KR102614453B1 - High pressure wafer processing apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 피처리 기판을 수용하도록 형성되는 내부 하우징과, 상기 내부 하우징을 개폐하도록 형성되는 내부 도어를 구비하는 내부 챔버; 상기 내부 챔버를 수용하는 외부 하우징과, 상기 외부 하우징을 폐쇄하는 닫힘 상태와 상기 외부 하우징을 개방하는 열림 상태 간에 이동하도록 형성되는 외부 도어를 구비하는 외부 챔버; 및 상기 내부 챔버 내에서 상기 피처리 기판의 처리를 위한 공정 가스가 대기압보다 높은 제1 압력을 갖는 경우에 상기 외부 챔버 내에서 보호 가스가 상기 제1 압력과 관련해 설정되며 대기압 보다 높은 제2 압력으로 유지되게 하기 위해서, 상기 닫힘 상태에서 상기 외부 하우징과 상기 외부 도어를 체결하며 상기 열림 상태로 전환시에는 상기 외부 도어가 직선 경로를 따라 이동하도록 허용하는 체결 모듈을 포함하는, 고압 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention includes an inner chamber having an inner housing formed to accommodate a substrate to be processed, and an inner door formed to open and close the inner housing; an outer chamber having an outer housing accommodating the inner chamber and an outer door configured to move between a closed state to close the outer housing and an open state to open the outer housing; and when the process gas for processing the substrate to be processed in the inner chamber has a first pressure higher than atmospheric pressure, a protective gas in the outer chamber is set in relation to the first pressure and has a second pressure higher than atmospheric pressure. Provided is a high-pressure substrate processing apparatus, including a fastening module that fastens the outer housing and the outer door in the closed state and allows the outer door to move along a straight path when transitioning to the open state so as to maintain the outer housing and the outer door in the closed state. do.
Description
본 발명은 고압 환경에서 기판을 처리하는데 사용되는 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to processing equipment used to process substrates in high pressure environments.
일반적으로, 반도체 소자의 제조 공정이 진행되는 동안에는 반도체 기판에는 다양한 처리가 수행된다. 상기 처리의 예로서는, 산화, 질화, 실리사이드, 이온 주입, 및 증착 공정 등이 있다. 반도체 소자의 계면 특성을 개선하기 위한 수소 또는 중수소 열처리 공정도 있다. Generally, during the manufacturing process of a semiconductor device, various treatments are performed on the semiconductor substrate. Examples of such treatments include oxidation, nitriding, silicide, ion implantation, and deposition processes. There is also a hydrogen or deuterium heat treatment process to improve the interface properties of semiconductor devices.
기판에 대한 처리에 사용되는 가스는 챔버에 고압으로 공급되어, 반도체 기판에 작용하게 된다. 챔버를 고압으로 유지하기 위해서는, 챔버의 하우징은 도어에 의해 확실하게 닫혀야 한다. The gas used to process the substrate is supplied to the chamber at high pressure and acts on the semiconductor substrate. To maintain the chamber at high pressure, the chamber's housing must be securely closed by a door.
챔버의 닫힘 상태가 고압 가스에 의해 느슨하게 되면, 하우징과 도어 간에 틈이 생길 수 있다. 이러한 틈은 챔버 내의 가스가 외부로 유출되는 통로가 될 수 있다. If the closed state of the chamber is loosened by high-pressure gas, a gap may form between the housing and the door. These gaps may serve as passages through which gas within the chamber leaks to the outside.
본 발명의 일 목적은, 챔버 내의 높은 압력에도 하우징과 도어 간의 닫힘 상태를 견고하게 유지할 수 있게 하는, 고압 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a high-pressure substrate processing device that can firmly maintain a closed state between the housing and the door even under high pressure within the chamber.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 고압 기판 처리 장치는, 피처리 기판을 수용하도록 형성되는 내부 챔버; 상기 내부 챔버를 수용하는 외부 하우징과, 상기 외부 하우징을 폐쇄하는 닫힘 상태와 상기 외부 하우징을 개방하는 열림 상태 간에 이동하도록 형성되는 외부 도어를 구비하는 외부 챔버; 및 상기 내부 챔버 내에서 상기 피처리 기판의 처리를 위한 공정 가스가 대기압 보다 높은 제1 압력을 갖는 경우에 상기 외부 챔버 내에서 보호 가스가 상기 제1 압력과 관련해 설정되며 대기압 보다 높은 제2 압력으로 유지되게 하기 위해서, 상기 닫힘 상태에서 상기 외부 하우징과 상기 외부 도어를 체결하도록 형성되는 체결 모듈을 포함하고, 상기 체결 모듈은, 상기 닫힘 상태에서 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 하나를 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나에 대해 가압하는 제1 자세와, 상기 외부 도어가 상기 닫힘 상태에서 상기 열림 상태로 직선 경로를 따라 이동하는 것을 허용하는 제2 자세 간에 이동되도록 형성되는 가압 유닛; 및 상기 가압 유닛을 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 전환하기 위해, 상기 가압 유닛을 구동하도록 형성되는 구동 유닛을 포함하고, 상기 가압 유닛은, 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 하나에 대응하는 지지부; 및 상기 지지부에 연결되고, 상기 구동 유닛에 맞물려서 회전 구동되는 피동부를 포함할 수 있다. A high-pressure substrate processing apparatus according to one aspect of the present invention for realizing the above-described object includes an internal chamber formed to accommodate a substrate to be processed; an outer chamber having an outer housing accommodating the inner chamber and an outer door configured to move between a closed state to close the outer housing and an open state to open the outer housing; and when the process gas for processing the substrate to be processed in the inner chamber has a first pressure higher than atmospheric pressure, a protective gas in the outer chamber is set in relation to the first pressure and has a second pressure higher than atmospheric pressure. and a fastening module configured to fasten the outer housing and the outer door in the closed state to maintain the outer housing and the outer door in the closed state. a pressing unit configured to move between a first posture pressing against another of the exterior doors and a second posture allowing the exterior door to move along a straight path from the closed state to the open state; and a driving unit configured to drive the pressing unit to switch the pressing unit between the first posture and the second posture, wherein the pressing unit corresponds to one of the external housing and the external door. support part; And it may include a driven part connected to the support part and driven to rotate by engaging the driving unit.
여기서, 상기 가압 유닛은, 상기 외부 도어의 주면의 중심을 지나며 상기 주면에 수직한 중심축과 다른 회전축을 중심으로 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 회전 이동되게 형성될 수 있다. Here, the pressing unit may be formed to rotate between the first posture and the second posture about a rotation axis that passes through the center of the main surface of the external door and is different from a central axis perpendicular to the main surface.
여기서, 상기 구동 유닛의 구동에 의해 상기 가압 유닛이 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 하나를 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나에 대해 가압하는 힘의 작용 방향은, 상기 외부 도어의 주면을 포함하는 평면을 관통하는 방향일 수 있다. Here, the direction of action of the force by which the pressing unit presses one of the outer housing and the outer door against the other one of the outer housing and the outer door by driving the driving unit includes the main surface of the outer door. It may be a direction that passes through the plane.
여기서, 상기 지지부는, 상기 가압 유닛의 일 단부측 영역이고, 상기 피동부는, 상기 가압 유닛의 타 단부측 영역이며, 상기 지지부의 연장 방향에 대해 교차하는 방향을 따라 배열될 수 있다. Here, the support part is an area near one end of the pressing unit, and the driven part is an area near the other end of the pressing unit, and may be arranged along a direction intersecting the extension direction of the support part.
여기서, 상기 구동 유닛은, 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나의 길이 방향을 따라 승강하며, 상기 피동부를 구동하도록 형성되는 승강형 구동기를 포함할 수 있다. Here, the driving unit may include a lifting type driver configured to lift and lower the other one of the external housing and the external door along the longitudinal direction and drive the driven part.
여기서, 상기 승강형 구동기는, 승강 또는 하강함에 따라, 상기 피동부를 상기 외부 하우징에서 멀어지는 방향으로 밀어내는 것일 수 있다. Here, the lifting type driver may push the driven part in a direction away from the external housing as it moves up or down.
여기서, 상기 승강형 구동기는, 상기 피동부와 맞물리는 쐐기면을 더 포함할 수 있다. Here, the lifting type actuator may further include a wedge surface engaged with the driven part.
여기서, 상기 승강형 구동기는, 상기 피동부와의 마찰을 저감하는 윤활 부재를 더 포함할 수 있다. Here, the lifting type actuator may further include a lubricating member that reduces friction with the driven part.
여기서, 상기 승강형 구동기는, 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나를 감싸도록 설치되는 회전 링; 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나의 외주면에 형성되는 제1 나사산; 및 상기 회전 링의 내주면에 형성되고, 상기 제1 나사산에 맞물리는 제2 나사산을 더 포함할 수 있다. Here, the lifting type driver includes a rotating ring installed to surround the other one of the outer housing and the outer door; a first screw thread formed on the outer peripheral surface of the other one of the outer housing and the outer door; And it may further include a second screw thread formed on the inner peripheral surface of the rotating ring and engaged with the first screw thread.
본 발명의 다른 일 측면에 따른 고압 기판 처리 장치는, 피처리 기판을 수용하도록 형성되는 하우징과, 상기 하우징을 폐쇄하는 닫힘 상태와 상기 하우징을 개방하는 열림 상태 간에 이동하도록 형성되는 도어를 구비하는 챔버; 및 상기 챔버 내에서 상기 피처리 기판의 처리를 위한 가스의 압력이 유지되도록, 상기 닫힘 상태에서 상기 하우징과 상기 도어를 체결하는 체결 모듈을 포함하고, 상기 체결 모듈은, 상기 닫힘 상태에서 상기 하우징 및 상기 도어 중 하나를 상기 하우징 및 상기 도어 중 다른 하나에 대해 가압하는 제1 자세와, 상기 도어가 상기 닫힘 상태에서 상기 열림 상태로 직선 경로를 따라 이동하는 것을 허용하는 제2 자세 간에 이동되도록 형성되는 가압 유닛; 및 상기 가압 유닛을 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 전환하기 위해, 상기 가압 유닛을 구동하도록 형성되는 구동 유닛을 포함하고, 상기 가압 유닛은, 상기 하우징 및 상기 도어 중 하나에 대응하는 지지부; 및 상기 지지부에 연결되고, 상기 구동 유닛에 의해 회전 구동되는 피동부를 포함할 수 있다. A high-pressure substrate processing apparatus according to another aspect of the present invention includes a chamber having a housing formed to accommodate a substrate to be processed, and a door formed to move between a closed state to close the housing and an open state to open the housing. ; and a fastening module that fastens the housing and the door in the closed state to maintain the pressure of gas for processing the substrate in the chamber, wherein the fastening module connects the housing and the door in the closed state. configured to move between a first posture that presses one of the doors against the housing and the other of the doors and a second posture that allows the door to move along a straight path from the closed state to the open state. pressurization unit; and a driving unit configured to drive the pressing unit to switch the pressing unit between the first posture and the second posture, wherein the pressing unit includes: a support portion corresponding to one of the housing and the door; And it may include a driven part connected to the support part and driven to rotate by the driving unit.
여기서, 상기 가압 유닛은, 상기 도어의 주면의 중심을 지나며 상기 주면에 수직한 중심축과 다른 회전축을 중심으로 회전 이동되도록 형성되고, 상기 구동 유닛은, 상기 가압 유닛을 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 회전 구동할 수 있다. Here, the pressing unit is formed to rotate around a rotation axis that passes through the center of the main surface of the door and is different from a central axis perpendicular to the main surface, and the driving unit moves the pressing unit in the first posture and the first position. It can be rotated between two postures.
여기서, 상기 구동 유닛은, 상기 챔버의 길이 방향을 따라 하강 또는 승강됨에 의해, 상기 가압 유닛을 상기 하우징에서 멀어지는 방향으로 밀어내는 쐐기면을 포함할 수 있다. Here, the driving unit may include a wedge surface that pushes the pressing unit in a direction away from the housing by being lowered or lifted along the longitudinal direction of the chamber.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 고압 기판 처리 장치에 의하면, 기판과 고압의 가스를 수용하는 하우징과 도어는 체결 모듈에 의해 체결된 상태를 유지하는데, 체결 모듈은 닫힘 상태에서 하우징과 도어 중 하나를 다른 하나에 대해 가압하는 제1 자세와 도어가 직선 경로를 따라 열림 상태로 이동하는 것을 허용하는 제2 자세 간에 이동되는 것이기에, 챔버 내의 높은 압력에도 하우징과 도어 간의 체결 상태는 견고하게 유지되면서도 체결 모듈은 챔버의 의도된 개방시에는 장애가 되지는 않는다. According to the high-pressure substrate processing apparatus according to the present invention configured as described above, the housing and the door containing the substrate and high-pressure gas are maintained in a fastened state by a fastening module, and the fastening module is one of the housing and the door in the closed state. Since the door is moved between a first posture that presses the door against the other and a second posture that allows the door to move to the open state along a straight path, the fastening state between the housing and the door is maintained firmly and the fastening is maintained despite the high pressure in the chamber. The module does not interfere with the intended opening of the chamber.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고압 기판 처리 장치(100)에 대한 개념도이다.
도 2는 도 1의 고압 기판 처리 장치(100)의 열림 상태를 보인 단면도이다.
도 3은 도 1의 고압 기판 처리 장치(100)의 닫힘 상태에서 체결 모듈(150)의 일 상태를 보인 부분 단면도이다.
도 4는 도 1의 고압 기판 처리 장치(100)의 닫힘 상태에서 체결 모듈(150)의 다른 일 상태를 보인 부분 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 고압 기판 처리 장치(200)에 대한 부분 단면도이다.
도 6은 도 5의 고압 기판 처리 장치(200)의 다른 상태를 보인 부분 단면도이다.Figure 1 is a conceptual diagram of a high-pressure
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the high pressure
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a state of the
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing another state of the
Figure 5 is a partial cross-sectional view of a high-pressure
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing another state of the high-pressure
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조로 하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 다양한 변경을 가할 수 있고 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라, 어느 하나의 실시예의 구성과 다른 실시예의 구성을 서로 치환하거나 부가하는 것은 물론 본 발명의 기술적 사상과 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be subject to various changes and may be implemented in various different forms. Only this example is provided to ensure that the disclosure of the present invention is complete and to fully inform those skilled in the art of the scope of the invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but substitutes or adds to the configuration of one embodiment and the configuration of another embodiment, as well as all changes and equivalents included in the technical spirit and scope of the present invention. It should be understood to include substitutes.
첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 도면에서 구성요소들은 이해의 편의 등을 고려하여 크기나 두께가 과장되게 크거나 작게 표현될 수 있으나, 이로 인해 본 발명의 보호범위가 제한적으로 해석되어서는 아니 될 것이다.The attached drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and the technical idea disclosed in the present specification is not limited by the attached drawings, and all changes and equivalents included in the spirit and technical scope of the present invention are not limited to the attached drawings. It should be understood to include water or substitutes. In the drawings, components may be expressed exaggeratedly large or small in size or thickness for convenience of understanding, etc., but the scope of protection of the present invention should not be construed as limited due to this.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예나 실시예를 설명하기 위해 사용되는 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 그리고 단수의 표현은, 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 명세서에서 ~포함하다, ~이루어진다 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이다. 즉 명세서에서 ~포함하다, ~이루어진다 등의 용어는 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들이 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in this specification are only used to describe specific implementations or examples, and are not intended to limit the invention. And singular expressions include plural expressions, unless the context clearly dictates otherwise. In the specification, terms such as ~include, ~consist of, etc. are intended to indicate the existence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or a combination thereof described in the specification. That is, in the specification, terms such as ~include, ~consist of, etc. should be understood as not precluding the existence or addition possibility of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms containing ordinal numbers, such as first, second, etc., may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어"있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.When a component is said to be "connected" or "connected" to another component, it is understood that it may be directly connected or connected to the other component, but that other components may exist in between. It should be. On the other hand, when it is mentioned that a component is “directly connected” or “directly connected” to another component, it should be understood that there are no other components in between.
어떤 구성요소가 다른 구성요소의 "상부에 있다"거나 "하부에 있다"고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소의 바로 위에 배치되어 있는 것뿐만 아니라 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.When a component is referred to as being "on top" or "below" another component, it should be understood that not only is it placed directly on top of the other component, but there may also be other components in between. .
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains. Terms defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and unless explicitly defined in the present application, should not be interpreted in an ideal or excessively formal sense. No.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고압 기판 처리 장치(100)에 대한 개념도이다.Figure 1 is a conceptual diagram of a high-pressure
본 도면을 참조하면, 고압 기판 처리 장치(100)는, 내부 챔버(110), 외부 챔버(120), 급기 모듈(130), 및 배기 모듈(140)을 포함할 수 있다. Referring to this drawing, the high-pressure
내부 챔버(110)는 처리를 위한 대상물을 수용하는 수용 공간을 형성한다. 내부 챔버(110)는 고온과 고압의 작업 환경에서 오염을 감소시키기 위해 비금속재, 예를 들어 석영으로 제작될 수 있다. 내부 챔버(110)의 외측에 배치되는 히터(미도시)의 작동에 따라, 내부 챔버(110)의 온도는 수백 ~ 천 ℃에 이를 수 있다. 상기 대상물은, 예를 들어 홀더에 장착된 반도체 기판(W, 도 2 참조)일 수 있다. 상기 홀더는 피처리 기판(W)을 복수 층으로 적층할 수 있는 웨이퍼 보트(wafer boat, 113, 도 2 참조)일 수 있다. The
외부 챔버(120)는 내부 챔버(110)를 수용하도록 배치된다. 내부 챔버(110)와 달리, 외부 챔버(120)는 상기 대상물에 대한 오염 유발 우려에서 자유롭기에, 금속재로 제작될 수 있다. 외부 챔버(120)는 내부 챔버(110)를 수용하는 내부 공간을 갖는 중공 형태를 가진다. The
급기 모듈(130)은 내부 챔버(110)와 외부 챔버(120)에 대해 가스를 공급하는 구성이다. 급기 모듈(130)은 가스의 소스가 되는 가스 공급기(131)를 가진다. 가스 공급기(131)는 내부 챔버(110)에 대해, 예를 들어 열처리 공정용 공정 가스로서, 수소/중수소, 플루오르, 암모니아, 염소, 질소 등을 선택적으로 제공할 수 있다. 가스 공급기(131)는 외부 챔버(120)에 대해서는 보호 가스로서, 예를 들어 불활성 가스인 질소를 제공할 수 있다. 상기 공정 가스 및 상기 보호 가스는 각각 공정가스 라인(133) 또는 보호가스 라인(135)를 통해 내부 챔버(110) 또는 외부 챔버(120)에 투입된다. 외부 챔버(120)에 투입된 보호 가스는, 구체적으로 외부 챔버(120)와 내부 챔버(110) 사이의 공간에 공급된다.The
상기 공정 가스 및 상기 보호 가스는, 대기압보다 높은 압력으로서, 예를 들어 수 기압 내지 수십 기압에 이르는 고압을 형성하도록 공급될 수 있다. 상기 공정 가스의 압력이 제1 압력이고 상기 보호 가스의 압력이 제2 압력일 때, 이들은 설정된 관계(범위)로 유지될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 압력이 상기 제1 압력보다 다소 크게 설정될 수 있다. 그런 압력차는 내부 챔버(110)로부터 상기 공정 가스가 누설되지 않게 되는 이점을 제공한다. The process gas and the protective gas may be supplied to form a high pressure higher than atmospheric pressure, for example, from several atmospheres to tens of atmospheres. When the pressure of the process gas is a first pressure and the pressure of the protective gas is a second pressure, they can be maintained in a set relationship (range). For example, the second pressure may be set to be somewhat greater than the first pressure. Such a pressure difference provides the advantage that the process gas does not leak from the
배기 모듈(140)은 상기 공정 가스, 그리고 상기 보호 가스를 배기하기 위한 구성이다. 내부 챔버(110)로부터 상기 공정 가스를 배기하기 위하여, 내부 챔버(110)의 상부에는 배기관(141)이 연결된다. 외부 챔버(120)로부터 상기 보호 가스를 배기하기 위해서도, 유사하게 외부 챔버(120)에 연통되는 배기관(145)이 구비될 수 있다. 이들 배기관(141 및 145)은 하나로 통합되기에, 상기 공정 가스는 배기되는 과정에서 상기 보호 가스에 희석되어 그 농도가 낮아지게 된다.The
도 2는 도 1의 고압 기판 처리 장치(100)의 열림 상태를 보인 단면도이고, 도 3은 도 1의 고압 기판 처리 장치(100)의 닫힘 상태에서 체결 모듈(150)의 일 상태를 보인 부분 단면도이며, 도 4는 도 1의 고압 기판 처리 장치(100)의 닫힘 상태에서 체결 모듈(150)의 다른 일 상태를 보인 부분 단면도이다. 본 도면들에서 도 1의 급기 모듈(130) 등 일부 구성은 도면의 간단화를 위해 생략되었다. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the high-pressure
본 도면들을 참조하면, 내부 챔버(110)는 내부 하우징(111)과 내부 도어(115)를 포함한다. 내부 하우징(111)은 상기 수용 공간을 형성하며, 그의 하부는 개방된 형태를 가진다. 내부 도어(115)는 내부 하우징(111)의 개방된 하부를 폐쇄하는 형태를 가진다. 내부 도어(115)는, 전체적으로 하방이 개방된 구유 형태를 가질 수 있다. 상기 개방된 공간에는 히터(미도시)가 설치될 수 있다. Referring to these drawings, the
내부 도어(115)가 이동, 예를 들어 하강함에 따라서는 상기 수용 공간이 개방된다(열림 상태). 상기 열림 상태에서 내부 도어(115)는 내부 하우징(111)으로부터 이격된다. 내부 도어(115)가 반대로 이동, 예를 들어 상승함에 따라서는 상기 수용 공간이 폐쇄된다(닫힘 상태, 도 3 참조). 상기 닫힘 상태에서 내부 도어(115)는 내부 하우징(111)과 접촉된다. 상기 대상물은 상기 열림 상태에서 내부 하우징(111)에 로딩/언로딩된다. As the
외부 챔버(120) 역시 외부 하우징(121)과 외부 도어(125)를 포함한다. 외부 하우징(121)에는 내부 하우징(111)이 결합된다. 외부 하우징(121)은 내부 챔버(110)를 수용하는 사이즈를 가진다. 외부 도어(125) 역시 이동됨에 따라 외부 하우징(121)을 개폐할 수 있다. 외부 도어(125)는 지지 부재(119)에 의해 내부 도어(115)에 연결된다. 외부 도어(125)는 내부 도어(115)와 함께 승강 이동하면서 외부 하우징(121)을 개폐한다. 이상과 달리, 내부 도어(115)와 외부 도어(125)는 각기 독립적으로 개폐될 수도 있다. The
외부 도어(125) 역시 내부 도어(115)와 동일하게 상기 열림 상태와 상기 닫힘 상태 간에 이동된다. 상기 열림 상태에서 외부 도어(125)는 외부 하우징(121)으로부터 이격되어 위치한다. 상기 닫힘 상태에서 외부 도어(125)는 외부 하우징(121)과 접촉된다. 외부 도어(125) 및 내부 도어(115) 그리고 웨이퍼 보트(113)는 리프터(미도시)에 의해 직선 경로를 따라 이동된다. 상기 직선 경로는 개폐 방향(H)을 따르는 것이다. 외부 하우징(121) 등이 세워진 경우에, 개폐 방향(H)은 수직 방향을 말한다.The
상기 닫힘 상태에서 외부 하우징(121)과 외부 도어(125) 간의 밀착, 나아가 내부 하우징(111)과 내부 도어(115) 간의 밀착을 유지하기 위해서, 체결 모듈(150)이 구비된다. 체결 모듈(150)은 외부 챔버(120)의 제2 압력{나아가, 내부 챔버(110)의 제1 압력}을 유지하기 위하여, 외부 도어(125)를 외부 하우징(121)에 대해 체결하는 구성이다. 체결 모듈(150)의 적어도 일부 구성은 외부 도어(125)의 둘레 방향을 따라 복수 개로 구비될 수 있다. In order to maintain close contact between the
체결 모듈(150)은 외부 도어(125)에 대해 작용하는 가압 유닛(151)을 가진다. 가압 유닛(151)은 제1 자세(도 4 참조)와 제2 자세(도 2 참조) 간에 이동되는 것이다. 상기 제1 자세에서 가압 유닛(151)은 후술할 구동 유닛(155)의 구동에 의해 외부 도어(125)를 외부 하우징(121)을 향해 가압하는 가압력을 발휘하게 된다. 상기 가압력의 작용 방향은, 외부 도어(125)의 주면을 포함하는 평면을 관통하는 방향일 수 있다. 도면에 예시된 구성에 따라서는, 상기 작용 방향은 상기 주면에 대략 수직한 방향이 될 수 있다. 여기서, 상기 주면은 외부 도어(125)의 저면이고, 상기 평면은 상기 저면이 놓이는 가상의 평면일 수 있다. 외부 도어(125)가 상기 닫힘 상태에 있는 경우에, 가압 유닛(151)은 상기 제1 자세에 이를 수 있다. 상기 제2 자세에서 가압 유닛(151)은 외부 도어(125)로부터 분리되어, 외부 도어(125)가 상기 열림 상태로 전환되도록 허용한다. 그 경우, 외부 도어(125)는 개폐 방향(H)과 일치되는 직선 경로를 따라 이동될 수 있다. The
상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간의 전환을 위해, 가압 유닛(151)은 외부 도어(125)에 결합되지 않는다. 가압 유닛(151)은 외부 하우징(121)에 설치된다. 가압 유닛(151)은, 예를 들어 중심핀 또는 회전축(152)을 통해 외부 하우징(121)에 회전 이동되게 결합될 수 있다. 회전축(152)은 외부 도어(125)의 주면의 중심을 지나며 상기 주면에 수직한 중심축(C)과는 다른 축일 수 있다. 이와 달리, 가압 유닛(151)은 외부 하우징(121)과 별개인 프레임(미도시)에 설치될 수도 있을 것이다. 그 경우라도, 상기 프레임은 외부 하우징(121)의 일부를 이루는 것으로 해석될 수 있다.For switching between the first posture and the second posture, the
가압 유닛(151)은 지지부(153)와 피동부(154)를 가질 수 있다. 지지부(153)는 외부 도어(125)의 주면에 대응하는 부분이다. 상기 제1 자세에서 지지부(153)는 외부 도어(125)에 접촉되어, 외부 도어(125)를 외부 하우징(121)을 향해 가압한다. 지지부(153)는 외부 도어(125)의 주면에 대해 대체로 수직한 방향을 따라 배열되나, 그 방향에 제한되지는 않는다. 중심핀(152)을 기준으로, 가압 유닛(151)의 일 단부측 영역은 지지부(153)가 차지할 때, 가압 유닛(151)의 타 단부측 영역은 피동부(154)가 차지할 수 있다. 피동부(154)는 지지부(153)의 연장 방향에 교차하는 방향을 따라 배열될 수 있다. The
가압 유닛(151)은 구동 유닛(155)에 의해 회전 구동될 수 있다. 구동 유닛(155)은 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 전환되도록 가압 유닛(151)을 구동하는 것이다. The
구동 유닛(155)은, 본 실시예에서, 승강형 구동기(156)로 예시된다. 상기 승강형 구동기(156)는 외부 하우징(121)의 길이 방향을 따라 승강하면서, 가압 유닛(151), 구체적으로 피동부(154)를 외부 하우징(121)에서 멀어지는 이격 방향(A)으로 밀도록 구성된다. The
승강형 구동기(156)는 외부 하우징(121)의 외면에 설치될 수 있다. 승강형 구동기(156)는 가압 유닛(151)에 대응하는 개수로 구비될 수 있다. 승강형 구동기(156)는 외부 하우징(121)의 길이 방향 또는 개폐 방향(H)을 따라 승강하는 것이다. 승강형 구동기(156)는 하강시에 피동부(154)에 작용하여, 피동부(154)를 이격 방향(A)으로 밀어준다. 승강형 구동기(156) 중 피동부(154)와 마주하는 면은 쐐기면(157)일 수 있다. 쐐기면(157)은 외부 도어(125)에 근접하는 방향으로 갈수록 외부 하우징(121)의 중심에 가까워지는 외면을 가진다. 그에 의해, 쐐기면(157)이 하강하면 피동부(154)는 이격 방향(A)으로 밀려나게 된다. The
승강형 구동기(156)가 일정 수준의 무게를 갖는 경우라면, 승강형 구동기(156)는 자중에 의해 피동부(154)를 밀어줄 수 있다. 승강형 구동기(156)는 또한 지지부(153)가 외부 도어(125)를 가압하게 할 수 있을 것이다. If the
승강형 구동기(156)는 중력 외의 다른 힘에 의해 하강될 수 있다. 예를 들어, 유압 실린더(미도시)에 의해 승강형 구동기(156)가 승강될 수 있다. 이와 달리, 본 실시예에서는 승강형 구동기(156)가 나사 결합력에 의해 승강되는 구성을 예시하고 있다. 승강형 구동기(156)는 구체적으로 외부 하우징(121)을 감싸는 회전 링일 수 있다. The
나사 결합을 위해, 외부 하우징(121)의 외면에는 제1 나사산(158)이 형성된다. 회전 링(156)의 내주면에는 제2 나사산(159)이 형성된다. 제1 나사산(158)과 제2 나사산(159)은 서로 맞물려서, 나사 결합을 형성한다. 그 상태에서 별도의 힘에 의해 회전 링(156)이 회전되면, 회전 링(156)은 상기 나사 결합에 의해 승강하게 된다. 회전 링(156)이 하강하게 되는 경우, 쐐기면(157)은 피동부(154)를 이격 방향(A)으로 밀어내게 된다. For screw coupling, a
회전 링(156)이 상승하는 경우, 가압 유닛(151)은 상기 제1 자세에서 상기 제2 자세로 복귀할 수 있는 상태에 놓인다. 가압 유닛(151)의 복귀를 위해서는 추가적인 힘이 필요하다. 이를 위해, 중심핀(152)에는 토션 스프링(미도시)이 설치될 수 있다. 상기 스프링은, 회전 링(156)의 상승에 따라 회전 링(156)에 의한 구조적 제약이 사라진 상태에서, 가압 유닛(151)을 상기 제2 자세로 복귀시킨다. 상기 스프링의 복귀 작용에는 외부 도어(125)가 도움을 줄 수 있다. 외부 도어(125)는 하강하는 중에 지지부(153)를 밀어서, 가압 유닛(151)이 상기 제2 자세를 향해 회전하게 할 수 있다. When the
회전 링(156)의 회전시에 피동부(154)는 쐐기면(157)과 마찰하게 된다. 쐐기면(157)과 피동부(154) 간의 마찰을 저감하기 위하여, 쐐기면(157) 또는 피동부(154)에는 윤활 부재(미도시)가 설치될 수 있다. 상기 윤활 부재는, 마찰 계수가 낮은 물질일 수 있다. 상기 윤활 부재는 피동부(154)에 설치되어 쐐기면(157)에 대해 구르며 접촉하는 볼(ball)일 수도 있다. When the
이러한 구성에 의하면, 지지부(153)가 외부 도어(125)로부터 분리되어 멀어진 상태(도 2)에서, 외부 도어(125)는 개폐 방향(H)을 따라 하강할 수 있다. 외부 도어(125)와 함께, 내부 도어(115) 및 웨이퍼 보트(113)도 직선 경로를 따라 하강하게 된다. According to this configuration, in a state in which the
웨이퍼 보트(113)에서 웨이퍼 기판(W)을 언로딩하고 새로운 웨이퍼 기판을 로딩한 상태에서, 상기 리프터의 작동에 의해 외부 도어(125)는 상승된다. 그에 따라, 외부 도어(125)는 외부 하우징(121)과 만나서, 상기 닫힘 상태에 이른다. 내부 챔버(110) 역시 상기 닫힘 상태가 된다. 내부 챔버(110) 내에는 새로운 웨이퍼 기판이 로딩된 상태이다. In a state where the wafer substrate W is unloaded from the
상기 닫힘 상태에서 외부 도어(125)를 외부 하우징(121)에 대해 체결할 필요가 있다. 회전 링(156)이 회전하면서 하강하면, 쐐기면(157)이 피동부(154)를 밀어낸다(도 3 참조). 그 결과, 가압 유닛(151)은 도 2에서와 대비하여 회전된 상태가 된다. It is necessary to fasten the
회전 링(156)이 추가로 회전함에 따라, 회전 링(156)은 최대로 하강한다(도 4 참조). 그 결과, 가압 유닛(151)은 최대로 회전하여, 지지부(153)가 외부 하우징(121)에 대해 외부 도어(125)를 가압하게 된다. 이를 통해, 외부 도어(125)는 외부 하우징(121)에 대해 체결된다. 그 결과, 상기 제1 압력 및 상기 제2 압력은 안정적으로 유지될 수 있게 된다. As the
가압 유닛(151)을 상기 제2 자세로 전환하고자 하는 경우라면, 회전 링(156)이 앞서와 반대 방향으로 회전하면 된다. 상기 나사 결합에 의해, 회전 링(156)은 상방으로 이동하게 된다. 쐐기면(157)이 피동부(154)를 가압하지 않는 상태에서, 상기 스프링의 복원력에 의해, 가압 유닛(151)은 상기 제2 자세에 이르게 된다.If the
체결 모듈(150)의 다른 형태에 대해서는 도 5 및 도 6을 참조하여 설명한다. 도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 고압 기판 처리 장치(200)에 대한 부분 단면도이고, 도 6은 도 5의 고압 기판 처리 장치(200)의 다른 상태를 보인 부분 단면도이다.Other forms of the
본 도면들을 참조하면, 본 실시예에 따른 고압 기판 처리 장치(200)의 체결 모듈(250)의 구성은 앞선 실시예에 따른 체결 모듈(150)과 대체로 동일하나, 설치 위치에서 주된 차이가 있다. 구체적으로, 체결 모듈(250)이 가압 유닛(251)과 구동 유닛(255)을 갖는 점은 앞선 체결 모듈(150)과 동일하다. 다만, 가압 유닛(251)과 구동 유닛(255)은 외부 도어(225)에 설치된다. 외부 도어(225)는, 앞선 외부 도어(125)에 비해 개폐 방향(H, 도 2 참조)을 따라 더 길게 연장된 형상을 가진다.Referring to these drawings, the configuration of the
가압 유닛(251)은 외부 도어(225)에 회전 가능하게 설치된다. 가압 유닛(251)의 지지부(253)는 제1 자세(도 5 참조)에서 구동 유닛(255)의 구동에 의해 외부 하우징(221), 구체적으로 플랜지부(223)를 외부 도어(225)를 향한 방향으로 가압하는 가압력을 발휘한다. 상기 가압력의 작용 방향은, 앞선 실시예와 대체로 동일할 수 있다. 가압 유닛(251)은 제2 자세(도 6 참조)에서 외부 하우징(221)로부터 분리되어, 외부 도어(225)가 상기 열림 상태로 전환되도록 허용한다. 구동 유닛(255) 중 회전 링(256)은 외부 도어(225)에 나사 결합된다. 외부 도어(225)의 외주면에는 제1 나사산(258)이 형성되고, 회전 링(256)의 내주면에는 제2 나사산(259)이 형성된다. 회전 링(256)은 나사산(258 및 259) 간의 상대 회전에 따라 승강하며, 가압 유닛(251)의 피동부(254)를 밀어내거나 밀어내지 않게 된다.The pressurizing
이러한 구성에 따라, 회전 링(256)의 회전에 의해 가압 유닛(251)이 회전 축(252)을 중심으로 회전되어, 가압 유닛(251)은 외부 하우징(221)에 걸리거나 외부 하우징(221)에 대해 걸림 해제된다. 회전 축(252)은, 앞선 실시예와 같이, 외부 도어(225)의 주면의 중심을 지나며 상기 주면에 수직한 중심축(C)과는 다른 축일 수 있다. According to this configuration, the
본 명세서에서는 고압 기판 처리 장치(100,200)로서 이중 챔버를 가진 처리 장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 그에 제한되지 않는다. 단일 챔버를 가진 처리 장치 역시 본 발명의 범위 내에 속한다. 상기 단일 챔버는 하나의 하우징과 하나의 도어로 이루어진 것이다. 상기 챔버 내에는 웨이퍼 기판이 배치되고, 또한 상기 웨이퍼 기판에 대한 처리를 위한 가스가 공급되게 된다. 체결 모듈(150,250)은 이러한 단일 챔버에 대해서도 그대로 적용된다. 체결 모듈(150,250)은, 가스의 압력에도 불구하고, 상기 도어가 상기 하우징에 대해 견고하게 체결되게 한다. In this specification, the high-pressure
본 명세서에서는 배치식(batch type) 처리 장치를 예시하나, 본 발명은 그에 제한되지 않는다. 본 발명은 매엽식(single wafer type) 처리 장치에도 그대로 적용될 수 있다. In this specification, a batch type processing device is exemplified, but the present invention is not limited thereto. The present invention can also be applied to a single wafer type processing device.
100,200: 고압 기판 처리 장치 110: 내부 챔버
120: 외부 챔버 130: 급기 모듈
140: 배기 모듈 150,250: 체결 모듈
151,251: 가압 유닛 155,255: 구동 유닛100,200: High pressure substrate processing device 110: Internal chamber
120: external chamber 130: air supply module
140: Exhaust module 150,250: Fastening module
151,251: Pressurizing unit 155,255: Drive unit
Claims (12)
상기 내부 챔버를 수용하는 외부 하우징과, 상기 외부 하우징을 폐쇄하는 닫힘 상태와 상기 외부 하우징을 개방하는 열림 상태 간에 이동하도록 형성되는 외부 도어를 구비하는 외부 챔버; 및
상기 내부 챔버 내에서 상기 피처리 기판의 처리를 위한 공정 가스가 대기압 보다 높은 제1 압력을 갖는 경우에 상기 외부 챔버 내에서 보호 가스가 상기 제1 압력과 관련해 설정되며 대기압 보다 높은 제2 압력으로 유지되게 하기 위해서, 상기 닫힘 상태에서 상기 외부 하우징과 상기 외부 도어를 체결하도록 형성되는 체결 모듈을 포함하고,
상기 체결 모듈은,
상기 닫힘 상태에서 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 하나를 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나에 대해 가압하는 제1 자세와, 상기 외부 도어가 상기 닫힘 상태에서 상기 열림 상태로 직선 경로를 따라 이동하는 것을 허용하는 제2 자세 간에 이동되도록 형성되는 가압 유닛; 및
상기 가압 유닛을 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 전환하기 위해, 상기 가압 유닛을 구동하도록 형성되는 구동 유닛을 포함하고,
상기 가압 유닛은,
상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 하나에 대응하는 지지부; 및
상기 지지부에 연결되고, 상기 구동 유닛에 의해 회전 구동되는 피동부를 포함하는, 고압 기판 처리 장치.
an internal chamber formed to accommodate a substrate to be processed;
an outer chamber having an outer housing accommodating the inner chamber and an outer door configured to move between a closed state to close the outer housing and an open state to open the outer housing; and
When the process gas for processing the substrate in the inner chamber has a first pressure higher than atmospheric pressure, a protective gas in the outer chamber is set in relation to the first pressure and maintained at a second pressure higher than atmospheric pressure. In order to do so, it includes a fastening module configured to fasten the outer housing and the outer door in the closed state,
The fastening module is,
A first posture of pressing one of the outer housing and the outer door against the other of the outer housing and the outer door in the closed state, and moving the outer door along a straight path from the closed state to the open state a pressing unit configured to be moved between second postures allowing for; and
a driving unit configured to drive the pressing unit to switch the pressing unit between the first posture and the second posture;
The pressurizing unit is,
a support portion corresponding to one of the outer housing and the outer door; and
A high-pressure substrate processing apparatus comprising a driven part connected to the support part and rotationally driven by the driving unit.
상기 가압 유닛은,
상기 외부 도어의 주면의 중심을 지나며 상기 주면에 수직한 중심축과 다른 회전축을 중심으로 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 회전 이동되게 형성되는, 고압 기판 처리 장치.
According to paragraph 1,
The pressurizing unit is,
A high-pressure substrate processing apparatus configured to rotate between the first posture and the second posture about a rotation axis that passes through the center of the main surface of the external door and is different from a central axis perpendicular to the main surface.
상기 구동 유닛의 구동에 의해 상기 가압 유닛이 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 하나를 상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나에 대해 가압하는 힘의 작용 방향은,
상기 외부 도어의 주면을 포함하는 평면을 관통하는 방향인, 고압 기판 처리 장치.
According to paragraph 1,
The direction of action of the force by which the pressing unit presses one of the outer housing and the outer door against the other of the outer housing and the outer door by driving the driving unit is:
A high-pressure substrate processing apparatus in a direction penetrating a plane including a main surface of the external door.
상기 지지부는,
상기 가압 유닛의 일 단부측 영역이고,
상기 피동부는,
상기 가압 유닛의 타 단부측 영역이며, 상기 지지부의 연장 방향에 대해 교차하는 방향을 따라 배열되는, 고압 기판 처리 장치.
According to paragraph 1,
The support part,
It is an area at one end of the pressurizing unit,
The driven part,
A high-pressure substrate processing device that is an area at the other end of the pressing unit and is arranged along a direction intersecting the extension direction of the support part.
상기 구동 유닛은,
상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나의 길이 방향을 따라 승강하며, 상기 피동부를 구동하도록 형성되는 승강형 구동기를 포함하는, 고압 기판 처리 장치.
According to paragraph 1,
The driving unit is,
A high-pressure substrate processing apparatus comprising a lifting type driver configured to lift and lower the other one of the external housing and the external door along a longitudinal direction and drive the driven part.
상기 승강형 구동기는,
승강 또는 하강함에 따라, 상기 피동부를 상기 외부 하우징에서 멀어지는 방향으로 밀어내도록 형성되는 것인, 고압 기판 처리 장치.
According to clause 5,
The lifting type actuator,
A high-pressure substrate processing apparatus configured to push the driven part in a direction away from the external housing as it is raised or lowered.
상기 승강형 구동기는,
상기 피동부와 맞물리는 쐐기면을 더 포함하는, 고압 기판 처리 장치.
According to clause 5,
The lifting type actuator,
A high pressure substrate processing apparatus further comprising a wedge surface engaged with the driven portion.
상기 승강형 구동기는,
상기 피동부와의 마찰을 저감하는 윤활 부재를 더 포함하는, 고압 기판 처리 장치.
According to clause 5,
The lifting type actuator,
A high-pressure substrate processing apparatus further comprising a lubricating member that reduces friction with the driven part.
상기 승강형 구동기는,
상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나를 감싸도록 설치되는 회전 링;
상기 외부 하우징 및 상기 외부 도어 중 다른 하나의 외주면에 형성되는 제1 나사산; 및
상기 회전 링의 내주면에 형성되고, 상기 제1 나사산에 맞물리는 제2 나사산을 더 포함하는, 고압 기판 처리 장치.
According to clause 5,
The lifting type actuator,
a rotating ring installed to surround the other of the outer housing and the outer door;
a first screw thread formed on the outer peripheral surface of the other one of the outer housing and the outer door; and
The high-pressure substrate processing apparatus further includes a second screw thread formed on an inner peripheral surface of the rotating ring and engaged with the first screw thread.
상기 챔버 내에서 상기 피처리 기판의 처리를 위한 가스의 압력이 유지되도록, 상기 닫힘 상태에서 상기 하우징과 상기 도어를 체결하는 체결 모듈을 포함하고,
상기 체결 모듈은,
상기 닫힘 상태에서 상기 하우징 및 상기 도어 중 하나를 상기 하우징 및 상기 도어 중 다른 하나에 대해 가압하는 제1 자세와, 상기 도어가 상기 닫힘 상태에서 상기 열림 상태로 직선 경로를 따라 이동하는 것을 허용하는 제2 자세 간에 이동되도록 형성되는 가압 유닛; 및
상기 가압 유닛을 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 전환하기 위해, 상기 가압 유닛을 구동하도록 형성되는 구동 유닛을 포함하고,
상기 가압 유닛은,
상기 하우징 및 상기 도어 중 하나에 대응하는 지지부; 및
상기 지지부에 연결되고, 상기 구동 유닛에 의해 회전 구동되는 피동부를 포함하는, 고압 기판 처리 장치.
A chamber including a housing configured to accommodate a substrate to be processed, and a door configured to move between a closed state to close the housing and an open state to open the housing; and
A fastening module that fastens the housing and the door in the closed state to maintain a gas pressure for processing the substrate in the chamber,
The fastening module is,
a first posture that presses one of the housing and the door against the other of the housing and the door in the closed state, and a posture that allows the door to move along a straight path from the closed state to the open state a pressing unit configured to be moved between two postures; and
a driving unit configured to drive the pressing unit to switch the pressing unit between the first posture and the second posture;
The pressurizing unit is,
a support portion corresponding to one of the housing and the door; and
A high-pressure substrate processing apparatus comprising a driven part connected to the support part and rotationally driven by the driving unit.
상기 가압 유닛은,
상기 도어의 주면의 중심을 지나며 상기 주면에 수직한 중심축과 다른 회전축을 중심으로 회전 이동되도록 형성되고,
상기 구동 유닛은,
상기 가압 유닛을 상기 제1 자세와 상기 제2 자세 간에 회전 구동하는, 고압 기판 처리 장치.
According to clause 10,
The pressurizing unit is,
It is formed to pass through the center of the main surface of the door and rotate around a rotation axis different from a central axis perpendicular to the main surface,
The driving unit is,
A high-pressure substrate processing apparatus that rotates the pressing unit between the first posture and the second posture.
상기 구동 유닛은,
상기 챔버의 길이 방향을 따라 하강 또는 승강됨에 의해, 상기 가압 유닛을 상기 하우징에서 멀어지는 방향으로 밀어내는 쐐기면을 포함하는, 고압 기판 처리 장치.According to clause 10,
The driving unit is,
A high-pressure substrate processing apparatus comprising a wedge surface that pushes the pressing unit in a direction away from the housing by being lowered or lifted along the longitudinal direction of the chamber.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020230056163A KR102614453B1 (en) | 2023-04-28 | 2023-04-28 | High pressure wafer processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020230056163A KR102614453B1 (en) | 2023-04-28 | 2023-04-28 | High pressure wafer processing apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102614453B1 true KR102614453B1 (en) | 2023-12-19 |
Family
ID=89385325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020230056163A KR102614453B1 (en) | 2023-04-28 | 2023-04-28 | High pressure wafer processing apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102614453B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07283164A (en) * | 1994-04-14 | 1995-10-27 | Tokyo Electron Ltd | Device and method for heat treatment |
KR200297284Y1 (en) * | 2002-09-17 | 2002-12-11 | 아남반도체 주식회사 | Standard mechanical interface pod |
KR20150086831A (en) * | 2014-01-20 | 2015-07-29 | 주식회사 풍산 | Opening and closing apparatus for semiconductor substrate processing chamber |
KR20200031798A (en) * | 2018-09-17 | 2020-03-25 | 주식회사 원익아이피에스 | Gas control apparatus of reactor for wafer processing |
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2023
- 2023-04-28 KR KR1020230056163A patent/KR102614453B1/en active IP Right Grant
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