KR102660110B1

KR102660110B1 - 유전 가열을 사용한 헤어 스타일링

Info

Publication number: KR102660110B1
Application number: KR1020217015615A
Authority: KR
Inventors: 얀닉 파루리안 주리안 보우르퀸; 바부 바게세; 마르코 바라고나
Original assignee: 코닌클리케 필립스 엔.브이.
Priority date: 2018-10-25
Filing date: 2019-10-15
Publication date: 2024-04-24
Also published as: BR112021007519A2; CN112911963A; KR20210079356A; JP2021529077A; EP3869994B1; JP7066059B6; JP7066059B2; EP3869994A1; WO2020083698A1; US20210393012A1; CN112911963B; PL3869994T3; EP3643196A1

Abstract

모발에 고주파 신호를 인가하기 위한 전극(102)들을 포함하는 헤어 스타일링 장치(100)에서, 고주파 신호의 주파수는 50 ㎒ 내지 90 ㎒이다. 바람직하게는, 고주파 신호의 전압은 30 V를 초과하지 않는 반면, 10 V를 초과하지 않는 전압은, 150℃ 이하인(그리고 이에 따라 모표피 손상이 일어날 임계 온도보다 더 낮은) 제1 온도까지 모발을 가열하기 위한 다른 열원(103) 및 제1 온도를 초과하고 헤어 스타일링을 위해 충분히 높은 제2 온도까지 모피질을 선택적으로 가열하기 위한 - 다른 열원(103)으로부터의 열과 조합됨 - 고주파 전극(102)들을 적용하는 구성에서 잘 작동할 것이다.

Description

유전 가열을 사용한 헤어 스타일링

본 발명은 유전 가열(dielectric heating)을 사용하는 헤어 스타일링 장치에 관한 것이다.

미국 특허 출원 공개 제2017/0360174호는 유전 가열을 사용하여 모발의 형상을 다루는 기기를 개시한다. 전형적으로, 이러한 기기는 서로를 향해 그리고 서로로부터 멀어지게 이동가능한 제1 아암(arm) 및 제2 아암 상에 각각 제공된 대향하는 제1 전극 및 제2 전극을 포함한다. 구동 회로가 제1 및 제2 전극들에 전기 에너지를 공급하여, 사용 중에 전극들 부근에서 교번하는 전기장이 생성되게 하고, 이에 의해 사용 중에 전극들 사이에 놓인 모발의 유전 가열을 유발시킨다. 감지 회로는 모발의 가열 동안 교번하는 전기장으로부터 모발에의 에너지의 결합에서의 변화를 감지한다. 제어 회로는 감지된 결합에서의 변화에 따라 제1 및 제2 전극들에 공급되는 전기 에너지를 변화시키도록 구동 회로를 제어한다.

주파수들의 범위는 바람직하게는 약 1 ㎒ 내지 약 100 ㎒이다. 더 바람직하게는, 주파수들의 범위는 약 10 ㎒ 내지 약 100 ㎒이다. 더욱 더 바람직하게는, 주파수들의 범위는 약 20 ㎒ 내지 약 40 ㎒이며, 이들 주파수는 (마이크로파와는 달리) 제한된 파 전파를 가져서 바람직하지 않은 EMC(전자파 적합성(electromagnetic compatibility)) 효과 또는 건강에 대한 위험을 나타내지 않기 때문에 소비자 제품에 매우 적합하다. 약 50 V AC의 전압이 사용된다.

본 발명의 목적은 특히 유전 가열을 사용하는 개선된 헤어 스타일링 장치를 제공하는 것이다. 본 발명은 독립항에 의해 한정된다. 유리한 실시예가 종속항에 한정된다.

본 발명의 실시예들은, 종래 기술의 미국 특허 출원 공개 제2017/0360174호에 의해 바람직하게 되는 바와 같은 40 ㎒ 미만의 주파수 범위에서 손실 탄젠트(loss tangent) 및 열 발생이 수분 함량에 상당히 의존한다는 인식에 기초한다. 따라서, 종래 기술에 의해 바람직하게 되는 바와 같은 40 ㎒ 미만의 주파수에 대해, 전력 수준은 모발의 수분 함량에 따라 조정될 필요가 있다. 또한, 스타일링 과정 동안에 수분 함량이 상당히 변화하므로, 열 제어는, 바람직하지 않은 과열 영향 및 불충분한 처리로 인한 불량한 효능이 발생하는 것을 방지하기 위하여, 최적의 가열 효과를 제공하도록 수분 함량의 정확한 실시간 모니터링을 필요로 한다. 그러한 의미에서, 수분 함량에 덜 의존적이며 처리 파라미터들의 덜 임계적인 감지 및 제어를 필요로 하는 방법을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명의 일 태양에 따르면, 이는 처리를 수분 함량에 덜 의존적이게 할 것임과 동시에 건조 모발들에 대해 약 1 ㎒와 대략 동일한 효능을 제공하는 50 ㎒ 내지 90 ㎒ 범위의 주파수를 사용함으로써 달성될 수 있다. 바람직하게는, 고주파 신호의 전압은 30 V를 초과하지 않는 반면, 10 V를 초과하지 않는 전압은, 150℃ 이하인(그리고 이에 따라 모표피(hair cuticle) 손상이 일어날 임계 온도보다 더 낮은) 제1 온도까지 모발을 가열하기 위한 다른 열원 및 제1 온도를 초과하고 헤어 스타일링을 위해 충분히 높은 제2 온도까지 모피질(hair cortex)을 선택적으로 가열하기 위한 - 다른 열원으로부터의 열과 조합됨 - 고주파 전극들을 적용하는 구성에서 잘 작동할 것이다.

본 발명의 이들 및 다른 태양이 후술되는 실시예로부터 명백하고 이러한 실시예를 참조하여 설명될 것이다.

도 1은 손실 탄젠트 대 주파수의 그래프.
도 2는 본 발명에 따른 헤어 스타일링 장치의 일 실시예를 도시하는 도면.

도 1은 각각 습윤 모발(W) 및 건조 모발(D)에 대한 손실 탄젠트 대 주파수의 그래프를 도시한다. 그래프는 40 ㎒ 미만의 주파수에 대해 습윤 모발(W)과 건조 모발(W) 사이의 손실 탄젠트에서 비교적 큰 차이를 보여주는 반면, 이 차이는 50 ㎒ 초과의 더 높은 주파수의 경우 훨씬 더 작아, 그러한 더 높은 주파수에서, 모발을 스타일링하면서 모발의 수분 함량을 정확히 그리고 끊임없이 측정하는 것이 필요치 않다. 그래프는 동일한 이점이 또한 90 ㎒보다 더 높은 주파수들에서 발생함을 보여주지만, RF 가열의 효능은 90 ㎒를 초과하는 주파수들에서 더 적다.

도 2는 본 출원인의 이전의 출원 WO 2017/080957호(대리인의 서류 2015PF01581)와 유사한, 본 발명에 따른 헤어 스타일링 장치(100)의 일 실시예를 도시하는데, 차이점은 도 2의 실시예에서는 고주파(RF) 가열이 광 대신에 사용된다는 것이다. 헤어 스타일링 장치(100)는 모발 가닥을 집도록 힌지 결합된 2개의 조오(jaw)(101)를 포함한다. 각각의 조오(101)는 스타일링에 필요한 약 170℃의 온도까지 모피질을 선택적으로 가열할 RF 전극 또는 대면적 전극(102)들의 어레이를 포함한다. 이러한 온도는 각각 250℃ 및 1200℃에서 예상되는 용융 및 기화와 같은 다른 바람직하지 않은 가열 효과를 방지하도록 제어될 수 있다.

각각의 조오(101)는 모발의 유전 특성을 향상시키기 위해 모발을 150° 이하, 바람직하게는 140℃ 이하, 예컨대 120℃의 제1 온도까지 직접적으로 또는 간접적으로 예비 가열할 수 있는 다른 열원(103)을 선택적으로 포함한다. 다른 열원(103) 및 RF 전극(102)들로부터의 조합된 가열 효과는 스타일링에 필요한 약 170℃의 온도로 이어질 것이다.

모발 유전 특성을 측정하고, 전력을 조절함으로써 처리를 최적화하기 위해 추가의 모발 전도도 감지 제어부(104)가 사용될 수 있다. 온도 설정 및 처리 시간을 조절하기 위해 추가의 열 제어 시스템(105)이 사용될 수 있다. 모발을 펴기/스타일링하기 위해, 모발 가닥은 판들 사이에 삽입되고, 모발이 스타일링이 될 때까지 이동된다.

접촉 저항성 RF 가열이 소비자 과제를 위하여 비-접촉 용량성 RF 가열에 비해 바람직한데, 이는 후자에 필요한 높은 전압 및 전력 또는 더 긴 커팅 시간 때문이다. 도 2의 실시예에서 10 V 미만의 전압이 50 ㎒ 내지 90 ㎒ 범위 내의 고주파수와 사용하기에 적합하다.

위에 언급된 실시예가 본 발명을 제한하기보다는 예시하고, 당업자가 첨부된 청구범위의 범주로부터 벗어남이 없이 많은 대안적인 실시예를 설계할 수 있을 것에 유의하여야 한다. 예를 들어, 도 2에 도시된 실시예는 헤어 스트레이트너(hair straightener)이지만, 본 발명은 대안적으로 헤어 컬링(curling)을 위해 사용될 수 있다. 청구범위에서, 괄호 안에 기재된 임의의 도면 부호는 청구항을 제한하는 것으로 해석되지 않아야 한다. 단어 "포함하는"은 청구항에 열거된 요소 또는 단계 이외의 요소 또는 단계의 존재를 배제하지 않는다. 요소에 선행하는 단수형 표현("a" 또는 "an")은 복수의 그러한 요소의 존재를 배제하지 않는다. 본 발명은 수 개의 별개 요소를 포함하는 하드웨어에 의해, 그리고/또는 적합하게 프로그래밍된 프로세서에 의해 구현될 수 있다. 수개의 수단을 열거하는 장치 청구항에서, 이들 수단 중 몇몇이 하드웨어의 하나의 동일한 아이템에 의해 구현될 수 있다. 서로 상이한 종속항에서 언급되는 수단이 유리하게는 조합하여 사용될 수 있다.

Claims

모발에 고주파 신호를 인가하기 위한 전극(102)들을 포함하는 헤어 스타일링 장치(100)에 있어서,
상기 고주파 신호의 주파수는 50 ㎒ 내지 90 ㎒인 것을 특징으로 하는, 헤어 스타일링 장치(100).
제1항에 있어서, 상기 고주파 신호의 전압은 30 V를 초과하지 않는, 헤어 스타일링 장치(100).
제2항에 있어서, 상기 헤어 스타일링 장치(100)는 150℃ 이하인 제1 온도까지 모발을 가열하기 위한, 상기 전극들과 상이한 열원(103)을 더 포함하고, 상기 고주파 신호의 상기 전압은 10 V를 초과하지 않는, 헤어 스타일링 장치(100).