KR102639338B1 - Laminate for bonding, method for bonding two adherends, and method for manufacturing bonded structure - Google Patents

Laminate for bonding, method for bonding two adherends, and method for manufacturing bonded structure Download PDF

Info

Publication number
KR102639338B1
KR102639338B1 KR1020207025273A KR20207025273A KR102639338B1 KR 102639338 B1 KR102639338 B1 KR 102639338B1 KR 1020207025273 A KR1020207025273 A KR 1020207025273A KR 20207025273 A KR20207025273 A KR 20207025273A KR 102639338 B1 KR102639338 B1 KR 102639338B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
thermoplastic resin
bonding
laminate
layer
Prior art date
Application number
KR1020207025273A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200136379A (en
Inventor
가즈에 우에무라
소우 미야타
Original Assignee
린텍 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 린텍 가부시키가이샤 filed Critical 린텍 가부시키가이샤
Publication of KR20200136379A publication Critical patent/KR20200136379A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102639338B1 publication Critical patent/KR102639338B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C65/00Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor
    • B29C65/02Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor by heating, with or without pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C65/00Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor
    • B29C65/48Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C65/00Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor
    • B29C65/48Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding
    • B29C65/52Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding characterised by the way of applying the adhesive
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • C09J201/02Adhesives based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • C09J201/02Adhesives based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • C09J201/10Adhesives based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing hydrolysable silane groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • C09J5/06Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving heating of the applied adhesive
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/29Laminated material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/35Heat-activated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/20Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself
    • C09J2301/208Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself the adhesive layer being constituted by at least two or more adjacent or superposed adhesive layers, e.g. multilayer adhesive

Abstract

본 발명은, 특정한 분자 접착제 (M) 을 포함하는 분자 접착제층, 특정한 열 가소성 수지를 포함하는 제 1 열 가소성 수지층, 및 제 2 열 가소성 수지층을 이 순서로 갖고, 상기 분자 접착제층과 제 2 열 가소성 수지층이, 각각 사용시에 있어서의 최외층을 구성하는 접합용 적층체로서, 상기 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th1, 상기 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th2 일 때에, Th1 > Th2 인 접합용 적층체, 이 접합용 적층체를 사용하여 2 개의 피착체를 접합하는 방법, 및, 접합 구조체의 제조 방법이다. 본 발명의 접합용 적층체를 사용함으로써, 분자 접착제층에 악영향을 주지 않고, 열 용착 공정을 실시할 수 있다.The present invention has a molecular adhesive layer containing a specific molecular adhesive (M), a first thermoplastic resin layer containing a specific thermoplastic resin, and a second thermoplastic resin layer in this order, and the molecular adhesive layer and the second thermoplastic resin layer. A laminate for bonding in which two thermoplastic resin layers constitute the outermost layer during use, wherein the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is T h1 and the heat sealability of the second thermoplastic resin layer is T h1. When the temperature is T h2 , a laminate for bonding in which T h1 > T h2 , a method of joining two adherends using this laminate for bonding, and a method of manufacturing a bonded structure. By using the laminate for bonding of the present invention, a heat welding process can be performed without adversely affecting the molecular adhesive layer.

Description

접합용 적층체, 2 개의 피착체를 접합하는 방법, 및, 접합 구조체의 제조 방법Laminate for bonding, method for bonding two adherends, and method for manufacturing bonded structure

본 발명은, 분자 접착제층 (분자 접착제를 사용하여 형성된 층을 말한다. 이하 동일) 을 갖는 접합용 적층체, 이 접합용 적층체를 사용하여 2 개의 피착체를 접합하는 방법, 및, 접합 구조체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laminate for bonding having a molecular adhesive layer (refers to a layer formed using a molecular adhesive; the same applies hereinafter), a method for bonding two adherends using this laminate for bonding, and a bonding structure. It is about manufacturing method.

2 종 이상의 반응성기를 갖는 화합물은, 각각의 반응성기의 특성을 이용하여 화학 결합을 형성할 수 있는 것으로부터, 분자 접착제로서 유용하다.Compounds having two or more types of reactive groups are useful as molecular adhesives because they can form chemical bonds using the characteristics of each reactive group.

예를 들어, 특허문헌 1 에는, 기체 A 와 기체 B 를 접합하는 방법으로서, 기체 A 의 표면에, 특정한 분자 접착제를 사용하여 분자 접착제층을 형성하는 공정과, 이 기체 A 표면의 분자 접착제에 대향하여 기체 B 를 배치하는 공정과, 기체 A 및 기체 B 에 힘을 가하여, 기체 A 와 기체 B 를 접합하는 공정을 갖는 접합 방법이 기재되어 있다.For example, in Patent Document 1, as a method of joining base A and base B, a process of forming a molecular adhesive layer on the surface of base A using a specific molecular adhesive, and a process for forming a molecular adhesive layer on the surface of base A, A joining method is described that includes a step of arranging the base B toward the base B and a step of applying force to the base A and the base B to join the base A and the base B.

특허문헌 1 에는, 기체의 표면에 분자 접착제층을 형성하는 방법으로서, 분자 접착제가 용해 또는 분산된 분자 접착제액을 조제하고, 기체를 이 분자 접착제액에 침지시킨 후, 여기에 자외선을 조사함으로써, 분자 접착제와 기체의 표면 사이에서 화학 결합을 형성시켜, 분자 접착제층을 형성하는 방법이 기재되어 있다.Patent Document 1 describes a method of forming a molecular adhesive layer on the surface of a base, by preparing a molecular adhesive liquid in which the molecular adhesive is dissolved or dispersed, immersing the base body in this molecular adhesive liquid, and then irradiating it with ultraviolet rays, A method of forming a molecular adhesive layer by forming a chemical bond between a molecular adhesive and the surface of a substrate is described.

WO2012/043631호 (US2013/177770 A1)WO2012/043631 (US2013/177770 A1)

특허문헌 1 에 기재되는 바와 같이, 기체를 분자 접착제액에 침지시킴으로써, 기체의 양면에 분자 접착제층을 갖는 양면 접착 시트를 효율적으로 얻을 수 있다. 이와 같은 양면 접착 시트는, 2 개의 피착체를, 용이하게, 또한, 강고하게 고정시킬 때의 접합재로서 유용하다.As described in Patent Document 1, a double-sided adhesive sheet having a molecular adhesive layer on both sides of the base can be efficiently obtained by immersing the base in a molecular adhesive solution. Such a double-sided adhesive sheet is useful as a bonding material for easily and firmly fixing two adherends.

그러나, 그러한 양면 접착 시트를 양산하기 위해서 롤 to 롤 방식을 채용하는 경우, 침지법에 의해, 기체의 양면에 분자 접착제층을 안정적으로 형성하는 것은 곤란하였다.However, when the roll-to-roll method is used to mass-produce such double-sided adhesive sheets, it is difficult to stably form a molecular adhesive layer on both sides of the base by the dipping method.

따라서, 롤 to 롤 방식을 채용하여 얻어진, 분자 접착제층을 갖는 접착 시트를 사용하여, 2 개의 피착체를 강고하게 접합할 수 있는 방법이 요망되고 있었다.Therefore, there has been a demand for a method that can firmly bond two adherends using an adhesive sheet having a molecular adhesive layer obtained by employing a roll-to-roll method.

본 발명자들은, 일방의 표면에만 분자 접착제층을 갖는 접합용 적층체를 사용하여 2 개의 피착체를 접합하는 방법에 대하여 검토하였다. 그 결과, 열 가소성 수지층 상에 분자 접착제층을 갖는 접합용 적층체를 2 개 준비하고, 각각의 분자 접착제층을 각각의 피착체와 접착하고, 또한, 2 개의 열 가소성 수지층을 열 용착함으로써, 2 개의 피착체를 강고하게 접합할 수 있는 것을 알아냈다.The present inventors studied a method of joining two adherends using a bonding laminate having a molecular adhesive layer on only one surface. As a result, two laminates for bonding having a molecular adhesive layer on a thermoplastic resin layer were prepared, each molecular adhesive layer was bonded to each adherend, and the two thermoplastic resin layers were heat-welded. , it was found that two adherends could be firmly joined.

그러나, 이 접합 방법에 있어서는, 2 개의 열 가소성 수지층을 열 용착할 때의 조건에 따라서는 열 가소성 수지층이 크게 변형되는 경우가 있고, 그 결과, 분자 접착제층이 변형되거나, 분자 접착제층의 접착력이 저하할 우려가 있었다.However, in this joining method, depending on the conditions when heat welding two thermoplastic resin layers, the thermoplastic resin layer may be greatly deformed, and as a result, the molecular adhesive layer may be deformed or the molecular adhesive layer may be damaged. There was a risk that the adhesive strength would decrease.

본 발명은, 이 문제를 해결하는 것을 목적으로 이루어진 것으로, 분자 접착제층과 열 가소성 수지층을 갖는 접합용 적층체로서, 분자 접착제층에 악영향을 주지 않고, 열 용착 공정을 실시할 수 있는 접합용 적층체, 이 접합용 적층체를 사용하여 2 개의 피착체를 접합하는 방법, 및, 접합 구조체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention was made for the purpose of solving this problem, and is a laminate for bonding having a molecular adhesive layer and a thermoplastic resin layer, which can be subjected to a heat welding process without adversely affecting the molecular adhesive layer. The object is to provide a laminate, a method of joining two adherends using this bonding laminate, and a method of manufacturing a bonded structure.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여, 분자 접착제층과 열 가소성 수지층을 갖는 접합용 적층체를 사용하여 2 개의 피착체를 접합하는 방법에 대하여 예의 검토하였다.In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied a method of joining two adherends using a bonding laminate having a molecular adhesive layer and a thermoplastic resin layer.

그 결과, 이하의 요건 (a) ∼ (c) 를 만족하는 접합용 적층체를 사용함으로써, 분자 접착제층에 악영향을 주지 않고, 열 용착 공정을 실시할 수 있는 것을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result, it was found that the heat welding process can be performed without adversely affecting the molecular adhesive layer by using a bonding laminate that satisfies the following requirements (a) to (c), and the present invention was completed. reached.

요건 (a) : 열 가소성 수지층이, 제 1 열 가소성 수지층과 제 2 열 가소성 수지층으로 구성되어 있다.Requirement (a): The thermoplastic resin layer is composed of a first thermoplastic resin layer and a second thermoplastic resin layer.

요건 (b) : 분자 접착제층이, 제 1 열 가소성 수지층 상에 형성되어 있다.Requirement (b): A molecular adhesive layer is formed on the first thermoplastic resin layer.

요건 (c) : 제 2 열 가소성 수지층이, 제 1 열 가소성 수지층보다, 보다 낮은 온도에서 열 용착 가능한 층이다.Requirement (c): The second thermoplastic resin layer is a layer that can be heat-welded at a lower temperature than the first thermoplastic resin layer.

이렇게 하여 본 발명에 의하면, 하기 (1) ∼ (6) 의 접합용 적층체, (7) ∼ (9) 의 2 개의 피착체를 접합하는 방법, 및 (10) ∼ (11) 의 접합 구조체의 제조 방법이 제공된다.In this way, according to the present invention, the laminate for joining of the following (1) to (6), the method of joining two adherends of (7) to (9), and the bonding structure of (10) to (11). Manufacturing methods are provided.

(1) 분자 접착제 (M) 을 포함하는 분자 접착제층, 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층, 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층을 이 순서로 갖고, 상기 분자 접착제층과 제 2 열 가소성 수지층이, 각각 사용시에 있어서의 최외층을 구성하는 접합용 적층체로서, 상기 분자 접착제 (M) 이, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zα) 와, 실란올기, 및 가수 분해 반응에 의해 실란올기를 생성시키는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zβ) 를 갖는 화합물이고, 상기 제 1 열 가소성 수지층은, 적어도, 분자 접착제층과 접하는 측의 표면에, 상기 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와 화학 결합을 형성할 수 있는 반응성 부분 구조 (Zγ) 를 갖는 열 가소성 수지 (P1) 을 포함하는 것이고, 상기 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th1, 상기 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th2 일 때에, Th1 > Th2 인 접합용 적층체.(1) a molecular adhesive layer containing a molecular adhesive (M), a first thermoplastic resin layer having a single-layer structure, and a second thermoplastic resin layer having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order, wherein the molecular adhesive layer and a second thermoplastic resin layer each constitute an outermost layer when used, wherein the molecular adhesive (M) contains an amino group, an azide group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group. A compound having at least one type of reactive group (Zα) selected from the group consisting of, a silanol group, and at least one type of reactive group (Zβ) selected from the group consisting of a group that generates a silanol group by a hydrolysis reaction, , the first thermoplastic resin layer has, at least on the surface of the side in contact with the molecular adhesive layer, a reactive partial structure (Zγ) capable of forming a chemical bond with the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M). It contains a thermoplastic resin (P 1 ), and when the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is T h1 and the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer is T h2 , T h1 > T h2 phosphorus bonding laminate.

(2) 상기 분자 접착제 (M) 이 갖는 반응성기 (Zα) 가, 아미노기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이고, 열 가소성 수지 (P1) 이 갖는 반응성 부분 구조 (Zγ) 가, 하이드록시기, 카르복시기, 알데히드기, 및 아미노기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이거나, 또는, 상기 분자 접착제 (M) 이 갖는 반응성기 (Zα) 가, 아지드기이고, 열 가소성 수지 (P1) 이 갖는 반응성 부분 구조 (Zγ) 가, 탄소-탄소 단결합, 탄소-탄소 이중 결합, 및 탄소-수소 단결합으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인, (1) 에 기재된 접합용 적층체.(2) The reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M) is at least one selected from the group consisting of an amino group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, and the thermoplastic resin (P 1 ) is The reactive partial structure (Zγ) that the molecular adhesive (M) has is at least one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an aldehyde group, and an amino group, or the reactive group (Zα) that the molecular adhesive (M) has is an azide group. and the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) is at least one selected from the group consisting of a carbon-carbon single bond, a carbon-carbon double bond, and a carbon-hydrogen single bond, (1) The laminate for joining described in .

(3) 상기 분자 접착제 (M) 이, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물인, (1) 또는 (2) 에 기재된 접합용 적층체.(3) The laminate for bonding according to (1) or (2), wherein the molecular adhesive (M) is a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020092470389-pct00001
Figure 112020092470389-pct00001

(R1 은, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 반응성기 (Zα), 또는, 이들 반응성기를 1 이상 갖는 1 가의 기 (단, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기를 제외한다) 를 나타내고, G 는 2 가의 유기기를 나타내고, X 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내고, Y 는, 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기를 나타낸다. a 는, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)(R 1 is a reactive group (Zα) selected from the group consisting of an amino group, an azide group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, or a monovalent group having one or more of these reactive groups (however, an amino group, azide group, mercapto group, isocyanate group, ureido group and epoxy group are excluded), G represents a divalent organic group, Y represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. a represents an integer of 1 to 3.)

(4) 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와, 열 가소성 수지 (P1) 의 반응성 부분 구조 (Zγ) 가 화학 결합을 형성하고 있는, (1) ∼ (3) 중 어느 하나에 기재된 접합용 적층체.(4) The reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M) and the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) form a chemical bond according to any one of (1) to (3). Laminate for joining.

(5) 상기 열 가소성 수지 (P1) 이, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀-아세트산비닐계 수지, 올레핀계 아이오노머 수지, 및 폴리에스테르 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인, (1) ∼ (4) 중 어느 하나에 기재된 접합용 적층체.(5) The thermoplastic resin (P 1 ) is at least one selected from the group consisting of olefin resin, cycloolefin resin, acrylic resin, olefin-vinyl acetate resin, olefin ionomer resin, and polyester resin. The laminate for joining according to any one of (1) to (4).

(6) 상기 제 2 열 가소성 수지층은, 적어도 분자 접착제층과는 반대측의 표면에, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀-아세트산비닐계 수지, 올레핀계 아이오노머 수지, 및 폴리에스테르 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것인, (1) ∼ (5) 중 어느 하나에 기재된 접합용 적층체.(6) The second thermoplastic resin layer includes, at least on the surface opposite to the molecular adhesive layer, an olefin resin, a cycloolefin resin, an acrylic resin, an olefin-vinyl acetate resin, an olefin ionomer resin, and poly The laminate for bonding according to any one of (1) to (5), which contains at least one member selected from the group consisting of ester resins.

(7) 2 개의 접합용 적층체를 사용하여, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법으로서, 상기 2 개의 접합용 적층체가, 각각 독립적으로, (1) ∼ (6) 중 어느 하나에 기재된 접합용 적층체이고, 제 1 접합용 적층체를, 분자 접착제 (MA) 를 포함하는 분자 접착제층 (A-M), 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층 (A-1), 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체 (A) 로 나타내고, 제 2 접합용 적층체를, 분자 접착제 (MB) 를 포함하는 분자 접착제층 (B-M), 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층 (B-1), 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체 (B) 로 나타냈을 때에, 이하의 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군과, 공정 (M1) ∼ (M3) 을 포함하는 공정군과, 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군에서 선택되는 어느 공정군을 실시하는 것을 특징으로 하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법.(7) A method of bonding an adherend (I) and an adherend (II) using two bonding laminates, wherein the two bonding laminates each independently have the following properties among (1) to (6): A laminate for bonding according to any one of the above, wherein the first laminate for bonding is a molecular adhesive layer (AM) containing a molecular adhesive ( MA ), a first thermoplastic resin layer (A-1) having a single-layer structure, and a second thermoplastic resin layer (A-2) having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order, represented by a laminate for bonding (A), and the second laminate for bonding comprising a molecular adhesive ( MB ). For bonding having a molecular adhesive layer (BM), a first thermoplastic resin layer (B-1) having a single-layer structure, and a second thermoplastic resin layer (B-2) having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order. When represented as a laminate (B), a process group including the following steps (L1) to (L3), a process group including steps (M1) to (M3), and steps (N1) and (N2) A method for bonding an adherend (I) and an adherend (II), characterized by carrying out a process group selected from the process group containing the following.

공정 (L1) : 접합용 적층체 (A) 의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착하는 공정Process (L1): Process of bonding the molecular adhesive layer (A-M) of the laminate for bonding (A) and the adherend (I)

공정 (L2) : 접합용 적층체 (B) 의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착하는 공정Process (L2): Process of bonding the molecular adhesive layer (B-M) of the laminate for bonding (B) and the adherend (II)

공정 (L3) : 공정 (L1) 에서 얻어진 적층체의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 공정 (L2) 에서 얻어진 적층체의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착하는 공정Step (L3): Heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate obtained in step (L1) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate obtained in step (L2). process

공정 (M1) : 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착하는 공정Step (M1): A process of heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for joining (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate for joining (B).

공정 (M2) : 공정 (M1) 에서 얻어진 적층체의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착하는 공정Step (M2): A step of bonding the molecular adhesive layer (A-M) of the laminate obtained in step (M1) and the adherend (I).

공정 (M3) : 공정 (M2) 에서 얻어진 적층체의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착하는 공정Step (M3): A step of bonding the molecular adhesive layer (B-M) of the laminate obtained in step (M2) and the adherend (II).

공정 (N1) : 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 가 대향하는 배치로, 피착체 (I), 접합용 적층체 (A), 접합용 적층체 (B), 피착체 (II) 를, 이 순서로 겹치는 공정Step (N1): An arrangement in which the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for joining (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate for joining (B) face each other. , a process of overlapping the adherend (I), the laminate for bonding (A), the laminate for bonding (B), and the adherend (II) in this order.

공정 (N2) : 공정 (N1) 에서 얻어진 것을 가열하여, 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 의 접착과, 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 의 접착과, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 열 용착을 동시에 실시하는 공정Step (N2): Heating the product obtained in step (N1), adhesion of the molecular adhesive layer (A-M) and the adherend (I), adhesion of the molecular adhesive layer (B-M) and the adherend (II), and second heat A process of simultaneously performing heat welding of the plastic resin layer (A-2) and the second thermoplastic resin layer (B-2)

(8) 상기 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군을 실시하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법으로서,(8) A method for bonding an adherend (I) and an adherend (II), carrying out a group of processes including the above steps (L1) to (L3),

공정 (L1) 에 있어서, 접합용 적층체 (A) 의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착할 때의 온도가 TL1, 공정 (L2) 에 있어서, 접합용 적층체 (B) 의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착할 때의 온도가 TL2, 공정 (L3) 에 있어서, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착할 때의 온도가 TL3, 접합용 적층체 (A) 의 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1A, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2A 이고, 접합용 적층체 (B) 의 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1B, 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2B 일 때에, 하기 식 (E-1) 과 식 (E-2) 모두 만족하고, 또한, 하기 식 (E-3) 과 식 (E-4) 의 적어도 일방을 만족하는, (7) 에 기재된, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법.In step (L1), the temperature at which the molecular adhesive layer (AM) of the bonding laminate (A) and the adherend (I) are bonded is T L1 . In the step (L2), the temperature of the bonding laminate (B) is T L1. ) The temperature at which the molecular adhesive layer (BM) and the adherend (II) are bonded is T L2 , and in step (L3), the second thermoplastic resin layer (A-2) and the second thermoplastic resin layer ( The temperature when heat welding B-2) is T L3 , the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (A-1) of the laminate for joining (A) is T h1A , and the second thermoplastic resin layer ( The heat sealable temperature of A-2) is T h2A , the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (B-1) of the bonding laminate (B) is T h1B , and the second thermoplastic resin layer (B) When the heat sealable temperature of -2) is T h2B , both the following equations (E-1) and (E-2) are satisfied, and at least the following equations (E-3) and (E-4) are satisfied. The method of joining the adherend (I) and the adherend (II) according to (7), which satisfies one of the conditions.

Figure 112020092470389-pct00002
Figure 112020092470389-pct00002

(9) 상기 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군을 실시하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법으로서, 접합용 적층체 (A) 의 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1A, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2A 이고, 접합용 적층체 (B) 의 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1B, 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2B 이고, 공정 (N2) 에 있어서, 열 용착할 때의 온도가 TN2 일 때에, 하기 식 (E-5) 와 식 (E-6) 의 적어도 일방을 만족하는, (7) 에 기재된, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법.(9) A method of bonding an adherend (I) and an adherend (II), carrying out a group of processes including the above steps (N1) and (N2), wherein the laminate for bonding (A) is subjected to first thermoplasticity. The heat sealable temperature of the resin layer (A-1) is T h1A , the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (A-2) is T h2A , and the first thermoplastic water of the laminate for bonding (B) is T h2A. The heat sealable temperature of the stratum (B-1) is T h1B , the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (B-2) is T h2B , and the temperature at the time of heat welding in step (N2) is The method of bonding the adherend (I) and the adherend (II) according to (7), which satisfies at least one of the following formulas (E-5) and (E-6) when T N2 .

Figure 112020092470389-pct00003
Figure 112020092470389-pct00003

(10) 피착체 (I)/접합용 적층체 (A) 와 접합용 적층체 (B) 유래의 층/피착체 (II), 의 층 구조를 갖는 접합 구조체의 제조 방법으로서, (7) ∼ (9) 중 어느 하나에 기재된 방법을 사용하여, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 것을 특징으로 하는, 접합 구조체의 제조 방법.(10) A method for producing a bonded structure having a layer structure of the adherend (I)/laminated body for bonding (A) and the layer/adherent (II) derived from the laminate for bonding (B), comprising: (7) to A method for producing a bonded structure, characterized by bonding the adherend (I) and the adherend (II) using the method according to any one of (9).

(11) 피착체 (I) 과 피착체 (II) 가, 각각 독립적으로, 금속, 무기물, 및 열 경화성 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을, 적어도 피접착면에 포함하는 것인, (10) 에 기재된 접합 구조체의 제조 방법.(11) The adherend (I) and the adherend (II) each independently contain at least one type selected from the group consisting of metals, inorganic substances, and thermosetting resins on at least the adherend surface, ( 10) The method for manufacturing the bonded structure described in .

본 발명에 있어서, 분자 접착제란, 2 종 이상의 반응성기를 갖는 화합물을 말한다.In the present invention, a molecular adhesive refers to a compound having two or more types of reactive groups.

「분자 접착제를 포함하는 분자 접착제층」 의 「분자 접착제를 포함한다」 란, 「분자 접착제 및/또는 분자 접착제 유래의 화합물 (예를 들어, 반응을 거쳐, 반응성기의 구조가 변화한 화합물) 을 포함한다」 를 의미하는 것이다.The term “containing a molecular adhesive” in “molecular adhesive layer containing a molecular adhesive” means “a molecular adhesive and/or a compound derived from a molecular adhesive (for example, a compound in which the structure of the reactive group has changed through reaction). It means “including.”

「제 1 열 가소성 수지층이, 반응성 부분 구조 (Zγ) 를 갖는 열 가소성 수지를 포함한다」 란, 「반응성 부분 구조 (Zγ) 를 갖는 열 가소성 수지 및/또는 이 열 가소성 수지 유래의 수지 (예를 들어, 반응을 거쳐, 반응성 부분 구조 (Zγ) 의 구조가 변화한 것) 를 포함한다」 를 의미하는 것이다.“The first thermoplastic resin layer includes a thermoplastic resin having a reactive partial structure (Zγ)” means “a thermoplastic resin having a reactive partial structure (Zγ) and/or a resin derived from this thermoplastic resin (e.g. For example, the structure of the reactive partial structure (Zγ) has changed through reaction).

「분자 접착제층과 제 2 열 가소성 수지층이, 각각 사용시에 있어서의 최외층을 구성한다」 란, 분자 접착제층을 피착체와 접착하거나, 제 2 열 가소성 수지층끼리를 열 용착할 때에, 각각의 층이 최외층인 것을 말한다. 따라서, 접합용 적층체의 제조 후부터 사용할 때까지의 동안에는, 접합용 적층체는 보호 시트 등을 최외층으로서 가지고 있어도 된다.“The molecular adhesive layer and the second thermoplastic resin layer constitute the outermost layer when each is used” means that when adhering the molecular adhesive layer to an adherend or heat welding the second thermoplastic resin layers to each other, respectively This means that the layer of is the outermost layer. Therefore, from the time the laminate for bonding is manufactured until the time it is used, the laminate for bonding may have a protective sheet or the like as an outermost layer.

열 가소성 수지층의 「히트 시일 가능 온도」 란, 충분한 히트 시일 강도를 달성하기 위해서, 열 용착시에 필요한 온도로서, 구체적으로는, 실시예에 기재된 방법에 따라, 히트 시일 가능 온도를 구할 수 있다.The “heat sealable temperature” of the thermoplastic resin layer is the temperature required during heat welding in order to achieve sufficient heat seal strength. Specifically, the heat sealable temperature can be obtained according to the method described in the examples. .

「분자 접착제층과 피착체를 접착할 때의 온도」 나, 「열 가소성 수지층과 열 가소성 수지층을 열 용착할 때의 온도」 란, 가열 프레스기 등을 사용하는 경우에는, 그 장치의 압착 부재의 표면 온도를 말한다.“Temperature when bonding the molecular adhesive layer and the adherend” or “Temperature when heat welding the thermoplastic resin layer and the thermoplastic resin layer” refers to the pressing member of the device when using a heat press machine, etc. refers to the surface temperature of

또한, 본 명세서에 있어서 온도의 단위는 「℃」 이다.In addition, in this specification, the unit of temperature is “℃”.

본 발명에 의하면, 분자 접착제층과 열 가소성 수지층을 갖는 접합용 적층체로서, 분자 접착제층에 악영향을 주지 않고, 열 용착 공정을 실시할 수 있는 접합용 적층체, 이 접합용 적층체를 사용하여 2 개의 피착체를 접합하는 방법, 및, 접합 구조체의 제조 방법이 제공된다.According to the present invention, a bonding laminate has a molecular adhesive layer and a thermoplastic resin layer, and can be subjected to a heat welding process without adversely affecting the molecular adhesive layer. This bonding laminate is used. A method for joining two adherends and a method for manufacturing a bonded structure are provided.

도 1 은, 본 발명의 접합용 적층체의 제조 공정의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 2 는, 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군을 나타내는 모식도이다.
도 3 은, 공정 (M1) ∼ (M3) 을 포함하는 공정군을 나타내는 모식도이다.
도 4 는, 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군을 나타내는 모식도이다.
1 is a schematic diagram showing an example of a manufacturing process for a laminate for bonding of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram showing a process group including processes (L1) to (L3).
Figure 3 is a schematic diagram showing a process group including processes (M1) to (M3).
Figure 4 is a schematic diagram showing a process group including processes (N1) and (N2).

이하, 본 발명을, 1) 접합용 적층체, 2) 2 개의 피착체를 접합하는 방법, 및, 3) 접합 구조체의 제조 방법, 으로 항목 분류하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing it into 1) a laminate for joining, 2) a method of joining two adherends, and 3) a method of manufacturing a bonded structure.

1) 접합용 적층체1) Laminate for joining

본 발명의 접합용 적층체는, 분자 접착제 (M) 을 포함하는 분자 접착제층, 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층, 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층을 이 순서로 갖고, 상기 분자 접착제층과 제 2 열 가소성 수지층이, 각각 사용시에 있어서의 최외층을 구성하는 접합용 적층체로서, 상기 분자 접착제 (M) 이, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zα) 와, 실란올기, 및 가수 분해 반응에 의해 실란올기를 생성시키는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zβ) 를 갖는 화합물이고, 상기 제 1 열 가소성 수지층은, 적어도, 분자 접착제층과 접하는 측의 표면에, 상기 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와 화학 결합을 형성할 수 있는 반응성 부분 구조 (Zγ) 를 갖는 열 가소성 수지 (P1) 을 포함하는 것이고, 상기 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th1, 상기 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th2 일 때에, Th1 > Th2 인 접합용 적층체이다.The laminate for bonding of the present invention includes a molecular adhesive layer containing a molecular adhesive (M), a first thermoplastic resin layer having a single-layer structure, and a second thermoplastic resin layer having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order. A laminate for bonding, wherein the molecular adhesive layer and the second thermoplastic resin layer each constitute an outermost layer when used, wherein the molecular adhesive (M) contains an amino group, an azide group, a mercapto group, and an isocyanate. At least one reactive group (Zα) selected from the group consisting of a ureido group and an epoxy group, and at least one reactive group selected from the group consisting of a silanol group and a group that generates a silanol group through a hydrolysis reaction ( It is a compound having Zβ), and the first thermoplastic resin layer has, at least on the surface of the side in contact with the molecular adhesive layer, a reactive moiety capable of forming a chemical bond with the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M). It contains a thermoplastic resin (P 1 ) having a structure (Zγ), wherein the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is T h1 and the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer is T h2 . When T h1 > T h2 , it is a laminate for joining.

〔분자 접착제층〕[Molecular adhesive layer]

분자 접착제층은, 제 1 열 가소성 수지층 상에 직접 인접하는 층이다.The molecular adhesive layer is a layer directly adjacent to the first thermoplastic resin layer.

분자 접착제층은, 접합용 적층체의 사용시에 있어서, 최외층의 일방을 구성하는 층이다.The molecular adhesive layer is a layer that constitutes one of the outermost layers when using the laminate for bonding.

분자 접착제층은, 피착체와의 접착에 사용된다.The molecular adhesive layer is used for adhesion to the adherend.

분자 접착제층은, 분자 접착제 (M) 을 사용하여 형성된 층으로서, 분자 접착제 (M) 을 포함하는 것이다. 즉, 접합용 적층체 중의 분자 접착제층은, 분자 접착제 (M) (반응성기가 잔존하고 있는 것) 과 분자 접착제 (M) 의 반응 생성물 (반응성기의 구조가 변화한 것) 의 적어도 일방을 포함하는 것이다.The molecular adhesive layer is a layer formed using the molecular adhesive (M) and contains the molecular adhesive (M). That is, the molecular adhesive layer in the laminate for bonding contains at least one of the molecular adhesive (M) (where the reactive group remains) and the reaction product of the molecular adhesive (M) (where the structure of the reactive group has changed). will be.

분자 접착제 (M) 은, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zα) 와, 실란올기, 및 가수 분해 반응에 의해 실란올기를 생성시키는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zβ) 를 갖는 화합물이다. 또한, 반응성기 (Zα) 의 「아미노기」 에는, 무치환 아미노기, 모노 치환 아미노기, 디치환 아미노기, 1 급 암모늄기, 2 급 암모늄기, 3 급 암모늄기, 4 급 암모늄기가 포함되는 것으로 한다.The molecular adhesive (M) contains at least one reactive group (Zα) selected from the group consisting of an amino group, an azide group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, a silanol group, and a hydrolysis reaction. It is a compound having at least one type of reactive group (Zβ) selected from the group consisting of groups that generate silanol groups. In addition, the “amino group” of the reactive group (Zα) includes an unsubstituted amino group, a mono-substituted amino group, a di-substituted amino group, a primary ammonium group, a secondary ammonium group, a tertiary ammonium group, and a quaternary ammonium group.

분자 접착제 (M) 중의 반응성기 (Zα) 는, 제 1 열 가소성 수지층 중의 열 가소성 수지 (P1) 의 반응성 부분 구조 (Zγ) 와 화학 결합을 형성할 수 있는 것이다.The reactive group (Zα) in the molecular adhesive (M) is capable of forming a chemical bond with the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) in the first thermoplastic resin layer.

접합용 적층체에 있어서는, 이 화학 결합에 의해, 분자 접착제 (M) 은 제 1 열 가소성 수지층의 표면에 화학적으로 고정되는 것으로 생각된다. 이 때의 화학 결합으로는, 공유 결합, 수소 결합, 이온 결합, 분자간력 등을 들 수 있지만, 공유 결합이 바람직하다.In the laminate for bonding, it is believed that the molecular adhesive (M) is chemically fixed to the surface of the first thermoplastic resin layer by this chemical bond. Chemical bonds at this time include covalent bonds, hydrogen bonds, ionic bonds, and intermolecular forces, but covalent bonds are preferred.

분자 접착제 (M) 중의 반응성기 (Zβ) 는, 접합용 적층체를 피착체와 접착할 때에, 주로, 피착체와의 사이에서 화학 결합을 형성할 때에 이용된다. 따라서, 접합용 적층체는, 이들 기와의 반응성이 높은 기를 표면에 갖는 피착체에 대하여 바람직하게 사용된다.The reactive group (Zβ) in the molecular adhesive (M) is mainly used to form a chemical bond with the adherend when bonding the laminate for bonding to the adherend. Therefore, the laminate for bonding is preferably used for adherends having groups on the surface that are highly reactive with these groups.

가수 분해 반응에 의해 실란올기를 생성시키는 기로는, Si- X1 로 나타내는 부분 구조를 갖는 기를 들 수 있다. X1 로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기 등의 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 등의 가수 분해성기를 들 수 있다.Groups that generate silanol groups through hydrolysis reactions include groups having a partial structure represented by Si-X 1 . X 1 is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, such as a methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, or isopropoxy group; Halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, and bromine atom; Hydrolyzable groups such as these can be mentioned.

분자 접착제 (M) 으로는, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Examples of the molecular adhesive (M) include compounds represented by the following formula (1).

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112020092470389-pct00004
Figure 112020092470389-pct00004

(R1 은, 반응성기 (Zα), 또는, 반응성기 (Zα) 를 1 이상 갖는 1 가의 기 (단, 반응성기 (Zα) 그 자체를 제외한다) 를 나타내고, G 는 2 가의 유기기를 나타내고, X 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내고, Y 는, 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기를 나타낸다. a 는, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)(R 1 represents a reactive group (Zα) or a monovalent group having one or more reactive groups (Zα) (however, the reactive group (Zα) itself is excluded), G represents a divalent organic group, (

R1 의 반응성기 (Zα) 를 1 이상 갖는 1 가의 기로는, 예를 들어, 하기 식 (2) ∼ (4) 로 나타내는 기를 들 수 있다.Examples of the monovalent group having one or more reactive groups (Zα) for R 1 include groups represented by the following formulas (2) to (4).

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112020092470389-pct00005
Figure 112020092470389-pct00005

식 (2) ∼ (4) 중, * 는, G 와의 결합손을 나타낸다.In formulas (2) to (4), * represents a bond with G.

R2 는, 탄소수 1 ∼ 10 의 2 가의 탄화수소기, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 6 의 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. R2 의 2 가의 탄화수소기로는, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기 등의 알킬렌기 ; o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기 등의 아릴렌기 ; 를 들 수 있다.R 2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a divalent hydrocarbon group having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the divalent hydrocarbon group for R 2 include alkylene groups such as ethylene group, trimethylene group, and propylene group; Arylene groups such as o-phenylene group, m-phenylene group, and p-phenylene group; can be mentioned.

R3, R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기를 나타내고, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기가 바람직하다.R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group with 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom or a hydrocarbon group with 1 to 10 carbon atoms is preferable.

R3, R4 의 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등의 알킬기 ; 비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 이소프로페닐기, 3-부테닐기, 4-펜테닐기, 5-헥세닐기 등의 알케닐기 ; 에티닐기, 프로파르길기, 부티닐기 등의 알키닐기 ; 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기 등의 아릴기 ; 등을 들 수 있다.The hydrocarbon groups of R 3 and R 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl group. Alkyl groups such as syl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, and n-decyl group; Alkenyl groups such as vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, isopropenyl group, 3-butenyl group, 4-pentenyl group, and 5-hexenyl group; Alkynyl groups such as ethynyl group, propargyl group, and butynyl group; Aryl groups such as phenyl group, 1-naphthyl group, and 2-naphthyl group; etc. can be mentioned.

Z 는, 단결합, 또는, -N(R7)-, 로 나타내는 2 가의 기를 나타낸다. R7 은, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기를 나타낸다. R7 의 탄화수소기로는, R3, R4 의 탄화수소기로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Z represents a single bond or a divalent group represented by -N(R 7 )-. R 7 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group for R 7 include the same hydrocarbon groups as R 3 and R 4 .

R5, R6 은, 각각 독립적으로, 반응성기 (Zα) 또는 상기 식 (2) 로 나타내는 기 (이 경우, 식 (2) 중, * 는, 방향 고리를 구성하는 탄소 원자와의 결합손을 나타낸다) 를 나타낸다.R 5 and R 6 are each independently a reactive group (Zα) or a group represented by the above formula (2) (in this case, in formula (2), * represents the bond with the carbon atom constituting the aromatic ring. indicates).

G 의 2 가의 유기기로는, 치환기를 갖거나, 또는 무치환의 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬렌기, 치환기를 갖거나, 또는 무치환의 탄소수 2 ∼ 20 의 알케닐렌기, 치환기를 갖거나, 또는 무치환의 탄소수 2 ∼ 20 의 알키닐렌기, 치환기를 갖거나, 또는 무치환의 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴렌기 ; 등을 들 수 있다.The divalent organic group of G may have a substituent, or be an unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, have a substituent or unsubstituted alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, have a substituent, or be unsubstituted. a substituted alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 20 carbon atoms; etc. can be mentioned.

G 의 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬렌기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms for G include methylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, and hexamethylene group.

G 의 탄소수 2 ∼ 20 의 알케닐렌기로는, 비닐렌기, 프로페닐렌기, 부테닐렌기, 펜테닐렌기 등을 들 수 있다.Examples of the alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms for G include vinylene group, propenylene group, butenylene group, and pentenylene group.

G 의 탄소수 2 ∼ 20 의 알키닐렌기로는, 에티닐렌기, 프로피닐렌기 등을 들 수 있다.Examples of the alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms for G include ethynylene group and propynylene group.

G 의 탄소수 6 ∼ 20 의 아릴렌기로는, o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기, 2,6-나프틸렌기, 1,5-나프틸렌기 등을 들 수 있다.Examples of the arylene group having 6 to 20 carbon atoms for G include o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, 2,6-naphthylene group, and 1,5-naphthylene group.

상기 알킬렌기, 알케닐렌기, 및 알키닐렌기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 메틸티오기, 에틸티오기 등의 알킬티오기 ; 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐기 ; 등을 들 수 있다.Examples of the alkylene group, alkenylene group, and substituent for the alkynylene group include halogen atoms such as a fluorine atom and a chlorine atom; Alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; Alkylthio groups such as methylthio groups and ethylthio groups; Alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl group; etc. can be mentioned.

상기 아릴렌기의 치환기로는, 시아노기 ; 니트로기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메틸기, 에틸기 등의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 메틸티오기, 에틸티오기 등의 알킬티오기 ; 등을 들 수 있다.Substituents for the arylene group include cyano group; nitro group; Halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, and bromine atom; Alkyl groups such as methyl group and ethyl group; Alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; Alkylthio groups such as methylthio groups and ethylthio groups; etc. can be mentioned.

이들 치환기는, 알킬렌기, 알케닐렌기, 알키닐렌기 및 아릴렌기 등의 기에 있어서 임의의 위치에 결합하고 있어도 된다. 또한, 동일 혹은 상이하게 복수개의 치환기가 알킬렌기 등의 기에 결합하고 있어도 된다.These substituents may be bonded to any position in groups such as alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, and arylene group. Additionally, a plurality of substituents, identical or different, may be bonded to a group such as an alkylene group.

X 의 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms for X include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, and isopropoxy group.

X 의 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.Halogen atoms for X include fluorine atoms, chlorine atoms, and bromine atoms.

Y 의 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기로는, R3, R4 의 탄화수소기로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon group of Y having 1 to 20 carbon atoms include the same hydrocarbon groups as R 3 and R 4 .

분자 접착제 (M) 의 구체예로는, 다음의 것을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the molecular adhesive (M) include, but are not limited to, the following.

3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필디메톡시메틸실란, 3-아미노프로필디에톡시메틸실란, [3-(N,N-디메틸아미노)프로필]트리메톡시실란, [3-(페닐아미노)프로필]트리메톡시실란, 트리메틸[3-(트리에톡시실릴)프로필]암모늄클로라이드, 트리메틸[3-(트리메톡시실릴)프로필]암모늄클로라이드 등의 R1 이 아미노기인 분자 접착제 ;3-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyldimethoxymethylsilane, 3-aminopropyldiethoxymethylsilane, [3-(N,N-dimethylamino)propyl]tri R such as methoxysilane, [3-(phenylamino)propyl]trimethoxysilane, trimethyl[3-(triethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, trimethyl[3-(trimethoxysilyl)propyl]ammonium chloride, etc. 1 is an amino group; molecular adhesive;

(11-아지도운데실)트리메톡시실란, (11-아지도운데실)트리에톡시실란 등의 R1 이 아지드기인 분자 접착제 ; Molecular adhesives in which R 1 is an azide group, such as (11-azidoundecyl)trimethoxysilane and (11-azidoundecyl)triethoxysilane;

3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필디메톡시메틸실란 등의 R1 이 메르캅토기인 분자 접착제 ; Molecular adhesives in which R 1 is a mercapto group, such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, and 3-mercaptopropyldimethoxymethylsilane;

3-(트리메톡시실릴)프로필이소시아네이트, 3-(트리에톡시실릴)프로필이소시아네이트 등의 R1 이 이소시아네이트기인 분자 접착제 ; Molecular adhesives in which R 1 is an isocyanate group, such as 3-(trimethoxysilyl)propyl isocyanate and 3-(triethoxysilyl)propyl isocyanate;

3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 R1 이 우레이도기인 분자 접착제 ; Molecular adhesives in which R 1 is a ureido group, such as 3-ureidopropyltrimethoxysilane and 3-ureidopropyltriethoxysilane;

3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란 등의 R1 이 에폭시기인 분자 접착제 ; R 1 is an epoxy group, such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane. molecular adhesive;

3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리에톡시실란, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필디메톡시메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 하기 식 (5) ∼ (13) 으로 나타내는 화합물 등의 R1 이 반응성기 (Zα) 를 1 이상 갖는 1 가의 기인 분자 접착제3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethylamino)propyltriethoxysilane, 3-(2-aminoethylamino)propyldimethoxymethylsilane, 2-(3, Molecular adhesives in which R 1 is a monovalent group having one or more reactive groups (Zα), such as 4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane and compounds represented by formulas (5) to (13) below.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112020092470389-pct00006
Figure 112020092470389-pct00006

분자 접착제 (M) 은, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Molecular adhesive (M) can be used individually or in combination of two or more types.

이들 화합물 중에서, 식 (1) 로 나타내는 화합물로는, R1 이 식 (4) 로 나타내는 기인 화합물이 바람직하고, 식 (5) ∼ (13) 으로 나타내는 화합물이 보다 바람직하고, 식 (5) ∼ (10) 으로 나타내는 화합물이 더욱 바람직하다.Among these compounds, the compound represented by formula (1) is preferably a compound in which R 1 is a group represented by formula (4), more preferably a compound represented by formulas (5) to (13), and more preferably a compound represented by formula (5) to (13). The compound represented by (10) is more preferable.

이들 화합물은, R1 에 트리아진 고리를 갖는다. 트리아진 고리를 갖는 분자 접착제 (M) 은, 제 1 열 가소성 수지층 상에 보다 효율적으로 고정되는 경향이 있다.These compounds have a triazine ring at R 1 . The molecular adhesive (M) having a triazine ring tends to be fixed more efficiently on the first thermoplastic resin layer.

분자 접착제 (M) 으로는, 실란 커플링제로서 공지된 화합물을 사용할 수 있다. 또한, R1 이 식 (4) 로 나타내는 기인 화합물은, WO2012/046651호, WO2012/043631호, WO2013/186941호 등에 기재된 방법에 따라 합성할 수 있다.As the molecular adhesive (M), a compound known as a silane coupling agent can be used. In addition, compounds in which R 1 is a group represented by formula (4) can be synthesized according to the methods described in WO2012/046651, WO2012/043631, WO2013/186941, etc.

분자 접착제층은, 분자 접착제 (M) 이외의 성분을 함유하는 것이어도 된다. 분자 접착제 (M) 이외의 성분으로는, 촉매 등을 들 수 있다.The molecular adhesive layer may contain components other than the molecular adhesive (M). Components other than the molecular adhesive (M) include catalysts and the like.

촉매는, 반응성기 (Zα) 의 종류에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있다.The catalyst can be appropriately selected and used depending on the type of reactive group (Zα).

분자 접착제층 중의 분자 접착제 (M) 의 함유량은, 접착에 관여하지 않는 성분이 포함되면, 분자 접착제층의 접착력이 저하하는 것으로부터, 분자 접착제층 전체를 기준으로 하여, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 70 질량% 이상 100 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 90 질량% 이상 100 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 100 질량% 가 특히 바람직하다.The content of the molecular adhesive (M) in the molecular adhesive layer is preferably 50% by mass or more based on the entire molecular adhesive layer, because if components not involved in adhesion are included, the adhesive strength of the molecular adhesive layer decreases. , it is more preferable that it is 70 mass% or more and 100 mass% or less, it is still more preferable that it is 90 mass% or more and 100 mass% or less, and 100 mass% is especially preferable.

분자 접착제층의 두께는, 200 ㎚ 이하가 바람직하고, 150 ㎚ 이하가 보다 바람직하고, 100 ㎚ 이하가 더욱 바람직하고, 50 ㎚ 이하가 특히 바람직하다. 또한 분자 접착제층의 두께는, 0.5 ㎚ 이상이 바람직하고, 1 ㎚ 이상이 보다 바람직하다.The thickness of the molecular adhesive layer is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, further preferably 100 nm or less, and especially preferably 50 nm or less. Moreover, the thickness of the molecular adhesive layer is preferably 0.5 nm or more, and more preferably 1 nm or more.

〔제 1 열 가소성 수지층〕[First thermoplastic resin layer]

제 1 열 가소성 수지층은, 분자 접착제층에 인접하는 층으로서, 분자 접착제 (M) 을 고정시키는 역할을 담당하는 층이다.The first thermoplastic resin layer is a layer adjacent to the molecular adhesive layer and plays a role in fixing the molecular adhesive (M).

제 1 열 가소성 수지층은, 단층 구조를 갖는다.The first thermoplastic resin layer has a single-layer structure.

제 1 열 가소성 수지층은, 조성이 균일해도 되고, 조성이 균일하지 않아도 된다. 예를 들어, 제 1 열 가소성 수지층은, 층의 표면 부근에 특정한 성분을 많이 함유하고, 층의 표면 부근의 조성과 층의 내부의 조성이 상이해도 된다.The first thermoplastic resin layer may have a uniform composition, and the composition does not need to be uniform. For example, the first thermoplastic resin layer may contain many specific components near the surface of the layer, and the composition near the surface of the layer may be different from the composition inside the layer.

제 1 열 가소성 수지층은, 적어도, 분자 접착제층과 접하는 측의 표면에, 상기 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와 화학 결합을 형성할 수 있는 반응성 부분 구조 (Zγ) 를 갖는 열 가소성 수지 (P1) 을 포함하는 것이다. 즉, 접합용 적층체 중의 제 1 열 가소성 수지층은, 열 가소성 수지 (P1) (반응성 부분 구조 (Zγ) 가 잔존하고 있는 것) 과 열 가소성 수지 (P1) 의 반응 생성물 (반응성 부분 구조 (Zγ) 가 변화한 것) 의 적어도 일방을 포함하는 것이다.The first thermoplastic resin layer has, at least on the surface of the side in contact with the molecular adhesive layer, a reactive partial structure (Zγ) capable of forming a chemical bond with the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M). It contains resin (P 1 ). That is, the first thermoplastic resin layer in the laminate for bonding is a reaction product (reactive partial structure) of the thermoplastic resin (P 1 ) (where the reactive partial structure (Zγ) remains) and the thermoplastic resin (P 1 ). It includes at least one of (Zγ) changed).

또한, 「분자 접착제층과 접하는 측의 표면에 열 가소성 수지 (P1) 을 포함한다」 란, 분자 접착제층을 형성하기 전의 단계에 있어서, 제 1 열 가소성 수지층의 표면에 열 가소성 수지 (P1) 이 노출되어 있는 상태를 나타내는 것이다.In addition, “the surface on the side in contact with the molecular adhesive layer contains a thermoplastic resin (P 1 )” means that in the step before forming the molecular adhesive layer, the surface of the first thermoplastic resin layer contains a thermoplastic resin (P 1 ). 1 ) This indicates the state of being exposed.

분자 접착제층을 형성하기 전의 단계에 있어서, 제 1 열 가소성 수지층의 표면에 열 가소성 수지 (P1) 이 노출되어 있음으로써, 열 가소성 수지 (P1) 의 반응성 부분 구조 (Zγ) 는, 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와 효율적으로 반응할 수 있다.In the step before forming the molecular adhesive layer, the thermoplastic resin (P 1 ) is exposed to the surface of the first thermoplastic resin layer, so that the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) is molecule It can react efficiently with the reactive group (Zα) of the adhesive (M).

열 가소성 수지 (P1) 로는, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀-아세트산비닐계 수지, 올레핀계 아이오노머 수지, 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin (P 1 ) include olefin resin, cycloolefin resin, acrylic resin, olefin-vinyl acetate resin, olefin ionomer resin, and polyester resin.

올레핀계 수지로는, 저밀도 폴리에틸렌, 직사슬형 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 폴리프로필렌, 프로필렌-α-올레핀 공중합체, 폴리(4-메틸-1-펜텐) 등을 들 수 있다.Examples of the olefin resin include low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, high-density polyethylene, ethylene-propylene copolymer, polypropylene, propylene-α-olefin copolymer, poly(4-methyl-1-pentene), etc. .

시클로올레핀계 수지로는, 시클로올레핀의 부가 중합체, 시클로올레핀과 α-올레핀의 공중합체, 노르보르넨계 단량체의 개환 중합체 등을 들 수 있다.Examples of cycloolefin-based resins include addition polymers of cycloolefins, copolymers of cycloolefins and α-olefins, and ring-opening polymers of norbornene-based monomers.

시클로올레핀으로는, 시클로펜텐, 시클로옥텐, 노르보르넨계 단량체 등을 들 수 있다.Examples of cycloolefins include cyclopentene, cyclooctene, and norbornene monomers.

α-올레핀으로는, 에틸렌, 프로필렌 등을 들 수 있다.Examples of α-olefins include ethylene and propylene.

아크릴계 수지로는, (메트)아크릴계 단량체의 단독 중합체, (메트)아크릴계 단량체의 공중합체, (메트)아크릴계 단량체와, 이것과 공중합 가능한 단량체의 공중합체를 들 수 있다.Acrylic resins include homopolymers of (meth)acrylic monomers, copolymers of (meth)acrylic monomers, and copolymers of a (meth)acrylic monomer and a monomer copolymerizable therewith.

(메트)아크릴계 단량체로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산에스테르 ; (메트)아크릴산 ; 등을 들 수 있다.(meth)acrylic monomers include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate. , (meth)acrylic acid esters such as 2-ethylhexyl (meth)acrylate; (meth)acrylic acid; etc. can be mentioned.

(메트)아크릴계 단량체와 공중합 가능한 단량체로는, 에틸렌 ; 스티렌, α-메틸스티렌, 클로로스티렌 등의 방향족 비닐 단량체 ; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 에틸렌성 불포화 단량체 ; (메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메트)아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체 ; 등을 들 수 있다.Monomers copolymerizable with (meth)acrylic monomers include ethylene; Aromatic vinyl monomers such as styrene, α-methylstyrene, and chlorostyrene; Cyano group-containing ethylenically unsaturated monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; (meth)acrylamide-based monomers such as (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, and N-butoxymethyl (meth)acrylamide; etc. can be mentioned.

본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」 은, 「아크릴산 또는 메타크릴산」 을 의미한다. 또한 「(메트)아크릴산에스테르」, 「(메트)아크릴」, 「(메트)아크릴레이트」 등의 동일한 기재에 대해서도 동일하다.In this specification, “(meth)acrylic acid” means “acrylic acid or methacrylic acid.” The same applies to similar substrates such as “(meth)acrylic acid ester,” “(meth)acrylic,” and “(meth)acrylate.”

올레핀-아세트산비닐계 수지로는, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 등을 들 수 있다.Examples of the olefin-vinyl acetate resin include ethylene-vinyl acetate copolymer.

올레핀계 아이오노머 수지로는, 올레핀계 단량체 유래의 반복 단위와 카르복시기 함유 단량체 유래의 반복 단위를 갖는 공중합체와, 이 공중합체 사슬 사이를 연결하는 이온 가교를 갖는 수지를 들 수 있다.Examples of the olefinic ionomer resin include a copolymer having a repeating unit derived from an olefinic monomer and a repeating unit derived from a carboxyl group-containing monomer, and a resin having an ionic crosslink connecting the chains of this copolymer.

올레핀계 단량체로는, 에틸렌, 프로필렌 등을 들 수 있다.Examples of olefin-based monomers include ethylene and propylene.

카르복시기 함유 단량체로는, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 무수 말레산, 말레산모노메틸에스테르, 말레산모노에틸에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, maleic acid monomethyl ester, and maleic acid monoethyl ester.

올레핀계 아이오노머 수지의 이온 가교는, 카르복시기 함유 단량체의 카르복시기가 탈프로톤화하여 생성된 카르복실레이트 이온과, 금속 이온으로 구성된다.The ionic crosslinking of the olefin-based ionomer resin is composed of carboxylate ions and metal ions generated by deprotonation of the carboxyl group of the carboxyl group-containing monomer.

금속 이온으로는, 나트륨 (I) 이온, 칼륨 (I) 이온, 리튬 (I) 이온, 칼슘 (II) 이온, 마그네슘 (II) 이온, 아연 (II) 이온, 구리 (I) 이온, 구리 (II) 이온, 코발트 (II) 이온, 코발트 (III) 이온, 니켈 (II) 이온, 망간 (II) 이온, 알루미늄 (III) 이온 등을 들 수 있다.Metal ions include sodium (I) ion, potassium (I) ion, lithium (I) ion, calcium (II) ion, magnesium (II) ion, zinc (II) ion, copper (I) ion, and copper (II) ion. ) ion, cobalt (II) ion, cobalt (III) ion, nickel (II) ion, manganese (II) ion, aluminum (III) ion, etc.

폴리에스테르 수지로는, 다가 카르복실산과 다가 알코올의 중축합 반응에 의해 얻어지는 것을 들 수 있다.Examples of the polyester resin include those obtained by polycondensation reaction of polyhydric carboxylic acid and polyhydric alcohol.

다가 카르복실산으로는, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 숙신산, 아디프산, 수베르산, 아젤라산, 세바크산, 데칸산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 1,8-나프탈렌디카르복실산, 트리멜리트산 등을 들 수 있다.Polyhydric carboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, succinic acid, adipic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, decanoic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,4-naphthalene. Dicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, trimellitic acid, etc. are mentioned.

다가 알코올로는, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,2-헥산디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 트리메틸올프로판, 글리세린 등을 들 수 있다.Polyhydric alcohols include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, trimethylolpropane, Glycerin, etc. can be mentioned.

폴리에스테르 수지 중에서는, 비정성 폴리에스테르 수지가 보다 바람직하다. 비정성 폴리에스테르 수지란, DSC (시차 주사 열량 측정) 에 의해, 명확한, 결정화 또는 결정 융해 피크를 나타내지 않는 폴리에스테르 수지를 말한다.Among polyester resins, amorphous polyester resins are more preferable. An amorphous polyester resin refers to a polyester resin that does not exhibit clear crystallization or crystal melting peaks by DSC (differential scanning calorimetry).

비정성 폴리에스테르 수지로는, 글리콜 변성 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PETG), 글리콜 변성 폴리(1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트) (PCTG), 산 변성 폴리(1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트) (PCTA) 등을 들 수 있다.Amorphous polyester resins include glycol-modified polyethylene terephthalate (PETG), glycol-modified poly(1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate) (PCTG), and acid-modified poly(1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate). ) (PCTA), etc.

열 가소성 수지 (P1) 은, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Thermoplastic resin (P 1 ) can be used individually or in combination of two or more types.

열 가소성 수지 (P1) 은, 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와 화학 결합을 형성할 수 있는 반응성 부분 구조 (Zγ) 를 갖는 것이다.The thermoplastic resin (P 1 ) has a reactive partial structure (Zγ) that can form a chemical bond with the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M).

열 가소성 수지 (P1) 이 반응성 부분 구조 (Zγ) 를 가짐으로써, 분자 접착제 (M) 을 효율적으로 고정시킬 수 있다.When the thermoplastic resin (P 1 ) has a reactive partial structure (Zγ), the molecular adhesive (M) can be efficiently fixed.

열 가소성 수지 (P1) 이 갖는 반응성 부분 구조 (Zγ) 로는, 하이드록시기, 카르복시기, 알데히드기, 아미노기, 탄소-탄소 단결합, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-수소 단결합 등을 들 수 있다. 후술하는 바와 같이, 이들은, 분자 접착제 (M) 중의 반응성기 (Zα) 에 맞추어 적절히 선택할 수 있다.The reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) includes a hydroxy group, a carboxyl group, an aldehyde group, an amino group, a carbon-carbon single bond, a carbon-carbon double bond, and a carbon-hydrogen single bond. As will be described later, these can be appropriately selected according to the reactive group (Zα) in the molecular adhesive (M).

열 가소성 수지 (P1) 이, 하이드록시기, 카르복시기, 알데히드기, 아미노기 등의 관능기를 반응성 부분 구조 (Zγ) 로서 갖는 열 가소성 수지 (P1') 인 경우, 열 가소성 수지 (P1') 중의 이들 반응성 부분 구조 (Zγ') 는, 공지된 방법에 의해 형성할 수 있다.When the thermoplastic resin (P 1 ) is a thermoplastic resin (P 1 ') having a functional group such as a hydroxy group, a carboxyl group, an aldehyde group, an amino group, etc. as a reactive partial structure (Zγ), in the thermoplastic resin (P 1 ') These reactive partial structures (Zγ') can be formed by known methods.

예를 들어, 중합 반응을 실시할 때에, 하이드록시기, 카르복시기, 알데히드기, 아미노기 등의 관능기를 갖는 단량체를 사용함으로써, 반응성 부분 구조 (Zγ') 를 갖는 열 가소성 수지 (P1') 를 제조할 수 있다. 또한, 이들 단량체를 사용하지 않고 중합 반응을 실시하여 얻어진 중합체에, 무수 말레산 변성 등의 변성 처리를 실시하는 것에 의해, 반응성 부분 구조 (Zγ') 를 갖는 열 가소성 수지 (P1') 를 제조할 수 있다.For example, when carrying out a polymerization reaction, a thermoplastic resin (P 1 ') having a reactive partial structure (Zγ') can be produced by using a monomer having a functional group such as a hydroxy group, carboxyl group, aldehyde group, or amino group. You can. Additionally, a thermoplastic resin (P 1 ') having a reactive partial structure (Zγ') is produced by performing a polymerization reaction without using these monomers and subjecting the obtained polymer to a modification treatment such as maleic anhydride modification. can do.

이들 방법에 의해 얻어진 열 가소성 수지 (P1') 를 성형 재료로서 사용함으로써, 제 1 열 가소성 수지층을 효율적으로 형성할 수 있다.By using the thermoplastic resin (P 1 ') obtained by these methods as a molding material, the first thermoplastic resin layer can be formed efficiently.

또한, 열 가소성 수지 (P1') 를 포함하지 않는 열 가소성 수지층을 형성한 후, 그 열 가소성 수지층에 대하여 표면 처리를 실시함으로써, 그 층의 표면에 하이드록시기나 카르복시기를 발생시켜도 된다. 즉, 이 표면 처리를 실시함으로써, 이 열 가소성 수지층은, 제 1 열 가소성 수지층에 필요한 요건을 충족하게 된다.Additionally, after forming a thermoplastic resin layer not containing a thermoplastic resin (P 1 '), the thermoplastic resin layer may be subjected to surface treatment to generate hydroxy groups or carboxyl groups on the surface of the layer. In other words, by performing this surface treatment, this thermoplastic resin layer satisfies the requirements necessary for the first thermoplastic resin layer.

표면 처리로는, 하이드록시기나 카르복시기를 발생시키는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 표면 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 전자선 조사 처리, 오존 처리, 엑시머 자외선 처리, 산 처리, 및 염기 처리 등을 들 수 있다.The surface treatment is not particularly limited as long as it generates hydroxy groups or carboxyl groups. Surface treatments include corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, electron beam irradiation treatment, ozone treatment, excimer ultraviolet treatment, acid treatment, and base treatment.

이들 표면 처리는, 공지된 방법에 따라 실시할 수 있다.These surface treatments can be performed according to known methods.

제 1 열 가소성 수지층은, 분자 접착제층과의 밀착성을 저해하지 않는 한, 열 가소성 수지 (P1) 이외의 성분을 함유하고 있어도 된다.The first thermoplastic resin layer may contain components other than the thermoplastic resin (P 1 ) as long as it does not impair adhesion to the molecular adhesive layer.

열 가소성 수지 (P1) 이외의 성분으로는, 자외선 흡수제, 광 안정제, 산화 방지제, 대전 방지제, 슬립제, 안티 블로킹제, 착색제 등을 들 수 있다.Components other than the thermoplastic resin (P 1 ) include ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, antistatic agents, slip agents, anti-blocking agents, and colorants.

이들의 함유량은 목적에 맞추어 적절히 결정할 수 있다.Their content can be determined appropriately according to the purpose.

제 1 열 가소성 수지층 중의 열 가소성 수지 (P1) 의 함유량은, 통상적으로 50 ∼ 100 질량%, 바람직하게는 80 ∼ 100 질량% 이다.The content of the thermoplastic resin (P 1 ) in the first thermoplastic resin layer is usually 50 to 100 mass%, preferably 80 to 100 mass%.

제 1 열 가소성 수지층의 두께는, 통상적으로 5 ∼ 150 ㎛ 이고, 10 ∼ 120 ㎛ 가 바람직하고, 15 ∼ 80 ㎛ 가 보다 바람직하다.The thickness of the first thermoplastic resin layer is usually 5 to 150 μm, preferably 10 to 120 μm, and more preferably 15 to 80 μm.

제 1 열 가소성 수지층의 두께가 5 ㎛ 이상임으로써, 열 용착 공정에 있어서의 가열에 의해 분자 접착제층의 성능이 저하하는 것을 충분히 억제할 수 있다. 또한, 제 1 열 가소성 수지층의 두께가 80 ㎛ 이하임으로써, 접합부 (피착체끼리의 사이) 를 얇게 할 수 있다.When the thickness of the first thermoplastic resin layer is 5 μm or more, it is possible to sufficiently prevent the performance of the molecular adhesive layer from deteriorating due to heating in the thermal welding process. In addition, when the thickness of the first thermoplastic resin layer is 80 μm or less, the joint portion (between adherends) can be thinned.

제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는, 통상적으로 100 ∼ 200 ℃, 바람직하게는 120 ∼ 180 ℃ 이다.The heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is usually 100 to 200°C, preferably 120 to 180°C.

제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 100 ℃ 이상임으로써, 열 용착할 때에, 제 1 열 가소성 수지층의 형상이 변화하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 200 ℃ 이하임으로써, 열 용착시에 분자 접착제층에 주는 영향을 억제할 수 있다.When the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is 100°C or higher, it is possible to suppress the shape of the first thermoplastic resin layer from changing during heat welding. In addition, because the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is 200°C or lower, the influence on the molecular adhesive layer during heat welding can be suppressed.

제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는, 열 가소성 수지의 종류, 열 가소성 수지의 분자량, 열 가소성 수지의 함유량, 첨가제의 종류, 첨가제의 함유량, 제 1 열 가소성 수지층의 결정화도, 제 1 열 가소성 수지층의 밀도 등의 영향을 받는 특성이다.The heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is determined by the type of thermoplastic resin, the molecular weight of the thermoplastic resin, the content of the thermoplastic resin, the type of additive, the content of the additive, the crystallinity of the first thermoplastic resin layer, and the first thermoplastic resin layer. It is a characteristic affected by the density of the thermoplastic resin layer, etc.

