KR102509228B1 - 알킬아렌 화합물 및 이의 제조방법 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 title description 2
- -1 alkyl arene compound Chemical class 0.000 claims abstract description 220
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 32
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 24
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 20
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N Tetrahydroanthracene Natural products C1=CC=C2C=C(CCCC3)C3=CC2=C1 XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims abstract description 10
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims abstract description 10
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 claims abstract description 10
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- AFWPDDDSTUNFBP-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-7-thiabicyclo[4.1.0]hepta-2,4-diene Chemical compound S1C2C=CC=CC12C1=CC=CC=C1 AFWPDDDSTUNFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N biphenyl ether Natural products C1=C(CC=C)C(O)=CC(OC=2C(=CC(CC=C)=CC=2)O)=C1 ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N thioanisole Chemical compound CSC1=CC=CC=C1 HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000006836 terphenylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 47
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 43
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 38
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 26
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 5
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 claims description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 abstract description 22
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 238000003547 Friedel-Crafts alkylation reaction Methods 0.000 abstract description 15
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 69
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 34
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 33
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 33
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 32
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 30
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 29
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N Trichloro(chloromethyl)silane Chemical compound ClC[Si](Cl)(Cl)Cl FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 6
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 4
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N isopropyl chloride Chemical compound CC(C)Cl ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 4
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- FLPXNJHYVOVLSD-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-chloroethyl)silane Chemical compound ClCC[Si](Cl)(Cl)Cl FLPXNJHYVOVLSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 1-chlorohexane Chemical compound CCCCCCCl MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LGAJYTCRJPCZRJ-UHFFFAOYSA-N 2-bromopentane Chemical compound CCCC(C)Br LGAJYTCRJPCZRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCl CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GLCIPJOIEVLTPR-UHFFFAOYSA-N 2-chlorohexane Chemical compound CCCCC(C)Cl GLCIPJOIEVLTPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IQRUSQUYPCHEKN-UHFFFAOYSA-N 2-iodobutane Chemical compound CCC(C)I IQRUSQUYPCHEKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPGPAVAKSZHMBP-UHFFFAOYSA-N 9-methylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 CPGPAVAKSZHMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- HASCQPSFPAKVEK-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)phosphine Chemical compound CP(C)C1=CC=CC=C1 HASCQPSFPAKVEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229920005555 halobutyl Polymers 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 1-bromobutane Chemical compound CCCCBr MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 1-bromooctane Chemical compound CCCCCCCCBr VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIMMUPPBPVKWKM-UHFFFAOYSA-N 2-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C)=CC=C21 QIMMUPPBPVKWKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 2
- FFWOLLVEZCCTGK-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)phosphanium chloride Chemical compound [Cl-].C[PH+](C)CC1=CC=CC=C1 FFWOLLVEZCCTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 2
