KR102551133B1 - case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof - Google Patents
case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR102551133B1 KR102551133B1 KR1020190047085A KR20190047085A KR102551133B1 KR 102551133 B1 KR102551133 B1 KR 102551133B1 KR 1020190047085 A KR1020190047085 A KR 1020190047085A KR 20190047085 A KR20190047085 A KR 20190047085A KR 102551133 B1 KR102551133 B1 KR 102551133B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- case
- layer
- oxide
- slow cooling
- metal layer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B15/00—Drawing glass upwardly from the melt
- C03B15/02—Drawing glass sheets
- C03B15/12—Construction of the annealing tower
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B25/00—Annealing glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
- C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
Abstract
본 발명은 연속식 서냉가마용 케이스 및 그의 코팅방법에 관한 것이다. 구체적으로, 연속식 서냉가마용 케이스 표면이 이산화황 가스 또는 산소와 산화반응에 의하여 표면에서 부산물을 형성하고, 상기 부산물이 연속식 서냉가마용 케이스 내부에서 비산함으로써, 유리 표면에 흡착되어 제품의 불량을 방지하는 연속식 서냉가마용 케이스 및 그의 코팅방법에 관한 것이다.The present invention relates to a case for a continuous slow cooling kiln and a coating method thereof. Specifically, by-products are formed on the surface of the case for the continuous slow-cooling kiln by oxidation with sulfur dioxide gas or oxygen, and the by-products are scattered inside the case for the continuous slow-cooling kiln, adsorbed on the glass surface to cause defects in the product. It relates to a continuous slow cooling kiln case and a coating method thereof.
Description
본 발명은 연속식 서냉가마용 케이스 및 그의 코팅방법에 관한 것이다. 구체적으로, 연속식 서냉가마용 케이스 표면이 이산화황 가스 또는 산소 가스와 산화반응에 의하여 표면에서 부산물을 형성하고, 상기 부산물이 연속식 서냉가마용 케이스 내부에서 비산함으로써, 유리 표면에 흡착되어 발생하는 제품 불량을 방지하는 연속식 서냉가마용 케이스 및 그의 코팅방법에 관한 것이다.The present invention relates to a case for a continuous slow cooling kiln and a coating method thereof. Specifically, a product generated by being adsorbed on the glass surface by forming a by-product on the surface of the case for the continuous slow cooling kiln through an oxidation reaction with sulfur dioxide gas or oxygen gas, and scattering the by-product inside the case for the continuous slow cooling kiln. It relates to a case for a continuous slow cooling kiln that prevents defects and a coating method thereof.
일반적으로 플로트(float) 유리 공정은 탱크와 배스(bath)를 거쳐 약 700도 이하인 서냉 구간으로 이송되며, 서냉 구간인 연속식 서냉가마에서 이송롤러에 의해 유리를 이송함으로써, 완제품으로 제조될 유리의 응력을 제거하는 공정을 거치게 된다. 상기 유리 내의 응력을 제거하기 위해서는 통상적으로 유리의 온도를 서서히 냉각시키는 것이 필요하기 때문에, 상기 연속식 서냉가마는 수십 미터 이상의 긴 길이를 필요로 하며, 일반적으로 탄소강 또는 스테인리스강이 사용된다. In general, in the float glass process, the glass is transported through a tank and a bath to an annealing section of about 700 degrees or less. It goes through a stress-relieving process. Since it is usually necessary to gradually cool the temperature of the glass in order to remove the stress in the glass, the continuous slow cooling kiln requires a long length of several tens of meters or more, and carbon steel or stainless steel is generally used.
도 1은 종래기술에 따른 플로트 유리 공정의 냉각가마(10)에서 SO2 가스를 분사하여 반응층을 형성하는 공정의 모식도면이다. 플로트 유리 공정에서는 일반적으로 유리의 배면 부분, 즉 유리(30)와 이송롤러(50)가 접촉하는 면에 SO2 가스 분사기(90)로 SO2 가스를 분사해 Na2SO4 등과 같은 얇은 반응층을 형성하였다. 이를 통하여 유리와 이송롤러 간의 접촉에 의한 불량을 감소시키고 유리의 이송을 용이하게 하였다. 또한, 일반적으로 서냉 공정에서는 산소가 포함되어 있기 때문에, 서냉 공정은 SO2 가스가 포함된 산화분위기로 유지되고 있다. 이 때 서냉가마(lehr case, 10)의 내부는 고온 조건에서 장 시간 동안 SO2 가스 및 산화분위기에 노출이 되며, 지속적으로 SO2 가스 및 산소에 의하여 서냉가마용 케이스(11)가 부식이 되므로 수명이 짧아지게 되었다. 또한 부식에 의한 부산물(황화물, 산화물, 금속이물 등)이 표면에 형성되고, 이러한 부산물(70)이 유리 표면에 떨어지게 되어 유리 제품의 품질을 저하시키는 문제가 있다. 1 is a schematic diagram of a process of forming a reaction layer by spraying SO 2 gas in a cooling kiln 10 of a float glass process according to the prior art. In the float glass process, a thin reaction layer such as Na 2 SO 4 is generally formed by spraying SO 2 gas with an SO 2 gas sprayer 90 on the back side of the glass, that is, the surface where the
이에 따라 본 발명은 루트구조층 및 산화막층을 포함하는 연속식 서냉가마 케이스를 이용함으로써, 상기 서냉가마용 케이스의 표면에 보호막을 형성하여 서냉가마용 케이스와 이산화황 가스 및 산소와의 산화반응을 억제하고 최종적으로 서냉가마의 수명 연장 및 고품질의 유리 제품을 형성하기 위한 것이다.Accordingly, the present invention uses a continuous annealing kiln case including a root structure layer and an oxide film layer to form a protective film on the surface of the annealing kiln case to suppress the oxidation reaction between the slow cooling kiln case and sulfur dioxide gas and oxygen. And finally, to extend the life of the slow cooling kiln and form high-quality glass products.
본 발명은 연속식 서냉가마 케이스와 이산화황 가스 또는 산소 가스와의 산화반응을 방지하여, 유리제품의 불량 발생을 방지할 수 있는 연속식 서냉가마용 케이스를 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a case for a continuous slow cooling kiln capable of preventing the occurrence of defects in glass products by preventing an oxidation reaction between the continuous slow cooling kiln case and sulfur dioxide gas or oxygen gas.
다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하기의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problem, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
본 발명의 일 실시상태는, 금속층; 상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및 상기 금속층과 상기 산화막층에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함하는 연속식 서냉가마용 케이스를 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention, a metal layer; an oxide layer provided on one surface of the metal layer; and a root structure layer provided on the metal layer and the oxide layer and containing an oxide.
본 발명의 다른 일실시상태는, 상기 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법에 있어서, 상기 금속층의 일 표면이 열처리되어 상기 루트구조층 및 산화막층이 구비되는 단계;를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법을 제공한다.Another embodiment of the present invention, in the coating method of the case for the continuous slow cooling kiln, the step of heat-treating one surface of the metal layer to provide the root structure layer and the oxide film layer; continuous slow cooling comprising A coating method for a kiln case is provided.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스는 표면에 산화막층을 형성함으로써, 산화분위기에서 케이스의 금속 모재와 이산화황 가스 또는 산소 가스 간의 산화반응을 방지할 수 있다.An oxidation reaction between the metal base material of the case and sulfur dioxide gas or oxygen gas can be prevented in an oxidizing atmosphere by forming an oxide film layer on the surface of the case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스는 표면에 산화막층을 형성함으로써, 상기 연속식 서냉가마의 내구성을 향상시킬 수 있다.The continuous slow cooling kiln case according to an exemplary embodiment of the present invention may improve durability of the continuous slow cooling kiln by forming an oxide layer on the surface.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스는 표면에 산화막층을 형성함으로써, 표면에서 발생하는 부산물을 감소시킴으로써 최종적으로 유리 제품의 불량 발생을 방지할 수 있다. By forming an oxide film layer on the surface of the case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention, by-products generated on the surface are reduced, and finally, defects in glass products can be prevented.
도 1은 종래기술에 따른 플로트 유리 공정에서 SO2 가스를 분사하여 반응층을 형성하는 공정의 모식도면이다.
도 2는 종래기술의 연속식 서냉가마 내부에서 부산물이 비산하여 유리표면에 흡착되는 것을 모식적으로 나타낸 평면도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속식 서냉가마용 케이스 표면의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 단면을 확대한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 산화막층과 루트구조층, 금속층의 두께를 측정하는 방법을 나타낸 모식도 이다.
도 6은 실시예 1에 따른 샘플의 절단면을 나타낸 모식도이다.
도 7은 비교예 1에 따른 샘플의 사진도면이다.
도 8은 비교예 1을 열충격테스트 1회 진행한 사진도면이다.
도 9는 실시예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다.
도 10은 비교예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다.
도 11은 실시예 1 의 샘플의 열충격테스트 전후의 단면확인도이다.
도 12는 열처리 전과 후의 금속층의 XRD 분석 그래프도이다.1 is a schematic view of a process of forming a reaction layer by spraying SO 2 gas in a float glass process according to the prior art.
Figure 2 is a plan view schematically showing that by-products are scattered and adsorbed on the glass surface inside the continuous slow cooling kiln of the prior art.
3 is a view schematically showing a cross section of a case surface for a continuous slow cooling kiln according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged view of a cross section of a case for a continuous slow cooling kiln according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic diagram showing a method for measuring thicknesses of an oxide film layer, a root structure layer, and a metal layer according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram showing a cut surface of a sample according to Example 1.
7 is a photographic view of a sample according to Comparative Example 1.
8 is a photographic view of Comparative Example 1 in which a thermal shock test was performed once.
9 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Example 1.
10 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Comparative Example 1.
11 is a cross-sectional confirmation view of the sample of Example 1 before and after the thermal shock test.
12 is an XRD analysis graph of a metal layer before and after heat treatment.
본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. In the present specification, when a certain component is said to "include", it means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.
본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In this specification, when a member is said to be located “on” another member, this includes not only the case where a member is in contact with another member, but also the case where another member exists between the two members.
본 명세서에 있어서, 사용되는 정도의 용어 "~(하는) 단계" 또는 "~의 단계"는 "~를 위한 단계"를 의미하지 않는다.In this specification, the term "step of (to)" or "step of" as used herein does not mean "step for".
이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
종래의 탄소강 또는 스테인리스강의 재질인 연속식 서냉가마용 케이스는 고온의 산화분위기와 이산화황(SO2) 가스 또는 주석 가스에 상기 케이스 표면이 노출됨으로써 상기 케이스의 표면이 이산화황 가스 또는 산소 가스와 산화반응에 의해 황화합물 또는 주석화합물 등의 산화물, 즉 부산물이 형성되었다. A case for a continuous slow cooling kiln made of conventional carbon steel or stainless steel is exposed to a high-temperature oxidizing atmosphere and sulfur dioxide (SO 2 ) gas or tin gas, so that the surface of the case is resistant to oxidation reaction with sulfur dioxide gas or oxygen gas. As a result, oxides such as sulfur compounds or tin compounds, that is, by-products were formed.
나아가, 기존의 연속식 서냉가마용 케이스에서 박막을 코팅하여 이산화황 가스 인한 황화합물, 산화물 등의 부산물 생성을 방지하였지만, 상기 박막은 모재와의 접착성이 약해 외부의 미세한 충격 또는 급격한 온도 변화에도 상기 부산물이 쉽게 떨어져 나가는 문제점이 있었다. Furthermore, in the conventional continuous slow cooling kiln case, the formation of by-products such as sulfur compounds and oxides due to sulfur dioxide gas was prevented by coating a thin film, but the thin film has weak adhesion to the base material and thus the by-products There was a problem with this coming off easily.
상기 부산물은 연속식 서냉가마의 내부에 고온 환경에 의해 발생하는 기류에 의하여 서냉가마 내부에 위치한 유리의 상부에 상기 부산물이 흡착되며, 상기 기류의 수직 흐름에 따라 상기 유리의 하부에도 상기 부산물이 흡착되는 문제점이 있었다.The by-products are adsorbed on the upper part of the glass located inside the slow-cooling kiln by the air flow generated by the high-temperature environment inside the continuous slow-cooling kiln, and the by-products are also adsorbed on the lower part of the glass according to the vertical flow of the air flow. there was a problem with
도 2는 종래기술의 연속식 서냉가마 내부에서 부산물이 비산하여 유리표면에 흡착되는 것을 모식적으로 나타낸 평면도면이다. 상기 도 2와 같이 상기 부산물은 유리 표면의 전후좌우 뿐만 아니라 전영역에 걸쳐 흡착되고, 이로 인하여 상기 연속식 서냉가마에서 서냉되어 응력이 제거된 유리 표면에 불량품을 형성하는 문제점이 있었다.Figure 2 is a plan view schematically showing that by-products are scattered and adsorbed on the glass surface inside the continuous slow cooling kiln of the prior art. As shown in FIG. 2, the by-product is adsorbed over the entire area as well as the front and rear sides of the glass surface, and thus, there is a problem of forming a defective product on the glass surface from which stress is removed by being slowly cooled in the continuous slow cooling kiln.
나아가, 상기 부산물이 상기 서냉가마 내부의 유리 전영역에 걸쳐 비산되어 흡착되므로 상기 부산물이 발생한 영역을 확인할 수 없고, 그로 인하여 산화가 발생한 표면을 조속히 보수하기 어려운 문제점이 있었다.Furthermore, since the by-products are scattered and adsorbed over the entire glass area inside the slow cooling kiln, it is impossible to check the area where the by-products are generated, and thus it is difficult to quickly repair the oxidized surface.
이에 따라, 본 발명은 상기 연속식 서냉가마의 케이스 표면에 루트구조층과 산화막층을 형성함으로써, 상기 케이스 내부에서 산화분위기 속에서 산화가스에 노출되는 표면의 부식을 방지할 수 있다.Accordingly, the present invention can prevent corrosion of the surface exposed to oxidizing gas in an oxidizing atmosphere inside the case by forming a root structure layer and an oxide film layer on the surface of the case of the continuous slow cooling kiln.
또한, 상기 상기 루트구조층을 포함하는 연속식 서냉가마용 케이스에 의하여 금속층의 표면적이 넓어져 산화막층과의 접합부분이 증가하여 결합력이 향상하고, 그로 인해 산화막층의 박리되는 현상이 감소될 수 있다. In addition, the continuous cooling kiln case including the root structure layer increases the surface area of the metal layer, increases the junction with the oxide film layer, improves bonding strength, and thereby reduces the phenomenon of peeling of the oxide film layer. .
종래에는 금속소재에 산화막을 코팅하기 위해서는 열팽창계수를 보정하거나 접착력의 향상을 위하여, 금속소재와 산화막 사이에 경합코팅(bond coat)을 사용하며, 모재인 금속소재와 유사한 특성을 가지고 있는 소재를 선정하였다. 이에 비하여, 본 발명은 루트 구조층을 포함하는 경우, 금속층과 산화막층의 접합부분이 증가하고, 금속층과 유사한 성분의 산화물이 중공에 충진되어 루트구조층과 모재 사이의 접착력을 증가시킬 수 있다Conventionally, in order to coat an oxide film on a metal material, a bond coat is used between the metal material and the oxide film in order to correct the thermal expansion coefficient or improve adhesion, and select a material having similar characteristics to the base metal material. did In contrast, in the present invention, when the root structure layer is included, the junction between the metal layer and the oxide film layer increases, and the oxide of a component similar to the metal layer is filled in the hollow, thereby increasing the adhesive force between the root structure layer and the base material.
본 발명의 일 실시상태는, 금속층; 상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및 상기 금속층과 상기 산화막층에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함하는 연속식 서냉가마용 케이스를 제공한다. 본 발명은 상술한 바와 같이 금속층과 유사한 성분의 산화물을 루트구조층이 포함함으로써, 금속층과 산화막층이 유사한 열팽창계수를 가져 접착력을 향상시킨다.An exemplary embodiment of the present invention, a metal layer; an oxide layer provided on one surface of the metal layer; and a root structure layer provided on the metal layer and the oxide layer and containing an oxide. As described above, in the present invention, since the root structure layer includes an oxide having a similar component to that of the metal layer, the metal layer and the oxide film layer have similar coefficients of thermal expansion to improve adhesion.
도 3은 본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스 표면의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다. 상기 도 3과 같이 본 발명의 일 실시상태에 따른 서냉가마용 케이스는 금속층; 상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및 상기 금속층과 상기 산화막층에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함한다. 상술한 바와 같이 산화막층을 포함함으로써, 연속식 서냉가마 내부의 이산화황 가스와 산화분위기에서 연속식 서냉가마용 케이스의 표면 부식을 방지할 수 있다. 3 is a view schematically showing a cross section of a case surface for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the case for a slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention includes a metal layer; an oxide layer provided on one surface of the metal layer; and a root structure layer provided on the metal layer and the oxide layer and including an oxide. As described above, by including the oxide film layer, it is possible to prevent surface corrosion of the continuous slow cooling kiln case in the sulfur dioxide gas and oxidizing atmosphere inside the continuous slow cooling kiln.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 루트구조층은 산화막층 방향으로 연통된 중공을 포함하고, 상기 중공은 상기 산화물이 충진된 것일 수 있다. 상기 루트구조층에 포함된 중공이 산화막층과 연통됨으로써, 상기 금속층의 표면 면적을 증가시켜 산화막층과 접합력을 향상시키는 효과가 있다. 또한 상기 중공에 산화물이 충진됨으로써, 산화막층이 물리적으로 금속층에 결합되어 금속층과 산화막층의 접합력을 향상시킬 수 있다. 나아가, 상기 중공에 금속층과 유사한 산화물이 충진됨으로써, 유사한 열팽창계수를 가져 접착력을 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the root structure layer may include hollows communicating in the direction of the oxide film layer, and the hollows may be filled with the oxide. Since the hollow included in the root structure layer communicates with the oxide film layer, the surface area of the metal layer is increased to improve bonding strength with the oxide film layer. In addition, by filling the hollow with oxide, the oxide film layer is physically bonded to the metal layer to improve bonding strength between the metal layer and the oxide film layer. Furthermore, by filling the hollow with an oxide similar to that of the metal layer, adhesion may be improved by having a similar coefficient of thermal expansion.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 단면을 확대한 도면이다. 상기 도 4와 같이 금속층, 루트구조층 및 산화막층이 순차적으로 구비될 수 있으며, 상기 루트구조층에 포함된 중공에는 산화물이 충진되고, 상기 루트구조층의 상측에 산화막층이 구비될 수 있다. 4 is an enlarged view of a cross section of a case for a continuous slow cooling kiln according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, a metal layer, a root structure layer, and an oxide film layer may be sequentially provided, an oxide may be filled in a hollow included in the root structure layer, and an oxide film layer may be provided on top of the root structure layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 중공에 충진된 산화물은 크롬산화물 및 망간산화물, 규소산화물, 철산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 산화물을 포함함으로써, 금속층과 산화물층의 접합력을 향상시키고, 산화막층이 박리되더라도 상기 산화물이 루트구조층의 중공에 잔류함으로써 금속층이 상기 이산화황 가스 또는 산소 가스와 반응하는 면적은 감소시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the oxide filled in the hollow may include at least one selected from the group consisting of chromium oxide, manganese oxide, silicon oxide, and iron oxide. By including the oxide, bonding strength between the metal layer and the oxide layer is improved, and even when the oxide film layer is peeled off, the oxide remains in the hollow of the root structure layer, thereby reducing the area where the metal layer reacts with the sulfur dioxide gas or oxygen gas.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 루트구조층에 포함된 중공은 다수 개가 포함될 수 있다. 상기 중공을 다수 개로 포함함으로써, 산화막층이 물리적으로 금속층에 결합되어 금속층과 산화막층의 접합력을 향상시킬 수 있다. 나아가, 상기 산화막층이 금속층에서 박리되는 경우라도 상기 중공에는 상기 산화물이 잔류하므로, 외부로 노출되는 금속층의 면적이 감소하여 상기 이산화황 가스 또는 주석 가스와의 산화반응이 이루어지는 면적을 감소시킬 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, a plurality of hollows included in the root structure layer may be included. By including a plurality of the hollows, the oxide film layer is physically bonded to the metal layer to improve bonding strength between the metal layer and the oxide film layer. Furthermore, even when the oxide film layer is separated from the metal layer, since the oxide remains in the hollow, the area of the metal layer exposed to the outside is reduced, thereby reducing the area where oxidation reaction with the sulfur dioxide gas or tin gas takes place.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 산화막층과 루트구조층, 금속층의 두께를 측정하는 방법을 나타낸 모식도이다. 상기 도 5와 같이 상기 연속식 서냉가마용 케이스는 금속층에 루트구조층 및 산화막층이 순차적으로 적층된 구조로 구비될 수 있다. 상기 루트구조층과 산화막층의 두께를 측정하기 위하여, 본 발명에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 단면을 촬영하고, 상기 쵤영한 사진에서 폐곡선인 중공과 산화막층 방향으로 연통된 중공의 위치를 확인한다. 이후 상기 루트구조층의 두께는 상기 루프구조층에 포함되고 최하부에 위치하는 폐곡선인 중공(A)의 위치로부터 루트구조층과 산화막층이 접하는 위치 중 가장 높은 위치(B) 간의 길이로 정의한다. 나아가, 산화막층의 두께는 루트구조층에서 산화막층 방향으로 연통된 중공 중 최하부의 위치(C)와 산화막층의 표면에서 가장 높은 곳(D)의 위치 간의 길이로 정의한다.5 is a schematic diagram showing a method for measuring thicknesses of an oxide film layer, a root structure layer, and a metal layer according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the case for the continuous slow cooling kiln may have a structure in which a root structure layer and an oxide layer are sequentially stacked on a metal layer. In order to measure the thickness of the root structure layer and the oxide film layer, a cross section of the continuous slow cooling kiln case according to the present invention is photographed, and in the photograph taken, the position of the closed curve hollow and the hollow connected in the direction of the oxide film layer is confirmed do. Then, the thickness of the root structure layer is defined as the length between the position of the hollow (A), which is a closed curve included in the loop structure layer and positioned at the bottom, and the highest position (B) of the contact positions between the root structure layer and the oxide film layer. Further, the thickness of the oxide film layer is defined as the length between the lowest position (C) of the hollow communicating in the direction of the oxide film layer from the root structure layer and the position (D) of the highest point on the surface of the oxide film layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 산화막층의 두께는 1㎛ 이상 100 ㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 상기 산화막층의 두께는 3㎛ 이상 90 ㎛ 이하, 8㎛ 이상 80 ㎛ 이하, 8㎛ 이상 70㎛ 이하, 10 ㎛ 이상 50 ㎛이하일 수 있다. 상술한 범위 내에서 상기 상기 산화막층의 두께를 조절함으로써, 연속식 서냉가마 내의 산화분위기에서 이산화황 가스의 침투를 방지하고 금속층과의 반응을 감소시키는 효과가 있다. According to one embodiment of the present invention, the thickness of the oxide film layer may be 1 μm or more and 100 μm or less. Specifically, the thickness of the oxide layer may be 3 μm or more and 90 μm or less, 8 μm or more and 80 μm or less, 8 μm or more and 70 μm or less, or 10 μm or more and 50 μm or less. By adjusting the thickness of the oxide film layer within the above range, there is an effect of preventing the penetration of sulfur dioxide gas in an oxidizing atmosphere in a continuous slow cooling kiln and reducing the reaction with the metal layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 루트구조층의 두께는 5㎛ 이상 20 ㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 상기 루트구조층의 두께는 7㎛ 이상 18 ㎛ 이하, 9㎛ 이상 16 ㎛ 이하, 11 ㎛ 이상 14㎛ 이하일 수 있다. 상술한 범위 내에서 상기 루트구조층의 두께를 조절함으로써, 금속층과 산화막층의 접합력을 조절하여, 접합력을 향상시키고, 상기 산화막층의 열충격에 대한 내구성을 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the thickness of the root structure layer may be 5 μm or more and 20 μm or less. Specifically, the thickness of the root structure layer may be 7 μm or more and 18 μm or less, 9 μm or more and 16 μm or less, or 11 μm or more and 14 μm or less. By adjusting the thickness of the root structure layer within the above-described range, it is possible to adjust the bonding strength between the metal layer and the oxide film layer, thereby improving the bonding strength and improving the durability of the oxide film layer against thermal shock.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속층은 철, 망간, 크롬, 니켈, 실리콘, 몰리브덴, 인으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 상술한 군으로부터 금속층을 선택함으로써, 연속식 서냉가마용 케이스의 내구성을 향상시킬 수 있으며, 제조비용을 절감할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the metal layer may include one or more selected from the group consisting of iron, manganese, chromium, nickel, silicon, molybdenum, and phosphorus. By selecting the metal layer from the above group, it is possible to improve the durability of the case for the continuous slow cooling kiln and reduce the manufacturing cost.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속층은 전체 중량 대비 크롬 15 중량% 이상 50 중량% 이하 및 망간 1 중량% 이상 10 중량% 이하를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 금속층은 전체 중량 대비 크롬 20 중량 %이상 45 중량% 이하, 25 중량% 이상 40 중량% 이하 또는 30 중량% 이상 35 중량% 이하를 포함할 수 있다. 또한, 상기 금속층은 전체 중량 대비 망간 0.1 중량% 이상 10 중량% 이하, 0.5 중량% 이상 8 중량% 이하, 1 중량% 이상 6 중량% 이하, 1.5 중량% 이상 4 중량% 이하, 1.5 중량% 이상 2 중량% 이하를 포함할 수 있다. 상술한 범위 내에서 크롬의 함량을 조절함으로써, 상기 산화층의 형성을 용이하게 할 수 있으며, 금속층의 내부성분 변화를 방지하여 상기 케이스의 강도저하를 방지할 수 있다. 나아가, 상술한 범위 내에서 망간의 함량을 조절함으로써, 상기 케이스의 강도와 고온에서의 가공성을 증가시키고, 연신율의 감소를 억제시킬 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the metal layer may include 15 wt% or more and 50 wt% or less of chromium and 1 wt% or more and 10 wt% or less of manganese based on the total weight. Specifically, the metal layer may include 20% by weight or more and 45% by weight or less, 25% by weight or more and 40% by weight or less, or 30% by weight or more and 35% by weight or less, based on the total weight of the metal layer. In addition, the metal layer contains 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, 0.5 wt% or more and 8 wt% or less, 1 wt% or more and 6 wt% or less, 1.5 wt% or more and 4 wt% or less, 1.5 wt% or more 2 may contain less than or equal to weight percent. By controlling the content of chromium within the above-described range, the formation of the oxide layer can be facilitated, and a change in internal components of the metal layer can be prevented, thereby preventing a decrease in strength of the case. Furthermore, by adjusting the content of manganese within the above-mentioned range, the strength of the case and workability at high temperatures may be increased, and reduction in elongation may be suppressed.
본 발명의 일 실시상태는, 상기 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법에 있어서, 상기 금속층의 일 표면이 열처리되어 상기 루트구조층 및 산화막층이 구비되는 단계; 를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법을 제공한다. An exemplary embodiment of the present invention, in the coating method of the case for the continuous slow cooling kiln, heat treatment of one surface of the metal layer to provide the root structure layer and the oxide film layer; It provides a coating method for a continuous slow cooling kiln case comprising a.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법은 열처리로 산화막층을 형성시켜 금속층과 산화막층의 접합력을 향상시키며, 금속층과 유사한 재질의 산화물이 루트구조층의 중공에 충진되어 열팽창계수를 조절함으로써 접착력을 향상시키고, 산화막층을 형성함으로써 산화분위기 속에서 부식을 방지할 수 있다.In the coating method for a case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention, an oxide film layer is formed by heat treatment to improve bonding strength between a metal layer and an oxide film layer, and an oxide of a material similar to the metal layer is filled in the hollow of the root structure layer. Adhesion can be improved by adjusting the coefficient of thermal expansion, and corrosion can be prevented in an oxidizing atmosphere by forming an oxide film layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속층이 열처리되기 전에, 상기 금속층의 일 표면을 조면화처리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 산화층 형성 전 모재표면에 샌드블라스팅으로 표면적을 증가시킨 후 산화층 및 루트구조층을 형성할 수 있다. 상술한 바와 같이 상기 금속층의 일 표면을 추가적으로 조면화처리함으로써, 산화막층과 금속층 간의 접촉면적을 보다 증가시켜 산화층의 접합력을 향상시킬 수 있다.According to one embodiment of the present invention, before the metal layer is subjected to heat treatment, a step of roughening a surface of the metal layer may be further included. According to an exemplary embodiment of the present invention, the oxide layer and the root structure layer may be formed after increasing the surface area by sandblasting on the surface of the base material before forming the oxide layer. As described above, by additionally roughening one surface of the metal layer, a contact area between the oxide layer and the metal layer may be further increased to improve bonding strength of the oxide layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 산화막층은 열처리에 의하여 구비될 수 있으며, 상기 열처리 온도는 500 ℃ 이상 1,500 ℃ 이하에서 수행될 수 있다. 구체적으로, 상기 열처리는 600 ℃ 이상 1,400 ℃ 이하, 700 ℃ 이상 1,300 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 상술한 범위 내에서 상기 열처리를 수행함으로써, 밀도가 높은 산화막층을 형성할 수 있으며, 연속식 서냉가마 내부의 산화분위기에서 융용 주석 등의 저융점 금속 또는 이산화황 가스의 부식성 가스 등과의 산화반응을 방지하여 케이스 표면이 부식되는 것을 방지할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the oxide film layer may be provided by heat treatment, and the heat treatment temperature may be performed at 500 ° C. or more and 1,500 ° C. or less. Specifically, the heat treatment is preferably 600 ° C or more and 1,400 ° C or less, 700 ° C or more and 1,300 ° C or less. By performing the heat treatment within the above range, it is possible to form a high-density oxide film layer, and to prevent an oxidation reaction with a low melting point metal such as molten tin or a corrosive gas of sulfur dioxide gas in an oxidizing atmosphere inside a continuous slow cooling kiln. This can prevent the surface of the case from being corroded.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 열처리는 1시간 이상 63시간 이하 동안 수행될 수 있다. 구체적으로, 상기 열처리는 2시간 이상 60시간 이하, 4시간 이상 55시간 이하, 6시간 이상 50시간 이하, 8시간 이상 45시간 이하, 10시간 이상 40시간 이하, 12시간 이상 35시간 이하, 14시간 이상 30시간 이하 동안 수행될 수 있다. 상술한 시간 범위 내에서 열처리가 수행됨으로써, 상기 루트구조층에 포함된 중공에 산화물을 효과적으로 충진시킬 수 있으며, 열처리과정에서 산화막층의 밀도를 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the heat treatment may be performed for 1 hour or more and 63 hours or less. Specifically, the heat treatment is 2 hours or more and 60 hours or less, 4 hours or more and 55 hours or less, 6 hours or more and 50 hours or less, 8 hours or more and 45 hours or less, 10 hours or more and 40 hours or less, 12 hours or more and 35 hours or less, 14 hours It can be performed for more than 30 hours or less. By performing the heat treatment within the above-mentioned time range, it is possible to effectively fill the hollows included in the root structure layer with oxide, and it is possible to improve the density of the oxide film layer during the heat treatment process.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail to explain the present invention in detail. However, embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, and the scope of the present invention is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments herein are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.
실시예Example 1 One
스테인리스강인 모재에 루트구조층과 크롬산화물 재질의 산화막층을 포함한 샘플을 준비하였다. 도 6은 실시예 1에 따른 샘플의 절단면을 나타낸 모식도이다.A sample including a root structure layer and an oxide film layer made of chromium oxide was prepared on a base material of stainless steel. 6 is a schematic diagram showing a cut surface of a sample according to Example 1.
비교예comparative example 1 One
스테인리스강인 모재에 이트리아 안정화 지르코늄(Yttria-stabilized zirconia, YSZ)을 0.25mm로 코팅한 샘플을 준비하였다. 도 7은 비교예 1에 따른 샘플의 사진도면이다.A sample coated with 0.25 mm of yttria-stabilized zirconia (YSZ) was prepared on a stainless steel base material. 7 is a photographic view of a sample according to Comparative Example 1.
열충격테스트thermal shock test (( 산화막층의of the oxide layer 박리여부Exfoliation 확인) check)
실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 연속식 서냉가마용 케이스를 1,000℃에서 10분 동안 가열하고, 이후 물담금질(water quenching)을 1 회로 가열과 물담금질을 진행하였다. 그 후 상기 가열과 물담금질이 진행된 상기 케이스를 절단하여 단면을 분석하였다. The case for the continuous slow cooling kiln prepared in Example 1 and Comparative Example 1 was heated at 1,000 ° C. for 10 minutes, and then water quenching was performed once for heating and water quenching. Thereafter, the case after the heating and water quenching was cut and the cross section was analyzed.
실시예 1은 열충격테스트를 10회 진행하더라도 산화막층이 박리되지 않는 것을 확인하였다. 도 8은 비교예 1을 열충격테스트 1회 진행한 사진도면이다. 비교예 1은 상기 열충격테스트를 1회만 진행하더라도 산화막층에 크랙이 발생한 것을 확인하였다. In Example 1, it was confirmed that the oxide film layer was not peeled off even when the thermal shock test was performed 10 times. 8 is a photographic view of Comparative Example 1 in which a thermal shock test was performed once. In Comparative Example 1, it was confirmed that cracks occurred in the oxide film layer even if the thermal shock test was performed only once.
루트구조층root structure layer 생성 확인 confirm creation
실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 연속식 서냉가마용 케이스에서 열처리된 표면에 루트구조층의 생성을 확인하기 위하여 실시예 1의 샘플과 비교예 1의 샘플을 절단하여 루트구조층 유무를 확인하였다. In order to confirm the generation of the root structure layer on the heat-treated surface in the continuous slow cooling kiln case manufactured in Example 1 and Comparative Example 1, the sample of Example 1 and the sample of Comparative Example 1 were cut to confirm the presence or absence of the root structure layer. did
도 9는 실시예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다. 상기 도 9와 같이 루트구조층은 산화물이 충진된 중공을 포함하는 것을 확인하였다. 상기 산화물이 상기 루트구조층에 포함된 중공에 충진됨으로써, 상기 산화막층과 루트구조층 사이의 접촉하는 표면적이 증가하고, 상기 연속식 서냉가마용 케이스 표면에 물리적인 외력 및 열충격이 발생하더라도 쉽게 탈락되지 않는 것을 확인하였다. 9 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Example 1. As shown in FIG. 9, it was confirmed that the root structure layer included hollow spaces filled with oxide. As the oxide is filled in the hollow included in the root structure layer, the contact surface area between the oxide film layer and the root structure layer is increased, and even if a physical external force and thermal shock occur on the surface of the case for the continuous slow cooling kiln, it is easily removed. confirmed that it does not.
도 10은 비교예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다. 도 10(c)와 같이 루트구조층이 생성되지 않은 것을 확인하였다. 따라서, 상기 비교예 1의 경우 루트구조층이 생성되지 않아 금속층과 산화막층의 접합력이 약하여 물리적 외력 및 열충격에 약한 것을 확인하였다.10 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Comparative Example 1. As shown in FIG. 10 (c), it was confirmed that the root structure layer was not generated. Therefore, in the case of Comparative Example 1, it was confirmed that the root structure layer was not formed, and the bonding strength between the metal layer and the oxide layer was weak, and thus weak against physical external force and thermal shock.
산화막층의of the oxide layer 두께 확인 check the thickness
실시예 1의 샘플을 상기 열충격테스트 10회 진행 후 산화막층의 두께를 확인하였다.After the sample of Example 1 was subjected to the thermal shock test 10 times, the thickness of the oxide film layer was confirmed.
상기 도 5의 위치에 따라 실시예 1의 샘플의 산화막 두께를 열충격테스트 전후로 비교 측정하였다. 실시예 1의 샘플을 상기 열충격테스트 진행하기 전의 두께를 측정하고, 이후 열충격테스트를 10회 진행 후 산화막층의 두께를 확인하였다. 도 11은 실시예 1 의 샘플의 열충격테스트 전후의 단면확인도이다. 상기 도 11과 같이 열충격테스트를 진행하더라도 실시예 1은 루트구조층이 존재하여 산화막의 박리가 일어나지 않고, 열충격테스트 전의 산화막 두께를 확보하는 것을 확인하였다. According to the location of FIG. 5, the thickness of the oxide film of the sample of Example 1 was compared before and after the thermal shock test. The thickness of the sample of Example 1 was measured before the thermal shock test was performed, and the thickness of the oxide layer was confirmed after the thermal shock test was performed 10 times. 11 is a cross-sectional confirmation view of the sample of Example 1 before and after the thermal shock test. Even if the thermal shock test was performed as shown in FIG. 11, in Example 1, it was confirmed that the thickness of the oxide film before the thermal shock test was secured without peeling of the oxide film due to the existence of the root structure layer.
이로부터 상기 루트구조층은 산화막층의 박리를 방지하며, 상기 산화막층이 상기 케이스 내부의 이산화황 가스의 침투를 억제하여 부식을 발생되지 않는 것을 확인하였다.From this, it was confirmed that the root structure layer prevents peeling of the oxide film layer, and the oxide film layer suppresses the permeation of sulfur dioxide gas into the case so that corrosion does not occur.
금속층의of the metal layer 변성여부denaturation 확인 check
실시예 1에서는 루트구조층을 구비하기 위해 열처리를 하여 산화막을 형성하였다. 이 후 상기 금속층이 상기 열처리에 의하여 성질이 변화하였는지 확인하기 위하여 XRD 분석을 통하여 열처리 전과 후의 금속층 내부 조직의 결정구조에 차이가 있는지 확인하였다.In Example 1, an oxide film was formed by heat treatment to provide a root structure layer. Thereafter, in order to confirm that the properties of the metal layer were changed by the heat treatment, it was confirmed through XRD analysis that there was a difference in the crystal structure of the internal structure of the metal layer before and after the heat treatment.
도 12는 열처리 전과 후의 금속층의 XRD 분석 그래프도이다. 상기 도 12(a)와 도 12(b)의 피크가 동일한 위치와 크기에 형성되는 것으로부터 열처리에 의하여도 상기 금속층 의 내부 조직의 결정구조에 변화가 없는 것을 확인하였다.12 is an XRD analysis graph of a metal layer before and after heat treatment. From the fact that the peaks in FIGS. 12(a) and 12(b) are formed at the same position and size, it was confirmed that there was no change in the crystal structure of the internal structure of the metal layer even by heat treatment.
따라서, 본 발명의 연속식 서냉가마용 케이스는 루트구조층의 열처리를 통하여 중공에 산화물을 충진시키고, 루트구조층 상에 산화막층을 형성함으로써, 산화분위기에서 부식 가스와의 반응을 억제하여 내부식성을 향상시킬수 있으며, 열처리를 하더라도 금속층의 내부 조직을 변화시키지 않아 강성을 유지할 수 있는 것을 확인할 수 있다.Therefore, the case for the continuous slow cooling kiln of the present invention fills the hollow with oxide through heat treatment of the root structure layer and forms an oxide film layer on the root structure layer, thereby suppressing the reaction with corrosive gas in an oxidizing atmosphere, thereby improving corrosion resistance. It can be improved, and it can be confirmed that the stiffness can be maintained without changing the internal structure of the metal layer even after heat treatment.
10: 냉각가마
11: 냉각가마용 케이스
30: 유리
50: 이송롤러
70: 부산물
90: SO2 가스 분사기
110: 금속층
130: 루트구조층
150: 산화막층10: cooling kiln
11: case for cooling kiln
30: Glass
50: transfer roller
70: by-product
90: SO 2 gas injector
110: metal layer
130: root structure layer
150: oxide film layer
Claims (11)
상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및
상기 금속층과 상기 산화막층 사이에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함하고,
상기 루트구조층은 상기 산화막층 방향으로 연통된 중공을 포함하고,
상기 중공은 상기 산화물이 충진된 것인 연속식 서냉가마용 케이스.
metal layer;
an oxide layer provided on one surface of the metal layer; and
A root structure layer provided between the metal layer and the oxide layer and containing an oxide;
The root structure layer includes a hollow communicating in the direction of the oxide film layer,
The hollow is a case for a continuous slow cooling kiln in which the oxide is filled.
상기 산화물은 크롬산화물 및 망간산화물, 규소산화물, 철산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스.According to claim 1,
The oxide is a case for a continuous slow cooling kiln comprising at least one selected from the group consisting of chromium oxide, manganese oxide, silicon oxide, and iron oxide.
상기 산화막층의 두께는 1 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인 연속식 서냉가마용 케이스.According to claim 1,
The thickness of the oxide film layer is 1 μm or more and 100 μm or less.
상기 루트구조층의 두께는 5 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하인 연속식 서냉가마용 케이스.According to claim 1,
The thickness of the root structure layer is a continuous slow cooling case of 5 μm or more and 20 μm or less.
상기 금속층은 철, 망간, 크롬, 니켈, 실리콘, 몰리브덴, 인으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스.According to claim 1,
The metal layer is a case for a continuous slow cooling kiln comprising at least one selected from the group consisting of iron, manganese, chromium, nickel, silicon, molybdenum, and phosphorus.
상기 금속층은 전체 중량 대비 크롬 15 중량% 이상 50 중량% 이하 및 망간 1 중량% 이상 10 중량% 이하를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스.According to claim 6,
The metal layer is a case for a continuous slow cooling kiln comprising 15% by weight or more and 50% by weight or less of chromium and 1% by weight or more and 10% by weight or less of manganese based on the total weight.
상기 금속층의 일 표면이 열처리되어 상기 루트구조층 및 산화층이 구비되는 단계; 를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.In the coating method of the continuous slow cooling kiln case according to claim 1,
heat-treating one surface of the metal layer to provide the root structure layer and the oxide layer; Coating method of the continuous slow cooling kiln case comprising a.
상기 금속층이 열처리되기 전에,
상기 금속층의 일 표면을 조면화처리하는 단계를 더 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.According to claim 8,
Before the metal layer is heat treated,
Coating method of the continuous slow kiln case further comprising the step of roughening one surface of the metal layer.
상기 열처리는 500 ℃ 이상 1,500 ℃ 이하에서 수행되는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.According to claim 8,
The heat treatment is a coating method for a case for a continuous slow cooling kiln, which is performed at 500 ° C or more and 1,500 ° C or less.
상기 열처리는 1시간 이상 63시간 이하 동안 수행되는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.
According to claim 8,
The heat treatment is a coating method for a case for a continuous slow cooling kiln that is performed for 1 hour or more and 63 hours or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020190047085A KR102551133B1 (en) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020190047085A KR102551133B1 (en) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200123929A KR20200123929A (en) | 2020-11-02 |
| KR102551133B1 true KR102551133B1 (en) | 2023-07-04 |
Family
ID=73397832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020190047085A KR102551133B1 (en) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102551133B1 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014103478A1 (en) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | Slow cooling device, slow cooling method, device for manufacturing glass plate, and method for manufacturing glass plate |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5330836A (en) * | 1976-09-03 | 1978-03-23 | Hitachi Ltd | Bubble domain memory device |
| JPS5339021A (en) * | 1976-09-22 | 1978-04-10 | Nec Corp | Color crt unit containing display character position detector circuit |
| US6591636B1 (en) * | 1998-05-05 | 2003-07-15 | Corning Incorporated | Material and method for coating glass forming equipment |
| KR102482437B1 (en) * | 2015-02-04 | 2022-12-28 | 코닝 인코포레이티드 | Glassware Forming System |
| KR20180086220A (en) * | 2015-11-19 | 2018-07-30 | 코닝 인코포레이티드 | Glass manufacturing apparatus having a cooling device and method of using the same |
-
2019
- 2019-04-23 KR KR1020190047085A patent/KR102551133B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014103478A1 (en) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | Slow cooling device, slow cooling method, device for manufacturing glass plate, and method for manufacturing glass plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20200123929A (en) | 2020-11-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI480392B (en) | Cast products having alumina barrier layer | |
| US7998601B2 (en) | Sandwich thermal insulation layer system and method for production | |
| TWI551564B (en) | A refractory for molten glass, and a glass manufacturing apparatus using a refractory glass for holding glass, and a glass manufacturing method using the glass manufacturing apparatus | |
| KR101765025B1 (en) | Hearth roll and manufacturing method therefor | |
| KR102551133B1 (en) | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof | |
| CN109207861B (en) | Method for producing a steel component provided with a coating | |
| JP5901099B2 (en) | Method for coating a cooling element | |
| KR20180023500A (en) | Coating layer for improving delamination, method of fabricating the same, and plating equipment using the same | |
| JP4813313B2 (en) | Silicon single crystal pulling apparatus, graphite member used in the apparatus, and method for preventing deterioration of graphite member | |
| JP2015145530A (en) | Sputtering target and method for manufacturing the same | |
| BR112019013257A2 (en) | hot-dip galvanized steel sheet, method of manufacture hot-dip galvanized steel sheet, method of manufacture hot-stamped component and vehicle manufacturing method | |
| JP5868133B2 (en) | Manufacturing method of hearth roll for continuous annealing furnace | |
| CN105683101B (en) | Float bath is bathed with tin alloy, the manufacture device of float glass, the manufacture method of float glass and float glass | |
| JP4371048B2 (en) | Optical glass molding die and optical glass element | |
| JP2012222157A (en) | Substrate processing apparatus and method of manufacturing solar cell | |
| JP2012222158A (en) | Substrate processing apparatus and method of forming coating film onto surface of reaction pipe used for substrate processing apparatus | |
| JP2007277019A (en) | Adjustment tool for molding optical element | |
| WO2014203834A1 (en) | Glass-conveying roll, method for manufacturing same, and method for manufacturing flat glass using same | |
| US4473412A (en) | Annealing steel strip using molten B2 O3, SiO2 Na2 O, NaF glass bath | |
| CN109891001B (en) | Component comprising a nickel-based single crystal superalloy substrate and method of making the same | |
| JP5356929B2 (en) | Hearth roll and manufacturing method thereof | |
| JP2001280890A (en) | Heat exchanger | |
| JP3546305B2 (en) | How to extend the life of a galvanized line snout | |
| KR100820183B1 (en) | A plate for preventing flow of cdq | |
| JP6731613B2 (en) | Composite material, sulfuric acid decomposing device using the same, hydrogen producing device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |