KR20200123929A - case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof - Google Patents
case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200123929A KR20200123929A KR1020190047085A KR20190047085A KR20200123929A KR 20200123929 A KR20200123929 A KR 20200123929A KR 1020190047085 A KR1020190047085 A KR 1020190047085A KR 20190047085 A KR20190047085 A KR 20190047085A KR 20200123929 A KR20200123929 A KR 20200123929A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- oxide
- case
- layer
- slow cooling
- metal layer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B15/00—Drawing glass upwardly from the melt
- C03B15/02—Drawing glass sheets
- C03B15/12—Construction of the annealing tower
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B25/00—Annealing glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
- C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 연속식 서냉가마용 케이스 및 그의 코팅방법에 관한 것이다. 구체적으로, 연속식 서냉가마용 케이스 표면이 이산화황 가스 또는 산소 가스와 산화반응에 의하여 표면에서 부산물을 형성하고, 상기 부산물이 연속식 서냉가마용 케이스 내부에서 비산함으로써, 유리 표면에 흡착되어 발생하는 제품 불량을 방지하는 연속식 서냉가마용 케이스 및 그의 코팅방법에 관한 것이다.The present invention relates to a case for a continuous slow cooling kiln and a coating method thereof. Specifically, a product generated by adsorbing to the glass surface by forming by-products on the surface of the case for a continuous slow cooling kiln by oxidation reaction with sulfur dioxide gas or oxygen gas, and scattering the by-products inside the casing for a continuous slow cooling kiln. It relates to a case for a continuous slow cooling kiln that prevents defects and a coating method thereof.
일반적으로 플로트(float) 유리 공정은 탱크와 배스(bath)를 거쳐 약 700도 이하인 서냉 구간으로 이송되며, 서냉 구간인 연속식 서냉가마에서 이송롤러에 의해 유리를 이송함으로써, 완제품으로 제조될 유리의 응력을 제거하는 공정을 거치게 된다. 상기 유리 내의 응력을 제거하기 위해서는 통상적으로 유리의 온도를 서서히 냉각시키는 것이 필요하기 때문에, 상기 연속식 서냉가마는 수십 미터 이상의 긴 길이를 필요로 하며, 일반적으로 탄소강 또는 스테인리스강이 사용된다. In general, the float glass process is transferred to a slow cooling section of about 700 degrees or less through a tank and a bath, and by transferring the glass by a transfer roller in a continuous slow cooling kiln, which is a slow cooling section, the glass to be manufactured into a finished product is It goes through the process of removing the stress. In order to remove the stress in the glass, since it is usually necessary to gradually cool the temperature of the glass, the continuous slow cooling kiln requires a long length of several tens of meters or more, and generally carbon steel or stainless steel is used.
도 1은 종래기술에 따른 플로트 유리 공정의 냉각가마(10)에서 SO2 가스를 분사하여 반응층을 형성하는 공정의 모식도면이다. 플로트 유리 공정에서는 일반적으로 유리의 배면 부분, 즉 유리(30)와 이송롤러(50)가 접촉하는 면에 SO2 가스 분사기(90)로 SO2 가스를 분사해 Na2SO4 등과 같은 얇은 반응층을 형성하였다. 이를 통하여 유리와 이송롤러 간의 접촉에 의한 불량을 감소시키고 유리의 이송을 용이하게 하였다. 또한, 일반적으로 서냉 공정에서는 산소가 포함되어 있기 때문에, 서냉 공정은 SO2 가스가 포함된 산화분위기로 유지되고 있다. 이 때 서냉가마(lehr case, 10)의 내부는 고온 조건에서 장 시간 동안 SO2 가스 및 산화분위기에 노출이 되며, 지속적으로 SO2 가스 및 산소에 의하여 서냉가마용 케이스(11)가 부식이 되므로 수명이 짧아지게 되었다. 또한 부식에 의한 부산물(황화물, 산화물, 금속이물 등)이 표면에 형성되고, 이러한 부산물(70)이 유리 표면에 떨어지게 되어 유리 제품의 품질을 저하시키는 문제가 있다. 1 is a schematic diagram of a process of forming a reaction layer by spraying SO 2 gas from a cooling kiln 10 of a float glass process according to the prior art. Float glass process, typically the back surface of the glass, i.e. by injecting the SO 2 gas to SO 2
이에 따라 본 발명은 루트구조층 및 산화막층을 포함하는 연속식 서냉가마 케이스를 이용함으로써, 상기 서냉가마용 케이스의 표면에 보호막을 형성하여 서냉가마용 케이스와 이산화황 가스 및 산소와의 산화반응을 억제하고 최종적으로 서냉가마의 수명 연장 및 고품질의 유리 제품을 형성하기 위한 것이다.Accordingly, the present invention suppresses oxidation reactions between the slow cooling kiln case and sulfur dioxide gas and oxygen by forming a protective film on the surface of the slow cooling kiln case by using a continuous slow cooling kiln case including a root structure layer and an oxide film layer. Finally, it is to extend the life of the slow cooling kiln and form high-quality glass products.
본 발명은 연속식 서냉가마 케이스와 이산화황 가스 또는 산소 가스와의 산화반응을 방지하여, 유리제품의 불량 발생을 방지할 수 있는 연속식 서냉가마용 케이스를 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a case for a continuous slow cooling kiln capable of preventing an oxidation reaction between a continuous slow cooling kiln case and sulfur dioxide gas or oxygen gas, thereby preventing defects in glass products.
다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하기의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
본 발명의 일 실시상태는, 금속층; 상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및 상기 금속층과 상기 산화막층에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함하는 연속식 서냉가마용 케이스를 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention, a metal layer; An oxide layer provided on one surface of the metal layer; And a root structure layer provided on the metal layer and the oxide layer and including an oxide. It provides a case for a continuous slow cooling kiln.
