KR102545763B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 서셉터에 기판이 탑재 지지되면, 서셉터에 설치된 유동방지부재가 기판에 의하여 수축되고, 수축된 유동방지부재의 탄성력에 의하여 유동방지부재가 기판의 하면에 견고하게 접촉된다. 그리고, 챔버의 서셉터에 기판을 로딩 또는 언로딩할 때에는 챔버가 진공에 가깝게 감압되며, 기판이 서셉터에 탑재 지지되어 유동방지부재와 접촉하면, 유동방지부재의 내측은 밀폐되어 감압된 상태를 유지하게 된다. 그 후, 기판을 처리하기 위하여, 챔버에 공정가스를 분사하면 챔버에 분사된 공정가스로 인하여 챔버의 압력이 유동방지부재 내측의 압력에 비하여 상대적으로 고압이 되므로, 상대적으로 고압인 챔버의 압력과 저압인 유동방지부재 내측의 공간의 압력 차에 의하여 기판의 하면은 유동방지부재에 더욱 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판이 서셉터 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다. 그러면, 회전하는 서셉터에 탑재 지지된 기판이 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 서셉터 상에서 유동하지 않으므로, 기판이 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있을 수 있다. 또한, 기판이 서셉터와 함께 안정되게 회전하므로, 각 기판에 균일한 박막을 형성할 수 있는 효과가 있을 수 있고, 기판의 전면(全面)에 균일한 박막을 형성할 수 있는 효과가 있을 수 있다.

Description

기판처리장치 {SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS}
본 발명은 공전 및 자전하는 서셉터에 탑재 지지된 기판이 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 유동하는 것을 방지한 기판처리장치에 관한 것이다.
반도체소자, 평판표시소자 또는 태양전지 등은, 실리콘 웨이퍼 또는 글라스 등과 같은 기판에 원료물질을 증착하는 박막증착공정, 감광성 물질을 사용하여 증착된 박막들 중 선택된 영역을 노출 또는 은폐시키는 포토리소그라피공정, 선택된 영역의 박막을 제거하여 목적하는 대로 패터닝하는 식각공정 등에 의하여 제조된다.
박막증착공정에는 물리기상증착(Physical Vapor Deposition)법, 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition)법 또는 원자층증착(Atomic Layer Deposition)법 등이 있으며, 박막증착공정은 기판에 증착하고자 하는 박막의 특성에 적합한 기판처리장치에서 수행된다.
일반적으로, 원형의 기판을 처리하는 기판처리장치는 기판이 투입되어 처리되는 챔버, 상기 챔버의 내부에 회전가능하게 설치된 디스크, 상기 디스크에 방사상으로 복수개 설치되며 기판이 각각 탑재 지지되는 서셉터를 포함한다. 이때, 상기 서셉터는, 상기 디스크가 회전함에 따라, 상기 디스크와 함께 회전하면서 상기 디스크의 중심을 기준으로 공전함과 동시에 자신의 중심을 기준으로 자전한다.
상기 챔버의 상면 일측 및 타측에는 소스가스를 상기 챔버의 일측 영역으로 분사하는 제1가스분사유닛 및 반응가스를 상기 챔버의 타측 영역으로 분사하는 제2가스분사유닛이 각각 설치된다. 그러므로, 상기 서셉터에 지지된 기판은, 상기 디스크가 회전함에 따라, 순차적으로 소스가스가 분사되는 영역에 위치되고, 순차적으로 반응가스가 분사되는 영역에 위치된다. 이로 인해, 기판 상에 소스가스 및 반응가스가 각각 분사되고, 소스가스와 반응가스의 작용에 의하여 기판에 박막이 증착된다.
상기 서셉터는 회전하는 상기 디스크에 대하여 자전가능하게 설치되고, 기판은 상기 서셉터에 탑재 지지되어 상기 서셉터와 함께 운동하므로, 상기 디스크의 회전 및 상기 서셉터의 자전시 발생하는 원심력에 의하여 상기 기판이 상기 서셉터 상에서 유동할 수 있다.
그런데, 종래의 기판처리장치에는 상기 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 유동하려는 기판이 유동하지 못하도록 방지하는 아무런 수단이 없다. 이로 인해, 기판이 상기 서셉터 상에서 유동할 수 있으므로, 기판의 유동에 의하여 기판이 손상되거나, 기판에 불균일한 박막이 형성되는 단점이 있다.
기판처리장치와 관련한 선행기술은 한국공개특허공보 제10-2010-0044960호(2010.05.03) 등에 개시되어 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 모든 문제점들을 해결할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.
본 발명의 다른 목적은 디스크와 함께 회전하면서 디스크 상에서 자전하는 서셉터에 탑재 지지된 기판이 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 서셉터 상에서 유동하지 않도록 구성하여, 기판이 손상되는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 기판에 균일한 박막을 형성할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것일 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 실시예에 따른 기판처리장치는, 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 회전가능하게 설치된 디스크; 상기 디스크에 설치되고, 기판이 탑재 지지되며, 상기 디스크와 함께 회전하면서 상기 디스크의 중심을 기준으로 공전함과 동시에 자신의 중심을 기준으로 자전하는 서셉터; 상기 서셉터에 설치되고, 상기 서셉터에 탑재된 기판에 의하여 수축된 후 복원하려는 탄성력에 의하여 기판과 접촉하여 기판을 지지하며, 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판이 상기 서셉터 상에서 유동하는 것을 방지하는 유동방지부재를 포함할 수 있다.
본 실시예에 따른 기판처리장치는, 서셉터에 기판이 탑재 지지되면, 서셉터에 설치된 유동방지부재가 기판에 의하여 수축되고, 수축된 유동방지부재의 탄성력에 의하여 유동방지부재가 기판의 하면에 견고하게 접촉된다. 그러면, 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판이 서셉터 상에서 유동하는 것이 방지될 수 있다.
그리고, 챔버의 서셉터에 기판을 로딩 또는 언로딩할 때에는 챔버가 진공에 가깝게 감압되며, 기판이 서셉터에 탑재 지지되어 유동방지부재와 접촉하면, 유동방지부재의 내측은 밀폐되어 감압된 상태를 유지하게 된다. 그 후, 기판을 처리하기 위하여, 챔버에 공정가스를 분사하면 챔버에 분사된 공정가스로 인하여 챔버의 압력이 유동방지부재 내측의 압력에 비하여 상대적으로 고압이 되므로, 상대적으로 고압인 챔버의 압력과 저압인 유동방지부재 내측의 공간의 압력 차에 의하여 기판의 하면은 유동방지부재에 더욱 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판이 서셉터 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
그리고, 유동방지부재가 링형상으로 형성되어 서셉터와 동심을 이루므로, 서셉터의 자전시 발생하는 원심력에 의하여 기판이 서셉터 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
이로 인해, 회전하는 서셉터에 탑재 지지된 기판이 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 서셉터 상에서 유동하지 않으므로, 기판이 손상되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있을 수 있다.
또한, 기판이 서셉터와 함께 안정되게 회전하므로, 각 기판에 균일한 박막을 형성할 수 있는 효과가 있을 수 있고, 기판의 전면(全面)에 균일한 박막을 형성할 수 있는 효과가 있을 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 일부 분해 사시도.
도 2는 도 1의 "A-A"선 개략 결합 단면도.
도 3a는 도 2에 도시된 서셉터와 유동방지부재와 기판의 분해 사시도.
도 3b는 도 3a의 "B-B"선 결합 단면도.
도 4a 내지 도 5e는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 유동방지부재의 다양한 형태를 보인 사시도.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 개략 단면도.
도 7a는 도 6에 도시된 서셉터와 유동방지부재와 기판의 분해 사시도.
도 7b는 도 7a은 결합 평면도.
도 8a 내지 도 9e는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 유동방지부재의 다양한 형태를 보인 사시도.
본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다.
한편, 본 명세서에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 정의하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목 각각 뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 및 제3항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.
"및/또는"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제1항목, 제2항목 및/또는 제3항목"의 의미는 제1항목, 제2항목 또는 제3항목뿐만 아니라 제1항목, 제2항목 또는 제3항목들 중 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결된다 또는 설치된다"고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결 또는 설치될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결된다 또는 설치된다"라고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "∼사이에"와 "바로 ∼사이에" 또는 "∼에 이웃하는"과 "∼에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
이하에서는, 본 발명의 실시예들에 따른 기판처리장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제1실시예
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 일부 분해 사시도이고, 도 2는 도 1의 "A-A"선 개략 결합 단면도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치는 실리콘 웨이퍼 또는 글라스 등과 같은 기판(S)이 투입되어 처리되는 공간이 형성된 챔버(110)를 포함할 수 있다. 챔버(110)는 상면이 개방된 본체(111)와 본체(111)의 개방된 상단면(上端面)에 결합된 리드(115)를 포함할 수 있다.
본체(111)와 리드(115)가 상호 결합되어 상대적으로 하측과 상측에 각각 위치되므로, 챔버(110)의 하면이 본체(111)의 하면에 해당하고, 챔버(110)의 상면이 리드(115)에 해당함은 당연하다.
챔버(110)의 내부 하면측에는 디스크(121)가 회전가능하게 설치될 수 있고, 디스크(121)는 모터(125)에 의하여 회전하는 구동축(125a)에 의하여 회전할 수 있다. 상세히 설명하면, 구동축(125a)의 상단부는 디스크(121)의 하면에 결합되고, 하측 부위는 챔버(110)의 하면 외측으로 노출되어 동력전달모듈을 매개로 모터(125)의 회전축과 연결된다. 그리하여, 모터(125)의 회전축이 회전하면 구동축(125a)이 회전하고, 이로 인해 디스크(121)가 회전한다. 구동축(125a)은 승강할 수도 있으며, 디스크(121)와 구동축(125a)은 동심을 이루는 것이 바람직하다.
구동축(125a)이 통과하는 챔버(110)의 부위와 구동축(125a) 사이를 실링하기 위하여, 챔버(110)의 외측으로 노출된 구동축(125a)의 부위는 벨로즈(128)에 의하여 감싸일 수 있다.
디스크(121)의 상면에는 기판(S)이 탑재 지지되는 서셉터(Susceptor)(130)가 설치될 수 있다. 서셉터(130)는, 디스크(121)의 중심을 기준으로, 복수개가 방사상으로 설치될 수 있고, 디스크(121)와 함께 운동할 수 있다. 그러므로, 디스크(121)가 회전하면, 서셉터(130)는 디스크(121)의 중심을 기준으로 공전한다. 따라서, 디스크(121)가 회전하면, 서셉터(130)의 상면에 탑재 지지된 기판(S)도 디스크(121)의 중심을 기준으로 공전함은 당연하다.
기판(S)에 박막을 증착하기 위해서는, 공정가스가 챔버(110)로 공급되어 분사되어야 한다. 공정가스는 소스가스와 반응가스를 포함할 수 있으며, 소스가스는 기판(S)에 증착되는 물질이고, 반응가스는 소스가스가 기판(S)에 용이하게 증착되도록 도와주는 물질일 수 있다.
소스가스 및 반응가스를 챔버(110)로 공급 분사하기 위하여, 챔버(110)의 상면에는 소스가스 및 반응가스를 챔버(110)로 각각 공급 분사하는 제1가스분사유닛(151) 및 제2가스분사유닛(153)이 설치될 수 있다.
제1가스분사유닛(151)과 제2가스분사유닛(153)은 상호 구획되어 설치될 수 있으며, 제1가스분사유닛(151)에서 분사되는 소스가스는 챔버(110)의 일측인 제1영역(112)을 통하여 기판(S)으로 분사되고, 제2가스분사유닛(153)에서 분사되는 반응가스는 챔버(110)의 타측인 제2영역(113)을 통하여 기판(S)으로 분사될 수 있다.
제1가스분사유닛(151)에서 분사되는 소스가스와 제2가스분사유닛(153)에서 분사되는 반응가스는 기판(S)으로 분사되는 도중에는 혼합되지 않으면서 분사될 수 있다. 제1가스분사유닛(151)에서 분사되는 소스가스와 제2가스분사유닛(153)에서 분사되는 반응가스가 혼합되는 것을 방지하기 위하여, 챔버(110)의 상면에는 제1가스분사유닛(151)과 제2가스분사유닛(153)을 구획하는 형태로 퍼지가스를 공급 분사하는 제3가스분사유닛(155)이 설치될 수 있다. 제3가스분사유닛(155)에서 분사되는 퍼지가스가 에어 커튼의 기능을 하여, 챔버(110)로 분사되는 소스가스와 반응가스가 혼합되는 것이 방지된다.
그리하여, 각 서셉터(130)에 탑재 지지된 기판(S)은, 디스크(121)가 회전함에 따라, 순차적으로 소스가스가 분사되는 제1영역(112)에 위치되고, 순차적으로 반응가스가 분사되는 제2영역(113)에 위치된다. 즉, 디스크(121)가 회전함에 따라, 기판(S)이 제1영역(112) 및 제2영역(113)에 위치되어 소스가스 및 반응가스를 공급받으며, 소스가스와 반응가스의 작용에 의하여 기판(S)에 박막이 증착될 수 있다.
서셉터(130)에 탑재 지지된 기판(S)은 디스크(121)의 중심을 기준으로 일정한 속도로 공전하므로, 각 서셉터(130)에 탑재 지지된 기판(S)에는 균일한 박막이 형성될 수 있다. 이때, 각 서셉터(130)가 일정하게 자신의 중심을 기준으로 자전하면, 각 서셉터(130)에 탑재 지지된 기판(S)의 전면(全面)에 균일한 박막이 형성될 수 있다.
디스크(121)의 회전에 의하여 각 서셉터(130)를 일정하게 자전시키기 위하여, 챔버(110)의 내부에 위치된 구동축(125a)의 외주면 및 서셉터(130)의 하면측에는 마그네트(161)(165)가 각각 설치될 수 있다. 마그네트(165)는 서셉터(130)의 하면에서 하측으로 돌출 형성된 지지축(138)의 외주면에 설치될 수 있다. 그리하여, 구동축(125a)을 회전시켜 디스크(121)를 회전시키면, 마그네트(161)가 구동축(125a)과 함께 회전하며, 회전하는 마그네트(161)와의 작용에 의하여 마그네트(165)도 회전한다. 그러면, 지지축(138)이 회전하므로, 서셉터(130)는 지지축(138)을 중심으로 자전한다.
챔버(110)로 분사된 소스가스와 반응가스를 포함한 공정가스는 일부만이 증착공정에 사용되고, 나머지는 증착공정시 발생하는 부산물과 함께 챔버(110)의 외부로 배출된다. 증착공정에 사용되지 않은 소스가스 및 반응가스를 부산물과 함께 챔버(110)의 외부로 각각 배출하기 위하여, 챔버(110)에는 가스배기라인(171, 175) 및 배기펌프(172, 176)가 각각 마련될 수 있다.
서셉터(130)는, 디스크(121)의 회전에 의하여, 디스크(121)의 중심을 기준으로 공전함과 동시에 자신의 중심을 기준으로 자전한다. 그러면, 공전 및 자전하는 서셉터(130)의 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동할 수 있고, 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하면, 기판(S)이 손상되거나, 기판(S)에 균일한 박막이 형성되지 못할 수 있다.
본 실시예에 따른 기판처리장치는, 서셉터(130)의 공전 및 자전을 포함하는 회전에 의하여, 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것을 방지하는 유동방지부재(210)를 포함할 수 있다.
유동방지부재(210)에 대하여 도 1 내지 도 3b를 참조하여 설명한다. 도 3a는 도 2에 도시된 서셉터와 유동방지부재와 기판의 분해 사시도이고, 도 3b는 도 3a의 "B-B"선 결합 단면도이다.
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판처리장치는 서셉터(130)의 상면에 설치된 유동방지부재(210)를 포함할 수 있다. 유동방지부재(210)는 하측 부위는 서셉터(130)의 상면에 삽입 결합될 수 있고, 상측 부위는 서셉터(130)의 상측으로 노출될 수 있다. 그리하여, 서셉터(130)의 상측으로 노출된 유동방지부재(210)의 상면에 기판(S)의 하면이 접촉 지지될 수 있다.
유동방지부재(210)에 접촉 지지된 기판(S)이 유동방지부재(210)에 의하여 서셉터(130) 상에서 유동하지 않기 위해서는, 유동방지부재(210)와 기판(S) 사이에 소정의 마찰력이 작용하여야 한다. 그러므로, 유동방지부재(210)는 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하지 않을 정도의 낮은 경도를 가지면서 탄성력을 구비하는 것이 바람직하다. 그리고, 유동방지부재(210)는 서셉터(130)에 설치 고정된 상태를 유지하여야 하므로, 소스가스 및 공정가스에 충분하게 견딜 수 있는 높은 내화학성을 가지는 것이 바람직하다.
유동방지부재(210)는 복수개 마련되어 서셉터(130)의 중심을 기준으로 방사상으로 설치될 수 있으며, 서셉터(130)의 상면에 삽입 결합되는 원판형의 몸체부(211)와 몸체부(211)의 상면에 형성되며 기판(S)이 접촉 지지되는 링형상의 접촉부(215)를 포함할 수 있다.
서셉터(130)의 상면에는 유동방지부재(210)의 몸체부(211)의 하측 부위가 삽입 결합되는 결합홈(131)이 형성될 수 있고, 테두리부측에는 기판(S)의 테두리부측이 탑재 지지되는 계단(階段)진 지지턱(133)이 형성될 수 있다. 몸체부(211)가 결합홈(131)에 삽입 결합되므로, 결합홈(131)은 몸체부(211)와 대응되는 형상으로 형성되어야 함은 당연하다.
그리하여, 기판(S)의 테두리부측을 서셉터(130)의 지지턱(133)에 탑재 지지하면, 접촉부(215)의 상면에 기판(S)의 하면이 접촉 지지된다. 이때, 유동방지부재(210)는 수축되면서 기판(S)의 하면과 접촉한다. 그러면, 최초의 상태로 복귀하려는 유동방지부재(210)의 탄성력에 의하여, 유동방지부재(210)는 기판(S)의 하면에 밀착되는 형태로 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것이 방지된다.
챔버(110)의 서셉터(130)에 기판(S)을 로딩 또는 언로딩할 때에는 챔버(110)는 진공에 가깝게 감압된다. 이러한 상태에서, 기판(S)이 서셉터(130)의 지지턱(133)에 탑재 지지되어 유동방지부재(210)의 접촉부(215)와 접촉하면, 링형상의 접촉부(215) 내부는 밀폐되어 감압된 상태를 유지하게 된다. 그 후, 챔버(110)에 공정가스를 분사하여 기판(S)을 처리하면, 챔버(110)에 분사된 공정가스로 인하여 챔버(110)의 압력이 접촉부(215) 내측의 공간의 압력 보다 고압이된다. 그러면, 상대적으로 고압인 챔버(110)의 압력과 상대적으로 저압인 접촉부(215) 내측의 공간의 압력 차에 의하여 기판(S)의 하면은 접촉부(215)에 더욱 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지된다.
본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치는 서셉터(130)의 지지턱(133)에 기판(S)이 탑재 지지되면, 기판(S)에 의하여 유동방지부재(210)가 수축되고, 수축된 유동방지부재(210)의 탄성력에 의하여 유동방지부재(210)의 접촉부(215)가 기판(S)의 하면에 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것이 방지될 수 있다.
그리고, 서셉터(130)에 기판(S)을 로딩할 때, 챔버(110)는 진공에 가깝게 감압되므로, 기판(S)이 서셉터(130)의 지지턱(133)에 탑재 지지되어 유동방지부재(210)의 접촉부(215)와 접촉하면, 링형상의 접촉부(215) 내부는 밀폐되어 감압된 상태를 유지하게 된다. 이러한 상태에서, 챔버(110)에 공정가스가 분사되면, 챔버(110)이 압력이 접촉부(215) 내측의 공간의 압력 보다 고압이 된다. 이로 인해, 상대적으로 고압인 챔버(110)의 압력과 상대적으로 저압인 접촉부(215) 내측의 공간의 압력 차에 의하여 기판(S)의 하면은 유동방지부재(210)의 접촉부(215)에 더욱 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
따라서, 회전하는 서셉터(130)에 탑재 지지된 기판이 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 서셉터(130) 상에서 유동하지 않으므로, 기판(S)이 손상되는 것이 방지된다. 또한, 기판(S)이 서셉터(130)와 함께 안정되게 회전하므로, 전체의 기판(S)에 균일한 박막을 형성할 수 있고, 기판(S)의 전면(全面)에 균일한 박막을 형성할 수 있다.
도 4a 내지 도 5e는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 유동방지부재의 다양한 형태를 보인 사시도로서, 이를 설명한다.
도 4a에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(220)의 접촉부(225)는 복수개 마련될 수 있다. 이때, 접촉부(225)는 몸체부(221)의 중심을 기준으로 동심을 이룰 수 있으며, 몸체부(221)의 반경방향으로 간격을 가질 수 있다.
그러면, 기판(S)이 서셉터(130)에 탑재 지지되었을 때, 상호 인접하는 접촉부(225)와 접촉부(225) 사이의 공간의 압력 및 최내곽에 위치된 접촉부(225) 내측의 공간의 압력이 챔버(110)(도 2 참조)의 압력에 비하여 상대적으로 저압을 유지하므로, 기판(S)의 하면이 접촉부(225)에 더욱 견고하게 접촉될 수 있다. 따라서, 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 3a에 도시된 유동방지부재(210)의 구성과 동일할 수 있다.
도 4b에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(230)의 접촉부(235)는, 몸체부(231)의 중심을 기준으로, 동심을 이루면서 몸체부(221)의 반경방향으로 간격을 가지는 복수개로 마련될 수 있다. 이때, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 접촉부(235)와 다른 하나의 접촉부(235)는 연결편(238)에 의하여 상호 연결될 수 있다. 그러면, 연결편(238)에 의하여 접촉부(235)들이 상호 일체가 되므로, 접촉부(235)의 변형이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 4a에 도시된 유동방지부재(220)의 구성과 동일할 수 있다.
도 5a에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(240)는 몸체부(241)와 복수의 접촉부(245a)를 포함할 수 있다. 몸체부(241)는 원판형으로 형성되어 서셉터(130)의 결합홈(131)에 하측 부위가 삽입 결합될 수 있고, 접촉부(245a)는 호형상으로 형성되어 몸체부(241)의 상면에 형성될 수 있다. 이때, 각 접촉부(245a)는 동일 원주상에 위치될 수 있으며, 원주방향으로 간격을 가질 수 있다. 각 접촉부(245a)의 상면에 기판(S)의 하면이 접촉 지지됨은 당연하다.
그러면, 기판(S)이 서셉터(130)에 탑재 지지되었을 때, 접촉부(245a)에 의하여 형성되는 내측의 공간이 기판(S)에 의하여 어느 정도 밀폐되어 감압된 상태를 유지할 수 있으므로, 접촉부(245a)에 의하여 형성되는 내측의 공간의 압력이 챔버(110)(도 2 참조)의 압력에 비하여 상대적으로 저압을 유지한다. 이로 인해, 기판(S)의 하면이 유동방지부재(240)의 접촉부(245a)에 견고하게 접촉될 수 있으므로, 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 3a에 도시된 유동방지부재(210)의 구성과 동일할 수 있다.
도 5b에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(250)는 원판형의 몸체부(251)와 몸체부(251)의 상면에 형성된 복수의 접촉부(255a)를 포함할 수 있다. 이때, 접촉부(255a)는 호형상으로 형성되어 동일 원주상에 위치될 수 있으며, 원주방향으로 간격을 가질 수 있다.
동일 원주상에 위치되는 복수의 접촉부(255a)들을 접촉부군(群)(255)이라 할 때, 접촉부군(255)은 몸체부(251)의 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 복수개로 마련될 수 있다. 그리고, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 접촉부군(255)의 접촉부(255a)와 다른 하나의 접촉부군(255)의 접촉부(255a)는 몸체부(251)의 중심을 기준으로 동일한 위상에 설치될 수 있다.
그러면, 기판(S)이 서셉터(130)에 탑재 지지되었을 때, 반경방향으로 상호 인접하는 접촉부군(255)과 접촉부군(255) 사이의 공간 및 최내곽에 위치된 접촉부군(255) 내측의 공간이 기판(S)에 의하여 어느 정도 밀폐되어 감압된 상태를 유지할 수 있으므로, 기판(S)이 서셉터(130)에 탑재 지지되었을 때, 반경방향으로 상호 인접하는 접촉부군(255)과 접촉부군(255) 사이의 공간의 압력 및 최내곽에 위치된 접촉부군(255) 내측의 공간의 압력이 챔버(110)(도 2 참조)의 압력에 비하여 상대적으로 저압을 유지한다. 이로 인해, 기판(S)의 하면이 유동방지부재(250)의 접촉부(255a)에 견고하게 접촉될 수 있으므로, 서셉터(130)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(130) 상에서 유동하는 것이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 5a에 도시된 유동방지부재(240)의 구성과 동일할 수 있다.
도 5c에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(260)는 원판형의 몸체부(261)와 몸체부(261)의 상면에 형성된 복수의 접촉부(265a)를 포함할 수 있다. 이때, 접촉부(265a)는 호형상으로 형성되어 동일 원주상에 위치될 수 있으며, 원주방향으로 간격을 가질 수 있다.
동일 원주상에 위치되는 복수의 접촉부(265a)들을 접촉부군(群)(265)이라 할 때, 접촉부군(265)은 몸체부(261)의 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 복수개로 마련될 수 있다. 그리고, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 접촉부군(265)의 접촉부(265a)와 다른 하나의 접촉부군(265)의 접촉부(265a)는 연결편(268)에 의하여 상호 연결될 수 있다. 그러면, 연결편(268)에 의하여 상호 인접하는 어느 하나의 접촉부군(265)의 접촉부(265a)와 다른 하나의 접촉부군(265)의 접촉부(265a)가 상호 일체가 되므로, 접촉부(265a)의 변형이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 5b에 도시된 유동방지부재(250)의 구성과 동일할 수 있다.
도 5d에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(270)는 원판형의 몸체부(271)와 몸체부(271)의 상면에 형성된 복수의 접촉부(275a)를 포함할 수 있다. 이때, 접촉부(275a)은 호형상으로 형성되어 동일 원주상에 위치될 수 있으며, 원주방향으로 간격을 가질 수 있다.
동일 원주상에 위치되는 복수의 접촉부(275a)들을 접촉부군(群)(275)이라 할 때, 접촉부군(275)은 몸체부(271)의 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 복수개로 마련될 수 있다. 그리고, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 접촉부군(275)의 접촉부(275a)와 다른 하나의 접촉부군(275)의 접촉부(275a)는 몸체부(271)의 중심을 기준으로 상이한 위상에 설치될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 5b에 도시된 유동방지부재(250)의 구성과 동일할 수 있다.
도 5e에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(280)는 원판형의 몸체부(281)와 몸체부(281)의 상면에 형성된 복수의 접촉부(285a)를 포함할 수 있다. 이때, 접촉부(285a)는 호형상으로 형성되어 동일 원주상에 위치될 수 있으며, 원주방향으로 간격을 가질 수 있다.
동일 원주상에 위치되는 복수의 접촉부(285a)들을 접촉부군(群)(285)이라 할 때, 접촉부군(285)은 몸체부(281)의 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 복수개로 마련될 수 있다. 그리고, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 접촉부군(285)의 접촉부(285a)와 다른 하나의 접촉부군(285)의 접촉부(285a)는 연결편(288)에 의하여 상호 연결될 수 있다. 그러면, 연결편(288)에 의하여 상호 인접하는 어느 하나의 접촉부군(285)의 접촉부(285a)와 다른 하나의 접촉부군(285)의 접촉부(285a)가 상호 일체가 되므로, 접촉부(285a)의 변형이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 5d에 도시된 유동방지부재(270)의 구성과 동일할 수 있다.
제2실시예
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 개략 단면도이고, 도 7a는 도 6에 도시된 서셉터와 유동방지부재와 기판의 분해 사시도이며, 도 7b는 도 7a은 결합 평면도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치는 서셉터(330)의 상면에 설치된 유동방지부재(410)를 포함할 수 있다. 유동방지부재(410)는 하측 부위는 서셉터(330)의 상면에 삽입 결합될 수 있고, 상측 부위는 서셉터(330)의 상측으로 노출될 수 있다. 그리하여, 서셉터(330)의 상측으로 노출된 유동방지부재(410)의 상면에 기판(S)의 하면이 접촉 지지될 수 있다.
유동방지부재(410)는 서셉터(330)의 중심과 동심을 이루면서 설치될 수 있으며, 서셉터(330)의 결합홈(331)에 삽입 결합되는 링형상의 몸체부(411)와 몸체부(411)의 상면에 형성되며 기판(S)이 접촉 지지되는 링형상의 접촉부(415)를 포함할 수 있다. 몸체부(411)가 결합홈(331)에 삽입 결합되므로, 결합홈(331)은 몸체부(411)와 대응되는 링형상으로 형성됨은 당연하다.
그리하여, 기판(S)의 테두리부측을 서셉터(330)의 지지턱(333)에 탑재 지지하면, 접촉부(415)의 상면에 기판(S)의 하면이 접촉 지지된다. 이때, 유동방지부재(410)는 수축되면서 기판(S)의 하면에 접촉될 수 있으므로, 최초의 상태로 복귀하려는 유동방지부재(410)의 탄성력에 의하여 유동방지부재(410)는 기판(S)의 하면에 견고하게 접촉될 수 있다. 이로 인해, 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 방지된다.
챔버(310)의 서셉터(330)에 기판(S)을 로딩 또는 언로딩할 때에는, 챔버(310)의 내부를 진공에 가깝게 감압한다. 그런데, 기판(S)이 서셉터(330)의 지지턱(333)에 탑재 지지되어 유동방지부재(410)의 접촉부(415)와 접촉하면, 링형상의 접촉부(415) 내부는 밀폐되어 감압된 상태를 유지할 수 있으므로, 접촉부(415) 내측의 공간의 압력이 공정가스가 분사된 챔버(310)의 압력에 비하여 상대적으로 저압을 유지하게 된다. 그러면, 상대적으로 고압인 챔버(310)의 압력과 상대적으로 저압인 접촉부(415) 내측의 공간의 압력 차에 의하여 기판(S)의 하면은 접촉부(415)에 더욱 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지된다.
그리고, 유동방지부재(410)가 링형상으로 형성되어 서셉터(330)와 동심을 이룬다. 그러면, 유동방지부재(410)의 형상 및 위치로 인하여 서셉터(330)의 자전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
도 6 내지 도 7b에 도시된 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 나머지 구성은 도 1 내지 도 3b에 도시된 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 구성과 동일 할 수 있다.
본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치는 서셉터(330)의 지지턱(333)에 기판(S)이 탑재 지지되면, 기판(S)에 의하여 유동방지부재(410)가 수축되고, 수축된 유동방지부재(410)의 탄성력에 의하여 유동방지부재(410)의 접촉부(415)가 기판(S)의 하면에 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 방지될 수 있다.
그리고, 기판(S)이 서셉터(330)의 지지턱(333)에 탑재 지지되어 유동방지부재(410)의 접촉부(415)와 접촉하면, 링형상의 접촉부(415) 내측은 밀폐되어 감압된 상태를 유지할 수 있으므로, 접촉부(415) 내측의 공간의 압력이 챔버(310)의 공간의 압력에 비하여 저압을 유지한다. 그러면, 상대적으로 고압인 챔버(310)의 압력과 상대적으로 저압인 접촉부(415) 내측의 공간의 압력 차에 의하여 기판(S)의 하면은 접촉부(415)에 더욱 견고하게 접촉된다. 이로 인해, 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
그리고, 유동방지부재(410)가 링형상으로 형성되어 서셉터(330)와 동심을 이루므로, 서셉터(330)의 자전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
따라서, 회전하는 서셉터(330)에 탑재 지지된 기판이 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 서셉터(330) 상에서 유동하지 않으므로, 기판(S)이 손상되는 것이 방지된다. 또한, 기판(S)이 서셉터(330)와 함께 안정되게 회전하므로, 전체의 기판(S)에 균일한 박막을 형성할 수 있고, 기판(S)의 전면(全面)에 균일한 박막을 형성할 수 있다.
도 8a 내지 도 9e는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 유동방지부재의 다양한 형태를 보인 사시도로서, 이를 설명한다.
도 8a에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(420)는 복수개로 마련되어, 서셉터(330)의 중심을 기준으로 동심을 이룰 수 있으며, 서셉터(330)의 반경방향으로 간격을 가질 수 있다.
그러면, 기판(S)이 서셉터(330)에 탑재 지지되었을 때, 상호 인접하는 유동방지부재(420)의 접촉부(425) 사이의 공간의 압력 및 최내곽에 위치된 유동방지부재(420)의 접촉부(425) 내측의 공간의 압력이 챔버(310)(도 6 참조)의 압력에 비하여 상대적으로 저압을 유지하므로, 기판(S)의 하면이 유동방지부재(420)의 접촉부(425)에 더욱 견고하게 접촉될 수 있다. 따라서, 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 더욱 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 7a에 도시된 유동방지부재(410)의 구성과 동일할 수 있다.
도 8b에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(430)는, 서셉터(330)의 중심을 기준으로, 동심을 이루면서 반경방향으로 간격을 가지는 복수개로 마련될 수 있다. 이때, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 유동방지부재(430)와 다른 하나의 유동방지부재(430)는 연결편(430a)에 의하여 상호 연결될 수 있다. 그러면, 연결편(430a)에 의하여 유동방지부재(430)들이 상호 일체가 되므로, 유동방지부재(430)의 변형이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 8a에 도시된 유동방지부재(420)의 구성과 동일할 수 있다.
도 9a에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(440)는 링형상으로 형성되며 서셉터(330)의 결합홈(331)에 삽입 결합되는 몸체부(441)와 몸체부(441)의 상면에 형성되며 호형상으로 형성된 복수의 접촉부(445)를 포함할 수 있다. 각 접촉부(445)의 상면에 기판(S)의 하면이 접촉 지지됨은 당연하다.
그러면, 기판(S)이 서셉터(330)에 탑재 지지되었을 때, 접촉부(445)에 의하여 형성되는 내측의 공간이 기판(S)에 의하여 어느 정도 밀폐되어 감압된 상태를 유지할 수 있으므로, 접촉부(445)에 의하여 형성되는 내측의 공간의 압력이 챔버(310)(도 6 참조)의 압력에 비하여 상대적으로 저압을 유지한다. 이로 인해, 기판(S)의 하면이 접촉부(445)에 견고하게 접촉될 수 있으므로, 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 7a에 도시된 유동방지부재(410)의 구성과 동일할 수 있다.
도 9b에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(450)는 링형상의 몸체부(451)와 몸체부(451)의 상면에 형성된 호형상의 복수의 접촉부(455)를 포함할 수 있다. 그리고, 유동방지부재(450)는 서셉터(330) 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 복수개로 마련될 수 있다. 이때, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 유동방지부재(450)의 접촉부(455)와 다른 하나의 유동방지부재(450)의 접촉부(455)는 서셉터(330)의 중심을 기준으로 동일한 위상에 설치될 수 있다.
그러면, 기판(S)이 서셉터(330)에 탑재 지지되었을 때, 반경방향으로 상호 인접하는 접촉부(455)와 접촉부(455) 사이의 공간 및 최내곽에 위치된 접촉부(455) 내측의 공간이 기판(S)에 의하여 어느 정도 밀폐되어 감압된 상태를 유지할 수 있으므로, 기판(S)이 서셉터(330)에 탑재 지지되었을 때, 반경방향으로 상호 인접하는 접촉부(455)와 접촉부(455) 사이의 공간의 압력 및 최내곽에 위치된 접촉부(455) 내측의 공간의 압력이 챔버(310)(도 6 참조)의 압력에 비하여 상대적으로 저압을 유지한다. 이로 인해, 기판(S)의 하면이 접촉부(455a)에 견고하게 접촉될 수 있으므로, 서셉터(330)의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판(S)이 서셉터(330) 상에서 유동하는 것이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 9a에 도시된 유동방지부재(440)의 구성과 동일할 수 있다.
도 9c에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(460)는 링형상의 몸체부(461)와 몸체부(461)의 상면에 형성된 호형상의 복수의 접촉부(465)를 포함할 수 있다. 유동방지부재(460)는 복수개 마련되어, 서셉터(330)의 중심을 기준으로, 동심을 이루면서 반경방향으로 간격을 가질 수 있다.
그리고, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 유동방지부재(460)와 다른 하나의 유동방지부재(460)는 연결편(460a)에 의하여 상호 연결될 수 있다. 그러면, 연결편(460a)에 의하여 상호 인접하는 어느 하나의 유동방지부재(460)와 다른 하나의 유동방지부재(460)가 상호 일체가 되므로, 유동방지부재(460)의 변형이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 9b에 도시된 유동방지부재(450)의 구성과 동일할 수 있다.
도 9d에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(470)는 링형상의 몸체부(471)와 몸체부(471)의 상면에 형성된 호형상의 복수의 접촉부(475)를 포함할 수 있다. 유동방지부재(470)는 복수개 마련되어, 서셉터(330)의 중심을 기준으로, 동심을 이루면서 반경방향으로 간격을 가질 수 있다.
그리고, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 유동방지부재(470)의 접촉부(475)와 다른 하나의 유동방지부재(470)의 접촉부(475)는 서셉터(330)의 중심을 기준으로 상이한 위상에 설치될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 9b에 도시된 유동방지부재(450)의 구성과 동일할 수 있다.
도 9e에 도시된 바와 같이, 유동방지부재(480)는 링형상의 몸체부(481)와 몸체부(481)의 상면에 형성된 호형상의 복수의 접촉부(485)를 포함할 수 있다. 유동방지부재(480)는 복수개 마련되어, 서셉터(330)의 중심을 기준으로, 동심을 이루면서 반경방향으로 간격을 가질 수 있다.
그리고, 반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 유동방지부재(480)와 다른 하나의 유동방지부재(480)는 연결편(480a)에 의하여 상호 연결될 수 있다. 그러면, 연결편(480a)에 의하여 상호 인접하는 어느 하나의 유동방지부재(480)와 다른 하나의 유동방지부재(480)는 상호 일체가 되므로, 유동방지부재(480)의 변형이 방지될 수 있다.
그 이외의 구성은 도 9d에 도시된 유동방지부재(470)의 구성과 동일할 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
110, 310: 챔버
130, 330: 서셉터
210, 410: 유동방지부재

Claims (17)

  1. 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버;
    상기 챔버의 내부에 회전가능하게 설치된 디스크;
    상기 디스크에 설치되고, 기판이 탑재 지지되며, 상기 디스크와 함께 회전하면서 상기 디스크의 중심을 기준으로 공전함과 동시에 자신의 중심을 기준으로 자전하는 서셉터; 및
    상기 서셉터에 설치되고, 상기 서셉터에 탑재된 기판에 의하여 수축된 후 복원하려는 탄성력에 의하여 기판과 접촉하여 기판을 지지하며, 서셉터의 회전시 발생하는 원심력에 의하여 기판이 상기 서셉터 상에서 유동하는 것을 방지하는 유동방지부재를 포함하고,
    상기 유동방지부재는,
    상기 서셉터에 하측 부위가 삽입되는 몸체부;
    상기 몸체부의 상면에 형성되며 기판이 접촉 지지되는 접촉부를 포함하며,
    상기 접촉부는 복수개 마련되어, 상기 몸체부의 중심을 기준으로 반경방향으로 이격되어 동심을 이루는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 유동방지부재는 상기 서셉터의 중심을 기준으로 복수개가 방사상으로 배치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제2항에 있어서,
    상기 유동방지부재는,
    상기 서셉터에 하측 부위가 삽입 결합되는 몸체부;
    상기 몸체부의 상면에 형성되고, 기판이 접촉 지지되며, 호형상으로 형성되어 원주방향으로 간격을 가지는 복수의 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    복수의 상기 접촉부는 동일 원주상에 위치되고,
    동일 원주상에 위치되는 복수의 상기 접촉부들을 접촉부군(群)이라 할 때,
    상기 접촉부군은 복수개 마련되어, 상기 몸체부의 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 상기 접촉부군의 상기 접촉부와 다른 하나의 상기 접촉부군의 상기 접촉부는 상기 몸체부의 중심을 기준으로 동일한 위상에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 제6항에 있어서,
    반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 상기 접촉부군의 상기 접촉부와 다른 하나의 상기 접촉부군의 상기 접촉부는 상기 몸체부의 중심을 기준으로 상이한 위상에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상호 인접하는 어느 하나의 상기 접촉부군의 상기 접촉부와 다른 하나의 상기 접촉부군의 상기 접촉부는 연결편에 의하여 연결된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 제2항에 있어서,
    상기 유동방지부재는 상기 서셉터와 동심을 이루는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 유동방지부재는,
    상기 서셉터에 하측 부위가 삽입 결합되는 링형상의 몸체부;
    상기 몸체부의 상면에 형성되며 기판이 접촉 지지되는 링형상의 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 유동방지부재는 복수개 마련되어, 상기 서셉터의 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 유동방지부재는,
    상기 서셉터에 하측 부위가 삽입 결합되는 링형상의 몸체부;
    상기 몸체부의 상면에 형성되고, 기판이 접촉 지지되며, 호형상으로 형성되어 원주방향으로 간격을 가지는 복수의 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 유동방지부재는 복수개 마련되어, 상기 서셉터의 중심을 기준으로 반경방향으로 간격을 가지면서 동심을 이루는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  15. 제14항에 있어서,
    반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 상기 유동방지부재의 상기 접촉부와 다른 하나의 상기 유동방지부재의 상기 접촉부는 상기 서셉터의 중심을 기준으로 동일한 위상에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  16. 제14항에 있어서,
    반경방향으로 상호 인접하는 어느 하나의 상기 유동방지부재의 상기 접촉부와 다른 하나의 상기 유동방지부재의 상기 접촉부는 상기 서셉터의 중심을 기준으로 상이한 위상에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    상호 인접하면서 대향하는 어느 하나의 상기 유동방지부재와 다른 하나의 상기 유동방지부재는 연결편에 의하여 연결된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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