KR102610364B1 - 캐리어 세정장치 - Google Patents

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KR102610364B1
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Abstract

캐리어 세정장치가 개시된다. 상기 캐리어 세정장치는, 캐리어를 세정하기 위한 세정장치에 있어서, 내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 커버가 수납되는 커버 챔버, 상기 커버 챔버 상부에 배치되고 상기 커버를 회전시키는 제1회전유닛, 상기 커버를 상기 커버 챔버에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제1업다운 유닛, 상기 커버 챔버 내부에 설치되어 상기 커버를 향해 세정액을 분사하는 제1분사노즐을 포함하는 커버 세정부; 상기 커버 세정부 하측에 배치되고, 내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 적어도 2개의 본체가 수납되는 본체 챔버, 상기 본체 챔버 상부에 배치되고 상기 본체를 회전시키는 제2회전유닛, 상기 본체를 상기 본체 챔버에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제2업다운 유닛, 상기 본체 챔버 내부에 설치되어 상기 본체를 향해 세정액을 분사하는 제2분사노즐을 포함하는 본체 세정부; 및 상기 커버 세정부 및 상기 본체 세정부가 설치되기 위한 공간을 제공하고 외부로부터 보호하기 위한 케이스;를 포함할 수 있다.

Description

캐리어 세정장치{CLEANING APPARATUS OF CARRIER}
본 발명은 캐리어 세정장치에 관한 것으로, 더욱 구체적으로 설명하면, 웨이퍼나 미세전자소자, 반도체 소자, 평판 디스플레이, LED 등을 수납하는 캐리어를 세정하기 위한 캐리어 세정장치에 관한 것이다.
캐리어(carrier)는 기판이나 미세전자소자를 운반 및 보관 용도로 사용되는 전면개방 운반용기(Front Opening Shipping Box: 이하 'FOSB')와 운반 및 보관뿐만 아니라 공정진행 용도로 사용되는 전면개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod: 이하 'FOUP')와 같은 캐리어가 사용된다. 예를 들어, 300mm의 직경을 갖는 기판을 가공하는 장치에서, 기판 이송은 기판을 수납하기 위한 FOUP를 적용하고 있다. 캐리어는 일반적으로 캐리어 본체와 상기 본체를 밀봉하여 기판을 보관 및 반송할 수 있도록 상기 본체에 초청정한 내부 환경을 제공하는 커버로 구성된다. 기판은 본체 내로 삽입될 수 있는 카세트나 캐리어의 내부에 설치된 선반에 의해 지지된다.
캐리어는 불순물 즉 입자상 물질 및 공기 중의 분자 오염물과 같은 다수의 오염원에 노출되어 있다. 기판이 캐리어 내에 놓여 있을 때나 캐리어를 장기간 저장하게 되면, 이들 오염원은 캐리어 내로 침투될 수 있으므로, 이를 주기적으로 세정하여야 한다.
종래의 캐리어 세정장치는 캐리어 본체와 커버를 분리하는 오프너(opener)에 의해 분리된 본체와 커버 각각을 하나의 챔버(chamber)의 상부 및 하부에 로딩(loading)하여 일정한 세정 시간이 지난 후에 언로딩(unloading)하여 세정을 마치게 된다.
그런데, 캐리어 세정에 있어서, 캐리어 본체를 세정하는 방법, 조건 및 시간이 커버를 세정하는 방법, 조건 및 시간과 다름에도 불구하고, 하나의 챔버에서 세정할 경우 불합리 하지만, 커버와 본체를 함께 세정해야만 하는 실정이다. 만일, 여러 개의 캐리어를 세정하는 경우, 방법 및 조건이 달라서 세정 및 건조 시간에 영향을 주는 것은 물론, 결국 낮은 세정 처리율에 직결된다.
즉, 종래의 세정장치는 커버가 세정 및 건조 시간이 짧지만, 본체의 세정 및 건조시간에 함께 진행함으로써, 캐리어를 세정하는 시간이 지연되어 세정이 비효율적이어서 낮은 처리율을 가진다는 문제점이 있었다.
한편, 종래에는 상기 문제점을 해결하기 위한 '캐리어 세정 장치 및 캐리어 세정 방법(대한민국 등록특허 10-1551545)'가 제안된 바 있다.
도 1은 전면개방 일체식 포드 캐리어 사시도이고, 도 2은 종래의 캐리어 세정장치 사시도이다.
도 1 내지 도 2를 참조하면, 종래의 '캐리어 세정 장치 및 캐리어 세정 방법'은 캐리어 본체와 캐리어 커버를 분리하여 각각 별도로 세정함으로써, 캐리어를 세정하는 시간을 줄여서 세정이 효율적이고 여러 개의 캐리어를 세정하는 경우 단위 시간당 높은 처리율을 가지도록 구성된다.
