KR102537339B1 - 노광기 - Google Patents

노광기 Download PDF

Info

Publication number
KR102537339B1
KR102537339B1 KR1020217004236A KR20217004236A KR102537339B1 KR 102537339 B1 KR102537339 B1 KR 102537339B1 KR 1020217004236 A KR1020217004236 A KR 1020217004236A KR 20217004236 A KR20217004236 A KR 20217004236A KR 102537339 B1 KR102537339 B1 KR 102537339B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
fastening member
exposure
frame
disposed
positioning
Prior art date
Application number
KR1020217004236A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20210034018A (ko
Inventor
리리 거
짜이용 양
웨빈 쭈
Original Assignee
상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 filed Critical 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20210034018A publication Critical patent/KR20210034018A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102537339B1 publication Critical patent/KR102537339B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본문은 노광기를 개시하였으며, 해당 노광기는 코어 노광 측정프레임, 내부 지지프레임 및 위치 조절컴포넌트를 포함하되, 코어 노광 측정프레임에는 노광 시스템과 측정 시스템이 장착되고; 내부 지지프레임에는 운동 테이블 시스템이 장착되며; 위치 조절컴포넌트는 각각 코어 노광 측정프레임 및 내부 지지프레임과 연결되고, 내부 지지프레임이 운동 테이블 시스템의 운동에 따라 변형이 발생할 경우, 위치 조절컴포넌트는 구조 형태 변화가 발생할 수 있어, 운동 테이블 시스템과 노광 시스템의 상대적 위치가 조절되어, 운동 테이블 시스템과 노광 시스템의 상대적 위치가 변하지 않게 된다.

Description

노광기
본 개시는 2018년 07월 11일에 중국 특허청에 제출되고 출원번호가 201810757869.9인 중국 특허 출원의 우선권을 주장하는바, 상기 출원의 전부 내용은 참조로서 본 개시에 포함된다.
본 발명은 포토리소그래피 기술분야에 관한 것으로, 예를 들어 노광기에 관한 것이다.
종래의 포토리소그래피 기기에서 유리 기판의 사이즈는 비교적 작고, 워킹 테이블의 운동질량도 비교적 작으므로, 워킹 테이블의 운동이 노광기 전체 기기에 대한 형태 변화 영향이 비교적 작다. 하지만, 포토리소그래피 기기가 큰 세대를 향해 발전함에 따라, 유리 기판의 사이즈는 부단히 증가되어, 워킹 테이블의 이동질량도 대폭 증가된다. 아울러, 설비가 큰 세대를 향해 발전할 경우, 수율의 요구로 운동 테이블의 운동속도는 반드시 빨라야 한다. 워킹 테이블의 이동질량 및 이동속도의 증가로 인해 운동반력도 대폭 증가되고, 큰 톤수의 워킹 테이블이 큰 범위로 빨리 이동할 경우, 인터페이스의 강도가 제한되므로, 메인 프레임에 의해 지지되는 노광 시스템, 측정 시스템의 인터페이스의 상대적 위치에 변화가 발생하며, 이로 인해 투영 대물렌즈(projection objective)와 마스크 테이블(mask table)의 상대적 위치에 변화가 발생하여, 비교적 큰 시스템 오차를 초래하며, 노광 이미징의 품질에 심각한 영향을 미친다. 따라서, 큰 사이즈 기판의 노광수요를 충족시키는 빠르고 안정한 노광기의 제공이 시급하다.
본 발명은 큰 사이즈 기판의 노광수요를 충족시키며 큰 사이즈 기판의 노광 정밀도를 확보할 수 있는 노광기를 제시한다.
본 발명은 아래와 같은 기술방안을 채택한다.
노광기로서, 노광 시스템, 측정 시스템 및 운동 테이블 시스템을 포함하고,
상기 노광기는 코어 노광 측정프레임, 내부 지지프레임 및 위치 조절컴포넌트를 더 포함하되,
상기 코어 노광 측정프레임에는 노광 시스템과 측정 시스템이 장착되고;
상기 내부 지지프레임에는 운동 테이블 시스템이 장착되며;
상기 위치 조절컴포넌트는 각각 코어 노광 측정프레임 및 내부 지지프레임과 연결되고, 내부 지지프레임이 운동 테이블 시스템의 운동에 따라 변형이 발생할 경우, 위치 조절컴포넌트는 구조 형태 변화가 발생할 수 있어, 상기 운동 테이블 시스템과 상기 노광 시스템의 상대적 위치가 조절되어, 상기 운동 테이블 시스템과 상기 노광 시스템의 상대적 위치가 변하지 않게 된다.
본 발명은 큰 사이즈 기판의 노광수요를 충족시키며 큰 사이즈 기판의 노광 정밀도를 확보할 수 있는 노광기를 제시하는 효과가 있다.
도 1은 일 실시예에서의 노광기의 구조 개략도이다.
도 2는 일 실시예에서의 측정 기판의 평면도이다.
도 3은 도 2에 나타난 측정 기판의 측면도이다.
도 4는 일 실시예에서의 제1 연결부재의 구조 개략도이다.
도 5는 일 실시예에서의 제2 연결부재의 구조 개략도이다.
도 6은 일 실시예에서의 제3 연결부재의 구조 개략도이다.
도 7은 일 실시예에서의 댐핑 시스템이 내부 지지프레임과 연결된 부분 구조 개략도이다.
도 8은 일 실시예에서의 댐핑 시스템의 레이아웃 개략도이다.
도 9는 다른 실시예에서의 댐핑 시스템의 레이아웃 개략도이다.
아래에서 도면을 결합하여 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 통해 본문의 기술방안을 추가로 설명한다.
본문의 설명에서, 이해해야 할 것은, 용어 '상', '하', '앞', '뒤', '좌', '우', '수직', '수평', '톱', '바닥', '내', '외' 등이 표시하는 방위 또는 위치관계는 도면에 표시된 방위 또는 위치관계에 따른 것이고, 단지 본문 설명의 편의성과 설명을 간소화하기 위한 것일 뿐, 해당 장치 또는 소자가 반드시 특정된 방위를 구비하거나 특정된 방위로 구성되고 작동되는 것을 지시 또는 암시하는 것이 아니므로, 본문에 대한 한정으로 이해해서는 안된다.
본문은 큰 사이즈 기판의 노광 정밀도를 향상시키기 위한 노광기를 제공한다. 도 1을 참조하면, 일 실시예의 노광기는 노광 시스템, 측정 시스템, 운동 테이블 시스템, 조명 시스템 및 마스크 전송 시스템(703), 외부 프레임, 코어 노광 측정프레임, 내부 지지프레임 및 위치 조절컴포넌트를 포함한다. 외부 프레임에는 조명 시스템과 마스크 전송 시스템(703)이 장착된다. 코어 노광 측정프레임은 외부 프레임 내측에 배치되고 노광 시스템과 측정 시스템이 장착된다. 내부 지지프레임은 외부 프레임과 코어 노광 측정프레임 사이에 배치되고, 코어 노광 측정프레임과 연결되며, 운동 테이블 시스템이 장착된다. 위치 조절컴포넌트는 각각 코어 노광 측정프레임 및 내부 지지프레임과 연결되고, 내부 지지프레임이 운동 테이블 시스템의 운동에 따라 편이 및 변형이 발생할 경우, 위치 조절컴포넌트는 내부 지지프레임이 편이 및 변형되는 방향과 동일한 방향으로 구조 형태 변화가 발생할 수 있어, 운동 테이블 시스템과 노광 시스템의 상대적 위치가 조절디어, 운동 테이블 시스템과 노광 시스템의 상대적 위치가 변하지 않게 된다.
설명해야 할 것은, 상기 노광 시스템은 기판을 노광하도록 구성될 수 있고; 상기 측정 시스템은 상기 운동 테이블 시스템과 상기 노광 시스템의 상대적 위치를 측정하도록 구성될 수 있으며; 상기 운동 테이블 시스템은 기판을 구동하여 상기 내부 지지프레임에서 운동하도록 구성될 수 있고; 상기 조명 시스템은 상기 노광기에 대해 조명을 진행하도록 구성될 수 있으며; 상기 마스크 전송 시스템(703)은 마스크를 전송하도록 구성될 수 있다.
일 실시예에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 노광 시스템은 좌측 마스크 테이블 간섭계(502), 우측 마스크 테이블 간섭계(503), 좌측 렌즈(505), 우측 렌즈(506) 및 워킹 테이블 간섭계(509)를 포함한다. 측정 시스템은 오프 축 정렬 시스템(507)과 레벨링 및 포커싱 시스템(508)을 포함한다. 일 실시예에서, 코어 노광 측정프레임은 측정 기판(101), 마스크 테이블 간섭계 지지대(102) 및 워킹 테이블 간섭계 지지대(103)를 포함하되, 측정 기판(101)은 위치 조절컴포넌트를 통해 내부 지지프레임과 연결되고, 좌측 렌즈(505), 우측 렌즈(506), 오프 축 정렬 시스템(507) 및 레벨링 및 포커싱 시스템(508)은 모두 측정 기판(101)에 배치된다. 마스크 테이블 간섭계 지지대(102)는 측정 기판(101)의 상방에 배치되고, 좌측 마스크 테이블 간섭계(502), 우측 마스크 테이블 간섭계(503)는 마스크 테이블 간섭계 지지대(102)에 배치된다. 워킹 테이블 간섭계 지지대(103)는 측정 기판(101)의 하방에 연결되고, 워킹 테이블 간섭계(509)는 워킹 테이블 간섭계 지지대(103)에 장착된다.
일 실시예에서, 운동 테이블 시스템은 좌측 마스크 테이블(501), 우측 마스크 테이블(504) 및 워킹 테이블(510)을 포함한다. 일 실시예에서, 내부 지지프레임은 마스크 테이블 지지대(301), 메인 기판(302), 지지 레그(303) 및 베이스 프레임(304)을 포함하되, 메인 기판(302)은 위치 조절컴포넌트를 통해 측정 기판(101)과 연결되고, 마스크 테이블 지지대(301)는 메인 기판(302)의 상방에 배치되며, 베이스 프레임(304)은 지지 레그(303)를 통해 메인 기판(302)의 하방에 연결된다. 일 실시예에서, 도 1에 도시된 바와 같이, 마스크 테이블 지지대(301)는 측정 기판(101)의 상방에 위치하고, 좌측 마스크 테이블(501)과 우측 마스크 테이블(504)은 모두 마스크 테이블 지지대(301)에 배치되며, 좌측 마스크 테이블(501)은 좌측 마스크 테이블 간섭계(502)의 좌측에 위치하고, 우측 마스크 테이블(504)은 우측 마스크 테이블 간섭계(503)의 우측에 위치한다. 베이스 프레임(304)은 측정 기판(101)의 하방에 배치되고, 워킹 테이블(510)은 베이스 프레임(304)에 배치되며, 워킹 테이블(510)은 워킹 테이블 간섭계(509)와 인접되게 배치된다.
일 실시예에서, 조명 시스템은 좌측 조명(701)과 우측 조명(702)을 포함한다. 외부 프레임은 제1 컬럼(601), 제2 컬럼(602), 톱 지지대(603) 및 마스크 전송 지지대(604)를 포함하되, 제1 컬럼(601)과 제2 컬럼(602)은 각각 내부 지지프레임의 양측에 배치되고, 톱 지지대(603)는 각각 제1 컬럼(601) 및 제2 컬럼(602)과 연결되며, 좌측 조명(701)과 우측 조명(702)은 모두 톱 지지대(603)에 배치되고, 마스크 전송 지지대(604)는 제1 컬럼(601) 또는 제2 컬럼(602)과 인접되게 배치되며, 마스크 전송 시스템(703)은 마스크 전송 지지대(604)에 배치된다.
더 나아가, 일 실시예에서, 상기 노광기는 제어 캐비넷(704)과 환경 캐비넷(705)을 더 포함하고, 제어 캐비넷(704)과 환경 캐비넷(705)은 외부 프레임의 외측에 별도로 배치되어, 제어 캐비넷(704)과 환경 캐비넷(705)의 진동이 기판의 노광 정밀도에 영향 주는 것을 방지한다.
도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 일 실시예에서, 위치 조절컴포넌트는 적어도 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203)를 포함한다. 본 실시예에서, 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203) 사이는 삼각형을 이루도록 레이아웃되므로, 측정 기판(101)과 메인 기판(302) 사이의 상대적 위치의 조절에 대한 안정성과 신뢰성을 확보할 수 있어, 기판의 노광 정밀도를 확보한다. 더 나아가, 일 실시예에서, 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203) 사이는 이등변 삼각형 또는 정삼각형을 이루도록 레이아웃된다.
일 실시예에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 일 실시예에서, 제1 연결부재(201)는 강성부재(204)와 압전 세라믹시트(205)를 포함하되, 강성부재(204)에는 장착홈(206)과 복수 개의 조절홀(207)이 개구되고, 압전 세라믹시트(205)는 장착홈(206) 내에 배치되며, 복수 개의 조절홀(207)은 장착홈(206)과 인접되게 배치된다. 본 실시예에서, 강성부재(204)에 조절홀(207)이 개구되고, 강성부재(204) 내에 압전 세라믹시트(205)가 배치되며, 압전 세라믹시트(205)의 연장 또는 단축을 통해 조절홀(207)의 공경이 커지거나 작아지도록 제어함으로써, 강성부재(204) 전체가 연장 또는 단축되도록 하며, 측정 기판(101)과 메인 기판(302)의 상대적 위치의 미동(微動) 조절을 구현한다. 구체적으로, 강성부재(204)를 연장해야 할 경우, 압전 세라믹시트(205)에 전기장을 인가하여, 압전 세라믹시트(205)가 연장되도록 하고, 압전 세라믹시트(205)가 극성화 방향(polarization direction)을 따라 연장하므로, 조절홀(207)의 공경이 커지게 되어, 강성부재(204)가 연장된다; 반대로, 강성부재(204)를 단축해야 할 경우, 압전 세라믹시트(205)에 역전기장을 인가하며, 압전 세라믹시트(205)가 극성화 방향을 따라 단축하므로, 조절홀(207)의 공경이 작아지게 되어, 강성부재(204) 전체가 단축된다. 일 실시예에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 조절홀(207)의 말단에 공정홀이 배치되고, 공정홀의 배치는 조절홀(207)이 강성부재(204)를 관통하여 강성부재(204) 전체가 파단되는 것을 방지할 수 있어, 강성부재(204)의 구조 안정성 및 신뢰성을 확보한다.
일 실시예에서, 도 5, 도 6에 도시된 바와 같이, 제2 연결부재(202)와 제3 연결부재(203)도 모두 강성부재(204)와 압전 세라믹시트(205)를 포함하되, 강성부재(204)에는 장착홈(206)과 복수 개의 조절홀(207)이 개구되고, 압전 세라믹시트(205)는 장착홈(206) 내에 배치되며, 복수 개의 조절홀(207)은 장착홈(206)과 인접되게 배치된다. 제2 연결부재(202)와 제3 연결부재(203)의 구체적인 작동원리는 상기 제1 연결부재(201)의 작동원리와 동일하므로, 여기서 더 설명하지 않는다.
구체적으로, 워킹 테이블(510)의 운동과정에서, 상기 위치 조절컴포넌트를 통해 측정 기판(101)과 메인 기판(302) 사이의 상대적 위치를 조절하는 과정은 아래와 같다: 워킹 테이블(510)이 좌측으로 운동할 경우, 내부 지지프레임은 정적 변형(static deformation)이 발생하고, 메인 기판(302)은 좌측이 낮고, 우측이 높다. 이때, 제2 연결부재(202)의 압전 세라믹시트에 전기장을 인가하여, 제2 연결부재(202)의 압전 세라믹시트가 단축되도록 하고, 이로써 제2 연결부재(202)의 강성부재(204) 전체를 단축시키며; 동시에, 제3 연결부재(203)의 압전 세라믹시트에 역전기장을 인가하여, 제3 연결부재(203)의 압전 세라믹시트가 연장되도록 하고, 이로써 제3 연결부재(203)의 강성부재(204) 전체를 연장시키며; 대응되게, 변형량의 크기에 따라 제1 연결부재(201)의 압전 세라믹시트를 조정하여, 제1 연결부재(201)의 강성부재(204)를 단축 또는 연장시킨다. 이를 통해 측정 기판(101) 전체는 좌측으로 편이되어, 측정 기판(101)의 좌측이 낮고, 우측이 높아져, 메인 기판(302)의 형태 변화와 동일하게 되므로, 측정 기판(101)과 메인 기판(302)의 상대적 위치가 변하지 않게 된다. 반대로, 워킹 테이블(510)이 우측으로 운동할 경우, 제2 연결부재(202)의 압전 세라믹시트가 연장되게 조절하여, 제2 연결부재(202)의 강성부재(204) 전체를 연장시키고; 동시에 제3 연결부재(203)의 압전 세라믹시트가 단축되도록 조절하여 제3 연결부재(203)의 강성부재(204) 전체를 단축시키며; 변형량의 크기에 따라 제1 연결부재(201)의 압전 세라믹시트를 대응되게 조정하여, 제1 연결부재(201)의 강성부재(204)를 연장 또는 단축시킨다. 이를 통해 측정 기판(101)은 메인 기판(302)을 따라 함께 우측으로 편이되므로, 측정 기판(101)이 메인 기판(302)에 대한 상대적 위치가 변하지 않도록 확보한다. 본 실시예는 압전 세라믹시트의 형태 변화를 제어하는 것을 통해, 제1 연결부재(201)의 강성부재(204), 제2 연결부재(202)의 강성부재(204) 및 제3 연결부재(203)의 강성부재(204)의 대응되는 구조를 변화시킴으로써, 측정 기판(101)과 메인 기판(302)의 상대적 위치를 조절하며, 이로써 워킹 테이블(510)이 운동하는 과정에 측정 기판(101)과 메인 기판(302)의 상대적 위치가 변하지 않도록 상시 유지하므로, 기판의 노광 정밀도를 확보하고, 큰 톤수의 워킹 테이블이 큰 범위로의 빠른 이동이 노광 정밀도에 대한 영향을 방지하며, 큰 사이즈 기판의 노광 정밀도를 향상시킨다.
더 나아가, 일 실시예에서, 위치 조절컴포넌트는 위치 검출센서와 제어기를 더 포함한다. 구체적으로, 위치 검출센서와 압전 세라믹시트는 모두 제어기와 연결되고, 위치 검출센서는 메인 기판(302)에 배치되며, 상기 위치 검출센서는 메인 기판(302)의 위치를 검출하여 검출된 메인 기판(302)의 위치정보를 제어기에 송신하도록 배치되고, 제어기는 메인 기판(302)의 위치정보에 따라 메인 기판(302)의 변형량을 계산하며, 메인 기판(302)의 변형량에 따라 각 연결부재의 압전 세라믹시트에 상이한 전기장을 인가하도록 제어하고, 각 압전 세라믹시트를 제어하여 측정 기판(101)과 메인 기판(302)의 상대적 위치를 조절한다. 일 실시예에서, 위치 검출센서는 광전센서를 사용할 수 있고, 제어기는 노광기의 제어시스템에 집적될 수 있다.
일 실시예에서, 위치 조절컴포넌트는 제1 체결부재(801), 제2 체결부재(802) 및 제3 체결부재(803)를 더 포함하되;
상기 제1 체결부재(801)는 연결볼트(804)와 제1 위치한정부재(805)를 포함하고, 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)는 코어 노광 측정프레임을 관통하고, 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 제1 단은 너트를 통해 코어 노광 측정프레임에 고정되고, 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 제2 단은 제1 위치한정부재(805)를 통해 제1 연결부재(201)의 강성부재(204)와 연결되고, 제1 연결부재(201)의 강성부재(204)의 상부 표면에는 위치한정평면(2041)이 배치되며, 제1 위치한정부재(805)의 제1 단은 위치한정평면(2041)과 맞닿고, 제1 위치한정부재(805)의 제2 단은 코어 노광 측정프레임과 맞닿는다. 일 실시예에서, 연결볼트(804)는 측정 기판(101)과 제1 위치한정부재(805)를 관통하여 제1 연결부재(201)의 강성부재(204)와 연결되고, 제1 위치한정부재(805)의 제1 단은 위치한정평면(2041)과 맞닿으며, 제1 위치한정부재(805)의 제2 단은 측정 기판(101)과 맞닿는다.
상기 제2 체결부재(802)는 연결볼트(804)와 제2 위치한정부재(806)를 포함하고, 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)는 코어 노광 측정프레임을 관통하고, 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 제1 단은 너트를 통해 코어 노광 측정프레임에 고정되고, 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 제2 단은 제2 위치한정부재(806)를 통해 제2 연결부재(202)의 강성부재(204)와 연결되고, 제2 연결부재(202)의 강성부재(204)의 상부 표면에는 구형 위치한정홈(208)이 개구되며, 제2 위치한정부재(806)의 제1 단은 구형 위치한정홈(208) 내에 삽입되고, 제2 위치한정부재의 제2 단은 코어 노광 측정프레임과 맞닿는다. 일 실시예에서, 연결볼트(804)는 측정 기판(101)과 제2 위치한정부재(806)를 관통하여 제2 연결부재(202)의 강성부재(204)와 연결되고, 제2 위치한정부재(806)의 제1 단은 구형 위치한정홈(208) 내에 삽입되며, 제2 위치한정부재(806)의 제2 단은 측정 기판(101)과 맞닿는다.
상기 제3 체결부재(803)는 연결볼트(804)와 제3 위치한정부재(807)를 포함하고, 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)는 코어 노광 측정프레임을 관통하고, 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 제1 단은 너트를 통해 코어 노광 측정프레임에 고정되고, 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 제2 단은 제3 위치한정부재(807)를 통해 제3 연결부재(203)의 강성부재(204)와 연결되고, 제3 연결부재(203)의 강성부재(204)의 상부 표면에는 V형 위치한정홈(209)이 개구되며, 제3 위치한정부재(807)의 제1 단은 V형 위치한정홈(209) 내에 삽입되고, 제3 위치한정부재(807)의 제2 단은 코어 노광 측정프레임과 맞닿는다. 일 실시예에서, 연결볼트(804)는 측정 기판(101)과 제3 위치한정부재(807)를 관통하여 제3 연결부재(203)의 강성부재(204)와 연결되고, 제3 위치한정부재(807)의 제1 단은 V형 위치한정홈(209) 내에 삽입되며, 제3 위치한정부재(807)의 제2 단은 측정 기판(101)과 맞닿는다.
일 실시예에서, 제1 위치한정부재(805)는 평판 위치한정부재이고, 일 실시예에서, 제2 위치한정부재(806)와 제3 위치한정부재(807)는 모두 볼 헤드 위치한정부재이다. 구체적으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 측정 기판(101)의 기하 중심을 원점으로 하여, 수평 왼쪽으로의 방향을 X축의 정방향으로 하고, 수평방향에서 제2 연결부재(202)와 제3 연결부재(203)가 연장하는 방향을 Y축의 정방향으로 하며, 수직되게 위로 향하는 방향을 Z축의 정방향으로 하여 좌표계를 구축한다. 평판 위치한정부재와 위치한정평면(2041)은 제1 연결부재(201)의 Z방향 자유도를 제한할 수 있고; 제2 위치한정부재(806)는 볼 헤드 위치한정부재이고, 볼 헤드 위치한정부재를 제2 연결부재(202)의 강성부재(204) 표면의 구형 위치한정홈(208) 내에 삽입하여, X, Y, Z 방향에서의 제2 연결부재(202)의 자유도를 제한할 수 있으며; 제3 위치한정부재(807)는 볼 헤드 위치한정부재이고, 볼 헤드 위치한정부재를 제3 연결부재(203)의 강성부재(204) 표면의 V형 위치한정홈(209) 내에 삽입하여, X, Z 방향에서의 제3 연결부재(203)의 자유도를 제한할 수 있다. 세 개의 연결부재를 결합하여 Rx, Ry, Rz의 자유도를 공동으로 제한함으로써, 여섯 자유도의 디커플링(decoupling)을 구현하고, 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203)가 워킹 테이블(510)이 운동하는 과정에 모두 부재가 풀리거나 편이가 발생하지 않도록 하여, 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203)의 장착의 안정성 및 신뢰성을 확보하고, 더 나아가 노광 정밀도를 확보한다.
일 실시예에서, 제1 체결부재(801), 제2 체결부재(802) 및 제3 체결부재(803)는 모두 연성부재(808)를 더 포함하고; 제1 체결부재(801)의 연성부재(808)는 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 코어 노광 측정프레임과 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치된다; 제2 체결부재(802)의 연성부재(808)는 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 코어 노광 측정프레임과 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치된다; 제3 체결부재(803)의 연성부재(808)는 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 코어 노광 측정프레임과 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치된다.
구체적으로, 연성부재(808)는 측정 기판(101)과 너트 사이에 배치되고, 연성부재(808)는 측정 기판(101)이 직접 너트와 경성 결합하여 부재의 마모가 생기는 것을 방지하므로, 측정 기판(101)과 연결볼트(804)의 사용 수명을 연장하는데 유리하며, 측정 기판(101)과 연결볼트(804)의 연결의 안정성을 향상하는데 유리하다. 일 실시예에서, 연성부재(808)는 연성 금속으로 제조된다.
그중 하나의 실시예에서, 제1 체결부재(801), 제2 체결부재(802) 및 제3 체결부재(803)는 모두 와셔(809)를 더 포함하고, 제1 체결부재(801)의 와셔(809)는 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 제1 체결부재(801)의 연성부재(808)와 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되며; 제2 체결부재(802)의 와셔(809)는 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 제2 체결부재(802)의 연성부재(808)와 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되며; 제3 체결부재(803)의 와셔(809)는 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 제3 체결부재(803)의 연성부재(808)와 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되므로, 연성부재(808)가 받는 힘이 균일하도록 확보할 수 있다.
일 실시예에서, 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203)의 구조강도는 모두 상이하다. 구체적으로, 세 개의 연결부재의 배치된 위치는 상이하고, 각 연결부재가 받는 힘도 상이하며, 따라서, 강도의 설계를 확보하기 위해, 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203)의 구조강도는 모두 상이하고, 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203)의 구체적인 구조강도는 실제 받는 힘의 상황에 따라 구체적으로 설정할 수 있다. 일 실시예에서, 제1 연결부재(201)의 강성부재(204), 제2 연결부재(202)의 강성부재(204) 및 제3 연결부재(203)의 강성부재(204)는 경성금속 또는 경질합금으로 제조될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 노광기는 댐퍼(401)를 더 포함하되, 댐퍼(401)는 내부 지지프레임과 지면 사이에 배치되고, 댐퍼(401)는 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크(zero position long-stroke)의 중심위치에 배치된다. 일 실시예에서, 복수 개의 댐퍼(401)는 운동 테이블 시스템의 제로 길이 스트로크의 중심위치를 대칭 중심으로 하여 중심 대칭을 이루도록 배치된다.
구체적으로, 댐퍼의 레이아웃에 있어서, 댐퍼(401)가 합리하게 분포될수록, 전체 기기 내부의 지지프레임이 워킹 테이블(510)의 운동에 의해 받는 영향이 더 작고, 즉 전체 기기 내부의 지지프레임의 변형량이 더 작으므로, 대물 렌즈의 노광 성능에 대한 영향이 더 작다. 댐퍼(401)는 정적 변형이 민감한 노드 위치에 레이아웃되어야 하고, 리미트 스테이션(limit working station)이 워킹 테이블(510)의 제로 포지션의 가이드레일에 대해 상대적 변형이 가장 작도록 한다. 워킹 테이블의 하방은 환경 리턴 에어 통로의 공간 사이즈 및 댐퍼 시스템의 제어측면의 난이도 등 요소의 영향을 받으므로, 본 실시예에서, 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심위치에 댐퍼(401)를 배치하되, 복수 개의 댐퍼(401)를 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심위치를 대칭 중심으로 하여 중심 대칭을 이루도록 배치한다. 도 7, 도 8에 도시된 바와 같이, 일 실시예에서, 노광기는 일곱 개의 댐퍼(401)를 포함하고, 일곱 개의 댐퍼(401)에서, 하나의 댐퍼(401)는 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심위치에 배치되고, 기타 여섯 개의 댐퍼(401)는 세 개씩 한조로 하여 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심위치의 양측에 대칭되게 배치된다. 또한 도 9에 도시된 바와 같이, 다른 실시예에서, 노광기는 여덟 개의 댐퍼(401)를 포함하고, 여덟 개의 댐퍼(401)에서, 두 개의 댐퍼(401)는 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심선을 따라 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심위치의 양측에 대칭되게 배치되고, 기타 여섯 개의 댐퍼(401)는 세 개씩 한조로 하여 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심선의 양측에 대칭되게 배치된다.
상기 노광기는 프레임 구조가 내부로부터 외부로 세 부분, 즉 코어 노광 측정프레임, 내부 지지프레임, 외부 프레임으로 나뉘었다. 여기서, 코어 노광 측정 프레임에는 노광 시스템과 측정 시스템이 장착되고, 내부 지지프레임에는 운동 테이블 시스템이 장착되며, 코어 노광 측정 프레임과 내부 지지프레임 사이에 위치 조절컴포넌트가 배치된다. 내부 지지프레임이 운동 테이블 시스템의 운동에 따라 편이 및 변형이 발생할 경우, 위치 조절컴포넌트는 내부 지지프레임이 편이 및 변형되는 방향과 동일한 방향으로 구조 형태 변화가 발생할 수 있어, 운동 테이블 시스템과 노광 시스템의 상대적 위치를 조절하므로, 운동 테이블 시스템과 노광 시스템의 상대적 위치가 변하지 않도록 하고, 운동 테이블 시스템이 운동하는 과정에서 코어 노광 측정프레임과 내부 지지프레임의 빠른 얼라인을 구현하며, 운동 테이블 시스템과 노광 시스템의 정확한 상대적 위치를 확보하여, 프레임의 인터페이스의 정적 변형으로 인한 시스템의 오차를 방지하고, 큰 사이즈 기판의 노광 정밀도를 향상한다. 한편, 상기 노광기는 조명 시스템, 마스크 전송 시스템(703) 등을 외부 프레임에 배치하여, 이미징, 측정, 포지셔닝(positioning) 등 정밀도 수요가 높은 부재와 충분히 이격시킴으로써, 전체 기기 시스템의 보상 측정에 대한 중량의 영향을 방지할수 있으며, 더 나아가 큰 사이즈 기판의 노광 정밀도를 확보한다.
상기 실시예의 각 기술 특징은 임의로 조합될 수 있고, 설명의 간결함을 위해, 상기 실시예에서의 각 기술 특징의 모든 가능한 조합은 설명되지 않았으나, 이러한 기술 특징의 조합이 모순되지 않는 한, 모두 본 명세서에 기재된 범위로 간주되어야 한다.
101-측정 기판, 102-마스크 테이블 간섭계 지지대, 103-워킹 테이블 간섭계 지지대;
201-제1 연결부재, 202-제2 연결부재, 203-제3 연결부재, 204-강성부재, 205-압전 세라믹시트, 206-장착홈, 207-조절홀, 208-구형 위치한정홈, 209-V형 위치한정홈, 2041-위치한정평면;
301-마스크 테이블 지지대, 302-메인 기판, 303-지지 레그(support leg), 304-베이스 프레임(base frame);
401-댐퍼(damper);
501-좌측 마스크 테이블, 502-좌측 마스크 테이블 간섭계, 503-우측 마스크 테이블 간섭계, 504-우측 마스크 테이블, 505-좌측 렌즈, 506-우측 렌즈, 507-오프 축 정렬 시스템(off-axis alignment system), 508-레벨링 및 포커싱 시스템(levelling and focusing System), 509-워킹 테이블 간섭계, 510-워킹 테이블;
601-제1 컬럼, 602-제2 컬럼, 603-톱 지지대, 604-마스크 전송 지지대;
701-좌측 조명, 702-우측 조명, 703-마스크 전송 시스템, 704-제어 캐비넷(control cabinet), 705-환경 캐비넷;
801-제1 체결부재, 802-제2 체결부재, 803-제3 체결부재, 804-연결볼트, 805-제1 위치한정부재, 806-제2 위치한정부재, 807-제3 위치한정부재, 808-연성부재, 809-와셔(washer).

Claims (15)

  1. 노광 시스템, 측정 시스템 및 운동 테이블 시스템을 포함하고,
    코어 노광 측정프레임, 내부 지지프레임 및 위치 조절컴포넌트를 더 포함하되,
    상기 코어 노광 측정프레임에는 상기 노광 시스템과 상기 측정 시스템이 장착되고;
    상기 내부 지지프레임에는 상기 운동 테이블 시스템이 장착되며;
    상기 위치 조절컴포넌트는 각각 상기 코어 노광 측정프레임 및 상기 내부 지지프레임과 연결되고, 상기 내부 지지프레임이 상기 운동 테이블 시스템의 운동에 따라 변형이 발생할 경우, 상기 위치 조절컴포넌트는 구조 형태 변화가 발생할 수 있어, 상기 운동 테이블 시스템과 상기 노광 시스템의 상대적 위치가 조절되어, 상기 운동 테이블 시스템과 상기 노광 시스템의 상대적 위치가 변하지 않게 되고,
    상기 위치 조절컴포넌트는 적어도 제1 연결부재(201), 제2 연결부재(202) 및 제3 연결부재(203)를 포함하되, 상기 제1 연결부재(201), 상기 제2 연결부재(202) 및 상기 제3 연결부재(203)는 모두 강성부재(204)와 압전 세라믹시트(205)를 포함하고, 상기 강성부재(204)에는 장착홈(206)과 복수 개의 조절홀(207)이 개구되고, 상기 압전 세라믹시트(205)는 상기 장착홈(206) 내에 배치되며, 복수 개의 상기 조절홀(207)은 상기 장착홈(206)과 인접되게 배치되며,
    상기 위치 조절컴포넌트는 제1 체결부재(801), 제2 체결부재(802) 및 제3 체결부재(803)를 더 포함하되;
    상기 제1 체결부재(801)는 연결볼트(804)와 제1 위치한정부재(805)를 포함하되, 상기 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 제1 단에는 너트가 배치되고, 상기 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 제2 단은 상기 코어 노광 측정프레임을 관통하여 상기 제1 연결부재(201)의 강성부재(204)와 연결되며, 상기 제1 연결부재(201)의 강성부재(204)의 상부 표면에는 위치한정평면(2041)이 배치되고, 상기 제1 위치한정부재(805)의 제1 단은 상기 위치한정평면(2041)과 맞닿으며, 상기 제1 위치한정부재(805)의 제2 단은 상기 코어 노광 측정프레임과 맞닿으며;
    상기 제2 체결부재(802)는 연결볼트(804)와 제2 위치한정부재(806)를 포함하되, 상기 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 제1 단에는 너트가 배치되고, 상기 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 제2 단은 상기 코어 노광 측정프레임을 관통하여 상기 제2 연결부재(202)의 강성부재(204)와 연결되며, 상기 제2 연결부재(202)의 강성부재(204)의 상부 표면에는 구형 위치한정홈(208)이 개구되고, 상기 제2 위치한정부재(806)의 제1 단은 상기 구형 위치한정홈(208) 내에 삽입되며, 상기 제2 위치한정부재(806)의 제2 단은 상기 코어 노광 측정프레임과 맞닿으며;
    상기 제3 체결부재(803)는 연결볼트(804)와 제3 위치한정부재(807)를 포함하되, 상기 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 제1 단에는 너트가 배치되고, 상기 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 제2 단은 상기 코어 노광 측정프레임을 관통하여 상기 제3 연결부재(203)의 강성부재(204)와 연결되며, 상기 제3 연결부재(203)의 강성부재(204)의 상부 표면에는 V형 위치한정홈(209)이 개구되고, 상기 제3 위치한정부재(807)의 제1 단은 상기 V형 위치한정홈(209) 내에 삽입되며, 상기 제3 위치한정부재(807)의 제2 단은 상기 코어 노광 측정프레임과 맞닿는 것을 특징으로 하는 노광기.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 연결부재(201), 상기 제2 연결부재(202) 및 상기 제3 연결부재(203) 사이는 삼각형을 이루도록 레이아웃되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 위치한정부재(805)는 평판 위치한정부재인 것을 특징으로 하는 노광기.
  6. 제 1 항에 있어서,
    제2 위치한정부재(806)와 제3 위치한정부재(807)는 모두 볼 헤드 위치한정부재인 것을 특징으로 하는 노광기.
  7. 제 1 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 제1 체결부재(801), 상기 제2 체결부재(802) 및 상기 제3 체결부재(803)는 모두 연성부재(808)를 더 포함하고;
    상기 제1 체결부재(801)의 연성부재(808)는 상기 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 상기 코어 노광 측정프레임과 상기 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되고;
    상기 제2 체결부재(802)의 연성부재(808)는 상기 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 상기 코어 노광 측정프레임과 상기 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되며;
    상기 제3 체결부재(803)의 연성부재(808)는 상기 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 상기 코어 노광 측정프레임과 상기 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제1 체결부재(801), 상기 제2 체결부재(802) 및 상기 제3 체결부재(803)는 모두 와셔(809)를 더 포함하되;
    상기 제1 체결부재(801)의 와셔(809)는 상기 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 상기 제1 체결부재(801)의 연성부재(808)와 상기 제1 체결부재(801)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되고;
    상기 제2 체결부재(802)의 와셔(809)는 상기 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 상기 제2 체결부재(802)의 연성부재(808)와 상기 제2 체결부재(802)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되며;
    상기 제3 체결부재(803)의 와셔(809)는 상기 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)에 슬리빙되되 상기 제3 체결부재(803)의 연성부재(808)와 상기 제3 체결부재(803)의 연결볼트(804)의 너트 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 연결부재(201), 상기 제2 연결부재(202) 및 상기 제3 연결부재(203)의 구조 강도는 모두 상이한 것을 특징으로 하는 노광기.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 코어 노광 측정프레임은 측정 기판(101), 마스크 테이블 간섭계 지지대(102) 및 워킹 테이블 간섭계 지지대(103)를 포함하되, 상기 측정 기판(101)은 상기 위치 조절컴포넌트를 통해 상기 내부 지지프레임과 연결되고, 상기 마스크 테이블 간섭계 지지대(102)는 상기 측정 기판(101)의 상방에 배치되며, 상기 워킹 테이블 간섭계 지지대(103)는 상기 측정 기판(101)의 하방에 연결되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 내부 지지프레임은 마스크 테이블 지지대(301), 메인 기판(302), 지지 레그(303) 및 베이스 프레임(304)을 포함하되, 상기 메인 기판(302)은 상기 위치 조절컴포넌트를 통해 상기 측정 기판(101)과 연결되고, 상기 마스크 테이블 지지대(301)는 상기 메인 기판(302)의 상방에 배치되며, 상기 베이스 프레임(304)은 상기 지지 레그(303)를 통해 상기 메인 기판(302)의 하방에 연결되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 노광기는 조명 시스템과 마스크 전송 시스템(703)을 더 포함하고,
    상기 노광기는 외부 프레임을 더 포함하되, 상기 외부 프레임에는 상기 조명 시스템과 상기 마스크 전송 시스템(703)이 장착되고, 상기 코어 노광 측정프레임은 상기 외부 프레임의 내측에 배치되며, 상기 내부 지지프레임은 상기 외부 프레임과 상기 코어 노광 측정프레임 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 외부 프레임은 제1 컬럼(601), 제2 컬럼(602), 톱 지지대(603) 및 마스크 전송 지지대(604)를 포함하되, 상기 제1 컬럼(601)과 상기 제2 컬럼(602)은 각각 상기 내부 지지프레임의 양측에 배치되고, 상기 톱 지지대(603)는 각각 상기 제1 컬럼(601) 및 상기 제2 컬럼(602)과 연결되며, 상기 조명 시스템은 상기 톱 지지대(603)에 배치되고, 상기 마스크 전송 지지대(604)는 상기 제1 컬럼(601) 또는 상기 제2 컬럼(602)과 인접되게 배치되며, 상기 마스크 전송 시스템(703)은 상기 마스크 전송 지지대(604)에 배치되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  14. 제 1 항에 있어서,
    댐퍼(401)를 더 포함하되, 상기 댐퍼(401)는 상기 내부 지지프레임과 지면 사이에 배치되고, 상기 댐퍼(401)는 상기 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 노광기.
  15. 제 1 항 또는 제 14 항에 있어서,
    댐퍼(401)를 더 포함하되, 상기 댐퍼는 복수 개가 설치되고, 각 상기 댐퍼(401)는 상기 내부 지지프레임과 지면 사이에 배치되고;
    복수 개의 상기 댐퍼(401)는 운동 테이블 시스템의 제로 포지션 롱 스트로크의 중심위치를 대칭 중심으로 하여 중심 대칭을 이루도록 배치되는 것을 특징으로 하는 노광기.
KR1020217004236A 2018-07-11 2019-07-11 노광기 KR102537339B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810757869.9 2018-07-11
CN201810757869.9A CN110716391A (zh) 2018-07-11 2018-07-11 大尺寸基板曝光机
PCT/CN2019/095542 WO2020011222A1 (zh) 2018-07-11 2019-07-11 曝光机

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210034018A KR20210034018A (ko) 2021-03-29
KR102537339B1 true KR102537339B1 (ko) 2023-05-26

Family

ID=69143203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217004236A KR102537339B1 (ko) 2018-07-11 2019-07-11 노광기

Country Status (4)

Country Link
KR (1) KR102537339B1 (ko)
CN (1) CN110716391A (ko)
TW (1) TWI702479B (ko)
WO (1) WO2020011222A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112635366B (zh) * 2020-12-24 2024-03-12 江苏汇成光电有限公司 一种uv机晶圆铁框定位装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005311165A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Canon Inc アクティブマウントおよび露光装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3193586B2 (ja) * 1995-04-21 2001-07-30 キヤノン株式会社 半導体露光装置
JP3825921B2 (ja) * 1998-07-23 2006-09-27 キヤノン株式会社 走査露光装置およびデバイス製造方法
WO2002013227A1 (fr) * 2000-07-27 2002-02-14 Ebara Corporation Appareil d'analyse a faisceau plan
US7275925B2 (en) * 2001-08-30 2007-10-02 Micron Technology, Inc. Apparatus for stereolithographic processing of components and assemblies
EP3203321A1 (en) * 2004-06-10 2017-08-09 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
NL1036511A1 (nl) * 2008-02-13 2009-08-14 Asml Netherlands Bv Movable support, position control system, lithographic apparatus and method of controlling a position of an exchangeable object.
US8817236B2 (en) * 2008-05-13 2014-08-26 Nikon Corporation Movable body system, movable body drive method, pattern formation apparatus, pattern formation method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
WO2010098474A1 (ja) * 2009-02-27 2010-09-02 株式会社 ニコン 光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法及び光学素子の交換方法
CN102243440B (zh) * 2010-05-10 2014-11-12 上海微电子装备有限公司 一种能监测硅片台位置精度的光刻机
CN102608879A (zh) * 2011-01-24 2012-07-25 上海华虹Nec电子有限公司 光刻机进行工程光刻露光时的对准方法
CN102323720B (zh) * 2011-08-03 2013-03-27 河北工业大学 一种基于压电陶瓷驱动的柔性微定位平台
WO2013160082A1 (en) * 2012-04-27 2013-10-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
CN103901733B (zh) * 2012-12-28 2017-02-22 上海微电子装备有限公司 曝光装置
CN104678711B (zh) * 2013-11-26 2017-06-27 上海微电子装备有限公司 运动台反力抵消装置
CN208351246U (zh) * 2018-07-11 2019-01-08 上海微电子装备（集团）股份有限公司 大尺寸基板曝光机

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005311165A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Canon Inc アクティブマウントおよび露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210034018A (ko) 2021-03-29
TWI702479B (zh) 2020-08-21
CN110716391A (zh) 2020-01-21
WO2020011222A1 (zh) 2020-01-16
TW202006483A (zh) 2020-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6971183B2 (en) Probe head for coordinate measuring machines
CN112259488B (zh) 微动台及运动装置
CN112355990B (zh) 一种xy运动台及运动装置
CN109488721B (zh) 一种两向无角位移减振装置
CN107942622B (zh) 一种基于双柔性副的三自由度精密调节并联机构
WO1999005573A1 (en) Supporting device with gas bearing
CN103901733B (zh) 曝光装置
KR102537339B1 (ko) 노광기
CN101354537B (zh) 用于光刻设备的工件台
CN201436604U (zh) 重力补偿器
JP7154879B2 (ja) 門形構造の位置決め装置
CN103048892A (zh) 基于高度/水平姿态六维位置检测与控制的隔振平台
KR101860406B1 (ko) 대물 렌즈 지지 장치 및 포토 에칭 기기
CN208351246U (zh) 大尺寸基板曝光机
CN107797217B (zh) 投影物镜支撑装置以及光刻机设备
CN105093572A (zh) 一种lcd面板检测装置
CN219574594U (zh) 一种一维运动装置
KR20210011439A (ko) 반송 장치, 피구동 유닛, 보조 유닛 및 파렛트
CN104070518A (zh) 一种基于偏心结构的三自由度精密调节装置
US10770259B2 (en) Stage device and charged particle beam device
CN207301618U (zh) 具有位置调节功能的嵌套式支承结构
CN107329376B (zh) 具有位置调节功能的嵌套式支承结构及其用途
CN114123851A (zh) 一种六自由度调姿平台
CN210165929U (zh) 量测机台
CN103777308B (zh) 光刻机双频激光干涉仪垂向测量光路反射镜调整装置

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant