KR102669463B1 - 광학 소스에 의해 생성된 출력 광 빔의 스펙트럼 특성 제어 - Google Patents

광학 소스에 의해 생성된 출력 광 빔의 스펙트럼 특성 제어 Download PDF

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Abstract

시스템은 복수의 광학 오실레이터를 포함하는 광학 소스; 스펙트럼 분석 장치; 및 컨트롤러를 포함한다. 각 광학 오실레이터는 광 빔을 생성하도록 구성된다. 컨트롤러는 스펙트럼 분석 장치로부터의 데이터를 기반으로, 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 복수의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록 구성된다. 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 광학 오실레이터들 중 또 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다르다면, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 또는 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된다.

Description

광학 소스에 의해 생성된 출력 광 빔의 스펙트럼 특성 제어
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2019년 11월 7일에 출원되고 발명의 명칭이 "CONTROLLING A SPECTRAL PROPERTY OF AN OUTPUT LIGHT BEAM PRODUCED BY AN OPTICAL SOURCE "인 미국출원 제62/932,250호의 우선권을 주장하며, 이의 내용은 원용에 의해 전체적으로 본 명세서 내에 포함된다.
본 발명은 광학 소스에 의해 생성된 출력 광 빔의 스펙트럼 특성을 제어하는 것에 관한 것이다. 광학 소스는 복수의 광학 오실레이터를 포함하며, 이들의 각각은 심자외(DUV) 광 빔을 생성할 수 있다.
포토리소그래피는 반도체 회로가 실리콘 웨이퍼와 같은 기판에 패터닝되는 공정이다. 광학 소스는 웨이퍼 상의 포토레지스트를 노광시키기 위해 사용되는 심자외(DUV) 광을 생성한다. DUV 광은 예를 들어, 약 100 나노미터(㎚) 내지 약 400㎚의 파장을 포함할 수 있다. 흔히, 광학 소스는 레이저 소스 (예를 들어, 엑시머 레이저)이며, DUV 광은 펄스형 레이저 빔이다. 광학 소스로부터의 DUV 광은 투영 광학 시스템과 상호 작용하며, 투영 광학 시스템은 빔을 마스크를 통해 실리콘 웨이퍼 상의 포토레지스트 상으로 투영시킨다. 이렇게 하여, 칩 디자인의 층이 포토레지스트 상으로 패터닝된다. 포토레지스트와 웨이퍼는 그후 에칭 및 세정되며, 그후 포토리소그래피 공정이 반복된다.
일 양태에서, 시스템은 복수의 광학 오실레이터를 포함하는 광학 소스; 스펙트럼 분석 장치; 및 컨트롤러를 포함한다. 각 광학 오실레이터는 광 빔을 생성하도록 구성된다. 컨트롤러는 스펙트럼 분석 장치로부터의 데이터를 기반으로, 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 복수의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록 구성되며; 그리고 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다르다면, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 또는 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된다.
구현 형태는 다음의 특징들 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
스펙트럼 특성은 스펙트럼 대역폭을 포함할 수 있다. 제어 시스템은 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 복수의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 대역폭보다 작은지 여부를 결정함으로써, 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 상이한지 여부를 결정하도록 구성될 수 있다. 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작다면, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 대역폭을 증가시킬 수 있다.
본 시스템은 또한 복수의 스펙트럼 조정 장치를 포함할 수 있다. 각 광학 오실레이터는 복수의 스펙트럼 조정 장치 중 하나와 연관될 수 있으며, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 임의의 것과 연관된 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성되어 그에 의하여 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정할 수 있다.
각 스펙트럼 조정 시스템은 적어도 하나의 광학 요소를 포함할 수 있으며, 컨트롤러는 광학 요소가 이동하도록 그 스펙트럼 조정 장치의 광학 요소에 연결된 액추에이터를 작동시킴으로써 특정 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성될 수 있다. 광학 요소를 이동시키는 것은 광 빔의 중심 파장을 변경시킬 수 있다. 컨트롤러는 작동의 양을 결정하도록 더 구성될 수 있다. 광학 요소를 작동시키기 위해, 컨트롤러는 전기 신호를 광학 요소에 제공할 수 있으며, 작동의 양은 전기 신호를 기반으로 할 수 있고, 전기 신호의 하나 이상의 특성은 이 차이를 기반으로 결정될 수 있다. 전기 신호의 하나 이상의 특성은 진폭 및/또는 주파수를 포함할 수 있다. 작동의 양은 일정 기간 동안 스펙트럼 조정 시스템과 상호작용할 것으로 예상되는 광 펄스의 수를 기반으로 할 수 있으며, 작동의 양은 일정 기간 동안 수행되는 별개의 작동의 수일 수 있다. 작동의 양은 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 간의 차이를 기반으로 할 수 있다.
각 스펙트럼 조정 장치는 적어도 하나의 굴절형 광학 요소를 포함할 수 있다.
각 스펙트럼 조정 장치는 적어도 하나의 프리즘을 포함할 수 있다.
각 스펙트럼 조정 장치는 반사형 광학 요소를 포함할 수 있다.
각 스펙트럼 조정 장치는 복수의 프리즘 및 프리즘들 중 하나에 연결된 액추에이터를 포함할 수 있으며, 컨트롤러는 프리즘들 중 하나를 이동시키기 위해 각각의 스펙트럼 조정 조립체의 액추에이터를 제어함으로써 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성될 수 있다.
각 광학 오실레이터는 복수의 광학 펄스를 포함하는 펄스형 광 빔을 방출하도록 구성될 수 있다.
컨트롤러는, 스펙트럼 특성을 조정한 후 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 업데이트된 스펙트럼 특성을 결정하도록, 그리고 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 업데이트된 스펙트럼 특성이 광학 오실레이터들 중 다른 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록 추가 구성될 수 있다.
복수의 광학 오실레이터는 제1 광학 오실레이터 및 제2 광학 오실레이터만을 포함할 수 있어 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터는 제1 광학 오실레이터이고 제2 광학 오실레이터는 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터이며, 컨트롤러는 스펙트럼 분석 장치로부터의 데이터를 기반으로, 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록; 그리고 제1 광학 오실레이터의 스펙트럼 대역폭이 제2 광학 오실레이터의 스펙트럼 대역폭과 다르다면, 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 또는 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성될 수 있다.
스펙트럼 분석 시스템은 복수의 스펙트럼 분석 시스템을 포함할 수 있으며, 각 스펙트럼 분석 시스템은 광학 오실레이터들 중 하나의 광학 오실레이터의 광 빔을 받아들이도록 구성될 수 있고, 각 스펙트럼 분석 시스템은 광학 오실레이터들 중 하나의 광학 오실레이터의 광 빔과 연관된 스펙트럼 특성을 측정하도록 구성될 수 있다.
각 광학 오실레이터는 가스 이득 매질을 담고 있도록 구성될 수 있다. 가스 이득 매질은 크립톤 플루오라이드(KrF)를 포함할 수 있다. 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다르다면, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 가스 이득 매질의 하나 이상의 가스 성분의 압력 및/또는 농도를 조정하도록, 또는 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 가스 이득 매질의 하나 이상의 가스 성분의 압력 및/또는 농도를 조정하도록 구성될 수 있다.
본 시스템은 빔 결합기를 더 포함할 수 있으며, 빔 결합기는 모든 광학 오실레이터의 광 빔을 받아들이도록 그리고 광 빔을 DUV 리소그래피 스캐너 툴로 향하게 하도록 구성된다.
일부 구현 형태에서, 각 광학 오실레이터는 반복률을 갖는 펄스형 광 빔을 생성하도록 구성되며, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터 또는 광학 오실레이터들 중 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정률로 조정하도록 구성되고, 조정률은 반복률의 1/10 이상이다.
다른 양태는 N 개의 광학 오실레이터를 포함하는 심자외(DUV) 광원을 제어하는 방법에 관한 것이며, 여기서 N은 1보다 큰 정수이고 각 광학 오실레이터는 각각의 광 빔을 생성하도록 구성된다. 본 방법은 M 개의 각각의 광학 오실레이터에 의해 생성된 M 개의 광 빔 -M은 0보다 크고 N보다는 작거나 같은 정수임-을 기반으로 출력 광 빔을 형성하는 것; M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성과 관련된 데이터에 액세스하는 것; M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것; 및 비교를 기반으로, N 개의 광 빔 중 임의의 것의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 임의의 것의 양태를 제어할지 여부를 결정하는 것을 포함한다.
구현 형태는 다음 특징들 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
스펙트럼 특성은 스펙트럼 대역폭을 포함할 수 있다.
M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것이 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 나머지 M 개의 광 빔 모두의 스펙트럼 특성과 비교하는 것을 포함하도록 기준은 M 개의 광 빔 모두의 스펙트럼 특성을 포함할 수 있다.
M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 나머지 M 개의 광 빔 모두의 스펙트럼 특성과 비교하는 것은 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성과 나머지 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성 간의 차이를 결정하는 것을 포함할 수 있으며; 그리고 비교를 기반으로 결정하는 것은 각 결정된 차이를 사양과 비교하는 것을 포함할 수 있다.
기준은 스펙트럼 특성의 미리정해진 값을 포함할 수 있으며, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것은 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 미리정해진 값과 비교하는 것을 포함한다. 미리정해진 값은 최대 스펙트럼 대역폭을 포함할 수 있으며, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성은 이 광 빔의 스펙트럼 특성과 최대 스펙트럼 대역폭 간의 차이를 결정함으로써 최대 스펙트럼 대역폭과 비교될 수 있다. 비교를 기반으로 결정하는 것은 결정된 차이를 미리정해진 허용 가능한 차이 범위와 비교하는 것을 포함할 수 있으며, 미리정해진 허용 가능한 차이 범위를 벗어난 결정된 차이를 갖는 M 개의 광 빔의 임의의 것에 대해 각각의 광학 오실레이터의 양태가 제어될 수 있다. 각각의 광학 오실레이터의 양태를 제어하는 것은 분산 광학 요소를 작동시키는 것을 포함할 수 있다.
출력 광 빔은 제1 기간의 M 개의 광 빔을 기반으로 그리고 제2 기간의 L 개의 광 빔을 기반으로 할 수 있으며, L은 1 이상이고 N보다 작거나 같은 정수이고, 또한 기준은 L 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 포함할 수 있으며, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것은 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 L 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성과 비교하는 것을 포함할 수 있다. L은 1, M은 1, 그리고 N은 2일 수 있으며, L 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제1 광 빔일 수 있고, M 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제2 광 빔일 수 있으며; 제1 광 빔의 스펙트럼 특성과 제2 광 빔의 스펙트럼 특성을 비교하는 것은 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작은지 여부를 결정하는 것; 및 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작으면, 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 증가되도록 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터 내의 프리즘을 제어하는 것을 포함할 수 있다.
L은 1, M은 1, 그리고 N은 2일 수 있으며, L 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제1 광 빔일 수 있고, M 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제2 광 빔일 수 있으며; 제1 광 빔의 스펙트럼 특성과 제2 광 빔의 스펙트럼 특성을 비교하는 것은 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작은지 여부를 결정하는 것; 및 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작으면, 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 증가되도록 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 광학 오실레이터 내의 프리즘을 제어하는 것을 포함할 수 있다. 본 방법은 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭 간의 차이를 기반으로, N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터 내의 프리즘에 대한 조정량을 결정하는 것을 더 포함할 수 있다. N 개의 광학 오실레이터 중 제2광학 오실레이터 내의 프리즘을 제어하기 위해, 시변 신호가 프리즘에 물리적으로 연결된 액추에이터에 인가될 수 있으며, 시변 신호의 진폭은 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭 간의 차이와 관련된다.
또 다른 양태에서, 심자외(DUV) 광원을 위한 제어 시스템은 제1 기간 동안 DUV 광원에 의해 생성된 출력 광 빔이 제1 세트의 광 빔을 포함하도록 제1 기간 동안 제1 세트의 광 빔을 생성하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 세트를 제어하도록; 제2 기간 동안 DUV 광원에 의해 생성된 출력 광 빔이 제2 세트의 광 빔을 포함하도록 제2 기간 동안 제2 세트의 광 빔을 생성하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 세트-N 개의 광학 오실레이터 중 제2 세트와 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 세트는 N 개의 광학 오실레이터 중 동일한 오실레이터 또는 오실레이터들을 포함하지 않음-를 제어하도록; 그리고 N 개의 광 빔의 스펙트럼 특성의 균일성을 증가시키기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성된다.
구현 형태는 다음 특징들 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
스펙트럼 조정 장치는 제2 기간 전에 제어될 수 있다. N 개의 광학 오실레이터 중 제2 세트 내의 N 개의 광학 오실레이터 중 하나 이상의 광학 오실레이터의 스펙트럼 조정 장치는 각각의 제2 세트의 광 빔 중 하나 이상의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 제어될 수 있다.
일부 구현 형태에서, 각 광학 오실레이터는 반복률로 각각의 펄스형 광 빔을 생성하도록 구성되며, 제어 시스템은 반복률의 1/10 보다 크거나 같은 조정률로 N 개의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성된다.
위에서 그리고 본 명세서에서 설명된 기술들 중 임의의 기술의 구현 형태는 공정, 장치, 제어 시스템, 비-일시적 기계-판독 가능한 컴퓨터 매체에 저장된 명령어, 및/또는 방법을 포함할 수 있다. 하나 이상의 구현 형태의 세부 사항은 첨부 도면 및 아래의 설명에 제시되어 있다. 다른 특징은 설명 및 도면으로부터, 그리고 청구범위로부터 명백할 것이다.
도 1은 광학 소스 시스템의 예의 블록도이다.
도 2a는 광학 소스 시스템의 또 다른 예의 블록도이다.
도 2b는 도 2a의 광학 소스 시스템에서 사용되는 스펙트럼 분석 장치의 예이다.
도 2c는 파장의 함수로서 에너지 밀도로 표현된 스펙트럼 대역폭의 예이다.
도 3a는 스펙트럼 분석 장치의 예의 블록도이다.
도 3b는 스펙트럼 분석 장치에서의 광 빔의 입사각을 변경시키기 위한 축을 중심으로 하는 프리즘의 회전의 예이다.
도 4는 광학 소스 시스템에서 출력 광 빔의 스펙트럼 특성의 균일성을 증가시키기 위한 공정의 예의 흐름도이다.
도 5는 광학 소스 시스템에서 하나 이상의 광학 오실레이터의 양태를 조정하기 위한 공정의 예의 흐름도이다.
도 1을 참조하면, 시스템(100)의 블록도가 보여지고 있다. 시스템은 광학 소스(110) 및 제어 시스템(150)을 포함하고 있다. 광학 소스(110)는 일반적인 광학 요소(138)에 출력 광 빔(111)을 제공한다. 일반적인 광학 요소(138)는, 예를 들어 (도 2a의 빔 결합기(218)와 같은) 빔 결합기 또는 (도 2a의 스캐너 장치(280)와 같은) 리소그래피 툴(tool)일 수 있다.
광학 소스(110)는 N 개의 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)를 포함하고 있으며, 여기서 N은 1보다 큰 정수이다. 각 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)는 각각의 광 빔(116-1 내지 116-N)을 생성하도록 구성되어 있다. 시스템(100)을 사용하는 적용의 필요에 따라, 광 빔(116-1 내지 116-N)들 중 하나, 하나 이상, 또는 모두는 임의의 주어진 시간에 출력 광 빔(111)에 기여할 수 있다. 출력 광 빔(111)에 기여하는 광 빔(116-1 내지 116-N)들 중 하나 이상의 광 빔은 시간이 지나면서 변한다. 예를 들어, 일부 구현 형태에서, 제어 시스템(150)은, 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)들 중 하나만이 그의 각 광 빔(116-1 내지 116-N)을 특정 시간에 출력 광 빔(111)에 기여하게 하도록 광학 소스(110)를 제어하여 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)를 통해 순환한다.
광학 소스(110)는 또한 스펙트럼 분석 장치(198)를 포함하고 있으며, 이 스펙트럼 분석 장치는 광을 감지하도록 그리고 감지된 광의 스펙트럼 특성과 관련된 데이터를 생성하도록 구성되어 있다. 스펙트럼 특성은, 예를 들어 스펙트럼 대역폭 또는 중심 파장일 수 있다. 스펙트럼 분석 장치(198)는 광 빔(116-1 내지 116-N)들 중 임의의 것을 감지하도록 구성되어 있다. 스펙트럼 분석 장치(198)는 도 1의 예에서 단일 요소로 보여지고 있다. 그러나 일부 구현 형태에서, 광학 소스(110)는 N 개의 스펙트럼 분석 장치를 포함하며, 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)들의 각각은 (도 2a의 구현 형태에서와 같이) 연관된 스펙트럼 분석 장치를 갖고 있다.
광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)의 구성 요소, 작동 및/또는 구성의 차이로 인하여, 다양한 광 빔(116-1 내지 116-N) 간에 하나 이상의 스펙트럼 특성 (예를 들어, 스펙트럼 대역폭)이 다를 수 있다. 출력 광 빔(111)에 기여하는 광 빔(116-1 내지 116-N)들 중 하나 이상의 광 빔이 시간이 지나면서 변경되기 때문에, 제어 시스템(150)이 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)들 중 특정한 하나 이상의 광학 오실레이터로 출력 광 빔(111)을 생성하는 것에서 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)들 중 또 다른 하나 이상의 광학 오실레이터로 출력 광 빔(111)을 생성하는 것으로 전환될 때 출력 광 빔(111)의 스펙트럼 특성은 변경될 수 있다.
한편, 제어 시스템(150)은 스펙트럼 분석 장치(198)로부터의 데이터를 분석하며 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)들 중 하나 이상을 제어하여 각각의 광 빔(116-1 내지 116-N)의 스펙트럼 특성을 제어한다. 따라서, 제어 시스템(150)은 다양한 광 빔(116-1 내지 116-N)의 스펙트럼 특성들의 불일치성을 감소 또는 제거할 수 있다. 이렇게 하여, 출력 광 빔(111) 변화에 기여하는 광을 생성하는 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)들 중 하나 이상의 광학 오실레이터가 시간이 지나면서 변경될지라도 시간이 지나면서 공통적인 광학 요소(138)에서 받아들여진 출력 광 빔(111)의 스펙트럼 특성의 스펙트럼 특징은 보다 균일하게 또는 일관되게 만들어진다. 제어 시스템(150)은 또한 광학 소스(110)에 대한 다른 조정을 수행하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현 형태에서, 제어 시스템(150)은 사양(specification)을 충족하지 않는 스펙트럼 특성을 갖는 광 빔을 생성하고 있는 광학 오실레이터(112-1 내지 112-N)들 중 임의의 것 내의 광학 요소 또는 다른 구성 요소를 제어 또는 조정한다.
제어 시스템(150)의 다양한 구현 형태 및 예를 더 상세하게 논의하기 전에, 광학 소스(210)의 하나의 가능한 구현 형태의 개요가 도 2a 및 도 2b와 관련하여 제공된다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 시스템(200)은 노광 빔 (또는 출력 광 빔)(211)을 스캐너 장치(280)에 제공하는 광학 소스(210)를 포함하고 있다. 제어 시스템(250)은 광학 소스(210) 및 광학 소스(210)와 연관된 다양한 구성 요소에 연결되어 있다. 데이터 링크(254)는 데이터 및 정보를, 예를 들어 전기 또는 광학 신호로서 전달하는 임의 유형의 무선 및/또는 유선 매체이다. 광학 소스(210) 및 제어 시스템(250)은 각각 광학 소스(110) 및 제어 시스템(150)(도 1)의 구현 형태이다.
광학 소스(210)는 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)를 포함하며, 여기서 N은 1보다 큰 정수이다. 각 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)는 각각의 광 빔(216-1 내지 216-N)을 생성한다. 광학 오실레이터(212-1)의 세부 사항은 아래에서 논의된다. 광학 소스(210)의 다른 N-1개의 광학 오실레이터는 동일한 또는 유사한 특징을 포함한다.
광학 오실레이터(212-1)는 방전 챔버(215-1)를 포함하고 있으며, 이 방전 챔버는 캐소드(213-1a)와 애노드(213-1b)를 둘러싸고 있다. 방전 챔버(215-1)에는 또한 가스 이득 매질(214-1)이 들어있다. 캐소드(213-1a)와 애노드(213-1b) 간의 전위차는 가스 이득 매질(214-1)에 전기장을 형성한다. 전위차는 캐소드(213-1a) 및/또는 애노드(213-1b)에 전압을 인가하도록 전압 소스(297)를 제어함으로써 생성될 수 있다. 전기장은 밀도 반전(population inversion)을 야기하기에 그리고 유도 방출을 통해 광의 펄스의 생성을 가능하게 하기에 충분한 에너지를 이득 매질(214-1)에 제공한다. 이러한 전위차의 반복적인 생성은 일련의 펄스를 형성하며, 이 펄스는 광 빔(216-1)으로서 방출된다. 펄스형 광 빔(216-1)의 반복률은 전압이 전극(213-1a 및 213-1b)에 인가되는 속도(rate)에 의해 결정된다.
이득 매질(214-1)은 전극(213-1a 및 213-1b)으로 전압을 인가함으로써 펌핑된다. 펄스형 광 빔(216-1)에서의 펄스의 지속 시간 및 반복률은 전극(213-1a 및 213-1b)으로의 전압의 인가의 지속 시간 및 반복률에 의해 결정된다. 펄스의 반복률은, 예를 들어 약 500 내지 6,000㎐의 범위일 수 있다. 일부 구현 형태에서, 반복률은 6,000㎐보다 클 수 있으며, 또한 예를 들어 12,000㎐ 이상일 수 있다. 광학 오실레이터(212-1)에서 방출되는 각 펄스는, 예를 들어, 약 1밀리 줄(mJ)의 펄스 에너지를 가질 수 있다.
가스 이득 매질(214-1)은 적용에 요구되는 파장, 에너지 및 대역폭에서 광 빔을 생성하기에 적합한 임의의 가스일 수 있다. 가스 이득 매질(214-1)은 하나보다 많은 유형의 가스를 포함할 수 있으며, 다양한 가스가 가스 성분으로 지칭된다. 엑시머 소스를 위하여, 가스 이득 매질(214-1)은, 예를 들어 아르곤 또는 크립톤과 같은 불활성 가스 (희가스); 또는 예를 들어 불소 또는 염소와 같은 할로겐을 포함할 수 있다. 할로겐이 이득 매질인 구현 형태에서, 이득 매질은 또한 헬륨과 같은 버퍼 가스를 제외하고 미량의 크세논을 포함한다.
가스 이득 매질(214-1)은 심자외(DUV) 범위의 광을 방출하는 이득 매질일 수 있다. DUV 광은, 예를 들어 약 100 나노미터(㎚) 내지 약 400㎚의 파장을 포함할 수 있다. 가스 이득 매질(214-1)의 구체적인 예는 약 193㎚의 파장에서 광을 방출하는 아르곤 플루오라이드(ArF), 약 248㎚의 파장에서 광을 방출하는 크립톤 플루오라이드(KrF) 또는 약 351㎚의 파장에서 광을 방출하는 크세논 클로라이드(XeCl)를 포함한다.
방전 챔버(215-1)의 일 측의 스펙트럼 조절 장치(295-1)와 방전 챔버(215-1) 제2 측의 출력 커플러(296-1) 사이에 공진기(resonator)가 형성되어 있다. 스펙트럼 조정 장치(295-1)는 방전 챔버(215-1)의 스펙트럼 출력을 미세하게 조정하는, 예를 들어 격자 및/또는 프리즘과 같은 회절 광학계를 포함할 수 있다. 회절 광학계는 반사형 또는 굴절형일 수 있다. 일부 구현 형태에서, 스펙트럼 조정 장치(295-1)는 복수의 회절 광학 요소를 포함하고 있다. 예를 들어, 스펙트럼 조정 장치(295-1)는 4개의 프리즘을 포함할 수 있으며, 그 중 일부는 광 빔(216-1)의 중심 파장을 제어하도록 구성되고 그들의 나머지는 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭을 제어하도록 구성된다.
또한 도 3a를 참조하면, 스펙트럼 조정 장치(395-1)의 블록도가 보여지고 있다. 스펙트럼 조정 장치(395-1)는 스펙트럼 조정 장치(295-1 내지 295-N)들 중 임의의 것 또는 각각으로서 사용될 수 있다. 스펙트럼 조정 장치(395-1)는 광 빔(216-1)과 광학적으로 상호작용하도록 배열된 한 세트의 광학 특징부들 또는 구성 요소(321, 322, 323, 324, 325)를 포함하고 있다. 제어 시스템(250)은 각각의 광학 구성 요소(321, 322, 323, 324, 325)에 물리적으로 연결된 하나 이상의 작동 시스템(321A, 322A, 323A, 324A, 325A)에 연결되어 있다. 작동 시스템(321A, 322A, 323A, 324A, 325A)은 샤프트에 평행한 축을 중심으로 샤프트에 연결된 구성 요소를 회전시키는 샤프트 (예를 들어, 샤프트(326A))를 포함할 수 있다. 작동 시스템(321A, 322A, 323A, 324A, 325A)은 또한, 예를 들어 모터 그리고 제어 시스템(250)과 통신하기 위한 그리고 전력을 받아들이기 위한 전자 인터페이스와 같은 전자 및 기계적 디바이스를 포함한다.
광학 구성 요소(321)는 분산 광학 요소, 예를 들어 격자 또는 프리즘이다. 도 3a의 예에서, 광학 구성 요소(321)는 회절 표면(302)을 포함하고 있는 반사형 격자이다. 광학 구성 요소(322, 323, 324 및 325)는 굴절형 광학 요소이며, 예를 들어 프리즘일 수 있다. 광학 구성 요소(322, 323, 324 및 325)는 광학 배율(optical magnification)(OM)(365)을 갖는 빔 익스팬더(301)를 형성한다. 빔 익스팬더(301)를 통과한 광 빔(216-1)의 OM(365)은 빔 익스팬더(301)에 들어가는 광 빔(216-1)의 횡단 폭(Wi)에 대한 빔 익스팬더(301)를 나가는 광 빔(216-1)의 횡단 폭(Wo)의 비율이다
격자(321)의 표면(302)은 광 빔(216-1)의 파장을 반사 및 회절시키는 재료로 이루어진다. 프리즘(322, 323, 324 및 325)들의 각각은 프리즘의 몸체를 통과할 때 광 빔(216-1)을 분산시키고 전향시키도록 작용하는 프리즘이다. 프리즘(322, 323, 324 및 325)의 각각은 광 빔(216-1)의 파장을 투과시키는 물질로 이루어진다. 예를 들어, 광 빔(216-1)이 DUV 범위 내에 있다면, 프리즘(322, 323, 324 및 325)은 DUV 범위 내의 광을 투과시키는 (예를 들어, 칼슘 플루오라이드와 같은) 재료로 만들어진다.
프리즘(325)은 격자(321)로부터 가장 멀리 위치되어 있으며, 프리즘(322)은 격자(321)에 가장 가깝게 위치되어 있다. 광 빔(216-1)은 구멍(355)을 통해 스펙트럼 조정 장치(355)에 들어가며, 그후 프리즘(325), 프리즘(324), 프리즘(323) 및 프리즘(322)을 (이 순서대로) 통해 이동한다. 연속적인 프리즘(325, 324, 323, 322)을 통한 광 빔(216-1)의 각각의 통과로, 광 빔(216-1)은 광학적으로 확대되며 다음 광학 구성 요소를 향해 전향 (각도를 두고 굴절)된다. 프리즘(325, 324, 323 및 322)을 통과한 후, 광 빔(216-1)은 표면(302)에서 반사된다. 광 빔(216-1)은 그후 프리즘(322), 프리즘(323), 프리즘(324), 프리즘(325)을 (이 순서대로) 통과한다. 연속적인 프리즘(322, 323, 324, 325)을 통과하는 각각으로, 광 빔(216-1)은 구멍(355)을 향하여 이동함에 따라 광학적으로 압축된다. 프리즘(322, 323, 324 및 325)을 통과한 후, 광 빔(216-1)은 구멍(355)을 통해 스펙트럼 조정 장치(395-1)를 빠져나간다. 스펙트럼 조정 장치(395-1)를 나온 후, 광 빔(216-1)은 챔버(215-1)를 통과하며 출력 커플러(296-1)에서 반사되어 챔버(215-1) 및 스펙트럼 조정 장치(395-1)로 복귀한다.
광 빔(216-1)의 스펙트럼 특성은 광학 구성 요소(321, 322, 323, 324, 및/또는 325)의 상대적인 배향을 변경함으로써 조정될 수 있다. 도 3b를 참조하면, 도면의 평면에 수직인 축을 중심으로 하는 (프리즘(322, 323, 324 또는 325)들 중 임의의 하나일 수 있는) 프리즘(P)의 회전은 광 빔(216-1)이 이 회전된 프리즘(P)의 입사 표면(H(P))에 충돌하는 입사각을 변경시킨다. 더욱이, 이 회전되는 프리즘(P)을 통한 광 빔(216-1)의 2개의 국부적 광학 품질, 즉 광학 배율(OM(P)) 및 빔 굴절각(δ(P))은 이 회전되는 프리즘(P)의 입사 표면(H(P))에 충돌하는 광 빔(216)의 입사각의 함수이다. 프리즘(P)을 통과한 광 빔(216-1)의 광학 배율(OM(P))은 그 프리즘(P)에 들어가는 광 빔(216-1)의 횡단 폭(Wi(P))에 대한 프리즘(P)을 나가는 광 빔(110A)의 횡단 폭(Wo(P))의 비율이다.
빔 익스팬더(301) 내의 프리즘(P)들 중 하나 이상에서의 광 빔(216-1)의 국부 광학 배율(OM(P))의 변화는 빔 익스팬더(301)를 통한 광 빔(216-1)의 광학 배율(OM)(365)의 전체 변화를 야기한다. 부가적으로, 빔 익스팬더(301) 내의 프리즘(P)들 중 하나 이상을 통한 국부적 빔 굴절각(δ(R))의 변화는 격자(321)의 표면(302)에서의 광 빔(110A)의 입사각(362)(도 3a)의 전체적인 변화를 야기한다. 광 빔(216-1)의 파장은 광 빔(216-1)이 격자(321)의 표면(302)에 충돌하는 입사각(362)(도 3a)을 변경함으로써 조정될 수 있다. 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭은 광 빔(216-1)의 광학 배율(365)을 변경함으로써 조정될 수 있다.
따라서, 광 빔(216-1)의 스펙트럼 특성은 각각의 액추에이터(321A, 322A, 323A, 324A, 325A)를 통해 격자(321)의 배향 및/또는 프리즘(322, 323, 324, 325)들 중 하나 이상의 프리즘의 배향을 제어함으로써 변경 또는 조정될 수 있다. 스펙트럼 조정 장치의 다른 구현 형태가 가능하다.
더욱이, 광 빔(216-1 내지 216-N)의 스펙트럼 특성은 다른 방식으로 조정될 수 있다. 예를 들어, 광 빔(216-1 내지 216-N)의, 스펙트럼 대역폭과 같은 스펙트럼 특성은 각각의 챔버(215-1 내지 215-N)의 가스 이득 매질의 압력 및/또는 가스 농도를 제어함으로써 조정될 수 있다. 소스(210)가 엑시머 소스인 구현 형태에 대해, 광 빔(216-1 내지 216-N)의 스펙트럼 특성 (예를 들어, 스펙트럼 대역폭)은 각각의 챔버(215-1 내지 215-N) 내의, 예를 들어 불소, 염소, 아르곤, 크립톤, 크세논, 및/또는 헬륨의 압력 및/또는 농도를 제어함으로써 조정될 수 있다. 가스 이득 매질(214-1 내지 214-N)의 압력 및/또는 농도는 가스 공급 시스템(290)으로 제어 가능하다.
다시 도 2b를 참조하면, 광학 오실레이터(212-1)는 또한 스펙트럼 분석 장치(298-1)를 포함하고 있다. 스펙트럼 분석 장치(298-1)는 광 빔(216-1)의 파장을 측정 또는 모니터링하기 위해 사용될 수 있는 측정 시스템이다. 도 2에서 보여지는 예에서, 스펙트럼 분석 장치(298-1)는 출력 커플러(296-1)로부터 광을 받아들인다. 다른 구현 형태가 가능하다. 예를 들어, 스펙트럼 분석 장치(298-1)는 출력 커플러(296-1)와 스펙트럼 조정 장치(295-1) 사이에 있을 수 있거나, 스캐너 장치(280) 내에 위치될 수 있다.
스펙트럼 분석 장치(298-1)는 제어 시스템(250)에 데이터를 제공하며, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 분석 장치(298-1)로부터의 데이터를 기반으로 광 빔(216-1)의 스펙트럼 특성과 관련된 메트릭(metrics)을 결정한다. 예를 들어, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 분석 장치(298-1)에 의해 측정된 데이터를 기반으로 중심 파장 및/또는 스펙트럼 대역폭을 결정할 수 있다. 스펙트럼 특성은 장치(298-1)에 의해 직접 측정될 수 있거나 스펙트럼 분석 장치(298-1)로부터의 데이터를 기반으로 제어 시스템(250)에 의해 결정될 수 있다. 중심 파장은 광 빔의 파워-가중 평균 파장이다. 스펙트럼 대역폭은 광 빔 내의 파장의 확산 또는 분포의 척도이다. 도 2c는 231로 표시된 중심 파장과 함께, 파장의 함수로서 에너지 밀도로 표현된 스펙트럼 대역폭(230)의 예를 보여주고 있다. 스펙트럼 대역폭은 반치전폭(full-width at half max)(FWHM) 또는 95% 인티그럴 폭(integral width)(E95)과 같은 양에 의하여 특징지어질 수 있다. FWHM은 최대 세기의 절반에 포함된 스펙트럼 범위이다. E95는 스펙트럼에서 전체 에너지의 95%를 둘러싸는 간격이다.
다시 도 2a를 참조하면, 광학 소스(210)는 또한 유체 도관(289)을 통해 배출 챔버(215-1)의 내부에 유체적으로 연결되어 있는 가스 공급 시스템(290)을 포함하고 있다. 유체 도관(289)은 유체의 손실 없이 또는 최소한의 손실로 가스 또는 다른 유체를 수송할 수 있는 임의의 도관이다. 예를 들어, 유체 도관(289)은 유체 도관(289) 내에서 수송되는 유체 또는 유체들과 반응하지 않는 재료로 만들어지거나 이 재료로 코팅된 파이프일 수 있다. 가스 공급 시스템(290)은 이득 매질(214-1)에 사용되는 가스 또는 가스들을 담는, 및/또는 이의 공급을 받아들이도록 구성된 챔버(291)를 포함한다. 가스 공급 시스템(290)은 또한 가스 공급 시스템(290)이 방전 챔버(215-1)에서 가스를 제거하거나 방전 챔버로 가스를 주입하는 것을 가능하게 하는 (펌프, 밸브, 및/또는 유체 스위치와 같은) 디바이스를 포함한다. 가스 공급 시스템(290)은 제어 시스템(250)에 연결되어 있다. 가스 공급 시스템(290)은 제어 시스템(250)에 의하여 제어되어, 예를 들어 리필 절차를 수행할 수 있다.
다른 N-1개의 광학 오실레이터는 광학 오실레이터(212-1)와 유사하며 유사한 또는 동일한 구성 요소 및 서브시스템을 갖고 있다. 예를 들어, 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)들의 각각은 전극(213-1a 및 213-1b)과 같은 전극, 스펙트럼 분석 장치(298-1)와 같은 스펙트럼 분석 장치, 및 출력 커플러(296)와 같은 출력 커플러를 포함하고 있다. 더욱이, 전압 소스(297)는 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)의 각각의 전극에 전기적으로 연결될 수 있거나, 전압 소스(297)는 N 개의 개별 전압 소스를 포함하는 전압 시스템으로서 구현될 수 있으며, 전압 소스들의 각각은 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)들 중 하나의 전극에 전기적으로 연결되어 있다.
광학 소스(210)는 또한 빔 제어 장치(217) 및 빔 결합기(218)를 포함하고 있다. 빔 제어 장치(217)는 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)의 기체 이득 매체와 빔 결합기(218) 사이에 있다. 빔 제어 장치(217)는 광 빔(216-1 내지 216-N)들 중 어느 것이 빔 결합기(218)에 입사되는지를 결정한다. 빔 결합기(218)는 빔 결합기(218)에 입사되는 광 빔 또는 광 빔들로부터 노광 빔(211)을 형성한다. 예를 들어, 빔 결합기(218)는 그에 입사하는 모든 광 빔을 스캐너 장치(280)를 향하여 전향시킬 수 있다.
보여지는 예에서, 빔 제어 장치(217)는 단일 요소로서 표현되어 있다. 그러나 빔 제어 장치(217)는 개별적인 빔 제어 장치들의 집합체(collection)로 구현될 수 있다. 예를 들어, 빔 제어 장치(217)는 N 개의 셔터들의 집합체를 포함할 수 있으며, 하나의 셔터는 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)들의 각각과 연관된다. N 개의 셔터의 각각은 기계식 셔터 또는 전자 광학식 셔터일 수 있다. N 개의 셔터의 각각은 각각의 광 빔(216-1 내지 216-N)을 차단하는 제1 상태 및 각각의 광 빔(216-1 내지 216-N)을 투과시키는 제2 상태를 갖고 있다.
광학 소스(210)는 다른 구성 요소 및 시스템을 포함할 수 있다. 예를 들어, 광학 소스(210)는 빔 준비 시스템(299)을 포함할 수 있다. 빔 준비 시스템(299)은 펄스 스트레처(pulse stretcher) (보이지 않음)를 포함할 수 있으며, 이 펄스 스트레처는 시간에 따라 펄스 스트레처와 상호작용하는 각 펄스를 신장시킨다. 빔 준비 시스템은 또한, 예를 들어 (예를 들어, 렌즈 및 미러) 반사형 및/또는 굴절형 광학 요소 및/또는 필터와 같은, 광에 작용할 수 있는 다른 구성 요소를 포함할 수 있다. 보여지는 예에서, 빔 준비 시스템(299)은 노광 빔(211)의 경로에 위치되어 있다. 그러나 빔 준비 시스템(299)은 광학 리소그래피 시스템(200) 내의 다른 위치에 배치될 수 있다. 더욱이, 다른 구현 형태가 가능하다. 예를 들어, 광학 소스(210)는 빔 준비 시스템(299)의 N 개의 인스턴스(instances)를 포함할 수 있으며, 이들의 각각은 빔 결합기(218)와 챔버(215-1 내지 215-N)들 중 하나의 사이에 배치되고 광 빔(216-1 내지 216-N)들 중 하나와 상호작용하도록 위치된다. 또 다른 예에서, 광학 소스(210)는 빔 결합기(218)를 향하여 광 빔(216-1 내지 216-N)을 조종하는 (미러와 같은) 광학 요소를 포함할 수 있다.
시스템(200)은 또한 스캐너 장치(280)를 포함하고 있다. 스캐너 장치(280)는 성형된 노광 빔(211')으로 웨이퍼(282)를 노광시킨다. 성형된 노광 빔(211')은 노광 빔(211)을 투영 광학 시스템(281)을 통과시킴으로써 형성된다. 스캐너 장치(280)는 액체 침지 시스템 또는 건식 시스템일 수 있다. 스캐너 장치(280)는 웨이퍼(282)에 도달하기 전에 노광 빔(211)이 통과하는 투영 광학 시스템(281), 및 센서 시스템 또는 계측 시스템(270)을 포함한다. 웨이퍼(282)는 웨이퍼 홀더(283) 상에 유지 또는 수용된다. 스캐너 장치(280)는 또한, 예를 들어 (공기 조절 디바이스 및/또는 가열 디바이스와 같은) 온도 제어 장치, 및/또는 다양한 전기 구성 요소를 위한 파워 공급부를 포함할 수 있다.
계측 시스템(270)은 센서(271)를 포함하고 있다. 센서(271)는, 예를 들어 대역폭, 에너지, 펄스 지속 시간 및/또는 파장과 같은, 성형된 노광 빔(211')의 특성을 측정하도록 구성될 수 있다. 센서(271)는, 예를 들어 웨이퍼(282)에서의 성형된 노광 빔(211')의 이미지를 캡처할 수 있는 카메라 또는 기타 디바이스, 또는 x-y 평면의 웨이퍼(282)에서의 광학 에너지의 양을 설명하는 데이터를 캡처할 수 있는 에너지 검출기일 수 있다.
도 2a에서 보여지는 구현 형태에서, 계측 시스템(270)은 제어 시스템(250)에 연결되어 있지 않다. 그러나 다른 구현 형태에서, 계측 시스템(270)은 제어 시스템(250)에 연결된다. 이 구현 형태에서, 계측 시스템(270)은 제어 시스템(250)에 데이터를 제공하며, 제어 시스템(250)은 계측 시스템(270)에 명령을 내릴 수 있다.
제어 시스템(250)은 전자 처리 모듈(251), 전자 저장부(252), 및 I/O 인터페이스(253)를 포함하고 있다. 전자 처리 모듈(251)은 범용 또는 특수 목적 마이크로프로세서와 같은 컴퓨터 프로그램의 실행에 적합한 하나 이상의 프로세서, 및 임의의 종류의 디지털 컴퓨터의 임의의 하나 이상의 프로세서를 포함한다. 일반적으로 전자 프로세서는 판독 전용 메모리, 랜덤 액세스 메모리(RAM) 또는 둘 모두로부터 명령 및 데이터를 수신한다. 전자 처리 모듈(251)은 임의의 유형의 전자 프로세서를 포함할 수 있다. 전자 처리 모듈(251)의 전자 프로세서 또는 프로세서들은 명령을 실행하고 전자 저장부(252)에 저장된 데이터에 액세스한다. 전자 프로세서 또는 프로세서들은 또한 전자 저장부(252)에 데이터를 기입할 수 있다.
전자 저장부(252)는 RAM과 같은 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리일 수 있다. 일부 구현 형태에서, 전자 저장부(252)는 비휘발성 및 휘발성 부분 또는 구성 요소를 포함한다. 전자 저장부(252)는 제어 시스템(250)의 작동에 사용되는 데이터 및 정보를 저장할 수 있다. 예를 들어, 전자 저장부(252)는 광 빔(216-1 내지 216-N)에 대한 사양 정보를 저장할 수 있다. 사양 정보는, 예를 들어, 광 빔(216-1 내지 216-N)에 대한 목표 에너지, 파장 및/또는 스펙트럼 대역폭을 포함할 수 있다. 사양 정보는 또한 광 빔(216-1 내지 216-N)의 스펙트럼 특성의 차이의 허용 가능한 양에 대한 범위 또는 상한을 포함할 수 있다. 전자 저장부(252)는 또한 스펙트럼 조정 장치(295-1 내지 295-N)를 제어하기 위한 그리고 스펙트럼 분석 장치(298-1 내지 298-N)로부터의 데이터를 분석하기 위한 명령을 (예를 들어, 컴퓨터 프로그램의 형태로) 저장할 수 있다.
전자 저장부(252)는 또한 제어 시스템(250)이 광학 리소그래피 시스템(200)의 다른 구성 요소 및 서브시스템과 상호작용하게 하는 명령을 (예를 들어, 컴퓨터 프로그램의 형태로) 저장할 수 있다. 예를 들어, 명령은 전자 처리 모듈(251)이 명령 신호를 광학 소스(210)에 및/또는 빔 제어 장치(217)에 제공하게 하여 노광 빔(211)에 기여하는 광학 오실레이터(212-1 내지 212-1)들 중 하나 또는 다수를 변경시키는 명령일 수 있다. 전자 저장부(252)는 또한 광학 리소그래피 시스템(200), 스캐너 장치(280), 및/또는 광학 소스(210)로부터 수신된 정보를 저장할 수 있다.
I/O 인터페이스(253)는 제어 시스템(250)이 운영자, 광학 소스(210), 스캐너 장치(280), 및/또는 다른 전자 디바이스에서 실행되는 자동화된 공정과 데이터 및 신호를 교환하는 것을 허용하는 임의의 종류의 인터페이스이다. 예를 들어, 전자 저장부(252)에 저장된 규칙 또는 명령이 편집될 수 있는 구현 형태, 편집은 I/O 인터페이스(253)를 통해 이루어질 수 있다. I/O 인터페이스(253)는 시각적 디스플레이, 키보드, 및 병렬 포트와 같은 통신 인터페이스, 범용 직렬 버스(USB) 연결부, 및/또는 예를 들어 이더넷과 같은 임의의 유형의 네트워크 인터페이스 중 하나 이상을 포함할 수 있다. I/O 인터페이스(253)는 또한 물리적 접촉없이, 예를 들어 IEEE 802.11, 블루투스, 또는 근거리 통신(NFC) 연결부를 통한 통신을 허용할 수 있다.
제어 시스템(250)은 데이터 연결부(254)를 통해 광학 소스(210)에 연결되어 있다. 데이터 연결부(254)는 물리적 케이블 또는 다른 물리적 데이터 도관 (예를 들어, IEEE 802.3 기반 데이터 전송을 지원하는 케이블), 무선 데이터 연결부 (예를 들어, IEEE 802.11 또는 블루투스를 통해 데이터를 제공하는 데이터 연결부), 또는 유선 데이터 연결부와 무선 데이터 연결부의 조합일 수 있다. 데이터 연결부를 통해 제공되는 데이터는 임의의 유형의 프로토콜 또는 포맷을 통해 설정될 수 있다. 데이터 연결부(254)는 통신 인터페이스에서 광학 소스(210)에 연결되어 있다. 통신 인터페이스는 데이터를 송신 및 수신할 수 있는 임의의 종류의 인터페이스일 수 있다. 예를 들어, 데이터 인터페이스는 이더넷(Ethernet) 인터페이스, 직렬 포트, 병렬 포트 또는 USB 연결부 중 임의의 것일 수 있다. 일부 구현 형태에서, 데이터 인터페이스는 무선 데이터 연결부를 통한 데이터 통신을 허용한다. 예를 들어, 데이터 인터페이스는 IEEE 811.11 트랜시버, 블루투스 또는 NFC 연결부일 수 있다. 제어 시스템(250)은 광학 소스(210) 내의 시스템 및/또는 구성 요소에 연결될 수 있다. 예를 들어, 제어 시스템(250)은 광학 오실레이터(212-1~212-N)들의 각각에 직접 연결될 수 있다.
또한 도 2b를 참조하면, 투영 광학 시스템(281)은 슬릿(284), 마스크(285), 및 투영 대물렌즈를 포함하며, 투영 대물렌즈는 렌즈 시스템(286)을 포함한다. 렌즈 시스템(286)은 하나 이상의 광학 요소를 포함하고 있다. 노광 빔(211)은 스캐너 장치(280)에 들어가 슬릿(284)에 충돌하며, 출력 광 빔(211)의 적어도 일부는 슬릿(284)을 통과하여 성형된 노광 빔(211')을 형성한다. 도 2a 및 도 2b의 예에서, 슬릿(284)은 직사각형이고 노광 빔(211)을 세장형 직사각형 형상의 광 빔으로 성형하며, 이 광 빔은 성형된 노광 빔(211')이다. 마스크(285)는 성형된 광 빔의 어느 부분이 마스크(285)에 의해 투과되고 어느 부분이 마스크(285)에 의해 차단되는지를 결정하는 패턴을 포함하고 있다. 노광 빔(211)으로 웨이퍼(282) 상의 방사선-감응 포토레지스트 재료의 층을 노광시킴으로써 웨이퍼(282) 상에 미세 전자 피처가 형성된다. 마스크 상의 패턴의 디자인은 원하는 특정 미세 전자 회로 피처에 의해 결정된다.
제어 시스템(250)은 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)의 하나 이상의 양태를 제어하여 각각의 광 빔(216-1 내지 216-N)의 스펙트럼 특성 또는 특성들을 제어한다. 제어 시스템(250)은 실질적으로 동일한 스펙트럼 특성들을 갖도록 광 빔(216-1 내지 216-N)을 조정할 수 있다. 예를 들어, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 분석 장치(298-1 내지 298-N)로부터의 정보를 기반으로 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭이 다른 N-1개의 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작다는 것을 결정할 수 있다. 이에 대응하여, 제어 시스템(250)은 이득 매질(214-1)의 특성 또는 스펙트럼 조정 장치(295-1)를 제어하여 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭을 증가시킨다.
도 4를 참조하면, 절차 400의 흐름도가 보여지고 있다. 절차 400은 제어 시스템(150)(도 1) 또는 제어 시스템(250)(도 2a)에 의하여 수행될 수 있다. 아래의 예에서, 절차 400은 제어 시스템(250)에 의하여 그리고 광학 소스(210)에 의하여 수행된다. 위에서 논의된 바와 같이, 광학 시스템(210)은 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)를 포함하고 있으며, 광학 오실레이터들의 각각은 각각의 광 빔(216-1 내지 216-N)을 생성하도록 구성되어 있다. 광 빔(216-1 내지 216-N)들 중 적어도 하나는 임의의 주어진 시간에 출력 광 빔(211)에 기여한다.
광학 소스(210)에 하나보다 많은 광학 오실레이터를 포함시키는 것은 광학 소스(210) 및 시스템(200)의 성능을 향상시킨다. 예를 들어, 광학 오실레이터는 전형적으로 운영 간격(service interval)이 지난 후에 유지 보수를 위해 운영되지 않는다. 운영 간격은 기간 또는 사전 규정된 펄스 수일 수 있다. 광학 오실레이터는 유지 보수가 수행되는 동안 각각의 광 빔을 안정적으로 생성할 수 없다. 광학 소스(210)는 하나보다 많은 광학 오실레이터를 포함하고 있기 때문에, 광학 오실레이터 중 다른 하나 또는 다수가 유지 보수되고 있는 동안 광학 오실레이터들 중 하나는 운영될 수 있다. 따라서, N 개의 광학 오실레이터를 포함함으로써 소스(210) (및 시스템(200))의 정지 시간이 감소된다. 더욱이, 광학 오실레이터들 중 임의의 것이 교체되는 것을 요구하지 않고 소스(210)가 작동하는 총 기간은 단지 한 세트의 광학 오실레이터를 포함하는 광학 소스가 작동할 수 있는 시간의 양보다 크다.
따라서, N 개의 광학 오실레이터는 더 적은 정지 시간 및 더 긴 전체 작동 수명을 갖는 소스(210)의 결과로 이어진다. 출력 광 빔(211)에 기여하는 광 빔(216-1 내지 216-N)들 중 하나 이상의 광 빔은 시간이 지나면서 변경된다. 보정 없이, 광 빔(216-1 내지 216-N)들의 각각은 동일한 스펙트럼 특성에 대해 상이한 값 또는 양을 가질 수 있다. 따라서, 보정이 없는 경우, 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)들 중 상이한 하나 이상의 광학 오실레이터로부터의 광 빔이 출력 광 빔(211)을 생성하기 위해 사용되기 때문에 출력 광 빔(211)의 스펙트럼 특성은 또한 시간이 지나면서 변경될 수 있다. 절차 400은 시간이 지나면서 출력 광 빔(211)의 스펙트럼 특성의 균일성을 증가시키기 위해 수행된다.
제1 기간 동안, 광학 리소그래피 시스템(200)은 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 중 제1 세트로부터 출력 광 빔(211)을 생성한다(410). 제1 기간은 제1 세트 내의 광학 오실레이터들의 각각이 특정 수의 펄스, 예를 들어 수천 개의 펄스를 생성하는 데 걸리는 시간일 수 있으며, 또는 제1 기간은 미리 설정된 기간일 수 있다. 제1 세트는 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 중 하나, N 개의 광학 오실레이터 중 복수, 또는 N 개의 광학 오실레이터 모두를 포함할 수 있다. 제어 시스템(250)은 제1 세트의 광학 오실레이터로부터의 광 빔만이 출력 광 빔(211)에 기여하도록 광학 시스템(210)을 제어한다.
예를 들어, 일부 구현 형태에서, 모든 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)는 각각의 광 빔(216-1 내지 216-N)을 생성하며, 제어 시스템(250)은 빔 제어 장치(217)에 작용하여 제1 세트 내의 광학 오실레이터에 의하여 생성된 광 빔만이 출력 광 빔(211)에 기여하는 것을 보장한다. 이 구현 형태에서, 제어 시스템(250)은 제1 세트의 광학 오실레이터에 의해 생성된 광 빔만이 출력 광 빔(211)에 기여하도록 빔 제어 장치(217)에 작용한다. 예를 들어, 빔 제어 장치(217)는 N 개의 셔터(212-1 내지 212-N)를 포함할 수 있으며, 셔터들의 각각은 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)의 하나와 연관된다. 제1 상태에서, 각 셔터는 각각의 광 빔을 차단한다. 제2 상태에서, 각 셔터는 각각의 광 빔을 투과시킨다. 이 구현 형태에서, 제어 시스템(250)은 제1 세트의 각 광학 오실레이터와 연관된 셔터를 제2 상태에 있도록 제어한다. 제어 시스템(250)은 제1 세트의 광학 오실레이터에 있지 않은 각 광학 오실레이터와 연관된 셔터를 제1 상태에 둔다. 따라서, 제1 세트에 있지 않은 광학 오실레이터에 의해 생성된 광 빔은 빔 결합기(218)에 도달하지 않으며 출력 광 빔(211)에 기여하지 않는다.
다른 구현 형태에서, 제어 시스템(250)은 제1 세트에 있는 광학 오실레이터만이 각각의 광 빔을 생성하도록 하는 반면, 제1 세트에 있지 않은 광학 오실레이터는 광 빔을 생성하지 않는 오프(OFF) 상태에 있다. 이 구현 형태에서, 제1 세트 내의 광학 오실레이터로부터 광 빔은 빔 결합기(218)에 도달한다. 제1 세트에 있지 않은 광학 오실레이터로부터의 광 빔은 빔 결합기(218)에 도달하지 않는다. 따라서, 제1 기간 동안, 출력 광 빔(211)은 제1 세트의 광학 오실레이터에 의해 생성된 광 빔으로부터의 기여도만을 포함한다.
제2 기간 동안, 광학 리소그래피 시스템(200)은 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 중 제2 세트로부터 출력 광 빔(211)을 생성한다(420). 제2 기간은 제1 기간 이후에 발생한다. 제2 기간은 제2 세트 내의 광학 오실레이터들의 각각이 특정 수의 펄스, 예를 들어 수천 개의 펄스를 생성하는 데 걸리는 시간, 또는 미리 설정된 기간일 수 있다. 제1 기간과 제2 기간은 동일하거나 상이할 수 있다.
제2 세트의 광학 오실레이터는 하나의 광학 오실레이터, N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 모두보다 적은 복수의 광학 오실레이터, 또는 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 모두를 포함할 수 있다. 그러나 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 중 제2 세트는 제1 세트와 동일한 광학 오실레이터 또는 광학 오실레이터들을 포함하지 않는다. 예를 들어, 제1 세트의 광학 오실레이터가 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 모두를 포함한다면, 제2 세트는 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 모두보다 적은 광학 오실레이터를 포함한다. 제1 세트의 광학 오실레이터가 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 중 하나를 포함한다면, 제2 세트의 광학 오실레이터는 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N) 중 단지 상이한 하나일 수 있거나, 제2 세트의 광학 오실레이터는 제1 세트에서 사용된 광학 오실레이터를 포함하는 또는 포함하지 않는 복수의 광학 오실레이터일 수 있다.
제어 시스템(250)은 스펙트럼 조정 장치(295-1 내지 295-N) 중 하나 이상을 제어하여 시간이 지나면서 출력 광 빔(211)의 스펙트럼 특성의 균일성을 증가시킨다(430). N이 2이고 광학 소스(210)가 제1 세트로서 광학 오실레이터(212-1) 그리고 제2 세트로서 광학 오실레이터(212-2)를 포함하는 위의 예에 계속하여, 제1 기간 동안, 광 빔(216-1)만이 빔 결합기(218)에 도달한다. 광 빔(216-2)은 생성되지만, 빔 결합기(218)에 도달하지는 않는다. 광 빔(216-2)의 스펙트럼 대역폭은 스펙트럼 분석 장치(298-2)에 의해 측정되며, 광 빔(216-2)의 스펙트럼 대역폭을 나타내는 데이터는 제어 시스템(250)에 제공된다. 제어 시스템(250)은 광 빔(216-2)의 스펙트럼 대역폭을 광 빔(216-1)의 측정되거나 알려진 스펙트럼 대역폭과 또는 사양과 비교한다. 광 빔(216-2)의 스펙트럼 대역폭이 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭보다 작거나 및/또는 사양보다 작다면, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 조정 장치(295-2)를 제어하여 제2 광 빔(216-2)의 스펙트럼 대역폭을 증가시킨다.
예를 들어, 스펙트럼 조정 장치(295-2)는 도 3에서 보여지는 바와 같은 스펙트럼 조정 장치(395-1)일 수 있다. 이 예에서, 제어 시스템(250)은 (도 3에서 보여지는 바와 같은) 각각의 액추에이터(321A, 322A, 323A, 324A, 325A)를 통해 격자(321)의 배향 및/또는 프리즘(322, 323, 324, 325)들 중 하나 이상의 프리즘의 배향을 제어함으로써 광 빔(216-2)의 스펙트럼 특성을 조정한다.
광 빔(216-2)의 스펙트럼 특성 또는 스펙트럼 특성들은 제2 기간이 시작되기 전에 조정된다. 따라서, 제어 시스템(250)이 빔 제어 장치(217)에 작용하여 광 빔(216-2)이 빔 결합기(218)와 상호작용하는 것을 허용할 때, 광 빔(216-2)의 스펙트럼 특성은 이미 조정되어 있다. 이렇게 하여, 제어 시스템(250)은 출력 광 빔(211)의 스펙트럼 특성의 급격한 변화를 완화하거나 제거하며, 그에 의하여 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)들 중 상이한 것들이 제1 및 제2 기간에 사용될지라도 출력 광 빔(211)의 균일성을 증가시킨다.
기간 동안 제1 광학 오실레이터(212-1)와 제2 광학 오실레이터(212-2)를 사용하는 것 사이에서 계속 교대할 수 있다. 더욱이, 단지 하나의 광학 오실레이터를 각각 갖는 제1 및 제2 세트가 예로서 제공된다. 제어 시스템(250)은 2개 세트의 N 개의 광학 오실레이터보다 많은 세트를 순환시킬 수 있다. 예를 들어, N은 6일 수 있다. 제어 시스템(250)은 6개의 광학 오실레이터 중 3개가 제1 기간에 빔 결합기(218)에 도달하게 하고, 6개의 광학 오실레이터 중 다른 3개가 제2 기간에 빔 결합기(218)에 도달하게 하며, 3개의 다른 광학 오실레이터의 임의의 그룹은 제3 기간에 빔 결합기(218)에 도달하게 할 수 있다.
도 5를 참조하면, 절차 500의 흐름도가 보여지고 있다. 절차 500은 제어 시스템(150)(도 1) 또는 제어 시스템(250)(도 2a)에 의해 수행될 수 있다. 아래의 예에서, 절차 500은 제어 시스템(250)에 의하여 그리고 광학 소스(210)에 의하여 수행된다. 절차 500은 하나 이상의 광 빔(216-1 내지 216-N)의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 사용된다. 광학 소스(210)는 N 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)를 포함하고 있다. 아래의 논의에서, N 개의 광학 오실레이터는 제1 세트의 M 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-M) 및 제2 세트의 L 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-L)를 포함하고 있다. M과 L은 0보다는 크고 N보다는 작거나 같은 정수이다. 제1 세트와 제2 세트는 동일한 광학 오실레이터를 포함하지 않는다. 제1 세트의 M 개의 광학 오실레이터가 사용되어 제1 기간에 출력 광 빔(211)을 생성한다. 제2 세트의 L 개의 광학 오실레이터가 사용되어 제2 기간에 출력 광 빔(211)을 생성하는 데 사용된다.
절차 500은 모든 광 빔(216-1 내지 216-M)의 스펙트럼 특성이 서로 더 유사하거나 실질적으로 동일하거나 또는 사양에 더 가깝도록 광 빔(216-1 내지 216-L) 및/또는 광 빔(216-1 내지 216-M)의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 절차 500은 모든 광 빔(216-1 내지 216-N)의 스펙트럼 대역폭을 각각의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-N)에 의해 생성된 광학 출력에 대해 가능한 최대 스펙트럼 대역폭과 동일하게 만들기 위해 사용될 수 있다.
제1 기간 동안, 출력 광 빔(211)은 M 개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-M)로부터의 광에 기초하여 생성된다(510). M 개의 광 빔 중 하나 이상의 광 빔의 스펙트럼 특성과 관련된 데이터가 액세스된다(520). 예를 들어, 액세스된 데이터는 스펙트럼 분석 장치(298-1 내지 298-M)로부터의 데이터일 수 있다. 일부 구현 형태에서, 액세스된 데이터는 전자 저장부(252)에 저장된 스펙트럼 분석 장치(298-1 내지 298-M)로부터의 데이터일 수 있다. M 개의 광 빔 각각의 결정된 스펙트럼 특성은 기준과 비교된다(530). N 개의 광학 오실레이터 중 임의의 것의 양태를 제어할지 여부는 비교를 기반으로 결정된다(540). 양태가 제어되어야 할 때, 제어 시스템(250)은 M 개의 광학 오실레이터 중 하나 이상을 조정하여 M 개의 광 빔(550) 중 각각의 하나 이상의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정한다.
N이 4, M이 2, 그리고 L이 2인 예를 사용하여 다양한 구현 형태가 아래에서 논의된다. 광학 소스(210)는 4개의 광학 오실레이터(212-1 내지 212-4)를 포함하고 있다. 제1 세트는 광학 오실레이터(212-1 및 212-2)를 포함하고 있다. 제2 세트는 광학 오실레이터(212-3 및 212-4)를 포함하고 있다.
일부 구현 형태에서, 기준은 최대 스펙트럼 대역폭을 나타내는 미리정해진 값이다. 이 구현 형태에서, 기준은 전자 저장부(252)에 저장된다. 기준은 광학 시스템(210)이 제조될 때 전자 저장부(252)에 저장될 수 있거나, 광학 소스(210)가 현장에 있는 동안 전자 저장부(252)에 로딩(loaded)될 수 있다. M 개의 광 빔(216-1 및 216-2) 각각의 스펙트럼 특성은 스펙트럼 분석 장치(298-1 및 298-2)로부터의 데이터를 각각 기반으로 결정되거나, 스펙트럼 분석 장치(298-1 및 298-2)를 사용하여 직접 측정된다. 광 빔(216-1 및 216-2)들 각각의 스펙트럼 특성은 최대 스펙트럼 대역폭과 비교된다. 예를 들어, 비교는 최대 스펙트럼 대역폭과 광 빔(216-1 및 216-2)들 각각의 스펙트럼 특성 간의 차이를 결정함으로써 수행될 수 있다. 결정된 차이는 임계값과 비교될 수 있다. 광 빔(216-1)에 대한 차이가 임계값보다 크면, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 조정 장치(295-1)를 작동시켜 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭을 증가시킨다. 예를 들어, 스펙트럼 조정 장치(295-1)는 도 3에서 보여지는 바와 같이 구현될 수 있다. 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭을 증가시키기 위해, 제어 시스템(250)은 액추에이터(324A)를 사용하여 프리즘(324)을 작동시킨다.
광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭을 증가시키는 하나의 접근법은 스펙트럼 조정 장치(295-1)에서 격자에 충돌하는 광의 발산을 증가시키는 것이다. 또 다른 접근법은 스펙트럼 조정 장치(295-1)에서 격자에 충돌하는 광의 입사각을 빠르게 변화시키는 것이다. 이 급격한 변화는, 예를 들어 아래에서 논의되는 바와 같이 스펙트럼 조정 장치(295-1)에서 조향 프리즘(steering prism)을 위한 액추에이터에 적절한 시변 신호를 인가함으로써 실행될 수 있다. 스펙트럼 조정 장치(295-1)가 조정되고 그에 의하여 10번째 펄스마다 광 빔(216-1)의 스펙트럼 특성을 조정하도록 스펙트럼 조정 장치(295-1)가 조정되는 속도는, 예를 들어 광 빔(216-1)의 반복률의 적어도 1/10일 수 있다. 예를 들어, 광 빔(216-1)의 반복률이 6,000㎐인 경우, 스펙트럼 조정 장치(295-1)는 적어도 600㎐의 비율로 조정된다. 이 예에서, 위에서 논의된 바와 같이 사용된 조향 프리즘의 액추에이터는 적어도 600㎐의 속도로 작동될 것이다. 다른 조정률이 사용될 수 있다. 예를 들어, 스펙트럼 조정 장치(295-1)는 광학 오실레이터(212-1)에 의해 생성된 각 펄스에 대해 (즉, 펄스 대 펄스 기반으로) 조정될 수 있다. 또 다른 예에서, 스펙트럼 조정 장치(295-1)의 (조향 프리즘과 같은) 광학 요소는 5번째 펄스마다 광 빔(216-1)의 스펙트럼 특성을 조정하는 속도로 작동될 수 있다.
광 빔(216-1)에 대한 차이가 임계값보다 작으면, 그러면 제어 시스템(250)은 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭을 조정하지 않는다. 유사한 분석이 광 빔(216-2)에 대해서 수행된다.
광 빔(216-1 내지 216-N)들 중 하나 이상의 광 빔의 스펙트럼 특성이 미리정해진 값과 비교되도록 위의 예는 미리 규정된 또는 목표 값인 기준에 관한 것이다. 다른 구현 형태가 가능하다. 예를 들어, 제1 세트의 광 빔의 스펙트럼 특성은 제2 세트의 광 빔의 스펙트럼 속성과 비교될 수 있거나, 제1 세트의 하나의 광 빔의 스펙트럼 특성은 제1 세트의 또 다른 광 빔의 스펙트럼 특성과 비교될 수 있거나,
보다 구체적인 예를 제공하기 위해, 기준은 광 빔(216-3 및 216-4)들 각각의 스펙트럼 대역폭을 나타내는 값을 포함할 수 있다. 각 광 빔(216-1 및 216-2)의 스펙트럼 대역폭은 광 빔(216-3) 및/또는 광 빔(216-4)의 스펙트럼 특성과 비교된다. 예를 들어, 비교는 광 빔(216-1 및 216-3)들의 스펙트럼 대역폭들 간의 차이를 결정함으로써 수행될 수 있다. 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭이 광 빔(216-3)의 스펙트럼 대역폭보다 작다면, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 조정 장치(295-1)를 작동시켜 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭을 증가시킨다. 광 빔(216-3)의 스펙트럼 대역폭이 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭보다 작다면, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 조정 장치(295-3)를 작동시켜 광 빔(216-3)의 스펙트럼 대역폭을 증가시킨다. 예를 들어, 스펙트럼 조정 장치(295-1 내지 295-4)는 도 3에서 보여진 바와 같이 구현될 수 있다. 이 구현 형태에서, 광 빔(216-1)의 대역폭을 증가시키기 위해, 제어 시스템(250)은 스펙트럼 조정 장치(295-1)의 액추에이터(324A)를 제어함으로써 프리즘(324)을 작동시킨다.
더욱이, 제어 시스템(250)은 광 빔(216-1)의 스펙트럼 대역폭과 광 빔(216-3)의 스펙트럼 대역폭 간의 차이를 기반으로 프리즘(324)의 작동 량을 결정할 수 있다. 예를 들어, 액추에이터(324A)는 전압 신호의 인가에 응답하여 형태가 변하는 압전 액추에이터일 수 있다. 프리즘(324)은 압전 액추에이터가 형상을 변화시킬 때 이동한다. 프리즘(324)의 이동의 양 및 방향은 인가되는 전압 신호의 특성에 의해 결정된다. 프리즘(324)은 시변 전압 신호를 인가함으로써 급속하게 이동될 수 있다. 인가된 전압 신호의 진폭은 프리즘(324)의 변위를 결정하며, 인가된 전압 신호의 주파수는 프리즘(324)이 얼마나 급속하게 변위되는지를 결정한다. 인가된 전압 신호의 진폭은 차이의 크기를 기반으로 하며, 진폭은 더 작은 차이에 대해서 보다 더 큰 차이에 대해 더 크다. 시변 신호는, 예를 들어 정현파 또는 거의 정현파 신호, 구형파, 삼각파, 또는 임의의 다른 시변 신호일 수 있다. 이 시나리오는 예로서 제공된다. 그러나 광 빔들 중 다른 광 빔의 스펙트럼 특성을 비교하기 위해 유사한 분석이 수행될 수 있다. 예를 들어, 광 빔(216-3 및 216-4)들 각각의 스펙트럼 특성은 광 빔(216-1 및/또는 216-2)의 스펙트럼 특성과 비교될 수 있으며, 조정은 적절하게 이루어진다. 더욱이, 광 빔(216-1)의 스펙트럼 특성은 광 빔(216-2)의 스펙트럼 특성과 비교될 수 있으며, 조정은 적절하게 이루어진다.
본 발명의 다른 양태는 다음의 번호가 부여된 조항에 제시된다.
1. 시스템은,
복수의 광학 오실레이터 -각 광학 오실레이터는 광 빔을 생성하도록 구성됨-를 포함하는 광학 소스;
스펙트럼 분석 장치; 및
컨트롤러를 포함하며,
컨트롤러는 스펙트럼 분석 장치로부터의 데이터를 기반으로, 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 복수의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록 구성되며; 그리고
광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다르다면, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 또는 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된다.
2. 조항 1의 시스템에서, 스펙트럼 특성은 스펙트럼 대역폭을 포함한다.
3. 조항 2의 시스템에서, 제어 시스템이 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 상이한지 여부를 결정하도록 구성되는 것은, 컨트롤러가 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 복수의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 대역폭보다 작은지 여부를 결정하도록 구성되는 것을 포함한다.
4. 조항 3의 시스템에서, 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작다면, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 대역폭을 증가시키도록 구성된다.
5. 조항 1의 시스템은 복수의 스펙트럼 조정 장치를 더 포함하며, 각 광학 오실레이터는 복수의 스펙트럼 조정 장치 중 하나와 연관되고, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 임의의 것과 연관된 스펙트럼 조정 장치를 제어함으로써 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된다.
6. 조항 1의 시스템에서, 각 스펙트럼 조정 시스템은 적어도 하나의 광학 요소를 포함하며, 컨트롤러는 광학 요소가 이동하도록 해당 스펙트럼 조정 장치의 광학 요소에 연결된 액추에이터를 작동시킴으로써 특정 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성된다.
7. 조항 6의 시스템에서, 광학 요소를 이동시키는 것은 광 빔의 중심 파장을 변경시킨다.
8. 조항 6의 시스템에서, 컨트롤러는 작동 량을 결정하도록 더 구성된다.
9. 조항 8의 시스템에서, 광학 요소를 작동시키기 위해, 컨트롤러는 전기 신호를 광학 요소에 제공하며, 작동의 양은 전기 신호를 기반으로 하고, 전기 신호의 하나 이상의 특성은 이 차이를 기반으로 결정된다.
10. 조항 9의 시스템에서, 전기 신호의 하나 이상의 특성은 진폭 및/또는 주파수를 포함한다.
11. 조항 8의 시스템에서, 작동의 양은 일정 기간 동안 스펙트럼 조정 시스템과 상호작용할 것으로 예상되는 광 펄스의 수를 기반으로 하며, 작동의 양은 일정 기간 동안 수행되는 별개의 작동의 수이다.
12. 조항 8의 시스템에서, 작동의 양은 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 간의 차이를 기반으로 한다.
13. 조항 1의 시스템에서, 각 스펙트럼 조정 장치는 적어도 하나의 굴절형 광학 요소를 포함한다.
14. 조항 1의 시스템에서, 각 스펙트럼 조정 장치는 적어도 하나의 프리즘을 포함한다.
15. 조항 1의 시스템에서, 각 스펙트럼 조정 장치는 반사형 광학 요소를 포함한다.
16. 조항 1의 시스템에서, 각 스펙트럼 조정 장치는 복수의 프리즘 및 프리즘들 중 하나에 연결된 액추에이터를 포함하며, 컨트롤러는 프리즘들 중 하나를 이동시키기 위해 각각의 스펙트럼 조정 조립체의 액추에이터를 제어함으로써 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된다.
17. 조항 1의 시스템에서, 각 광학 오실레이터는 복수의 광학 펄스를 포함하는 펄스형 광 빔을 방출하도록 구성된다.
18. 조항 1의 시스템에서, 컨트롤러는
스펙트럼 특성을 조정한 후 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 업데이트된 스펙트럼 특성을 결정하도록, 그리고
제1 광학 오실레이터의 광 빔의 업데이트된 스펙트럼 특성이 광학 오실레이터들 중 다른 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록 추가 구성된다.
19. 조항 1의 시스템에서, 복수의 광학 오실레이터는 제1 광학 오실레이터 및 제2 광학 오실레이터만을 포함하여 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터는 제1 광학 오실레이터이고 제2 광학 오실레이터는 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터이며, 컨트롤러는:
스펙트럼 분석 장치로부터의 데이터를 기반으로, 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록; 그리고
제1 광학 오실레이터의 스펙트럼 대역폭이 제2 광학 오실레이터의 스펙트럼 대역폭과 다르다면, 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 또는 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된다.
20. 조항 1의 시스템에서, 스펙트럼 분석 시스템은 복수의 스펙트럼 분석 시스템을 포함하며, 각 스펙트럼 분석 시스템은 광학 오실레이터들 중 하나의 광학 오실레이터의 광 빔을 받아들이도록 구성되고, 각 스펙트럼 분석 시스템은 광학 오실레이터들 중 하나의 광학 오실레이터의 광 빔과 연관된 스펙트럼 특성을 측정하도록 구성된다.
21. 조항 1의 시스템에서, 각 광학 오실레이터는 가스 이득 매질을 담고 있도록 구성된다.
22. 조항 21의 시스템에서, 가스 이득 매질은 크립톤 플루오라이드(KrF)를 포함한다.
23. 조항 21의 시스템에서, 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다르다면, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 가스 이득 매질의 하나 이상의 가스 성분의 압력 및/또는 농도를 조정하도록, 또는 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 가스 이득 매질의 하나 이상의 가스 성분의 압력 및/또는 농도를 조정하도록 구성된다.
24. 조항 1의 시스템은 모든 광학 오실레이터의 광 빔을 받아들이도록 그리고 광 빔을 DUV 리소그래피 스캐너 툴로 향하게 하도록 구성된 빔 결합기를 더 포함한다.
25. 조항 1의 시스템에서, 각 광학 오실레이터는 반복률을 갖는 펄스형 광 빔을 생성하도록 구성되며, 컨트롤러는 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터 또는 광학 오실레이터들 중 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정률로 조정하도록 구성되고, 조정률은 반복률의 1/10 이상이다.
26. N 개의 광학 오실레이터- N은 1보다 큰 정수이며 각 광학 오실레이터는 각각의 광 빔을 생성하도록 구성됨-를 포함하는 심자외(DUV) 광원을 제어하는 방법은,
M 개의 각각의 광학 오실레이터에 의해 생성된 M 개의 광 빔 -M은 0보다 크고 N보다는 작거나 같은 정수임-을 기반으로 출력 광 빔을 형성하는 것;
M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성과 관련된 데이터에 액세스하는 것;
M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것; 및
비교를 기반으로, N 개의 광 빔 중 임의의 것의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 임의의 것의 양태를 제어할지 여부를 결정하는 것을 포함한다.
27. 조항 26의 방법에서, 스펙트럼 특성은 스펙트럼 대역폭을 포함한다.
28. 조항 26의 방법에서, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것이 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 나머지 M 개의 광 빔 모두의 스펙트럼 특성과 비교하는 것을 포함하도록 기준은 M 개의 광 빔 모두의 스펙트럼 특성을 포함한다.
29. 조항 26의 방법에서, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 나머지 M 개의 광 빔 모두의 스펙트럼 특성과 비교하는 것은;
M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성과 나머지 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성 간의 차이를 결정하는 것을 포함하며; 그리고
비교를 기반으로 결정하는 것은 각 결정된 차이를 사양과 비교하는 것을 포함한다.
30. 조항 26의 방법에서, 기준은 스펙트럼 특성의 미리정해진 값을 포함하며, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것은 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 미리정해진 값과 비교하는 것을 포함한다.
31. 조항 30의 방법에서, 미리정해진 값은 최대 스펙트럼 대역폭을 포함하며, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성은 해당 광 빔의 스펙트럼 특성과 최대 스펙트럼 대역폭 간의 차이를 결정함으로써 최대 스펙트럼 대역폭과 비교된다.
32. 조항 31의 방법에서, 비교를 기반으로 결정하는 것은 결정된 차이를 미리정해진 허용 가능한 차이 범위와 비교하는 것을 포함하며, 미리정해진 허용 가능한 차이 범위를 벗어난 결정된 차이를 갖는 M 개의 광 빔의 임의의 것에 대해 개개의 광학 오실레이터의 양태가 제어된다.
33. 조항 32의 방법에서, 개개의 광학 오실레이터의 양태를 제어하는 것은 분산 광학 요소를 작동시키는 것을 포함한다.
34. 조항 26의 방법에서, 출력 광 빔은 제1 기간의 M 개의 광 빔을 기반으로 그리고 제2 기간의 L 개의 광 빔을 기반으로 하며, L은 1 이상이고 N보다 작거나 같은 정수이며,
기준은 L 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 포함하고, M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것은 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 L 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성과 비교하는 것을 포함한다.
35. 조항 34의 방법에서, L은 1, M은 1, N은 2이며, L 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제1 광 빔이고, M 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제2 광 빔이며;
제1 광 빔의 스펙트럼 특성과 제2 광 빔의 스펙트럼 특성을 비교하는 것은
제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작은지 여부를 결정하는 것; 및
제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작으면, 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 증가되도록 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터 내의 프리즘을 제어하는 것을 포함한다.
36. 조항 34의 방법에서, L은 1, M은 1, N은 2이며, L 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제1 광 빔이고, M 개의 광 빔은 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제2 광 빔이며;
제1 광 빔의 스펙트럼 특성과 제2 광 빔의 스펙트럼 특성을 비교하는 것은
제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작은지 여부를 결정하는 것; 및
제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작으면, 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 증가되도록 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 광학 오실레이터 내의 프리즘을 제어하는 것을 포함한다.
37. 조항 35의 방법은 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭 간의 차이를 기반으로, N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터 내의 프리즘에 대한 조정량을 결정하는 것을 더 포함한다.
38. 조항 37의 방법에서, N 개의 광학 오실레이터 중 제2광학 오실레이터 내의 프리즘을 제어하기 위해, 시변 신호가 프리즘에 물리적으로 연결된 액추에이터에 인가되며, 시변 신호의 진폭은 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭 간의 차이와 관련된다.
39. N 개의 광학 오실레이터- N은 1보다 큰 정수이며 각 광학 오실레이터는 각각의 광 빔을 생성하도록 구성됨-를 포함하는 심자외(DUV) 광원을 위한 제어 시스템은:
제1 기간 동안 DUV 광원에 의해 생성된 출력 광 빔이 제1 세트의 광 빔을 포함하도록 제1 기간 동안 제1 세트의 광 빔을 생성하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 세트를 제어하도록;
제2 기간 동안 DUV 광원에 의해 생성된 출력 광 빔이 제2 세트의 광 빔을 포함하도록 제2 기간 동안 제2 세트의 광 빔을 생성하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 세트-N 개의 광학 오실레이터 중 제2 세트와 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 세트는 N 개의 광학 오실레이터 중 동일한 오실레이터 또는 오실레이터들을 포함하지 않음-를 제어하도록; 그리고
N 개의 광 빔의 스펙트럼 특성의 균일성을 증가시키기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성된다.
40. 조항 39의 제어 시스템에서, 스펙트럼 조정 장치는 제2 기간 전에 제어된다.
41. 조항 40의 제어 시스템에서, N 개의 광학 오실레이터 중 제2 세트 내의 N 개의 광학 오실레이터 중 하나 이상의 광학 오실레이터의 스펙트럼 조정 장치는 각각의 제2 세트의 광 빔 중 하나 이상의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 제어된다.
41. 조항 40의 제어 시스템에서, 각 광학 오실레이터는 반복률로 각각의 펄스형 광 빔을 생성하도록 구성되며, 제어 시스템은 반복률의 1/10 보다 크거나 같은 조정률로 N 개의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성된다.
다른 구현 형태가 청구범위의 범위 내에 있을 수 있다.

Claims (42)

  1. 복수의 광학 오실레이터들 -각 광학 오실레이터는 광 빔을 생성하도록 구성됨-을 포함하는 광학 소스;
    스펙트럼 분석 장치; 및
    컨트롤러를 포함하며,
    상기 컨트롤러는 상기 스펙트럼 분석 장치로부터의 데이터를 기반으로, 상기 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 상기 복수의 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록 구성되며; 그리고
    상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 상기 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다르다면, 상기 컨트롤러는 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 또는 상기 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성되고,
    상기 스펙트럼 특성은 스펙트럼 대역폭을 포함하는 시스템.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 제어 시스템이 상기 광학 오실레이터들 중 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 상기 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 상이한지 여부를 결정하도록 구성되는 것은, 상기 컨트롤러가 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 상기 복수의 광학 오실레이터들 중 상기 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 대역폭보다 작은지 여부를 결정하도록 구성되는 것을 포함하는 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 상기 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작다면, 상기 컨트롤러는 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 대역폭을 증가시키도록 구성된 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 시스템은 복수의 스펙트럼 조정 장치를 더 포함하며, 각 광학 오실레이터는 상기 복수의 스펙트럼 조정 장치 중 하나와 연관되고, 상기 컨트롤러는 상기 광학 오실레이터들 중 임의의 것과 연관된 상기 스펙트럼 조정 장치를 제어함으로써 상기 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성되는 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 각 스펙트럼 조정 시스템은 적어도 하나의 광학 요소를 포함하며, 상기 컨트롤러는 광학 요소가 이동하도록 해당 스펙트럼 조정 장치의 상기 광학 요소에 연결된 액추에이터를 작동시킴으로써 특정 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성된 시스템.
  7. 삭제
  8. 제6항에 있어서, 상기 컨트롤러는 작동의 양을 결정하도록 더 구성된 시스템.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제8항에 있어서, 상기 작동의 양은 일정 기간 동안 상기 스펙트럼 조정 시스템과 상호작용할 것으로 예상되는 광 펄스의 수를 기반으로 하며, 상기 작동의 양은 일정 기간 동안 수행되는 별개의 작동의 수인 시스템.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 제1항에 있어서, 각 스펙트럼 조정 장치는 적어도 하나의 프리즘을 포함하는 시스템.
  15. 제1항에 있어서, 각 스펙트럼 조정 장치는 반사형 광학 요소를 포함하는 시스템.
  16. 제1항에 있어서, 각 스펙트럼 조정 장치는 복수의 프리즘 및 상기 프리즘 중 하나에 연결된 액추에이터를 포함하며, 상기 컨트롤러는 상기 프리즘 중 하나를 이동시키기 위해 각각의 스펙트럼 조정 조립체의 상기 액추에이터를 제어함으로써 상기 광학 오실레이터들 중 임의의 것의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된 시스템.
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 제1항에 있어서, 상기 복수의 광학 오실레이터는 제1 광학 오실레이터 및 제2 광학 오실레이터만을 포함하여 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터는 제1 광학 오실레이터이고 상기 제2 광학 오실레이터는 상기 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터이며, 상기 컨트롤러는:
    상기 스펙트럼 분석 장치로부터의 데이터를 기반으로, 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 상기 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다른지 여부를 결정하도록; 그리고
    상기 제1 광학 오실레이터의 상기 스펙트럼 대역폭이 상기 제2 광학 오실레이터의 상기 스펙트럼 대역폭과 다르다면, 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성 또는 상기 제2 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하도록 구성된 시스템.
  20. 삭제
  21. 제1항에 있어서, 각 광학 오실레이터는 가스 이득 매질을 담고 있도록 구성된 시스템.
  22. 삭제
  23. 제21항에 있어서, 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성이 상기 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성과 다르다면, 상기 컨트롤러는 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터의 가스 이득 매질의 하나 이상의 가스 성분의 압력 및/또는 농도를 조정하도록, 또는 상기 광학 오실레이터들 중 상기 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 상기 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 가스 이득 매질의 하나 이상의 가스 성분의 압력 및/또는 농도를 조정하도록 구성된 시스템.
  24. 삭제
  25. 제1항에 있어서, 각 광학 오실레이터는 반복률을 갖는 펄스형 광 빔을 생성하도록 구성되며, 상기 컨트롤러는 상기 광학 오실레이터들 중 상기 제1 광학 오실레이터 또는 상기 광학 오실레이터들 중 적어도 하나의 다른 광학 오실레이터의 광 빔의 스펙트럼 특성을 조정률로 조정하도록 구성되고, 상기 조정률은 상기 반복률의 1/10 이상인 시스템.
  26. N 개의 광학 오실레이터- N은 1보다 큰 정수이며 각 광학 오실레이터는 각각의 광 빔을 생성하도록 구성됨-를 포함하는 심자외(DUV) 광원을 제어하는 방법에 있어서,
    M 개의 각각의 광학 오실레이터에 의해 생성된 M 개의 광 빔 -M은 0보다 크고 N보다는 작거나 같은 정수임-을 기반으로 출력 광 빔을 형성하는 것;
    상기 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성과 관련된 데이터에 액세스하는 것;
    M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것; 및
    비교를 기반으로, N 개의 광 빔 중 임의의 것의 스펙트럼 특성을 조정하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 임의의 것의 양태를 제어할지 여부를 결정하는 것을 포함하고,
    상기 스펙트럼 특성은 스펙트럼 대역폭을 포함하는, 광원 제어 방법.
  27. 삭제
  28. 제26항에 있어서, 상기 M 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 기준과 비교하는 것이 상기 M 개의 광 빔의 각각의 광 빔의 스펙트럼 특성을 상기 M 개의 광 빔 중 나머지 광 빔 모두의 스펙트럼 특성과 비교하는 것을 포함하도록 상기 기준은 상기 M 개의 광 빔 모두의 스펙트럼 특성을 포함하는 광원 제어 방법.
  29. 삭제
  30. 제26항에 있어서, 상기 기준은 상기 스펙트럼 특성의 미리정해진 값을 포함하며, 상기 M 개의 광 빔 각각의 상기 스펙트럼 특성을 상기 기준과 비교하는 것은 상기 M 개의 광 빔 각각의 상기 스펙트럼 특성을 상기 미리정해진 값과 비교하는 것을 포함하는, 광원 제어 방법.
  31. 삭제
  32. 삭제
  33. 삭제
  34. 제26항에 있어서, 상기 출력 광 빔은 제1 기간의 상기 M 개의 광 빔을 기반으로 그리고 제2 기간의 L 개의 광 빔을 기반으로 하며, L은 1 이상이고 N보다 작거나 같은 정수이며,
    상기 기준은 상기 L 개의 광 빔 각각의 스펙트럼 특성을 포함하고, 상기 M 개의 광 빔 각각의 상기 스펙트럼 특성을 상기 기준과 비교하는 것은 상기 M 개의 광 빔 각각의 상기 스펙트럼 특성을 상기 L 개의 광 빔 각각의 상기 스펙트럼 특성과 비교하는 것을 포함하는, 광원 제어 방법.
  35. 제34항에 있어서, L은 1, M은 1, N은 2이며, 상기 L 개의 광 빔은 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제1 광 빔이고, M 개의 광 빔은 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 광학 오실레이터에 의하여 생성된 제2 광 빔이며;
    상기 제1 광 빔의 스펙트럼 특성과 상기 제2 광 빔의 스펙트럼 특성을 비교하는 것은
    상기 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 상기 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작은지 여부를 결정하는 것; 및
    상기 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 상기 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭보다 작으면, 상기 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭이 증가되도록 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 상기 제2 광학 오실레이터 내의 프리즘을 제어하는 것을 포함하는, 광원 제어 방법.
  36. 삭제
  37. 제35항에 있어서, 상기 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 상기 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭 간의 차이를 기반으로, 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 상기 제2 광학 오실레이터 내의 상기 프리즘에 대한 조정량을 결정하는 것을 더 포함하는, 광원 제어 방법.
  38. 제37항에 있어서, 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 상기 제2광학 오실레이터 내의 상기 프리즘을 제어하기 위해, 시변 신호가 상기 프리즘에 물리적으로 연결된 액추에이터에 인가되며, 상기 시변 신호의 진폭은 상기 제1 광 빔의 스펙트럼 대역폭과 상기 제2 광 빔의 스펙트럼 대역폭 간의 차이와 관련된, 광원 제어 방법.
  39. N 개의 광학 오실레이터- N은 1보다 큰 정수이며 각 광학 오실레이터는 각각의 광 빔을 생성하도록 구성됨-를 포함하는 심자외(DUV) 광원을 위한 제어 시스템에 있어서, 상기 제어 시스템은:
    제1 기간 동안 상기 DUV 광원에 의해 생성된 출력 광 빔이 제1 세트의 광 빔을 포함하도록 상기 제1 기간 동안 상기 제1 세트의 광 빔을 생성하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 제1 세트를 제어하도록;
    제2 기간 동안 상기 DUV 광원에 의해 생성된 출력 광 빔이 제2 세트의 광 빔을 포함하도록 상기 제2 기간 동안 상기 제2 세트의 광 빔을 생성하기 위해 N 개의 광학 오실레이터 중 제2 세트- N 개의 광학 오실레이터 중 상기 제2 세트와 N 개의 광학 오실레이터 중 상기 제1 세트는 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 동일한 오실레이터 또는 오실레이터들을 포함하지 않음-를 제어하도록; 그리고
    상기 N 개의 광 빔의 스펙트럼 특성의 균일성을 증가시키기 위해 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성되고,
    상기 스펙트럼 특성은 스펙트럼 대역폭을 포함하는 제어 시스템.
  40. 제39항에 있어서, 상기 스펙트럼 조정 장치는 상기 제2 기간 전에 제어되는 제어 시스템.
  41. 삭제
  42. 제39항에 있어서, 각 광학 오실레이터는 반복률로 각각의 펄스형 광 빔을 생성하도록 구성되며, 상기 제어 시스템은 상기 반복률의 1/10보다 크거나 같은 조정률로 상기 N 개의 광학 오실레이터 중 적어도 하나의 광학 오실레이터의 상기 스펙트럼 조정 장치를 제어하도록 구성된 제어 시스템.
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