KR102526455B1 - A chamber - Google Patents

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KR102526455B1
KR102526455B1 KR1020210070638A KR20210070638A KR102526455B1 KR 102526455 B1 KR102526455 B1 KR 102526455B1 KR 1020210070638 A KR1020210070638 A KR 1020210070638A KR 20210070638 A KR20210070638 A KR 20210070638A KR 102526455 B1 KR102526455 B1 KR 102526455B1
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Abstract

일 실시예에 따른 가공물을 내측에 수용할 수 있는 챔버는, 하측에 배치되는 하부 챔버 및 상기 하부 챔버의 상측에 놓이는 상부 챔버를 포함하고, 상기 상부 챔버의 하면의 일부분과 상기 하부 챔버의 상면의 일부분은 기울어진 형상으로 형성되어 서로 맞닿을 수 있다.A chamber capable of accommodating a workpiece according to an embodiment includes a lower chamber disposed on a lower side and an upper chamber disposed on an upper side of the lower chamber, and a portion of a lower surface of the upper chamber and an upper surface of the lower chamber are formed. Some portions may be formed in an inclined shape and come into contact with each other.

Description

챔버 {A CHAMBER}chamber {A CHAMBER}

아래의 실시예들은 챔버에 관한 것이다.The embodiments below relate to chambers.

반도체, 평판 디스플레이 및 태양전지 제조에 사용되는 어닐링(annealing) 장치는 실리콘 웨이퍼나 글래스와 같은 기판 상에 증착되어 있는 소정의 필름(유기물 및 무기물)에 대하여 결정화, 상 변화 등의 공정을 위하여 필수적인 열처리를 수행하는 장치이다.The annealing device used in the manufacture of semiconductors, flat panel displays, and solar cells is an essential heat treatment for processes such as crystallization and phase change for predetermined films (organic and inorganic) deposited on substrates such as silicon wafers or glass. It is a device that performs

대표적인 어닐링 장치로는 액정 디스플레이 또는 박막형 결정질 실리콘 태양전지를 제조하는 경우 글래스 기판 상에 증착된 비정질 실리콘을 폴리 실리콘으로 결정화시키는 실리콘 결정화 장치가 있다.A typical annealing device includes a silicon crystallization device that crystallizes amorphous silicon deposited on a glass substrate into polysilicon when manufacturing a liquid crystal display or a thin film crystalline silicon solar cell.

이와 같은 결정화 공정(열처리 공정)을 수행하기 위해서는 소정의 박막 필름(이하 "필름"이라 함)이 형성되어 있는 기판의 히팅이 가능한 열처리 장치가 있어야 한다. 예를 들어, 비정질 실리콘의 결정화를 위해서는 최소한 400 내지 600℃의 온도가 필요하다.In order to perform such a crystallization process (heat treatment process), a heat treatment device capable of heating a substrate on which a predetermined thin film (hereinafter referred to as “film”) is formed is required. For example, a temperature of at least 400 to 600° C. is required for crystallization of amorphous silicon.

통상적으로 열처리 장치에는 하나의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 매엽식과 복수의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 배치식이 있다. 매엽식은 장치의 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어서 최근의 대량 생산용으로는 배치식이 각광을 받고 있다.In general, heat treatment apparatuses include a single wafer type heat treatment capable of performing heat treatment on one substrate and a batch type heat treatment capable of performing heat treatment on a plurality of substrates. The single-wafer type has the advantage of a simple device configuration, but has the disadvantage of low productivity, so the batch type has recently been in the limelight for mass production.

국내 공개 특허 공보 제2008-0069329호는 열처리 장치에 관한 기술적 사상을 개시하고 있다.Korean Patent Publication No. 2008-0069329 discloses a technical concept related to a heat treatment device.

일 실시예에 따른 목적은 분리 및 결합이 용이한 챔버를 제공하는 것이다.An object according to one embodiment is to provide a chamber that is easy to separate and combine.

일 실시예에 따른 목적은 결합 시 상부 챔버와 하부 챔버가 중력에 의하여 서로에 대해서 밀리는 현상을 방지할 수 있는 챔버를 제공하는 것이다.An object according to one embodiment is to provide a chamber capable of preventing a phenomenon in which an upper chamber and a lower chamber are pushed against each other by gravity when coupled.

일 실시예에 따른 목적은 결합 시 상부 챔버를 하부 챔버의 상측에 안정적으로 안내할 수 있는 챔버를 제공하는 것이다.An object according to one embodiment is to provide a chamber capable of stably guiding an upper chamber to an upper side of a lower chamber when coupled.

일 실시예에 따른 목적은 상부 챔버와 하부 챔버를 견고하고 밀접하게 결합시킬 수 있는 챔버를 제공하는 것이다. An object according to an embodiment is to provide a chamber capable of tightly and closely coupling an upper chamber and a lower chamber.

일 실시예에 따른 가공물을 내측에 수용할 수 있는 챔버는, 하측에 배치되는 하부 챔버 및 상기 하부 챔버의 상측에 놓이는 상부 챔버를 포함하고, 상기 상부 챔버의 하면의 일부분과 상기 하부 챔버의 상면의 일부분은 기울어진 형상으로 형성되어 서로 맞닿을 수 있다.A chamber capable of accommodating a workpiece according to an embodiment includes a lower chamber disposed on a lower side and an upper chamber disposed on an upper side of the lower chamber, and a portion of a lower surface of the upper chamber and an upper surface of the lower chamber are formed. Some portions may be formed in an inclined shape and come into contact with each other.

상기 상부 챔버의 하면에는 상부 플랜지가 형성되고, 상기 하부 챔버의 상면에는 하부 플랜지가 형성되며, 상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지는 각각 일단과 타단이 수평한 방향으로 형성되고, 일단과 타단 사이에 배치되는 부분은 기 설정된 기울기로 경사지도록 형성될 수 있다.An upper flange is formed on the lower surface of the upper chamber, and a lower flange is formed on the upper surface of the lower chamber, and the upper flange and the lower flange have one end and the other end formed in a horizontal direction, respectively, and disposed between one end and the other end. The portion to be may be formed to be inclined at a predetermined inclination.

상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 일단과 타단 사이에 배치되는 부분은, 상기 일단에서 상기 타단으로 진행될수록 하측을 향해 기울어지도록 형성될 수 있다.A portion disposed between one end and the other end of each of the upper flange and the lower flange may be formed to incline downward as it progresses from the one end to the other end.

상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 일단과 타단 사이에 배치되는 부분에는 제1 실링요소가 배치될 수 있다.A first sealing element may be disposed at a portion disposed between one end and the other end of each of the upper flange and the lower flange.

상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 일단과 타단에는 제2 실링요소가 추가적으로 배치될 수 있다.A second sealing element may be additionally disposed at one end and the other end of each of the upper flange and the lower flange.

상기 하부 챔버의 타단에는 기 설정된 간격으로 이격되어 배치되는 복수 개의 스토퍼가 형성될 수 있다. A plurality of stoppers spaced apart from each other at predetermined intervals may be formed at the other end of the lower chamber.

상기 스토퍼는 롤러 형상으로 형성될 수 있으며, 상기 스토퍼는 상기 상부 챔버를 상기 하부 챔버 상에 기 설정된 위치로 안내할 수 있으며, 상기 스토퍼는 상기 상부 챔버가 상기 하부 챔버의 상측에 놓인 경우 상기 상부 챔버가 상기 하부 챔버의 외측으로 이동되는 것을 방지할 수 있다.The stopper may be formed in a roller shape, the stopper may guide the upper chamber to a predetermined position on the lower chamber, and the stopper may cause the upper chamber when the upper chamber is placed above the lower chamber. It is possible to prevent the movement to the outside of the lower chamber.

상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 외면 상에는 기 설정된 간격으로 이격되어 배치되는 복수 개의 가이드가 형성될 수 있으며, 각각의 가이드 상에는 상부 챔버와 하부 챔버를 결합시키기 위한 각각의 클램프가 배치될 수 있다.
일 실시예에 따른 가공물을 내측에 수용할 수 있는 챔버는, 하측에 배치되는 하부 챔버 및 상기 하부 챔버의 상측에 놓이는 상부 챔버를 포함하고, 상기 상부 챔버의 하면에는 상부 플랜지가 형성되고, 상기 하부 챔버의 상면에는 하부 플랜지가 형성되며, 상기 상부 챔버의 하면의 일부분과 상기 하부 챔버의 상면의 일부분은 기울어진 형상으로 형성되어 서로 맞닿으며, 상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지 각각은, 상기 챔버의 측부 상에서 기 설정된 기울기로 경사지도록 형성되는 제1부분, 상기 챔버의 일 단부로부터 상기 챔버의 측부 상에 위치하는 상기 제1 부분의 상단부까지 수평하게 연장된 제2부분 및 상기 챔버의 타 단부로부터 상기 챔버의 측부 상에 위치하는 상기 제1 부분의 하단부까지 수평하게 연장된 제3부분을 포함할 수 있다.
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 상기 제1 부분은, 상기 제2 부분에서 상기 제3 부분으로 진행될수록 하측을 향해 기울어지도록 형성될 수 있다.
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 상기 제1 부분에는 제1 실링요소가 배치될 수 있다.
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 제2 부분 또는 제3 부분에는 제2 실링요소가 추가적으로 배치될 수 있다.
상기 하부 챔버의 상기 제3 부분에는 기 설정된 간격으로 이격되어 배치되는 복수 개의 스토퍼가 형성될 수 있다.
A plurality of guides spaced apart from each other at predetermined intervals may be formed on outer surfaces of the upper flange and the lower flange, and clamps for coupling the upper chamber and the lower chamber may be disposed on each guide.
A chamber capable of accommodating a workpiece according to an embodiment includes a lower chamber disposed on a lower side and an upper chamber disposed on an upper side of the lower chamber, an upper flange is formed on a lower surface of the upper chamber, and the lower chamber A lower flange is formed on the upper surface of the chamber, a part of the lower surface of the upper chamber and a part of the upper surface of the lower chamber are formed in an inclined shape and come into contact with each other, and each of the upper flange and the lower flange is formed on the side of the chamber. A first part formed to be inclined at a predetermined inclination on the top, a second part extending horizontally from one end of the chamber to an upper end of the first part located on the side of the chamber, and the chamber from the other end of the chamber. It may include a third portion extending horizontally to the lower end of the first portion located on the side of the.
Each of the first portion of the upper flange and the lower flange may be formed to be inclined downward as it progresses from the second portion to the third portion.
A first sealing element may be disposed on each of the first portions of the upper flange and the lower flange.
A second sealing element may be additionally disposed on the second part or the third part of each of the upper flange and the lower flange.
A plurality of stoppers spaced apart from each other at predetermined intervals may be formed in the third portion of the lower chamber.

일 실시예에 따른 챔버는 분리 및 결합이 용이할 수 있다.A chamber according to an embodiment may be easily separated and coupled.

일 실시예에 따른 챔버는 결합 시 상부 챔버와 하부 챔버가 중력에 의하여 서로에 대해서 밀리는 현상을 방지할 수 있다.When the chamber according to an embodiment is coupled, a phenomenon in which the upper chamber and the lower chamber are pushed against each other by gravity may be prevented.

일 실시예에 따른 챔버는 결합 시 상부 챔버를 하부 챔버의 상측에 안정적으로 안내할 수 있다.When coupled, the chamber according to an embodiment may stably guide the upper chamber to the upper side of the lower chamber.

일 실시예에 따른 챔버는 상부 챔버와 하부 챔버를 견고하고 밀접하게 결합시킬 수 있다.In the chamber according to an embodiment, an upper chamber and a lower chamber may be firmly and closely coupled.

도1은 일 실시예에 따른 챔버를 나타낸다.
도2는 일 실시예에 따른 챔버가 상부 챔버와 하부 챔버로 분리된 상태를 나타낸다.
도3 및 도4는 일 실시예에 따른 하부 챔버의 일부분을 상세히 나타낸다.
도5는 일 실시예에 따른 상부 챔버 및 하부 챔버 상에 형성된 가이드를 나타낸다.
도6은 일 실시예에 따른 상부 챔버 및 하부 챔버가 결합된 상태를 나타낸다.
도7은 일 실시예에 따른 상부 챔버와 하부 챔버가 서로 분리되는 과정을 상세히 나타낸다.
1 shows a chamber according to one embodiment.
Figure 2 shows a state in which the chamber is separated into an upper chamber and a lower chamber according to an embodiment.
3 and 4 show details of a portion of the lower chamber according to one embodiment.
5 shows guides formed on the upper and lower chambers according to one embodiment.
6 shows a state in which an upper chamber and a lower chamber are coupled according to an embodiment.
7 shows in detail a process in which an upper chamber and a lower chamber are separated from each other according to an embodiment.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, since various changes can be made to the embodiments, the scope of the patent application is not limited or limited by these embodiments. It should be understood that all changes, equivalents or substitutes to the embodiments are included within the scope of rights.

실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Terms used in the examples are used only for descriptive purposes and should not be construed as limiting. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as "include" or "have" are intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the art to which the embodiment belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and unless explicitly defined in the present application, they should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning. don't

또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, in the description with reference to the accompanying drawings, the same reference numerals are given to the same components regardless of reference numerals, and overlapping descriptions thereof will be omitted. In describing the embodiment, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the embodiment, the detailed description will be omitted.

또한, 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. In addition, in describing the components of the embodiment, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, order, or order of the corresponding component is not limited by the term. When an element is described as being “connected,” “coupled to,” or “connected” to another element, that element may be directly connected or connected to the other element, but there may be another element between the elements. It should be understood that may be "connected", "coupled" or "connected".

어느 하나의 실시 예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시 예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시 예에 기재한 설명은 다른 실시 예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Components included in one embodiment and components having common functions will be described using the same names in other embodiments. Unless stated to the contrary, descriptions described in one embodiment may be applied to other embodiments, and detailed descriptions will be omitted to the extent of overlap.

도1은 일 실시예에 따른 챔버를 나타내며, 도2는 일 실시예에 따른 챔버가 상부 챔버와 하부 챔버로 분리된 상태를 나타낸다. 도3 및 도4는 일 실시예에 따른 하부 챔버의 일부분을 상세히 나타낸다. 도5는 일 실시예에 따른 상부 챔버 및 하부 챔버 상에 형성된 가이드를 나타내며, 도6은 일 실시예에 따른 상부 챔버 및 하부 챔버가 결합된 상태를 나타낸다. 도7은 일 실시예에 따른 상부 챔버와 하부 챔버가 서로 분리되는 과정을 상세히 나타낸다.Figure 1 shows a chamber according to an embodiment, Figure 2 shows a state in which the chamber according to an embodiment is separated into an upper chamber and a lower chamber. 3 and 4 show details of a portion of the lower chamber according to one embodiment. Figure 5 shows a guide formed on the upper chamber and the lower chamber according to an embodiment, Figure 6 shows a state in which the upper chamber and the lower chamber are coupled according to an embodiment. 7 shows in detail a process in which an upper chamber and a lower chamber are separated from each other according to an embodiment.

도1 및 도2를 참조하면, 일 실시예에 따른 가공물을 내측에 수용할 수 있는 챔버(100)는, 하측에 배치되는 하부 챔버(110) 및 하부 챔버의 상측에 놓이는 상부 챔버(120)를 포함하고, 상부 챔버의 하면의 일부분과 하부 챔버의 상면의 일부분은 기울어진 형상으로 형성되어 서로 맞닿을 수 있다.1 and 2, the chamber 100 capable of accommodating a workpiece according to an embodiment includes a lower chamber 110 disposed on the lower side and an upper chamber 120 disposed on the upper side of the lower chamber. Including, a part of the lower surface of the upper chamber and a part of the upper surface of the lower chamber are formed in an inclined shape and may come into contact with each other.

구체적으로, 상부 챔버의 하면에는 상부 플랜지(121)가 형성되고, 하부 챔버의 상면에는 하부 플랜지(111)가 형성될 수 있다. 상부 플랜지(121) 및 하부 플랜지(111)는 각각 일단(A)과 타단(B)은 수평한 방향으로 형성되고, 일단과 타단 사이에 배치되는 부분(C)은 기 설정된 기울기로 경사지도록 형성될 수 있다.Specifically, the upper flange 121 may be formed on the lower surface of the upper chamber, and the lower flange 111 may be formed on the upper surface of the lower chamber. One end (A) and the other end (B) of the upper flange 121 and the lower flange 111 are formed in a horizontal direction, and a portion (C) disposed between one end and the other end is formed to be inclined at a predetermined inclination. can

이 때, 상부 플랜지 및 하부 플랜지의 각각의 일단과 타단 사이에 배치되는 부분(C)은, 상기 일단(A)에서 상기 타단(B)으로 진행될수록 하측을 향해 기울어지도록 형성될 수 있다.At this time, the portion (C) disposed between one end and the other end of each of the upper flange and the lower flange may be formed to be inclined downward as it progresses from the one end (A) to the other end (B).

그에 따라, 상부 챔버(120)가 하부 챔버(110)의 상측에 놓였을 때, 상부 챔버(120)는 하부 챔버(110)에 대하여 미끄러질 수 있는 구조이다. 그에 따라, 후술하는 바와 같이 하부 챔버(110)로부터 상부 챔버(120)를 분리하고자 할 때, 상부 챔버(120)를 위로 들어올릴 필요가 없으며 상부 챔버(120)를 일 측의 방향으로 이동시킴으로써 상기 상부 챔버(120)를 하부 챔버(110)로부터 분리시킬 수 있는 구조이다. Accordingly, when the upper chamber 120 is placed on top of the lower chamber 110, the upper chamber 120 has a structure that can slide with respect to the lower chamber 110. Accordingly, as will be described later, when separating the upper chamber 120 from the lower chamber 110, there is no need to lift the upper chamber 120 upward, and by moving the upper chamber 120 in one direction, It is a structure capable of separating the upper chamber 120 from the lower chamber 110 .

이 때, 상부 플랜지(121) 또는 하부 플랜지(111)의 각각의 일단과 타단 사이에 배치되는 부분(C)에는 제1 실링요소(131)가 배치될 수 있다. 나아가, 상부 플랜지 또는 하부 플랜지의 각각의 일단(A)과 타단(B)에는 제2 실링요소(132)가 추가적으로 배치될 수 있다.At this time, the first sealing element 131 may be disposed in the portion (C) disposed between one end and the other end of each of the upper flange 121 or the lower flange 111 . Furthermore, the second sealing element 132 may be additionally disposed at one end (A) and the other end (B) of the upper flange or the lower flange, respectively.

일 예로서, 도3을 참조하면, 하부 챔버(110)의 하부 플랜지(111)의 일단과 타단 사이에 배치되는 부분(C)에는 제1 실링요소(131)가 배치될 수 있다. 이와 대응되도록, 상부 챔버의 상부 플랜지의 일단과 타단 사이에 배치되는 부분에도 제1 실링요소가 배치될 수 있다. As an example, referring to FIG. 3 , a first sealing element 131 may be disposed in a portion C disposed between one end and the other end of the lower flange 111 of the lower chamber 110 . Correspondingly, the first sealing element may also be disposed in a portion disposed between one end and the other end of the upper flange of the upper chamber.

나아가, 추가적으로 도4와 같이 하부 챔버(110)의 하부 플랜지(111)의 일단과 타단 사이에 배치되는 부분(C) 뿐만 아니라 타단(B)에 해당하는 부분에도 제2 실링요소(132)가 배치될 수 있다.Furthermore, as shown in FIG. 4, the second sealing element 132 is disposed not only in the portion C disposed between one end and the other end of the lower flange 111 of the lower chamber 110 but also in the portion corresponding to the other end B. It can be.

이와 유사하게 하부 챔버(110)의 하부 플랜지(111)의 일단(A)에 해당하는 부분에도 제2 실링요소가 배치될 수 있을 것이며, 상부 챔버의 상부 플랜지의 일단 또는 타단에도 추가적으로 제2 실링요소가 배치될 수 있음은 당연하다. Similarly, a second sealing element may also be disposed at a portion corresponding to one end (A) of the lower flange 111 of the lower chamber 110, and an additional second sealing element may be added to one or the other end of the upper flange of the upper chamber. It goes without saying that can be placed.

이와 같은 구조를 통하여, 상부 플랜지 또는 하부 플랜지 상의 실링요소를 삽입하기 위한 공정에서 가공의 난이도를 조절할 수 있으며 상기 구조를 도출하기 위한 제조 비용을 절감시킬 수 있다. Through this structure, it is possible to adjust the difficulty of processing in a process for inserting the sealing element on the upper flange or the lower flange, and it is possible to reduce the manufacturing cost for deriving the structure.

뿐만 아니라, 상부 플랜지 또는 하부 플랜지 상에는 가공의 용이성을 높이고 제조 공정에서의 뒤틀림 현상을 방지하기 위하여 각각의 부분에 다양한 형상의 홀이 형성될 수 있다.In addition, holes of various shapes may be formed on each part of the upper flange or the lower flange to increase ease of processing and prevent distortion in the manufacturing process.

도5를 참조하면, 하부 챔버(110)의 타단에는 기 설정된 간격으로 이격되어 배치되는 복수 개의 스토퍼(140)가 형성될 수 있다. 또한, 하부 플랜지(111) 및 상부 플랜지(121)의 외면 상에는 기 설정된 간격으로 이격되어 배치되는 복수 개의 가이드(150)가 형성될 수 있으며, 각각의 가이드(150) 상에는 상부 챔버와 하부 챔버를 결합시키기 위한 각각의 클램프(160)가 배치될 수 있다. Referring to FIG. 5 , a plurality of stoppers 140 spaced apart from each other at predetermined intervals may be formed at the other end of the lower chamber 110 . In addition, a plurality of guides 150 spaced apart from each other at predetermined intervals may be formed on outer surfaces of the lower flange 111 and the upper flange 121, and the upper chamber and the lower chamber are coupled to each guide 150. Each clamp 160 for doing may be disposed.

즉, 상기 가이드(150)는 클램프(160)가 기 설정된 위치에 부착될 수 있도록 상기 클램프를 안내하는 역할을 수행한다.That is, the guide 150 serves to guide the clamp so that the clamp 160 can be attached to a predetermined position.

아울러, 상기 스토퍼(140)는 롤러 형상으로 형성될 수 있다. 구체적으로, 스토퍼(140)는 하나 이상의 롤러(141), 하나 이상의 롤러(141)를 관통하여 배치되는 회전축(142) 및 상기 롤러(141)와 회전축(142)을 수용하는 프레임(143)으로 구성될 수 있다. 또한, 스토퍼(140)는 롤러의 전방에 배치되는 롤러플레이트(144)를 포함할 수 있다. In addition, the stopper 140 may be formed in a roller shape. Specifically, the stopper 140 is composed of one or more rollers 141, a rotating shaft 142 disposed through the one or more rollers 141, and a frame 143 accommodating the rollers 141 and the rotating shaft 142 It can be. In addition, the stopper 140 may include a roller plate 144 disposed in front of the roller.

도6을 참조하면, 상기와 같은 구조를 지닌 스토퍼(140)는 상부 챔버(120)를 하부 챔버(110) 상에 기 설정된 위치로 안정적으로 안내할 수 있다.Referring to FIG. 6 , the stopper 140 having the above structure can stably guide the upper chamber 120 to a predetermined position on the lower chamber 110 .

또한, 상기 스토퍼는 상부 챔버와 하부 챔버 결합 시, 상부 챔버에 직접적인 손상을 방지하고 롤러플레이트와 같은 구성적인 요소만에 손상이 가해지도록 함으로써, 전체적인 설비의 내구성을 향상시키고 유지 보수의 비용을 절감시킬 수 있다.In addition, when the upper chamber and the lower chamber are coupled, the stopper prevents direct damage to the upper chamber and only damages component elements such as roller plates, thereby improving the durability of the overall equipment and reducing maintenance costs. can

나아가, 스토퍼는 상부 챔버가 하부 챔버의 상측에 놓인 상태에서 진공 상태 유지를 위한 펌핑 작용에 의하여 챔버의 수축 팽창 현상에 기인하여 상부 챔버가 하부 챔버의 외측으로 밀리는 현상을 방지할 수 있다.Furthermore, the stopper may prevent the upper chamber from being pushed outward of the lower chamber due to contraction and expansion of the chamber by a pumping action for maintaining a vacuum state in a state in which the upper chamber is placed above the lower chamber.

이와 같은 작용은 궁극적으로 챔버의 밀림 현상으로 인한 리크 포인트(Leak point) 발생을 억제하며 실링요소 (예를 들면, O-ring)에 대한 편하중을 감쇄 해주는 효과를 도출할 수 있다.This action ultimately suppresses the occurrence of a leak point due to the pushing of the chamber and can lead to an effect of attenuating the eccentric load on the sealing element (eg, O-ring).

또한, 상부 챔버와 하부 챔버를 견고하기 결합시키기 위하여 복수 개의 가이드 상에는 각각 클램프(160)가 장착될 수 있다.In addition, clamps 160 may be mounted on each of the plurality of guides in order to firmly couple the upper chamber and the lower chamber.

도7을 참조하면, 상기와 같은 구조를 지니는 챔버를 이용함으로써 상부 챔버(120)를 하부 챔버(110)로부터 분리하고자 할 경우 상부 챔버(120)를 하부 챔버(110)로부터 이격시키기 위하여 무리하게 상측 방향으로 들어 올릴 필요가 없다.Referring to FIG. 7, when the upper chamber 120 is to be separated from the lower chamber 110 by using a chamber having the above structure, the upper chamber 120 is separated from the lower chamber 110 by forcible upper chamber 120. No need to lift in any direction.

즉, 도7의 (a)와 같이 상부 챔버(120)를 하부 챔버(110)의 측 방향으로 이동시킴으로써 도7의 (b)와 같이 상부 챔버(120)와 하부 챔버(110)를 안정적으로 분리시킬 수 있다. That is, by moving the upper chamber 120 to the side of the lower chamber 110 as shown in (a) of FIG. 7, the upper chamber 120 and the lower chamber 110 are stably separated as shown in (b) of FIG. can make it

상기에서 설명한 구성들을 포함하는 챔버는 분리 및 결합이 용이할 수 있으며, 결합 시 상부 챔버와 하부 챔버가 중력 및 펌핑에 의한 밀림 현상에 의하여 서로에 대해서 밀리는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 나아가, 상기 챔버는 결합 시 상부 챔버를 하부 챔버의 상측에 안정적으로 안내할 수 있으며, 상부 챔버와 하부 챔버를 견고하고 밀접하게 결합시킬 수 있다.The chamber including the configurations described above can be easily separated and coupled, and when coupled, the upper chamber and the lower chamber can be effectively prevented from being pushed against each other by gravity and pumping. Furthermore, when the chamber is coupled, the upper chamber can be stably guided to the upper side of the lower chamber, and the upper chamber and the lower chamber can be firmly and closely coupled.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.As described above, although the embodiments have been described with limited drawings, those skilled in the art can apply various technical modifications and variations based on the above. For example, the described techniques may be performed in an order different from the method described, and/or components of the described system, structure, device, circuit, etc. may be combined or combined in a different form than the method described, or other components may be used. Or even if it is replaced or substituted by equivalents, appropriate results can be achieved.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents of the claims are within the scope of the following claims.

100 : 챔버
110 : 하부 챔버
120 : 상부 챔버
131 : 제1 실링요소
132 : 제2 실링요소
140 : 스토퍼
150 : 가이드
160 : 클램프
100: chamber
110: lower chamber
120: upper chamber
131: first sealing element
132: second sealing element
140: stopper
150: Guide
160: clamp

Claims (8)

가공물을 내측에 수용할 수 있는 챔버에 있어서,
상기 챔버는,
하측에 배치되는 하부 챔버; 및
상기 하부 챔버의 상측에 놓이는 상부 챔버;
를 포함하고,
상기 상부 챔버의 하면에는 상부 플랜지가 형성되고,
상기 하부 챔버의 상면에는 하부 플랜지가 형성되며,
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지 각각은,
상기 챔버의 측부 상에서 기 설정된 기울기로 경사지도록 형성되는 제1부분;
상기 챔버의 일 단부로부터 상기 챔버의 측부 상에 위치하는 상기 제1 부분의 상단부까지 수평하게 연장된 제2부분; 및
상기 챔버의 타 단부로부터 상기 챔버의 측부 상에 위치하는 상기 제1 부분의 하단부까지 수평하게 연장된 제3부분;
을 포함하는, 챔버.

In the chamber that can accommodate the workpiece inside,
the chamber,
a lower chamber disposed on the lower side; and
an upper chamber placed above the lower chamber;
including,
An upper flange is formed on a lower surface of the upper chamber,
A lower flange is formed on the upper surface of the lower chamber,
Each of the upper flange and the lower flange,
a first portion formed to be inclined at a predetermined inclination on a side of the chamber;
a second part extending horizontally from one end of the chamber to an upper end of the first part located on a side of the chamber; and
a third portion extending horizontally from the other end of the chamber to a lower end of the first portion located on a side of the chamber;
Including, chamber.

제1항에 있어서,
상기 상부 플랜지 또는 상기 하부 플랜지 상에는 홀이 형성되는, 챔버.
According to claim 1,
A hole is formed on the upper flange or the lower flange.
제2항에 있어서,
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 상기 제1 부분은, 상기 제2 부분에서 상기 제3 부분으로 진행될수록 하측을 향해 기울어지도록 형성되는, 챔버.
According to claim 2,
The first portion of each of the upper flange and the lower flange is formed to be inclined downward as it progresses from the second portion to the third portion.
제3항에 있어서,
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 상기 제1 부분에는 제1 실링요소가 배치될 수 있는, 챔버.
According to claim 3,
A first sealing element may be disposed on the first portion of each of the upper flange and the lower flange.
제4항에 있어서,
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 각각의 상기 제2 부분 또는 상기 제3 부분에는 제2 실링요소가 추가적으로 배치될 수 있는, 챔버.
According to claim 4,
A second sealing element may be additionally disposed on the second portion or the third portion of each of the upper flange and the lower flange.
제3항에 있어서,
상기 하부 챔버의 상기 제3 부분에는 기 설정된 간격으로 이격되어 배치되는 복수 개의 스토퍼가 형성될 수 있는, 챔버.
According to claim 3,
A plurality of stoppers spaced apart from each other at predetermined intervals may be formed in the third portion of the lower chamber.
제6항에 있어서,
상기 스토퍼는 롤러 형상으로 형성될 수 있으며,
상기 스토퍼는 상기 상부 챔버를 상기 하부 챔버 상에 기 설정된 위치로 안내할 수 있으며,
상기 스토퍼는 상기 상부 챔버가 상기 하부 챔버의 상측에 놓인 경우 상기 상부 챔버가 상기 하부 챔버의 외측으로 이동되는 것을 방지할 수 있는, 챔버.
According to claim 6,
The stopper may be formed in a roller shape,
The stopper may guide the upper chamber to a predetermined position on the lower chamber,
Wherein the stopper is capable of preventing the upper chamber from moving to the outside of the lower chamber when the upper chamber is placed above the lower chamber.
제3항에 있어서,
상기 상부 플랜지 및 상기 하부 플랜지의 외면 상에는 기 설정된 간격으로 이격되어 배치되는 복수 개의 가이드가 형성될 수 있으며,
각각의 가이드 상에는 상부 챔버와 하부 챔버를 결합시키기 위한 각각의 클램프가 배치될 수 있는, 챔버.
According to claim 3,
A plurality of guides spaced apart from each other at predetermined intervals may be formed on outer surfaces of the upper flange and the lower flange,
A chamber, wherein a respective clamp for coupling the upper chamber and the lower chamber may be disposed on each guide.
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