KR102563408B1 - Composition for forming optical substrate and optical substrate comprising cured product thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 우수한 광굴절률을 가지는 광학 기재 및 이를 구현할 수 있는 광학 기재 형성용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an optical substrate having an excellent light refractive index and a composition for forming an optical substrate capable of implementing the same.

Description

광학 기재 형성용 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 광학 기재{COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL SUBSTRATE AND OPTICAL SUBSTRATE COMPRISING CURED PRODUCT THEREOF}A composition for forming an optical substrate and an optical substrate including a cured product thereof

본 발명은 광학 기재 형성용 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 광학 기재에 관한 것이다.The present invention relates to an optical substrate including a composition for forming an optical substrate and a cured product thereof.

최근 가상 현실 디바이스(Virtual Reality Device) 및 증강 현실 디바이스(Augmented Reality Device) 등을 이용하여, 사용자에게 3차원의 화상을 제공하는 장치의 개발이 이루어지고 있다. Recently, a device for providing a 3D image to a user has been developed using a virtual reality device, an augmented reality device, and the like.

가상 현실 디바이스 또는 증강 현실 디바이스는 일반적인 안경과 같은 렌즈에 회절 도광 패턴을 형성하여 원하는 이미지를 사용자에게 보이도록 할 수 있다. 일반적으로, 가상 현실 디바이스 또는 증강 현실 디바이스 용도의 렌즈는 굴절률이 높은 유리 기재를 사용하게 되는데, 유리 기재는 높은 굴절률 및 광투과도를 가지는 장점이 있으나, 파손 시 사용자의 안구에 치명적인 손상을 가할 수 있고, 무게가 무거워 장시간 착용에 불편함이 존재한다. A virtual reality device or an augmented reality device may form a diffraction guiding pattern on a lens such as general glasses to show a desired image to a user. In general, a lens for a virtual reality device or an augmented reality device uses a glass substrate having a high refractive index. The glass substrate has the advantage of having a high refractive index and light transmittance, but can cause fatal damage to the user's eyeball when broken, , It is heavy and uncomfortable to wear for a long time.

이에 따라, 가상 현실 디바이스 또는 증강 현실 디바이스 용도로 사용할 수 있도록 높은 굴절률을 가지며, 나아가 가볍고 파손 시 상대적으로 안전한 광학용 기재에 대한 연구가 필요하다.Accordingly, it is necessary to study a substrate for optics that has a high refractive index so that it can be used for virtual reality devices or augmented reality devices, and is lightweight and relatively safe when damaged.

한국 공개공보 10-2017-0089662Korean Publication No. 10-2017-0089662

본 발명은 우수한 광굴절률을 가지는 광학 기재 및 이를 구현할 수 있는 광학 기재 형성용 조성물을 제공한다.The present invention provides an optical substrate having an excellent optical refractive index and a composition for forming an optical substrate capable of implementing the optical substrate.

다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하기의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problem, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시상태는, 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 광반응성 단량체; 광개시제; 계면활성제; 극성 유기 용매; 및 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 2.0 이상인 무기 입자;를 포함하고, 상기 광반응성 단량체의 경화물은 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.6 이상이며, 상기 무기 입자는 고형분 100 중량부에 대하여 75 중량부 이상 90 중량부 이하의 함량으로 포함되는 광학 기재 형성용 조성물을 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention, a photoreactive monomer containing a (meth) acrylate-based compound containing an aromatic group; photoinitiators; Surfactants; polar organic solvents; and inorganic particles having a light refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 589 nm, wherein the cured product of the photoreactive monomer has a light refractive index of 1.6 or more at a wavelength of 589 nm, and the inorganic particles contain 75 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content. It provides a composition for forming an optical substrate included in an amount of 90 parts by weight or less.

또한, 본 발명의 일 실시상태는, 기재; 및 상기 기재의 일면 상에 구비되고, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 회절 격자층;을 포함하는 광학 기재를 제공한다.In addition, an exemplary embodiment of the present invention, a substrate; and a diffraction grating layer provided on one surface of the substrate and including a cured product of the composition for forming the optical substrate.

본 발명의 일 실시상태에 따른 광학 기재 형성용 조성물은 우수한 광학적 물성을 보유하는 광학 기재를 구현할 수 있으므로, 가상 현실 디바이스 및/또는 증강 현실 디바이스의 회절 도광판으로 사용하기에 용이할 수 있다.Since the composition for forming an optical substrate according to an exemplary embodiment of the present invention can implement an optical substrate having excellent optical properties, it can be easily used as a diffraction light guide plate for a virtual reality device and/or an augmented reality device.

본 발명의 일 실시상태에 따른 광학 기재는 가볍고, 우수한 광학적 물성을 보유하고 있으므로, 가상 현실 디바이스 및/또는 증강 현실 디바이스의 회절 도광판으로 용이하게 적용될 수 있으며, 사용자의 피로도를 저감시킬 수 있는 장점이 있다.Since the optical substrate according to one embodiment of the present invention is lightweight and has excellent optical properties, it can be easily applied as a diffraction light guide plate of a virtual reality device and/or an augmented reality device, and has the advantage of reducing user fatigue. there is.

본 발명의 효과는 상술한 효과로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본원 명세서 및 첨부된 도면으로부터 당업자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.Effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the present specification and accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 광학 기재의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 패턴 구조체를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 기재를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예 1에서 제조된 광학 기재의 단면을 주사전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이다.
도 5는 본 발명의 비교예 1에서 제조된 광학 기재를 디지털 사진기로 촬영한 사진이다.
1 is a view schematically showing a cross section of an optical substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a diagram schematically illustrating a pattern structure according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram of an optical substrate according to an embodiment of the present invention.
4 is a photograph taken using a scanning electron microscope of a cross section of an optical substrate prepared in Example 1 of the present invention.
5 is a photograph taken with a digital camera of the optical substrate prepared in Comparative Example 1 of the present invention.

본 명세서에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In this specification, when a part is said to "include" a certain component, it means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.Throughout the present specification, when a member is said to be located “on” another member, this includes not only a case where a member is in contact with another member, but also a case where another member exists between the two members.

본원 명세서 전체에서, 단위 "중량부"는 각 성분간의 중량의 비율을 의미할 수 있다.Throughout the present specification, the unit "parts by weight" may mean the ratio of the weight of each component.

본원 명세서 전체에서, "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 통칭하는 의미로 사용된다.Throughout this specification, "(meth)acrylate" is used as a generic term for acrylate and methacrylate.

본원 명세서 전체에서, "A 및/또는 B"는 "A 및 B, 또는 A 또는 B"를 의미한다.Throughout this specification, "A and/or B" means "A and B, or A or B".

본원 명세서 전체에서, 광굴절률은 25 ℃ 및 50 RH%에서 Spectroscopy Ellipsometry(Ellipsometer M-2000, J.A. Woollam)를 사용하고, Cauchy Film Model을 이용하여 589 ㎚ 파장을 기준으로 측정된 값일 수 있다. Throughout the present specification, the optical refractive index may be a value measured based on a wavelength of 589 nm using Spectroscopy Ellipsometry (Ellipsometer M-2000, J.A. Woollam) at 25° C. and 50 RH% and using a Cauchy Film Model.

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, this specification will be described in more detail.

본 발명의 일 실시상태는, 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 광반응성 단량체; 광개시제; 계면활성제; 극성 유기 용매; 및 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 2.0 이상인 무기 입자;를 포함하고, 상기 광반응성 단량체의 경화물은 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.6 이상이며, 상기 무기 입자는 고형분 100 중량부에 대하여 75 중량부 이상 90 중량부 이하의 함량으로 포함되는 광학 기재 형성용 조성물을 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention, a photoreactive monomer containing a (meth) acrylate-based compound containing an aromatic group; photoinitiators; Surfactants; polar organic solvents; and inorganic particles having a light refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 589 nm, wherein the cured product of the photoreactive monomer has a light refractive index of 1.6 or more at a wavelength of 589 nm, and the inorganic particles contain 75 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content. It provides a composition for forming an optical substrate included in an amount of 90 parts by weight or less.

본 발명의 일 실시상태에 따른 광학 기재 형성용 조성물은 우수한 광학적 물성을 보유하는 광학 기재를 구현할 수 있으므로, 가상 현실 디바이스 및/또는 증강 현실 디바이스의 회절 도광판으로 사용하기에 용이할 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재는 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.75 이상일 수 있다.Since the composition for forming an optical substrate according to an exemplary embodiment of the present invention can implement an optical substrate having excellent optical properties, it can be easily used as a diffraction light guide plate for a virtual reality device and/or an augmented reality device. Specifically, the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate may have an optical refractive index of 1.75 or more at a wavelength of 589 nm.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광반응성 단량체의 경화물은 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.6 이상이다. 구체적으로, 상기 광반응성 단량체 자체만을 경화시켜 형성한 경화물은 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.6 이상, 1.61 이상, 또는 1.62 이상일 수 있다. 경화 후의 광굴절률이 전술한 범위를 만족하는 상기 광반응성 단량체를 포함하는 광학 기재 형성용 조성물은, 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.75 이상인 광학 기재를 용이하게 구현할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the cured product of the photoreactive monomer has an optical refractive index of 1.6 or more at a wavelength of 589 nm. Specifically, the cured product formed by curing only the photoreactive monomer itself may have an optical refractive index of 1.6 or more, 1.61 or more, or 1.62 or more at a wavelength of 589 nm. The composition for forming an optical substrate including the photoreactive monomer whose optical refractive index after curing satisfies the above range can easily implement an optical substrate having a optical refractive index of 1.75 or more at a wavelength of 589 nm.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 (메트)아크릴레이트계 화합물에 함유된 방향족기는 다이벤조퓨란(dibenzofuran)기일 수 있다. 다이벤조퓨란기를 함유하는 상기 (메트)아크릴레이트계 화합물은 경화 후에도, 광굴절률이 저하되는 것이 효과적으로 억제될 수 있고, 경화물의 고분자 매트릭스 내의 가교 구조를 치밀하게 할 수 있다. 이를 통해, 상기 광학 기재 형성용 조성물은 우수한 광굴절률을 가지는 광학 기재를 구현할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the aromatic group contained in the (meth)acrylate-based compound may be a dibenzofuran group. The (meth)acrylate-based compound containing a dibenzofuran group can effectively suppress a decrease in light refractive index even after curing, and can make the cross-linked structure in the polymer matrix of the cured product dense. Through this, the composition for forming an optical substrate can implement an optical substrate having an excellent light refractive index.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물은 (메트)아크릴레이트기를 1 개 포함할 수 있다. 즉 상기 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물은 단관능의 화합물일 수 있다. (메트)아크릴레이트기를 1 개 포함하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 이용함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화 후, 경화물의 고분자 매트릭스 내에 미반응된 (메트)아크릴레이트기가 잔존하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다. 이를 통해, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 광굴절률이 저하되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the (meth)acrylate-based compound containing the aromatic group may include one (meth)acrylate group. That is, the (meth)acrylate-based compound containing the aromatic group may be a monofunctional compound. By using a (meth)acrylate-based compound containing one (meth)acrylate group, after curing the composition for forming an optical substrate, the remaining unreacted (meth)acrylate group in the polymer matrix of the cured product is effectively suppressed. can do. Through this, the optical refractive index of the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate may be effectively suppressed from being lowered.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물은 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 화합물일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the (meth)acrylate-based compound containing the aromatic group may be a compound represented by Formula 1 or Formula 2 below.

[화학식 1][Formula 1]

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 1 및 화학식 2에서 R1은 수소 또는 메틸기일 수 있다.In Chemical Formulas 1 and 2, R1 may be hydrogen or a methyl group.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광반응성 단량체는, 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 1 종 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 광반응성 단량체는 상기 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물이 혼합된 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photoreactive monomer may include one or more (meth)acrylate-based compounds containing an aromatic group. Specifically, the photoreactive monomer may be a mixture of the compounds represented by Formulas 1 and 2 above.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광반응성 단량체는 고형분 100 중량부에 대하여 10 중량부 이상 15 중량부 이하의 함량으로 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 광반응성 단량체의 함량은 고형분 100 중량부에 대하여, 11 중량부 이상 14.5 중량부 이하, 11 중량부 이상 13 중량부 이하, 또는 10.5 중량부 이상 13.5 중량부 이하일 수 있다. 상기 광반응성 단량체의 함량을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 광굴절률을 효과적으로 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 광반응성 단량체의 함량이 전술한 범위 내인 경우, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물의 전단강도, 내구성 등의 기계적 물성이 저하되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 상기 광반응성 단량체의 함량을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 패턴 성형성을 효과적으로 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photoreactive monomer may be included in an amount of 10 parts by weight or more and 15 parts by weight or less based on 100 parts by weight of solid content. Specifically, the content of the photoreactive monomer may be 11 parts by weight or more and 14.5 parts by weight or less, 11 parts by weight or more and 13 parts by weight or less, or 10.5 parts by weight or more and 13.5 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the solid content. By adjusting the content of the photoreactive monomer within the above range, the optical refractive index of the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate may be effectively improved. In addition, when the content of the photoreactive monomer is within the above range, deterioration of mechanical properties such as shear strength and durability of the cured product of the composition for forming an optical substrate may be suppressed. In addition, by adjusting the content of the photoreactive monomer within the above range, it is possible to effectively improve the pattern moldability of the composition for forming the optical substrate.

본 명세서에 있어서, 상기 “고형분”은 용액 전체에서 용제를 제외한 용질 또는 고형물을 의미할 수 있으며, 구체적으로 상기 광학 기재 형성용 조성물의 고형분은 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 광반응성 단량체, 광개시제, 계면활성제, 무기 입자 및 첨가제를 포함하는 것을 의미할 수 있다. 즉, 상기 광학 기재 형성용 조성물은, 광반응성 단량체, 광개시제, 계면활성제, 무기 입자 및 첨가제를 포함하는 고형분과 극성 유기 용매로 이루어질 수 있다.In the present specification, the “solid content” may refer to a solute or solid material excluding the solvent in the entire solution, and specifically, the solid content of the composition for forming an optical substrate includes a (meth)acrylate-based compound containing an aromatic group. It may mean including a photoreactive monomer, a photoinitiator, a surfactant, inorganic particles and additives. That is, the composition for forming the optical substrate may be composed of a polar organic solvent and a solid content including a photoreactive monomer, a photoinitiator, a surfactant, inorganic particles, and additives.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 무기 입자는 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 2.0 이상이다. 구체적으로, 상기 무기 입자는 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 2.1 이상, 또는 2.2 이상일 수 있다. 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 전술한 범위를 만족하는 무기 입자를 사용함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 광굴절률을 효과적으로 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the inorganic particles have a light refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 589 nm. Specifically, the inorganic particles may have an optical refractive index of 2.1 or more, or 2.2 or more at a wavelength of 589 nm. The optical refractive index of the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate may be effectively improved by using inorganic particles having a light refractive index at a wavelength of 589 nm that satisfies the above range.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 무기 입자의 광굴절률은 당업계에서 무기 입자의 광굴절률을 측정하는 장치 및/또는 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 본 발명에서는 Spectroscopy ellipsometry 기기를 사용하고, Cauchy film model을 이용하여 589 ㎚ 파장에서의 상기 무기 입자의 광굴절률을 계산할 수 있다. 예를 들면, 광반응성 단량체(굴절률; RI단량체) 50 중량부에 무기 입자 50 중량부를 혼합하여 제조한 조성물의 경화물이 RI경화물이고, 광반응성 단량체 부피 분율이 V단량체, 무기 입자의 부피 분율이 V입자 인 경우, RI경화물 = (RI단량체 × V단량체) + (RI입자 × V입자)이므로, 이를 이용하여 무기 입자의 굴절률(RI입자)을 계산할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the optical refractive index of the inorganic particles may be measured using a device and/or method for measuring the optical refractive index of inorganic particles in the art. In the present invention, the optical refractive index of the inorganic particles at a wavelength of 589 nm can be calculated using a spectroscopy ellipsometry device and a Cauchy film model. For example, a cured product of a composition prepared by mixing 50 parts by weight of inorganic particles with 50 parts by weight of a photoreactive monomer (refractive index; RI monomer ) is an RI cured product , the volume fraction of the photoreactive monomer is V monomer , and the volume fraction of the inorganic particles In the case of V particles , since RI cured product = (RI monomer × V monomer ) + (RI particle × V particle ), the refractive index of the inorganic particle (RI particle ) can be calculated using this.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 무기 입자는 전술한 광굴절률을 보유하는 실리카, 알루미나, 지르코니아, 제올라이트 및 티타늄 산화물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 광투과율, 헤이즈, 및 엘로우 인덱스 측면에서, 상기 무기 입자는 적어도 지르코니아를 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the inorganic particles may include at least one of silica, alumina, zirconia, zeolite, and titanium oxide having the aforementioned light refractive index. In terms of light transmittance, haze, and yellow index of the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate, the inorganic particles may include at least zirconia.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 무기 입자의 직경은 25 nm 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 무기 입자의 직경은 20 nm 이하, 15 nm 이하, 또는 10 nm 이하일 수 있다. 즉, 상기 무기 입자는 나노 무기 입자일 수 있다. 또한, 상기 무기 입자의 직경은 평균 직경일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the inorganic particles may have a diameter of 25 nm or less. Specifically, the inorganic particle may have a diameter of 20 nm or less, 15 nm or less, or 10 nm or less. That is, the inorganic particles may be nano-inorganic particles. Also, the diameter of the inorganic particles may be an average diameter.

상기 무기 입자의 직경을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 무기 입자는 상기 광학 기재 형성용 조성물 내에서 높은 분산성을 유지할 수 있고, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물에 투명성을 부여하여 광굴절률을 크게 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 무기 입자의 직경이 전술한 범위 내인 경우, 상기 광학 기재 형성용 조성물을 이용하여 제조한 광학 기재의 회절 도광 패턴 내에 상기 무기 입자가 안정적으로 분산되어 존재할 수 있다. 이를 통해, 광학 기재의 광굴절률을 효과적으로 향상시킬 수 있다.By adjusting the diameter of the inorganic particles within the above range, the inorganic particles can maintain high dispersibility in the composition for forming an optical substrate, and impart transparency to a cured product of the composition for forming an optical substrate to increase the optical refractive index. can be greatly improved. In addition, when the diameter of the inorganic particles is within the aforementioned range, the inorganic particles may be stably dispersed and present in the diffraction guide pattern of the optical substrate prepared using the composition for forming the optical substrate. Through this, it is possible to effectively improve the light refractive index of the optical substrate.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 무기 입자의 직경은 당업계에서 무기 입자의 직경을 측정하는 장치 및/또는 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들면, 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope; SEM), 또는 투과전자현미경(Transmission electron microscope; TEM)을 이용하여, 무기 입자를 촬영하고, 촬영된 이미지 내의 무기 입자의 직경을 측정하고, 이의 평균값을 구하여 평균 직경을 구할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the diameter of the inorganic particle may be measured using a device and/or method for measuring the diameter of the inorganic particle in the art. For example, using a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM), the inorganic particles are photographed, the diameters of the inorganic particles in the photographed images are measured, and the average value thereof can be obtained to obtain the average diameter.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 무기 입자의 표면은 유기물로 캡핑된 것일 수 있다. 예를 들면, 상기 무기 입자의 표면은 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 약 1.5인 유기물이 1.5 nm의 두께로 캡핑된 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the surface of the inorganic particle may be capped with an organic material. For example, the surface of the inorganic particle may be capped with an organic material having a light refractive index of about 1.5 at a wavelength of 589 nm to a thickness of 1.5 nm.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 무기 입자는 고형분 100 중량부에 대하여 75 중량부 이상 90 중량부 이하의 함량으로 포함된다. 구체적으로, 상기 무기 입자의 함량은 고형분 100 중량부에 대하여, 80 중량부 이상 90 중량부 이하, 82 중량부 이상 88.5 중량부 이하, 83.5 중량부 이상 87 중량부 이하, 또는 84.5 중량부 이상 85.5 중량부 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the inorganic particles are included in an amount of 75 parts by weight or more and 90 parts by weight or less based on 100 parts by weight of solid content. Specifically, the content of the inorganic particles is 80 parts by weight or more and 90 parts by weight or less, 82 parts by weight or more and 88.5 parts by weight or less, 83.5 parts by weight or more and 87 parts by weight or less, or 84.5 parts by weight or more and 85.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content. may be less than

상기 무기 입자의 함량은 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률을 1.75 이상으로 용이하게 제어할 수 있다. 또한, 상기 무기 입자의 함량이 전술한 범위 내인 경우, 상기 광학 기재 형성용 조성물은 패턴 성형성이 우수하고, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 광투과도, 헤이즈, 및 옐로우 인덱스의 광학적 물성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.By adjusting the content of the inorganic particles within the above range, the optical refractive index of the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate at a wavelength of 589 nm can be easily controlled to 1.75 or more. In addition, when the content of the inorganic particles is within the above range, the composition for forming an optical substrate has excellent pattern formability, and the light transmittance, haze, and yellowness of an optical substrate including a cured product of the composition for forming an optical substrate Deterioration of the optical properties of the index can be prevented.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광반응성 단량체와 상기 무기 입자의 중량비는 1:3 내지 1:9일 수 있다. 구체적으로, 상기 광반응성 단량체와 상기 무기 입자의 중량비는 1:3 내지 1:8, 1:3 내지 1:6, 1:7 내지 1:8.5, 또는 1:7.5 내지 1:8일 수 있다. 상기 광반응성 단량체와 상기 무기 입자의 중량비를 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률을 1.75 이상으로 용이하게 제어할 수 있다. 또한, 상기 광반응성 단량체와 상기 무기 입자의 중량비가 전술한 범위 내인 경우, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 광투과율, 헤이즈, 및 옐로우 인덱스의 광학적 물성을 적절한 수준으로 구현할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the weight ratio of the photoreactive monomer to the inorganic particles may be 1:3 to 1:9. Specifically, the weight ratio of the photoreactive monomer to the inorganic particles may be 1:3 to 1:8, 1:3 to 1:6, 1:7 to 1:8.5, or 1:7.5 to 1:8. By adjusting the weight ratio of the photoreactive monomer and the inorganic particles within the above range, the optical refractive index of the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate at a wavelength of 589 nm can be easily controlled to 1.75 or more. . In addition, when the weight ratio of the photoreactive monomer and the inorganic particles is within the above range, the optical properties of light transmittance, haze, and yellow index of the optical substrate including the cured product of the composition for forming the optical substrate can be implemented at appropriate levels. can

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 계면활성제는 불소계 계면활성제일 수 있다. 불소계 계면활성제를 사용함으로써, 상기 광반응성 단량체와 상기 무기 입자와의 상용성을 효과적으로 개선시킬 수 있고, 이를 통해 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 광학 기재의 광투과율을 향상시킬 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the surfactant may be a fluorine-based surfactant. By using a fluorine-based surfactant, compatibility between the photoreactive monomer and the inorganic particles can be effectively improved, and through this, light transmittance of an optical substrate including a cured product of the composition for forming an optical substrate can be improved. .

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 계면활성제는 고형분 100 중량부에 대하여 2 중량부 이상 5 중량부 이하의 함량으로 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 계면활성제의 함량은 고형분 100 중량부에 대하여 2.5 중량부 이상 4.5 중량부 이하, 또는 2.8 중량부 이상 3.5 중량부 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the surfactant may be included in an amount of 2 parts by weight or more and 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the solid content. Specifically, the content of the surfactant may be 2.5 parts by weight or more and 4.5 parts by weight or less, or 2.8 parts by weight or more and 3.5 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the solid content.

상기 계면활성제의 함량을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물의 표면에너지를 효과적으로 감소시킬 수 있다. 이를 통해, 상기 경화물의 표면 평탄도를 효과적으로 향상시킬 수 있고, 몰드를 이용하여 상기 광학 기재 형성용 조성물의 표면을 성형하며 상기 조성물을 경화시킨 후에 상기 몰드를 보다 용이하게 제거할 수 있는 이점이 있다.By adjusting the content of the surfactant within the above range, the surface energy of the cured product of the composition for forming an optical substrate may be effectively reduced. Through this, it is possible to effectively improve the surface flatness of the cured product, and there is an advantage in that the surface of the composition for forming the optical substrate is molded using a mold and the mold can be more easily removed after curing the composition. .

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광개시제는 고형분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상 1 중량부 이하의 함량으로 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 광개시제의 함량은 고형분 100 중량부에 대하여, 0.15 중량부 이상 0.8 중량부 이하, 0.2 중량부 이상 0.7 중량부 이하, 0.3 중량부 이상 0.6 중량부 이하, 또는 0.4 중량부 이상 0.55 중량부 이하일 수 있다. 상기 광개시제의 함량을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 광경화 반응을 안정적으로 수행할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photoinitiator may be included in an amount of 0.1 parts by weight or more and 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of solid content. Specifically, the content of the photoinitiator is 0.15 parts by weight or more and 0.8 parts by weight or less, 0.2 parts by weight or more and 0.7 parts by weight or less, 0.3 parts by weight or more and 0.6 parts by weight or less, or 0.4 parts by weight or more and 0.55 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content. may be below. By adjusting the content of the photoinitiator within the above range, the photocuring reaction of the composition for forming an optical substrate may be stably performed.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광개시제는 벤조 페논계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 광개시제의 구체적인 예로는 벤조페논(Benzophenone), 벤조일 메틸 벤조에이트(Benzoyl methyl benzoate), 아세토페논(acetophenone), 2,4-디에틸 티오크산톤(2,4-diehtyl thioxanthone), 2-클로로 티오크산톤(2-chloro thioxanthone), 에틸 안트라키논(ethyl anthraquinone), 1-히드록시 시클로헥시 페닐 케톤(1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 시판 제품으로는 BASF사의 Irgacure 184), 또는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판온(2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 시판 제품으로는 BASF사의 Darocur1173)을 사용할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photoinitiator may be a benzophenone-based compound, an acetophenone-based compound, a biimidazole-based compound, a triazine-based compound, an oxime-based compound, or a mixture thereof. Specifically, specific examples of the photoinitiator include benzophenone, benzoyl methyl benzoate, acetophenone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2 -Chloro thioxanthone (2-chloro thioxanthone), ethyl anthraquinone (ethyl anthraquinone), 1-hydroxy cyclohexyl-phenyl-ketone (1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, commercially available products are BASF's Irgacure 184), Alternatively, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propanone (2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, commercially available as Darocur1173 from BASF) may be used.

보다 구체적으로, 상기 광개시제는 Irgacure 184, Irgacure 819, Irgacure 250(이상, BASF 社), DIC-F560, Darocur 1173 (이상, Ciba 社), WPI-113, WPI-116, WPI-169, WPI-170, WPI-124, WPAG-638, WPAG-469, WPAG-370, WPAG-367, WPAG-336(이상, 와코쥰야쿠 공업 社), B2380, B2381, C1390, D2238, D2248, D2253, I0591, T1608, T1609, T2041, T2042(이상, 도쿄카세이공업 社), AT-6992, At-6976(ACETO 社), CPI-100, CPI-100P, CPI101A, CPI-200K, CPI-210S(이상, 산아프로 社), SP-056, SP-066, SP-130, SP-140, SP-150, SP-170, SP-171, SP-172(이상, ADEKA 社), CD-1010, CD-1011, CD-1012(이상, 사토머 社), San Aid SI-60, SI-80, SI-100, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-L145, SI-L150, SI-L160, SI-L110, SI-L147(이상, 산신카가쿠공업 社), PI2074(로디아재팬 社) 등을 이용할 수 있다. 다만, 상기 광개시제의 종류를 한정하는 것은 아니다.More specifically, the photoinitiator is Irgacure 184, Irgacure 819, Irgacure 250 (above, BASF), DIC-F560, Darocur 1173 (above, Ciba), WPI-113, WPI-116, WPI-169, WPI-170 , WPI-124, WPAG-638, WPAG-469, WPAG-370, WPAG-367, WPAG-336 (above, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), B2380, B2381, C1390, D2238, D2248, D2253, I0591, T1608, T1609, T2041, T2042 (above, Tokyo Kasei Industrial Co.), AT-6992, At-6976 (above, ACETO Co.), CPI-100, CPI-100P, CPI101A, CPI-200K, CPI-210S (above, San Apro Co.) , SP-056, SP-066, SP-130, SP-140, SP-150, SP-170, SP-171, SP-172 (above, ADEKA), CD-1010, CD-1011, CD-1012 (Above, Sartomer), San Aid SI-60, SI-80, SI-100, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-L145, SI-L150, SI-L160, SI-L110, SI-L147 (above, Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), PI2074 (Rhodia Japan Co., Ltd.), etc. can be used. However, the type of the photoinitiator is not limited.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 극성 유기 용매는 당업계에서 사용되는 극성 유기 용매를 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 극성 유기 용매는, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA), 2-부톡시에탄올 아세테이트, 테트라에틸렌글라이콜디메틸에테르 및 디에틸렌글라이콜디부틸에테르 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the polar organic solvent used in the art may be used without limitation. For example, the polar organic solvent includes at least one of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), 2-butoxyethanol acetate, tetraethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dibutyl ether can do.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재 형성용 조성물은 이형제, UV 흡수제, 산화 방지제, UV 안정제, 염료, 및 안료 중 적어도 하나를 포함하는 첨가제를 더 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the composition for forming the optical substrate may further include an additive including at least one of a release agent, a UV absorber, an antioxidant, a UV stabilizer, a dye, and a pigment.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형제는 실리콘계 화합물 또는 알킬 포스페이트계 화합물일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 당업계에서 사용되는 이형제를 적용할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the release agent may be a silicone-based compound or an alkyl phosphate-based compound, but is not limited thereto, and a release agent used in the art may be applied.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 UV 흡수제는 벤조페논(Benzophenone)계 화합물, 벤조트리아졸(Benzotriazole)계 화합물, 또는 히드록시페닐트리아진(Hydroxy phenyl triazine)계 화합물일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 당업계에서 사용되는 UV 흡수제를 적용할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the UV absorber may be a benzophenone-based compound, a benzotriazole-based compound, or a hydroxyphenyltriazine-based compound, but is limited thereto It is not, and a UV absorber used in the art may be applied.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 UV 안정제는 힌더드아민(Hindered Amine)계 화합물일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 당업계에서 사용되는 UV 안정제를 적용할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the UV stabilizer may be a hindered amine compound, but is not limited thereto, and UV stabilizers used in the art may be applied.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염료 및/또는 안료는 상기 광학 기재의 색상값의 개선을 위하여 첨가되는 것으로서, 당업계에서 사용되는 염료 및/또는 안료를 적용할 수 있다. 예를 들어, 광학 기재의 초기 색상의 옐로우 인덱스(yellow index) 값이 높을 경우, 청색 염료로서 안트라퀴논(Anthraquinone)계 화합물, 프탈로시아닌(phthalocyanine)계 화합물, 인단스렌(Indanthren)계 화합물 등을 사용할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the dye and / or pigment is added to improve the color value of the optical substrate, and dyes and / or pigments used in the art may be applied. For example, when the yellow index value of the initial color of the optical substrate is high, an anthraquinone-based compound, a phthalocyanine-based compound, an indanthren-based compound, or the like can be used as a blue dye. there is.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 첨가제의 함량은 광학 기재 형성용 조성물의 고형분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상 5 중량부 이하일 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 광학 기재의 용도에 따라서 상기 첨가제의 함량은 적절하게 조절될 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of the additive may be 0.1 parts by weight or more and 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the solid content of the composition for forming an optical substrate. However, it is not limited thereto, and the content of the additive may be appropriately adjusted according to the use of the optical substrate.

본 발명의 일 실시상태는, 기재; 및 상기 기재의 일면 상에 구비되고, 상기 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 회절 격자층;을 포함하는 광학 기재를 제공한다. 즉, 상기 광학 기재는, 방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 광반응성 단량체, 광개시제, 계면활성제, 극성 유기 용매, 및 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 2.0 이상인 무기 입자를 포함하고, 광반응성 단량체의 경화물의 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.6 이상인 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 회절 격자층과 기재를 포함할 수 있다.An exemplary embodiment of the present invention is a substrate; and a diffraction grating layer provided on one surface of the substrate and including a cured product of the composition for forming the optical substrate. That is, the optical substrate includes a photoreactive monomer including a (meth)acrylate-based compound containing an aromatic group, a photoinitiator, a surfactant, a polar organic solvent, and an inorganic particle having a light refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 589 nm. , A diffraction grating layer including a cured product of a composition for forming an optical substrate having a light refractive index of 1.6 or more at a wavelength of 589 nm of a cured product of a photoreactive monomer and a substrate.

본 발명의 일 실시상태에 따른 광학 기재는 가볍고, 우수한 광학적 물성을 보유하고 있으므로, 가상 현실 디바이스 및/또는 증강 현실 디바이스의 회절 도광판으로 용이하게 적용될 수 있으며, 사용자의 피로도를 저감시킬 수 있는 장점이 있다.Since the optical substrate according to one embodiment of the present invention is lightweight and has excellent optical properties, it can be easily applied as a diffraction light guide plate of a virtual reality device and/or an augmented reality device, and has the advantage of reducing user fatigue. there is.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 기재는 유리 기재 또는 플라스틱 기재일 수 있으나, 상기 기재의 종류를 한정하는 것은 아니다. 또한, 상기 광학 기재를 증강현실 디바이스용 회절 도광판 또는 가상현실 디바이스용 회절 도광판에 적용 시에, 상기 회절 도광판의 광학적 물성을 저하시키지 않은 기재를 제한없이 사용할 수도 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the substrate may be a glass substrate or a plastic substrate, but the type of the substrate is not limited. In addition, when the optical substrate is applied to a diffraction light guide plate for an augmented reality device or a diffraction light guide plate for a virtual reality device, a substrate that does not degrade the optical properties of the diffraction light guide plate may be used without limitation.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재의 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률은 1.75 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 기재의 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률은 1.79 또는 1.8 이상일 수 있다. 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률은 1.75 이상인 상기 광학 기재는 광학적 물성이 우수하므로, 증강현실 디바이스용 회절 도광판 또는 가상현실 디바이스용 회절 도광판에 용이하게 적용할 수 있는 장점이 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the optical refractive index of the optical substrate at a wavelength of 589 nm may be 1.75 or more. Specifically, the optical refractive index of the optical substrate at a wavelength of 589 nm may be 1.79 or 1.8 or more. Since the optical substrate having a refractive index of 1.75 or more at a wavelength of 589 nm has excellent optical properties, it has the advantage of being easily applied to a diffraction light guide plate for an augmented reality device or a diffraction light guide plate for a virtual reality device.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재의 헤이즈 값은 1 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 기재의 헤이즈 값은 0.5 이하, 또는 0.3 이하일 수 있다. 헤이즈 값이 전술한 범위를 만족하는 상기 광학 기재는 광학 물성이 우수하여, 증강현실 디바이스용 회절 도광판 또는 가상현실 디바이스용 회절 도광판으로 적용하기 용이한 이점이 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the haze value of the optical substrate may be 1 or less. Specifically, the haze value of the optical substrate may be 0.5 or less, or 0.3 or less. The optical substrate having a haze value within the aforementioned range has excellent optical properties, and thus has an advantage of being easily applied as a diffraction light guide plate for an augmented reality device or a diffraction light guide plate for a virtual reality device.

상기 광학 기재의 헤이즈는 당업계에서 부재의 헤이즈를 측정하는 장치 및/또는 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들면, 광학 기재의 회절 격자층이 광원 방향을 향하도록 위치시킨 후, 헤이즈미터(Nippon Denshoku社의 COH400)를 사용하여 JIS K 7105-1 규격에 따라 측정할 수 있다.The haze of the optical substrate may be measured using a device and/or method for measuring the haze of a member in the art. For example, after positioning the diffraction grating layer of the optical substrate to face the direction of the light source, it can be measured according to JIS K 7105-1 standard using a haze meter (COH400 manufactured by Nippon Denshoku).

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재의 옐로우 인덱스 값은 3 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 기재의 옐로우 인덱스 값은 2.9 이하, 또는 2.7이하일 수 있다. 옐로우 인덱스 값이 전술한 범위를 만족하는 상기 광학 기재는 광학 물성이 우수할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the yellow index value of the optical substrate may be 3 or less. Specifically, the yellow index value of the optical substrate may be 2.9 or less, or 2.7 or less. The optical substrate having a yellow index value within the above range may have excellent optical properties.

상기 광학 기재의 옐로우 인덱스 값은 당업계에서 부재의 옐로우 인덱스를 측정하는 장치 및/또는 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들면, Nippon Denshoku社의 COH400 투과율 측정기를 사용하여, ASTM 규격을 따라 광학 기재의 옐로우 인덱스 값을 측정할 수 있다.The yellow index value of the optical substrate may be measured using a device and/or method for measuring the yellow index of a member in the art. For example, the yellow index value of the optical substrate may be measured according to ASTM standards using a COH400 transmittance meter manufactured by Nippon Denshoku.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재의 가시광선 파장에서의 광투과율은 85 % 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 기재의 가시광선 파장에서의 광투과율은 89 % 이상, 또는 90 % 이상일 수 있다. 가시광선 파장에서의 광투과율이 전술한 범위를 만족하는 광학 기재는, 증강현실 디바이스용 회절 도광판 또는 가상현실 디바이스용 회절 도광판으로 사용하기에 용이할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, light transmittance of the optical substrate at a wavelength of visible light may be 85% or more. Specifically, the light transmittance of the optical substrate at a wavelength of visible light may be 89% or more, or 90% or more. An optical substrate having light transmittance at visible light wavelengths within the aforementioned range may be easily used as a diffraction light guide plate for an augmented reality device or a diffraction light guide plate for a virtual reality device.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 당업계에서 부재의 광투과율을 측정하는 장치 및/또는 방법을 이용하여 상기 광학 기재의 광투과율을 측정할 수 있다. 예를 들면, Nippon Denshoku社의 COH400 장비를 이용하여 상기 광학 기재의 가시광선 파장에서의 광투과율을 측정할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the light transmittance of the optical substrate may be measured using a device and/or method for measuring the light transmittance of a member in the art. For example, the light transmittance of the optical substrate at a wavelength of visible light may be measured using COH400 equipment manufactured by Nippon Denshoku.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재의 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률과 가시광선 파장에서의 광투과율, 옐로우 인덱스 및 헤이즈 값은, 기재로서 코닝社 LCD용 유리(두께 0.7 mm) 상에 상기 회절 격자층을 1 ㎛의 두께로 형성한 광학 기재를 기준으로, 측정한 값일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the light refractive index at a wavelength of 589 nm and the light transmittance, yellow index, and haze values at a wavelength of visible light of the optical substrate are measured on Corning's LCD glass (thickness: 0.7 mm) as a substrate. It may be a value measured based on an optical substrate on which the diffraction grating layer is formed to a thickness of 1 μm.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 회절 격자층의 일면은 패턴 구조체를 포함하고, 상기 패턴 구조체는 상기 무기 입자를 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, one surface of the diffraction grating layer may include a pattern structure, and the pattern structure may include the inorganic particles.

도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 광학 기재의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 1은 기재(100)의 일면 상에 회절 격자층(200)이 구비된 광학 기재를 나타낸 것이며, 회절 격자층(200)의 일면에는 패턴 구조체(210)가 구비되며, 패턴 구조체(210)는 무기 입자(300)를 포함할 수 있다.1 is a view schematically showing a cross section of an optical substrate according to an exemplary embodiment of the present invention. Specifically, FIG. 1 shows an optical substrate having a diffraction grating layer 200 on one surface of a substrate 100, and a pattern structure 210 is provided on one surface of the diffraction grating layer 200, and the pattern structure ( 210) may include inorganic particles 300.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 패턴 구조체에 상기 무기 입자가 포함됨에 따라, 상기 회절 격자층을 포함하는 광학 기재는 589 ㎚ 파장에서 1.75 이상의 광굴절률을 용이하게 구현할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, as the inorganic particles are included in the pattern structure, the optical substrate including the diffraction grating layer can easily implement an optical refractive index of 1.75 or more at a wavelength of 589 nm.

도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 패턴 구조체를 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 2는 회절 격자층(200)의 일면으로부터 패턴 구조체(210)가 θ의 경사각을 이루며 구비되고, 패턴 구조체(210)는 h의 높이를 가지며, 패턴 구조체(210)는 d1의 폭을 가지고, 2 이상의 패턴 구조체(210)가 d2의 간격(pitch)를 가지며 구비된 것을 나타낸 도면이다. 본 발명에서 “간격”은 패턴 구조체가 반복되는 간격을 의미하며, 도 2와 같이, 하나의 패턴 구조체(210)의 일 지점과 이와 인접하는 다른 하나의 패턴 구조체(210)의 일 지점 사이의 길이를 의미할 수 있다. 하나의 패턴 구조체(210)의 일 지점과 다른 하나의 패턴 구조체(210)의 일 지점은 패턴 구조체(210) 간에 서로 대응되는 위치를 의미할 수 있다.2 is a diagram schematically illustrating a pattern structure according to an exemplary embodiment of the present invention. Specifically, in FIG. 2 , the pattern structure 210 is provided at an inclination angle of θ from one surface of the diffraction grating layer 200, the pattern structure 210 has a height of h, and the pattern structure 210 has a width of d1. It is a view showing that two or more pattern structures 210 are provided with a pitch of d2. In the present invention, “interval” means the interval at which the pattern structure is repeated, and as shown in FIG. 2, the length between a point of one pattern structure 210 and a point of another pattern structure 210 adjacent thereto. can mean A point of one pattern structure 210 and a point of another pattern structure 210 may mean positions corresponding to each other between the pattern structures 210 .

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 패턴 구조체의 폭은 100 nm 이상 400 nm 이하이고, 상기 패턴 구조체 간의 간격은 200 nm 이상 800 nm 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 패턴 구조체의 폭은 100 nm 이상 300 nm 이하, 또는 150 nm 이상 250 nm 이하일 수 있다. 또한, 상기 패턴 구조체 간의 간격은 300 nm 이상 600 nm 이하, 또는 350 nm 이상 450 nm 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the width of the pattern structure may be 100 nm or more and 400 nm or less, and the interval between the pattern structures may be 200 nm or more and 800 nm or less. Specifically, the pattern structure may have a width of 100 nm or more and 300 nm or less, or 150 nm or more and 250 nm or less. In addition, the interval between the pattern structures may be 300 nm or more and 600 nm or less, or 350 nm or more and 450 nm or less.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재 형성용 조성물을 이용하여, 전술한 폭을 가지는 패턴 구조체를 포함하는 회절 격자층을 용이하게 형성할 수 있다. 또한, 상기 광학 기재 형성용 조성물은 성형성이 우수하여, 상기 패턴 구조체 간의 간격을 전술한 범위로 용이하게 구현할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a diffraction grating layer including a pattern structure having the width described above can be easily formed using the composition for forming an optical substrate. In addition, the composition for forming the optical substrate has excellent moldability, and thus the interval between the pattern structures can be easily implemented within the above-described range.

또한, 상기 회절 격자층에 포함되는 상기 복수의 패턴 구조체 각각은 폭이 서로 상이할 수 있고, 상기 패턴 구조체 간의 간격은 회절 격자층의 영역에 따라 서로 상이하게 설정될 수 있다. 또한, 상기 패턴 구조체의 폭 및 패턴 구조체 간의 간격은, 상기 광학 기재가 적용되는 회절 도광판의 사양에 따라 조절될 수 있다.Also, each of the plurality of pattern structures included in the diffraction grating layer may have different widths, and intervals between the pattern structures may be differently set according to regions of the diffraction grating layer. In addition, the width of the pattern structure and the interval between the pattern structures may be adjusted according to the specifications of the diffraction light guide plate to which the optical substrate is applied.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 패턴 구조체의 폭 및 패턴 구조체 간의 간격을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 광학 기재의 광굴절률, 광투과도, 헤이즈, 및 옐로우 인덱스 등의 광학적 물성을 보다 향상시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 기재의 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률과 광투과도를 회절 도광판에 적용하기에 적절한 수준으로 용이하게 조절할 수 있다. 또한, 상기 광학 기재의 헤이즈 값 및 엘로우 인덱스 값을 효과적으로 감소시킬수 있으므로, 상기 광학 기재의 광학적 물성이 저하되는 것을 억제할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, by adjusting the width of the pattern structure and the distance between the pattern structures to the above range, optical properties such as light refractive index, light transmittance, haze, and yellow index of the optical substrate can be further improved. can Specifically, the light refractive index and light transmittance of the optical substrate at a wavelength of 589 nm can be easily adjusted to appropriate levels for application to a diffraction light guide plate. In addition, since the haze value and the yellow index value of the optical substrate can be effectively reduced, deterioration of optical properties of the optical substrate can be suppressed.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 패턴 구조체는 회절 격자층의 일면으로부터 50 °이상 90 ° 이하의 각도로 기울어진 경사 패턴을 갖는 것일 수 있다. 도 2를 참고하면, 상기 패턴 구조체(210)는 회절 격자층(200)의 일면으로부터 50°이상 90°이하의 경사각(θ)을 이루며 구비될 수 있다. 또한, 상기 패턴 구조체(210)의 높이(h)는 0 nm 초과 600 nm 이하일 수 있다. 상기 경사 패턴 구조체의 경사각 및/또는 상기 패턴 구조체의 높이를 전술한 범위로 조절함으로써, 회절 도광판에 적용하기에 용이한 광학 기재를 구현할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the pattern structure may have an inclined pattern inclined at an angle of 50° or more and 90° or less from one surface of the diffraction grating layer. Referring to FIG. 2 , the pattern structure 210 may be provided at an inclination angle θ of 50° or more and 90° or less from one surface of the diffraction grating layer 200 . Also, the height h of the pattern structure 210 may be greater than 0 nm and less than 600 nm. By adjusting the inclination angle of the inclined pattern structure and/or the height of the pattern structure within the above range, an optical substrate that is easily applied to the diffraction light guide plate may be implemented.

또한, 상기 패턴 구조체의 폭 및 패턴 구조체 간의 간격은, 상기 광학 기재가 적용되는 회절 도광판의 사양에 따라 조절될 수 있다.In addition, the width of the pattern structure and the interval between the pattern structures may be adjusted according to the specifications of the diffraction light guide plate to which the optical substrate is applied.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 기재를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 3을 참고하면, 회절 격자층(200)의 일측에서 타측 방향을 따라 회절 격자층(200)에 제1 회절 영역(410), 제2 회절 영역(420) 및 제3 회절 영역(430)이 구획될 수 있다. 또한, 제1 회절 영역(410), 제2 회절 영역(420) 및 제3 회절 영역(430) 각각에는 패턴 구조체(210)가 구비될 수 있고, 각 영역에 구비되는 패턴 구조체(210)의 형태는 서로 상이할 수 있다.3 is a schematic diagram of an optical substrate according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3 , a first diffraction area 410, a second diffraction area 420, and a third diffraction area 430 are formed in the diffraction grating layer 200 along a direction from one side to the other side of the diffraction grating layer 200. can be compartmentalized. In addition, the pattern structure 210 may be provided in each of the first diffraction region 410, the second diffraction region 420, and the third diffraction region 430, and the shape of the pattern structure 210 provided in each region. may be different from each other.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재는 상기 회절 격자층의 일측으로부터 타측 방향을 따라 구획되는 제1 회절 영역, 제2 회절 영역 및 제3 회절 영역 중 적어도 제1 회절 영역과 제3 회절 영역을 포함할 수 있다. 즉, 상기 광학 기재의 회절 격자층은 제1 회절 영역과 제3 회절 영역을 포함하고, 제2 회절 영역을 추가적으로 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the optical substrate includes at least a first diffraction area and a third diffraction area among a first diffraction area, a second diffraction area, and a third diffraction area partitioned along a direction from one side to the other side of the diffraction grating layer. area can be included. That is, the diffraction grating layer of the optical substrate may include a first diffraction area and a third diffraction area, and may additionally include a second diffraction area.

도 3을 참고하면, 상기 제1 회절 영역(410)은 다양한 파장값을 가지는 광 들을 포함하는 입사광이 입사되는 영역일 수 있다. 또한, 상기 제2 회절 영역(420)은 광학 기재 내로 입사된 광 들이 회절되는 영역이며, 제1 회절 영역(410)에 입사된 광을 제3 회절 영역(430)으로 확장하는 영역일 수 있다. 제3 회절 영역(430)은 광학 기재에서 광이 출사되는 영역으로, 상기 광학 기재를 포함하는 회절 도광판을 디스플레이 유닛에 사용하는 경우, 제3 회절 영역(430)은 디스플레이 유닛 사용자의 안구와 인접하는 영역으로, 광이 출사되어 사용자에게 디스플레이 정보를 제공하는 영역일 수 있다.Referring to FIG. 3 , the first diffractive region 410 may be a region into which incident light including light having various wavelength values is incident. Also, the second diffraction area 420 is an area in which light incident into the optical substrate is diffracted, and may be an area in which light incident on the first diffraction area 410 is expanded to a third diffraction area 430. The third diffraction area 430 is an area from which light is emitted from the optical substrate, and when the diffraction light guide plate including the optical substrate is used in the display unit, the third diffraction area 430 is adjacent to the eyeball of the user of the display unit. As an area, it may be an area where light is emitted to provide display information to the user.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 패턴 구조체는 상기 회절 격자층의 일측에서 타측 방향을 따라 높이가 변화되는 것일 수 있다. 도 3을 참고하면, 상기 회절 격자층은 영역에 따라, 높이가 일정한 복수의 패턴 구조체와, 높이가 점진적으로 변화되는 복수의 패턴 구조체를 포함할 수 있다. 특히, 제3 회절 영역에 구비되는 복수의 패턴 구조체의 높이를 점진적으로 증가시킴으로써, 제3 회절 영역의 일측에서 타측 방향으로 광회절 효율을 점진적으로 향상시킬 수 있다. 이를 통해, 상기 광학 기재를 포함하는 회절 도광판을 디스플레이 유닛에 사용하는 경우, 사용자는 보다 우수한 품질의 영상 정보를 제공받을 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the pattern structure may have a height that varies from one side of the diffraction grating layer to the other side. Referring to FIG. 3 , the diffraction grating layer may include a plurality of pattern structures having constant heights and a plurality of pattern structures having gradually changed heights according to regions. In particular, by gradually increasing the heights of the plurality of pattern structures provided in the third diffraction area, light diffraction efficiency may be gradually improved from one side of the third diffraction area to the other side. Through this, when the diffraction light guide plate including the optical substrate is used in a display unit, a user can be provided with image information of a higher quality.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 패턴 구조체는 상기 회절 격자층의 일측에서 타측 방향을 따라 듀티가 변화되는 것일 수 있다. 본 발명에서 “듀티(duty)”는 패턴 구조체의 폭의 값을 패턴 구조체 간의 간격으로 나눈 값(패턴 구조체의 폭/패턴 구조체의 간격)을 의미할 수 있다. 도 3을 참고하면, 패턴 구조체의 듀티는 패턴 구조체의 폭(d1)를 패턴 구조체의 간격(d2)으로 나눈 값(d1/d2)이 될 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the pattern structure may have a duty that changes along a direction from one side of the diffraction grating layer to the other side. In the present invention, “duty” may mean a value obtained by dividing the value of the width of the pattern structure by the interval between the pattern structures (width of the pattern structure/interval between the pattern structures). Referring to FIG. 3 , the duty of the pattern structure may be a value (d1/d2) obtained by dividing the width d1 of the pattern structure by the spacing d2 of the pattern structure.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 격자층의 상기 제3 회절 영역은 일측에서 타측까지 점진적으로 듀티가 증가하는 패턴 구조체를 포함할 수 있다. 상기 회절 격자층의 제3 회절 영역은 일측에서 타측까지 점진적으로 듀티가 증가하는 패턴 구조체를 포함함으로써, 제3 회절 영역의 일측에서 타측까지 광 회절효율이 점진적으로 증가될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the third diffraction region of the diffraction grating layer may include a pattern structure in which duty gradually increases from one side to the other side. Since the third diffraction region of the diffraction grating layer includes a pattern structure having a duty gradually increasing from one side to the other side, light diffraction efficiency may be gradually increased from one side to the other side of the third diffraction region.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 패턴 구조체의 듀티는 패턴 구조체의 폭 및 패턴 구조체 간의 간격을 조절하여 제어할 수 있다. 예를 들면, 패턴 구조체의 간격을 동일하게 설정하고, 패턴 구조체의 폭을 점진적으로 증가시킴으로써, 패턴 구조체의 듀티를 증가시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the duty of the pattern structure may be controlled by adjusting the width of the pattern structure and the interval between the pattern structures. For example, the duty cycle of the pattern structures may be increased by setting the same intervals between the pattern structures and gradually increasing the widths of the pattern structures.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 패턴 구조체의 듀티는 0.1 이상 1.0 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 제3 회절 영역에 포함되는 패턴 구조체의 듀티는 0.1 이상 1.0 이하일 수 있다. 상기 제3 회절 영역에 포함되는 패턴 구조체의 튜티를 전술한 범위로 조절함으로써, 회절 도광판에 적용하기에 용이한 광학 기재를 구현할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the duty of the pattern structure may be greater than or equal to 0.1 and less than or equal to 1.0. Specifically, the duty of the pattern structure included in the third diffraction region may be greater than or equal to 0.1 and less than or equal to 1.0. By adjusting the duty ratio of the pattern structure included in the third diffraction region to the above range, an optical substrate that can be easily applied to the diffraction light guide plate can be implemented.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광학 기재는 증강현실 디바이스용 회절 도광판 또는 가상현실 디바이스용 회절 도광판일 수 있다. 즉, 상기 광학 기재는 광굴절률, 광투과율, 헤이즈, 및 옐로우 인덱스 등의 광학적 물성이 우수함과 동시에 가볍기 때문에, 증강현실 디바이스용 회절 도광판 또는 가상현실 디바이스용 회절 도광판으로 적용이 용이한 장점이 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the optical substrate may be a diffraction light guide plate for an augmented reality device or a diffraction light guide plate for a virtual reality device. That is, since the optical substrate has excellent optical properties such as optical refractive index, light transmittance, haze, and yellow index and is lightweight, it is easy to apply as a diffraction light guide plate for an augmented reality device or a diffraction light guide plate for a virtual reality device.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail to explain the present invention in detail. However, embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, and the scope of the present invention is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments herein are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

실시예Example 1 One

광학 기재 형성용 조성물의 제조Preparation of a composition for forming an optical substrate

광반응성 단량체로서 상기 화학식 1로 표시되는 (메트)아크릴레이트계 화합물인 dibenzo[b,d]furan-3-ylmethyl acrylate와 상기 화학식 2로 표시되는 (메트)아크릴레이트계 화합물인 dibenzo[b,d]furan-3,7-diylbis(methylene) diacrylate가 혼합된 M1082(Miwon specialty 社)를 준비하고, 광개시제로서 Darocur 1173(Ciba 社), 불소계 계면활성제로서 DIC-F560(Megaface 社), 무기 입자로서 지르코니아(ZrO2)와 용제인 2-부톡시에탄올 아세테이트가 1:1 중량비로 혼합된 PCPG-50-BCA(Pixelligent 社)를 준비하였다. As photoreactive monomers, dibenzo[b,d]furan-3-ylmethyl acrylate, a (meth)acrylate-based compound represented by Formula 1, and dibenzo[b,d], a (meth)acrylate-based compound represented by Formula 2 above ] Prepare M1082 (Miwon Specialty Co.) mixed with furan-3,7-diylbis (methylene) diacrylate, Darocur 1173 (Ciba Co.) as a photoinitiator, DIC-F560 (Megaface Co.) as a fluorine-based surfactant, and zirconia as inorganic particles (ZrO 2 ) and 2-butoxyethanol acetate as a solvent were mixed in a weight ratio of 1:1 to prepare PCPG-50-BCA (Pixelligent Co.).

이 때, 광반응성 단량체만을 경화시킨 경화물은, 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 약 1.65이었다. 그리고, 상기 지르코니아(ZrO2)는 589 nm 파장에서의 광굴절률이 2.1이고 평균 직경이 8 nm이었다.At this time, the cured product obtained by curing only the photoreactive monomer had a light refractive index of about 1.65 at a wavelength of 589 nm. In addition, the zirconia (ZrO 2 ) had an optical refractive index of 2.1 at a wavelength of 589 nm and an average diameter of 8 nm.

이후, 준비된 M1082, Darocur 1173, DIC-F560, 및 PCPG-50-BCA를 혼합하여 광학 기재 형성용 조성물을 제조하였다.Thereafter, a composition for forming an optical substrate was prepared by mixing prepared M1082, Darocur 1173, DIC-F560, and PCPG-50-BCA.

이 때, 제조된 광학 기재 형성용 조성물의 고형분은 약 54 중량%이었다. 또한, 고형분 100 중량부에 대하여, 무기 입자인 지르코니아의 함량은 약 85.3 중량부, 광반응성 단량체의 함량은 약 11.4 중량부, 광개시제의 함량은 약 2.8 중량부, 불소계 계면활성제의 함량은 약 0.5 중량부이었다.At this time, the solid content of the prepared composition for forming an optical substrate was about 54% by weight. In addition, with respect to 100 parts by weight of solid content, the content of zirconia, which is an inorganic particle, is about 85.3 parts by weight, the content of photoreactive monomer is about 11.4 parts by weight, the content of photoinitiator is about 2.8 parts by weight, and the content of fluorine-based surfactant is about 0.5 parts by weight. It was wealth.

광학 기재의 제조Manufacture of optical substrates

기재로서 두께가 0.7 mm인 LCD 유리(코닝社)를 준비하고, 상기 제조된 광학용 기재 형성용 조성물을 유리 기재 상에 약 1 ㎛의 두께로 도포하고, 80 ℃의 온도에서 약 3분 건조시켰다. 이후, 미리 설정된 회절 격자층의 패턴이 음각된 몰드를 이용하여 기재 상의 광학용 기재 형성용 조성물의 표면에 임프린팅하였다. 임프린팅 하는 과정에서, 약 40 ℃의 온도에서 100 mw/cm2 이상의 세기를 가지는 자외선을 60초 이상 조사하여 상기 광학용 기재 형성용 조성물을 광경화시킴으로써, 기재 상에 회절 격자층이 구비된 광학 기재를 제조하였다.LCD glass (Corning Co., Ltd.) having a thickness of 0.7 mm was prepared as a substrate, and the composition for forming an optical substrate was applied to a thickness of about 1 μm on the glass substrate, and dried at a temperature of 80 ° C. for about 3 minutes. . Thereafter, the pattern of the diffraction grating layer set in advance was imprinted on the surface of the composition for forming a substrate for optical use on the substrate using an intaglio mold. In the process of imprinting, ultraviolet rays having an intensity of 100 mw/cm 2 or more at a temperature of about 40° C. are irradiated for 60 seconds or more to photo-cur the composition for forming a substrate for optical use, so that the diffraction grating layer is provided on the substrate. A substrate was prepared.

이 때 도 2를 참고하면, 제조된 광학 기재의 회절 격자층은, 패턴 구조체의 폭(d1)은 약 202.5 nm, 패턴 구조체 간의 간격(d2)는 약 405 nm nm, 패턴 구조체의 높이(h)는 약 200 nm, 패턴 구조체의 경사(Θ)는 약 35° nm이었다.At this time, referring to FIG. 2, in the diffraction grating layer of the optical substrate manufactured, the width (d1) of the pattern structure is about 202.5 nm, the interval (d2) between the pattern structures is about 405 nm nm, and the height (h) of the pattern structure was about 200 nm, and the slope (Θ) of the patterned structure was about 35° nm.

도 4는 본 발명의 실시예 1에서 제조된 광학 기재의 단면을 주사전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이다. 도 4를 참고하면, 실시예 1에서 제조된 회절 격자층의 패턴 구조체 내에 무기 입자가 포함되는 것을 확인하였다. 4 is a photograph taken using a scanning electron microscope of a cross section of an optical substrate prepared in Example 1 of the present invention. Referring to FIG. 4 , it was confirmed that inorganic particles were included in the pattern structure of the diffraction grating layer prepared in Example 1.

즉, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 회절 격자층의 패턴 구조체에 무기 입자가 포함됨에 따라, 상기 회절 격자층을 포함하는 광학 기재는 589 ㎚ 파장에서 1.75 이상의 광굴절률을 용이하게 구현할 수 있음을 알 수 있다.That is, according to an exemplary embodiment of the present invention, as inorganic particles are included in the pattern structure of the diffraction grating layer, the optical substrate including the diffraction grating layer can easily implement an optical refractive index of 1.75 or more at a wavelength of 589 nm. Able to know.

실시예Example 2 및 2 and 실시예Example 3 3

하기 표 1과 같이 고형분 100 중량부에 대하여, 지르코니아, 광반응성 단량체, 광개시제, 및 불소계 계면활성제의 함량을 조절한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 광학용 기재 형성용 조성물을 제조하고, 이를 이용하여 광학용 기재를 제조하였다.As shown in Table 1 below, a composition for forming an optical substrate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the contents of zirconia, photoreactive monomer, photoinitiator, and fluorine-based surfactant were adjusted with respect to 100 parts by weight of solid content, , A substrate for optics was prepared using this.

무기입자
(중량부)
inorganic particles
(parts by weight)
광반응성 단량체
(중량부)
photoreactive monomer
(parts by weight)
광개시제
(중량부)
photoinitiator
(parts by weight)
계면활성제
(중량부)
Surfactants
(parts by weight)
실시예 1Example 1 ZrO2(85.3)ZrO 2 (85.3) M1082
(11.4)
M1082
(11.4)
DIC-F560
(2.8)
DIC-F560
(2.8)
Darocur 1173 (0.5)Darocur 1173 (0.5)
실시예 2Example 2 ZrO2(77.3)ZrO 2 (77.3) M1082
(19.4)
M1082
(19.4)
DIC-F560
(2.8)
DIC-F560
(2.8)
Darocur 1173 (0.5)Darocur 1173 (0.5)
실시예 3Example 3 ZrO2(80.3)ZrO 2 (80.3) M1082
(16.4)
M1082
(16.4)
DIC-F560
(2.8)
DIC-F560
(2.8)
Darocur 1173 (0.5)Darocur 1173 (0.5)

상기 표 1에서 상기 무기 입자, 광반응성 단량체, 광개시제, 및 불소계 계면활성제의 함량은 고형분 100 중량부에 대한 것이다.In Table 1, the contents of the inorganic particles, photoreactive monomers, photoinitiators, and fluorine-based surfactants are based on 100 parts by weight of solid content.

비교예comparative example 1 One

하기 표 2와 같이 고형분 100 중량부에 대하여, 지르코니아, 광반응성 단량체, 광개시제, 및 불소계 계면활성제의 함량을 조절한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 광학용 기재 형성용 조성물을 제조하고, 이를 이용하여 광학용 기재를 제조하였다.As shown in Table 2 below, a composition for forming an optical substrate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the contents of zirconia, photoreactive monomer, photoinitiator, and fluorine-based surfactant were adjusted with respect to 100 parts by weight of solid content, , A substrate for optics was prepared using this.

도 5는 본 발명의 비교예 1에서 제조된 광학 기재를 디지털 사진기로 촬영한 사진이다. 도 5를 참고하면, 비교예 1의 광학 기재는 무기 입자의 함량이 낮아 단량체와 무기 입자가 균질하게 혼합되지 않고 단량체가 뭉쳐서 균일한 도막이 형성되지 않는 것을 알 수 있다.5 is a photograph taken with a digital camera of the optical substrate prepared in Comparative Example 1 of the present invention. Referring to FIG. 5 , it can be seen that the content of inorganic particles in the optical substrate of Comparative Example 1 is low, so that the monomers and the inorganic particles are not homogeneously mixed and the monomers are not aggregated to form a uniform coating film.

비교예comparative example 2 2

무기입자로서 이산화티타늄(DT-TIOA-N10, 디토테크놀로지社)를 사용하고, 하기 표 1과 같이 고형분 100 중량부에 대하여, 이산화티타늄, 광반응성 단량체, 광개시제, 및 불소계 계면활성제의 함량을 조절한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 광학용 기재 형성용 조성물을 제조하고, 이를 이용하여 광학용 기재를 제조하였다.Titanium dioxide (DT-TIOA-N10, Dito Technology Co., Ltd.) was used as an inorganic particle, and the contents of titanium dioxide, photoreactive monomer, photoinitiator, and fluorine-based surfactant were adjusted with respect to 100 parts by weight of the solid content as shown in Table 1 below. Except for the above, a composition for forming a substrate for optics was prepared in the same manner as in Example 1, and a substrate for optics was prepared using the same.

상기 이산화티타늄은 589 nm 파장에서의 광굴절률이 2.5이고 평균 직경이 10 nm이었다.The titanium dioxide had an optical refractive index of 2.5 at a wavelength of 589 nm and an average diameter of 10 nm.

무기입자
(중량부)
inorganic particles
(parts by weight)
광반응성 단량체
(중량부)
photoreactive monomer
(parts by weight)
광개시제
(중량부)
photoinitiator
(parts by weight)
계면활성제
(중량부)
Surfactants
(parts by weight)
비교예 1Comparative Example 1 ZrO2(67.6)ZrO 2 (67.6) M1082
(29.1)
M1082
(29.1)
DIC-F560
(2.8)
DIC-F560
(2.8)
Darocur 1173 (0.5)Darocur 1173 (0.5)
비교예 2Comparative Example 2 TiO2(74)TiO 2 (74) M1082
(22.7)
M1082
(22.7)
DIC-F560
(2.8)
DIC-F560
(2.8)
Darocur 1173 (0.5)Darocur 1173 (0.5)

광학 기재의 물성 평가Evaluation of physical properties of optical substrates

상기 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1 내지 비교예 2에서 제조된 광학 기재에 대하여, 전술한 방법을 이용하여 광학 기재의 광굴절률, 광투과율, 옐로우 인덱스 및 헤이즈를 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.With respect to the optical substrates prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2, the optical refractive index, light transmittance, yellow index and haze of the optical substrate were measured using the method described above, and the results It is shown in Table 3 below.

광굴절률optical refractive index 광투과도light transmittance 옐로우 인덱스yellow index 헤이즈haze 실시예 1Example 1 1.79601.7960 89.0589.05 0.930.93 0.360.36 실시예 2Example 2 1.75141.7514 89.3989.39 1.071.07 0.370.37 실시예 3Example 3 1.81271.8127 89.4389.43 0.970.97 0.380.38 비교예 1Comparative Example 1 1.72791.7279 89.7989.79 0.950.95 0.350.35 비교예 2Comparative Example 2 1.86191.8619 88.0688.06 4.334.33 2.132.13

표 3에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 3의 광학 기재는 광굴절률이 1.75 이상이고, 광투과도가 우수하며, 헤이즈 및 옐로우 인덱스 값이 작은 것으로부터 광학적 물성이 우수한 것을 알 수 있었다.As shown in Table 3, it can be seen that the optical substrates of Examples 1 to 3 have optical refractive index of 1.75 or more, excellent light transmittance, and excellent optical properties from low haze and yellow index values.

이에 비하여, 무기 입자의 함량이 75 중량부 미만인 비교예 1의 광학 기재는 광굴절률이 작아 광학적 물성이 우수하지 않은 것을 확인할 수 있었다. 또한, 무기 입자가 TiO2이고 이의 함량이 75 중량부 미만인 비교예 2의 광학 기재는 옐로우 인덱스 값이 큰 것으로부터 광학적 물성이 우수하지 않은 것을 확인할 수 있었다.In contrast, it was confirmed that the optical substrate of Comparative Example 1 having an inorganic particle content of less than 75 parts by weight had a small light refractive index and had poor optical properties. In addition, it was confirmed that the optical properties of the optical substrate of Comparative Example 2, in which the inorganic particles were TiO 2 and the content thereof was less than 75 parts by weight, had a high yellow index value, and thus did not have excellent optical properties.

따라서, 본 발명에 따른 광학 기재는 광학적 물성이 우수한 것을 알 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 광학 기재 형성용 조성물은 우수한 광학적 물성을 보유하는 광학 기재를 구현할 수 있음을 알 수 있다.Therefore, it can be seen that the optical substrate according to the present invention has excellent optical properties. In addition, it can be seen that the composition for forming an optical substrate according to the present invention can implement an optical substrate having excellent optical properties.

100: 기재
200: 회절 격자층
210: 패턴 구조체
300: 무기 입자
410: 제1 회절 영역
420: 제2 회절 영역
430: 제3 회절 영역
100: substrate
200: diffraction grating layer
210: pattern structure
300: inorganic particles
410 first diffraction region
420: second diffraction region
430 third diffraction region

Claims (16)

방향족기를 함유하는 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 광반응성 단량체; 광개시제; 계면활성제; 극성 유기 용매; 및 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 2.0 이상인 무기 입자;를 포함하고,
상기 광반응성 단량체의 경화물은 589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.6 이상이며,
상기 무기 입자는 고형분 100 중량부에 대하여 75 중량부 이상 90 중량부 이하의 함량으로 포함되며,
상기 광반응성 단량체는 고형분 100 중량부에 대하여 10 중량부 이상 15 중량부 이하의 함량으로 포함되는 것인, 광학 기재 형성용 조성물.
A photoreactive monomer including a (meth)acrylate-based compound containing an aromatic group; photoinitiators; Surfactants; polar organic solvents; And inorganic particles having a light refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 589 nm;
The cured product of the photoreactive monomer has an optical refractive index of 1.6 or more at a wavelength of 589 nm,
The inorganic particles are included in an amount of 75 parts by weight or more and 90 parts by weight or less based on 100 parts by weight of solid content,
The photoreactive monomer is contained in an amount of 10 parts by weight or more and 15 parts by weight or less based on 100 parts by weight of solid content, the composition for forming an optical substrate.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 계면활성제는 고형분 100 중량부에 대하여 2 중량부 이상 5 중량부 이하의 함량으로 포함되는 광학 기재 형성용 조성물.
The method of claim 1,
The surfactant is included in an amount of 2 parts by weight or more and 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of solid content.
청구항 1에 있어서,
상기 광개시제는 고형분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상 1 중량부 이하의 함량으로 포함되는 광학 기재 형성용 조성물.
The method of claim 1,
The photoinitiator is a composition for forming an optical substrate included in an amount of 0.1 parts by weight or more and 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of solid content.
청구항 1에 있어서,
상기 광반응성 단량체와 상기 무기 입자의 중량비는 1:3 내지 1:9인 광학 기재 형성용 조성물.
The method of claim 1,
A composition for forming an optical substrate wherein the weight ratio of the photoreactive monomer to the inorganic particles is 1:3 to 1:9.
청구항 1에 있어서,
상기 무기 입자의 직경은 25 nm 이하인 광학 기재 형성용 조성물.
The method of claim 1,
The composition for forming an optical substrate having a diameter of 25 nm or less of the inorganic particles.
기재; 및
상기 기재의 일면 상에 구비되고, 청구항 1에 따른 광학 기재 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 회절 격자층;을 포함하는 광학 기재.
write; and
An optical substrate comprising a diffraction grating layer provided on one surface of the substrate and including a cured product of the composition for forming an optical substrate according to claim 1 .
청구항 7에 있어서,
589 ㎚ 파장에서의 광굴절률이 1.75 이상인 광학 기재.
The method of claim 7,
An optical substrate having an optical refractive index of 1.75 or more at a wavelength of 589 nm.
청구항 7에 있어서,
헤이즈 값이 1 이하인 광학 기재.
The method of claim 7,
An optical substrate having a haze value of 1 or less.
청구항 7에 있어서,
옐로우 인덱스 값이 3 이하인 광학 기재.
The method of claim 7,
An optical substrate having a yellow index value of 3 or less.
청구항 7에 있어서,
상기 회절 격자층의 일면은 패턴 구조체를 포함하고, 상기 패턴 구조체는 상기 무기 입자를 포함하는 광학 기재.
The method of claim 7,
One side of the diffraction grating layer includes a pattern structure, and the pattern structure includes the inorganic particles.
청구항 11에 있어서,
상기 패턴 구조체의 폭은 100 nm 이상 400 nm 이하이고, 상기 패턴 구조체 간의 간격은 200 nm 이상 800 nm 이하인 광학 기재.
The method of claim 11,
The width of the pattern structure is 100 nm or more and 400 nm or less, and the interval between the pattern structures is 200 nm or more and 800 nm or less.
청구항 11에 있어서,
상기 패턴 구조체는 회절 격자층의 일면으로부터 50 °이상 90 °이하의 각도로 기울어진 경사 패턴을 갖는 광학 기재.
The method of claim 11,
The pattern structure is an optical substrate having an inclined pattern inclined at an angle of 50 ° or more and 90 ° or less from one surface of the diffraction grating layer.
청구항 11에 있어서,
상기 패턴 구조체는 상기 회절 격자층의 일측에서 타측 방향을 따라 높이가 변화되는 광학 기재.
The method of claim 11,
The pattern structure is an optical substrate in which a height is changed along a direction from one side to the other side of the diffraction grating layer.
청구항 11에 있어서,
상기 패턴 구조체는 상기 회절 격자층의 일측에서 타측 방향을 따라 듀티가 변화되는 광학 기재.
The method of claim 11,
The pattern structure is an optical substrate whose duty is changed along a direction from one side to the other side of the diffraction grating layer.
청구항 7에 있어서,
상기 광학 기재는 증강현실 디바이스용 회절 도광판 또는 가상현실 디바이스용 회절 도광판인 광학 기재.
The method of claim 7,
The optical substrate is a diffraction light guide plate for an augmented reality device or a diffraction light guide plate for a virtual reality device.
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