하지만, 상기 종래의 '캐리어 세정 장치 및 캐리어 세정 방법'은 복수 개의 본체와 커버를 세정할 수 있도록 병렬로 배치되도록 구성되지만 캐리어 1개 세트인 본체와 커버만 수납할 수 있어, 상대적으로 본체의 세정에 더 많은 시간을 필요로 하지만 본체와 커버 각각 1개씩만 수납하여 세정할 수밖에 없는 문제로 인해 결국 본체의 세정 완료 시간에 맞춰 세팅이 이루어질 수밖에 없어 여러 개의 캐리어를 세정하기까지 많은 작업시간이 소요되는 문제가 있다.
한편, 종래의 캐리어 세정장치에서 세정액이 분사되는 노즐은 단순히 일측에 고정된 구조로써 일방향에서 분사되는 구조로 이루어져 있는데, 이는 복잡한 형상을 가진 세정 대상물을 세정하고자 할 경우 세정 효과가 낮아 많은 세정시간을 필요로 하고, 특히 캐리어의 본체는 외부 표면 및 내부 공간까지 세정이 이루어지게 되는데, 내부 공간에는 복잡한 형태로 이루어져 있어 내부공간 곳곳까지 완벽히 세정하는데 어려움이 있어 세정 효과를 높일 수 있는 노즐 구조 개선이 시급한 실정이다.
대한민국 등록특허 10-1551545
본 발명의 목적은, 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 세정에 더 많은 시간을 필요로 하는 본체를 커버보다 많이 수납할 수 있도록 함으로써 여러 개의 캐리어를 세정할 경우 단위 시간당 높은 처리율을 가질 수 있도록 하고, 캐리어의 복잡한 형상에 대응하여 표면 및 내부공간 곳곳에 세정액이 분사될 수 있도록 세정액 분사노즐의 구조를 개선하며, 캐리어의 본체가 고정된 형태가 아닌 세정액 분사 각도에 맞춰 기울어진 형태로 배치될 수 있도록 함으로써, 세정효과를 높일 수 있는 캐리어 세정장치를 제공하는 데 있다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 캐리어 세정장치는, 캐리어를 세정하기 위한 세정장치에 있어서, 내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 커버가 수납되는 커버 챔버, 상기 커버 챔버 상부에 배치되고 상기 커버를 회전시키는 제1회전유닛, 상기 커버를 상기 커버 챔버에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제1업다운 유닛, 상기 커버 챔버 내부에 설치되어 상기 커버를 향해 세정액을 분사하는 제1분사노즐을 포함하는 커버 세정부; 상기 커버 세정부 하측에 배치되고, 내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 적어도 2개의 본체가 수납되는 본체 챔버, 상기 본체 챔버 상부에 배치되고 상기 본체를 회전시키는 제2회전유닛, 상기 본체를 상기 본체 챔버에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제2업다운 유닛, 상기 본체 챔버 내부에 설치되어 상기 본체를 향해 세정액을 분사하는 제2분사노즐을 포함하는 본체 세정부; 및 상기 커버 세정부 및 상기 본체 세정부가 설치되기 위한 공간을 제공하고 외부로부터 보호하기 위한 케이스;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 본체 챔버는, 적어도 2개의 본체가 수납되도록 이루어지되, 적어도 2개의 본체가 수직상으로 일렬로 배치되도록 이루어질 수 있다.
또한, 상기 본체 챔버는, 적어도 2개의 본체가 수납되되, 본체 1개가 각각 분리된 상태로 수납될 수 있도록 독립된 공간이 마련될 수 있다.
또한, 상기 본체 챔버는, 하나의 내부 공간에 적어도 2개의 본체가 동시에 수납되도록 공간이 마련될 수 있다.
또한, 상기 제1회전유닛에는, 상기 커버를 흡착하기 위한 진공흡착부가 구비되고, 상기 커버는 상기 진공흡착부에 흡착된 상태로 상기 제1회전유닛에 의해 회전하고, 상기 제2회전유닛에는 상기 본체가 안착되는 스테이지가 구비되고, 상기 본체는 상기 스테이지에 안착된 상태로 상기 제2회전유닛에 의해 회전할 수 있다.
또한, 상기 스테이지는, 적어도 2개의 본체가 수직상으로 일렬로 배치될 수 있도록, 적어도 2개의 안착판과 적어도 2개의 상기 안착판을 일정 간격 이격되도록 연결하는 복수 개의 연결바를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1분사노즐은, 상기 커버 챔버 하부에 수평 배치되되, 길이방향으로 연장된 관 형태로서 일정 간격마다 복수 개의 제1토출구가 마련되고, 제1회전수단에 의해 회전할 수 있다.
또한, 상기 제1분사노즐은, 상기 제1회전수단에 의해 회전하되, 상기 제1회전유닛에 의해 회전하는 상기 커버의 회전방향과 반대되는 방향으로 회전되도록 제어되고, 상기 제1토출구는 사선방향으로 세정액이 토출될 수 있도록 수평면에 대해 45° ~ 70°범위의 설정각도로 설정될 수 있다.
또한, 상기 제1분사노즐은, 복수 개의 상기 제1토출구는 다양한 직경으로 홀이 타공되되, 서로 다른 직경으로 형성된 홀은 설정각도 내에서 서로 다른 각도로 설정될 수 있다.
또한, 상기 제2분사노즐은, 상기 본체 챔버 측면에 수직 배치되되, 길이방향으로 연장된 관 형태로서 일정 간격마다 복수 개의 제2토출구가 마련되고, 제2회전수단에 의해 상기 본체 챔버 내주면을 따라 회전할 수 있다.
또한, 상기 제2분사노즐은, 복수 개의 상기 제2토출구는 다양한 직경으로 홀이 타공되되, 서로 다른 직경으로 형성된 홀은 서로 다른 각도로 설정될 수 있다.
또한, 상기 제2회전수단은, 상기 본체 챔버 내부에 설치되고, 상기 제2분사노즐이 상기 본체 챔버의 내부 측면을 따라 회전할 수 있도록 이동 경로를 제공하는 레일; 및 상기 제2분사노즐 일측에 설치되어 상기 제2분사노즐이 상기 레일상에서 이동할 수 있도록 구동력을 제공하는 구동부;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제2분사노즐은, 상기 본체 챔버 내부에 서로 마주보게 양측에 설치될 수 있다.
또한, 상기 스테이지의 안착판 상부에는, 상기 안착판에 안착된 캐리어의 본체를 설정 각도만큼 기울어지도록 하기 위한 기울기 세팅부가 더 구비될 수 있다.
또한, 상기 기울기 세팅부는, 상기 스테이지의 안착판 상부에 안착된 캐리어의 본체가 안착된 상태에서 선택적으로 일측 방향 또는 타측 방향으로 기울어지게 설정할 수 있다.
또한, 상기 스테이지의 안착판 상부에는, 상기 기울기 세팅부에 의해 기울어진 상태로 배치된 캐리어의 본체를 설정 각도 이상으로 기울어져 쓰러지지 않도록 본체 일측을 지지하는 지지부가 더 구비될 수 있다.
또한, 상기 제2분사노즐은, 상기 기울기 세팅부에 의해 기울어진 캐리어의 본체의 기울기 각도에 대응하여 상기 제2토출구의 홀의 각도가 가변적으로 변경될 수 있다.
본 발명에 따른 캐리어 세정장치는, 세정에 더 많은 시간을 필요로 하는 본체를 커버보다 많이 수납할 수 있도록 함으로써 여러 개의 캐리어를 세정할 경우 단위 시간당 높은 처리율을 가질 수 있도록 하고, 캐리어의 복잡한 형상에 대응하여 표면 및 내부공간 곳곳에 세정액이 분사될 수 있도록 세정액 분사노즐의 구조를 개선하며, 캐리어의 본체가 고정된 형태가 아닌 세정액 분사 각도에 맞춰 기울어진 형태로 배치될 수 있도록 함으로써, 세정효과를 높일 수 있는 효과가 있다.
도 1은 전면개방 일체식 포드 캐리어 사시도.
도 2은 종래의 캐리어 세정장치 사시도.
도 3 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 캐리어 세정장치의 개략적인 구성을 나타낸 정면도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1분사노즐 부분을 나타낸 사시도.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1분사노즐 부분을 나타낸 단면도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 제2분사노즐 부분을 나타낸 사시도.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제2분사노즐 부분을 나타낸 단면도.
도 9는 안착판에 기울기 세팅부가 설치된 모습을 나타낸 도면.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 도면에 기재된 내용을 참조하여야 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.
본 발명의 일 실시예에 따른 캐리어 세정장치는, 세정에 더 많은 시간을 필요로 하는 본체를 커버보다 많이 수납할 수 있도록 함으로써 여러 개의 캐리어를 세정할 경우 단위 시간당 높은 처리율을 가질 수 있도록 하고, 캐리어의 복잡한 형상에 대응하여 표면 및 내부공간 곳곳에 세정액이 분사될 수 있도록 세정액 분사노즐의 구조를 개선하며, 캐리어의 본체가 고정된 형태가 아닌 세정액 분사 각도에 맞춰 기울어진 형태로 배치될 수 있도록 함으로써, 세정효과를 높일 수 있는 캐리어 세정장치에 관한 것이다.
본 발명의 실시예는 캐리어 본체와 캐리어 커버를 분리하여 각각 별도로 세정함으로써, 캐리어를 세정하는 시간을 줄여서 세정이 효율적이고 단위 시간당 높은 처리율을 가지는 캐리어 세정 장치를 제시한다.
여기서, 세정이란 세척 후 건조까지 포함한 것이다. 이를 위해, 캐리어 본체와 캐리어 커버를 분리하여 각각 별도로 세정하는 장치에 대해 설명한다.
한편, 캐리어는 기판이나 미세전자소자를 운반, 보관뿐만 아니라 공정진행 용도로 사용되는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod: 이하 'FOUP')를 예로 들겠으나, 본 발명의 범주 내에서 다른 형태의 캐리어도 가능하다.
도 1은 전면개방 일체식 포드 캐리어 사시도이다.
도시된 바와 같이, FOUP은 기판을 약 25매 단위로 보관하는 캐리어로서, 기판의 가공할 때 로드 포트(lord port)에 장착되어 기판을 꺼내거나 보관하는 데 사용된다.
FOUP 본체 내부에 기판이 수납될 수 있는 다수의 슬롯이 설치되어 있다. 가공을 위하여 FOUP 커버를 열어 기판을 꺼내고, 공정이 완료되면 웨이퍼를 슬롯에 수납한 후에 커버를 닫아서 보관한다.
한편, 본 발명의 캐리어를 세정하기 위하여, FOUP의 본체와 커버를 분리하는 분리부(미도시), 분리된 본체와 커버를 각각 별도의 셀에 로딩(loading)하거나 언로딩(unloading)하기 위한 로딩/언로딩부(미도시) 및 로딩된 본체와 커버를 세정하기 위한 캐리어 세정장치(미부호)를 포함한다. 상기 세정 과정은 간략하게 개념적으로 설명한 것에 불과하므로, 실제 사용할 때에는 각각의 구성요소의 동작을 최적화하기 위하여 다양한 구조물을 부가할 수 있다. 이하에서는 본 발명의 실시예는 본체와 커버를 캐리어 세정장치에 대하여 상세하게 설명하기로 한다.
도 3 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 캐리어 세정장치의 개략적인 구성을 나타낸 정면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 제1분사노즐 부분을 나타낸 사시도이며, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1분사노즐 부분을 나타낸 단면도이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 제2분사노즐 부분을 나타낸 사시도이며, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제2분사노즐 부분을 나타낸 단면도이다.
도 3 내지 도 8을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 캐리어 세정장치는, 크게 커버 세정부(100), 본체 세정부(200) 및 케이스(300)을 포함한다.
먼저, 커버 세정부(100)는 내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 커버(1)가 수납되는 커버 챔버(110), 상기 커버 챔버(110) 상부에 배치되고 상기 커버(1)를 회전시키는 제1회전유닛(120), 상기 커버(1)를 상기 커버 챔버(110)에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제1업다운 유닛(130), 상기 커버 챔버(110) 내부에 설치되어 상기 커버(1)를 향해 세정액을 분사하는 제1분사노즐(140)을 포함할 수 있다.
상기 커버 챔버(110)는 내부에 공간이 마련된 원통형 구조의 형태로서, 커버(1)와 본체(2)가 분리된 상태에서 커버(1)가 상기 로딩/언로딩부(미도시)를 통해 상기 커버 챔버(110)에 수용될 수 있고, 세정 작업이 이루어지는 공간부분이며, 상부가 개방된 형태에서 상부에 덮개 부분을 통해 내부 공간을 개방시키거나 폐쇄할 수 있는 구조로 이루어진다.
상기 제1회전유닛(120)은 상기 커버 챔버(110)의 상부의 덮개 부분에 설치되고, 상기 커버(1)를 회전시키기 위한 부분이다.
상기 제1회전유닛(120)은 회전력을 발생시키는 모터(미부호)가 설치되며 회전축상에는 커버(1)를 흡착시키기 위한 진공흡착부(121)가 축결합되어, 커버(1)는 상기 진공흡착부(121)에 의해 흡착된 상태로 모터의 구동에 따라 회전축이 회전하면서 함께 회전 가능하게 된다.
즉, 커버(1)는 상기 커버 챔버(110)에 수용된 상태에서 제1회전유닛(120)이 구동됨에 따라 회전하게 되는 것이다.
한편, 상기 제1업다운 유닛(130)은 상기 커버(1)를 상기 커버 챔버(110)에 수납하거나 배출하기 위해 상기 제1회전유닛(120)을 포함하여 상, 하 이동시키는 부분으로, 상하운동이 가능하도록 하는 일종의 리프팅장치이며, 상기 제1회전유닛(120) 양측이 고정된 상태로 구동에 따라 상하이동이 가능하게 된다.
상기 제1업다운 유닛(130)은 예를 들어, 모터의 구동력에 의해 양측에 수직 배치된 레일을 따라 상하 이동되는 리프팅장치일 수 있으며, 상하 이동이 가능한 다양한 방식이 채택될 수 있으며, 어느 한 방식에 한정되지는 않는다.
한편, 상기 제1분사노즐(140)은 상기 커버 챔버(110) 내부에 설치되어 상기 커버(1)를 향해 세정액을 분사하는 부분으로, 도면에 도시하지는 않았지만 세정액이 수용된 세정액 탱크(미도시)로부터 세정액이 공급되면 최종적으로 상기 제1분사노즐(140)을 통해 커버(1)를 향해 세정액이 분사될 수 있게 된다.
즉, 상기 제1분사노즐(140)은 상기 커버 챔버(110) 내부에 설치되어 커버(1)를 향해 고압의 세정액을 분사함으로써 커버(1)를 세정하게 된다.
이러한 상기 제1분사노즐(140)은 다양한 실시예를 예로 들어 구체적으로 후술하도록 한다.
한편, 상기 설명한 커버 세정부(100)는 커버(1) 1개를 세정하는 단일 구성으로 구성될 수도 있지만 필요에 따라 복수 개의 커버(1)를 세정하기 위해 복수의 구성이 수평방향으로 병렬로 연장되게 설치되어 캐리어 세정 처리율을 높일 수도 있다.
다음으로, 본체 세정부(200)는 상기 커버 세정부(100) 하측에 배치되고, 내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 적어도 2개의 본체(2)가 수납되는 본체 챔버(210), 상기 본체 챔버(210) 상부에 배치되고 상기 본체(2)를 회전시키는 제2회전유닛(220), 상기 본체(2)를 상기 본체 챔버(210)에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제2업다운 유닛(230), 상기 본체 챔버(210) 내부에 설치되어 상기 본체(2)를 향해 세정액을 분사하는 제2분사노즐(240)을 포함할 수 있다.
상기 본체 챔버(210)는 내부에 공간이 마련된 원통형 구조의 형태로서, 커버(1)와 본체(2)가 분리된 상태에서 본체(2)가 상기 로딩/언로딩부(미도시)를 통해 상기 본체 챔버(210)에 수용될 수 있고, 세정 작업이 이루어지는 공간부분이며, 상부가 개방된 형태에서 상부에 덮개 부분을 통해 내부 공간을 개방시키거나 폐쇄할 수 있는 구조로 이루어진다.
또한, 상기 본체 챔버(210)는 적어도 2개의 본체(2)가 수납되도록 이루어지되, 적어도 2개의 본체(2)가 수직상으로 일렬로 배치되도록 이루어질 수 있다.
이때, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 본체 챔버(210)는 적어도 2개의 본체(2)가 수납되되, 본체(2) 1개가 각각 분리된 상태로 수납될 수 있도록 독립된 공간이 마련될 수 있다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 본체 챔버(210)는 하나의 내부 공간에 적어도 2개의 본체(2)가 동시에 수납되도록 공간이 마련될 수도 있다.
상기 제2회전유닛(220)은 상기 본체 챔버(210)의 상부의 덮개 부분에 설치되고, 상기 본체(2)를 회전시키기 위한 부분이다.
상기 제2회전유닛(220)은 회전력을 발생시키는 모터(미부호)가 설치되며 회전축상에는 상기 본체(2)가 안착되는 스테이지(221)가 구비되고, 상기 본체(2)는 상기 스테이지(221)에 안착된 상태로 상기 제2회전유닛(220)에 의해 회전할 수 있게 된다.
여기서 상기 스테이지(221)는 적어도 2개의 본체(2)가 수직상으로 일렬로 배치될 수 있도록, 적어도 2개의 안착판(222)과 적어도 2개의 상기 안착판(222)을 일정 간격 이격되도록 연결하는 복수 개의 연결바(223)를 포함할 수 있다.
즉, 상기 안착판(222)에 각각 본체(2)가 안착된 상태로 상기 제2회전유닛(220)의 모터가 회전하게 되면 본체 챔버(210) 내에서 함께 회전하게 되는 것이다.
한편, 상기 제2업다운 유닛(230)은 상기 본체(2)를 상기 본체 챔버(210)에 수납하거나 배출하기 위해 상기 제2회전유닛(220)을 포함하여 상, 하 이동시키는 부분으로, 상하운동이 가능하도록 하는 일종의 리프팅장치이며, 상기 제2회전유닛(220) 양측이 고정된 상태로 구동에 따라 상하이동이 가능하게 된다.
상기 제2업다운 유닛(230)은 예를 들어, 모터의 구동력에 의해 양측에 수직 배치된 레일을 따라 상하 이동되는 리프팅장치일 수 있으며, 상하 이동이 가능한 다양한 방식이 채택될 수 있으며, 어느 한 방식에 한정되지는 않는다.
이때, 상기 제2업다운 유닛(230)은 상기 제1업다운 유닛(130)의 구동 방식과 동일하게 이루어질 수도 있다.
한편, 상기 제2분사노즐(240)은 상기 본체 챔버(210) 내부에 설치되어 상기 본체(2)를 향해 세정액을 분사하는 부분으로, 도면에 도시하지는 않았지만 세정액이 수용된 세정액 탱크(미도시)로부터 세정액이 공급되면 최종적으로 상기 제2분사노즐(240)을 통해 본체(2)를 향해 세정액이 분사될 수 있게 된다.
즉, 상기 제2분사노즐(240)은 상기 본체 챔버(210) 내부에 설치되어 본체(2)를 향해 고압의 세정액을 분사함으로써 본체(2)를 세정하게 된다.
이러한 상기 제2분사노즐(240)은 다양한 실시예를 예로 들어 구체적으로 후술하도록 한다.
한편, 상기 설명한 본체 세정부(200)는 본체(1) 2개를 세정하는 단일 구성으로 구성될 수도 있지만 필요에 따라 적어도 2개 이상의 복수 개의 본체(2)를 세정하기 위해 복수의 구성이 수평방향으로 병렬로 연장되게 설치되어 캐리어 세정 처리율을 높일 수도 있다.
마지막으로, 케이스(300)는 상기 커버 세정부(100) 및 상기 본체 세정부(200)가 설치되기 위한 공간을 제공하고 외부로부터 보호하기 위한 부분이다.
즉, 상기 케이스(300) 내부에 상기 커버 세정부(100) 및 상기 본체 세정부(200)가 수용된 채 설치되고, 필요에 따라 세정액 탱크(미도시) 등 별도 구조물들이 설치되기 위한 공간을 제공한다.
이하에서는, 제1분사노즐(140)의 다양한 실시예에 대하여 구체적으로 설명한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 상기 제1분사노즐(140)은 상기 커버 챔버(110) 하부에 수평 배치되되, 길이방향으로 연장된 관 형태로서 일정 간격마다 복수 개의 제1토출구(141)가 마련되고, 제1회전수단(142)에 의해 회전할 수 있다.
즉, 상기 제1분사노즐(140)은 상기 제1회전수단(142)을 통해 회전하는 방식으로 세적액을 분사할 수 있는 것이다.
상기 제1회전수단(142)은 상기 제1분사노즐(140)의 하측 중심에 회전축이 설치되어 모터(미부호)의 회전에 의해 제1분사노즐(140)을 회전시키는 부분이다.
이때, 상기 제1분사노즐(140)은 상기 제1회전수단(142)에 의해 회전하되, 상기 제1회전유닛(120)에 의해 회전하는 상기 커버(1)의 회전방향과 반대되는 방향으로 회전되도록 제어되고, 상기 제1토출구(141)는 사선방향으로 세정액이 토출될 수 있도록 수평면에 대해 45° ~ 70°범위의 설정각도로 설정될 수 있다.
즉, 상기 제1분사노즐(140)은 상기 제1회전수단(142)을 통해 상기 커버(1)의 회전방향과 반대되는 방향으로 회전함으로써 세정액이 커버(1)에 분사될 경우 마찰저항이 커져 세정력을 증가시킬 수 있고, 이와 더불어 상기 제1토출구(141)는 사선 방향으로 토출될 수 있도록 설정각도로 설정됨으로써 역시 세정액이 분사되어 커버(1)와 접촉될 경우 마찰저항이 커짐으로써 세정력을 증가시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있게 된다.
한편, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제1분사노즐(140)은 복수 개의 상기 제1토출구(141)는 다양한 직경으로 홀이 타공되되, 서로 다른 직경으로 형성된 홀은 설정각도 내에서 서로 다른 각도로 설정될 수 있다.
즉, 상기 제1분사노즐(140)은 복수 개의 상기 제1토출구(141)는 다양한 직경으로 홀이 형성되어 세정액이 분사되는 양과 압력을 달리함으로써 커버(1)와 접촉하는 면적 및 접촉 압력의 차이가 발생하도록 하여 커버(1)의 형상에 맞춰 높은 세정력을 발휘할 수 있도록 할 수 있다.
이하에서는, 제2분사노즐(240)의 다양한 실시예에 대하여 구체적으로 설명한다.
도 7에 도시된 바와 같이, 상기 제2분사노즐(240)은 상기 본체 챔버(210) 측면에 수직 배치되되, 길이방향으로 연장된 관 형태로서 일정 간격마다 복수 개의 제2토출구(241)가 마련되고, 제2회전수단(242)에 의해 상기 본체 챔버(210) 내주면을 따라 회전할 수 있다.
즉, 상기 제2분사노즐(240)은 상기 제2회전수단(242)을 통해 일정 범위 내에서 회전하는 방식으로 세적액을 분사할 수 있는 것이다.
상기 제2회전수단(242)은 상기 본체 챔버(210) 내부에 설치되고, 상기 제2분사노즐(240)이 상기 본체 챔버(210)의 내부 측면을 따라 회전할 수 있도록 이동 경로를 제공하는 레일(243) 및 상기 제2분사노즐(240) 일측에 설치되어 상기 제2분사노즐(240)이 상기 레일(243)상에서 이동할 수 있도록 구동력을 제공하는 구동부(244)를 포함할 수 있다.
즉, 상기 레일(243)은 상기 본체 챔버(210) 내부에 곡선 형태로 설치되며, 상기 구동부(244)는 일종의 회전력을 제공하는 모터로서 회전축이 회전함에 따라 상기 제2분사노즐(240)이 레일(243)에서 이동할 수 있게 된다.
예를 들어, 상기 제2분사노즐(240)은 상기 본체 챔버(210) 내부에 서로 마주보게 양측에 설치되어, 레일(243)의 범위 내에서 상기 제2분사노즐(240)이 회전하면서 본체(2)를 향해 세정액을 분사할 수 있게 되는 것이다.
따라서, 고정된 형태에서 제2분사노즐(240)을 통해 세정액을 분사하는 것에 비해 본체(2)의 전체 면적 곳곳에 세정액이 분사되도록 할 수 있어 높은 세정효과를 얻을 수 있게 된다.
한편, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제2분사노즐(240)은 복수 개의 상기 제2토출구(241)는 다양한 직경으로 홀이 타공되되, 서로 다른 직경으로 형성된 홀은 설정각도 내에서 서로 다른 각도로 설정될 수 있다.
즉, 상기 제2분사노즐(240)은 복수 개의 상기 제2토출구(241)는 다양한 직경으로 홀이 형성되어 세정액이 분사되는 양과 압력을 달리함으로써 본체(2)와 접촉하는 면적 및 접촉 압력의 차이가 발생하도록 하여 본체(2)의 형상에 맞춰 높은 세정력을 발휘할 수 있도록 할 수 있다.
도 9는 안착판에 기울기 세팅부가 설치된 모습을 나타낸 도면이다.
도 9를 참조하면, 다른 실시예로서, 상기 스테이지(221)의 안착판(222) 상부에는, 상기 안착판(222)에 안착된 캐리어의 본체(2)를 설정 각도만큼 기울어지도록 하기 위한 기울기 세팅부(224)가 더 구비될 수 있다.
상기 기울기 세팅부(224)는 상기 본체(2)를 세정하는 과정에서 본체(2)의 안착 자세를 다르게 설정하여 세정액이 닿는 면적을 크게하거나 곳곳에 많은 세정액이 분사될 수 있도록 하기 위해 스테이지(221)에 안착된 본체(2)의 기울기를 조정하기 위한 부분이다.
이러한 상기 기울기 세팅부(224)는 안착판(222)의 일부가 절개된 상태에서 일정 방향으로 바닥부분이 들려지면서 본체(2)를 지지하는 각도가 변경될 수 있도록 하는 일종의 리프팅장치이다.
이때, 상기 기울기 세팅부(224)는 상기 스테이지(221)의 안착판(222) 상부에 안착된 캐리어의 본체(2)가 안착된 상태에서 선택적으로 일측 방향 또는 타측 방향으로 기울어지게 설정할 수 있다.
즉, 사용자가 선택적으로 본체(2)를 일측방향으로 기울어지게 설정하거나 타측방향으로 기울어지게 설정할 수 있도록 구성될 수도 있다.
한편, 상기 스테이지(221)의 안착판(222) 상부에는 상기 기울기 세팅부(224)에 의해 기울어진 상태로 배치된 캐리어의 본체(2)를 설정 각도 이상으로 기울어져 쓰러지지 않도록 본체(2) 일측을 지지하는 지지부(225)가 더 구비될 수도 있다.
즉, 본체(2)가 상기 기울기 세팅부(224)에 의해 일정 각도로 기울어질 경우 과도한 기울기에 따라 기울어지는 방향으로 쓰러지는 것을 방지하기 위해 기울어지는 방향의 단부에 돌출 형성된 지지부(225)가 구비될 수 있다.
한편, 상기 제2분사노즐(240)은 상기 기울기 세팅부(224)에 의해 기울어진 캐리어의 본체(2)의 기울기 각도에 대응하여 상기 제2토출구(241)의 홀의 각도가 가변적으로 변경되도록 구성될 수 있다.
즉, 도면에 구체적으로 도시하지는 않았지만 본체(2)가 상기 기울기 세팅부(224)에 의해 설정 각도만큼 기울어질 경우 본체(2)에 세정액이 고르게 분사될 수 있도록 기울어진 본체(2) 방향을 향해 제2토출구(241)의 홀의 각도, 즉 세정액이 분사되는 방향의 각도가 가변될 수 있도록 이루어질 수 있다.
이러한 상기 본 발명의 기술적 사상에 의한 다양한 실시예에 따른 캐리어 세정장치는, 세정에 더 많은 시간을 필요로 하는 본체를 커버보다 많이 수납할 수 있도록 함으로써 여러 개의 캐리어를 세정할 경우 단위 시간당 높은 처리율을 가질 수 있도록 하고, 캐리어의 복잡한 형상에 대응하여 표면 및 내부공간 곳곳에 세정액이 분사될 수 있도록 세정액 분사노즐의 구조를 개선하며, 캐리어의 본체가 고정된 형태가 아닌 세정액 분사 각도에 맞춰 기울어진 형태로 배치될 수 있도록 함으로써, 세정효과를 높일 수 있는 효과가 있는 것이다.
이상 설명한 바와 같이 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미를 한정하거나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
1: 커버 2: 본체
100: 커버 세정부 110: 커버 챔버
120: 제1회전유닛 121: 진공흡착부
130: 제1업다운 유닛 140: 제1분사노즐
141: 제1토출구 142: 제1회전수단
200: 본체 세정부 210: 본체 챔버
220: 제2회전유닛 221: 스테이지
222: 안착판 223: 연결바
224: 기울기 세팅부 225: 지지부
230: 제2업다운 유닛 240: 제2분사노즐
241: 제2토출구 242: 제2회전수단
243: 레일 244: 구동부
300: 케이스

Claims (17)

  1. 캐리어를 세정하기 위한 세정장치에 있어서,
    내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 커버가 수납되는 커버 챔버, 상기 커버 챔버 상부에 배치되고 상기 커버를 회전시키는 제1회전유닛, 상기 커버를 상기 커버 챔버에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제1업다운 유닛, 상기 커버 챔버 내부에 설치되어 상기 커버를 향해 세정액을 분사하는 제1분사노즐을 포함하는 커버 세정부;
    상기 커버 세정부 하측에 배치되고, 내부에 공간이 마련되고 상부가 개방된 적어도 2개의 본체가 수납되는 본체 챔버, 상기 본체 챔버 상부에 배치되고 상기 본체를 회전시키는 제2회전유닛, 상기 본체를 상기 본체 챔버에 수납하거나 배출하기 위해 상, 하 이동시키는 제2업다운 유닛, 상기 본체 챔버 내부에 설치되어 상기 본체를 향해 세정액을 분사하는 제2분사노즐을 포함하는 본체 세정부; 및
    상기 커버 세정부 및 상기 본체 세정부가 설치되기 위한 공간을 제공하고 외부로부터 보호하기 위한 케이스;를 포함하며,
    상기 본체 챔버는,
    적어도 2개의 본체가 수납되도록 이루어지되, 적어도 2개의 본체가 수직상으로 일렬로 배치되도록 이루어지며,
    상기 본체 챔버는,
    하나의 내부 공간에 적어도 2개의 본체가 동시에 수납되도록 공간이 마련되며,
    상기 제1회전유닛에는, 상기 커버를 흡착하기 위한 진공흡착부가 구비되고, 상기 커버는 상기 진공흡착부에 흡착된 상태로 상기 제1회전유닛에 의해 회전하고,
    상기 제2회전유닛에는 상기 본체가 안착되는 스테이지가 구비되고, 상기 본체는 상기 스테이지에 안착된 상태로 상기 제2회전유닛에 의해 회전하며,
    상기 스테이지는,
    적어도 2개의 본체가 수직상으로 일렬로 배치될 수 있도록, 적어도 2개의 안착판과 적어도 2개의 상기 안착판을 일정 간격 이격되도록 연결하는 복수 개의 연결바를 포함하며,
    상기 제2분사노즐은,
    상기 본체 챔버 측면에 수직 배치되되, 길이방향으로 연장된 관 형태로서 일정 간격마다 복수 개의 제2토출구가 마련되고, 제2회전수단에 의해 상기 본체 챔버 내주면을 따라 회전하는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 본체 챔버는,
    적어도 2개의 본체가 수납되되, 본체 1개가 각각 분리된 상태로 수납될 수 있도록 독립된 공간이 마련되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 제1분사노즐은,
    상기 커버 챔버 하부에 수평 배치되되, 길이방향으로 연장된 관 형태로서 일정 간격마다 복수 개의 제1토출구가 마련되고, 제1회전수단에 의해 회전하는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 제1분사노즐은,
    상기 제1회전수단에 의해 회전하되, 상기 제1회전유닛에 의해 회전하는 상기 커버의 회전방향과 반대되는 방향으로 회전되도록 제어되고, 상기 제1토출구는 사선방향으로 세정액이 토출될 수 있도록 수평면에 대해 45° ~ 70°범위의 설정각도로 설정되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 제1분사노즐은,
    복수 개의 상기 제1토출구는 다양한 직경으로 홀이 타공되되, 서로 다른 직경으로 형성된 홀은 설정각도 내에서 서로 다른 각도로 설정되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  10. 삭제
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 제2분사노즐은,
    복수 개의 상기 제2토출구는 다양한 직경으로 홀이 타공되되, 서로 다른 직경으로 형성된 홀은 서로 다른 각도로 설정되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 제2회전수단은,
    상기 본체 챔버 내부에 설치되고, 상기 제2분사노즐이 상기 본체 챔버의 내부 측면을 따라 회전할 수 있도록 이동 경로를 제공하는 레일; 및
    상기 제2분사노즐 일측에 설치되어 상기 제2분사노즐이 상기 레일상에서 이동할 수 있도록 구동력을 제공하는 구동부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 제2분사노즐은,
    상기 본체 챔버 내부에 서로 마주보게 양측에 설치되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  14. 제 12항에 있어서,
    상기 스테이지의 안착판 상부에는,
    상기 안착판에 안착된 캐리어의 본체를 설정 각도만큼 기울어지도록 하기 위한 기울기 세팅부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 기울기 세팅부는,
    상기 스테이지의 안착판 상부에 안착된 캐리어의 본체가 안착된 상태에서 선택적으로 일측 방향 또는 타측 방향으로 기울어지게 설정할 수 있는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 스테이지의 안착판 상부에는,
    상기 기울기 세팅부에 의해 기울어진 상태로 배치된 캐리어의 본체를 설정 각도 이상으로 기울어져 쓰러지지 않도록 본체 일측을 지지하는 지지부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
  17. 제 16항에 있어서,
    상기 제2분사노즐은,
    상기 기울기 세팅부에 의해 기울어진 캐리어의 본체의 기울기 각도에 대응하여 상기 제2토출구의 홀의 각도가 가변적으로 변경되는 것을 특징으로 하는 캐리어 세정장치.
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US6797076B1 (en) * 1998-07-10 2004-09-28 Semitool, Inc. Spray nozzle system for a semiconductor wafer container cleaning aparatus
KR20150068053A (ko) * 2013-12-11 2015-06-19 조창현 캐리어 세정 장치 및 그 세정 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6797076B1 (en) * 1998-07-10 2004-09-28 Semitool, Inc. Spray nozzle system for a semiconductor wafer container cleaning aparatus
KR20150068053A (ko) * 2013-12-11 2015-06-19 조창현 캐리어 세정 장치 및 그 세정 방법
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