KR102624709B1 - Fluid valve and vacuume chamber having the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 측면에 따르면, 유체의 유량을 조절하는 밸브로서, 내부에 제1 공간이 구비되며 유체가 유입되는 유입구와 유체가 유출되는 유출구가 형성되는 제1 바디와, 제1 바디에 결합되며 내부에 제2 공간이 구비되며 기체가 유출입되는 제1 기체주입구 및 제2 기체주입구가 형성되는 제2 바디를 포함하는 하우징과, 제1 공간에 배치되며 승강에 따라 유입구의 개구율을 조절하는 플레이트와, 일단이 제1 공간에 위치하여 플레이트에 결합되며 타단이 제2 공간에 위치하도록 제1 바디와 제2 바디를 가로질러 배치되는 샤프트와, 샤프트의 타단부가 슬라이딩 가능하게 관통되며 제1 기체주입구 및 제2 기체주입구 사이를 이동하며 샤프트를 승강시키는 제1 피스톤과, 제2 기체주입구 상부에 위치하도록 제1 피스톤 상부에 위치하여 샤프트의 타단부에 결합되는 제2 피스톤을 포함하는, 유체밸브 및 이를 구비하는 진공챔버가 제공된다.According to one aspect of the present invention, there is a valve for controlling the flow rate of a fluid, a first body having a first space therein and an inlet through which the fluid flows in and an outlet through which the fluid flows out, and a valve coupled to the first body; A housing including a second body having a second space inside and forming a first gas inlet and a second gas inlet through which gas flows in and out, a plate disposed in the first space and controlling the opening rate of the inlet according to elevation, and , a shaft disposed across the first body and the second body so that one end is located in the first space and coupled to the plate and the other end is located in the second space, and the other end of the shaft is slidably penetrating and provides a first gas inlet. And a fluid valve comprising a first piston that moves between the second gas inlets and raises and lowers the shaft, and a second piston located above the first piston so as to be located above the second gas inlet and coupled to the other end of the shaft. A vacuum chamber equipped with this is provided.

Description

유체밸브 및 이를 구비하는 진공챔버 {Fluid valve and vacuume chamber having the same}Fluid valve and vacuum chamber having the same}

본 발명은 유체밸브 및 이를 구비하는 진공챔버에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 하나의 진공라인에 설치되어 개폐율을 다단으로 조절할 수 있도록 하여 설치 비용을 절감하고 개폐조절을 용이하게 할 수 있는 유체밸브 및 이를 구비하는 진공챔버에 관한 것이다.The present invention relates to a fluid valve and a vacuum chamber equipped with the same. More specifically, it relates to a fluid valve that is installed in one vacuum line and can adjust the opening/closing rate in multiple stages to reduce installation costs and facilitate opening/closing control, and a vacuum chamber equipped with the same.

유기 전계 발광소자(Organic Luminescence Emitting Device: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.An Organic Luminescence Emitting Device (OLED) is a self-luminous device that uses the electroluminescence phenomenon, which emits light when a current flows through a fluorescent organic compound, and does not require a backlight to apply light to a non-luminescent device. Therefore, it is possible to manufacture a lightweight and thin flat display device.

이러한 유기 전계 발광소자를 이용한 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두 되고 있다.Flat panel displays using such organic electroluminescent devices have a fast response speed and a wide viewing angle, and are emerging as next-generation display devices.

유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 유기층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착하게 된다.In an organic electroluminescent device, except for the anode and cathode electrodes, the remaining organic layers, such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, are made of organic thin films, and these organic thin films are deposited on a substrate using a vacuum thermal evaporation method. It is deposited.

일반적으로 진공열증착방법은 내부가 진공인 진공챔버에서 기판에 대한 증착공정이 진행된다. 진공챔버의 내부를 진공상태로 만들기 위하여, 진공챔버에는 진공챔버 내부의 공기를 흡입하기 위한 진공펌프가 결합된다. 진공펌프와 진공챔버 사이에는 진공라인이 설치되고 진공라인에는 진공라인의 개폐를 위한 밸브가 구비된다. Generally, in the vacuum thermal evaporation method, the deposition process on the substrate is carried out in a vacuum chamber with a vacuum inside. In order to create a vacuum inside the vacuum chamber, a vacuum pump for sucking air inside the vacuum chamber is coupled to the vacuum chamber. A vacuum line is installed between the vacuum pump and the vacuum chamber, and the vacuum line is equipped with a valve for opening and closing the vacuum line.

진공펌프로 진공챔버 내부의 공기를 펌핑하는 과정에서 다량의 공기를 급작스럽게 펌핑하는 경우 진공챔버 내부에 급격한 공기의 흐름이 발생할 수 있으므로 이를 방지하기 위해 진공챔버에 진공라인을 복수 개로 결합하고 각 진공라인에 규격이 다른 밸브를 배치하여 규격이 작은 밸브에서 큰 밸브로 순차적으로 개방하면서 진공챔버 내부의 공기를 펌핑하게 된다.In the process of pumping the air inside the vacuum chamber with a vacuum pump, if a large amount of air is suddenly pumped, a rapid flow of air may occur inside the vacuum chamber. To prevent this, multiple vacuum lines are connected to the vacuum chamber and each vacuum By placing valves of different specifications in the line, the air inside the vacuum chamber is pumped by sequentially opening from the smaller valve to the larger valve.

그런데, 규격이 다른 밸브가 각각 설치된 진공라인을 여러 개 설치하는 경우 설치비용이 과다하고 각 밸브 개폐 조절을 제어하는데 어려움이 있었다.However, when installing multiple vacuum lines each with valves of different specifications, the installation cost was excessive and it was difficult to control the opening and closing of each valve.

대한민국 공개특허공보 제2009-0024844호 (2009.03.10 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 2009-0024844 (published on March 10, 2009)

본 발명은, 하나의 진공라인에 설치되어 개폐율을 다단으로 조절할 수 있도록 하여 설치 비용을 절감하고 개폐조절을 용이하게 할 수 있는 유체밸브 및 이를 구비하는 진공챔버를 제공하는 것이다.The present invention provides a fluid valve that is installed in one vacuum line and can adjust the opening/closing rate in multiple stages to reduce installation costs and facilitate opening/closing control, and a vacuum chamber equipped with the same.

본 발명의 일 측면에 따르면, 유체의 유량을 조절하는 밸브로서, 내부에 제1 공간이 구비되며 유체가 유입되는 유입구와 상기 유체가 유출되는 유출구가 형성되는 제1 바디와, 상기 제1 바디에 결합되며 내부에 제2 공간이 구비되며 기체가 유출입되는 제1 기체주입구 및 제2 기체주입구가 형성되는 제2 바디를 포함하는 하우징과; 상기 제1 공간에 배치되며 승강에 따라 상기 유입구의 개구율을 조절하는 플레이트와; 일단이 제1 공간에 위치하여 상기 플레이트에 결합되며 타단이 제2 공간에 위치하도록 상기 제1 바디와 상기 제2 바디를 가로질러 배치되는 샤프트와; 상기 샤프트의 타단부가 슬라이딩 가능하게 관통되며 상기 제1 기체주입구 및 상기 제2 기체주입구 사이를 이동하며 상기 샤프트를 승강시키는 제1 피스톤과; 상기 제2 기체주입구 상부에 위치하도록 상기 제1 피스톤 상부에 위치하여 상기 샤프트의 타단부에 결합되는 제2 피스톤을 포함하는, 유체밸브가 제공된다. According to one aspect of the present invention, a valve for controlling the flow rate of a fluid, comprising: a first body having a first space therein and an inlet through which the fluid flows in and an outlet through which the fluid flows out; and the first body A housing that is coupled and includes a second body having a second space therein and forming a first gas inlet and a second gas inlet through which gas flows in and out; a plate disposed in the first space and adjusting the opening ratio of the inlet according to elevation; a shaft disposed across the first body and the second body so that one end is located in a first space and coupled to the plate and the other end is located in a second space; a first piston that slides through the other end of the shaft and moves between the first gas inlet and the second gas inlet to elevate and lower the shaft; A fluid valve is provided, including a second piston located above the first piston and coupled to the other end of the shaft so as to be located above the second gas inlet.

상기 플레이트의 면적은 상기 제1 공간의 단면적 보다 작으며, 상기 플레이트의 두께는 상기 유입구의 직경보다 작게 형성될 수 있다.The area of the plate may be smaller than the cross-sectional area of the first space, and the thickness of the plate may be smaller than the diameter of the inlet.

상기 제1 피스톤이 지지되도록 상기 샤프트에는 돌부가 형성될 수 있다.A protrusion may be formed on the shaft to support the first piston.

상기 제2 공간의 내주면에는, 상기 제1 피스톤의 이동을 제한하는 이동방지부재가 형성될 수 있다.A movement prevention member that restricts movement of the first piston may be formed on the inner peripheral surface of the second space.

상기 제1 바디의 내벽과 상기 플레이트 사이에 개재되는 탄성부재를 더 포함할 수 있다.It may further include an elastic member interposed between the inner wall of the first body and the plate.

상기 샤프트가 삽입되며 상기 제1 바디의 내벽과 상기 플레이트 사이에 개재되는 주름관을 더 포함할 수 있다.The shaft is inserted and may further include a corrugated pipe interposed between the inner wall of the first body and the plate.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 내부에 처리공간이 구비되는 챔버바디와; 일단이 상기 처리공간과 연통되는 진공라인과; 상기 진공라인의 타단에 결합되어 상기 챔버바디 내부의 기체를 흡입하는 진공펌프와; 상기 진공라인 상에 설치되고, 상기 진공라인을 통해 흐르는 유체의 유량을 조절하는 상기 유체밸브를 포함하는, 진공챔버가 제공된다.According to another aspect of the present invention, a chamber body having a processing space therein; a vacuum line, one end of which communicates with the processing space; a vacuum pump coupled to the other end of the vacuum line and sucking gas inside the chamber body; A vacuum chamber is provided, which is installed on the vacuum line and includes the fluid valve that regulates the flow rate of fluid flowing through the vacuum line.

본 발명의 실시예에 따른 유체밸브는, 하나의 진공라인에 설치되어 개폐율을 다단으로 조절할 수 있도록 하여 설치 비용을 절감하고 개폐를 용이하게 조절할 수 있다.The fluid valve according to an embodiment of the present invention is installed in one vacuum line and allows the opening/closing rate to be adjusted in multiple stages, thereby reducing installation costs and easily controlling the opening/closing.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브의 간략히 도시한 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브의 완전 폐쇄 모습을 간략히 도시한 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브의 완전 개방된 모습을 간략히 도시한 단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브를 구비하는 진공챔버를 간략히 도시한 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of a fluid valve according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional view schematically showing a fully closed fluid valve according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a cross-sectional view schematically showing a fully opened fluid valve according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a cross-sectional view briefly showing a vacuum chamber equipped with a fluid valve according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Since the present invention can be modified in various ways and can have various embodiments, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all transformations, equivalents, and substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technologies may obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

이하, 본 발명에 따른 유체밸브의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the fluid valve according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description with reference to the accompanying drawings, identical or corresponding components are assigned the same drawing numbers and overlapping descriptions thereof. will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브의 간략히 도시한 단면도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브의 완전 폐쇄 모습을 간략히 도시한 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브의 완전 개방된 모습을 간략히 도시한 단면도이고, 이다.1 is a schematic cross-sectional view of a fluid valve according to an embodiment of the present invention. Figure 2 is a cross-sectional view briefly showing a fully closed state of a fluid valve according to an embodiment of the present invention, and Figure 3 is a cross-sectional view briefly showing a fully open state of a fluid valve according to an embodiment of the present invention. .

도 1 내지 도 3에는, 유체밸브(10), 제1 공간(12), 유입구(14), 유출구(16), 제1 바디(18), 제2 공간(20), 제1 기체주입구(22), 제2 기체주입구(24), 제2 바디(26), 하우징(28), 플레이트(30), 샤프트(32), 제1 피스톤(34), 제2 피스톤(36), 돌부(38), 이동방지부재(40), 주름관(42), 탄성부재(44)가 도시되어 있다.1 to 3, a fluid valve 10, a first space 12, an inlet 14, an outlet 16, a first body 18, a second space 20, and a first gas inlet 22. ), second gas inlet (24), second body (26), housing (28), plate (30), shaft (32), first piston (34), second piston (36), protrusion (38) , the movement prevention member 40, the corrugated pipe 42, and the elastic member 44 are shown.

본 실시예에 따른 유체밸브(10)는, 유체의 유량을 조절하는 밸브로서, 내부에 제1 공간(12)이 구비되며 유체가 유입되는 유입구(14)와 상기 유체가 유출되는 유출구(16)가 형성되는 제1 바디(18)와, 상기 제1 바디(18)에 결합되며 내부에 제2 공간(20)이 구비되며 기체가 유출입되는 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24)가 형성되는 제2 바디(26)를 포함하는 하우징(28)과; 상기 제1 공간(12)에 배치되며 승강에 따라 상기 유입구(14)의 개구율을 조절하는 플레이트(30)와; 일단이 제1 공간(12)에 위치하여 상기 플레이트(30)에 결합되며 타단이 제2 공간(20)에 위치하도록 상기 제1 바디(18)와 상기 제2 바디(26)를 가로질러 배치되는 샤프트(32)와; 상기 샤프트(32)의 타단부가 슬라이딩 가능하게 관통되며 상기 제1 기체주입구(22) 및 상기 제2 기체주입구(24) 사이를 이동하며 상기 샤프트(32)를 승강시키는 제1 피스톤(34)과; 상기 제2 기체주입구(24) 상부에 위치하도록 상기 제1 피스톤(34) 상부에 위치하여 상기 샤프트(32)의 타단부에 결합되는 제2 피스톤(36)을 포함한다.The fluid valve 10 according to this embodiment is a valve that controls the flow rate of fluid, and is provided with a first space 12 inside, an inlet 14 through which the fluid flows in, and an outlet 16 through which the fluid flows out. A first body 18 is formed, and a first gas inlet 22 and a second gas inlet 24 are coupled to the first body 18 and have a second space 20 therein, and through which gas flows in and out. ) and a housing 28 including a second body 26 formed; a plate 30 disposed in the first space 12 and adjusting the opening ratio of the inlet 14 according to elevation; One end is located in the first space 12 and coupled to the plate 30, and the other end is disposed across the first body 18 and the second body 26 so as to be located in the second space 20. shaft 32; A first piston 34 that slides through the other end of the shaft 32 and moves between the first gas inlet 22 and the second gas inlet 24 to raise and lower the shaft 32. ; It includes a second piston 36 that is located above the first piston 34 and coupled to the other end of the shaft 32 so as to be located above the second gas inlet 24.

하우징(28)은, 내부에 제1 공간(12)이 구비되며 유체가 유입되는 유입구(14)와 상기 유체가 유출되는 유출구(16)가 형성되는 제1 바디(18)와, 상기 제1 바디(18)에 결합되며 내부에 제2 공간(20)이 구비되며 기체가 유출입되는 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24)가 형성되는 제2 바디(26)를 포함한다. The housing 28 includes a first body 18 having a first space 12 therein and an inlet 14 through which fluid flows in and an outlet 16 through which the fluid flows out. It is coupled to (18) and has a second space 20 therein, and includes a second body 26 in which a first gas inlet 22 and a second gas inlet 24 through which gas flows in and out are formed.

제1 바디(18)의 제1 공간(12)에는 후술할 플레이트(30)가 배치되고 제1 공간(12)을 따라 플레이트(30)가 상하부로 이동한다. 플레이트(30)의 상하 이동에 따라 밸브의 개폐율이 달라지게 된다.A plate 30, which will be described later, is disposed in the first space 12 of the first body 18, and the plate 30 moves up and down along the first space 12. The opening/closing rate of the valve varies depending on the vertical movement of the plate 30.

유체가 유입되는 유입구(14)는 제1 공간(12)과 연통되도록 제1 바디(18)의 측벽에 형성되고, 유출구(16)는 제1 공간(12)과 연통되도록 제1 바디(18)의 바닥에 형성되어 유입구(14)를 통해 제1 공간(12)으로 유입된 유체는 유출구(16)를 통해 배출된다. 여기서, 유체는 액체나 기체를 포함한다. The inlet 14 through which fluid flows is formed on the side wall of the first body 18 to communicate with the first space 12, and the outlet 16 is formed in the first body 18 to communicate with the first space 12. The fluid formed at the bottom of and flowing into the first space 12 through the inlet 14 is discharged through the outlet 16. Here, the fluid includes liquid or gas.

제2 바디(26)는 제1 바디(18)의 상부에 결합되며, 내부에 제2 공간(20)이 구비되어 있다. 제2 바디(26)의 측벽에는 상하 방향으로 이격되어 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24)가 형성되어 있으며, 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24)를 통하여 기체가 제2 공간(20)으로 유입된다.The second body 26 is coupled to the upper part of the first body 18 and has a second space 20 therein. A first gas inlet 22 and a second gas inlet 24 are formed on the side wall of the second body 26, spaced apart in the vertical direction, and the first gas inlet 22 and the second gas inlet 24 are formed. Gas flows into the second space (20).

제2 바디(26)의 제2 공간(20)에는 후술할 제1 피스톤(34) 및 제2 피스톤(36)이 배치되어 있으며, 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24)로 유입되는 기체의 양을 조절하여 제1 피스톤(34) 및 제2 피스톤(36)의 위치가 조절된다.A first piston 34 and a second piston 36, which will be described later, are disposed in the second space 20 of the second body 26, and are connected to the first gas inlet 22 and the second gas inlet 24. The positions of the first piston 34 and the second piston 36 are adjusted by controlling the amount of incoming gas.

플레이트(30)는, 제1 바디(18)의 제1 공간(12)에 배치되며 승강에 따라 유입구(14)의 개구율을 조절한다. 제1 바디(18)의 제1 공간(12)과 제2 바디(26)의 제2 공간(20)을 샤프트(32)가 관통하여 배치되는데, 제1 공간(12)에 위치하는 샤프트(32)의 일단에 플레이트(30)가 결합되어 샤프트(32)의 상하이동에 따라 플레이트(30)가 제1 공간(12) 상을 이동하면서 제1 바디(18)에 형성된 유입구(14)의 개구율을 조절하게 된다. 여기서, 개구율이란, 플레이트(30)가 유입구(14)를 가로질러 배치되어 있을 때, 유입구(14)의 단면적에서 플레이트(30)가 유입구(14)를 가린 면적을 뺀 값을 유입구(14)의 단면적으로 나눈 값을 의미한다.The plate 30 is disposed in the first space 12 of the first body 18 and adjusts the opening ratio of the inlet 14 according to the elevation. A shaft 32 is disposed to penetrate the first space 12 of the first body 18 and the second space 20 of the second body 26, and the shaft 32 is located in the first space 12. ) is coupled to one end of the plate 30 so that the plate 30 moves on the first space 12 according to the vertical movement of the shaft 32 and changes the opening ratio of the inlet 14 formed in the first body 18. It will be controlled. Here, the opening ratio refers to the value obtained by subtracting the area that the plate 30 covers the inlet 14 from the cross-sectional area of the inlet 14 when the plate 30 is disposed across the inlet 14. It means the value divided by the cross-sectional area.

한편, 플레이트(30)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 공간(12)의 단면적보다 작은 면적으로 형성되고 두께가 유입구(14)의 직경보다 작게 형성될 수 있다. 이 경우, 유입구(14)를 통해 유입된 유체는 플레이트(30)를 기준으로 플레이트(30)의 상측 및 하측로 유입되는데, 플레이트(30)의 상측으로 유입된 유체는 제1 공간(12)의 내주면과 플레이트(30)의 외주면 사이의 공간을 통과하여 플레이트(30)의 하부의 제1 공간(12)으로 이동한 후 유출구(16)를 통하여 유출되고, 플레이트(30)의 하측으로 유입된 유체는 바로 플레이트(30)의 하부의 제1 공간(12)으로 이동하여 유출구(16)로 유출된다. 따라서, 제1 공간(12)의 내주면과 플레이트(30)의 외주면 사이의 공간이 일정하기 때문에, 플레이트(30)의 하측으로 유입된 유체의 유량에 따라 밸브의 개폐율이 달라진다.Meanwhile, as shown in FIG. 1, the plate 30 may be formed to have an area smaller than the cross-sectional area of the first space 12 and a thickness smaller than the diameter of the inlet 14. In this case, the fluid flowing in through the inlet 14 flows into the upper and lower sides of the plate 30 based on the plate 30, and the fluid flowing into the upper side of the plate 30 flows into the first space 12. The fluid passes through the space between the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the plate 30, moves to the first space 12 at the bottom of the plate 30, flows out through the outlet 16, and flows into the lower side of the plate 30. It immediately moves to the first space 12 at the bottom of the plate 30 and flows out through the outlet 16. Therefore, since the space between the inner peripheral surface of the first space 12 and the outer peripheral surface of the plate 30 is constant, the opening/closing rate of the valve varies depending on the flow rate of the fluid flowing into the lower side of the plate 30.

샤프트(32)는, 일단이 제1 공간(12)에 위치하여 상기 플레이트(30)에 결합되며 타단이 제2 공간(20)에 위치하도록 제1 바디(18)와 제2 바디(26)를 가로질러 배치된다. 샤프트(32)는, 제2 공간(20)에 위치하는 제1 피스톤(34) 및 제2 피스톤(36)의 상하 이동에 따라 제1 공간(12)에 위치하는 플레이트(30)가 연동되어 상하로 이동하도록 플레이트(30), 제1 피스톤(34), 제2 피스톤(36)을 연결한다. The shaft 32 connects the first body 18 and the second body 26 so that one end is located in the first space 12 and is coupled to the plate 30, and the other end is located in the second space 20. placed across. The shaft 32 is connected so that the plate 30 located in the first space 12 moves up and down according to the vertical movement of the first piston 34 and the second piston 36 located in the second space 20. The plate 30, the first piston 34, and the second piston 36 are connected to move.

제1 피스톤(34)은, 샤프트(32)의 타단부가 슬라이딩 가능하게 관통되며 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24) 사이를 이동하며 샤프트(32)를 승강시킨다. The first piston 34 slides through the other end of the shaft 32 and moves between the first gas inlet 22 and the second gas inlet 24 to raise and lower the shaft 32.

제1 피스톤(34)은 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24) 사이를 이동하면서 제1 공간(12)에 위치하는 플레이트(30)가 유입구(14)의 일부를 개방하게 된다. 제1 피스톤(34)은 제2 공간(20)의 하단에 형성된 제1 기체주입구(22)의 상부에 위치하여 제1 기체주입구(22)를 통해 기체를 주입함에 따라 주입되는 기체의 압력에 의해 제1 피스톤(34)이 상부로 이동하게 된다. 제1 피스톤(34)의 상부로 이동함에 따라 샤프트(32)가 상부로 이동하고, 이에 따라 플레이트(30)가 제1 공간(12)을 따라 이동하면서 유입구(14)의 일부를 개방한다.The first piston 34 moves between the first gas inlet 22 and the second gas inlet 24, and the plate 30 located in the first space 12 opens a part of the inlet 14. . The first piston 34 is located at the upper part of the first gas inlet 22 formed at the bottom of the second space 20 and is operated by the pressure of the injected gas as gas is injected through the first gas inlet 22. The first piston 34 moves upward. As the first piston 34 moves upward, the shaft 32 moves upward, and accordingly, the plate 30 moves along the first space 12 and opens a portion of the inlet 14.

샤프트(32)가 제1 피스톤(34)에 슬라이딩 가능하게 관통하기 때문에 제1 피스톤(34)의 상승에 따라 샤프트(32)가 상승되도록 샤프트(32)에는 제1 피스톤(34)의 상단이 지지되는 돌부(38)가 형성될 수 있다.Since the shaft 32 slides through the first piston 34, the upper end of the first piston 34 is supported on the shaft 32 so that the shaft 32 rises as the first piston 34 rises. A protrusion 38 may be formed.

유입구(14)의 일부만을 개방하기 위해 제1 피스톤(34)은 제2 기체주입구(24)의 하부에 위치하도록 이동 거리가 제한된다. 제1 피스톤(34)의 이동 거리가 제한됨에 따라 제1 피스톤(34)의 이동으로 플레이트(30)가 유입구(14)를 완전히 개방되지 못하고 일부만 개방하게 된다.In order to open only a portion of the inlet 14, the movement distance of the first piston 34 is limited so that it is located at the lower part of the second gas inlet 24. As the movement distance of the first piston 34 is limited, the movement of the first piston 34 causes the plate 30 to not completely open the inlet 14 but only partially opens it.

제1 피스톤(34)의 이동 거리의 제한은 제2 기체주입구(24)를 통해 주입되는 기체의 압력과 제1 기체주입구(22)를 통해 주입되는 기체의 압력을 조절하여 제1 피스톤(34)의 이동거리를 제한할 수 있다.The limitation of the moving distance of the first piston 34 is to adjust the pressure of the gas injected through the second gas inlet 24 and the pressure of the gas injected through the first gas inlet 22 to control the first piston 34. The movement distance can be limited.

본 실시예에서는 제1 피스톤(34)의 이동거리를 제한하기 위하여 제2 기체주입구(24)의 하부의 제2 공간(20)의 내주면에 이동방지부재(40)를 설치한 형태를 제시한다. 제1 기체주입구(22)를 통해 기체를 주입함에 따라 주입되는 기체의 압력에 의해 제1 피스톤(34)이 상부를 이동하다가 제2 기체주입구(24)의 하부에 위치하는 이동방지부재(40)에 의해 제1 피스톤(34)의 이동이 제한된다.In this embodiment, a movement prevention member 40 is installed on the inner peripheral surface of the second space 20 below the second gas inlet 24 to limit the moving distance of the first piston 34. As gas is injected through the first gas inlet 22, the first piston 34 moves upward due to the pressure of the injected gas, and then the movement prevention member 40 is located at the bottom of the second gas inlet 24. The movement of the first piston 34 is limited by this.

제2 피스톤(36)은, 제2 기체주입구(24) 상부에 위치하도록 제1 피스톤(34) 상부에 위치하여 샤프트(32)의 타단부에 결합된다. 제2 피스톤(36)은 제2 공간(20)에 형성된 제2 기체주입구(24)의 상부에 위치하여 제2 기체주입구(24)를 통해 기체를 주입함에 따라 기체의 압력에 의해 제2 피스톤(36)이 상부로 이동하게 된다. 제2 피스톤(36)의 상부로 이동함에 따라 샤프트(32)가 다시 상부로 이동하고, 이에 따라 플레이트(30)가 제1 공간(12)을 따라 상부로 이동하면서 유입구(14)를 완전히 개방한다. The second piston 36 is located above the first piston 34 so as to be located above the second gas inlet 24 and is coupled to the other end of the shaft 32. The second piston 36 is located at the upper part of the second gas inlet 24 formed in the second space 20, and as gas is injected through the second gas inlet 24, the second piston ( 36) moves to the top. As the second piston 36 moves upward, the shaft 32 moves upward again, and accordingly, the plate 30 moves upward along the first space 12 and completely opens the inlet 14. .

제2 피스톤(36)의 상승 과정에서, 샤프트(32)는 제1 피스톤(34)을 슬라이딩 가능하게 관통되어 제2 피스톤(36)에 결합되어 있기 때문에 제1 피스톤(34)을 관통한 샤프트(32)는 제2 피스톤(36)의 상승에 의해 제1 피스톤(34)에 대해 슬라이딩되면서 상부로 이동하게 된다.During the rising process of the second piston 36, the shaft 32 slides through the first piston 34 and is coupled to the second piston 36, so that the shaft (32) penetrates the first piston 34. 32) moves upward while sliding with respect to the first piston 34 due to the rise of the second piston 36.

한편, 제1 바디(18)의 내벽과 플레이트(30) 사이에는 탄성부재(44)가 개재될 수 있다. 도 1을 참조하면, 탄성부재(44)는 플레이트(30) 상면과 제1 공간(12)의 상부벽 사이에 개재되어 탄성부재(44)의 탄성력에 의해 플레이트(30)가 하향 이동하면서 유출구(16)를 폐쇄하게 된다. Meanwhile, an elastic member 44 may be interposed between the inner wall of the first body 18 and the plate 30. Referring to Figure 1, the elastic member 44 is interposed between the upper surface of the plate 30 and the upper wall of the first space 12, and the plate 30 moves downward due to the elastic force of the elastic member 44, forming an outlet ( 16) will be closed.

본 실시예에서는 탄성부재(44)로서 압축 스프링을 사용한 형태를 제시하며, 제1 공간(12)에 위치하는 샤프트(32)가 압축스프링을 관통한 상태에서 압축스프링이 플레이트(30)의 상면과 제1 공간(12)의 내벽 사이에 배치될 수 있다.In this embodiment, a form using a compression spring is presented as the elastic member 44, and in a state where the shaft 32 located in the first space 12 penetrates the compression spring, the compression spring is connected to the upper surface of the plate 30. It may be placed between the inner walls of the first space 12.

그리고, 제1 바디(18)의 내벽과 플레이트(30) 사이에는 주름관(42)이 개재되어 결합될 수 있다. 샤프트(32)가 내부를 관통하도록 주름관(42)의 일단은 제1 바디(18)의 내벽에 결합되고 타단은 플레이트(30)의 상면에 결합되어, 제1 공간(12)에 유입된 유체가 제2 공간(20)으로 새어나가는 것을 방지한다.In addition, a corrugated pipe 42 may be interposed between the inner wall of the first body 18 and the plate 30 to couple them. One end of the corrugated pipe 42 is coupled to the inner wall of the first body 18 and the other end is coupled to the upper surface of the plate 30 so that the shaft 32 penetrates the inside, so that the fluid flowing into the first space 12 Prevents leakage into the second space (20).

이하에서는 도 1 내지 도 3을 참조하여 밸프의 개폐 과정을 살펴보기로 한다.Hereinafter, the opening and closing process of the valve will be looked at with reference to FIGS. 1 to 3.

도 2은 본 실시예 따른 유체밸브(10)가 폐쇄된 상태가 도시되어 있고, 도 1은 유체밸브(10)가 일부 개방된 상태를 도시하고 있으며, 도 3은, 유체밸브(10)가 완전 개방된 상태가 도시되어 있다. Figure 2 shows the fluid valve 10 in a closed state according to this embodiment, Figure 1 shows the fluid valve 10 in a partially open state, and Figure 3 shows the fluid valve 10 in a completely opened state. An open state is shown.

먼저, 도 2을 참조하면, 플레이트(30)의 상면과 제1 공간(12)의 내벽 사이에 개재된 탄성부재(44)의 탄성력에 의해 플레이트(30)가 하향 이동하여 제1 공간(12)의 바닥부에 형성된 유출구(16)가 패쇄되어 있다. First, referring to FIG. 2, the plate 30 moves downward due to the elastic force of the elastic member 44 interposed between the upper surface of the plate 30 and the inner wall of the first space 12 to enter the first space 12. The outlet 16 formed at the bottom is closed.

도 1 및 도 3을 참조하여 유체밸브(10)의 개방 과정을 살펴보면, 플레이트(30)가 유출구(16)를 폐쇄한 상태에서 제1 피스톤(34) 하부의 제2 공간(20)에 제1 기체주입구(22)를 통해 기체를 주입하면 주입되는 기체의 압력에 의해 제1 피스톤(34)이 상부로 이동하게 된다. 제1 피스톤(34)이 상부로 이동하는 과정에서 제2 기체주입구(24)의 하부에 위치하는 이동방지부재(40)에 의해 제1 피스톤(34)의 이동이 제한되어 샤프트(32)의 일단에 결합된 플레이트(30)가 상향으로 이동하여 유입구(14)의 일부를 개방한다. 유입구(14)의 일부가 개방됨에 따라 유체밸브(10)는 일부 개방이 이루어진다. Looking at the opening process of the fluid valve 10 with reference to FIGS. 1 and 3, in a state in which the plate 30 closes the outlet 16, the first piston 34 enters the second space 20 below the first piston 34. When gas is injected through the gas inlet 22, the first piston 34 moves upward due to the pressure of the injected gas. In the process of the first piston 34 moving upward, the movement of the first piston 34 is restricted by the movement prevention member 40 located at the bottom of the second gas inlet 24, so that one end of the shaft 32 The plate 30 coupled to moves upward to open a portion of the inlet 14. As the inlet 14 is partially opened, the fluid valve 10 is partially opened.

다음에, 유체밸브(10)가 일부 개방된 상태에서, 제1 피스톤(34)과 제2 피스톤(36)에 의해 구획되는 제2 공간(20)에 제2 기체주입구(24)를 통해 기체를 주입하면 주입되는 기체의 압력에 의해 제2 피스톤(36)이 상부로 이동하게 된다. 제2 피스톤(36)의 상부로 이동함에 따라 샤프트(32)가 다시 상부로 이동하고, 이에 따라 플레이트(30)가 제1 공간(12)을 따라 다시 상부로 이동하면서 유입구(14)를 완전히 개방한다. 제2 피스톤(36)의 상승 과정에서, 제1 피스톤(34)을 관통한 샤프트(32)는 제1 피스톤(34)에 대해 슬라이딩되면서 상부로 이동하게 된다. 제2 피스톤(36)의 상승에 의해 유입구(14)의 전체가 개방에 따라 유체밸브(10)는 완전 개방이 이루어진다.Next, with the fluid valve 10 partially open, gas is supplied through the second gas inlet 24 into the second space 20 divided by the first piston 34 and the second piston 36. When injected, the second piston 36 moves upward due to the pressure of the injected gas. As the second piston 36 moves upward, the shaft 32 moves upward again, and thus the plate 30 moves upward again along the first space 12, completely opening the inlet 14. do. During the rising process of the second piston 36, the shaft 32 passing through the first piston 34 moves upward while sliding with respect to the first piston 34. As the second piston 36 rises, the entire inlet 14 is opened, thereby completely opening the fluid valve 10.

한편, 유체밸브(10)를 폐쇄하는 과정은, 플레이트(30)가 유입구(14)의 일부를 개방하거나 전체를 개방 상태에서 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24)에서 기체를 흡입하여 제2 공간(20)에서 기체를 빼내면 플레이트(30) 상면과 제1 공간(12)의 상부벽 사이에 개재된 탄성부재(44)의 탄성력에 의해 플레이트(30)가 하향 이동하면서 유출구(16)를 폐쇄하여 유체밸브(10)가 패쇄된다. Meanwhile, in the process of closing the fluid valve 10, the plate 30 releases gas from the first gas inlet 22 and the second gas inlet 24 in a state in which part of the inlet 14 is opened or the entire inlet 14 is opened. When the gas is sucked out of the second space 20, the plate 30 moves downward due to the elastic force of the elastic member 44 interposed between the upper surface of the plate 30 and the upper wall of the first space 12, and the outlet exits. By closing (16), the fluid valve (10) is closed.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유체밸브(10)를 구비하는 진공챔버(60)를 간략히 도시한 단면도이다. 도 4에는, 챔버바디(46), 진공라인(48), 진공펌프(50), 유체밸브(10), 처리공간(52)이 도시되어 있다.Figure 4 is a cross-sectional view briefly showing a vacuum chamber 60 equipped with a fluid valve 10 according to an embodiment of the present invention. 4, a chamber body 46, a vacuum line 48, a vacuum pump 50, a fluid valve 10, and a processing space 52 are shown.

본 실시예에 따른 진공챔버(60)는, 내부에 처리공간(52)이 구비되는 챔버바디(46)와; 일단이 상기 처리공간(52)과 연통되는 진공라인(48)과; 상기 진공라인(48)의 타단에 결합되어 상기 챔버바디(46) 내부의 기체를 흡입하는 진공펌프(50)와; 상기 진공라인(48) 상에 설치되고, 상기 진공라인(48)을 통해 흐르는 유체의 유량을 조절하는 유체밸브(10)를 포함한다.The vacuum chamber 60 according to this embodiment includes a chamber body 46 having a processing space 52 therein; a vacuum line (48) whose end is in communication with the processing space (52); a vacuum pump (50) coupled to the other end of the vacuum line (48) to suck gas inside the chamber body (46); It is installed on the vacuum line 48 and includes a fluid valve 10 that controls the flow rate of the fluid flowing through the vacuum line 48.

챔버바디(46)는, 내부에 처리공간(52)이 구비되어 있으며, 처리공간(52) 상에서 기판에 대한 증착이 이루어진다. 기판에 대한 증착은 처리공간(52)이 진공인 상태에서 이루어지며 후술한 진공펌프(50)에 의해 처리공간(52) 내부의 공기를 외부로 배출하여 처리공간(52)을 진공상태로 만들게 된다.The chamber body 46 is provided with a processing space 52 therein, and deposition on a substrate is performed on the processing space 52. Deposition on the substrate is performed in a vacuum state in the processing space 52, and the air inside the processing space 52 is discharged to the outside by the vacuum pump 50, which will be described later, to make the processing space 52 in a vacuum state. .

진공라인(48)은, 일단이 처리공간(52)과 연통되도록 결합되며 타단에는 진공펌프(50)가 결합된다. 진공펌프(50)의 펌핑에 의해 처리공간(52) 내부의 공기가 진공라인(48)을 통해 외부로 배출된다.One end of the vacuum line 48 is connected to the processing space 52, and a vacuum pump 50 is connected to the other end. By pumping by the vacuum pump 50, the air inside the processing space 52 is discharged to the outside through the vacuum line 48.

진공펌프(50)는 진공라인(48)의 타단에 연결되며, 진공라인(48)을 통해 챔버바디(46)의 처리공간(52) 내부의 공기를 흡입하여 처리공간(52)을 진공상태로 만들게 된다. The vacuum pump 50 is connected to the other end of the vacuum line 48, and suctions air inside the processing space 52 of the chamber body 46 through the vacuum line 48 to make the processing space 52 in a vacuum state. It will be made.

진공펌프(50)로 처리공간(52) 내부의 공기를 펌핑하는 과정에서 다량의 공기를 급작스럽게 펌핑하는 경우 진공챔버(60) 내부에 급격한 공기의 흐름이 발생할 수 있으므로 진공펌프(50)에 의한 처리공간(52)의 펌핑은 소량의 공기에서 다량의 공기를 서서히 흡입하면서 펌핑하여야 한다.If a large amount of air is suddenly pumped in the process of pumping the air inside the processing space 52 with the vacuum pump 50, a rapid air flow may occur inside the vacuum chamber 60, so the vacuum pump 50 Pumping of the processing space 52 must be done while slowly sucking in a large amount of air from a small amount of air.

유체밸브(10)는, 진공라인(48) 상에 설치되고, 개폐량의 조절에 따라 진공라인(48)을 통해 외부로 배출되는 유체의 유량을 다단으로 조절한다. The fluid valve 10 is installed on the vacuum line 48, and adjusts the flow rate of fluid discharged to the outside through the vacuum line 48 in multiple stages according to the adjustment of the opening and closing amount.

상술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 유체밸브(10)는 제1 기체주입구(22) 및 제2 기체주입구(24)를 통한 기체의 주입에 따라 유체밸브(10)의 개폐량을 다단으로 조절할 수 있어, 진공펌프(50)에 의한 펌핑과정에서 유체밸브(10)의 개폐량을 서서히 늘려 펌핑함으로써 처리공간(52)의 공기의 급격한 흐름을 방지할 수 있다. As described above, the fluid valve 10 according to the present embodiment can adjust the opening and closing amount of the fluid valve 10 in multiple stages according to the injection of gas through the first gas inlet 22 and the second gas inlet 24. Therefore, a rapid flow of air in the processing space 52 can be prevented by gradually increasing the opening and closing amount of the fluid valve 10 during the pumping process using the vacuum pump 50.

즉, 제1 기체주입구(22)를 통해 기체를 주입하여 유체밸브(10)의 일부를 개방한 상태에서 진공펌프(50)에서 소량의 공기를 펌핑하고, 다시 제2 기체주입구(24)를 통해 기체를 주입하여 유체밸브(10)를 완전히 개방한 상태에서 진공펌프(50)에서 다량의 공기를 펌핑하여 처리공간(52)의 공기의 급격한 흐름을 방지할 수 있다.That is, gas is injected through the first gas inlet 22, a small amount of air is pumped from the vacuum pump 50 while part of the fluid valve 10 is opened, and then again through the second gas inlet 24. A rapid flow of air in the processing space 52 can be prevented by pumping a large amount of air from the vacuum pump 50 while the fluid valve 10 is fully opened by injecting gas.

이상에서는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 쉽게 이해할 수 있을 것이다.Although the present invention has been described above with reference to embodiments, those skilled in the art can modify the present invention in various ways without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. It will be easy to understand that and can be changed.

10: 유체밸브 12: 제1 공간
14: 유입구 16: 유출구
18: 제1 바디 20: 제2 공간
22: 제1 기체주입구 24: 제2 기체주입구
26: 제2 바디 28: 하우징
30: 플레이트 32: 샤프트
34: 제1 피스톤 36: 제2 피스톤
38: 돌부 40: 이동방지부재
42: 주름관 44: 탄성부재
46: 챔버바디 48: 진공라인
50: 진공펌프 52: 처리공간
60: 진공챔버10: fluid valve 12: first space
14: inlet 16: outlet
18: first body 20: second space
22: first gas inlet 24: second gas inlet
26: second body 28: housing
30: plate 32: shaft
34: first piston 36: second piston
38: Protrusion 40: Movement prevention member
42: Corrugated pipe 44: Elastic member
46: Chamber body 48: Vacuum line
50: Vacuum pump 52: Processing space
60: Vacuum chamber

Claims (7)

유체의 유량을 조절하는 밸브로서,
내부에 제1 공간이 구비되며 유체가 유입되는 유입구와 상기 유체가 유출되는 유출구가 형성되는 제1 바디와, 상기 제1 바디에 결합되며 내부에 제2 공간이 구비되며 기체가 유출입되는 제1 기체주입구 및 제2 기체주입구가 형성되는 제2 바디를 포함하는 하우징과;
상기 제1 공간에 배치되며 승강에 따라 상기 유입구의 개구율을 조절하는 플레이트와;
일단이 제1 공간에 위치하여 상기 플레이트에 결합되며 타단이 제2 공간에 위치하도록 상기 제1 바디와 상기 제2 바디를 가로질러 배치되는 샤프트와;
상기 샤프트의 타단부가 슬라이딩 가능하게 관통되며 상기 제1 기체주입구에 기체를 주입시킴에 따라 상기 샤프트를 상기 제1 기체주입구 및 상기 제2 기체주입구 사이를 승강시켜 상기 유입구의 일부를 개방하는 제1 피스톤과;
상기 제2 공간의 내주면에 형성되며, 상기 제1 피스톤의 이동을 제한하는 이동방지부재와;
상기 제2 기체주입구 상부에 위치하도록 상기 제1 피스톤 상부에 위치하여 상기 샤프트의 타단부에 결합되며, 상기 제2 기체주입구에 기체를 주입시킴에 따라 상기 제1 피스톤을 슬라이딩되면서 관통한 상기 샤프트를 상승시켜 상기 유입구를 완전 개방하는 제2 피스톤을 포함하는, 유체밸브.
A valve that regulates the flow rate of fluid,
A first body having a first space inside and an inlet through which fluid flows in and an outlet through which the fluid flows out, and a first body coupled to the first body and having a second space inside and through which gas flows in and out. a housing including a second body in which an inlet and a second gas inlet are formed;
a plate disposed in the first space and adjusting the opening ratio of the inlet according to elevation;
a shaft disposed across the first body and the second body so that one end is located in a first space and coupled to the plate and the other end is located in a second space;
The other end of the shaft is slidably penetrating, and as gas is injected into the first gas inlet, the shaft is raised and lowered between the first gas inlet and the second gas inlet to open a portion of the inlet. Piston and;
a movement prevention member formed on the inner peripheral surface of the second space and restricting movement of the first piston;
It is located above the first piston so as to be located above the second gas inlet and is coupled to the other end of the shaft. As gas is injected into the second gas inlet, the shaft slides and penetrates the first piston. A fluid valve comprising a second piston that rises to fully open the inlet.
 제1항에 있어서,
상기 플레이트의 면적은 상기 제1 공간의 단면적 보다 작으며, 상기 플레이트의 두께는 상기 유입구의 직경보다 작은 것을 특징으로 하는, 유체밸브.
According to paragraph 1,
A fluid valve, characterized in that the area of the plate is smaller than the cross-sectional area of the first space, and the thickness of the plate is smaller than the diameter of the inlet.
 제1항에 있어서,
상기 제1 피스톤이 지지되도록 상기 샤프트에는 돌부가 형성되는 것을 특징으로 하는, 유체밸브.
According to paragraph 1,
A fluid valve, characterized in that a protrusion is formed on the shaft to support the first piston.
 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 바디의 내벽과 상기 플레이트 사이에 개재되는 탄성부재를 더 포함하는, 유체밸브.
According to paragraph 1,
A fluid valve further comprising an elastic member interposed between the inner wall of the first body and the plate.
 제1항에 있어서,
상기 샤프트가 삽입되며 상기 제1 바디의 내벽과 상기 플레이트 사이에 개재되는 주름관을 더 포함하는, 유체밸브.
According to paragraph 1,
The fluid valve further includes a corrugated pipe into which the shaft is inserted and interposed between the inner wall of the first body and the plate.
 내부에 처리공간이 구비되는 챔버바디와;
일단이 상기 처리공간과 연통되는 진공라인과;
상기 진공라인의 타단에 결합되어 상기 챔버바디 내부의 기체를 흡입하는 진공펌프와;
상기 진공라인 상에 설치되고, 상기 진공라인을 통해 흐르는 유체의 유량을 조절하는 제1항 내지 제3항, 제5항, 제6항 중 어느 한 항에 따른 유체밸브를 포함하는, 진공챔버.A chamber body having a processing space therein;
A vacuum line, one end of which communicates with the processing space;
a vacuum pump coupled to the other end of the vacuum line and sucking gas inside the chamber body;
A vacuum chamber including a fluid valve according to any one of claims 1 to 3, 5, and 6, which is installed on the vacuum line and controls a flow rate of fluid flowing through the vacuum line.
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