KR102588512B1 - 링타입 세라믹제 연마시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 작동플레이트의 상부에 자성체를 이용하여 세라믹제를 고정하므로 세라믹제를 정확한 위치에 고정할 수 있으며, 연마부의 전방에 비산방지부를 착탈 가능하게 고정하므로 미세분진이 작업자 측으로 비산되지 않도록 하여 작업환경을 개선할 수 있는 링타입 세라믹제 연마시스템에 관한 것이다.

Description

링타입 세라믹제 연마시스템{Ring type ceramic polishing system}
본 발명은 링타입 세라믹제 연마시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 작동플레이트의 상부에 자성체를 이용하여 세라믹제를 고정하므로 세라믹제를 정확한 위치에 고정할 수 있으며, 연마부의 전방에 비산방지부를 착탈 가능하게 고정하므로 미세분진이 작업자 측으로 비산되지 않도록 하여 작업환경을 개선할 수 있는 링타입 세라믹제 연마시스템에 관한 것이다.
링타입의 세라믹제를 연마하는 종래의 기술에는 크게 회전벨트를 이용하는 방식과, 세라믹제를 연마기에 고정하는 방식의 두가지 방법이 있다.
회전벨트를 이용하는 방식은 세라믹제가 고정된 상태에서 회전벨트가 세라믹제에 밀착되어 표면을 연마하는 것이고, 세라믹제를 고정하는 방식은 고정베이스에 세라믹제를 고정시킨 상태에서 연마숫돌을 수평이동시키면서 세라믹제의 표면을 연마하는 것이다.
그러나, 상기와 같이 회전벨트 방식은 연마에 의해 발생하는 미세가루와 불순물이 사방으로 튀는 문제가 있으며, 세라믹제 고정방식은 미세가루 및 물순물이 튀는 현상뿐 아니라 세라믹제를 고정베이스에 고정하는 구조가 복잡하여 작업효율성이 떨어지고 작업자의 환경을 열악하게 만드는 요인으로 작용하였다.
대한민국 공개특허 제10-2018-0000624호(2018.01.03.공개)
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 작동플레이트의 상부에 자성체를 이용하여 세라믹제를 고정하므로 세라믹제를 정확한 위치에 고정할 수 있으며, 연마부의 전방에 비산방지부를 착탈 가능하게 고정하므로 미세분진이 작업자 측으로 비산되지 않도록 하여 작업환경을 개선할 수 있는 링타입 세라믹제 연마시스템을 제공함에 있다.
본 발명의 과제는 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명 링타입 세라믹제 연마시스템은, 고정베이스(100); 상기 고정베이스(100)의 상부에 고정되어 상기 고정베이스(100)의 상부에 형성된 안내지그에 이동지그가 결합되어 좌,우로 슬라이드되는 작동플레이트(200); 상기 작동플레이트(200)의 상부에 안착되는 링타입의 세라믹제(300); 상기 세라믹제(300)의 외주면에 밀착되면서 작동플레이트(200)에 자력으로 부착되는 자성체(400); 상기 세라믹제(300)의 상부에 위치되며, 상기 작동플레이트(200)의, 좌,우 왕복이동으로 연마숫돌에 의해 세라믹제(300)의 표면을 연마하며, 연마시 마찰열을 줄이도록 윤활제가 공급되는 공급노즐이 구비되는 연마부(500); 상기 연마부(500)의 전방에 고정되어 세라믹제(300)의 연마시 발생하는 미세분진의 비산을 방지하는 비산방지부(600)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 작동플레이트(200)는 금속재질로 형성되고, 상기 작동플레이트(200)의 하부에는 세라믹제(300)의 연마시 마찰열을 줄이는 윤활제가 담겨지는 저장조(210)가 더 구비되며, 상기 자성체(400)는 일정 길이로 형성되며, 상기 세라믹제(300)의 둘레에 자성체(400)의 장변(長邊) 또는 단변(短邊)이 선택적으로 밀착되어 상기 세라믹제(300)가 고정된다.
상기 비산방지부(600)는, 상기 연마부(500)의 전방 상부에 요입형성되는 고정홈부(610); 상기 연마부(500)의 전방 하부에 형성되는 착탈홈(620); 상기 연마부(500)의 전방에 밀착되는 비산방지판(630); 상기 비산방지판(630)의 일측면 상부에 형성되어 상기 고정홈부(610)에 고정되도록 후크형상으로 형성되는 고정돌기부(640); 상기 비산방지판(630)의 일측면 하부에 형성되어 착탈홈(620)에 탄력있게 고정되는 탄성고정편(650)이 구비된다.
본 발명에 의하면, 작동플레이트의 상부에 자성체를 이용하여 세라믹제를 고정하므로 세라믹제를 정확한 위치에 고정할 수 있으며, 연마부의 전방에 비산방지부를 착탈 가능하게 고정하므로 미세분진이 작업자 측으로 비산되지 않도록 하여 작업환경을 개선할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 링타입 세라믹제 연마시스템의 전체 사진이다.
도 2는 본 발명에 따른 연마부의 공급노즐을 통해 공급되는 윤활제가 저장조로 저장되는 상태의 사진이다.
도 3은 본 발명에 따른 작동플레이트의 상면에 자성체에 의해 세라믹제가 고정된 상태도이다.
도 4는 본 발명 제1실시예에 따른 비산방지부가 연마부의 전면에 고정된 상태의 단면구성도이다.
도 5는 본 발명 제2실시예에 따른 비산방지부의 사시도이다.
도 6은 본 발명 제2실시예에 따른 비산방지부가 연마부의 전면에 고정된 상태의 단면구성도이다.
도 7 내지 도 9는, 본 발명에 따른 이물질제거부를 나타낸 도면이다.
도 10 내지 도 13은, 본 발명에 따른 바닥받침부를 나타낸 도면이다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.
이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 링타입 세라믹제 연마시스템의 전체 사진이고, 도 2는 본 발명에 따른 연마부의 공급노즐을 통해 공급되는 윤활제가 저장조로 저장되는 상태의 사진이다.
구체적으로, 본 발명 링타입 세라믹제 연마시스템은, 고정베이스(100); 상기 고정베이스(100)의 상부에 고정되어 상기 고정베이스(100)의 상부에 형성된 안내지그에 이동지그가 결합되어 좌,우로 슬라이드되는 작동플레이트(200); 상기 작동플레이트(200)의 상부에 안착되는 링타입의 세라믹제(300); 상기 세라믹제(300)의 외주면에 밀착되면서 작동플레이트(200)에 자력으로 부착되는 자성체(400); 상기 세라믹제(300)의 상부에 위치되며, 상기 작동플레이트(200)의, 좌,우 왕복이동으로 연마숫돌에 의해 세라믹제(300)의 표면을 연마하며, 연마시 마찰열을 줄이도록 윤활제가 공급되는 공급노즐이 구비되는 연마부(500); 상기 연마부(500)의 전방에 고정되어 세라믹제(300)의 연마시 발생하는 미세분진의 비산을 방지하는 비산방지부(600)를 포함한다.
상기 고정베이스(100)는 링타입 세라믹제 연마시스템의 기본 골격을 이루는 프레임이며, 전면에는 연마시스템을 제어하는 조작부가 구비되고, 상단부에는 2열의 안내지그가 수평으로 구비된다.
상기 작동플레이트(200)는 상기 고정베이스(100)의 상부에 설치되며, 하부에는 이동지그가 수평으로 형성되어 고정베이스(100)에 형성된 안내지그에 결합된다.
상기 작동플레이트(200)는 고정베이스(100)의 전면에 구비된 조작부에 의해 작동이 이루어지며, 상기 고정베이스(100)와 작동플레이트(200)의 후방에는 모터의 구동에 의해 작동하는 구동부가 구비되어 있으며, 작동플레이트(200)의 이동지그가 고정베이스(100)의 안내지그를 따라 좌,우 방향으로 왕복운동을 하게 된다.
상기 작동플레이트(200)의 하부에는 세라믹제(30)의 연마시 마찰열을 줄일 수 있도록 윤활제가 담겨지는 저장조(210)가 구비된다.
상기 저장조(210)는 일정량의 윤활유를 저장할 수 있으며, 공급노즐에서 세라믹제(300)로 윤활유가 공급되면 윤활유는 저장조(210)에 저장되고, 다시 공급노즐로 순환된다.
상기 세라믹제(300)는 반도체 장비에 사용되는 것으로, 일정 직경을 이루는 원형의 링이며, 표면은 거칠지 않게 연마숫돌에 의해 연마된다.
상기 자성체(400)는 적어도 하나 이상 일정 길이로 형성되며, 막대 타입으로 이루어진다.
상기 자성체(400)는 세라믹제(300)의 둘레에 장변(長邊) 또는 단변(短邊)이 선택적으로 밀착되면서 세라믹제(300)를 작동플레이트(200) 상면에 고정하게 된다.
상기 연마부(500)는 고정베이스(100)의 후방에 고정되어 상기 세라믹제(300)의 상부에 위치하게 된다.
상기 연마부(500)는 하부에 모터의 구동으로 회전하는 연마숫돌이 장착되며, 연마부(500)의 일측에는 연마숫돌에 의해 세라믹제를 연마할 때, 세라믹제(300)에 윤활제를 공급하는 공급노즐이 구비된다.
상기 공급노즐은 저장조에 저장된 윤활유가 펌핑모터에 의해 흡입되어 공급호스를 통해 순환되는 구조로 이루어진다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 비산방지부(600)는 세라믹제(300)의 연마시 발생하는 미세분진의 비산을 방지하게 된다.
세라믹제(300)의 연마시 미세분진은 윤활제에 의해 대부분 흘러내리게 되지만, 흘러내리지 못한 일부의 미세분진이 작업자 측으로 비산되는데, 상기 비산방지부(600)는 이러한 현상을 방지하게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 링타입 세라믹제 연마시스템은, 연마 시 발생하는 이물질을 제거하기 위한 이물질제거부(800)를 더 포함할 수 있다.
도 7 내지 도 9는, 본 발명에 따른 이물질제거부를 나타낸 도면이다.
이물질제거부(800)는, 연마부(500)의 상부를 차폐할 수 있는 탈착가능한 덕트부(810) 및 덕트부(810)와 연결 결합되는 이물질제거장치(830)를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 덕트부(810)는, 호퍼부(811), 지지프레임(812) 및 체결프레임(813)을 포함할 수 있고 이물질제거부(800)의 흡입 공간을 넓히고 설치의 용이성을 위해 연마부의 상부에 탈착 가능하게 제조할 수 있다.
호퍼부(811)는, 콘 형태로 형성되며 덕트부(810)의 전체적인 틀을 이룬다.
지지프레임(812)은, 호퍼부(811)의 확관부 둘레에 테두리부를 형성할 수 있다.
체결프레임(813)은, 호퍼부(811)의 협관부에 연장시킨 제1 흡입부(831)와 연결 결합될 수 있다.
일 실시예에서, 이물질제거장치(830)는, 복수개의 흡입부(831, 832, 833), 체결부(834), 압축공기 유입부(835), 복수개의 분사부(836, 837), 조절부(838), 에어저장부(839)를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 입구측이 넓고 출구측이 점차 좁아지는 내측 경사면을 갖는 복수개의 흡입부(831, 832, 833)들이 일직선상에 배치되고, 복수개의 흡입부(831, 832, 833)들 외경에 에어저장부(839)를 형성하는 체결부(834)가 결합되며, 체결부(834)의 외측에 압축공기를 공급하는 압축공기 유입부(835)가 결합되고, 에어저장부(839)에 공급되는 압축공기를 제2 흡입부(832) 및 제3 흡입부(833)의 내측 경사면을 따라 고압 분사되도록 하는 복수개의 분사부(836, 837)가 복수개의 흡입부(831, 832, 833)들의 연결부 둘레를 따라 다수 형성될 수 있다.
여기서, 복수개의 흡입부(831, 832, 833)들은 일체형으로 제작되거나, 개별적으로 제작되어 상호 연결되도록 할 수 있다. 이때, 복수개의 흡입부(831, 832, 833)이 연결되는 연결부 둘레에 복수개의 분사부(836, 837)가 형성되고, 이를 통해 압축공기가 제2 흡입부(832) 및 제3 흡입부(833)의 내측 경사면을 따라 공급되도록 할 수 있다.
이처럼, 복수개의 분사부(836, 837)를 배치하여 압축공기를 고속/고압으로 분사하게 되면, 복수개의 흡입부(831, 832, 833) 내부에 압력차가 발생하게 되고, 이로 인해 분사되는 반대쪽의 원통형 입구에서 외부 공기가 유입되어 실제 사용되는 압축공기 대비 실제 송풍되는 공기 양이 많아질 수 있다.
즉, 제2 흡입부(832) 및 제3 흡입부(833) 둘레의 복수개의 분사부(836, 837)를 통해 압축공기를 출구측 방향으로 분사시켜 줌으로써 반대쪽의 원통형 입구에서 외부의 공기가 유입되어 공기량이 증폭된다.
복수개의 분사부(836, 837)들은 복수개의 흡입부(831, 832, 833)들의 연결부 마다 설치할 수 있고, 원주방향으로 등 간격 분산 설치되는데, 제1 분사부(836)와 제2 분사부(837)를 엇갈려 배치되도록 함으로써, 이물질제거장치(830)의 환기 효율을 높일 수 있다. 예를 들어, 제1 분사부(836)와 제2 분사부(837)가 각각 원주방향에 4개씩 분산되는 것을 살펴보면, 이들이 상호 엇갈리도록 배치함으로써 45도 간격으로 배치되는 것과 동일한 효과를 얻게 된다. 이는 각 노즐의 배치가 서로 겹치지 않기 때문에 이물질제거장치(830) 내부의 압축 공기 유동을 더 효과적으로 사용할 수 있도록 한다.
체결부(834)는, 에어저장부(839)를 형성하며 복수개의 흡입부(831, 832, 833)의 외경게 결합되며 양측단부 내경에 나사탭을 형성하고 이 나사탭을 이용해 제1 흡입부(831)와 제3 흡입부(833)가 나사 결합되도록 할 수 있다. 이 때 체결부(834)는 나사탭이 형성되지 않는 내부 중앙을 확장시켜 에어저장부(839)가 형성되도록 할 수 있다.
압축공기 유입부(835)는, 체결부(834)의 외측에 결합될 수 있고 조절부(838)가 함께 설치되어 압축공기의 공급을 제어할 수 있다. 여기서, 체결부(834) 내에 형성된 에어저장부(839)는 복수개의 분사부(836, 837)에 압축공기가 균일하게 공급되도록 하는 효과를 갖는다.
에어저장부(839)에 공급되는 압축공기는 제2 흡입부(832) 및 제3 흡입부(833)의 내측 경사면을 따라 고압 분사되고, 복수개의 분사부(836, 837)를 통해 압공기가 출구측으로 분사될 때 압축공기 분사 각도는 복수개의 흡입부(831, 832, 833)의 내측 경사면의 경사와 유사하게 갖도록 한다.
압축공기가 출구측으로 분사될 때 내측면은 빠른 공기 유동으로 인해 압력이 떨어지고 복수개의 흡입부(831, 832, 833) 중심부가 상대적으로 압력이 높게 형성된다. 이때 발생한 압력 차와 분사흐름에 의해 입구측을 통해 외부 공기가 흡입되고, 베르누이의 원리를 이용하여 공기의 유동이 전면부에서 후변부로 이동할 때 복수개의 흡입부(831, 832, 833)의 내경을 점차 좁아지게 함으로써, 외부 공기의 유입 속도를 더욱 빠르게 할 수 있다.
상술한 특징들을 가진 이물질제거부(800)로 인해 에어저장부(839)에 공급되는 압축공기를 복수개의 흡입부(831, 832, 833)의 내측 경사면을 따라 고압 분사되도록 하는 복수개의 분사부(836, 837)가 복수개의 흡입부(831, 832, 833)들의 연결부 둘레를 따라 다수 형성되도록 함으로써 공기의 저항을 최소화할 수 있고, 환기효율은 극대화시켜 밀폐된 연마구역 내의 공기를 신속하게 배기시킬 수 있는 효과를 갖는다.
*상기 비산방지부(600)는 고정홈부(610), 착탈홈(620), 비산방지판(630), 고정돌기부(640), 탄성고정편(650)으로 구성된다.
여기서 상기 고정홈부(610)는 연마부(500)의 전방 상부에 요입형성되고, 상기 착탈홈(620)은 연마부(500)의 전방 하부에 형성된다.
상기 고정홈부(610)는 일정 간격을 이루도록 2개로 형성되고, 착탈홈(620)은 상기 고정홈부(610)와 고정홈부(610) 사이의 중앙부를 기준으로 일정 높이 이격된 하부에 형성된다.
한편, 상기 비산방지판(630)은 연마부(500)의 전방에 밀착되어 작업자에게 미세분진이 비산되지 않도록 일정폭과 높이로 형성된다.
상기 비산방지판(630)은 금속재질의 판체 또는 투명한 합성수지재질의 판체로 제작될 수 있다.
상기 고정돌기부(640)는 비산방지판(630)의 일측면 상부에 형성되되, 상기 고정홈부(610)와 대응되도록 형성되며, 단면이 'ㄷ'자 형상으로 절곡형성되어 상기 고정홈부(610)에 삽입되어 고정된다.
상기 탄성고정편(650)은 비산방지판(630)의 일측면 하부에 형성되며, 자체 탄성을 가지게 되며, 상기 탄성고정편(650)이 고정돌기부(640)가 고정홈부(610)에 고정된 상태에서, 상기 착탈홈(620)에 탄력있게 결합되어 비산방지판(630)을 연마부(500)의 전방에 고정되는 것이다.
또한, 도 5 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 비산방지판(630)이 금속재질로 형성될 경우, 세라믹제(300)의 연마 상태를 확인할 수 있도록 비산방지판(630)에 투시창(700)이 형성될 수 있다.
즉, 본 발명 링타입 세라믹제 연마시스템은 작동플레이트(200)의 상부에 자성체를 이용하여 세라믹제(300)를 고정할 수 있으며, 연마부(500)의 전방에 미세분진이 작업자 측으로 비산되지 않도록 비산방지부를 착탈 가능하게 고정하므로 작업환경을 개선할 수 있게 된다.
한편, 본 발명의 작동플레이트(200)의 하부 각 모서리에는 작업 시 작동플레이트로부터 또는 바닥으로부터의 진동 또는 충격을 흡수하거나 저감시키기 위한 바닥받침부(900)가 더 설치될 수 있다.
도 10 내지 도 13은, 본 발명에 따른 바닥받침부를 나타낸 도면이다.
일 실시예에 따른 바닥받침부(900)는, 플레이트받침대(910), 바닥받침대(920), 중간지지체(930) 및 회전부(940)을 포함한다.
플레이트받침대(910)는, 중간지지체(930)의 상측에 설치되어 바닥받침대(920)와 대향하면서 작동플레이트(200)의 하측면을 지지하며, 작동플레이트로부터 전달되는 외력을 중간지지체(930)로 전달한다.
바닥받침대(920)는, 플레이트받침대(910)와 대향하면서 바닥의 상측면을 지지하며, 상측에 연결 설치되는 중간지지체(930)를 지지한다.
중간지지체(930)는, 플레이트받침대(910)와 바닥받침대(920)의 사이에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 작동플레이트(200)로부터 전달되는 외력에 의해 플레이트받침대(910)와 바닥받침대(920)간의 간격이 늘어나거나 줄어듦에 따라 신장 또는 수축되면서 플레이트받침대(910)와 바닥받침대(920) 사이에 발생되는 진동 또는 충격을 완화시켜 주며, 측면을 따라 다수 개의 회전부(940)이 연결 설치된다.
일 실시예에서, 중간지지체(930)는, 제1 베어링(931), 제1 지지기둥(932), 제2 베어링(933), 제2 지지기둥(934), 탄성부재(935) 및 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)을 포함할 수 있다.
제1 베어링(931)은, 플레이트받침대(910)의 하측에 설치되고, 하측에 설치되는 제1 지지기둥(932)을 플레이트받침대(910)의 하측에 회전 가능하도록 설치시킨다.
제1 지지기둥(932)은, 원기둥 형태로 형성되어 제1 베어링(931)의 하측에 설치되고, 외측을 따라 다수 개의 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)들이 형성되고, 하측에 연결 설치되는 제2 지지기둥(934)에 의해 지지되며, 제1 베어링(931)으로부터 상하 방향의 외력이 전달됨에 따라 회전하게 된다.
제2 베어링(933)은, 바닥받침대(920)의 상측에 설치되고, 상측에 설치되는 제2 지지기둥(934)을 바닥받침대(920)의 상측에 회전 가능하도록 설치시킨다.
제2 지지기둥(934)은, 제1 지지기둥(932)보다 작은 지름의 원기둥 형태로 형성되어 제2 베어링(933)의 상측에 설치되며, 제1 지지기둥(932)의 하부에 형성되는 안착홈(9321)에 상부가 삽입되어 안착홈(9321)의 상측에 설치되는 탄성부재(935)에 의해 상측이 지지되면서 제1 지지기둥(932)을 지지한다.
탄성부재(935)는, 안착홈(9321)의 상측에 설치되어 안착홈(9321)으로 삽입된 제2 지지기둥(934)의 상측을 지지하며, 제1 지지기둥(932)과 제2 지지기둥(934) 사이에 발생되는 상하 방향의 외력을 탄성력을 이용하여 완충시켜 준다.
설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)은, 회전부(940)의 상부 일측, 즉 제1 돌기(942)가 연결 설치될 수 있도록 제1 지지기둥(932)의 외측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 형성된다.
회전부(940)는, 바닥받침대(920)의 상부 테두리를 따라 일정한 간격으로 다수 개가 설치되며, 각 상부가 중간지지체(930)의 외측을 따라 연결 설치되어, 중간지지체(930)를 지지하는 동시에 중간지지체(930)가 수축함에 따라 중간지지체(930)가 회전되도록 유도한다.
일 실시예에서, 회전부(940)는, 수직체(941), 제1 돌기(942), 안착체(943), 회전지지탄성체(944) 및 제2 돌기(945)를 포함할 수 있다.
수직체(941)는, 상하 방향으로 연장 형성되어 바닥받침대(920)의 상부 테두리에 설치되며, 상부 일측에 제1 돌기(942)가 형성된다.
제1 돌기(942)는, 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)과 대향하는 수직체(941)의 상부 일측에 형성되며, 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)의 내측면에 밀착 안착되며, 내측면에 제2 돌기(945)가 형성된다.
안착체(943)는, 제1 돌기(942)의 전단에 형성되며, 회전지지탄성체(944)가 안착되는 전면이 전단 상측을 향하는 경사면(9431)을 형성한다.
회전지지탄성체(944)는, 안착체(943)의 전방 경사면(9431)에 설치되어 안착체(943)의 전단 경사면과 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)의 지지벽체(9361) 사이를 지지한다.
즉, 회전지지탄성체(944)는, 제1 지지기둥(932)가 회전하는 동시에 하강함에 따라 사선 방향으로 이동되는 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)의 지지벽체(9361)를 탄성력을 이용하여 지지하게 되는 것이다.
제2 돌기(945)는, 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)의 내측면에 밀착되는 제1 돌기(942)의 일측을 따라 형성되며, 설치홈(936-1, 936-2, 936-3, 936-4)의 내측면을 따라 사선 방향으로 연장 형성되는 슬라이딩결합홈(9362)에 체결되어 제1 지지기둥(932)이 상하 방향으로 이동함에 따라 슬라이딩결합홈(9362)을 따라 슬라이딩 이동하면서 제1 지지기둥(932)을 회전시켜 준다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 바닥받침부(900)는, 연마 작업 따라 발생되는 진동 또는 충격 등을 완충시켜 주고 바닥으로부터의 충격 역시 완충시켜 줄 수 있어 장치의 내구성을 보다 향상시켜 줄 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안 될 것이다.
100: 고정베이스
200: 작동플레이트
300: 세라믹제
400: 자성체
500: 연마부
600: 비산 방지부
700: 투시창
800: 이물질제거부
900: 바닥받침부

Claims (3)

  1. 고정베이스(100);
    상기 고정베이스(100)의 상부에 고정되어 상기 고정베이스(100)의 상부에 형성된 안내지그에 이동지그가 결합되어 좌,우로 슬라이드되는 작동플레이트(200);
    상기 작동플레이트(200)의 상부에 안착되는 링타입의 세라믹제(300);
    상기 세라믹제(300)의 외주면에 밀착되면서 작동플레이트(200)에 자력으로 부착되는 자성체(400);
    상기 세라믹제(300)의 상부에 위치되며, 상기 작동플레이트(200)의, 좌,우 왕복이동으로 연마숫돌에 의해 세라믹제(300)의 표면을 연마하며, 연마시 마찰열을 줄이도록 윤활제가 공급되는 공급노즐이 구비되는 연마부(500);
    상기 연마부(500)의 전방에 고정되어 세라믹제(300)의 연마시 발생하는 미세분진의 비산을 방지하는 비산방지부(600)를 포함하는 것을 특징으로 하고,
    상기 작동플레이트(200)는 금속재질로 형성되고, 상기 작동플레이트(200)의 하부에는 세라믹제(300)의 연마시 마찰열을 줄이는 윤활제가 담겨지는 저장조(210)가 더 구비되며,
    상기 자성체(400)는 일정 길이로 형성되며, 상기 세라믹제(300)의 둘레에 자성체(400)의 장변(長邊) 또는 단변(短邊)이 선택적으로 밀착되어 상기 세라믹제(300)가 고정되는 것을 특징으로 하고,
    상기 연마부(500)의 상부에는,
    연마 시 발생하는 이물질을 흡입하여 제거하기 위한 이물질제거부(800);가 더 결합되어 있는 것을 특징으로 하고,
    상기 이물질제거부(800)는,
    상기 연마부(500)의 상부를 차폐할 수 있는 탈착가능한 덕트부(810); 및
    상기 덕트부(810)와 연결되는 이물질제거장치(830);를 포함하며,
    상기 덕트부(810)는,
    콘 형상의 호퍼부(811);
    상기 호퍼부(811)의 확관부 둘레에 테두리부를 형성하는 지지프레임(812); 및
    상기 호퍼부(811)의 협관부에 연장시킨 제1 흡입부(831)와 연결되는 체결프레임(813);을 포함하며,
    상기 이물질제거장치(830)는,
    입구측이 넓고 출구측이 점차 좁아지는 내측 경사면을 갖되 일직선상에 배치되는 복수개의 흡입부(831, 832, 833);
    에어저장부(839)를 형성하며 상기 복수개의 흡입부들의 외경에 결합되는 체결부(834);
    상기 체결부(834)의 외측에 압축공기를 유입시키는 유입부(835);
    상기 에어저장부(839)에 공급되는 압축공기를 상기 복수개의 흡입부들의 내측 경사면을 따라 고압 분사되도록 하고, 상기 복수개의 흡입부들의 연결부 둘레를 따라 다수 형성되는 복수개의 분사부; 및
    상기 유입부에 설치되어 압축공기의 유입을 제어할 수 있는 조절부(838);를 포함하고,
    상기 비산방지부(600)는,
    상기 연마부(500)의 전방 상부에 요입형성되는 고정홈부(610);
    상기 연마부(500)의 전방 하부에 형성되는 착탈홈(620);
    상기 연마부(500)의 전방에 밀착되는 비산방지판(630);
    상기 비산방지판(630)의 일측면 상부에 형성되어 상기 고정홈부(610)에 고정되도록 후크형상으로 형성되는 고정돌기부(640);
    상기 비산방지판(630)의 일측면 하부에 형성되어 착탈홈(620)에 탄력있게 고정되는 탄성고정편(650)이 구비되는 것을 특징으로 하고,
    상기 작동플레이트는,
    진동 또는 충격을 흡수하거나 저감시키기 위해 하부 각 모서리에 바닥받침부;를 더 포함하고,
    상기바닥받침부는,
    중간지지체의 상측에 설치되어 바닥받침대와 대향하면서 상기 작동플레이트의 하측면을 지지하며, 작동플레이트로부터 전달되는 외력을 중간지지체로 전달하는 플레이트받침대;
    상기 플레이트받침대와 대향하면서 바닥의 상측면을 지지하며, 상측에 연결 설치되는 중간지지체를 지지하는 바닥받침대; 및
    상기 플레이트받침대와 바닥받침대의 사이에 회전 가능하도록 연결 설치되며, 작동플레이트로부터 전달되는 외력에 의해 플레이트받침대와 바닥받침대간의 간격이 늘어나거나 줄어듦에 따라 신장 또는 수축되면서 플레이트받침대와 바닥받침대 사이에 발생되는 진동 또는 충격을 완화시켜 주며, 측면을 따라 다수 개의 회전부가 연결 설치되는 중간지지체;를 포함하고,
    상기 중간지지체는,
    상기 플레이트받침대의 하측에 설치되고, 하측에 설치되는 제1 지지기둥을 플레이트받침대의 하측에 회전 가능하도록 설치시키는 제1 베어링;
    원기둥 형태로 형성되어 상기 제1 베어링의 하측에 설치되고, 외측을 따라 다수 개의 설치홈들이 형성되고, 하측에 연결 설치되는 제2 지지기둥에 의해 지지되며, 제1 베어링으로부터 상하 방향의 외력이 전달됨에 따라 회전하는 제1 지지기둥;
    상기 바닥받침대의 상측에 설치되고, 상측에 설치되는 제2 지지기둥을 바닥받침대의 상측에 회전 가능하도록 설치시키는 제2 베어링;
    상기 제1 지지기둥보다 작은 지름의 원기둥 형태로 형성되어 제2 베어링의 상측에 설치되며, 제1 지지기둥의 하부에 형성되는 안착홈에 상부가 삽입되어 안착홈의 상측에 설치되는 탄성부재에 의해 상측이 지지되면서 제1 지지기둥을 지지하는 제2 지지기둥; 및
    상기 안착홈의 상측에 설치되어 안착홈으로 삽입된 제2 지지기둥의 상측을 지지하며, 제1 지지기둥과 제2 지지기둥 사이에 발생되는 상하 방향의 외력을 탄성력을 이용하여 완충시켜 주는 탄성부재;을 포함하고,
    상기 설치홈은,
    상기 회전부의 상부 일측, 즉 제1 돌기가 연결 설치될 수 있도록 제1 지지기둥의 외측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 형성되는 것을 특징으로 하고,
    상기 회전부는,
    바닥받침대의 상부 테두리를 따라 일정한 간격으로 다수 개가 설치되며, 각 상부가 중간지지체의 외측을 따라 연결 설치되어, 중간지지체를 지지하는 동시에 중간지지체가 수축함에 따라 중간지지체가 회전되도록 유도하는 것을 특징으로 하고,
    상하 방향으로 연장 형성되어 바닥받침대의 상부 테두리에 설치되며, 상부 일측에 제1 돌기가 형성되는 수직체;
    상기 설치홈과 대향하는 수직체의 상부 일측에 형성되며, 설치홈의 내측면에 밀착 안착되며, 내측면에 제2 돌기가 형성되는 제1 돌기;
    상기 제1 돌기의 전단에 형성되며, 회전지지탄성체가 안착되는 전면이 전단 상측을 향하는 경사면을 형성하는 안착체;
    상기 안착체의 전방 경사면에 설치되어 안착체의 전방 경사면과 설치홈의 지지벽체 사이를 지지하는 회전지지탄성체; 및
    상기 설치홈의 내측면에 밀착되는 제1 돌기의 일측을 따라 형성되며, 설치의 내측면을 따라 사선 방향으로 연장 형성되는 슬라이딩결합홈에 체결되어 제1 지지기둥이 상하 방향으로 이동함에 따라 슬라이딩결합홈을 따라 슬라이딩 이동하면서 제1 지지기둥을 회전시켜 주는 제2 돌기;를 포함하는, 링타입 세라믹제 연마시스템.
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