본 발명의 다른 일실시상태는, 상기 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법에 있어서, 상기 금속층의 일 표면이 열처리되어 상기 루트구조층 및 산화막층이 구비되는 단계;를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법을 제공한다.In another exemplary embodiment of the present invention, in the method of coating the case for a continuous slow cooling kiln, the step of heat-treating one surface of the metal layer to provide the root structure layer and the oxide layer; Provides a coating method for kiln cases.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스는 표면에 산화막층을 형성함으로써, 산화분위기에서 케이스의 금속 모재와 이산화황 가스 또는 산소 가스 간의 산화반응을 방지할 수 있다.The case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention may prevent an oxidation reaction between the metal base material of the case and sulfur dioxide gas or oxygen gas in an oxidizing atmosphere by forming an oxide layer on the surface.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스는 표면에 산화막층을 형성함으로써, 상기 연속식 서냉가마의 내구성을 향상시킬 수 있다.In the case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention, the durability of the continuous slow cooling kiln may be improved by forming an oxide layer on the surface.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스는 표면에 산화막층을 형성함으로써, 표면에서 발생하는 부산물을 감소시킴으로써 최종적으로 유리 제품의 불량 발생을 방지할 수 있다. In the case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention, by forming an oxide film layer on the surface, by-products generated on the surface may be reduced, thereby finally preventing the occurrence of defects in glass products.
도 1은 종래기술에 따른 플로트 유리 공정에서 SO2 가스를 분사하여 반응층을 형성하는 공정의 모식도면이다.
도 2는 종래기술의 연속식 서냉가마 내부에서 부산물이 비산하여 유리표면에 흡착되는 것을 모식적으로 나타낸 평면도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연속식 서냉가마용 케이스 표면의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 단면을 확대한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 산화막층과 루트구조층, 금속층의 두께를 측정하는 방법을 나타낸 모식도 이다.
도 6은 실시예 1에 따른 샘플의 절단면을 나타낸 모식도이다.
도 7은 비교예 1에 따른 샘플의 사진도면이다.
도 8은 비교예 1을 열충격테스트 1회 진행한 사진도면이다.
도 9는 실시예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다.
도 10은 비교예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다.
도 11은 실시예 1 의 샘플의 열충격테스트 전후의 단면확인도이다.
도 12는 열처리 전과 후의 금속층의 XRD 분석 그래프도이다.1 is a schematic diagram of a process of forming a reaction layer by spraying SO 2 gas in a float glass process according to the prior art.
2 is a plan view schematically showing that by-products are scattered and adsorbed to the glass surface inside the continuous slow cooling furnace of the prior art.
3 is a schematic cross-sectional view of a surface of a case for a continuous slow cooling kiln according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged cross-sectional view of a case for a continuous slow cooling kiln according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic diagram showing a method of measuring the thickness of an oxide layer, a root structure layer, and a metal layer according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram showing a cut surface of a sample according to Example 1. FIG.
7 is a photographic view of a sample according to Comparative Example 1.
8 is a photographic view of Comparative Example 1 in which a thermal shock test was performed once.
9 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Example 1. FIG.
10 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Comparative Example 1. FIG.
11 is a cross-sectional view of a sample of Example 1 before and after a thermal shock test.
12 is an XRD analysis graph of a metal layer before and after heat treatment.
본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. In the present specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.
본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In the present specification, when a member is said to be located "on" another member, this includes not only the case where the member is in contact with the other member, but also the case where another member exists between the two members.
본 명세서에 있어서, 사용되는 정도의 용어 "~(하는) 단계" 또는 "~의 단계"는 "~를 위한 단계"를 의미하지 않는다.In the present specification, the term "step (to)" or "step of" does not mean "step for".
이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
종래의 탄소강 또는 스테인리스강의 재질인 연속식 서냉가마용 케이스는 고온의 산화분위기와 이산화황(SO2) 가스 또는 주석 가스에 상기 케이스 표면이 노출됨으로써 상기 케이스의 표면이 이산화황 가스 또는 산소 가스와 산화반응에 의해 황화합물 또는 주석화합물 등의 산화물, 즉 부산물이 형성되었다. In the case of a conventional slow cooling kiln made of carbon steel or stainless steel, the surface of the case is exposed to oxidation reactions with sulfur dioxide gas or oxygen gas by exposing the case surface to a high temperature oxidation atmosphere and sulfur dioxide (SO 2 ) gas or tin gas. As a result, oxides such as sulfur compounds or tin compounds, that is, by-products were formed.
나아가, 기존의 연속식 서냉가마용 케이스에서 박막을 코팅하여 이산화황 가스 인한 황화합물, 산화물 등의 부산물 생성을 방지하였지만, 상기 박막은 모재와의 접착성이 약해 외부의 미세한 충격 또는 급격한 온도 변화에도 상기 부산물이 쉽게 떨어져 나가는 문제점이 있었다. Furthermore, although a thin film was coated in the conventional continuous slow cooling kiln case to prevent the generation of by-products such as sulfur compounds and oxides caused by sulfur dioxide gas, the thin film has poor adhesion to the base material, so the by-products are not affected by a slight external impact or rapid temperature change. There was a problem with this easily falling off.
상기 부산물은 연속식 서냉가마의 내부에 고온 환경에 의해 발생하는 기류에 의하여 서냉가마 내부에 위치한 유리의 상부에 상기 부산물이 흡착되며, 상기 기류의 수직 흐름에 따라 상기 유리의 하부에도 상기 부산물이 흡착되는 문제점이 있었다.The by-product is adsorbed to the upper portion of the glass located inside the slow cooling kiln by an air current generated by a high-temperature environment inside the continuous slow cooling kiln, and the by-product is adsorbed to the lower part of the glass according to the vertical flow of the air stream. There was a problem.
도 2는 종래기술의 연속식 서냉가마 내부에서 부산물이 비산하여 유리표면에 흡착되는 것을 모식적으로 나타낸 평면도면이다. 상기 도 2와 같이 상기 부산물은 유리 표면의 전후좌우 뿐만 아니라 전영역에 걸쳐 흡착되고, 이로 인하여 상기 연속식 서냉가마에서 서냉되어 응력이 제거된 유리 표면에 불량품을 형성하는 문제점이 있었다.2 is a plan view schematically showing that by-products are scattered and adsorbed to the glass surface inside the continuous slow cooling furnace of the prior art. As shown in FIG. 2, the by-products are adsorbed over the entire area as well as the front, rear, left and right sides of the glass surface, and thereby, there is a problem of forming defective products on the glass surface from which stress is removed by slow cooling in the continuous slow cooling kiln.
나아가, 상기 부산물이 상기 서냉가마 내부의 유리 전영역에 걸쳐 비산되어 흡착되므로 상기 부산물이 발생한 영역을 확인할 수 없고, 그로 인하여 산화가 발생한 표면을 조속히 보수하기 어려운 문제점이 있었다.Further, since the by-product is scattered and adsorbed over the entire area of the glass inside the slow cooling kiln, the area where the by-product has been generated cannot be identified, and thus, it is difficult to repair the surface where the oxidation has occurred quickly.
이에 따라, 본 발명은 상기 연속식 서냉가마의 케이스 표면에 루트구조층과 산화막층을 형성함으로써, 상기 케이스 내부에서 산화분위기 속에서 산화가스에 노출되는 표면의 부식을 방지할 수 있다.Accordingly, in the present invention, by forming the root structure layer and the oxide layer on the surface of the case of the continuous slow cooling kiln, corrosion of the surface exposed to the oxidizing gas in the oxidizing atmosphere inside the case can be prevented.
또한, 상기 상기 루트구조층을 포함하는 연속식 서냉가마용 케이스에 의하여 금속층의 표면적이 넓어져 산화막층과의 접합부분이 증가하여 결합력이 향상하고, 그로 인해 산화막층의 박리되는 현상이 감소될 수 있다. In addition, the surface area of the metal layer is widened by the continuous slow cooling kiln case including the root structure layer, so that the bonding portion with the oxide layer is increased, thereby improving the bonding force, thereby reducing the peeling of the oxide layer. .
종래에는 금속소재에 산화막을 코팅하기 위해서는 열팽창계수를 보정하거나 접착력의 향상을 위하여, 금속소재와 산화막 사이에 경합코팅(bond coat)을 사용하며, 모재인 금속소재와 유사한 특성을 가지고 있는 소재를 선정하였다. 이에 비하여, 본 발명은 루트 구조층을 포함하는 경우, 금속층과 산화막층의 접합부분이 증가하고, 금속층과 유사한 성분의 산화물이 중공에 충진되어 루트구조층과 모재 사이의 접착력을 증가시킬 수 있다Conventionally, in order to coat an oxide film on a metal material, a bond coat is used between the metal material and the oxide film to correct the thermal expansion coefficient or to improve adhesion, and a material having similar characteristics to the base metal material is selected. I did. In contrast, in the present invention, when the root structure layer is included, the bonding portion between the metal layer and the oxide layer is increased, and an oxide of a component similar to that of the metal layer is filled in the hollow, thereby increasing the adhesion between the root structure layer and the base material.
본 발명의 일 실시상태는, 금속층; 상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및 상기 금속층과 상기 산화막층에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함하는 연속식 서냉가마용 케이스를 제공한다. 본 발명은 상술한 바와 같이 금속층과 유사한 성분의 산화물을 루트구조층이 포함함으로써, 금속층과 산화막층이 유사한 열팽창계수를 가져 접착력을 향상시킨다.An exemplary embodiment of the present invention, a metal layer; An oxide layer provided on one surface of the metal layer; And a root structure layer provided on the metal layer and the oxide layer and including an oxide. It provides a case for a continuous slow cooling kiln. In the present invention, as described above, the root structure layer includes an oxide having a component similar to that of the metal layer, so that the metal layer and the oxide layer have a similar coefficient of thermal expansion, thereby improving adhesion.
도 3은 본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스 표면의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다. 상기 도 3과 같이 본 발명의 일 실시상태에 따른 서냉가마용 케이스는 금속층; 상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및 상기 금속층과 상기 산화막층에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함한다. 상술한 바와 같이 산화막층을 포함함으로써, 연속식 서냉가마 내부의 이산화황 가스와 산화분위기에서 연속식 서냉가마용 케이스의 표면 부식을 방지할 수 있다. 3 is a schematic cross-sectional view of a surface of a case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the case for a slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention includes a metal layer; An oxide layer provided on one surface of the metal layer; And a root structure layer provided on the metal layer and the oxide layer and including an oxide. By including the oxide layer as described above, it is possible to prevent surface corrosion of the case for a continuous slow cooling kiln in an oxidizing atmosphere with sulfur dioxide gas inside the continuous slow cooling kiln.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 루트구조층은 산화막층 방향으로 연통된 중공을 포함하고, 상기 중공은 상기 산화물이 충진된 것일 수 있다. 상기 루트구조층에 포함된 중공이 산화막층과 연통됨으로써, 상기 금속층의 표면 면적을 증가시켜 산화막층과 접합력을 향상시키는 효과가 있다. 또한 상기 중공에 산화물이 충진됨으로써, 산화막층이 물리적으로 금속층에 결합되어 금속층과 산화막층의 접합력을 향상시킬 수 있다. 나아가, 상기 중공에 금속층과 유사한 산화물이 충진됨으로써, 유사한 열팽창계수를 가져 접착력을 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the root structure layer may include a hollow communicated in a direction of an oxide layer, and the hollow may be filled with the oxide. Since the hollow included in the root structure layer communicates with the oxide layer, there is an effect of increasing the surface area of the metal layer to improve bonding strength with the oxide layer. In addition, by filling the hollow with an oxide, the oxide layer is physically bonded to the metal layer, thereby improving bonding strength between the metal layer and the oxide layer. Furthermore, since the hollow is filled with an oxide similar to that of the metal layer, it has a similar coefficient of thermal expansion to improve adhesion.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 단면을 확대한 도면이다. 상기 도 4와 같이 금속층, 루트구조층 및 산화막층이 순차적으로 구비될 수 있으며, 상기 루트구조층에 포함된 중공에는 산화물이 충진되고, 상기 루트구조층의 상측에 산화막층이 구비될 수 있다. 4 is an enlarged cross-sectional view of a case for a continuous slow cooling kiln according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, a metal layer, a root structure layer, and an oxide layer may be sequentially provided, and an oxide may be filled in the hollow included in the root structure layer, and an oxide layer may be provided on the upper side of the root structure layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 중공에 충진된 산화물은 크롬산화물 및 망간산화물, 규소산화물, 철산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 산화물을 포함함으로써, 금속층과 산화물층의 접합력을 향상시키고, 산화막층이 박리되더라도 상기 산화물이 루트구조층의 중공에 잔류함으로써 금속층이 상기 이산화황 가스 또는 산소 가스와 반응하는 면적은 감소시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the oxide filled in the hollow may include at least one selected from the group consisting of chromium oxide, manganese oxide, silicon oxide, and iron oxide. By including the oxide, the bonding strength between the metal layer and the oxide layer is improved, and even if the oxide layer is peeled off, the oxide remains in the hollow of the root structure layer, so that the area in which the metal layer reacts with the sulfur dioxide gas or oxygen gas can be reduced.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 루트구조층에 포함된 중공은 다수 개가 포함될 수 있다. 상기 중공을 다수 개로 포함함으로써, 산화막층이 물리적으로 금속층에 결합되어 금속층과 산화막층의 접합력을 향상시킬 수 있다. 나아가, 상기 산화막층이 금속층에서 박리되는 경우라도 상기 중공에는 상기 산화물이 잔류하므로, 외부로 노출되는 금속층의 면적이 감소하여 상기 이산화황 가스 또는 주석 가스와의 산화반응이 이루어지는 면적을 감소시킬 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, a plurality of hollows included in the root structure layer may be included. By including the plurality of hollows, the oxide layer is physically bonded to the metal layer to improve the bonding strength between the metal layer and the oxide layer. Further, even when the oxide layer is peeled from the metal layer, since the oxide remains in the hollow, the area of the metal layer exposed to the outside may be reduced, thereby reducing the area in which the oxidation reaction with the sulfur dioxide gas or tin gas occurs.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 산화막층과 루트구조층, 금속층의 두께를 측정하는 방법을 나타낸 모식도이다. 상기 도 5와 같이 상기 연속식 서냉가마용 케이스는 금속층에 루트구조층 및 산화막층이 순차적으로 적층된 구조로 구비될 수 있다. 상기 루트구조층과 산화막층의 두께를 측정하기 위하여, 본 발명에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 단면을 촬영하고, 상기 쵤영한 사진에서 폐곡선인 중공과 산화막층 방향으로 연통된 중공의 위치를 확인한다. 이후 상기 루트구조층의 두께는 상기 루프구조층에 포함되고 최하부에 위치하는 폐곡선인 중공(A)의 위치로부터 루트구조층과 산화막층이 접하는 위치 중 가장 높은 위치(B) 간의 길이로 정의한다. 나아가, 산화막층의 두께는 루트구조층에서 산화막층 방향으로 연통된 중공 중 최하부의 위치(C)와 산화막층의 표면에서 가장 높은 곳(D)의 위치 간의 길이로 정의한다.5 is a schematic diagram showing a method of measuring the thickness of an oxide layer, a root structure layer, and a metal layer according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the case for the continuous slow cooling kiln may be provided in a structure in which a root structure layer and an oxide layer are sequentially stacked on a metal layer. In order to measure the thickness of the root structure layer and the oxide layer, take a cross section of the case for a continuous slow cooling kiln according to the present invention, and check the position of the hollow, which is a closed curve, in the direction of the oxide layer in the taken picture. do. Thereafter, the thickness of the root structure layer is defined as the length between the position of the hollow (A), which is a closed curve located at the bottom of the roof structure layer, and the highest position (B) among the positions where the root structure layer and the oxide layer contact each other. Further, the thickness of the oxide layer is defined as the length between the lowest position (C) of the hollows communicated in the direction of the oxide layer in the root structure layer and the highest position (D) on the surface of the oxide layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 산화막층의 두께는 1㎛ 이상 100 ㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 상기 산화막층의 두께는 3㎛ 이상 90 ㎛ 이하, 8㎛ 이상 80 ㎛ 이하, 8㎛ 이상 70㎛ 이하, 10 ㎛ 이상 50 ㎛이하일 수 있다. 상술한 범위 내에서 상기 상기 산화막층의 두께를 조절함으로써, 연속식 서냉가마 내의 산화분위기에서 이산화황 가스의 침투를 방지하고 금속층과의 반응을 감소시키는 효과가 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the thickness of the oxide layer may be 1 μm or more and 100 μm or less. Specifically, the thickness of the oxide layer may be 3 μm or more and 90 μm or less, 8 μm or more and 80 μm or less, 8 μm or more and 70 μm or less, and 10 μm or more and 50 μm or less. By controlling the thickness of the oxide layer within the above-described range, there is an effect of preventing the penetration of sulfur dioxide gas in the oxidizing atmosphere in the continuous slow cooling kiln and reducing the reaction with the metal layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 루트구조층의 두께는 5㎛ 이상 20 ㎛ 이하일 수 있다. 구체적으로 상기 루트구조층의 두께는 7㎛ 이상 18 ㎛ 이하, 9㎛ 이상 16 ㎛ 이하, 11 ㎛ 이상 14㎛ 이하일 수 있다. 상술한 범위 내에서 상기 루트구조층의 두께를 조절함으로써, 금속층과 산화막층의 접합력을 조절하여, 접합력을 향상시키고, 상기 산화막층의 열충격에 대한 내구성을 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the thickness of the root structure layer may be 5 μm or more and 20 μm or less. Specifically, the thickness of the root structure layer may be 7 μm or more and 18 μm or less, 9 μm or more and 16 μm or less, and 11 μm or more and 14 μm or less. By adjusting the thickness of the root structure layer within the above-described range, the bonding strength between the metal layer and the oxide layer may be adjusted, thereby improving bonding strength and improving the durability of the oxide layer against thermal shock.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속층은 철, 망간, 크롬, 니켈, 실리콘, 몰리브덴, 인으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 상술한 군으로부터 금속층을 선택함으로써, 연속식 서냉가마용 케이스의 내구성을 향상시킬 수 있으며, 제조비용을 절감할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the metal layer may include at least one selected from the group consisting of iron, manganese, chromium, nickel, silicon, molybdenum, and phosphorus. By selecting the metal layer from the above group, the durability of the case for a continuous slow cooling kiln can be improved, and manufacturing cost can be reduced.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속층은 전체 중량 대비 크롬 15 중량% 이상 50 중량% 이하 및 망간 1 중량% 이상 10 중량% 이하를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 금속층은 전체 중량 대비 크롬 20 중량 %이상 45 중량% 이하, 25 중량% 이상 40 중량% 이하 또는 30 중량% 이상 35 중량% 이하를 포함할 수 있다. 또한, 상기 금속층은 전체 중량 대비 망간 0.1 중량% 이상 10 중량% 이하, 0.5 중량% 이상 8 중량% 이하, 1 중량% 이상 6 중량% 이하, 1.5 중량% 이상 4 중량% 이하, 1.5 중량% 이상 2 중량% 이하를 포함할 수 있다. 상술한 범위 내에서 크롬의 함량을 조절함으로써, 상기 산화층의 형성을 용이하게 할 수 있으며, 금속층의 내부성분 변화를 방지하여 상기 케이스의 강도저하를 방지할 수 있다. 나아가, 상술한 범위 내에서 망간의 함량을 조절함으로써, 상기 케이스의 강도와 고온에서의 가공성을 증가시키고, 연신율의 감소를 억제시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the metal layer may contain 15% by weight or more and 50% by weight or less of chromium and 1% by weight or more and 10% by weight or less of manganese based on the total weight. Specifically, the metal layer may include 20% by weight or more and 45% by weight or less, 25% by weight or more and 40% by weight or less, or 30% by weight or more and 35% by weight or less based on the total weight. In addition, the metal layer may contain 0.1 wt% or more and 10 wt% or less, 0.5 wt% or more and 8 wt% or less, 1 wt% or more and 6 wt% or less, 1.5 wt% or more 4 wt% or less, 1.5 wt% or more 2 It may contain up to weight %. By adjusting the content of chromium within the above-described range, it is possible to facilitate the formation of the oxide layer, and to prevent a change in the internal components of the metal layer, thereby preventing a decrease in strength of the case. Further, by adjusting the content of manganese within the above-described range, the strength of the case and workability at high temperature may be increased, and a decrease in elongation may be suppressed.
본 발명의 일 실시상태는, 상기 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법에 있어서, 상기 금속층의 일 표면이 열처리되어 상기 루트구조층 및 산화막층이 구비되는 단계; 를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법을 제공한다. In one embodiment of the present invention, in the coating method of the case for a continuous slow cooling kiln, the step of heat-treating one surface of the metal layer to provide the root structure layer and the oxide layer; It provides a coating method of a case for a continuous slow cooling kiln comprising a.
본 발명의 일 실시상태에 따른 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법은 열처리로 산화막층을 형성시켜 금속층과 산화막층의 접합력을 향상시키며, 금속층과 유사한 재질의 산화물이 루트구조층의 중공에 충진되어 열팽창계수를 조절함으로써 접착력을 향상시키고, 산화막층을 형성함으로써 산화분위기 속에서 부식을 방지할 수 있다.The coating method of the case for a continuous slow cooling kiln according to an exemplary embodiment of the present invention improves the bonding strength between the metal layer and the oxide layer by forming an oxide layer by heat treatment, and an oxide of a material similar to that of the metal layer is filled in the hollow of the root structure layer. By controlling the coefficient of thermal expansion, adhesion can be improved, and corrosion in an oxidizing atmosphere can be prevented by forming an oxide layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속층이 열처리되기 전에, 상기 금속층의 일 표면을 조면화처리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 산화층 형성 전 모재표면에 샌드블라스팅으로 표면적을 증가시킨 후 산화층 및 루트구조층을 형성할 수 있다. 상술한 바와 같이 상기 금속층의 일 표면을 추가적으로 조면화처리함으로써, 산화막층과 금속층 간의 접촉면적을 보다 증가시켜 산화층의 접합력을 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, before the metal layer is heat treated, it may further include a step of roughening one surface of the metal layer. According to an exemplary embodiment of the present invention, the oxide layer and the root structure layer may be formed after increasing the surface area by sandblasting on the surface of the base material before the oxide layer is formed. As described above, by additionally roughening one surface of the metal layer, the contact area between the oxide layer and the metal layer may be further increased, thereby improving the bonding strength of the oxide layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 산화막층은 열처리에 의하여 구비될 수 있으며, 상기 열처리 온도는 500 ℃ 이상 1,500 ℃ 이하에서 수행될 수 있다. 구체적으로, 상기 열처리는 600 ℃ 이상 1,400 ℃ 이하, 700 ℃ 이상 1,300 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 상술한 범위 내에서 상기 열처리를 수행함으로써, 밀도가 높은 산화막층을 형성할 수 있으며, 연속식 서냉가마 내부의 산화분위기에서 융용 주석 등의 저융점 금속 또는 이산화황 가스의 부식성 가스 등과의 산화반응을 방지하여 케이스 표면이 부식되는 것을 방지할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the oxide layer may be provided by heat treatment, and the heat treatment temperature may be performed at 500° C. or more and 1,500° C. or less. Specifically, the heat treatment is preferably 600° C. or more and 1,400° C. or less, and 700° C. or more and 1,300° C. or less. By performing the heat treatment within the above-described range, a high-density oxide film layer can be formed, and oxidation reactions with low melting point metals such as molten tin or corrosive gases of sulfur dioxide gas are prevented in an oxidizing atmosphere inside a continuous slow cooling kiln. This can prevent the case surface from being corroded.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 열처리는 1시간 이상 63시간 이하 동안 수행될 수 있다. 구체적으로, 상기 열처리는 2시간 이상 60시간 이하, 4시간 이상 55시간 이하, 6시간 이상 50시간 이하, 8시간 이상 45시간 이하, 10시간 이상 40시간 이하, 12시간 이상 35시간 이하, 14시간 이상 30시간 이하 동안 수행될 수 있다. 상술한 시간 범위 내에서 열처리가 수행됨으로써, 상기 루트구조층에 포함된 중공에 산화물을 효과적으로 충진시킬 수 있으며, 열처리과정에서 산화막층의 밀도를 향상시킬 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the heat treatment may be performed for 1 hour or more and 63 hours or less. Specifically, the heat treatment is 2 hours or more and 60 hours or less, 4 hours or more and 55 hours or less, 6 hours or more and 50 hours or less, 8 hours or more and 45 hours or less, 10 hours or more and 40 hours or less, 12 hours or more and 35 hours or less, 14 hours It can be performed for more than 30 hours or less. By performing the heat treatment within the above-described time range, the oxide can be effectively filled in the hollow included in the root structure layer, and the density of the oxide layer can be improved during the heat treatment process.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail to illustrate the present invention in detail. However, the embodiments according to the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present specification are provided to more completely describe the present invention to those of ordinary skill in the art.
실시예Example 1 One
스테인리스강인 모재에 루트구조층과 크롬산화물 재질의 산화막층을 포함한 샘플을 준비하였다. 도 6은 실시예 1에 따른 샘플의 절단면을 나타낸 모식도이다.A sample including a root structure layer and an oxide layer made of chromium oxide was prepared on a base material of stainless steel. 6 is a schematic diagram showing a cut surface of a sample according to Example 1. FIG.
비교예Comparative example 1 One
스테인리스강인 모재에 이트리아 안정화 지르코늄(Yttria-stabilized zirconia, YSZ)을 0.25mm로 코팅한 샘플을 준비하였다. 도 7은 비교예 1에 따른 샘플의 사진도면이다.A sample coated with 0.25 mm of yttria-stabilized zirconium (YSZ) on a stainless steel base material was prepared. 7 is a photographic view of a sample according to Comparative Example 1.
열충격테스트Thermal shock test (( 산화막층의Oxide layer 박리여부Peeling 확인) Confirm)
실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 연속식 서냉가마용 케이스를 1,000℃에서 10분 동안 가열하고, 이후 물담금질(water quenching)을 1 회로 가열과 물담금질을 진행하였다. 그 후 상기 가열과 물담금질이 진행된 상기 케이스를 절단하여 단면을 분석하였다. The case for a continuous slow cooling kiln prepared in Example 1 and Comparative Example 1 was heated at 1,000° C. for 10 minutes, and then water quenching was heated and quenched in one cycle. After that, the case in which the heating and water quenching was performed was cut to analyze the cross section.
실시예 1은 열충격테스트를 10회 진행하더라도 산화막층이 박리되지 않는 것을 확인하였다. 도 8은 비교예 1을 열충격테스트 1회 진행한 사진도면이다. 비교예 1은 상기 열충격테스트를 1회만 진행하더라도 산화막층에 크랙이 발생한 것을 확인하였다. In Example 1, it was confirmed that even if the thermal shock test was performed 10 times, the oxide layer was not peeled off. 8 is a photographic view of Comparative Example 1 in which a thermal shock test was performed once. In Comparative Example 1, even if the thermal shock test was conducted only once, it was confirmed that cracks occurred in the oxide layer.
루트구조층Root structure layer 생성 확인 Creation confirmation
실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 연속식 서냉가마용 케이스에서 열처리된 표면에 루트구조층의 생성을 확인하기 위하여 실시예 1의 샘플과 비교예 1의 샘플을 절단하여 루트구조층 유무를 확인하였다. In order to confirm the generation of the root structure layer on the heat-treated surface in the continuous slow cooling kiln case prepared in Example 1 and Comparative Example 1, the sample of Example 1 and the sample of Comparative Example 1 were cut to check the presence or absence of the root structure layer. I did.
도 9는 실시예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다. 상기 도 9와 같이 루트구조층은 산화물이 충진된 중공을 포함하는 것을 확인하였다. 상기 산화물이 상기 루트구조층에 포함된 중공에 충진됨으로써, 상기 산화막층과 루트구조층 사이의 접촉하는 표면적이 증가하고, 상기 연속식 서냉가마용 케이스 표면에 물리적인 외력 및 열충격이 발생하더라도 쉽게 탈락되지 않는 것을 확인하였다. 9 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Example 1. FIG. As shown in FIG. 9, it was confirmed that the root structure layer includes a hollow filled with oxide. As the oxide is filled in the hollow included in the root structure layer, the contact surface area between the oxide film layer and the root structure layer increases, and even if physical external force and thermal shock occur on the surface of the continuous slow cooling kiln, it is easily removed. It was confirmed that it did not work.
도 10은 비교예 1에 따른 샘플의 단면을 확대한 도면이다. 도 10(c)와 같이 루트구조층이 생성되지 않은 것을 확인하였다. 따라서, 상기 비교예 1의 경우 루트구조층이 생성되지 않아 금속층과 산화막층의 접합력이 약하여 물리적 외력 및 열충격에 약한 것을 확인하였다.10 is an enlarged view of a cross section of a sample according to Comparative Example 1. FIG. It was confirmed that the root structure layer was not generated as shown in FIG. 10(c). Therefore, in the case of Comparative Example 1, it was confirmed that the root structure layer was not generated, so that the bonding strength between the metal layer and the oxide layer was weak, and thus it was weak against physical external force and thermal shock.
산화막층의Oxide layer 두께 확인 Check the thickness
실시예 1의 샘플을 상기 열충격테스트 10회 진행 후 산화막층의 두께를 확인하였다.The sample of Example 1 was subjected to the thermal shock test 10 times, and then the thickness of the oxide layer was confirmed.
상기 도 5의 위치에 따라 실시예 1의 샘플의 산화막 두께를 열충격테스트 전후로 비교 측정하였다. 실시예 1의 샘플을 상기 열충격테스트 진행하기 전의 두께를 측정하고, 이후 열충격테스트를 10회 진행 후 산화막층의 두께를 확인하였다. 도 11은 실시예 1 의 샘플의 열충격테스트 전후의 단면확인도이다. 상기 도 11과 같이 열충격테스트를 진행하더라도 실시예 1은 루트구조층이 존재하여 산화막의 박리가 일어나지 않고, 열충격테스트 전의 산화막 두께를 확보하는 것을 확인하였다. According to the position of FIG. 5, the thickness of the oxide film of the sample of Example 1 was compared before and after the thermal shock test. The thickness of the sample of Example 1 before proceeding with the thermal shock test was measured, and then the thermal shock test was performed 10 times, and then the thickness of the oxide layer was confirmed. 11 is a cross-sectional view of a sample of Example 1 before and after a thermal shock test. Even if the thermal shock test was performed as shown in FIG. 11, it was confirmed that in Example 1, since the root structure layer was present, the oxide film did not peel off, and the oxide film thickness before the thermal shock test was secured.
이로부터 상기 루트구조층은 산화막층의 박리를 방지하며, 상기 산화막층이 상기 케이스 내부의 이산화황 가스의 침투를 억제하여 부식을 발생되지 않는 것을 확인하였다.From this, it was confirmed that the root structure layer prevents the delamination of the oxide layer, and the oxide layer suppresses the penetration of sulfur dioxide gas inside the case, thereby preventing corrosion.
금속층의Metal layer 변성여부Transformation 확인 Confirm
실시예 1에서는 루트구조층을 구비하기 위해 열처리를 하여 산화막을 형성하였다. 이 후 상기 금속층이 상기 열처리에 의하여 성질이 변화하였는지 확인하기 위하여 XRD 분석을 통하여 열처리 전과 후의 금속층 내부 조직의 결정구조에 차이가 있는지 확인하였다.In Example 1, an oxide film was formed by performing heat treatment to provide a root structure layer. Thereafter, in order to confirm whether the properties of the metal layer were changed by the heat treatment, it was confirmed whether there was a difference in the crystal structure of the internal structure of the metal layer before and after the heat treatment through XRD analysis.
도 12는 열처리 전과 후의 금속층의 XRD 분석 그래프도이다. 상기 도 12(a)와 도 12(b)의 피크가 동일한 위치와 크기에 형성되는 것으로부터 열처리에 의하여도 상기 금속층 의 내부 조직의 결정구조에 변화가 없는 것을 확인하였다.12 is an XRD analysis graph of a metal layer before and after heat treatment. Since the peaks of FIGS. 12A and 12B were formed at the same position and size, it was confirmed that there was no change in the crystal structure of the internal structure of the metal layer even by heat treatment.
따라서, 본 발명의 연속식 서냉가마용 케이스는 루트구조층의 열처리를 통하여 중공에 산화물을 충진시키고, 루트구조층 상에 산화막층을 형성함으로써, 산화분위기에서 부식 가스와의 반응을 억제하여 내부식성을 향상시킬수 있으며, 열처리를 하더라도 금속층의 내부 조직을 변화시키지 않아 강성을 유지할 수 있는 것을 확인할 수 있다.Therefore, the case for a continuous slow cooling kiln of the present invention fills the hollow with oxide through heat treatment of the root structure layer, and forms an oxide film layer on the root structure layer, thereby suppressing the reaction with corrosive gases in an oxidizing atmosphere, thereby preventing corrosion resistance. It can be seen that even if heat treatment is performed, the internal structure of the metal layer is not changed, so that the rigidity can be maintained.
10: 냉각가마
11: 냉각가마용 케이스
30: 유리
50: 이송롤러
70: 부산물
90: SO2 가스 분사기
110: 금속층
130: 루트구조층
150: 산화막층10: cooling kiln
11: Case for cooling kiln
30: glass
50: transfer roller
70: by-product
90: SO 2 gas injector
110: metal layer
130: root structure layer
150: oxide layer
Claims (11)
상기 금속층의 일 표면에 구비된 산화막층; 및
상기 금속층과 상기 산화막층 사이에 구비되고, 산화물을 포함하는 루트구조층;을 포함하는 연속식 서냉가마용 케이스.Metal layer;
An oxide layer provided on one surface of the metal layer; And
A continuous slow cooling kiln case including; a root structure layer provided between the metal layer and the oxide layer and comprising an oxide.
상기 루트구조층은 산화막층 방향으로 연통된 중공을 포함하고,
상기 중공은 상기 산화물이 충진된 것인 연속식 서냉가마용 케이스.The method of claim 1,
The root structure layer includes a hollow communicated in the direction of the oxide layer,
The hollow case for a continuous slow cooling kiln that the oxide is filled.
상기 산화물은 크롬산화물 및 망간산화물, 규소산화물, 철산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스.The method of claim 1,
The oxide is a case for a continuous slow cooling kilns containing at least one selected from the group consisting of chromium oxide and manganese oxide, silicon oxide, and iron oxide.
상기 산화막층의 두께는 1 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인 연속식 서냉가마용 케이스.The method of claim 1,
The thickness of the oxide layer is 1 μm or more and 100 μm or less for a continuous slow cooling kiln.
상기 루트구조층의 두께는 5 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하인 연속식 서냉가마용 케이스.The method of claim 1,
The thickness of the root structure layer is 5 μm or more and 20 μm or less for a continuous slow cooling kiln.
상기 금속층은 철, 망간, 크롬, 니켈, 실리콘, 몰리브덴, 인으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스.The method of claim 1,
The metal layer is a case for a continuous slow cooling furnace comprising at least one selected from the group consisting of iron, manganese, chromium, nickel, silicon, molybdenum, and phosphorus.
상기 금속층은 전체 중량 대비 크롬 15 중량% 이상 50 중량% 이하 및 망간 1 중량% 이상 10 중량% 이하를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스.The method of claim 6,
The metal layer is a case for a continuous slow cooling kiln containing 15% by weight or more and 50% by weight or less of chromium and 1% by weight or more and 10% by weight or less of manganese based on the total weight.
상기 금속층의 일 표면이 열처리되어 상기 루트구조층 및 산화층이 구비되는 단계; 를 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.In the coating method of the case for a continuous slow cooling kiln according to claim 1,
Heat-treating one surface of the metal layer to provide the root structure layer and the oxide layer; The coating method of the case for a continuous slow cooling kiln comprising a.
상기 금속층이 열처리되기 전에,
상기 금속층의 일 표면을 조면화처리하는 단계를 더 포함하는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.The method of claim 8,
Before the metal layer is heat treated,
Coating method for a continuous slow cooling kiln case further comprising the step of roughening one surface of the metal layer.
상기 열처리는 500 ℃ 이상 1,500 ℃ 이하에서 수행되는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.The method of claim 8,
The heat treatment is carried out at 500 ℃ or more and 1,500 ℃ or less, the coating method of the case for a continuous slow cooling kiln.
상기 열처리는 1시간 이상 63시간 이하 동안 수행되는 것인 연속식 서냉가마용 케이스의 코팅방법.
The method of claim 8,
The heat treatment is carried out for 1 hour or more and 63 hours or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020190047085A KR102551133B1 (en) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020190047085A KR102551133B1 (en) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200123929A true KR20200123929A (en) | 2020-11-02 |
| KR102551133B1 KR102551133B1 (en) | 2023-07-04 |
Family
ID=73397832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020190047085A KR102551133B1 (en) | 2019-04-23 | 2019-04-23 | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102551133B1 (en) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5330836A (en) * | 1976-09-03 | 1978-03-23 | Hitachi Ltd | Bubble domain memory device |
| JPS5339021A (en) * | 1976-09-22 | 1978-04-10 | Nec Corp | Color crt unit containing display character position detector circuit |
| KR20010052308A (en) * | 1998-05-05 | 2001-06-25 | 알프레드 엘. 미첼슨 | Material and method for coating glass forming equipment |
| WO2014103478A1 (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | Slow cooling device, slow cooling method, device for manufacturing glass plate, and method for manufacturing glass plate |
| KR20170107091A (en) * | 2015-02-04 | 2017-09-22 | 코닝 인코포레이티드 | Glass product molding system |
| KR20180086220A (en) * | 2015-11-19 | 2018-07-30 | 코닝 인코포레이티드 | Glass manufacturing apparatus having a cooling device and method of using the same |
-
2019
- 2019-04-23 KR KR1020190047085A patent/KR102551133B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5330836A (en) * | 1976-09-03 | 1978-03-23 | Hitachi Ltd | Bubble domain memory device |
| JPS5339021A (en) * | 1976-09-22 | 1978-04-10 | Nec Corp | Color crt unit containing display character position detector circuit |
| KR20010052308A (en) * | 1998-05-05 | 2001-06-25 | 알프레드 엘. 미첼슨 | Material and method for coating glass forming equipment |
| WO2014103478A1 (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | Slow cooling device, slow cooling method, device for manufacturing glass plate, and method for manufacturing glass plate |
| KR20170107091A (en) * | 2015-02-04 | 2017-09-22 | 코닝 인코포레이티드 | Glass product molding system |
| KR20180086220A (en) * | 2015-11-19 | 2018-07-30 | 코닝 인코포레이티드 | Glass manufacturing apparatus having a cooling device and method of using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102551133B1 (en) | 2023-07-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2012005307A1 (en) | Method for increasing strength of glass substrate | |
| US10443141B2 (en) | Steel sheet for containers, and method for producing steel sheet for containers | |
| US7998601B2 (en) | Sandwich thermal insulation layer system and method for production | |
| TWI551564B (en) | A refractory for molten glass, and a glass manufacturing apparatus using a refractory glass for holding glass, and a glass manufacturing method using the glass manufacturing apparatus | |
| JPWO2014167842A1 (en) | Glass plate and method for producing glass plate | |
| KR101765025B1 (en) | Hearth roll and manufacturing method therefor | |
| TW201429909A (en) | Surface treatment process for glass containers | |
| KR20200123929A (en) | case of lehr for float glsss making apparatus and the coating method thereof | |
| US20170271716A1 (en) | Miniaturized electronic component with reduced risk of breakage and method for producing same | |
| JPH0322272B2 (en) | ||
| JP4371048B2 (en) | Optical glass molding die and optical glass element | |
| JP6493840B2 (en) | GLASS CONVEYING ROLL, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING PLATE GLASS USING THE SAME | |
| CN104926084A (en) | Apparatus for manufacturing float glass and method for manufacturing float glass | |
| JP2003239085A (en) | Inorganic film clad copper or copper alloy member, method of forming inorganic film to surface of copper or copper alloy member, heat exchanger for hot-water supply device, and method of manufacturing the same | |
| RU2402633C1 (en) | Procedure for application of combined heat resistant coating | |
| US4473412A (en) | Annealing steel strip using molten B2 O3, SiO2 Na2 O, NaF glass bath | |
| CN107059022A (en) | A kind of processing method of steel | |
| CN112391594A (en) | Platinum channel with zirconia protective coating and preparation method thereof | |
| US20130260153A1 (en) | Method for forming lubricant layer on surface of glass and method for manufacturing glass using the same | |
| JP5356929B2 (en) | Hearth roll and manufacturing method thereof | |
| TW201429898A (en) | Raw glass plate, method for producing raw glass plate, and method for producing chemically reinforced glass | |
| Zhang et al. | Influence of protective coating at high temperature on surface quality of stainless steel | |
| TWI814310B (en) | Bushing for producing glass fiber and production method for glass fiber | |
| CN107737877A (en) | A kind of mining machinery high intensity axletree manufacture method | |
| JP2001280890A (en) | Heat exchanger |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |