KR102555287B1

KR102555287B1 - 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR102555287B1
Application number: KR1020160179673A
Authority: KR
Inventors: 여동현; 이충훈
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2016-12-27
Filing date: 2016-12-27
Publication date: 2023-07-12
Also published as: KR20180075831A

Abstract

본 발명은, 비유연성영역 및 유연성영역을 포함하는 기판과, 기판 상부에 배치되는 제1전극과, 제1전극의 가장자리부를 덮으면서 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층과, 비유연성영역의 뱅크층 상부에 배치되고 제1두께를 갖는 제1스페이서와, 유연성영역의 뱅크층 상부에 배치되고 제1두께보다 작은 제2두께를 갖는 제2스페이서와, 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 배치되는 발광층과, 발광층 상부에 배치되는 제2전극을 포함하는 플렉시블 표시장치를 제공하는데, 유연성영역에 상대적으로 작은 두께의 스페이서를 형성함으로써, 이물의 잔존 및 흑점이 방지되고 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선된다.

Description

플렉시블 표시장치 및 그 제조방법 {Flexible Display Device And Method Of Fabricating The Same}

본 발명은 플렉시블 표시장치에 관한 것으로, 특히 영역별로 상이한 두께의 스페이서를 갖는 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.

근래에 들어 사회가 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 표시장치 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 여러 가지 다양한 평판표시장치(flat display panel: FPD)가 개발되어 각광받고 있다.

이 같은 평판표시장치의 구체적인 예로는, 액정표시장치(liquid crystal display: LCD), 플라즈마표시장치(plasma display panel: PDP), 전계방출표시장치(field emission display: FED), 유기발광다이오드 표시장치(organic light emitting diode: OLED) 등을 들 수 있는데, 이들 평판표시장치는 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 보여 기존의 브라운관(cathode ray tube: CRT)을 빠르게 대체하고 있다.

그런데, 종래의 평판표시장치는 제조 공정 중 발생하는 높은 열을 견딜 수 있도록 유리기판을 사용하므로 경량, 박형화 및 유연성을 부여하는데 한계가 있다.

따라서, 기존의 유연성이 없는 유리기판 대신에 플라스틱 등과 같이 유연성 있는 재료를 사용하여 종이처럼 휘어져도 표시성능을 그대로 유지할 수 있게 제조된 플렉시블(flexible) 표시장치가 차세대 평판표시장치로 급부상 중이다.

플렉시블 표시장치는, 유리가 아닌 플라스틱 박막트랜지스터 기판을 활용하여 내구성이 높은 언브레이커블(unbreakable), 깨지지 않으면서도 구부릴 수 있는 벤더블(bendable), 둘둘 말 수 있는 롤러블(rollable), 접을 수 있는 폴더블(foldable) 등으로 구분될 수 있는데, 이러한 플렉시블 표시장치는 공간활용성, 인테리어 및 디자인의 장점을 가지며, 다양한 응용분야를 가질 수 있다.

특히, 가장자리 부분으로도 영상을 표시하는 벤더블 표시장치가 연구 개발되고 있는데, 이를 도면을 참조하여 설명한다.

도 1은 종래의 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치를 도시한 단면도이다.

도 1에 도시한 바와 같이, 종래의 유기발광다이오드 플렉시블 표시장치는 기판(20)과, 기판(20) 상부의 각 화소(P)에 배치되어 각각 적, 녹, 청색의 빛을 발광하는 제1 내지 제3발광다이오드를 포함한다.

구체적으로, 기판(20)은, 다수의 화소(P)를 포함하고, 폴리이미드(polyimide: PI)와 같은 유연성 있는 물질로 이루어진다.

기판(20) 상부 전면에는 게이트절연층(22) 및 층간절연층(24)이 순차적으로 형성되고, 층간절연층(24) 상부의 각 화소(P)에는 제1전극(26)이 형성된다.

제1전극(26) 상부에는 뱅크층(28)이 형성되고, 뱅크층(28) 상부에는 스페이서(30)가 형성되는데, 뱅크층(28)은 제1전극(26)의 가장자리부를 덮으면서 제1전극(26)의 중앙부를 노출하고, 스페이서(30)는 뱅크층(28)의 상면 내부에 배치된다.

뱅크층(28)을 통하여 노출되는 각 화소(P)의 제1전극(26) 상부에는 제1 내지 제3발광층(32a, 32b, 32c)이 형성되고, 제1 내지 제3발광층(32a, 32b, 32c) 상부의 기판(20) 전면에는 제2전극(34)이 형성된다.

제1전극(26), 제1 내지 제3발광층(32a, 32b, 32c) 및 제2전극(34)은 각각 제1 내지 제3발광다이오드를 구성한다.

제2전극(34) 상부의 기판(20) 전면에는 제1보호층(36), 입자커버층(38) 및 제2보호층(40)이 순차적으로 형성되는데, 제1 및 제2보호층(36, 40)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화실리콘(SiO₂)과 같은 무기절연물질로 이루어지고, 입자커버층(38)은 수지와 같은 유기절연물질로 이루어진다.

제2보호층(40) 상부의 기판 전면에는 접착층(42)이 형성되고, 접착층(42) 상부에는 차단필름(44)이 형성된다.

이러한 종래의 플렉시블 표시장치에서, 제1 내지 제3발광층(32a, 32b, 32c)은 미세금속마스크(fine metal mask: FMM)로도 불리는 쉐도우마스크(shadow mask)를 통하여 발광물질을 증착함으로써 형성되는데, 스페이서(30)는 발광물질의 증착 시 쉐도우마스크와 접촉하여 기판(20)을 쉐도우마스크로부터 일정간격 이격되도록 하는 역할을 한다.

그런데, 스페이서(30)가 쉐도우마스크와 접촉하므로, 발광물질의 증착 이후에도 쉐도우마스크 등에 존재하는 이물(PT)이 스페이서(30) 또는 그 주변에 잔존할 수 있으며, 이물(PT)에 의하여 제2전극(34) 및 제1보호층(36)이 손상될 수 있다.

그리고, 이러한 종래의 플렉시블 표시장치는 벤더블 표시장치로 사용되는데, 전체 플렉시블 표시장치 중에서 구부러지는 영역에서는 외력에 의하여 제2보호층(40)에 크랙(crack)이 발생할 수 있다.

이때, 제2보호층(40)의 크랙을 통하여 외부의 산소(O₂) 또는 수분(H₂O)이 유입되어 입자커버층(38)을 통하여 확산되고, 이물(PT)에 의한 제2전극(34) 및 제1보호층(36)의 손상부를 통하여 제1 내지 제3발광층(32a, 32b, 32c)에 도달하여 제1 내지 제3발광층(32a, 32b, 32c)을 손상시킬 수 있으며, 그 결과 해당 제1 내지 제3발광층(32a, 32b, 32c)이 영상의 흑점으로 표시되어 표시품질이 저하되는 문제가 있다.

본 발명은, 이러한 문제점을 해결하기 위하여 제시된 것으로, 유연성영역에 상대적으로 작은 두께의 스페이서를 형성함으로써, 쉐도우마스크와 유연성영역의 스페이서의 접촉이 방지되어 이물의 잔존 및 흑점이 방지되고 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선되는 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

그리고, 본 발명은, 유연성영역에 상대적으로 작은 두께의 스페이서를 형성하고 비표시영역에 상대적으로 큰 두께의 스페이서를 형성함으로써, 쉐도우마스크의 처짐이 방지되어 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선됨과 동시에 수율이 개선되는 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.

위와 같은 과제의 해결을 위해, 본 발명은, 비유연성영역 및 유연성영역을 포함하는 기판과, 상기 기판 상부에 배치되는 제1전극과, 상기 제1전극의 가장자리부를 덮으면서 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층과, 상기 비유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 배치되고 제1두께를 갖는 제1스페이서와, 상기 유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 배치되고 상기 제1두께보다 작은 제2두께를 갖는 제2스페이서와, 상기 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 배치되는 발광층과, 상기 발광층 상부에 배치되는 제2전극을 포함하는 플렉시블 표시장치를 제공한다.

그리고, 상기 기판은, 상기 비유연성영역 및 상기 유연성영역을 포함하는 표시영역과, 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역을 포함하고, 상기 비표시영역은, 상기 뱅크층과 동일한 두께를 갖는 더미뱅크층과, 상기 더미뱅크층 상부에 배치되고 상기 제1스페이서와 동일한 두께를 갖는 더미스페이서를 포함할 수 있다.

또한, 상기 플렉시블 표시장치는, 상기 기판과 상기 제1전극 사이에 순차적으로 배치되는 게이트절연층, 층간절연층 및 평탄화층과, 상기 제2전극 상부에 순차적으로 배치되는 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층과, 접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 부착되는 차단필름을 더 포함할 수 있다.

그리고, 상기 기판은, 상기 비유연성영역에서 평평한 형태를 갖고, 상기 유연성영역에서 구부러지거나 접히는 형태를 가질 수 있다.

한편, 본 발명은, 비유연성영역 및 유연성영역을 포함하는 기판 상부에 제1전극을 형성하는 단계와, 상기 제1전극의 가장자리부를 덮으면서 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층을 형성하는 단계와, 상기 비유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 제1두께를 갖는 제1스페이서를 형성하고, 상기 유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 상기 제1두께보다 작은 제2두께를 갖는 제2스페이서를 형성하는 단계와, 상기 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 발광층을 형성하는 단계와, 상기 발광층 상부에 제2전극을 형성하는 단계를 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법을 제공한다.

그리고, 상기 뱅크층과 상기 제1 및 제2스페이서를 형성하는 단계는, 상기 기판 상부에 뱅크물질층 및 스페이서물질층을 순차적으로 형성하는 단계와, 투과영역, 제1 및 제2반투과영역 및 차단영역을 포함하는 노광마스크를 이용하여 상기 스페이서물질층 상부에 제1포토레지스트패턴을 형성하는 단계와, 상기 제1포토레지스트패턴을 식각마스크로 이용하여 상기 뱅크물질층 및 상기 스페이서물질을 식각함으로써, 상기 뱅크층과 상기 뱅크층 상부의 제1스페이서패턴을 형성하는 단계와;

상기 제1포토레지스트패턴을 애싱하여 제2포토레지스트패턴을 형성하는 단계와;

상기 제2포토레지스트패턴을 식각마스크로 이용하여 상기 제1스페이서패턴을 식각함으로써, 상기 뱅크층 상부에 제2스페이서패턴을 형성하는 단계와;

상기 제2포토레지스트패턴을 애싱하여 제3포토레지스트패턴을 형성하는 단계와, 상기 제3포토레지스트패턴을 식각마스크로 이용하여 상기 제2스페이서패턴을 식각함으로써, 상기 제1 및 제2스페이서를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.

또한, 상기 투과영역의 투과율은 상기 제1반투과영역의 투과율보다 크고, 상기 제1반투과영역의 투과율은 상기 제2반투과영역의 투과율보다 크고, 상기 제2반투과영역의 투과율은 상기 차단영역의 투과율보다 크고, 상기 제1포토레지스트패턴은, 상기 투과영역에 대응하여 개구부를 갖고, 상기 제1반투과영역에 대응하여 제3두께를 갖고, 상기 제2반투과영역에 대응하여 상기 제3두께보다 큰 제4두께를 갖고, 상기 차단영역에 대응하여 상기 제4두께보다 큰 제5두께를 갖고, 상기 제2포토레지스트패턴은, 상기 제3두께에 대응하여 상기 제1스페이서패턴의 상면 가장자리를 노출하고, 상기 제4두께에 대응하여 제6두께를 갖고, 상기 제5두께에 대응하여 상기 제6두께보다 큰 제7두께를 갖고, 상기 제3포토레지스트패턴은, 상기 제6두께에 대응하여 상기 제2스페이서패턴을 노출하고, 상기 제7두께에 대응하여 제8두께를 가질 수 있다.

그리고, 상기 발광층을 형성하는 단계는, 상기 제1스페이서에 접촉하고 상기 제2스페이서로부터 이격되도록 개구부를 갖는 쉐도우마스크를 배치하는 단계와, 상기 개구부를 통하여 발광물질을 증착하여 상기 발광층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.

또한, 상기 기판은, 상기 비유연성영역 및 상기 유연성영역을 포함하는 표시영역과, 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역을 포함하고, 상기 뱅크층을 형성하는 단계는, 상기 비표시영역에 상기 뱅크층과 동일한 두께를 갖는 더미뱅크층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제1 및 제2스페이서를 형성하는 단계는, 상기 더미뱅크층 상부에 상기 제1스페이서와 동일한 두께를 갖는 더미스페이서를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.

그리고, 상기 플렉시블 표시장치의 제조방법은, 상기 기판과 상기 제1전극 사이에 게이트절연층, 층간절연층 및 평탄화층을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 제2전극 상부에 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층을 순차적으로 형성하는 단계와, 접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 차단필름을 부착하는 단계를 더 포함할 수 있다.

본 발명은, 유연성영역에 상대적으로 작은 두께의 스페이서를 형성함으로써, 쉐도우마스크와 유연성영역의 스페이서의 접촉이 방지되어 이물의 잔존 및 흑점이 방지되고 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선되는 효과를 갖는다.

그리고, 본 발명은, 유연성영역에 상대적으로 작은 두께의 스페이서를 형성하고 비표시영역에 상대적으로 큰 두께의 스페이서를 형성함으로써, 쉐도우마스크의 처짐이 방지되어 영상의 표시품질 및 신뢰성이 개선됨과 동시에 수율이 개선되는 효과를 갖는다.

도 1은 종래의 플렉시블 유기발광다이오드 표시장치를 도시한 단면도.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 플렉시블 표시장치를 도시한 평면도.
도 3은 도 2의 절단선 III-III에 따른 단면도.
도 4는 도 3의 기판의 가장자리부(A)를 확대한 도면.
도 5a 내지 도 5h는 제1실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 플렉시블 표시장치의 표시패널을 도시한 단면도.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법을 설명하는데, 벤더블 유기발광다이오드 표시장치를 예로 들어 설명한다.

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 플렉시블 표시장치를 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2의 절단선 III-III에 따른 단면도이다.

도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 플렉시블 표시장치(110)는, 게이트신호 및 데이터신호를 이용하여 영상을 표시하는 표시패널(112)과, 데이터신호를 표시패널(112)의 다수의 화소(도 4의 P)에 공급하는 구동부(114)를 포함한다.

표시패널(112)은, 영상이 표시되는 표시영역(DA)과, 표시영역(DA)을 둘러싸는 비표시영역(NDA)을 포함하는데, 표시영역(DA)은 다수의 화소(P)를 포함하고, 비표시영역(NDA)에는 게이트신호를 생성하는 게이트-인-패널(gate-in-panel)과 같은 게이트구동부가 형성되어 게이트신호를 다수의 화소(P)에 공급할 수 있다.

이러한 표시패널(112)은, 박막트랜지스터 및 발광다이오드가 형성되는 기판(120)과, 기판(120) 전면에 배치되는 커버윈도우(CW)를 포함할 수 있다.

여기서, 표시영역(DA)은 좌우 가장자리부에 기판(120)과 커버윈도우(CW)가 구부러진 형태로 형성되는 유연성영역(FA)을 포함하고, 표시영역(DA)의 중앙부와 비표시영역(NDA)은 기판(120)과 커버윈도우(CW)가 평평한 형태로 형성되는 비유연성영역(도 4의 NFA)으로 정의할 수 있다.

이와 같은, 플렉시블 표시장치(110)의 표시패널(212)은, 폴리이미드(polyimide: PI)와 같은 유연성 물질로 이루어지는 기판(120) 상부에 박막트랜지스터 및 발광다이오드를 형성한 후, 유리 또는 비유연성 물질로 이루어지는 커버윈도우(CW)에 기판(120)을 부착하여 완성할 수 있다.

이러한 표시패널(112)의 구체적 구성을 도면을 참조하여 설명한다.

도 4는 도 3의 기판의 가장자리부(A)를 확대한 도면으로, 도 2 및 도 3을 함께 참조하여 설명한다.

도 4에 도시한 바와 같이, 기판(120)은 표시영역(DA) 및 비표시영역(NDA)을 포함하고, 표시영역(DA)은 다수의 화소(P)를 포함한다.

표시영역(DA)은 좌우 가장자리부에 기판(120)과 커버윈도우(CW)가 구부러진 형태로 형성되는 유연성영역(FA)을 포함하고, 표시영역(DA)의 중앙부와 비표시영역(NDA)은 기판(120)과 커버윈도우(CW)가 평평한 형태로 형성되는 비유연성영역(NFA)으로 정의할 수 있다.

기판(120) 상부 전면에는 게이트절연층(122) 및 층간절연층(124)이 순차적으로 형성되고, 층간절연층(124) 상부의 각 화소(P)에는 제1전극(126)이 형성된다.

도시하지는 않았지만, 게이트절연층(122) 하부의 각 화소(P)에는 반도체층이 형성되고, 반도체층에 대응되는 게이트절연층(122) 상부에는 게이트전극이 형성되고, 게이트전극 상부에는 층간절연층(124)이 형성되고, 층간절연층(124) 상부에는 반도체층의 양단에 연결되는 소스전극 및 드레인전극이 형성될 수 있는데, 반도체층, 게이트전극, 소스전극 및 드레인전극은 코플라나 타입(coplanar type)의 박막트랜지스터를 구성할 수 있다.

그리고, 게이트전극과 동일층, 동일물질로 이루어지는 게이트배선이 형성되고, 소스 및 드레인전극과 동일층, 동일물질로 이루어지는 데이터배선이 형성되고, 소스전극 및 드레인전극 상부에는 평탄화층이 형성될 수 있다.

표시영역(DA)의 제1전극(126) 상부에는 뱅크층(128)이 형성되고, 비표시영역(NDA)의 층간절연층(124) 상부에는 더미뱅크층(129)이 형성되는데, 뱅크층(128)은 제1전극(126)의 가장자리부를 덮으면서 제1전극(126)의 중앙부를 노출하고, 뱅크층(128) 및 더미뱅크층(129)은 동일한 두께를 가질 수 있다.

뱅크층(128) 및 더미뱅크층(129)은 유기절연물질 또는 무기절연물질로 이루어질 수 있다.

표시영역(DA)의 비유연성영역(NFA) 및 유연성영역(FA)의 뱅크층(128) 상부에는 각각 제1 및 제2스페이서(130a, 130b)가 형성되고, 비표시영역(NDA)의 비유연성영역(NFA)의 더미뱅크층(129) 상부에는 더미스페이서(131)가 형성되는데, 제1 및 제2스페이서(130a, 130b)는 뱅크층(128) 상면 내부에 배치되고, 더미스페이서(131)는 더미뱅크층(129) 상면 내부에 배치된다.

제1 및 제2스페이서(130a, 130b)과 더미스페이서(131)는, 유기절연물질 또는 무기절연물질로 이루어질 수 있으며, 뱅크층(128) 및 더미뱅크층(129)과 상이한 물질로 이루어질 수 있다.

여기서, 제1스페이서(130a)와 더미스페이서(131)은 각각 제1두께(t1)를 갖고, 제2스페이서(130b)는 제1두께(t1)보다 작은 제2두께(t2)를 갖는다.

이와 같이, 유연성영역(FA)의 제2스페이서(130b)를 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(130a)보다 작은 두께로 형성하는 이유는, 발광물질 증착 시 유연성영역(FA)의 기판(120)이 미세금속마스크(fine metal mask: FMM)로도 불리는 쉐도우마스크(shadow mask)와 접촉하는 것을 방지하기 위한 것이며, 비표시영역(NDA)에 더미뱅크층(129)과 제1스페이서(130a)와 동일한 두께의 더미스페이서(131)를 형성하는 이유는, 발광물질 증착 시 쉐도우마스크의 처짐을 방지하기 위한 것인데, 이에 대해서는 뒤에서 더 상세히 설명한다.

뱅크층(128)을 통하여 노출되는 각 화소(P)의 제1전극(126) 상부에는 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c)이 형성되고, 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c) 상부의 기판(120) 전면에는 제2전극(134)이 형성되는데, 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c)은 각각 적색, 녹색, 청색의 빛을 발광할 수 있다.

여기서, 제1전극(126), 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c) 및 제2전극(134)은 각각 제1 내지 제3발광다이오드를 구성하고, 제1 내지 제3발광다이오드는 각각 박막트랜지스터와 연결될 수 있다.

제2전극(134) 상부의 기판(120) 전면에는 제1보호층(136), 입자커버층(138) 및 제2보호층(140)이 순차적으로 형성되는데, 제1 및 제2보호층(136, 140)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화실리콘(SiO₂)과 같은 무기절연물질로 이루어지고, 입자커버층(138)은 수지(resin)와 같은 유기절연물질로 이루어질 수 있다.

제1 및 제2보호층(136, 140)은 외부의 산소(O₂) 또는 수분(H₂O)의 침투를 차단하는 역할을 하고, 입자커버층(138)은 외부의 입자로부터 발광다이오드 및 박막트랜지스터를 보호하는 역할을 한다.

제2보호층(140) 상부의 기판 전면에는 접착층(142)이 형성되고, 접착층(142) 상부에는 차단필름(144)이 형성되는데, 접착층(142)은 감압접착제(pressure sensitive adhesive: PSA)일 수 있으며, 차단필름(144)은 접착층(142)을 통하여 제2보호층(140)에 접착된다.

차단필름(144)은 기판(120) 최상면에 형성되어 기판(120)과 커버윈도우(CW)가 안정적으로 접촉하도록 하는 역할을 한다.

이러한 뱅크층(128), 더미뱅크층(129), 제1 및 제2스페이서(130a, 130b), 더미스페이서(131)는 반투과마스크를 이용하여 한번의 노광식각공정(photolithographic process)으로 형성할 수 있는데, 이를 도면을 참조하여 설명한다.

도 5a 내지 도 5h는 제1실시예에 따른 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 도면으로, 도 2, 도 3 및 도 4를 함께 참조하여 설명한다.

도 5a에 도시한 바와 같이, 표시영역(DA) 및 비표시영역(NDA)을 포함하는 기판(120) 상부 전면에 게이트절연층(122) 및 층간절연층(124)을 순차적으로 형성하고, 층간절연층(124) 상부의 각 화소(P)에 제1전극(126)을 형성한다.

도시하지는 않았지만, 게이트절연층(122) 하부에 각 화소(P)에 반도체층을 형성하고, 반도체층에 대응되는 게이트절연층(122) 상부에 게이트전극을 형성하고, 게이트전극 상부에 층간절연층(124)을 형성하고, 층간절연층(124) 상부에 반도체층의 양단에 연결되는 소스전극 및 드레인전극을 형성할 수 있는데, 반도체층, 게이트전극, 소스전극 및 드레인전극은 박막트랜지스터를 구성한다.

그리고, 게이트전극과 동일층, 동일물질로 게이트배선을 형성하고, 소스 및 드레인전극과 동일층, 동일물질로 데이터배선을 형성하고, 소스전극 및 드레인전극 상부에 평탄화층을 형성할 수 있다.

도 5b에 도시한 바와 같이, 제1전극(126) 상부에 뱅크물질층(150a) 및 스페이서물질층(152a)을 순차적으로 형성하고, 스페이서물질층(152a) 상부에 포토레지스트(photoresist)층(미도시)을 형성하고, 투과영역(TA), 제1반투과영역(HA1), 제2반투과영역(HA2) 및 차단영역(BA)을 포함하는 노광마스크(PM)를 통하여 자외선(L)을 조사하여 포토레지스트층을 노광한 후 현상하여 제1포토레지스트패턴(PR1)을 형성한다.

투과영역(TA)의 투과율은 제1반투과영역(HA1)의 투과율보다 크고, 제1반투과영역(HA1)의 투과율은 제2반투과영역(HA2)의 투과율보다 크고, 제2반투과영역(HA2)의 투과율은 차단영역(BA)의 투과율보다 크다.

예를 들어, 투과영역(TA), 제1반투과영역(HA1), 제2반투과영역(HA2) 및 차단영역(BA)은 각각 약 100%, 약 45%, 약 20% 및 약 0%의 투과율을 가질 수 있다.

이에 따라, 제1포토레지스트패턴(PR1)은, 투과영역(TA)에 대응하여 개구부를 갖고, 제1반투과영역(HA1), 제2반투과영역(HA2) 및 차단영역(BA)에 대응하여 각각 제3, 제4 및 제5두께(t3, t4, t5)를 갖는데, 제4두께(t4)는 제3두께(t3)보다 크고 제5두께(t5)보다 작다(t3<t4<t5).

도 5c에 도시한 바와 같이, 제1포토레지스트패턴(PR1)을 식각마스크로 이용하여 뱅크물질층(150a) 및 스페이서물질층(152a)을 식각함으로써, 표시영역(DA) 및 비표시영역(NDA)에 각각 뱅크층(128) 및 더미뱅크층(129)을 형성하고, 뱅크층(128) 및 더미뱅크층(129) 상부에 제1스페이서패턴(152b)을 형성하는데, 뱅크층(128) 및 더미뱅크층(129)은 동일한 두께를 가질 수 있다.

도 5d에 도시한 바와 같이, 제1포토레지스트패턴(PR1)을 애싱(ashing)하여 제2포토레지스트패턴(PR2)을 형성하는데, 제2포토레지스트패턴(PR2)은, 제3두께(t3)에 대응하여 제1스페이서패턴(152b)의 상면 가장자리를 노출하고, 제4 및 제5두께(t4, t5)에 대응하여 각각 제6 및 제7두께(t6, t7)를 가지며, 제6 및 제7두께(t6, t7)는 각각 제4 및 제5두께(t4, t5)에서 제3두께(t3)를 뺀 값과 실질적으로 동일하고(t6=t4-t3, t7=t5-t3), 제7두께(t7)는 제6두께(t6)보다 크다(t6<t7).

그리고, 제2포토레지스트패턴(PR2)을 식각마스크로 이용하여 노출된 제1스페이서패턴(152b)의 가장자리를 식각함으로써, 뱅크층(128) 및 더미뱅크층(129) 상부에 제2스페이서패턴(152c)을 형성한다.

도 5e에 도시한 바와 같이, 제2포토레지스트패턴(PR2)을 애싱(ashing)하여 제3토레지스트패턴(PR3)을 형성하는데, 제3포토레지스트패턴(PR3)은, 제6두께(t6)에 대응하여 제2스페이서패턴(152c)을 노출하고, 제7두께(t7)에 대응하여 제8두께(t8)를 가지며, 제8두께(t8)는 제7두께(t7)에서 제6두께(t6)를 뺀 값과 실질적으로 동일하다(t8=t7-t6).

그리고, 제3포토레지스트패턴(PR3)을 식각마스크로 이용하여 노출된 제2스페이서패턴(152c)을 선택적으로 식각함으로써, 표시영역(DA)의 비유연성영역(NFA)의 뱅크층(128) 상부의 제2스페이서패턴(152c)은 제1스페이서(130a)가 되고, 표시영역(DA)의 유연성영역(FA)의 뱅크층(128) 상부에 제2스페이서(130b)를 형성하고, 비표시영역(NDA)의 비유연성영역(NFA)의 더미뱅크층(129) 상부에 더미스페이서(131)를 형성한다.

이와 같이, 도 5b 내지 도 5e의 반투과마스크를 이용한 공정을 통하여 제1두께(t1)를 갖는 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(130a) 및 더미스페이서(131)와 제2두께(t2)를 갖는 유연성영역(FA)의 제2스페이서(130b)를 형성할 수 있다.

도 5f에 도시한 바와 같이, 제1 및 제2스페이서(130a, 130b)와 더미스페이서(131)가 형성된 기판(120) 상부에 그 개구부(OP)가 뱅크층(128)을 통하여 노출되는 제1전극(126)에 대응되도록 쉐도우마스크(SM)를 배치한 후, 쉐도우마스크(SM)의 개구부(OP)를 통하여 제1발광물질(OM1)을 증착함으로써, 뱅크층(128)을 통하여 노출되는 제1전극(126) 상부에 제1발광층(132a)을 형성한다.

이때, 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(130a) 및 더미스페이서(131)는 유연성영역(FA)의 제2스페이서(130b)의 제2두께(t2)보다 큰 제1두께(t1)를 가지므로, 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(130a) 및 더미스페이서(131)는 쉐도우마스크(SM)와 접촉하는 반면, 유연성영역(FA)의 제2스페이서(130b)는 쉐도우마스크(SM)와 접촉하지 않고 쉐도우마스크(SM)로부터 이격된다.

이와 같이, 유연성영역(FA)의 제2스페이서(130b)를 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(130a)보다 작은 두께로 형성함으로써, 발광물질 증착 시 유연성영역(FA)에서 기판(120)의 제2스페이서(130b)가 쉐도우마스크(SM)와 접촉하는 것을 방지할 수 있으며, 그 결과 쉐도우마스크(SM) 등에 존재하는 이물이 발광물질의 증착 이후에 제2스페이서(130b) 또는 그 주변에 잔존하는 것을 방지할 수 있으며, 이물에 의하여 후속공정에서 형성되는 제2전극(134) 및 제1보호층(136)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.

이에 따라, 표시패널(112) 완성 후, 외력에 의하여 유연성영역(FA)의 제2보호층(140)에 크랙(crack)이 발생한 경우에도, 손상되지 않은 제2전극(134) 및 제1보호층(136)에 의하여 외부의 산소(O₂) 또는 수분(H₂O)의 침투를 차단함으로써, 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c)의 손상을 방지할 수 있다.

그리고, 비표시영역(NDA)에 더미뱅크층(129)과 제1스페이서(130a)와 동일한 두께의 더미스페이서(131)를 형성함으로써, 제2스페이서(130b)가 쉐도우마스크(SM)를 지지하지 못함으로 해서 발생할 수 있는 쉐도우마스크(SM)의 처짐을 방지할 수 있다.

즉, 제2스페이서(130b)는 쉐도우마스크(SM)로부터 이격되므로, 제2스페이서(130b) 상부의 쉐도우마스크(SM)는 하부로 처질 수 있는데, 비표시영역(NDA)의 더미뱅크층(129) 및 더미스페이서(131)가 쉐도우마스크(SM)에 접촉하여 지지함으로써, 쉐도우마스크(SM)의 처짐을 방지할 수 있으며, 그 결과 제1발광층(132a)을 안정적으로 형성할 수 있다.

이후, 제1발광층(132a) 형성과 유사하게, 쉐도우마스크를 이용하여 제2 및 제3발광물질을 증착하여 뱅크층(128)을 통하여 노출되는 제1전극(126) 상부에 제2 및 제3발광층(132b, 132c)을 각각 형성한다.

도 5g에 도시한 바와 같이, 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c) 상부의 기판(120) 전면에 제2전극(134)을 형성하는데, 제1 및 제2전극(126, 134)은 각각 양극(anode) 및 음극(cathode)일 수 있으며, 제1전극(126), 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c) 및 제2전극(134)은 각각 제1 내지 제3발광다이오드를 구성할 수 있다.

도 5f에 도시한 바와 같이, 제2전극(134) 상부의 기판(120) 전면에 제1보호층(136), 입자커버층(138) 및 제2보호층(140)을 순차적으로 형성하는데, 제1 및 제2보호층(136, 140)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화실리콘(SiO₂)과 같은 무기절연물질로 이루어지고, 입자커버층(138)은 수지(resin)와 같은 유기절연물질로 이루어질 수 있다.

그리고, 제2보호층(140) 상부의 기판 전면에 접착층(142)을 형성하고, 접착층(142) 상부에 차단필름(144)을 부착함으로써, 표시패널(112)을 완성한다.

접착층(142)은 감압접착제(pressure sensitive adhesive: PSA)일 수 있다.

이상과 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 표시장치(110)에서는, 유연성영역(FA)의 제2스페이서(130b)를 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(130a)보다 작은 두께로 형성함으로써, 발광물질 증착 시 유연성영역(FA)의 기판(120)의 제2스페이서(130b)가 쉐도우마스크(SM)와 접촉하는 것을 방지하여 이물의 잔존을 방지할 수 있으며, 그 결과 후속공정의 제2전극(134) 및 제1보호층(136)이 이물에 의하여 손상되는 것을 방지할 수 있다.

따라서, 표시패널(112)의 벤딩(bending)을 위한 외력에 의하여 유연성영역(FA)의 제2보호층(140)에 크랙(crack)이 발생한 경우에도, 손상되지 않은 제2전극(134) 및 제1보호층(136)에 의하여 외부의 산소(O₂) 또는 수분(H₂O)의 침투를 방지할 수 있으며, 그 결과 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c)의 손상을 방지하여 흑점을 방지하고 영상의 표시품질 및 신뢰성을 개선할 수 있다.

그리고, 비표시영역(NDA)에 더미뱅크층(129)과 제1스페이서(130a)와 동일한 두께의 더미스페이서(131)를 형성함으로써, 발광물질 증착 시 쉐도우마스크(SM)의 처짐을 방지할 수 있으며, 그 결과 제1 내지 제3발광층(132a, 132b, 132c)을 안정적으로 형성하여 수율을 향상시킬 수 있다.

한편, 상이한 두께의 스페이서는 폴더블 유기발광다이오드 표시장치에도 적용할 수 있는데, 이를 도면을 참조하여 설명한다.

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 플렉시블 표시장치의 표시패널을 도시한 단면도로서, 제1실시예와 동일한 부분에 대한 설명은 생략한다.

도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 플렉시블 표시장치의 표시패널(212)은, 다수의 화소(P)를 포함하고, 기판(120)이 접히는 형태로 형성되는 유연성영역(FA)과, 기판(120)이 평평한 형태로 형성되는 비유연성영역(NFA)으로 구분할 수 있다.

이러한 표시패널(212)은, 폴리이미드(polyimide: PI)와 같은 유연성 물질로 이루어지는 기판(220)과, 기판(220) 상부에 형성되는 박막트랜지스터 및 발광다이오드를 포함한다.

구체적으로, 기판(220) 상부 전면에는 게이트절연층(222) 및 층간절연층(224)이 순차적으로 형성되고, 층간절연층(224) 상부의 각 화소(P)에는 제1전극(226)이 형성된다.

도시하지는 않았지만, 게이트절연층(222) 하부의 각 화소(P)에는 반도체층이 형성되고, 반도체층에 대응되는 게이트절연층(222) 상부에는 게이트전극이 형성되고, 게이트전극 상부에는 층간절연층(224)이 형성되고, 층간절연층(224) 상부에는 반도체층의 양단에 연결되는 소스전극 및 드레인전극이 형성될 수 있는데, 반도체층, 게이트전극, 소스전극 및 드레인전극은 코플라나 타입(coplanar type)의 박막트랜지스터를 구성할 수 있다.

제1전극(226) 상부에는 뱅크층(228)이 형성되는데, 뱅크층(228)은 제1전극(226)의 가장자리부를 덮으면서 제1전극(226)의 중앙부를 노출한다.

뱅크층(228)은 유기절연물질 또는 무기절연물질로 이루어질 수 있다.

비유연성영역(NFA) 및 유연성영역(FA)의 뱅크층(228) 상부에는 각각 제1 및 제2스페이서(230a, 230b)가 형성되는데, 제1 및 제2스페이서(230a, 230b)는 뱅크층(228) 상면 내부에 내부에 배치된다.

제1 및 제2스페이서(230a, 230b)는, 유기절연물질 또는 무기절연물질로 이루어질 수 있으며, 뱅크층(228)과 상이한 물질로 이루어질 수 있다.

여기서, 제1스페이서(230a)는 제1두께(t1)를 갖고, 제2스페이서(230b)는 제1두께(t1)보다 작은 제2두께(t2)를 갖는다.

이와 같이, 유연성영역(FA)의 제2스페이서(230b)를 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(230a)보다 작은 두께로 형성함으로써, 발광물질 증착 시 유연성영역(FA)의 기판(220)의 제2스페이서(230b)가 쉐도우마스크(미도시)와 접촉하는 것을 방지할 수 있으며, 그 결과 쉐도우마스크 등에 존재하는 이물이 발광물질의 증착 이후에 제2스페이서(230b) 또는 그 주변에 잔존하는 것을 방지할 수 있으며, 이물에 의하여 후속공정에서 형성되는 제2전극(234) 및 제1보호층(236)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.

이에 따라, 표시패널(212) 완성 후, 외력에 의하여 유연성영역(FA)의 제2보호층(240)에 크랙(crack)이 발생한 경우에도, 손상되지 않은 제2전극(234) 및 제1보호층(236)에 의하여 외부의 산소(O₂) 또는 수분(H₂O)의 침투를 차단함으로써, 제1 내지 제3발광층(232a, 232b, 232c)의 손상을 방지할 수 있다.

뱅크층(228)을 통하여 노출되는 각 화소(P)의 제1전극(226) 상부에는 제1 내지 제3발광층(232a, 232b, 232c)이 형성되고, 제1 내지 제3발광층(232a, 232b, 232c) 상부의 기판(220) 전면에는 제2전극(234)이 형성되는데, 제1 내지 제3발광층(232a, 232b, 232c)은 각각 적색, 녹색, 청색의 빛을 발광할 수 있다.

여기서, 제1전극(226), 제1 내지 제3발광층(232a, 232b, 232c) 및 제2전극(234)은 각각 제1 내지 제3발광다이오드를 구성하고, 제1 내지 제3발광다이오드는 각각 박막트랜지스터와 연결될 수 있다.

제2전극(234) 상부의 기판(220) 전면에는 제1보호층(236), 입자커버층(238) 및 제2보호층(240)이 순차적으로 형성되는데, 제1 및 제2보호층(236, 240)은 질화실리콘(SiNx) 또는 산화실리콘(SiO₂)과 같은 무기절연물질로 이루어지고, 입자커버층(238)은 수지(resin)와 같은 유기절연물질로 이루어질 수 있다.

제1 및 제2보호층(236, 240)은 외부의 산소(O₂) 또는 수분(H₂O)의 침투를 차단하는 역할을 하고, 입자커버층(238)은 외부의 입자로부터 발광다이오드 및 박막트랜지스터를 보호하는 역할을 한다.

제2보호층(240) 상부의 기판 전면에는 접착층(242)이 형성되고, 접착층(242) 상부에는 차단필름(244)이 형성되는데, 접착층(242)은 감압접착제(pressure sensitive adhesive: PSA)일 수 있으며, 차단필름(244)은 접착층(242)을 통하여 제2보호층(240)에 접착된다.

이상과 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 표시장치의 표시패널(212)에서는, 유연성영역(FA)의 제2스페이서(230b)를 비유연성영역(NFA)의 제1스페이서(230a)보다 작은 두께로 형성함으로써, 발광물질 증착 시 유연성영역(FA)의 기판(220)의 제2스페이서(230b)가 쉐도우마스크와 접촉하는 것을 방지하여 이물의 잔존을 방지할 수 있으며, 그 결과 후속공정의 제2전극(234) 및 제1보호층(236)이 이물에 의하여 손상되는 것을 방지할 수 있다.

따라서, 표시패널(212)의 폴딩(folding)을 위한 외력에 의하여 유연성영역(FA)의 제2보호층(240)에 크랙(crack)이 발생한 경우에도, 손상되지 않은 제2전극(234) 및 제1보호층(236)에 의하여 외부의 산소(O₂) 또는 수분(H₂O)의 침투를 방지할 수 있으며, 그 결과 제1 내지 제3발광층(232a, 232b, 232c)의 손상을 방지하여 흑점을 방지하고 영상의 표시품질 및 신뢰성을 개선할 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

110: 표시장치 112: 표시패널
114: 구동부 120: 기판
FA: 유연성영역 NFA: 비유연성영역
128: 뱅크층 129: 더미뱅크층
130a, 130b: 제1 및 제2스페이서 131: 더미스페이서

Claims

비유연성영역 및 유연성영역을 포함하는 기판과;
상기 기판 상부에 배치되는 제1전극과;
상기 제1전극의 가장자리부를 덮으면서 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층과;
상기 비유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 배치되고 제1두께를 갖는 제1스페이서와, 상기 유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 배치되고 상기 제1두께보다 작은 제2두께를 갖는 제2스페이서와;
상기 뱅크층을 통하여 노출되는 상기 제1전극 상부에 배치되는 발광층과;
상기 발광층 상부에 배치되는 제2전극
을 포함하고,
상기 제1스페이서는 상기 비유연성영역의 다수의 화소 각각의 상기 발광층 양측의 상기 뱅크층 상부에 배치되고,
상기 제2스페이서는 상기 유연성영역의 다수의 화소 각각의 상기 발광층 양측의 상기 뱅크층 상부에 배치되는 플렉시블 표시장치.
제 1 항에 있어서,
상기 기판은, 상기 비유연성영역 및 상기 유연성영역을 포함하는 표시영역과, 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역을 포함하고,
상기 비표시영역은, 상기 뱅크층과 동일한 두께를 갖는 더미뱅크층과, 상기 더미뱅크층 상부에 배치되고 상기 제1스페이서와 동일한 두께를 갖는 더미스페이서를 포함하는 플렉시블 표시장치.
제 1 항에 있어서,
상기 기판과 상기 제1전극 사이에 순차적으로 배치되는 게이트절연층, 층간절연층 및 평탄화층과;
상기 제2전극 상부에 순차적으로 배치되는 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층과;
접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 부착되는 차단필름
을 더 포함하는 플렉시블 표시장치.
제 1 항에 있어서,
상기 기판은, 상기 비유연성영역에서 평평한 형태를 갖고, 상기 유연성영역에서 구부러지거나 접히는 형태를 갖는 플렉시블 표시장치.
비유연성영역 및 유연성영역을 포함하는 기판 상부에 제1전극을 형성하는 단계와;
상기 제1전극의 가장자리부를 덮으면서 상기 제1전극의 중앙부를 노출하는 뱅크층을 형성하는 단계와;
상기 비유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 제1두께를 갖는 제1스페이서를 형성하고, 상기 유연성영역의 상기 뱅크층 상부에 상기 제1두께보다 작은 제2두께를 갖는 제2스페이서를 형성하는 단계와;
상기 뱅크층을 통하여 노출되는 제1전극 상부에 발광층을 형성하는 단계와;
상기 발광층 상부에 제2전극을 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 제1스페이서는 상기 비유연성영역의 다수의 화소 각각의 상기 발광층 양측의 상기 뱅크층 상부에 배치되고,
상기 제2스페이서는 상기 유연성영역의 다수의 화소 각각의 상기 발광층 양측의 상기 뱅크층 상부에 배치되는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
제 5 항에 있어서,
상기 뱅크층과 상기 제1 및 제2스페이서를 형성하는 단계는,
상기 기판 상부에 뱅크물질층 및 스페이서물질층을 순차적으로 형성하는 단계와;
투과영역, 제1 및 제2반투과영역 및 차단영역을 포함하는 노광마스크를 이용하여 상기 스페이서물질층 상부에 제1포토레지스트패턴을 형성하는 단계와;
상기 제1포토레지스트패턴을 식각마스크로 이용하여 상기 뱅크물질층 및 상기 스페이서물질을 식각함으로써, 상기 뱅크층과 상기 뱅크층 상부의 제1스페이서패턴을 형성하는 단계와;
상기 제1포토레지스트패턴을 애싱하여 제2포토레지스트패턴을 형성하는 단계와;
상기 제2포토레지스트패턴을 식각마스크로 이용하여 상기 제1스페이서패턴을 식각함으로써, 상기 뱅크층 상부에 제2스페이서패턴을 형성하는 단계와;
상기 제2포토레지스트패턴을 애싱하여 제3포토레지스트패턴을 형성하는 단계와;
상기 제3포토레지스트패턴을 식각마스크로 이용하여 상기 제2스페이서패턴을 식각함으로써, 상기 제1 및 제2스페이서를 형성하는 단계
를 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
제 6 항에 있어서,
상기 투과영역의 투과율은 상기 제1반투과영역의 투과율보다 크고, 상기 제1반투과영역의 투과율은 상기 제2반투과영역의 투과율보다 크고, 상기 제2반투과영역의 투과율은 상기 차단영역의 투과율보다 크고,
상기 제1포토레지스트패턴은, 상기 투과영역에 대응하여 개구부를 갖고, 상기 제1반투과영역에 대응하여 제3두께를 갖고, 상기 제2반투과영역에 대응하여 상기 제3두께보다 큰 제4두께를 갖고, 상기 차단영역에 대응하여 상기 제4두께보다 큰 제5두께를 갖고,
상기 제2포토레지스트패턴은, 상기 제3두께에 대응하여 상기 제1스페이서패턴의 상면 가장자리를 노출하고, 상기 제4두께에 대응하여 제6두께를 갖고, 상기 제5두께에 대응하여 상기 제6두께보다 큰 제7두께를 갖고,
상기 제3포토레지스트패턴은, 상기 제6두께에 대응하여 상기 제2스페이서패턴을 노출하고, 상기 제7두께에 대응하여 제8두께를 갖는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
제 5 항에 있어서,
상기 발광층을 형성하는 단계는,
상기 제1스페이서에 접촉하고 상기 제2스페이서로부터 이격되도록 개구부를 갖는 쉐도우마스크를 배치하는 단계와;
상기 개구부를 통하여 발광물질을 증착하여 상기 발광층을 형성하는 단계
를 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
제 5 항에 있어서,
상기 기판은, 상기 비유연성영역 및 상기 유연성영역을 포함하는 표시영역과, 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역을 포함하고,
상기 뱅크층을 형성하는 단계는, 상기 비표시영역에 상기 뱅크층과 동일한 두께를 갖는 더미뱅크층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 제1 및 제2스페이서를 형성하는 단계는, 상기 더미뱅크층 상부에 상기 제1스페이서와 동일한 두께를 갖는 더미스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
제 5 항에 있어서,
상기 기판과 상기 제1전극 사이에 게이트절연층, 층간절연층 및 평탄화층을 순차적으로 형성하는 단계와;
상기 제2전극 상부에 제1보호층, 입자커버층 및 제2보호층을 순차적으로 형성하는 단계와;
접착층을 통하여 상기 제2보호층 상부에 차단필름을 부착하는 단계
를 더 포함하는 플렉시블 표시장치의 제조방법.
제 1 항에 있어서,
상기 제2전극은, 상기 제1스페이서의 상면 및 측면과, 상기 제2스페이서의 상면 및 측면에 접촉되는 플렉시블 표시장치.