따라서, 예를 들어, 사용하는 열 가소성 수지를 결정한 후, 첨가제의 종류나 양을 조정함으로써, 목적으로 하는 히트 시일 가능 온도를 갖는 제 1 열 가소성 수지층을 형성할 수 있다.Therefore, for example, after determining the thermoplastic resin to be used, the first thermoplastic resin layer having the desired heat sealable temperature can be formed by adjusting the type and amount of additives.

〔제 2 열 가소성 수지층〕[Second thermoplastic resin layer]

제 2 열 가소성 수지층은, 제 1 열 가소성 수지층에 인접하는 층으로서, 접합용 적층체의 사용시에 있어서, 최외층의 일방을 구성하는 층이다. 또한, 제 1 열 가소성 수지층과 제 2 열 가소성 수지층 사이에는, 접착제층이 존재하고 있어도 된다.The second thermoplastic resin layer is a layer adjacent to the first thermoplastic resin layer, and is a layer that constitutes one of the outermost layers when the laminate for bonding is used. Additionally, an adhesive layer may exist between the first thermoplastic resin layer and the second thermoplastic resin layer.

후술하는 바와 같이, 제 2 열 가소성 수지층은, 다른 접합용 적층체의 제 2 열 가소성 수지층과의 열 용착에 사용된다.As will be described later, the second thermoplastic resin layer is used for heat welding with the second thermoplastic resin layer of another laminate for bonding.

제 2 열 가소성 수지층은, 단층 구조를 가지고 있어도 되고, 다층 구조를 가지고 있어도 된다. 제 2 열 가소성 수지층이 단층 구조를 갖는 경우의 제 2 열 가소성 수지층이나, 제 2 열 가소성 수지층이 다층 구조를 갖는 경우의 각각의 층은, 조성이 균일해도 되고, 조성이 균일하지 않아도 된다. 예를 들어, 이들 층은, 층의 표면 부근에 특정한 성분을 많이 함유하고, 층의 표면 부근의 조성과 층의 중심부의 조성이 상이해도 된다.The second thermoplastic resin layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure. The second thermoplastic resin layer when the second thermoplastic resin layer has a single-layer structure or each layer when the second thermoplastic resin layer has a multi-layer structure may have a uniform composition or may not have a uniform composition. do. For example, these layers may contain many specific components near the surface of the layer, and the composition near the surface of the layer may be different from the composition at the center of the layer.

제 2 열 가소성 수지층은, 적어도 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 표면에, 비교적 저온에서 용융하고, 또한, 단시간에 고화할 수 있는 열 가소성 수지 (이하, 「열 가소성 수지 (P2)」 라고 하는 경우가 있다) 를 포함하는 것이 바람직하다.The second thermoplastic resin layer is a thermoplastic resin (hereinafter referred to as “thermoplastic resin (P 2 )) that melts at a relatively low temperature and can solidify in a short time, at least on the surface opposite to the first thermoplastic resin layer. 」 It is desirable to include .

제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 표면에 열 가소성 수지 (P2) 를 포함함으로써, 다른 접합용 적층체의 열 가소성 수지층과 열 용착할 때에, 그 공정을 효율적으로 실시할 수 있다.By including a thermoplastic resin (P 2 ) on the surface opposite to the first thermoplastic resin layer, when heat welding with the thermoplastic resin layer of another laminate for bonding, the process can be carried out efficiently.

「제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 표면에 열 가소성 수지 (P2) 를 포함한다」 란, 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 표면에 열 가소성 수지 (P2) 가 노출되어 있는 것을 말한다.“Containing a thermoplastic resin (P 2 ) on the surface opposite to the first thermoplastic resin layer” means that the thermoplastic resin (P 2 ) is exposed on the surface opposite to the first thermoplastic resin layer. says

열 가소성 수지 (P2) 로는, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀-아세트산비닐계 수지, 올레핀계 아이오노머 수지, 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin (P 2 ) include olefin resin, cycloolefin resin, acrylic resin, olefin-vinyl acetate resin, olefin ionomer resin, and polyester resin.

이들 열 가소성 수지의 구체예로는, 열 가소성 수지 (P1) 로서 나타낸 것과 동일한 것을 들 수 있다.Specific examples of these thermoplastic resins include the same ones as those shown as thermoplastic resin (P 1 ).

열 가소성 수지 (P2) 는, 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Thermoplastic resin (P 2 ) can be used individually or in combination of two or more types.

제 2 열 가소성 수지층은, 열 용착성을 저해하지 않는 한, 열 가소성 수지 (P2) 이외의 성분을 함유하고 있어도 된다.The second thermoplastic resin layer may contain components other than the thermoplastic resin (P 2 ) as long as it does not impair thermal weldability.

열 가소성 수지 (P2) 이외의 성분으로는, 자외선 흡수제, 광 안정제, 산화 방지제, 대전 방지제, 슬립제, 안티 블로킹제, 착색제 등을 들 수 있다.Components other than the thermoplastic resin (P 2 ) include ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, antistatic agents, slip agents, anti-blocking agents, and colorants.

이들의 함유량은 목적에 맞추어 적절히 결정할 수 있다.Their content can be determined appropriately according to the purpose.

제 2 열 가소성 수지층이 단층 구조를 갖는 것일 때, 제 2 열 가소성 수지층으로는, 열 가소성 수지 (P2) 를 함유하는 균일한 층이나, 적어도, 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 표면에 열 가소성 수지 (P2) 를 포함하는 불균일한 층을 들 수 있다.When the second thermoplastic resin layer has a single-layer structure, the second thermoplastic resin layer is a uniform layer containing the thermoplastic resin (P 2 ), or at least a layer on the opposite side from the first thermoplastic resin layer. An example is a non-uniform layer containing a thermoplastic resin (P 2 ) on the surface.

단층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 중의 열 가소성 수지 (P2) 의 함유량은, 통상적으로 50 ∼ 100 질량%, 바람직하게는 80 ∼ 100 질량% 이다.The content of the thermoplastic resin (P 2 ) in the second thermoplastic resin layer having a single-layer structure is usually 50 to 100 mass%, preferably 80 to 100 mass%.

단층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층의 두께는, 통상적으로 5 ∼ 150 ㎛ 이고, 10 ∼ 120 ㎛ 가 바람직하고, 15 ∼ 80 ㎛ 가 보다 바람직하다.The thickness of the second thermoplastic resin layer having a single-layer structure is usually 5 to 150 μm, preferably 10 to 120 μm, and more preferably 15 to 80 μm.

단층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층의 두께가 5 ㎛ 이상임으로써, 열 용착을 충분히 실시할 수 있다. 또한, 이 제 2 열 가소성 수지층의 두께가 150 ㎛ 이하임으로써, 접합부 (피착체끼리의 사이) 를 얇게 할 수 있다.When the thickness of the second thermoplastic resin layer having a single-layer structure is 5 μm or more, thermal welding can be sufficiently performed. In addition, because the thickness of this second thermoplastic resin layer is 150 μm or less, the joint portion (between adherends) can be thinned.

제 2 열 가소성 수지층이 다층 구조를 갖는 것일 때, 제 2 열 가소성 수지층으로는, 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 최외층 (다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층의 2 개의 최외층 중, 제 1 열 가소성 수지층과 접하고 있지 않은 쪽의 최외층) 이, 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 표면에 열 가소성 수지 (P2) 를 포함하는, 다층 구조의 층을 들 수 있다.When the second thermoplastic resin layer has a multilayer structure, the second thermoplastic resin layer includes an outermost layer on the opposite side from the first thermoplastic resin layer (the two outermost layers of the second thermoplastic resin layer having a multilayer structure) Among the outer layers, the outermost layer on the side that is not in contact with the first thermoplastic resin layer) includes a layer with a multi-layer structure, which includes a thermoplastic resin (P 2 ) on the surface on the opposite side from the first thermoplastic resin layer. there is.

다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층에 있어서는, 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 최외층에 포함되는 열 가소성 수지 (P2) 의 함유량은, 그 최외층 전체를 기준으로 하여, 통상적으로 50 ∼ 100 질량%, 바람직하게는 80 ∼ 100 질량% 이다.In the second thermoplastic resin layer having a multilayer structure, the content of the thermoplastic resin (P 2 ) contained in the outermost layer on the opposite side to the first thermoplastic resin layer is usually based on the entire outermost layer. It is 50 to 100 mass%, preferably 80 to 100 mass%.

다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 전체의 두께는, 통상적으로 3 ∼ 150 ㎛ 이고, 10 ∼ 120 ㎛ 가 바람직하고, 15 ∼ 80 ㎛ 가 보다 바람직하다.The thickness of the entire second thermoplastic resin layer having a multilayer structure is usually 3 to 150 μm, preferably 10 to 120 μm, and more preferably 15 to 80 μm.

다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 전체의 두께가 3 ㎛ 이상임으로써, 열 용착을 충분히 실시할 수 있다. 또한, 이 제 2 열 가소성 수지층의 두께가 150 ㎛ 이하임으로써, 접합부 (피착체끼리의 사이) 를 얇게 할 수 있다.When the overall thickness of the second thermoplastic resin layer having a multilayer structure is 3 μm or more, thermal welding can be sufficiently performed. In addition, because the thickness of this second thermoplastic resin layer is 150 μm or less, the joint portion (between adherends) can be thinned.

다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층에 있어서, 그 층 수는 특별히 한정되지 않는다. 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층의 층 수는, 통상적으로 2 ∼ 10 이고, 2 ∼ 5 가 바람직하다.In the second thermoplastic resin layer having a multilayer structure, the number of layers is not particularly limited. The number of layers of the second thermoplastic resin layer having a multilayer structure is usually 2 to 10, and is preferably 2 to 5.

제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는, 통상적으로 50 ∼ 180 ℃, 바람직하게는 70 ∼ 150 ℃ 이다.The heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer is usually 50 to 180°C, preferably 70 to 150°C.

제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 50 ℃ 이상임으로써, 상온에서의 취급성이 양호해진다. 또한, 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 180 ℃ 이하임으로써, 본 발명의 접합용 적층체를 사용할 때, 제 2 열 가소성 수지층끼리의 층 사이를 강고하게 접착할 수 있고, 2 개의 피착체를 보다 강고하게 접합할 수 있다.When the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer is 50°C or higher, handleability at room temperature becomes good. In addition, since the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer is 180° C. or lower, when using the laminate for bonding of the present invention, the layers of the second thermoplastic resin layer can be firmly bonded to each other, 2 Two adherends can be joined more strongly.

제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도의 조정 방법과 동일한 방법에 의해, 조정할 수 있다.The heat-sealable temperature of the second thermoplastic resin layer can be adjusted by the same method as the method of adjusting the heat-sealable temperature of the first thermoplastic resin layer.

또한, 제 2 열 가소성 수지층이 다층 구조를 갖는 것일 때, 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도란, 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 최외층의 히트 시일 가능 온도를 말한다.In addition, when the second thermoplastic resin layer has a multilayer structure, the heat-sealable temperature of the second thermoplastic resin layer refers to the heat-sealable temperature of the outermost layer on the opposite side to the first thermoplastic resin layer.

〔접합용 적층체〕[Laminate for joining]

접합용 적층체는, 제 1 열 가소성 수지층과 제 2 열 가소성 수지층으로 구성된 적층체 (이하에 있어서, 「적층체 (η)」 라고 나타내는 경우가 있다) 의 제 1 열 가소성 수지층 상에, 직접, 분자 접착제층을 형성함으로써 제조할 수 있다.The laminate for bonding is a laminate composed of a first thermoplastic resin layer and a second thermoplastic resin layer (hereinafter sometimes referred to as “laminated body (η)”) on the first thermoplastic resin layer. , can be manufactured directly by forming a molecular adhesive layer.

예를 들어, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 제 1 열 가소성 수지층 (1) 및 제 2 열 가소성 수지층 (2) 으로 구성된 적층체 (3) 의 제 1 열 가소성 수지층 (1) 상에, 직접, 분자 접착제층 (4) 을 형성함으로써, 접합용 적층체 (5) 가 얻어진다.For example, as shown in FIG. 1, on the first thermoplastic resin layer (1) of the laminate (3) composed of the first thermoplastic resin layer (1) and the second thermoplastic resin layer (2), By directly forming the molecular adhesive layer 4, the laminate for bonding 5 is obtained.

상기와 같이, 적층체 (3) 에 있어서는, 제 1 열 가소성 수지층 (1) 은, 분자 접착제층 (4) 과 접하는 측의 표면 (6) 에 열 가소성 수지 (P1) 을 포함한다. 또한, 적층체 (3) 의 제 2 열 가소성 수지층 (2) 은, 제 1 열 가소성 수지층 (1) 과는 반대측의 표면 (7) 에 열 가소성 수지 (P2) 를 포함하는 것이 바람직하다.As described above, in the laminate 3, the first thermoplastic resin layer 1 contains a thermoplastic resin (P 1 ) on the surface 6 on the side in contact with the molecular adhesive layer 4 . In addition, the second thermoplastic resin layer 2 of the laminate 3 preferably includes a thermoplastic resin (P 2 ) on the surface 7 on the opposite side to the first thermoplastic resin layer 1. .

적층체 (η) 의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다.The manufacturing method of the laminated body (η) is not particularly limited.

예를 들어, 열 가소성 수지 (P1) 을 함유하는 펠릿과, 열 가소성 수지 (P2) 를 함유하는 펠릿을 각각 용융시키고, 이들을 다층 다이로부터 동시에 압출하여 얻어진 공압출 다층 필름을, 적층체 (η) 로서 사용할 수 있다.For example, a coextruded multilayer film obtained by melting a pellet containing a thermoplastic resin (P 1 ) and a pellet containing a thermoplastic resin (P 2 ), respectively, and simultaneously extruding them from a multilayer die, is formed into a laminate ( η) can be used.

또한, 열 가소성 수지 (P1) 을 함유하는 수지 필름과, 열 가소성 수지 (P2) 를 함유하는 수지 필름을 첩합하여 얻어진 다층 필름을, 적층체 (η) 로서 사용할 수 있다.Additionally, a multilayer film obtained by bonding a resin film containing a thermoplastic resin (P 1 ) and a resin film containing a thermoplastic resin (P 2 ) can be used as a laminate (η).

또한, 열 가소성 수지 (P1) 을 함유하는 제 1 열 가소성 수지층 (수지 필름) 상에, 열 가소성 수지 (P2) 를 함유하는 도포액을 도포하고, 얻어진 도막을 건조시켜 제 2 열 가소성 수지층을 형성하거나, 열 가소성 수지 (P2) 를 함유하는 제 2 열 가소성 수지층 (수지 필름) 상에, 열 가소성 수지 (P1) 을 함유하는 도포액을 도포하고, 얻어진 도막을 건조시켜 제 1 열 가소성 수지층을 형성함으로써 얻어진 다층 필름을, 적층체 (η) 로서 사용할 수 있다.Additionally, a coating liquid containing the thermoplastic resin (P 2 ) is applied onto the first thermoplastic resin layer (resin film) containing the thermoplastic resin (P 1 ), and the obtained coating film is dried to form a second thermoplastic resin. A resin layer is formed, or a coating liquid containing a thermoplastic resin (P 1 ) is applied onto a second thermoplastic resin layer (resin film) containing a thermoplastic resin (P 2 ), and the resulting coating film is dried. The multilayer film obtained by forming the first thermoplastic resin layer can be used as a laminate (η).

이들 중에서도, 제 1 열 가소성 수지층과 제 2 열 가소성 수지층 사이의 층간 박리가 잘 발생하지 않는 것으로부터, 공압출 다층 필름을 적층체 (η) 로서 사용하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to use a coextruded multilayer film as the laminate (η) because delamination between the first and second thermoplastic resin layers is less likely to occur.

또한, 본 명세서에 있어서는, 아직 다른 층이 형성되어 있지 않은 상태의 수지 필름에 대해서도, 「제 1 열 가소성 수지층」 이나 「제 2 열 가소성 수지층」 이라고 표현하는 경우가 있다.In addition, in this specification, the resin film in a state in which no other layers have yet been formed may be expressed as “the first thermoplastic resin layer” or “the second thermoplastic resin layer.”

적층체 (η) 를 제조할 때에는, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도보다 높아지도록, 각각의 층의 성분을 결정한다.When manufacturing the laminate η, the components of each layer are determined so that the heat-sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is higher than the heat-sealable temperature of the second thermoplastic resin layer.

즉, 본 발명의 접합용 적층체는, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th1, 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th2 일 때에, Th1 > Th2 이다.That is, in the laminate for bonding of the present invention, when the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is T h1 and the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer is T h2 , T h1 > T h2 .

후술하는 바와 같이, 2 개의 피착체를 본 발명의 접합용 적층체를 사용하여 접합하는 경우, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도를 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도보다 높게 함으로써, 분자 접착제층에 악영향을 주지 않고, 열 용착 공정을 실시할 수 있다.As described later, when two adherends are joined using the bonding laminate of the present invention, the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is made higher than the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer. , the heat welding process can be performed without adversely affecting the molecular adhesive layer.

분자 접착제층을 형성할 때에 사용하는 분자 접착제 (M) 은, 그 반응성기 (Zα) 와, 제 1 열 가소성 수지층 중의 열 가소성 수지 (P1) 의 반응성 부분 구조 (Zγ) 의 조합을 고려하여, 적절히 선택할 수 있다.The molecular adhesive (M) used when forming the molecular adhesive layer takes into account the combination of its reactive group (Zα) and the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) in the first thermoplastic resin layer. , can be selected appropriately.

그 중에서도, 반응성기 (Zα) 와 반응성 부분 구조 (Zγ) 는, 하기의 요건 (Q1) 을 만족하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the reactive group (Zα) and the reactive partial structure (Zγ) satisfy the following requirements (Q1).

요건 (Q1) : Requirements (Q1):

분자 접착제 (M) 이 갖는 반응성기 (Zα) 가, 아미노기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이고, 상기 열 가소성 수지 (P1) 이 갖는 반응성 부분 구조 (Zγ) 가, 하이드록시기, 카르복시기, 알데히드기, 및 아미노기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이거나, 또는 ,The reactive group (Zα) possessed by the molecular adhesive (M) is at least one selected from the group consisting of an amino group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, and the reactive moiety possessed by the thermoplastic resin (P 1 ) The structure (Zγ) is at least one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an aldehyde group, and an amino group, or,

분자 접착제 (M) 이 갖는 반응성기 (Zα) 가, 아지드기이고, 상기 열 가소성 수지 (P1) 이 갖는 반응성 부분 구조 (Zγ) 가, 탄소-탄소 단결합, 탄소-탄소 이중 결합, 및 탄소-수소 단결합으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이다.The reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M) is an azide group, and the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) is a carbon-carbon single bond, a carbon-carbon double bond, and It is at least one type selected from the group consisting of carbon-hydrogen single bonds.

본 발명의 접합용 적층체에 있어서는, 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와, 열 가소성 수지 (P1) 의 반응성 부분 구조 (Zγ) 가 화학 결합을 형성함으로써, 분자 접착제 (M) 은, 제 1 열 가소성 수지층에 고정되어 있는 것으로 생각된다.In the laminate for bonding of the present invention, the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M) and the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) form a chemical bond, so that the molecular adhesive (M) , it is believed to be fixed to the first thermoplastic resin layer.

상기의 요건 (Q1) 을 만족함으로써, 이 화학 결합을 효율적으로 형성할 수 있는 것으로 생각된다.It is believed that this chemical bond can be formed efficiently by satisfying the above requirement (Q1).

반응성기 (Zα) 가, 아미노기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 경우, 반응성기 (Zα) 와 반응성 부분 구조 (Zγ) 의 바람직한 조합〔반응성기 (Zα)/반응성 부분 구조 (Zγ)〕으로는, (아미노기/하이드록시기), (아미노기/카르복시기), (이소시아네이트기/하이드록시기), (이소시아네이트기/카르복시기), (하이드록시기/카르복시기) 등을 들 수 있다.When the reactive group (Zα) is at least one selected from the group consisting of an amino group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, a preferred combination of the reactive group (Zα) and the reactive partial structure (Zγ) [reactive group ( [Zα)/reactive partial structure (Zγ)], (amino group/hydroxy group), (amino group/carboxy group), (isocyanate group/hydroxy group), (isocyanate group/carboxy group), (hydroxy group/carboxy group) etc. can be mentioned.

또한, 반응성기 (Zα) 가, 아지드기인 경우, 후술하는 바와 같이 광이 조사됨으로써 아지드기가 활성화된다. 이 경우, 반응 중간체인 나이트렌은, 탄소-탄소 단결합, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-수소 단결합과 반응할 수 있기 때문에, 열 가소성 수지 (P1) 의 반응성 부분 구조 (Zγ) 로는, 탄소-탄소 단결합, 탄소-탄소 이중 결합, 및 탄소-수소 단결합으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하게 사용된다.In addition, when the reactive group (Zα) is an azide group, the azide group is activated by irradiation with light as described later. In this case, since nitrene, which is a reaction intermediate, can react with a carbon-carbon single bond, a carbon-carbon double bond, and a carbon-hydrogen single bond, the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) is: At least one species selected from the group consisting of a carbon-carbon single bond, a carbon-carbon double bond, and a carbon-hydrogen single bond is preferably used.

열 가소성 수지이면, 통상적으로, 탄소-탄소 단결합, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-수소 단결합의 적어도 어느 것을 함유한다. 따라서, 아지드기를 갖는 분자 접착제 (M) 을 사용하는 경우, 열 가소성 수지 (P1) 의 종류는 특별히 한정되지 않는다.If it is a thermoplastic resin, it usually contains at least one of a carbon-carbon single bond, a carbon-carbon double bond, and a carbon-hydrogen single bond. Therefore, when using the molecular adhesive (M) having an azide group, the type of thermoplastic resin (P 1 ) is not particularly limited.

분자 접착제층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 분자 접착제 (M) 을 함유하는 분자 접착제 용액을 조제하고, 이 용액을 제 1 열 가소성 수지층 상에 도포하고, 이어서, 얻어진 도막의 건조 처리나, 분자 접착제 (M) 을 제 1 열 가소성 수지층에 고정시키는 처리를 실시함으로써, 분자 접착제층을 형성할 수 있다.The method of forming the molecular adhesive layer is not particularly limited. For example, a molecular adhesive solution containing the molecular adhesive (M) is prepared, this solution is applied on the first thermoplastic resin layer, and the obtained coating film is then dried, or the molecular adhesive (M) is applied to the first thermoplastic resin layer. A molecular adhesive layer can be formed by performing a treatment to fix the thermoplastic resin layer.

분자 접착제 용액을 조제할 때에 사용하는 용매는 특별히 한정되지 않는다. 용매로는, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜 등의 알코올계 용매 ; 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용매 ; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르계 용매 ; 염화메틸렌 등의 함할로겐 화합물계 용매 ; 부탄, 헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매 ; 테트라하이드로푸란, 부틸에테르 등의 에테르계 용매 ; 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 화합물계 용매 ; N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드계 용매 ; 물 ; 등을 들 수 있다.The solvent used when preparing the molecular adhesive solution is not particularly limited. Examples of the solvent include alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol, and diethylene glycol; Ketone-based solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Halogen-containing compound-based solvents such as methylene chloride; Aliphatic hydrocarbon-based solvents such as butane and hexane; Ether-based solvents such as tetrahydrofuran and butyl ether; Aromatic compound-based solvents such as benzene and toluene; Amide-based solvents such as N,N-dimethylformamide and N-methylpyrrolidone; water ; etc. can be mentioned.

이들은 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These can be used individually or in combination of two or more types.

분자 접착제 용액 중의 분자 접착제 (M) 의 농도는 특별히 한정되지 않는다. 그 농도는, 바람직하게는 0.005 ∼ 1.000 ㏖/ℓ, 보다 바람직하게는 0.050 ∼ 0.500 ㏖/ℓ 이다. 분자 접착제 (M) 의 농도를 0.005 ㏖/ℓ 이상으로 함으로써, 분자 접착제층을 제 1 열 가소성 수지층 상에 효율적으로 형성할 수 있다. 또한 1.000 ㏖/ℓ 이하로 함으로써 분자 접착제 용액의 의도하지 않은 반응을 억제할 수 있어, 용액의 안정성이 우수하다.The concentration of the molecular adhesive (M) in the molecular adhesive solution is not particularly limited. The concentration is preferably 0.005 to 1.000 mol/l, more preferably 0.050 to 0.500 mol/l. By setting the concentration of the molecular adhesive (M) to 0.005 mol/L or more, the molecular adhesive layer can be efficiently formed on the first thermoplastic resin layer. In addition, by setting it to 1.000 mol/l or less, unintended reactions of the molecular adhesive solution can be suppressed, and the stability of the solution is excellent.

분자 접착제 용액의 도포 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 공지된 도포 방법을 사용할 수 있다. 도포 방법으로는, 예를 들어, 스핀 코트법, 스프레이 코트법, 바 코트법, 나이프 코트법, 롤 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 딥 코트법, 커튼 코트법, 다이 코트법, 그라비아 코트법 등을 들 수 있지만, 바 코트법, 그라비아 코트법이 바람직하다.The application method of the molecular adhesive solution is not particularly limited, and a known application method can be used. Application methods include, for example, spin coat method, spray coat method, bar coat method, knife coat method, roll knife coat method, roll coat method, blade coat method, dip coat method, curtain coat method, die coat method, Although the gravure coat method etc. can be mentioned, the bar coat method and the gravure coat method are preferable.

분자 접착제 용액을 도포한 후에는, 통상적으로, 얻어진 도막을 건조시키기 위해서, 자연 건조나 건조 기구에의 투입에 의한 건조 처리가 필요하게 된다. 이들 중에서도, 건조 기구에의 투입에 의한 건조 처리를 실시하는 것이 생산성의 향상의 관점에서 바람직하다. 당해 건조 기구로는, 예를 들어, 에어 오븐과 같은 배치식의 건조 기구, 그리고 히트 롤, 핫 에어 스루 기구 (개방식의 건조로 내를 피건조체가 이동, 통과하면서, 송풍을 받으면서 가열·건조되는 설비 등) 와 같은 연속식의 건조 기구 등을 들 수 있다. 또한, 이들 건조 기구의 일부로서도 사용할 수 있는 장치, 예를 들어, 고주파 가열, 오일 히터 등의 열매 순환식 히터, 및 원적외선식 히터 등의 히터 자체도 건조 기구로서 사용할 수 있다. 이들 중에서도 생산성의 향상의 관점에서 핫 에어 스루 기구가 바람직하다.After applying the molecular adhesive solution, drying treatment by natural drying or putting it into a drying device is usually necessary to dry the obtained coating film. Among these, it is preferable from the viewpoint of improving productivity to perform drying treatment by putting it into a drying device. The drying equipment includes, for example, a batch-type drying equipment such as an air oven, a heat roll, and a hot-air through mechanism (an open-type drying furnace in which the object to be dried moves and passes through it and is heated and dried while receiving airflow). equipment, etc.) and continuous drying equipment. Additionally, devices that can be used as part of these drying devices, such as heat circulation heaters such as high-frequency heating and oil heaters, and heaters themselves, such as far-infrared heaters, can also be used as drying devices. Among these, a hot air through mechanism is preferable from the viewpoint of improving productivity.

당해 건조 기구로 조정되는 건조 온도는, 통상적으로 20 ∼ 250 ℃, 바람직하게는 25 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 30 ∼ 150 ℃, 특히 바람직하게는 35 ∼ 120 ℃ 이다. 건조 시간은, 통상적으로 1 초 내지 120 분, 바람직하게는 10 초 내지 10 분, 보다 바람직하게는 20 초 내지 5 분, 특히 바람직하게는 30 초 내지 3 분이다.The drying temperature adjusted with the drying device is usually 20 to 250°C, preferably 25 to 200°C, more preferably 30 to 150°C, and particularly preferably 35 to 120°C. The drying time is usually 1 second to 120 minutes, preferably 10 seconds to 10 minutes, more preferably 20 seconds to 5 minutes, and particularly preferably 30 seconds to 3 minutes.

분자 접착제층을 형성할 때에는, 통상적으로, 분자 접착제 (M) 을 제 1 열 가소성 수지층에 고정시키는 처리 (이하, 고정 처리라고 하는 경우가 있다) 가 실시된다. 고정 처리는, 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 의 특성에 따라 적절히 선택할 수 있다. 통상적으로는, 분자 접착제 (M) 을 제 1 열 가소성 수지층 상에 도포함으로써 화학 결합이 생성되고, 가열함으로써 화학 결합의 생성이 촉진되기 때문에, 가열 처리를 실시하는 것이 생산성의 향상의 관점에서 바람직하다. 가열 온도는, 통상적으로 40 ∼ 250 ℃, 바람직하게는 60 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 80 ∼ 120 ℃ 이다. 가열 시간은, 통상적으로 1 초 내지 120 분, 바람직하게는 1 ∼ 60 분, 보다 바람직하게는 1 ∼ 30 분이다.When forming a molecular adhesive layer, a treatment (hereinafter sometimes referred to as a fixing treatment) is usually performed to fix the molecular adhesive (M) to the first thermoplastic resin layer. The fixing treatment can be appropriately selected depending on the characteristics of the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M). Usually, chemical bonds are created by applying the molecular adhesive (M) onto the first thermoplastic resin layer, and heating promotes the creation of chemical bonds, so heat treatment is preferable from the viewpoint of improving productivity. do. The heating temperature is usually 40 to 250°C, preferably 60 to 200°C, and more preferably 80 to 120°C. The heating time is usually 1 second to 120 minutes, preferably 1 to 60 minutes, more preferably 1 to 30 minutes.

가열 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 상기 서술한 건조 기구와 동일한 기구 및 장치를 사용할 수 있다.The heating method is not particularly limited, and the same mechanisms and devices as the drying mechanism described above can be used.

아지드기와 같이, 반응성기 (Zα) 가 광 반응성을 갖는 경우, 고정 처리로는 광 조사 처리가 실시된다. 조사하는 광으로는, 통상적으로, 자외선이 사용된다. 이 경우에는, 건조 처리 후에 고정 처리를 실시하는 것이, 반응성기 (Zα) 와 반응성기 (Zγ) 의 반응성을 향상시키는 관점에서 바람직하다.When the reactive group (Zα) has photoreactivity, such as an azide group, light irradiation treatment is performed as the fixing treatment. As the light to be irradiated, ultraviolet rays are usually used. In this case, it is preferable to perform the fixing treatment after the drying treatment from the viewpoint of improving the reactivity of the reactive group (Zα) and the reactive group (Zγ).

자외선의 조사는, 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 자외선 LED, 무전극 램프 등의 광원을 사용한 자외선 조사 장치를 사용하여 실시할 수 있다.Irradiation of ultraviolet rays can be performed using an ultraviolet irradiation device using a light source such as a mercury lamp, metal halide lamp, ultraviolet LED, or electrodeless lamp.

광 조사 처리의 처리 조건은, 목적으로 하는 광 반응을 실시할 수 한, 특별히 한정되지 않는다.The treatment conditions for the light irradiation treatment are not particularly limited as long as the desired photo reaction can be performed.

분자 접착제층을 형성할 때에는, 분자 접착제 용액의 도포와 건조 처리와 고정 처리를 복수 회 반복하여 실시해도 된다.When forming the molecular adhesive layer, the application of the molecular adhesive solution, drying treatment, and fixing treatment may be repeated multiple times.

2) 2 개의 피착체를 접합하는 방법2) How to join two adherends

본 발명의 2 개의 피착체를 접합하는 방법은, 2 개의 접합용 적층체를 사용하여, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법으로서, 상기 2 개의 접합용 적층체가, 각각 독립적으로, 본 발명의 접합용 적층체이고, 제 1 접합용 적층체를, 분자 접착제 (MA) 를 포함하는 분자 접착제층 (A-M), 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층 (A-1), 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체 (A) 로 나타내고, 제 2 접합용 적층체를, 분자 접착제 (MB) 를 포함하는 분자 접착제층 (B-M), 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층 (B-1), 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체 (B) 로 나타냈을 때에,The method of joining two adherends of the present invention is a method of joining an adherend (I) and an adherend (II) using two bonding laminates, wherein the two bonding laminates are each independent. In this case, it is a laminate for bonding of the present invention, and the first laminate for bonding is a molecular adhesive layer ( AM ) containing a molecular adhesive (MA), and a first thermoplastic resin layer (A-1) having a single layer structure. , and a second thermoplastic resin layer (A-2) having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order is represented by a laminate for bonding (A), and the second laminate for bonding is a molecular adhesive ( MB ). Bonding having a molecular adhesive layer (BM) comprising, a first thermoplastic resin layer (B-1) having a single-layer structure, and a second thermoplastic resin layer (B-2) having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order. When expressed as a laminate (B),

이하의 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군과, 공정 (M1) ∼ (M3) 을 포함하는 공정군과, 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군에서 선택되는 어느 공정군을 실시하는 것을 특징으로 하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법이다.Any process selected from the process group containing the following processes (L1) to (L3), the process group containing processes (M1) to (M3), and the process group containing processes (N1) and (N2). A method for bonding an adherend (I) and an adherend (II), characterized in that the group is carried out.

공정 (L1) : 접합용 적층체 (A) 의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착하는 공정Process (L1): Process of bonding the molecular adhesive layer (A-M) of the laminate for bonding (A) and the adherend (I)

공정 (L2) : 접합용 적층체 (B) 의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착하는 공정Process (L2): Process of bonding the molecular adhesive layer (B-M) of the laminate for bonding (B) and the adherend (II)

공정 (L3) : 공정 (L1) 에서 얻어진 적층체의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 공정 (L2) 에서 얻어진 적층체의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착하는 공정Step (L3): Heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate obtained in step (L1) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate obtained in step (L2). process

공정 (M1) : 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착하는 공정Step (M1): A process of heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for joining (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate for joining (B).

공정 (M2) : 공정 (M1) 에서 얻어진 적층체의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착하는 공정Step (M2): A step of bonding the molecular adhesive layer (A-M) of the laminate obtained in step (M1) and the adherend (I).

공정 (M3) : 공정 (M2) 에서 얻어진 적층체의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착하는 공정Step (M3): A step of bonding the molecular adhesive layer (B-M) of the laminate obtained in step (M2) and the adherend (II).

공정 (N1) : 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 가 대향하는 배치로, 피착체 (I), 접합용 적층체 (A), 접합용 적층체 (B), 피착체 (II) 를, 이 순서로 겹치는 공정Step (N1): An arrangement in which the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for joining (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate for joining (B) face each other. , a process of overlapping the adherend (I), the laminate for bonding (A), the laminate for bonding (B), and the adherend (II) in this order.

공정 (N2) : 공정 (N1) 에서 얻어진 것을 가열하여, 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 의 접착과, 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 의 접착과, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 열 용착을 동시에 실시하는 공정Step (N2): Heating the product obtained in step (N1), adhesion of the molecular adhesive layer (A-M) and the adherend (I), adhesion of the molecular adhesive layer (B-M) and the adherend (II), and second heat A process of simultaneously performing heat welding of the plastic resin layer (A-2) and the second thermoplastic resin layer (B-2)

접합용 적층체 (A) 는, 분자 접착제 (MA) 를 포함하는 분자 접착제층 (A-M), 제 1 열 가소성 수지층 (A-1), 및 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체이다.The laminate for bonding (A) includes a molecular adhesive layer (AM) containing a molecular adhesive ( MA ), a first thermoplastic resin layer (A-1), and a second thermoplastic resin layer (A-2). This is a laminate for joining in this order.

본 발명의 접합 방법에 있어서, 접합용 적층체 (A) 는, 피착체 (I) 과의 접착에 이용된다.In the bonding method of the present invention, the laminate for bonding (A) is used for bonding with the adherend (I).

접합용 적층체 (B) 는, 분자 접착제 (MB) 를 포함하는 분자 접착제층 (B-M), 제 1 열 가소성 수지층 (B-1), 및 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체 (B) 이다.The laminate for bonding (B) includes a molecular adhesive layer (BM) containing a molecular adhesive ( MB ), a first thermoplastic resin layer (B-1), and a second thermoplastic resin layer (B-2). It is a laminate for joining (B) in this order.

본 발명의 접합 방법에 있어서, 접합용 적층체 (B) 는, 피착체 (II) 와의 접착에 이용된다.In the bonding method of the present invention, the laminate for bonding (B) is used for bonding with the adherend (II).

접합용 적층체 (A) 와 접합용 적층체 (B) 는 동일한 것이어도 되고, 상이한 것이어도 된다.The laminate for bonding (A) and the laminate for bonding (B) may be the same or different.

접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 가, 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 과는 반대측의 표면에 열 가소성 수지 (P2) (이하에 있어서, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 에 포함되는 열 가소성 수지 (P2) 를, 「열 가소성 수지 (P2A)」 라고 나타내는 경우가 있다) 를 포함하는 것이고, 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 가, 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 과는 반대측의 표면에 열 가소성 수지 (P2) (이하에 있어서, 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 에 포함되는 열 가소성 수지 (P2) 를, 「열 가소성 수지 (P2B)」 라고 나타내는 경우가 있다) 를 포함하는 것인 경우, 열 가소성 수지 (P2A) (제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 가 2 종 이상의 열 가소성 수지 (P2A) 를 포함할 때에는 함유량이 가장 많은 것) 와 열 가소성 수지 (P2B) (제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 가 2 종 이상의 열 가소성 수지 (P2B) 를 포함할 때에는 함유량이 가장 많은 것) 는 동일한 것이 바람직하다. 열 가소성 수지 (P2A) 와 열 가소성 수지 (P2B) 가 동일한 것임으로써, 2 개의 피착체를 보다 강고하게 접합할 수 있다.The second thermoplastic resin layer (A-2) of the bonding laminate (A) has a thermoplastic resin (P 2 ) on the surface opposite to the first thermoplastic resin layer (A-1) (hereinafter, The thermoplastic resin (P 2 ) contained in the second thermoplastic resin layer (A-2) is sometimes referred to as “thermoplastic resin (P 2A )”), and the laminate for bonding (B) The second thermoplastic resin layer (B-2) has a thermoplastic resin (P 2 ) on the surface opposite to the first thermoplastic resin layer (B-1) (hereinafter referred to as the second thermoplastic resin layer ( In the case where the thermoplastic resin (P 2 ) included in B-2) is included (sometimes referred to as “thermoplastic resin (P 2B )”), the thermoplastic resin (P 2A ) (second thermoplastic When the resin layer (A-2) contains two or more types of thermoplastic resin ( P2A ), the one with the highest content) and the thermoplastic resin ( P2B ) (the second thermoplastic resin layer (B-2) is 2. When more than one type of thermoplastic resin ( P2B ) is included, it is preferable that the ones with the highest content are the same. When the thermoplastic resin (P 2A ) and the thermoplastic resin (P 2B ) are the same, the two adherends can be joined more strongly.

열 가소성 수지 (P2A) (제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 가 2 종 이상의 열 가소성 수지 (P2A) 를 포함할 때에는 함유량이 가장 많은 것) 와 열 가소성 수지 (P2B) (제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 가 2 종 이상의 열 가소성 수지 (P2B) 를 포함할 때에는 함유량이 가장 많은 것) 가 상이한 경우, 이들 열 가소성 수지가 결정성 수지일 때에는, 이들의 융점의 차가 작은 것이 바람직하다. 융점이 가까운 열 가소성 수지 (P2A) 와 열 가소성 수지 (P2B) 를 조합하여 사용함으로써, 열 용착을 보다 효율적으로 실시할 수 있다.Thermoplastic resin (P 2A ) (when the second thermoplastic resin layer (A-2) contains two or more types of thermoplastic resin (P 2A ), the one with the highest content) and thermoplastic resin (P 2B ) (second thermoplastic resin layer (A-2)) 2. When the thermoplastic resin layer (B-2) contains two or more types of thermoplastic resins (P 2B ), when the content (the one with the highest content) is different, and when these thermoplastic resins are crystalline resins, their melting points are It is desirable for the car to be small. By using a combination of a thermoplastic resin (P 2A ) and a thermoplastic resin (P 2B ) with close melting points, thermal welding can be performed more efficiently.

열 가소성 수지 (P2A) 의 융점과 열 가소성 수지 (P2B) 의 융점의 차는, 바람직하게는 40 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 20 ℃ 이하이고, 특히 바람직하게는 0 ℃ 이다.The difference between the melting point of the thermoplastic resin ( P2A ) and the melting point of the thermoplastic resin ( P2B ) is preferably 40°C or lower, more preferably 20°C or lower, and particularly preferably 0°C.

열 가소성 수지 (P2A) (제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 가 2 종 이상의 열 가소성 수지 (P2A) 를 포함할 때에는 함유량이 가장 많은 것) 와 열 가소성 수지 (P2B) (제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 가 2 종 이상의 열 가소성 수지 (P2B) 를 포함할 때에는 함유량이 가장 많은 것) 가 상이한 경우, 이들의 한센 용해도 파라미터의 상호 작용 거리 Ra 가 작은 것이 바람직하다. 한센 용해도 파라미터의 상호 작용 거리 Ra 가 가까운 열 가소성 수지 (P2A) 와 열 가소성 수지 (P2B) 를 조합하여 사용함으로써, 열 용착을 보다 효율적으로 실시할 수 있다.Thermoplastic resin (P 2A ) (when the second thermoplastic resin layer (A-2) contains two or more types of thermoplastic resin (P 2A ), the one with the highest content) and thermoplastic resin (P 2B ) (second thermoplastic resin layer (A-2)) 2 When the thermoplastic resin layer (B-2) contains two or more types of thermoplastic resins (P 2B ) and the content (the one with the highest content) is different, it is preferable that the interaction distance Ra of their Hansen solubility parameters is small. . By using a combination of a thermoplastic resin (P 2A ) and a thermoplastic resin (P 2B ) having a close interaction distance Ra of the Hansen solubility parameter, thermal welding can be performed more efficiently.

열 가소성 수지 (P2A) 와 열 가소성 수지 (P2B) 의 한센 용해도 파라미터의 상호 작용 거리 Ra 는, 바람직하게는 10 이하, 보다 바람직하게는 4.5 이하이다.The interaction distance Ra of the Hansen solubility parameter between the thermoplastic resin ( P2A ) and the thermoplastic resin ( P2B ) is preferably 10 or less, more preferably 4.5 or less.

본 발명에 있어서 한센 용해도 파라미터의 상호 작용 거리 Ra 는 이하의 식으로부터 도출되는 것이다.In the present invention, the interaction distance Ra of the Hansen solubility parameter is derived from the following equation.

Figure 112020092470389-pct00007
Figure 112020092470389-pct00007

상기 식 중, δDA 는, 열 가소성 수지 (P2A) 의 한센 용해도 파라미터의 분산 성분, δDB 는, 열 가소성 수지 (P2B) 의 한센 용해도 파라미터의 분산 성분, δPA 는, 열 가소성 수지 (P2A) 의 한센 용해도 파라미터의 극성 성분, δPB 는, 열 가소성 수지 (P2B) 의 한센 용해도 파라미터의 극성 성분, δHA 는, 열 가소성 수지 (P2A) 의 한센 용해도 파라미터의 수소 결합 성분, δHB 는, 열 가소성 수지 (P2B) 의 한센 용해도 파라미터의 수소 결합 성분을 나타낸다.In the above formula, δD A is the dispersion component of the Hansen solubility parameter of the thermoplastic resin (P 2A ), δD B is the dispersion component of the Hansen solubility parameter of the thermoplastic resin (P 2B ), and δP A is the dispersion component of the Hansen solubility parameter of the thermoplastic resin (P 2B). The polar component of the Hansen solubility parameter of the thermoplastic resin (P 2A ), δP B is the polar component of the Hansen solubility parameter of the thermoplastic resin (P 2B ), δH A is the hydrogen bonding component of the Hansen solubility parameter of the thermoplastic resin (P 2A ), δH B represents the hydrogen bond component of the Hansen solubility parameter of the thermoplastic resin (P 2B ).

본 발명의 접합 방법에 있어서는, 접합용 적층체 (A) 의 분자 접착제층 (A-M) 은, 피착체 (I) 과의 접착에 이용되고, 접합용 적층체 (B) 의 분자 접착제층 (B-M) 은, 피착체 (II) 와의 접착에 이용된다.In the bonding method of the present invention, the molecular adhesive layer (A-M) of the laminate for bonding (A) is used for adhesion to the adherend (I), and the molecular adhesive layer (B-M) of the laminate for bonding (B) is used for adhesion to the adherend (I). is used for adhesion with the adherend (II).

분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 사이의 접착이나, 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 사이의 접착은, 통상적으로, 분자 접착제 (MA) 또는 (MB) 중의 반응성기 (Zβ) 가, 피착체 (I) 또는 피착체 (II) 를 구성하는 화합물 중의 관능기와 반응하여, 화학 결합이 형성됨으로써 실시된다.Adhesion between the molecular adhesive layer (AM) and the adherend (I) or between the molecular adhesive layer (BM) and the adherend (II) is usually a reaction in the molecular adhesive ( MA ) or (M B ). This is carried out when the group (Zβ) reacts with a functional group in the compound constituting the adherend (I) or the adherend (II), and a chemical bond is formed.

따라서, 통상적으로, 피착체 (I) 또는 피착체 (II) 로는, 반응성기 (Zβ) 와의 반응성을 갖는 기를 그 표면에 갖는 것이 사용된다.Therefore, usually, as the adherend (I) or adherend (II), one having a group reactive with the reactive group (Zβ) on its surface is used.

그러한 피착체로는, 표면에 금속을 포함하는 부재, 표면에 무기물을 포함하는 부재, 표면에 실리콘 수지를 포함하는 부재 등을 들 수 있다.Examples of such an adherend include a member whose surface contains metal, a member whose surface contains an inorganic substance, and a member whose surface contains a silicone resin.

금속으로는, 알루미늄, 크롬, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 은, 금 등을 들 수 있다.Metals include aluminum, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, silver, and gold.

무기물로는, 유리, 무기 산화물 (유리를 제외한다) 등을 들 수 있다.Examples of inorganic materials include glass and inorganic oxides (excluding glass).

이들 부재에 대해서는 표면 처리를 실시해도 된다. 표면 처리에 의해, 하이드록시기나 카르복시기 등이 발생한 부재는, 피착체로서 보다 바람직하게 사용된다.Surface treatment may be performed on these members. A member in which hydroxy groups, carboxyl groups, etc. have been generated through surface treatment is more preferably used as an adherend.

또한, 표면 처리 기술을 이용함으로, 표면에 열 가소성 수지나 열 경화성 수지를 포함하는 부재도 피착체로서 이용할 수 있다.Additionally, by using surface treatment technology, a member whose surface contains a thermoplastic resin or thermosetting resin can also be used as an adherend.

표면 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 전자선 조사 처리, 오존 처리, 엑시머 자외선 처리, 산 처리, 및 염기 처리 등을 들 수 있다. 이들 표면 처리는, 공지된 방법에 따라 실시할 수 있다.Surface treatments include corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, electron beam irradiation treatment, ozone treatment, excimer ultraviolet treatment, acid treatment, and base treatment. These surface treatments can be performed according to known methods.

또한 피착체의 표면에, 필요에 따라 프라이머층을 형성해도 된다.Additionally, a primer layer may be formed on the surface of the adherend as needed.

〔공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군〕[Process group including processes (L1) to (L3)]

공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군의 각 공정을 도 2 에 나타낸다.Each process of the process group including processes (L1) to (L3) is shown in FIG. 2.

공정 (L1) 에 있어서는, 분자 접착제층 (A-M) (8), 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) (9), 및 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) (10) 를 갖는 접합용 적층체 (A) (11) 의 분자 접착제층 (A-M) (8) 과, 피착체 (I) (12) 을 접착하여, 적층체 (13) 를 얻는다 〔도 2(a)〕.In the step (L1), bonding with the molecular adhesive layer (A-M) (8), the first thermoplastic resin layer (A-1) (9), and the second thermoplastic resin layer (A-2) (10) The molecular adhesive layer (A-M) (8) of the laminate (A) (11) and the adherend (I) (12) are bonded to obtain the laminate (13) [FIG. 2(a)].

공정 (L1) 은, 예를 들어, 가열 프레스기, 오토 클레이브 장치, 진공 첩합기, 삼차원 진공 가열 성형기 (TOM 성형기), 가열 라미네이트 장치 등을 사용하여 실시할 수 있다.The process (L1) can be performed using, for example, a heat press machine, an autoclave machine, a vacuum bonding machine, a three-dimensional vacuum heating molding machine (TOM molding machine), a heat laminating machine, etc.

공정 (L1) 에 있어서 선압을 가하는 경우, 그 압력은, 통상적으로 0.1 ∼ 5 N/㎜, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 N/㎜, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 1 N/㎜ 이다.When applying linear pressure in step (L1), the pressure is usually 0.1 to 5 N/mm, preferably 0.2 to 3 N/mm, and more preferably 0.3 to 1 N/mm.

공정 (L1) 에 있어서 면압을 가하는 경우, 그 압력은, 통상적으로 0.1 ∼ 10 ㎫, 바람직하게는 0.2 ∼ 5 ㎫, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 3 ㎫, 더욱 바람직하게는 0.4 ∼ 1 ㎫ 이다.When applying surface pressure in step (L1), the pressure is usually 0.1 to 10 MPa, preferably 0.2 to 5 MPa, more preferably 0.3 to 3 MPa, and still more preferably 0.4 to 1 MPa.

공정 (L1) 에 있어서의 접착 온도는, 통상적으로 40 ∼ 200 ℃, 바람직하게는 50 ∼ 170 ℃, 보다 바람직하게는 60 ∼ 140 ℃ 이다.The adhesion temperature in step (L1) is usually 40 to 200°C, preferably 50 to 170°C, and more preferably 60 to 140°C.

공정 (L1) 의 처리 시간은, 통상적으로 1 초 내지 1 시간, 바람직하게는 5 초 내지 30 분, 보다 바람직하게는 10 초 내지 10 분이다.The processing time of step (L1) is usually 1 second to 1 hour, preferably 5 seconds to 30 minutes, and more preferably 10 seconds to 10 minutes.

공정 (L2) 에 있어서는, 분자 접착제층 (B-M) (14), 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) (15), 및 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) (16) 를 갖는 접합용 적층체 (B) (17) 의 분자 접착제층 (B-M) (14) 과, 피착체 (II) (18) 를 접착하여, 적층체 (19) 를 얻는다 〔도 2(b)〕.In step (L2), bonding having the molecular adhesive layer (B-M) (14), the first thermoplastic resin layer (B-1) (15), and the second thermoplastic resin layer (B-2) (16) The molecular adhesive layer (B-M) 14 of the laminate (B) 17 and the adherend (II) 18 are bonded to obtain the laminate 19 [FIG. 2(b)].

공정 (L2) 는, 공정 (L1) 과 동일한 방법, 동일한 조건에 의해 실시할 수 있다.Step (L2) can be performed by the same method and under the same conditions as step (L1).

공정 (L3) 에 있어서는, 공정 (L1) 에서 얻어진 적층체 (13) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) (10) 와, 공정 (L2) 에서 얻어진 적층체 (19) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) (16) 를 열 용착하여, 접합 구조체 (20) 를 얻는다 〔도 2(c)〕.In step (L3), the second thermoplastic resin layer (A-2) 10 of the laminate 13 obtained in step (L1) and the second row of the laminate 19 obtained in step (L2) The plastic resin layer (B-2) 16 is heat-welded to obtain the bonded structure 20 [FIG. 2(c)].

공정 (L3) 은, 예를 들어, 가열 프레스기, 오토 클레이브 장치, 진공 첩합기, 삼차원 진공 가열 성형기 (TOM 성형기), 가열 라미네이트 장치 등을 사용하여 실시할 수 있다.The step (L3) can be performed using, for example, a heat press machine, an autoclave machine, a vacuum bonding machine, a three-dimensional vacuum heating molding machine (TOM molding machine), a heat laminating machine, etc.

공정 (L3) 에 있어서 선압을 가하는 경우, 그 압력은, 통상적으로 0.1 ∼ 5 N/㎜, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 N/㎜, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 1 N/㎜ 이다.When applying linear pressure in step (L3), the pressure is usually 0.1 to 5 N/mm, preferably 0.2 to 3 N/mm, and more preferably 0.3 to 1 N/mm.

공정 (L3) 에 있어서 면압을 가하는 경우, 그 압력은, 통상적으로 0.05 ∼ 10 ㎫, 바람직하게는 0.1 ∼ 5 ㎫, 보다 바람직하게는 0.2 ∼ 3 ㎫ 이다.When applying surface pressure in step (L3), the pressure is usually 0.05 to 10 MPa, preferably 0.1 to 5 MPa, and more preferably 0.2 to 3 MPa.

공정 (L3) 에 있어서의 열 용착 온도는, 통상적으로 50 ∼ 230 ℃, 바람직하게는 60 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 80 ∼ 170 ℃ 이다.The thermal welding temperature in step (L3) is usually 50 to 230°C, preferably 60 to 200°C, and more preferably 80 to 170°C.

공정 (L3) 의 처리 시간은, 통상적으로 1 초 내지 1 분, 바람직하게는 3 ∼ 30 초이다.The processing time of step (L3) is usually 1 second to 1 minute, preferably 3 to 30 seconds.

공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군을 실시하는 경우, 공정 (L1) 에 있어서, 접합용 적층체 (A) 의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착할 때의 온도가 TL1, 공정 (L2) 에 있어서, 접합용 적층체 (B) 의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착할 때의 온도가 TL2, 공정 (L3) 에 있어서, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착할 때의 온도가 TL3 이고, 접합용 적층체 (A) 의 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1A, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2A 이고, 접합용 적층체 (B) 의 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1B, 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2B 일 때에, 하기 식 (E-1) 과 식 (E-2) 모두 만족하고, 또한, 하기 식 (E-3) 과 식 (E-4) 의 적어도 일방을 만족하는 것이 바람직하다.When carrying out the process group including steps (L1) to (L3), in step (L1), the molecular adhesive layer (AM) of the bonding laminate (A) and the adherend (I) are bonded. The temperature is T L1 , and in step (L2), the temperature at which the molecular adhesive layer (BM) of the bonding laminate (B) and the adherend (II) are bonded is T L2 . In step (L3), the temperature is T L2. The temperature when heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) and the second thermoplastic resin layer (B-2) is T L3 , and the first thermoplastic resin layer (A) of the laminate for joining (A) is The heat sealable temperature of -1) is T h1A , the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (A-2) is T h2A , and the first thermoplastic resin layer (B-) of the bonding laminate (B) is T h2A. 1) When the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (B-2) is T h1B and the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (B-2) is T h2B , both the following equations (E-1) and (E-2) are satisfied. , it is also preferable to satisfy at least one of the following formulas (E-3) and (E-4).

Figure 112020092470389-pct00008
Figure 112020092470389-pct00008

식 (E-1) 을 만족함으로써, 공정 (L1) 에 있어서의, 접합용 적층체 (A) 의 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 의 변형이 억제된다.By satisfying the formula (E-1), deformation of the first thermoplastic resin layer (A-1) of the laminate for bonding (A) in step (L1) is suppressed.

식 (E-2) 를 만족함으로써, 공정 (L2) 에 있어서의, 접합용 적층체 (B) 의 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 의 변형이 억제된다.By satisfying the formula (E-2), deformation of the first thermoplastic resin layer (B-1) of the laminate for bonding (B) in step (L2) is suppressed.

식 (E-3) 과 식 (E-4) 의 적어도 일방을 만족함으로써, 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 효율적으로 열 용착할 수 있다.By satisfying at least one of the formulas (E-3) and (E-4), the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for bonding (A) and the second layer of the laminate for bonding (B) The thermoplastic resin layer (B-2) can be efficiently heat-welded.

접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 보다 효율적으로 열 용착할 수 있는 것으로부터, 식 (E-3) 과 식 (E-4) 모두 만족하는 것이 보다 바람직하다.Because the second thermoplastic resin layer (A-2) of the bonding laminate (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the bonding laminate (B) can be more efficiently heat welded. , it is more preferable to satisfy both equations (E-3) and equations (E-4).

〔공정 (M1) ∼ (M3) 을 포함하는 공정군〕[Process group including processes (M1) to (M3)]

공정 (M1) ∼ (M3) 을 포함하는 공정군의 각 공정을 도 3 에 나타낸다.Each process of the process group including processes (M1) to (M3) is shown in FIG. 3.

공정 (M1) 에 있어서는, 분자 접착제층 (A-M) (21), 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) (22), 및 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) (23) 를 갖는 접합용 적층체 (A) (24) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) (23) 와, 분자 접착제층 (B-M) (25), 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) (26), 및 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) (27) 를 갖는 접합용 적층체 (B) (28) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) (27) 를 열 용착하여, 적층체 (29) 를 얻는다 〔도 3(a)〕.In step (M1), bonding having a molecular adhesive layer (A-M) (21), a first thermoplastic resin layer (A-1) (22), and a second thermoplastic resin layer (A-2) (23) The second thermoplastic resin layer (A-2) (23), the molecular adhesive layer (B-M) (25), and the first thermoplastic resin layer (B-1) (26) of the laminate (A) (24). , and the second thermoplastic resin layer (B-2) (27) of the laminate for joining (B) (28) having the second thermoplastic resin layer (B-2) (27) is thermally welded to form a laminate. (29) is obtained [Figure 3(a)].

공정 (M1) 은, 공정 (L3) 과 동일한 방법, 동일한 조건에 의해 실시할 수 있다.Step (M1) can be performed by the same method and under the same conditions as step (L3).

공정 (M2) 에 있어서는, 공정 (M1) 에서 얻어진 적층체 (29) 의 분자 접착제층 (A-M) (21) 과 피착체 (I) (30) 을 접착하여, 적층체 (31) 를 얻는다 〔도 3(b)〕.In step (M2), the molecular adhesive layer (A-M) 21 of the laminate 29 obtained in step (M1) and the adherend (I) 30 are bonded to obtain the laminate 31 [Figure 3(b)].

공정 (M3) 에 있어서는, 공정 (M2) 에서 얻어진 적층체 (31) 의 분자 접착제층 (B-M) (25) 과 피착체 (II) (32) 를 접착하여, 접합 구조체 (33) 를 얻는다 〔도 3(c)〕.In step (M3), the molecular adhesive layer (B-M) 25 of the laminate 31 obtained in step (M2) and the adherend (II) 32 are bonded to obtain the bonded structure 33 [Figure 3(c)].

공정 (M2), 공정 (M3) 은, 각각, 공정 (L1) 과 동일한 방법, 동일한 조건에 의해 실시할 수 있다.Step (M2) and step (M3) can each be carried out by the same method and under the same conditions as step (L1).

또한, 공정 (M2) 와 공정 (M3) 은 동시에 실시해도 된다. 예를 들어, 피착체 (I) 과 공정 (M1) 에서 얻어진 적층체와 피착체 (II) 를 이 순서로 겹치고, 이것에 대하여 압착 처리를 실시함으로써, 공정 (M2) 와 공정 (M3) 을 동시에 실시할 수 있다.Additionally, step (M2) and step (M3) may be performed simultaneously. For example, the laminate obtained in the adherend (I) and the process (M1) and the adherend (II) are overlapped in this order and subjected to a compression treatment to perform the processes (M2) and (M3) simultaneously. It can be implemented.

〔공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군〕[Process group including processes (N1) and (N2)]

공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군의 각 공정을 도 4 에 나타낸다.Each process of the process group including processes (N1) and (N2) is shown in FIG. 4.

공정 (N1) 에 있어서는, 분자 접착제층 (A-M) (34), 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) (35), 및 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) (36) 를 갖는 접합용 적층체 (A) (37) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) (36) 와, 분자 접착제층 (B-M) (38), 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) (39), 및 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) (40) 를 갖는 접합용 적층체 (B) (41) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) (40) 가 대향하는 배치로, 피착체 (I) (42), 접합용 적층체 (A) (35), 접합용 적층체 (B) (41), 피착체 (II) (43) 를, 이 순서로 겹친다 〔도 4(a)〕.In step (N1), bonding having a molecular adhesive layer (A-M) (34), a first thermoplastic resin layer (A-1) (35), and a second thermoplastic resin layer (A-2) (36) The second thermoplastic resin layer (A-2) (36), the molecular adhesive layer (B-M) (38), and the first thermoplastic resin layer (B-1) (39) of the laminate (A) (37). , and the second thermoplastic resin layer (B-2) 40 of the laminate for joining (B) 41 having the second thermoplastic resin layer (B-2) 40 is arranged to face each other. Complex (I) (42), laminate for bonding (A) (35), laminate for bonding (B) (41), and adherend (II) (43) are overlapped in this order [Figure 4(a)] 〕.

공정 (N2) 에 있어서는, 공정 (N1) 에서 얻어진 것 (44) 을 가열하여, 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 의 접착과, 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 의 접착과, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 열 용착을 동시에 실시하여, 접합 구조체 (45) 를 얻는다 〔도 4(b)〕.In step (N2), the product (44) obtained in step (N1) is heated to bond the molecular adhesive layer (A-M) to the adherend (I) and to bond the molecular adhesive layer (B-M) to the adherend (II). Adhesion and heat welding of the second thermoplastic resin layer (A-2) and the second thermoplastic resin layer (B-2) are performed simultaneously to obtain the bonded structure 45 [FIG. 4(b)].

공정 (N2) 는, 예를 들어, 가열 프레스기, 오토 클레이브 장치, 진공 첩합기, 삼차원 진공 가열 성형기 (TOM 성형기), 가열 라미네이트 장치 등을 사용하여 실시할 수 있다.The process (N2) can be performed using, for example, a heat press machine, an autoclave machine, a vacuum bonding machine, a three-dimensional vacuum heating molding machine (TOM molding machine), a heat laminating machine, etc.

공정 (N2) 에 있어서 선압을 가하는 경우, 그 압력은, 통상적으로 0.1 ∼ 5 N/㎜, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 N/㎜, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 1 N/㎜ 이다.When applying linear pressure in step (N2), the pressure is usually 0.1 to 5 N/mm, preferably 0.2 to 3 N/mm, and more preferably 0.3 to 1 N/mm.

공정 (N2) 에 있어서 면압을 가하는 경우, 그 압력은, 통상적으로 0.1 ∼ 10 ㎫, 바람직하게는 0.2 ∼ 5 ㎫, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 3 ㎫, 더욱 바람직하게는 0.4 ∼ 1 ㎫ 이다.When applying surface pressure in step (N2), the pressure is usually 0.1 to 10 MPa, preferably 0.2 to 5 MPa, more preferably 0.3 to 3 MPa, and still more preferably 0.4 to 1 MPa.

공정 (N2) 에 있어서의 열 용착 온도는, 통상적으로 50 ∼ 230 ℃, 바람직하게는 60 ∼ 200 ℃, 보다 바람직하게는 80 ∼ 170 ℃ 이다.The thermal welding temperature in step (N2) is usually 50 to 230°C, preferably 60 to 200°C, and more preferably 80 to 170°C.

공정 (N2) 의 처리 시간은, 통상적으로 1 초 내지 1 시간, 바람직하게는 5 초 내지 30 분, 보다 바람직하게는 10 초 내지 10 분이다.The processing time of step (N2) is usually 1 second to 1 hour, preferably 5 seconds to 30 minutes, and more preferably 10 seconds to 10 minutes.

공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군을 실시하는 경우, 접합용 적층체 (A) 의 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1A, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2A 이고, 접합용 적층체 (B) 의 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1B, 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2B 이고, 공정 (N2) 에 있어서, 열 용착할 때의 온도가 TN2 일 때에, 하기 식 (E-5) 와 식 (E-6) 의 적어도 일방을 만족하는 것이 바람직하다.When carrying out the process group including steps (N1) and (N2), the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (A-1) of the bonding laminate (A) is T h1A , and the second thermoplastic temperature is T h1A. The heat sealable temperature of the resin layer (A-2) is T h2A , the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (B-1) of the bonding laminate (B) is T h1B , and the second thermoplastic water. When the heat sealable temperature of the stratum (B-2) is T h2B and the temperature at the time of heat welding in step (N2) is T N2 , the following formulas (E-5) and (E-6) It is desirable to satisfy at least one party.

Figure 112020092470389-pct00009
Figure 112020092470389-pct00009

식 (E-5) 와 식 (E-6) 의 적어도 일방을 만족함으로써, 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 효율적으로 열 용착할 수 있다.By satisfying at least one of Formula (E-5) and Formula (E-6), the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for bonding (A) and the second layer of the laminate for bonding (B) The thermoplastic resin layer (B-2) can be efficiently heat-welded.

접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 보다 효율적으로 열 용착할 수 있는 것으로부터, 식 (E-5) 와 식 (E-6) 모두 만족하는 것이 보다 바람직하다.Because the second thermoplastic resin layer (A-2) of the bonding laminate (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the bonding laminate (B) can be more efficiently heat welded. , it is more preferable to satisfy both Equation (E-5) and Equation (E-6).

피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합할 때에는, 상기 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군, 또는, 상기 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군을 실시하는 것이 바람직하다.When bonding the adherend (I) and the adherend (II), a process group including the above steps (L1) to (L3) or a process group including the above steps (N1) and (N2) are performed. It is desirable.

상기 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군에 있어서는, 열 용착 처리를 실시하기 전에, 분자 접착제층과 피착체의 접착 처리가 실시된다. 따라서, 분자 접착제층과 피착체의 접착 처리를, 열 용착 처리에 수반하는 열 가소성 수지층의 열 변형이 발생하고 있지 않은 상태에서 실시할 수 있기 때문에, 분자 접착제층과 피착체를 보다 강고하게 접착할 수 있다.In the process group including the above steps (L1) to (L3), an adhesion treatment between the molecular adhesive layer and the adherend is performed before the thermal welding treatment. Therefore, since the adhesion treatment between the molecular adhesive layer and the adherend can be performed in a state in which thermal deformation of the thermoplastic resin layer accompanying the heat welding process does not occur, the molecular adhesive layer and the adherend can be more strongly bonded. can do.

상기 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군에 있어서는, 분자 접착제층과 피착체의 접착 처리와 열 가소성 수지층끼리의 열 용착 처리가 동시에 실시된다. 따라서, 2 개의 피착체를 보다 효율적으로 접합할 수 있다.In the process group including the above steps (N1) and (N2), the adhesion treatment between the molecular adhesive layer and the adherend and the heat welding treatment between the thermoplastic resin layers are performed simultaneously. Therefore, two adherends can be joined more efficiently.

3) 접합 구조체의 제조 방법3) Manufacturing method of bonded structure

본 발명의 접합 구조체의 제조 방법은, 피착체 (I)/접합용 적층체 (A) 와 접합용 적층체 (B) 유래의 층/피착체 (II), 의 층 구조를 갖는 접합 구조체의 제조 방법으로서, 본 발명의 접합 방법을 사용하여, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 것을 특징으로 한다.The method for producing a bonded structure of the present invention is to manufacture a bonded structure having a layer structure of adherend (I)/laminated body for bonding (A) and layer/adherent (II) derived from the laminate for bonding (B). As a method, the bonding method of the present invention is used to bond the adherend (I) and the adherend (II).

본 발명의 제조 방법에 의하면, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 가, 접합용 적층체를 개재하여 강고하게 접합되어 이루어지는 접합 구조체가 얻어진다.According to the manufacturing method of the present invention, a bonded structure in which the adherend (I) and the adherend (II) are firmly bonded via a bonding laminate is obtained.

피착체 (I) 과 피착체 (II) 로는, 2 개의 피착체를 접합하는 방법의 발명 중에서 나타낸 것을 사용할 수 있다.As the adherend (I) and the adherend (II), those shown in the invention of the method for joining two adherends can be used.

이들 중에서도, 피착체 (I) 및 피착체 (II) 로는, 각각 독립적으로, 금속, 무기물, 및 열 경화성 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을, 적어도 피접착면에 포함하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the adherend (I) and the adherend (II) each independently contain at least one type selected from the group consisting of metals, inorganic substances, and thermosetting resins, at least on the adherend surface.

피착체가 열 가소성 수지로 형성된 피접착면을 갖는 것인 경우, 본 발명의 접합용 적층체를 사용하지 않아도, 피착체끼리를 직접 열 용착하여 접합할 수 있는 경우가 있다.When the adherend has a bonded surface formed of a thermoplastic resin, there are cases where the adherends can be joined by direct heat welding even without using the bonding laminate of the present invention.

한편, 피착체의 피접착면에, 금속, 무기물, 또는 열 경화성 수지가 존재하는 경우, 이 방법에 의해 이들 피착체를 강고하게 접합하는 것은 곤란하다.On the other hand, when metal, inorganic material, or thermosetting resin is present on the adherend surface of the adherend, it is difficult to firmly bond these adherends by this method.

본 발명의 접합 구조체의 제조 방법은, 본 발명의 접합용 적층체를 사용하는 것이다. 따라서, 본 발명의 접합 구조체의 제조 방법에 의하면, 피착체의 피접착면에, 금속, 무기물, 또는 열 경화성 수지가 존재하는 경우에도, 이들 피착체가 강고하게 접합되어 이루어지는 접합 구조체를 얻을 수 있다.The method for manufacturing the bonded structure of the present invention uses the laminate for bonding of the present invention. Therefore, according to the manufacturing method of the bonded structure of the present invention, even when metal, inorganic material, or thermosetting resin is present on the bonded surface of the adherend, it is possible to obtain a bonded structure in which these adherends are firmly bonded.

실시예Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

각 예 중의 부 및 % 는, 특별히 언급이 없는 한, 질량 기준이다.Parts and % in each example are based on mass, unless otherwise specified.

〔다층 필름의 각 층의 히트 시일 가능 온도의 측정〕[Measurement of heat sealable temperature of each layer of multilayer film]

다층 필름 (1) ∼ (5) 의 각 층의 히트 시일 가능 온도는, 이하의 방법에 의해 구하였다.The heat sealable temperature of each layer of the multilayer films (1) to (5) was determined by the following method.

다층 필름 (25 ㎜ × 150 ㎜) 을 2 장 준비하고, 동일한 성분의 층이 대향하도록 이들을 겹쳐, 0.2 ㎫ 로 1 초의 조건으로 이들을 열 용착하여 시험편을 얻었다. 이 때, 열 용착 온도를 5 ℃ 간격 (예를 들어, 140 ℃, 145 ℃, 150 ℃) 으로 바꾸어, 복수의 시험편을 얻었다.Two multilayer films (25 mm × 150 mm) were prepared, overlapped so that the layers of the same component faced each other, and these were heat welded at 0.2 MPa for 1 second to obtain a test piece. At this time, the heat welding temperature was changed at 5°C intervals (e.g., 140°C, 145°C, 150°C) to obtain a plurality of test pieces.

얻어진 시험편의 각각에 대하여 23 ℃, 습도 50 % (상대 습도) 의 환경하에서, 인장 시험기 (주식회사 에이·앤드·디 제조, 제품명 「텐실론 만능 재료 시험기」) 를 사용하여 300 ㎜/분의 조건으로 T 형 박리 시험을 실시하여, 각각의 접착 강도를 측정하였다.Each of the obtained test pieces was tested at 300 mm/min using a tensile tester (manufactured by A&D Co., Ltd., product name “Tensilon Universal Tester”) in an environment of 23°C and 50% humidity (relative humidity). A T-shaped peel test was performed to measure each adhesive strength.

접착 강도가 5 N/25 ㎜ 이상인 시험편 중에서, 열 용착 온도가 가장 낮은 시험편의 열 용착 온도를 「히트 시일 가능 온도」 라고 하였다.Among the test specimens with an adhesive strength of 5 N/25 mm or more, the thermal welding temperature of the test specimen with the lowest thermal welding temperature was referred to as the “heat sealable temperature.”

〔제조예 1〕[Production Example 1]

2 종류의 폴리프로필렌을 성형 재료로서 사용하여, 공압출법에 의해, 「제 1 열 가소성 수지층〔폴리프로필렌 (PP) 두께 60 ㎛〕/제 2 열 가소성 수지층〔폴리프로필렌 (PP) 두께 50 ㎛〕」 의 층 구조의 다층 필름 (1) 을 얻었다. 얻어진 다층 필름 (1) 에 대하여, 각각의 층의 히트 시일 가능 온도를 측정한 결과, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는 170 ℃, 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는 145 ℃ 였다.Using two types of polypropylene as molding materials, by coextrusion method, “first thermoplastic resin layer [polypropylene (PP) thickness 60 μm]/second thermoplastic resin layer [polypropylene (PP) thickness 50 μm]” A multilayer film (1) with a layer structure of [μm] was obtained. As a result of measuring the heat sealable temperature of each layer of the obtained multilayer film (1), the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer was 170 ° C., and the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer was 145 ° C. It was ℃.

〔제조예 2, 5〕[Production Examples 2 and 5]

제 1 표에 기재된 성형 재료를 사용한 것 이외에는, 제조예 1 과 동일하게 하여 다층 필름 (2), (5) 를 얻었다.Multilayer films (2) and (5) were obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the molding materials shown in Table 1 were used.

〔제조예 3〕[Production Example 3]

2 종류의 폴리에틸렌과, 나일론을 성형 재료로서 사용하여, 공압출법에 의해, 「제 1 열 가소성 수지층〔폴리에틸렌 (PE) 두께 25 ㎛〕/제 2 열 가소성 수지층〔나일론 (Ny) 두께 30 ㎛/폴리에틸렌 (PE) 두께 25 ㎛〕」 의 층 구조의 다층 필름 (3) 을 얻었다. 얻어진 다층 필름 (3) 에 대하여, 각각의 층의 히트 시일 가능 온도를 측정한 결과, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는 140 ℃, 제 2 열 가소성 수지층 (폴리에틸렌층) 의 히트 시일 가능 온도는 100 ℃ 였다.Two types of polyethylene and nylon were used as molding materials, and a coextrusion method was used to form “first thermoplastic resin layer [polyethylene (PE) thickness 25 μm]/second thermoplastic resin layer [nylon (Ny) thickness 30 μm]” A multilayer film (3) with a layer structure of [μm/polyethylene (PE) thickness of 25 μm] was obtained. Regarding the obtained multilayer film 3, the heat sealable temperature of each layer was measured, and the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer was 140°C, and the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (polyethylene layer) was 140°C. The possible temperature was 100°C.

〔제조예 4〕[Production Example 4]

폴리에스테르계 접착제를 사용하여, 폴리에틸렌 필름과 에틸렌·아세트산비닐 공중합 수지 필름을 드라이 라미네이트하여, 「제 1 열 가소성 수지층〔폴리에틸렌 (PE) 두께 100 ㎛〕/제 2 열 가소성 수지층〔에틸렌·아세트산비닐 공중합 수지 (EVA) 두께 50 ㎛〕」 의 층 구조의 다층 필름 (4) 를 얻었다. 얻어진 다층 필름 (4) 에 대하여, 각각의 층의 히트 시일 가능 온도를 측정한 결과, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는 140 ℃, 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도는 110 ℃ 였다.Using a polyester adhesive, a polyethylene film and an ethylene/vinyl acetate copolymer resin film are dry laminated to form “first thermoplastic resin layer [polyethylene (PE) thickness 100 µm]/second thermoplastic resin layer [ethylene/acetic acid]. A multilayer film (4) having a layer structure of “vinyl copolymer resin (EVA) with a thickness of 50 μm” was obtained. Regarding the obtained multilayer film 4, the heat-sealable temperature of each layer was measured, and the heat-sealable temperature of the first thermoplastic resin layer was 140°C, and the heat-sealable temperature of the second thermoplastic resin layer was 110°C. It was ℃.

다층 필름 (1) ∼ (5) 의 상세를 제 1 표에 나타낸다.Details of the multilayer films (1) to (5) are shown in Table 1.

또한, 제 1 표 중, 수지 성분명은 이하와 같이 약기하였다.In addition, in Table 1, the resin component names are abbreviated as follows.

폴리프로필렌 : PPPolypropylene: PP

폴리에틸렌 : PEPolyethylene: PE

나일론 : NyNylon: Ny

에틸렌-아세트산비닐 공중합 수지 : EVAEthylene-vinyl acetate copolymer resin: EVA

〔제조예 6〕[Production Example 6]

WO2012/046651호에 기재된 방법에 따라, 6-(3-트리에톡시실릴프로필)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디아지드 (상기 식 (10) 으로 나타내는 화합물, 제 2 표 중, 「PTES」 라고 기재한다) 를 함유하는 분자 접착제 용액 (용매 : 에탄올, 농도 0.1 g/ℓ) 을 얻었다.According to the method described in WO2012/046651, 6-(3-triethoxysilylpropyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diazide (compound represented by formula (10) above, 2 A molecular adhesive solution containing (described as “PTES” in the table) (solvent: ethanol, concentration 0.1 g/l) was obtained.

〔제조 실시예 1〕[Production Example 1]

이하의 방법에 의해, 다층 필름 (1) 을 사용하여 접합용 적층체 (1) 을 제조하였다.The laminate for bonding (1) was manufactured using the multilayer film (1) by the following method.

다층 필름 (1) 의 제 1 열 가소성 수지층에 대하여, 코로나 처리기 (신코 전기 계측 주식회사 제조, 제품명 「코로나·스캐너 ASA-4」, 출력 전압 ; 9 ㎸ (표면 전압), 발진 주파수 : 20 ㎑) 로 코로나 조사를 실시하였다. 이어서, 코로나 조사를 실시한 면에, 제조예 6 에서 얻어진 분자 접착제 용액을 마이어 바 (12 번) 로 도포하고, 얻어진 도막을 80 ℃ 에서 60 초 건조시켰다.For the first thermoplastic resin layer of the multilayer film (1), a corona processor (manufactured by Shinko Electric Measurement Co., Ltd., product name “Corona Scanner ASA-4”, output voltage: 9 kV (surface voltage), oscillation frequency: 20 kHz) A coronavirus survey was conducted. Next, the molecular adhesive solution obtained in Production Example 6 was applied to the surface subjected to corona irradiation using a Meyer bar (No. 12), and the obtained coating film was dried at 80°C for 60 seconds.

이어서, 자외선 조사 장치 (헤레우스 주식회사 제조, 제품명 「라이트 해머 10 MARK II」, 광원 : 수은 램프) 를 사용하여, 이 도막에 자외선을 조사함으로써 고정 처리를 실시하여, 분자 접착제층과, 제 1 열 가소성 수지층 및 제 2 열 가소성 수지층 (다층 필름 (1)) 으로 이루어지는 접합용 적층체 (1) 을 얻었다.Next, using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Heraeus Co., Ltd., product name "Light Hammer 10 MARK II", light source: mercury lamp), a fixing treatment is performed by irradiating ultraviolet rays to this coating film, thereby forming a molecular adhesive layer and a first heat A laminate for bonding (1) consisting of a plastic resin layer and a second thermoplastic resin layer (multilayer film (1)) was obtained.

또한, 자외선 조사 조건은, 조도 84 ㎽/㎠, 광량 29 mJ/㎠ 로 하고, 당해 조도 및 광량은 조도·광량계 (EIT 사 제조, 제품명 「UV Power Puck II」) 를 사용하여 UVC 의 영역의 조도 및 광량을 측정하였다.In addition, the ultraviolet irradiation conditions were set at an illuminance of 84 mW/cm2 and a light quantity of 29 mJ/cm2, and the illuminance and light quantity were measured in the UVC range using an illuminance/photometer (manufactured by EIT, product name “UV Power Puck II”). Illuminance and light quantity were measured.

〔제조 실시예 2 ∼ 4, 제조 비교예 1〕[Manufacturing Examples 2 to 4, Manufacturing Comparative Example 1]

제조 실시예 1 에 있어서, 다층 필름 (1) 대신에, 각각, 제 2 표에 기재된 다층 필름 (2) ∼ (5) 를 사용한 것 이외에는, 제조 실시예 1 과 동일하게 하여, 접합용 적층체 (2) ∼ (5) 를 얻었다.A laminate for bonding was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that instead of the multilayer film (1), the multilayer films (2) to (5) shown in Table 2 were used, respectively. 2) ~ (5) were obtained.

제조 실시예 1 ∼ 4, 제조 비교예 1 에서 얻은 접합용 적층체 (1) ∼ (5) 의 상세를 제 2 표에 나타낸다.Details of the laminates (1) to (5) for bonding obtained in Production Examples 1 to 4 and Production Comparative Example 1 are shown in Table 2.

〔실시예 1〕[Example 1]

제조 실시예 1 에서 얻은 접합용 적층체 (1) (10 ㎜ × 10 ㎜) 2 장과, 피착체〔플라즈마 처리한 유리판 (30 ㎜ × 70 ㎜ × 2 ㎜)〕2 장을 준비하였다.Two sheets of laminate for bonding (1) (10 mm × 10 mm) obtained in Production Example 1 and two sheets of adherend [plasma-treated glass plate (30 mm × 70 mm × 2 mm)] were prepared.

접합용 적층체 (1) 의 분자 접착제층이 유리판의 플라즈마 처리면에 대향하도록, 접합용 적층체 (1) 과 피착체 (유리판) 를 겹치고, 이것을 100 ℃, 0.5 ㎫ (면압) 의 조건으로 5 분간 열 압착하여, 피착체/분자 접착제층/제 1 열 가소성 수지층/제 2 열 가소성 수지층으로 이루어지는 적층체를 얻었다.The bonding laminate (1) and the adherend (glass plate) are overlapped so that the molecular adhesive layer of the bonding laminate (1) faces the plasma-treated surface of the glass plate, and this is applied for 5 hours under the conditions of 100°C and 0.5 MPa (surface pressure). By thermocompression bonding for a minute, a laminate consisting of the adherend/molecular adhesive layer/first thermoplastic resin layer/second thermoplastic resin layer was obtained.

이 조작과는 별도로, 나머지의 접합용 적층체 (1) 과 피착체를 사용하여 동일한 조작을 실시하여, 다른 1 개의 적층체를 얻었다.Separately from this operation, the same operation was performed using the remaining laminate for bonding (1) and the adherend to obtain another laminate.

이어서, 얻어진 2 개의 적층체의 제 2 열 가소성 수지층끼리를, 145 ℃, 0.5 ㎫ (면압) 의 조건으로 10 초간 열 압착하여, 접합 구조체를 얻었다.Next, the second thermoplastic resin layers of the two obtained laminates were thermocompressed for 10 seconds at 145°C and 0.5 MPa (surface pressure) to obtain a bonded structure.

〔실시예 2〕[Example 2]

제조 실시예 2 에서 얻은 접합용 적층체 (2) (10 ㎜ × 10 ㎜) 2 장과, 피착체〔플라즈마 처리한 유리판 (30 ㎜ × 70 ㎜ × 2 ㎜)〕2 장을 준비하였다.Two sheets of laminate for bonding (2) (10 mm × 10 mm) obtained in Production Example 2 and two sheets of adherend [plasma-treated glass plate (30 mm × 70 mm × 2 mm)] were prepared.

2 개의 접합용 적층체 (2) 의 각 분자 접착제층이 유리판의 플라즈마 처리면에 대향하도록, 또한, 2 개의 접합용 적층체 (2) 의 제 2 열 가소성 수지층이 서로 대향하도록, 피착체, 접합용 적층체 (2), 접합용 적층체 (2), 피착체를 이 순서로 겹치고, 이것을 145 ℃, 0.5 ㎫ (면압) 의 조건으로 5 분간 열 압착하여, 접합 구조체를 얻었다.An adherend such that each molecular adhesive layer of the two bonding laminates 2 faces the plasma treated surface of the glass plate, and the second thermoplastic resin layers of the two bonding laminates 2 face each other. The laminate for bonding (2), the laminate for bonding (2), and the adherend were stacked in this order, and this was thermocompressed for 5 minutes under conditions of 145°C and 0.5 MPa (surface pressure) to obtain a bonded structure.

〔실시예 3, 4, 비교예 1〕[Examples 3, 4, Comparative Example 1]

제 3 표에 기재된 접합용 적층체, 및 제조 조건을 사용한 것을 제외하고, 실시예 2 와 동일하게 하여 접합 구조체를 얻었다.A bonded structure was obtained in the same manner as in Example 2, except that the bonding laminate and manufacturing conditions shown in Table 3 were used.

〔비교예 2〕[Comparative Example 2]

제조예 1 에서 얻은 다층 필름 (1) (10 ㎜ × 10 ㎜) 2 장과, 피착체〔플라즈마 처리한 유리판 (30 ㎜ × 70 ㎜ × 2 ㎜)〕2 장을 준비하였다.Two sheets of multilayer film (1) (10 mm × 10 mm) obtained in Production Example 1 and two sheets of adherend [plasma-treated glass plate (30 mm × 70 mm × 2 mm)] were prepared.

2 개의 다층 필름 (1) 의 히트 시일 가능 온도가 170 ℃ 인 층이, 각각, 유리판의 플라즈마 처리면에 대향하도록, 또한, 2 개의 다층 필름 (1) 의 히트 시일 가능 온도가 145 ℃ 인 층이 서로 대향하도록, 피착체, 다층 필름 (1), 다층 필름 (1), 피착체를 이 순서로 겹치고, 이것을 145 ℃, 0.5 ㎫ (면압) 의 조건으로 5 분간 열 압착하여, 접합 구조체를 얻었다.A layer having a heat sealable temperature of 170° C. of the two multilayer films 1 is positioned so as to face the plasma treated surface of the glass plate, respectively, and a layer of the two multilayer films 1 having a heat sealable temperature of 145° C. The adherend, the multilayer film 1, the multilayer film 1, and the adherend were stacked in this order so as to face each other, and this was thermocompressed for 5 minutes under conditions of 145°C and 0.5 MPa (surface pressure) to obtain a bonded structure.

〔접착 강도의 측정〕[Measurement of adhesive strength]

실시예 1 ∼ 4, 비교예 1, 2 에서 얻은 접합 구조체를 시험편으로서 사용하여, 만능 인장 시험기 (인스트론사 제조, 인스트론 5581) 로, 인장 속도 50 ㎜/분의 조건으로 접착 강도를 측정하였다. 또한, 시험 종료 후에 시험편의 상태를 관찰하였다. 결과를 제 3 표에 나타낸다.The bonded structures obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were used as test pieces, and the adhesive strength was measured with a universal tensile tester (Instron 5581, manufactured by Instron) under the condition of a tensile speed of 50 mm/min. . Additionally, the condition of the test piece was observed after the test was completed. The results are shown in Table 3.

또한, 비교예 2 에 있어서는, 피착체와 다층 필름이 충분히 접착되어 있지 않아, 접착 강도를 측정할 수 없었다.Additionally, in Comparative Example 2, the adherend and the multilayer film were not sufficiently adhered, so the adhesive strength could not be measured.

〔형상 변화 평가〕[Evaluation of shape change]

실시예 1 ∼ 4, 비교예 1, 2 에서 얻은 접합 구조체를 시험편으로서 사용하여, 열 압착한 후의 접합용 적층체의 침출을 육안으로 확인하고, 이하의 기준으로 평가하였다.The bonded structures obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were used as test pieces, and the leaching of the bonded laminate after heat compression was visually confirmed and evaluated based on the following criteria.

A : 접합용 적층체의 변형에 의한 단부의 침출을 육안으로 확인할 수 없었다.A: Leaching at the ends due to deformation of the laminate for joining could not be visually confirmed.

F : 접합용 적층체의 변형에 의한 단부의 침출을 육안으로 확인할 수 있었다.F: Leaching at the ends due to deformation of the laminate for joining could be visually confirmed.

제 3 표로부터, 이하를 알 수 있다.From Table 3, the following can be seen.

실시예 1 ∼ 4 에 있어서는, 접착 강도의 측정 후의 시험편에는, 접합용 적층체 유래의 층 내에서의 파괴나, 접합용 적층체 유래의 층과 피착체의 계면에서의 파괴는 발생하지 않았다. 따라서, 실시예 1 ∼ 4 에 있어서는, 2 개의 피착체가 강고하게 접합되어 있는 것을 알 수 있다.In Examples 1 to 4, no destruction occurred within the layer derived from the laminate for bonding or at the interface between the layer derived from the laminate for bonding and the adherend in the test piece after measuring the adhesive strength. Therefore, in Examples 1 to 4, it can be seen that the two adherends are firmly joined.

한편, 비교예 1 에 있어서 사용한 접합용 적층체는, 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도와, 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 동일하다. 이 때문에, 열 압착시에 변형이 발생하였다.On the other hand, in the laminate for bonding used in Comparative Example 1, the heat-sealable temperature of the first thermoplastic resin layer and the heat-sealable temperature of the second thermoplastic resin layer are the same. For this reason, deformation occurred during heat compression.

또한, 비교예 2 에 있어서는, 피착체와 다층 필름이 충분히 접착되어 있지 않다. 따라서, 이 방법으로는 유리판을 접합하는 것은 곤란하다.Additionally, in Comparative Example 2, the adherend and the multilayer film were not sufficiently adhered. Therefore, it is difficult to join glass plates with this method.

1 : 제 1 열 가소성 수지층
2 : 제 2 열 가소성 수지층
3 : 제 1 열 가소성 수지층과 제 2 열 가소성 수지층으로 구성된 적층체
4 : 분자 접착제층
5 : 접합용 적층체
6 : 분자 접착제층과 접하는 측의 표면
7 : 제 1 열 가소성 수지층과는 반대측의 표면
8. 21. 34 : 분자 접착제층 (A-M)
9. 22. 35 : 제 1 열 가소성 수지층 (A-1)
10. 23. 36 : 제 2 열 가소성 수지층 (A-2)
11. 24. 37 : 접합용 적층체 (A)
12. 30. 42 : 피착체 (I)
13 : 공정 (L1) 의 결과물인 적층체
14. 25. 38 : 분자 접착제층 (B-M)
15. 26. 39 : 제 1 열 가소성 수지층 (B-1)
16. 27. 40 : 제 2 열 가소성 수지층 (B-2)
17. 28. 41 : 접합용 적층체 (B)
18. 32. 43 : 피착체 (II)
19 : 공정 (L2) 의 결과물인 적층체
20. 33. 45 : 접합 구조체
29 : 공정 (M1) 의 결과물인 적층체
31 : 공정 (M2) 의 결과물인 적층체
44 : 공정 (N1) 에서 얻어진 것
1: First thermoplastic resin layer
2: Second thermoplastic resin layer
3: Laminate composed of a first thermoplastic resin layer and a second thermoplastic resin layer
4: Molecular adhesive layer
5: Laminate for joining
6: Surface on the side in contact with the molecular adhesive layer
7: Surface opposite to the first thermoplastic resin layer
8. 21. 34: Molecular adhesive layer (AM)
9. 22. 35: First thermoplastic resin layer (A-1)
10. 23. 36: Second thermoplastic resin layer (A-2)
11. 24. 37: Laminate for joining (A)
12. 30. 42: Adhere (I)
13: Laminate resulting from process (L1)
14. 25. 38: Molecular adhesive layer (BM)
15. 26. 39: First thermoplastic resin layer (B-1)
16. 27. 40: Second thermoplastic resin layer (B-2)
17. 28. 41: Laminate for joining (B)
18. 32. 43: Adsorbent (II)
19: Laminate resulting from process (L2)
20. 33. 45: Junction structure
29: Laminate resulting from process (M1)
31: Laminate resulting from process (M2)
44: Obtained in process (N1)

Claims (11)

분자 접착제 (M) 을 포함하는 분자 접착제층, 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층, 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층을 이 순서로 갖고, 상기 분자 접착제층과 제 2 열 가소성 수지층이, 각각 사용시에 있어서의 최외층을 구성하는 접합용 적층체로서,
상기 분자 접착제 (M) 이, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zα) 와, 실란올기, 및 가수 분해 반응에 의해 실란올기를 생성시키는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 반응성기 (Zβ) 를 갖는 화합물이고,
상기 제 1 열 가소성 수지층은, 적어도, 분자 접착제층과 접하는 측의 표면에, 상기 분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와 화학 결합을 형성할 수 있는 반응성 부분 구조 (Zγ) 를 갖는 열 가소성 수지 (P1) 을 포함하는 것이고,
상기 제 1 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th1, 상기 제 2 열 가소성 수지층의 히트 시일 가능 온도가 Th2 일 때에, Th1 > Th2 인 접합용 적층체.
It has a molecular adhesive layer containing a molecular adhesive (M), a first thermoplastic resin layer having a single-layer structure, and a second thermoplastic resin layer having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order, wherein the molecular adhesive layer and the second thermoplastic resin layer have a single-layer structure. A laminate for joining wherein the thermoplastic resin layer constitutes the outermost layer when each is used,
The molecular adhesive (M) contains at least one reactive group (Zα) selected from the group consisting of an amino group, an azide group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, a silanol group, and a hydrolysis reaction. It is a compound having at least one type of reactive group (Zβ) selected from the group consisting of a group that generates a silanol group by,
The first thermoplastic resin layer has, at least on the surface of the side in contact with the molecular adhesive layer, a reactive partial structure (Zγ) capable of forming a chemical bond with the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M). It contains a plastic resin (P 1 ),
When the heat-sealable temperature of the first thermoplastic resin layer is T h1 and the heat-sealable temperature of the second thermoplastic resin layer is T h2 , T h1 > T h2 .
제 1 항에 있어서,
상기 분자 접착제 (M) 이 갖는 반응성기 (Zα) 가, 아미노기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이고, 열 가소성 수지 (P1) 이 갖는 반응성 부분 구조 (Zγ) 가, 하이드록시기, 카르복시기, 알데히드기, 및 아미노기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이거나, 또는 ,
상기 분자 접착제 (M) 이 갖는 반응성기 (Zα) 가, 아지드기이고, 열 가소성 수지 (P1) 이 갖는 반응성 부분 구조 (Zγ) 가, 탄소-탄소 단결합, 탄소-탄소 이중 결합, 및 탄소-수소 단결합으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인, 접합용 적층체.
According to claim 1,
The reactive group (Zα) possessed by the molecular adhesive (M) is at least one selected from the group consisting of an amino group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, and the reactive moiety possessed by the thermoplastic resin (P 1 ) The structure (Zγ) is at least one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an aldehyde group, and an amino group, or,
The reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M) is an azide group, and the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) is a carbon-carbon single bond, a carbon-carbon double bond, and A laminate for joining, which is at least one member selected from the group consisting of carbon-hydrogen single bonds.
제 1 항에 있어서,
상기 분자 접착제 (M) 이, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물인, 접합용 적층체.
Figure 112022003669877-pct00013

(R1 은, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기로 이루어지는 군에서 선택되는 반응성기 (Zα), 또는, 이들 반응성기를 1 이상 갖는 1 가의 기 (단, 아미노기, 아지드기, 메르캅토기, 이소시아네이트기, 우레이도기 및 에폭시기를 제외한다) 를 나타내고, G 는 2 가의 유기기를 나타내고, X 는, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 10 의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내고, Y 는, 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기를 나타낸다. a 는, 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)
According to claim 1,
A laminate for bonding, wherein the molecular adhesive (M) is a compound represented by the following formula (1).
Figure 112022003669877-pct00013

(R 1 is a reactive group (Zα) selected from the group consisting of an amino group, an azide group, a mercapto group, an isocyanate group, a ureido group, and an epoxy group, or a monovalent group having one or more of these reactive groups (however, an amino group, azide group, mercapto group, isocyanate group, ureido group and epoxy group are excluded), G represents a divalent organic group, Y represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. a represents an integer of 1 to 3.)
제 1 항에 있어서,
분자 접착제 (M) 의 반응성기 (Zα) 와, 열 가소성 수지 (P1) 의 반응성 부분 구조 (Zγ) 가 화학 결합을 형성하고 있는, 접합용 적층체.
According to claim 1,
A laminate for joining in which the reactive group (Zα) of the molecular adhesive (M) and the reactive partial structure (Zγ) of the thermoplastic resin (P 1 ) form a chemical bond.
제 1 항에 있어서,
상기 열 가소성 수지 (P1) 이, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀-아세트산비닐계 수지, 올레핀계 아이오노머 수지, 및 폴리에스테르 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인, 접합용 적층체.
According to claim 1,
Bonding, wherein the thermoplastic resin (P 1 ) is at least one selected from the group consisting of olefin resin, cycloolefin resin, acrylic resin, olefin-vinyl acetate resin, olefin ionomer resin, and polyester resin. For laminate.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 열 가소성 수지층은, 적어도 분자 접착제층과는 반대측의 표면에, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 올레핀-아세트산비닐계 수지, 올레핀계 아이오노머 수지, 및 폴리에스테르 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것인, 접합용 적층체.
According to claim 1,
The second thermoplastic resin layer is composed of olefin resin, cycloolefin resin, acrylic resin, olefin-vinyl acetate resin, olefin ionomer resin, and polyester resin, at least on the surface opposite to the molecular adhesive layer. A laminate for joining, comprising at least one member selected from the group consisting of:
2 개의 접합용 적층체를 사용하여, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법으로서,
상기 2 개의 접합용 적층체가, 각각 독립적으로, 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 접합용 적층체이고,
제 1 접합용 적층체를, 분자 접착제 (MA) 를 포함하는 분자 접착제층 (A-M), 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층 (A-1), 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체 (A) 로 나타내고, 제 2 접합용 적층체를, 분자 접착제 (MB) 를 포함하는 분자 접착제층 (B-M), 단층 구조를 갖는 제 1 열 가소성 수지층 (B-1), 및 단층 구조 또는 다층 구조를 갖는 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 이 순서로 갖는 접합용 적층체 (B) 로 나타냈을 때에,
이하의 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군과, 공정 (M1) ∼ (M3) 을 포함하는 공정군과, 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군, 에서 선택되는 어느 공정군을 실시하는 것을 특징으로 하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법.
공정 (L1) : 접합용 적층체 (A) 의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착하는 공정
공정 (L2) : 접합용 적층체 (B) 의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착하는 공정
공정 (L3) : 공정 (L1) 에서 얻어진 적층체의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 공정 (L2) 에서 얻어진 적층체의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착하는 공정
공정 (M1) : 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착하는 공정
공정 (M2) : 공정 (M1) 에서 얻어진 적층체의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착하는 공정
공정 (M3) : 공정 (M2) 에서 얻어진 적층체의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착하는 공정
공정 (N1) : 접합용 적층체 (A) 의 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와, 접합용 적층체 (B) 의 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 가 대향하는 배치로, 피착체 (I), 접합용 적층체 (A), 접합용 적층체 (B), 피착체 (II) 를, 이 순서로 겹치는 공정
공정 (N2) : 공정 (N1) 에서 얻어진 것을 가열하여, 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 의 접착과, 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 의 접착과, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 열 용착을 동시에 실시하는 공정
A method of joining an adherend (I) and an adherend (II) using two bonding laminates, comprising:
The two bonding laminates are each independently the bonding laminate according to any one of claims 1 to 6,
The first laminate for bonding is comprised of a molecular adhesive layer (AM) containing a molecular adhesive ( MA ), a first thermoplastic resin layer (A-1) having a single-layer structure, and a second layer having a single-layer structure or a multi-layer structure. The thermoplastic resin layer (A-2) is represented as a laminate for bonding (A) having this order, and the second laminate for bonding is a molecular adhesive layer (BM) containing a molecular adhesive ( MB ), single layer structure. When represented as a laminate for bonding (B) having a first thermoplastic resin layer (B-1) having a single layer structure or a second thermoplastic resin layer (B-2) having a single-layer structure or a multi-layer structure in this order,
A process group including the following steps (L1) to (L3), a process group including steps (M1) to (M3), and a process group including steps (N1) and (N2). A method for bonding an adherend (I) and an adherend (II), characterized by carrying out a group of processes.
Process (L1): Process of bonding the molecular adhesive layer (AM) of the laminate for bonding (A) and the adherend (I)
Process (L2): Process of bonding the molecular adhesive layer (BM) of the laminate for bonding (B) and the adherend (II)
Step (L3): Heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate obtained in step (L1) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate obtained in step (L2). process
Step (M1): A process of heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for joining (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate for joining (B).
Step (M2): A step of bonding the molecular adhesive layer (AM) of the laminate obtained in step (M1) and the adherend (I).
Step (M3): A step of bonding the molecular adhesive layer (BM) of the laminate obtained in step (M2) and the adherend (II).
Step (N1): An arrangement in which the second thermoplastic resin layer (A-2) of the laminate for joining (A) and the second thermoplastic resin layer (B-2) of the laminate for joining (B) face each other. , a process of overlapping the adherend (I), the laminate for bonding (A), the laminate for bonding (B), and the adherend (II) in this order.
Step (N2): Heating the product obtained in step (N1), adhesion of the molecular adhesive layer (AM) and the adherend (I), adhesion of the molecular adhesive layer (BM) and the adherend (II), and second heat A process of simultaneously heat welding the plastic resin layer (A-2) and the second thermoplastic resin layer (B-2)
제 7 항에 있어서,
상기 공정 (L1) ∼ (L3) 을 포함하는 공정군을 실시하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법으로서,
공정 (L1) 에 있어서, 접합용 적층체 (A) 의 분자 접착제층 (A-M) 과 피착체 (I) 을 접착할 때의 온도가 TL1,
공정 (L2) 에 있어서, 접합용 적층체 (B) 의 분자 접착제층 (B-M) 과 피착체 (II) 를 접착할 때의 온도가 TL2,
공정 (L3) 에 있어서, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 와 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 를 열 용착할 때의 온도가 TL3,
접합용 적층체 (A) 의 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1A, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2A 이고,
접합용 적층체 (B) 의 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1B, 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2B 일 때에,
하기 식 (E-1) 과 식 (E-2) 모두 만족하고, 또한, 하기 식 (E-3) 과 식 (E-4) 의 적어도 일방을 만족하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법.
Figure 112020092470389-pct00014
According to claim 7,
A method for bonding an adherend (I) and an adherend (II), comprising carrying out a group of processes including the above steps (L1) to (L3),
In the step (L1), the temperature when bonding the molecular adhesive layer (AM) of the bonding laminate (A) and the adherend (I) is T L1 ,
In the step (L2), the temperature when bonding the molecular adhesive layer (BM) of the bonding laminate (B) and the adherend (II) is T L2 ,
In step (L3), the temperature when heat welding the second thermoplastic resin layer (A-2) and the second thermoplastic resin layer (B-2) is T L3 ,
The heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (A-1) of the bonding laminate (A) is T h1A , the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (A-2) is T h2A ,
When the heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (B-1) of the bonding laminate (B) is T h1B and the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (B-2) is T h2B ,
An adherend (I) and an adherend ( II) How to join.
Figure 112020092470389-pct00014
제 7 항에 있어서,
상기 공정 (N1), (N2) 를 포함하는 공정군을 실시하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법으로서,
접합용 적층체 (A) 의 제 1 열 가소성 수지층 (A-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1A, 제 2 열 가소성 수지층 (A-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2A 이고,
접합용 적층체 (B) 의 제 1 열 가소성 수지층 (B-1) 의 히트 시일 가능 온도가 Th1B, 제 2 열 가소성 수지층 (B-2) 의 히트 시일 가능 온도가 Th2B 이고,
공정 (N2) 에 있어서, 열 용착할 때의 온도가 TN2 일 때에,
하기 식 (E-5) 와 식 (E-6) 의 적어도 일방을 만족하는, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 방법.
Figure 112020092470389-pct00015
According to claim 7,
A method for bonding an adherend (I) and an adherend (II), comprising carrying out a group of processes including the above steps (N1) and (N2),
The heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (A-1) of the bonding laminate (A) is T h1A , the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (A-2) is T h2A ,
The heat sealable temperature of the first thermoplastic resin layer (B-1) of the bonding laminate (B) is T h1B , the heat sealable temperature of the second thermoplastic resin layer (B-2) is T h2B ,
In step (N2), when the temperature during heat welding is T N2 ,
A method of bonding an adherend (I) and an adherend (II) that satisfies at least one of the following formulas (E-5) and (E-6).
Figure 112020092470389-pct00015
피착체 (I)/접합용 적층체 (A) 와 접합용 적층체 (B) 유래의 층/피착체 (II), 의 층 구조를 갖는 접합 구조체의 제조 방법으로서, 제 7 항에 기재된 방법을 사용하여, 피착체 (I) 과 피착체 (II) 를 접합하는 것을 특징으로 하는, 접합 구조체의 제조 방법.A method for producing a bonded structure having a layer structure of the adherend (I)/laminated body for bonding (A) and the layer/adherent (II) derived from the laminate for bonding (B), comprising the method according to claim 7. A method for producing a bonded structure, characterized in that the adherend (I) and the adherend (II) are bonded using the method. 제 10 항에 있어서,
피착체 (I) 과 피착체 (II) 가, 각각 독립적으로, 금속, 무기물, 또는 열 경화성 수지를, 적어도 피접착면에 포함하는 것인, 접합 구조체의 제조 방법.
According to claim 10,
A method for producing a bonded structure, wherein the adherend (I) and the adherend (II) each independently contain a metal, an inorganic substance, or a thermosetting resin at least on the adherend surface.
KR1020207025273A 2018-03-29 2019-03-28 Laminate for bonding, method for bonding two adherends, and method for manufacturing bonded structure KR102639338B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018063722 2018-03-29
JPJP-P-2018-063722 2018-03-29
PCT/JP2019/013809 WO2019189667A1 (en) 2018-03-29 2019-03-28 Layered product for bonding, method for bonding two adherends, and method for producing bonded structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200136379A KR20200136379A (en) 2020-12-07
KR102639338B1 true KR102639338B1 (en) 2024-02-21

Family

ID=68062049

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207025273A KR102639338B1 (en) 2018-03-29 2019-03-28 Laminate for bonding, method for bonding two adherends, and method for manufacturing bonded structure

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6674594B2 (en)
KR (1) KR102639338B1 (en)
CN (1) CN111902509B (en)
TW (1) TWI811324B (en)
WO (1) WO2019189667A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI747380B (en) 2020-07-15 2021-11-21 南亞塑膠工業股份有限公司 Heat sealable polyester film and method for manufacturing the same
WO2023080183A1 (en) * 2021-11-05 2023-05-11 日東電工株式会社 Molecular bonding sheet and bonding method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029541A1 (en) 2005-09-01 2007-03-15 Sekisui Chemical Co., Ltd. Method for producing laminated glass partially made of plastic plate, and laminated glass
JP2008050541A (en) 2006-08-28 2008-03-06 Iwate Univ Functional molecular adhesive, molecular adhesive resin surface, its preparation method and manufacturing process of plated resin product or printed wiring board

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1029282A (en) * 1996-07-17 1998-02-03 Asahi Glass Co Ltd Laminate and manufacture thereof
JP3755556B2 (en) * 1997-08-01 2006-03-15 株式会社カネカ Method for producing adhesive film
CN101300133A (en) * 2005-09-01 2008-11-05 积水化学工业株式会社 Method for producing laminated glass partially made of plastic plate, and laminated glass
WO2012043631A1 (en) 2010-09-30 2012-04-05 株式会社いおう化学研究所 Bonding method, bondability improving agent, surface modification method, surface modifying agent, and novel compound
JP6214399B2 (en) * 2011-12-16 2017-10-18 リンテック株式会社 Curable resin composition, curable resin molded body, cured resin molded body, production method thereof, and laminate
JP6375946B2 (en) * 2013-01-09 2018-08-22 東レ株式会社 Laminated film
TWI645010B (en) * 2014-03-17 2018-12-21 日商住友化學股份有限公司 Resin film with adhesive and optical laminate using the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029541A1 (en) 2005-09-01 2007-03-15 Sekisui Chemical Co., Ltd. Method for producing laminated glass partially made of plastic plate, and laminated glass
JP2008050541A (en) 2006-08-28 2008-03-06 Iwate Univ Functional molecular adhesive, molecular adhesive resin surface, its preparation method and manufacturing process of plated resin product or printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
CN111902509A (en) 2020-11-06
TWI811324B (en) 2023-08-11
CN111902509B (en) 2022-05-31
KR20200136379A (en) 2020-12-07
TW202003744A (en) 2020-01-16
JPWO2019189667A1 (en) 2020-04-30
JP6674594B2 (en) 2020-04-01
WO2019189667A1 (en) 2019-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201222684A (en) Method for encapsulating an electronic arrangement
JP6452918B1 (en) Adhesive sheet and laminate manufacturing method
KR102639338B1 (en) Laminate for bonding, method for bonding two adherends, and method for manufacturing bonded structure
JP4030897B2 (en) Plastic bonding method
JP5958610B1 (en) Hot melt adhesive sheet, method for producing adhesive structure using the same, and method for peeling
KR102600729B1 (en) Method for joining two adherends and manufacturing method for bonded structure
JP6605779B2 (en) Adhesive sheet and laminate manufacturing method
JP7138406B2 (en) Adhesive composition, adhesive sheet, and sealing body
JP7474095B2 (en) Adhesive sheet and method for using the adhesive sheet
TW202122493A (en) Resin composition and resin sheet
WO2023080183A1 (en) Molecular bonding sheet and bonding method
JP6452919B1 (en) Adhesive sheet and laminate manufacturing method
JP2021161195A (en) Adhesive sheet, and method for using adhesive sheet
TW201413837A (en) Method for manufacturing semiconductor device using energy ray-responsive heat-resistant adhesive sheet
JP5095257B2 (en) Plastic bonding method
JP5758031B1 (en) Laminated sheet manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant