(2848)은 메인 반송 로봇의 핸드(2460)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 퍼지 노즐(2848)은 세정 유닛(2800)의 상부에 배치된다. 퍼지 노즐(2848)은 핑거를 사이에 두고 서로 대향하도록 설치된다. 흡입관(2847)과 퍼지 노즐(2848)은 하나 또는 복수 개로 제공될 수 있다.
상술한 바와 달리, 세정 부재(2840)는 석션 부재, 수평 구동기, 그리고 수직 구동기로 구성될 수 있다. 세정 부재는 퍼지 노즐, 수평 구동기 그리고 수직 구동기로 구성될 수 있다. 세정 부재는 브러쉬, 수평 구동기 그리고 수직 구동기로 구성될 수 있다.
도 25는 도 24의 세정 부재(2840)를 이용하여 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 세정하는 상태를 보여주는 단면도이다. 도 25를 참조하면, 퍼지 노즐(2848)은 메인 반송 로봇의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 흡입관(2847)은 퍼지 노즐(2848)이 분사하는 동안 메인 반송 로봇의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)로부터 비산되는 이물질 또는 수분을 흡입한다. 이물질, 수분, 그리고 그 외의 비산되는 물질을 세정할 때 세정 시간이 단축되는 효과를 가진다.
도 26은 도 8의 세정 부재(2840)의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 26을 참조하면, 세정 부재(2840)는 지지대(2852), 석션 부재(2854), 퍼지 노즐(2856), 변위 센서(2858), 수평 구동기(2851), 그리고 수직 구동기(2853)를 가진다.
지지대(2852)는 석션 부재(2854), 퍼지 노즐(2856), 그리고 변위 센서(2858)를 지지한다. 지지대(2852)는 그 길이 방향이 지면과 평행하게 제공된다. 지지대(2852)는 바 형상으로 제공될 수 있다. 지지대(2852)는 수평 구동기(2851) 및 수직 구동기(2853)와 연결된다.
석션 부재(2854)는 메인 반송 로봇의 핸드(2460)에 있는 이물질 또는 수분을 흡입한다. 석션 부재(2854)는 환형 관의 형태로 제공되며, 지지대(2852)에 설치된다. 석션 부재(2854)는 그 흡입구가 하우징 내로 반입된 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 향하도록 배치된다.
퍼지 노즐(2856)은 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)를 향해 퍼지 가스를 분사한다. 퍼지 노즐(2856)은 지지대(2852)에 설치된다. 퍼지 노즐(2856)의 상부는 지면에 수직하게 제공되고, 퍼지 노즐(2856)의 하부는 메인 반송 로봇(2420)의 가이드(2466a, 2466b, 2468a, 2468b)를 향해 경사지게 설치된다. 지지대(2852) 내에는 퍼지 가스를 퍼지 노즐(2856)로 공급하는 공급 라인이 형성될 수 있다.
변위 센서(2858)는 핸드(2460)의 상면의 높이를 측정한다. 변위 센서(2858)는 지지대(2852)에 설치된다. 변위 센서(2858)는 석션 부재(2854) 또는 퍼지 노즐(2856)과 인접하게 위치될 수 있다. 지지대(2852)가 수평 구동기(2851)에 의해 수평 이동하는 동안에 변위 센서(2858)는 핸드와의 거리를 계속적으로 측정한다.
수평 구동기(2851)는 지지대(2852)를 하우징 내에 반입된 핸드(2460)와 평행한 방향으로 이동시킨다. 지지대(2852)는 메인 반송 로봇 핸드(2460)의 핑거(2464a, 2464b)를 따라 이동될 수 있다.
수직 구동기(2853)는 지지대(2852)를 하우징 내에 반입된 핸드(2460)와 수직한 방향으로 이동시킨다. 제2 구동기(2853)는 변위 센서(2858)에 의해 측정된 값에 근거하여 수평 이동 중에 세정 부재(2840)가 연결된 지지대(2852)의 높이를 조절한다.
도 27 내지 도 29는 도 26의 세정 부재를 이용하여 반송 로봇의 핸드를 세정하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다. 도 27을 참조하면, 변위 센서(2858)가 메인 반송 로봇(2420)의 핸드(2460)의 상면으로부터 변위 센서(2858)까지의 높이를 측정한다. 이 경우, 변위 센서가 측정한 높이를 d1이라 칭한다. 도 28을 참조하면, 지지대(2852)가 수평방향으로 이동하면서 변위 센서(2858)는 계속적으로 핸드(2460)의 상면으로부터 변위 센서(2858)까지의 높이를 측정한다. 이동 후 측정한 높이를 d2라 칭한다. 도 29를 참조하면, (d1 - d2) 값에 따라 수직 구동기(2853)에 의해 지지대(2852)가 수직 방향으로 상승한다. 변위 센서(2858)가 측정한 높이가 d1이 되면 수직 구동기(2853)에 의한 상승이 멈춘다. 즉, (d1 - d2) 값이 0이라면, 지지대(2852)는 수평방향으로 이동하고, (d1 - d2) 값이 양수라면, 지지대(2852)는 차이값에 따라 수직 상승한 후 다시 수평방향으로 이동한다.
도 26의 세정 부재의 구조는 도 16 및 도 20의 세정 부재의 구조에도 동일하게 적용될 수 있다. 따라서 변위 센서에 의해 측정된 값에 따라 세정 부재가 이동되는 과정이 동일하게 적용될 수 있다.
도 30은 도 8의 세정 유닛의 또 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 30을 참조하면, 검출 부재(2880)는 메인 반송 로봇 핸드(2460)의 오염도를 측정한다. 검출 부재(2880)는 핸드(2460) 상부의 오염 여부를 측정하기 위해 하우징의 상면에 위치될 수 있다. 검출 부재(2880)는 카메라 또는 이미지를 관측할 수 있는 센서로 구성될 수 있다. 검출 부재(2880)로 측정하거나 관찰된 오염도에 따라 세정 여부가 결정된다. 상술한 바와 달리, 기판 처리 장치에서 처리된 기판의 수에 따라 세정 여부가 결정될 수 있다. 다른 예에 의하면, 일정한 주기에 따라서 세정 여부가 결정될 수 있다.
상술한 예에서는 세정 유닛(2800)이 버퍼 모듈(2200)과 적층되어 배치된 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리, 세정 유닛(2800)은 처리 모듈(2200) 내에 배치될 수 있다. 예컨대, 도 31와 같이 공정 챔버(2600)와 세정 유닛(2800)은 제1방향(12)을 따라 배열될 수 있다. 선택적으로 도 32에 도시된 바와 같이, 세정 유닛(2800)은 반송 챔버(2400)를 기준으로 버퍼 모듈(2200)과 반대측에 배치될 수 있다.
도 33은 본 발명의 일 실시예에 따른 로봇 세정 방법을 보여주는 순서도이다. 로봇 세정 방법은 기판 반송 단계(S10), 오염도 측정 단계(S20), 세정 여부 결정 단계(S30), 그리고 로봇 세정 단계(S40)를 포함한다.
기판 반송 단계(S10)는 버퍼 모듈(2200)에서 공정 챔버(2600)로 기판을 반송하는 단계(S11)와 공정 챔버(2600)에서 버퍼 모듈(2200)로 기판을 반송하는 단계(S12)로 구성된다. 메인 반송 로봇(2420)이 버퍼 모듈(2200)에서 공정 챔버(2600)로 기판을 반송한 후 공정 챔버(2600)에서 세정 공정이 진행된다. 공정이 진행된 후 메인 반송 로봇(2420)이 공정 챔버(2600)에서 버퍼 모듈(2200)로 기판을 반송한다.
반송 로봇 오염도 측정 단계(S20)에서 기판 반송 단계 후 검출 부재(2880)를 통해 핸드(2460) 상부의 오염도를 측정한다. 메인 반송 로봇(2420)이 세정 유닛(2800)의 입구로 들어온 후 오염도를 측정한다. 오염도 측정은 기판이 제거된 상태에서 진행된다.
세정 여부 결정 단계(S30)는 측정된 오염도에 따라 세정 여부를 결정하는 단계이다. 기설정된 조건과 오염도를 비교하여 세정 여부를 결정한다. 오염도가 설정 조건보다 낮은 경우, 메인 반송 로봇(2420)은 세정 유닛(2800)에서 반출된 후 기판을 반송하는 단계(S11)를 진행한다. 오염도가 설정 조건보다 높은 경우, 세정 부재를 통해 로봇 세정 단계(S40)가 진행된다.
로봇 세정 단계(S40)는 세정 부재(2840)를 통해 메인 반송 로봇(2420)을 세정하는 단계이다. 세정이 완료된 후 검출 부재(2880)를 통해 메인 반송 로봇(2420)의 오염도 상태를 다시 측정한다. 오염도가 설정조건보다 낮은 경우, 메인 반송 로봇(2420)은 세정 유닛(2800)에서 반출된 후 기판을 반송하는 단계(S11)를 진행한다. 오염도가 설정 조건보다 높은 경우, 다시 로봇 세정 단계(S40)를 진행한다.
다른 실시 예에 의하면, 세정 여부 결정 단계는 기판 처리 장치에서 공정이 진행된 기판의 수에 따라 세정 진행 여부가 결정될 수 있다. 이 경우, 세정 여부 결정 단계의 시간이 단축되어 세정 효율을 높일 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
1000: 인덱스 모듈 2000: 처리 모듈
2200: 버퍼 모듈 2400: 반송 챔버
2420: 메인 반송 로봇 2600: 공정 챔버
2800: 세정 유닛 2840: 세정 부재
2880: 검출 부재

Claims (22)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    인덱스 모듈; 및
    상기 인덱스 모듈에 인접하게 배치되고, 기판을 처리하는 처리 모듈을 포함하되,
    상기 인덱스 모듈은,
    기판이 수납된 용기로부터 기판을 상기 처리 모듈로 반송하고, 상기 처리 모듈에서 처리가 완료된 기판을 용기로 수납하고,
    상기 처리 모듈은,
    하나 또는 복수의 공정 챔버와;
    상기 공정 챔버로 기판을 반송하는 메인 반송 로봇이 제공된 반송 챔버와;
    상기 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 세정 유닛을 포함하고,
    상기 세정 유닛은,
    하우징과;
    상기 하우징에 배치되며, 상기 하우징 내로 반입된 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 세정 부재를 포함하고,
    상기 세정 부재는,
    상기 하우징 내로 반입된 상기 메인 반송 로봇의 핸드의 상면으로 퍼지 가스를 토출하는 퍼지 노즐; 및
    상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입하는 석션 부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 세정 유닛은
    상기 하우징 내에서 상기 퍼지 노즐보다 아래에 배치되는 액 받이판을 더 포함하는 기판 처리 장치
  5. 제4항에 있어서,
    상기 세정 유닛은,
    상기 하우징 내부를 배기하는 배기부재를 더 포함하고,
    상부에서 바라볼 때 상기 배기부재는 상기 액 받이판과 중첩되도록 상기 액 받이판보다 아래 위치에서 상기 하우징에 결합되는 기판 처리 장치.
  6. 제4항 및 제5항 중 어느 하나에 있어서,
    상기 퍼지 노즐은 아래 방향을 향해 퍼지 가스를 토출하는 토출구가 복수 개 형성되고,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드는,
    베이스판과;
    상기 기판이 놓이고, 상기 베이스판으로부터 상부로 돌출되도록 배치되는 가이드를 포함하고,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드가 전진 및 후진에 의해 상기 하우징 내로 반입 및 반출될 때 상기 퍼지 노즐의 길이 방향은 상부에서 바라볼 때 상기 핸드의 전진 및 후진되는 방향에 대해 수직한 방향으로 제공되는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 베이스판은,
    바디와;
    상기 바디로부터 연장되는 한 쌍의 핑거를 포함하고,
    상기 가이드는
    상기 한 쌍의 핑거 각각의 전단에 설치된 제1가이드와;
    상기 한 쌍의 핑거 각각의 후단에 설치된 제2가이드를 포함하며,
    상기 토출구는,
    상부에서 바라볼 때 상기 하우징 내로 상기 메인 반송 로봇의 핸드가 반입된 상태에서 상기 핑거와 대향되는 제1영역에 배치되는 복수의 제1홀을 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 토출구는 상부에서 바라볼 때 상기 하우징 내로 상기 메인 반송 로봇의 핸드가 반입된 상태에서 상기 핑거들 사이의 공간과 대향되는 제2영역에 배치되는 복수의 제2홀을 더 포함하고,
    상기 제1영역에서 상기 제1홀들은 상기 제2영역에서 상기 제2홀들보다 더 높은 밀도로 형성되는 기판 처리 장치.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 세정 부재는 그 길이 방향이 퍼지 가스를 토출하는 복수의 토출구가 제공되는 보조 노즐을 더 포함하고,
    상기 보조 노즐은 그 길이방향이 상하 방향으로 제공되는 기판 처리 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 세정 부재는,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입하는 석션 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 세정 부재는,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 닦아내는 브러쉬를 포함하는 기판 처리 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 석션 부재와 상기 퍼지 노즐은 상기 핸드에 대해 수평 방향으로 이동하면서 상기 석션 부재가 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입한 후 상기 퍼지 노즐이 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 향해 퍼지 가스를 분사하도록 제공되는 기판 처리 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드는,
    베이스판과;
    상기 기판이 놓이고, 상기 베이스판으로부터 상부로 돌출되도록 배치되는 가이드를 포함하고,
    상기 세정 부재는 상기 가이드를 세정하도록 제공되는 기판 처리 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 세정 부재는,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 닦아내는 브러쉬를 포함하되,
    상기 브러쉬와 상기 퍼지 노즐은 상기 핸드에 대해 수평 방향으로 이동하면서 상기 브러쉬가 상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 닦아낸 후 상기 퍼지 노즐이 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 향해 퍼지 가스를 분사하도록 제공되는 기판 처리 장치.
  15. 제10항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 세정 유닛은,
    상기 세정 부재를 지지하는 지지대와;
    상기 지지대를 수평 방향으로 이동시키는 제1 구동기와;
    상기 제1 구동기에 의해 상기 지지대가 이동되는 도중에 상기 핸드의 상면과 상기 세정 부재 간의 거리를 측정하는 변위 센서와;
    상기 변위 센서에 의해 측정된 측정값에 근거하여 이동 중에 상기 세정 부재의 높이를 조절하는 제2 구동기를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 세정 부재는,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입하는 흡입관을 포함하되,
    상기 흡입관이 상기 메인 반송 로봇을 사이에 두고 일측에 배치되고 상기 퍼지 노즐이 타측에 배치되어 상기 흡입관과 상기 퍼지 노즐이 서로 대향하게 위치되는 기판 처리 장치.
  17. 제1항, 제4항, 제5항, 제10항 내지 제14항, 그리고 제16 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 세정 유닛은,
    상기 반송 챔버에 인접하게 설치되는 기판 처리 장치.
  18. 제1항, 제4항, 제5항, 제10항 내지 제14항, 그리고 제16 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 세정 유닛은,
    상기 인덱스 모듈과 상기 반송 챔버 사이에 위치되는 기판 처리 장치.
  19. 제1항, 제4항, 제5항, 제10항 내지 제14항, 그리고 제16 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리 모듈은,
    상기 인덱스 모듈과 상기 반송 챔버 사이에 배치되어 이들 간에 반송되는 기판이 일시적으로 저장되는 버퍼 모듈을 더 포함하되,
    상기 세정 유닛은,
    상기 버퍼 모듈과 적층 되어 설치되는 기판 처리 장치.
  20. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    인덱스 모듈; 및
    상기 인덱스 모듈에 인접하게 배치되고, 기판을 처리하는 처리 모듈을 포함하되,
    상기 처리 모듈은,
    하나 또는 복수의 공정 챔버와;
    상기 공정 챔버로 기판을 반송하는 메인 반송 로봇이 제공된 반송 챔버와;
    상기 메인 반송 로봇을 세정하는 세정 유닛과;
    상기 인덱스 모듈과 상기 반송 챔버 사이에 배치되어 이들 간에 반송되는 기판이 일시적으로 저장되는 버퍼 모듈을 포함하되,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드는,
    베이스판과;
    상기 기판이 놓이고, 상기 베이스판으로부터 상부로 돌출되도록 배치되는 가이드를 포함하고,
    상기 세정 유닛은,
    상기 버퍼 모듈과 적층 되어 설치되고,
    하우징과;
    상기 하우징에 비치되며, 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 세정하는 세정 부재를 포함하며,
    상기 세정 부재는,
    상기 하우징 내로 반입된 상기 메인 반송 로봇의 핸드의 상면으로 퍼지 가스를 토출하는 퍼지 노즐; 및
    상기 메인 반송 로봇의 핸드로부터 이물질 또는 수분을 흡입하는 석션 부재를 더 포함하고,
    상기 메인 반송 로봇의 핸드의 상기 가이드로부터 비산되는 이물질 또는 수분을 세정하도록 제공되는 기판 처리 장치.
  21. 제1항의 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    상기 메인 반송 로봇에 놓인 기판을 반송하는 반송 단계와;
    상기 메인 반송 로봇에서 상기 기판이 제거된 상태에서 상기 세정 유닛으로 상기 메인 반송 로봇을 세정하는 세정 단계를 포함하는 기판 처리 방법.
  22. 제7항의 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    상기 메인 반송 로봇에 놓인 기판을 반송하는 반송 단계와;
    상기 메인 반송 로봇에서 상기 기판이 제거된 상태에서 상기 세정 유닛으로 상기 메인 반송 로봇을 세정하는 세정 단계를 포함하되,
    상기 세정 단계는,
    상기 퍼지 노즐로부터 퍼지 가스가 분사되는 상태에서, 상기 메인 반송 로봇의 핸드를 전진 또는 후진 이동하여 상기 제1가이드 및 상기 제2가이드를 순차적으로 세정하는 기판 처리 방법.
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