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- RKSOPLXZQNSWAS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl bromide Chemical compound CC(C)(C)Br RKSOPLXZQNSWAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical group CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZJNURIGQZYVBQ-UHFFFAOYSA-M (4-ethylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(CC)=CC=C1C[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZJNURIGQZYVBQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)C(C)=CC=C21 QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBGBMDNBHHELTJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylperylene Chemical group C1=CC(C2=C(C(C)=CC=3C2=C2C=CC=3)C)=C3C2=CC=CC3=C1 CBGBMDNBHHELTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRMDNMCLOTYRPK-UHFFFAOYSA-N 1,6-dimethylpyrene Chemical compound C1=C2C(C)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=C(C)C=CC2=C1 ZRMDNMCLOTYRPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYARQDPKFKTFCV-UHFFFAOYSA-N 1,6-diphenylpyrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=C2)C3=C4C2=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC4=CC=C13 AYARQDPKFKTFCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWCFXYMSEGQWNB-UHFFFAOYSA-N 1-Methyl-4-(1-methylpropyl)-benzene Chemical compound CCC(C)C1=CC=C(C)C=C1 LWCFXYMSEGQWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMSJFSOOQERIO-UHFFFAOYSA-N 1-bromodecane Chemical compound CCCCCCCCCCBr MYMSJFSOOQERIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSXKDWGTSHCFPP-UHFFFAOYSA-N 1-bromoheptane Chemical compound CCCCCCCBr LSXKDWGTSHCFPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 1-bromohexane Chemical compound CCCCCCBr MNDIARAMWBIKFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYMUQTNXKPEMLM-UHFFFAOYSA-N 1-bromononane Chemical compound CCCCCCCCCBr AYMUQTNXKPEMLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 1-bromopentane Chemical compound CCCCCBr YZWKKMVJZFACSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 1-bromopropane Chemical compound CCCBr CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URGSMJLDEFDWNX-UHFFFAOYSA-N 1-butylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCCC)=CC=CC2=C1 URGSMJLDEFDWNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTEHOZMYMCEYRM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCl ZTEHOZMYMCEYRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZMDPHNGKBEVRE-UHFFFAOYSA-N 1-chloroheptane Chemical compound CCCCCCCCl DZMDPHNGKBEVRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKAMCQVGHFRILV-UHFFFAOYSA-N 1-chlorononane Chemical compound CCCCCCCCCCl RKAMCQVGHFRILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 1-chlorooctane Chemical compound CCCCCCCCCl CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloropentane Chemical compound CCCCCCl SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTCXASATDXTJID-UHFFFAOYSA-N 1-hexan-2-yl-4-phenylbenzene Chemical group C1=CC(C(C)CCCC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 RTCXASATDXTJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRPVQXPWEVJKTN-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-4-phenylbenzene Chemical group C1=CC(CCCCCC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XRPVQXPWEVJKTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKIDNYUZJPMKFC-UHFFFAOYSA-N 1-iododecane Chemical compound CCCCCCCCCCI SKIDNYUZJPMKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMHCYRULPLGEEZ-UHFFFAOYSA-N 1-iodoheptane Chemical compound CCCCCCCI LMHCYRULPLGEEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANOOTOPTCJRUPK-UHFFFAOYSA-N 1-iodohexane Chemical compound CCCCCCI ANOOTOPTCJRUPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGSJMFCWOUHXHN-UHFFFAOYSA-N 1-iodononane Chemical compound CCCCCCCCCI OGSJMFCWOUHXHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWLHSHAHTBJTBA-UHFFFAOYSA-N 1-iodooctane Chemical compound CCCCCCCCI UWLHSHAHTBJTBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLXSFCHWMBESKV-UHFFFAOYSA-N 1-iodopentane Chemical compound CCCCCI BLXSFCHWMBESKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJYHJSDLCIIUDH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-pentan-2-ylbenzene Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(C)C=C1 JJYHJSDLCIIUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMPBFICDXLLSRM-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C(C)C)=CC=CC2=C1 PMPBFICDXLLSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNQXNPJUVRNWKY-UHFFFAOYSA-N 2,7-dibenzylpyrene Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)C=1C=C2C=CC3=CC(=CC4=CC=C(C=1)C2=C43)CC1=CC=CC=C1 DNQXNPJUVRNWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSKHIRFMTJUBSM-UHFFFAOYSA-N 2,7-dimethylpyrene Chemical compound C1=C(C)C=C2C=CC3=CC(C)=CC4=CC=C1C2=C43 GSKHIRFMTJUBSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPSXAPQYNGXVBF-UHFFFAOYSA-N 2-bromobutane Chemical compound CCC(C)Br UPSXAPQYNGXVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLAUCEOFCOXKNF-UHFFFAOYSA-N 2-bromoheptane Chemical compound CCCCCC(C)Br HLAUCEOFCOXKNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEBYCXAKZCQWAW-UHFFFAOYSA-N 2-bromohexane Chemical compound CCCCC(C)Br NEBYCXAKZCQWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAMYKGVDVNBCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-bromopropane Chemical compound CC(C)Br NAMYKGVDVNBCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSPCSKHALVHRSR-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobutane Chemical compound CCC(C)Cl BSPCSKHALVHRSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCCl)(OCC)OCC IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTSLUOSUHFGQHV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroheptane Chemical compound CCCCCC(C)Cl PTSLUOSUHFGQHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFRKUDYZEVQXTE-UHFFFAOYSA-N 2-chloropentane Chemical compound CCCC(C)Cl NFRKUDYZEVQXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANGGPYSFTXVERY-UHFFFAOYSA-N 2-iodo-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)I ANGGPYSFTXVERY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAUTWECDRZFXMN-UHFFFAOYSA-N 2-iodoheptane Chemical compound CCCCCC(C)I QAUTWECDRZFXMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCEDNORUDUKWGK-UHFFFAOYSA-N 2-iodohexane Chemical compound CCCCC(C)I XCEDNORUDUKWGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUPBFIYJUCWJCT-UHFFFAOYSA-N 2-iodopentane Chemical compound CCCC(C)I JUPBFIYJUCWJCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXGRHDNPJDFJSR-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-propan-2-ylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C(C)C)=C(C)C=CC2=C1 QXGRHDNPJDFJSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZHWYYWPJIVLRW-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylpyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC(C(C)C)=CC4=CC=C1C2=C43 MZHWYYWPJIVLRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYMGBIYWAZRPJY-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylpyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC(C(C)(C)C)=CC4=CC=C1C2=C43 AYMGBIYWAZRPJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOZOJWNUKLCDML-UHFFFAOYSA-N 3-bromohexane Chemical compound CCCC(Br)CC IOZOJWNUKLCDML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXSMMAVTEURRGG-UHFFFAOYSA-N 3-chlorohexane Chemical compound CCCC(Cl)CC BXSMMAVTEURRGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXBZFMBAFVYFMM-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCl NXBZFMBAFVYFMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFCIRPRPWWLXQT-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCl RFCIRPRPWWLXQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRPZYLYHEUDEKT-UHFFFAOYSA-N 6-octylpentacene Chemical compound CCCCCCCCc1c2cc3ccccc3cc2cc2cc3ccccc3cc12 DRPZYLYHEUDEKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTGMTYWYUZDRBK-UHFFFAOYSA-N 9,10-dimethylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=C(C=CC=C3)C3=C(C)C2=C1 JTGMTYWYUZDRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIRVQSRSPDUEOJ-UHFFFAOYSA-N 9-bromoanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(Br)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 ZIRVQSRSPDUEOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMQBLFKOXFGELX-UHFFFAOYSA-N 9-hexan-2-ylanthracene Chemical compound CC(CCCC)C=1C2=CC=CC=C2C=C2C=CC=CC=12 XMQBLFKOXFGELX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HALVYXMZJKFMOV-UHFFFAOYSA-N 9-tert-butyl-10-methylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=C(C=CC=C3)C3=C(C(C)(C)C)C2=C1 HALVYXMZJKFMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHZWZBEAXASKA-UHFFFAOYSA-N Anthron Natural products COc1cc2Cc3cc(C)cc(O)c3C(=O)c2c(O)c1C=CC(C)C FIHZWZBEAXASKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001120493 Arene Species 0.000 description 1
- SSOPWNHKTANWJX-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(C1=CC2=CC=C3C=C(C=C4C=CC(=C1)C2=C43)C(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C1=CC2=CC=C3C=C(C=C4C=CC(=C1)C2=C43)C(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 SSOPWNHKTANWJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRNRIBGEWPZQF-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2C=CC3=CC(=CC4=CC=C1C2=C34)C(CC)C Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC(=CC4=CC=C1C2=C34)C(CC)C WVRNRIBGEWPZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQBZXBWRWFTNJQ-UHFFFAOYSA-N CC(C)CC1=CC=CC2=C1C=CC=C2CC(C)C Chemical compound CC(C)CC1=CC=CC2=C1C=CC=C2CC(C)C DQBZXBWRWFTNJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDFFQISEKNMFKS-UHFFFAOYSA-N ClC(C1=C2C=CC=CC2=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)(Cl)Cl Chemical compound ClC(C1=C2C=CC=CC2=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)(Cl)Cl NDFFQISEKNMFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- QZUPHAGRBBOLTB-UHFFFAOYSA-N NSC 244302 Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 QZUPHAGRBBOLTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- VTBRMSJILYGZKX-UHFFFAOYSA-N [I+].C(CCC)[P+](CCCC)(CCCC)CCCC Chemical compound [I+].C(CCC)[P+](CCCC)(CCCC)CCCC VTBRMSJILYGZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QEQNFXYUEWELJM-UHFFFAOYSA-N anthracen-9-ylmethyl(trichloro)silane Chemical compound C1=CC=C2C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 QEQNFXYUEWELJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYACHFREFVBDRB-UHFFFAOYSA-N anthracen-9-ylmethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=1C2=CC=CC=C2C=C2C=CC=CC=12 XYACHFREFVBDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- UZCPNEBHTFYJNY-UHFFFAOYSA-N benzyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UZCPNEBHTFYJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCHPXAFAEZGCMB-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 WCHPXAFAEZGCMB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- KMGBZBJJOKUPIA-UHFFFAOYSA-N butyl iodide Chemical compound CCCCI KMGBZBJJOKUPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCl ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCl OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLLBUISUZEUMW-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(CCl)OCC XGLLBUISUZEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXZMFKUGAPMMCJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(CCl)OC ZXZMFKUGAPMMCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGMQAYXTTRYCPZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCl IGMQAYXTTRYCPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCSLOBFDVTWIBL-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)CCl ZCSLOBFDVTWIBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N chlorophosphane Chemical compound ClP USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- ZXKWUYWWVSKKQZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C1CCCCC1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZXKWUYWWVSKKQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVIDIZXCFDHODG-UHFFFAOYSA-N cyclopentylphosphane Chemical compound PC1CCCC1 DVIDIZXCFDHODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- DBWSTBGNSJEPFT-UHFFFAOYSA-N dichloro-(2-chloroethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCl DBWSTBGNSJEPFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N dichloro-(chloromethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCl JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPLLTGLLUHLIHA-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl(phenyl)phosphane Chemical compound C1CCCCC1P(C=1C=CC=CC=1)C1CCCCC1 VPLLTGLLUHLIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLZAIAIZAVMQIG-UHFFFAOYSA-N diphenyl(propan-2-yl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C(C)C)C1=CC=CC=C1 LLZAIAIZAVMQIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBGICSFDKZAWFJ-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(2,2-dimethylpropyl)phosphane Chemical compound CC(C)(C)CP(C(C)(C)C)C(C)(C)C JBGICSFDKZAWFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JURBTQKVGNFPRJ-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(methyl)phosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C)C(C)(C)C JURBTQKVGNFPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJNEFQLMRCOMS-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(phenyl)phosphane Chemical compound CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 XOJNEFQLMRCOMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007336 electrophilic substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- WUOIAOOSKMHJOV-UHFFFAOYSA-N ethyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CC)C1=CC=CC=C1 WUOIAOOSKMHJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- BBFLFLISKBFBEU-UHFFFAOYSA-M hexyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCCCC)C1=CC=CC=C1 BBFLFLISKBFBEU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910001504 inorganic chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBFPMKWQKYFLR-UHFFFAOYSA-N isobutyl chloride Chemical compound CC(C)CCl QTBFPMKWQKYFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXUHSQYYJYAXGZ-UHFFFAOYSA-N isobutylbenzene Chemical compound CC(C)CC1=CC=CC=C1 KXUHSQYYJYAXGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMKOJHQHASLBPH-UHFFFAOYSA-N isopropyl iodide Chemical compound CC(C)I FMKOJHQHASLBPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C)C1=CC=CC=C1 UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVWOIHVRPOBWPI-UHFFFAOYSA-N n-propyl iodide Chemical compound CCCI PVWOIHVRPOBWPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MQYZHXLHUNLBQH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dicyclohexyl)phosphane Chemical compound C1CCCCC1P(C(C)(C)C)C1CCCCC1 MQYZHXLHUNLBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FBOJNMRAZJRCNS-UHFFFAOYSA-M tetraethylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[P+](CC)(CC)CC FBOJNMRAZJRCNS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C[P+](C)(C)C ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QKKAIQMSVVBXBA-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-pentacen-6-ylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](CCC1=C2C=C3C=CC=CC3=CC2=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)(Cl)Cl QKKAIQMSVVBXBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRIFLPSARBTFLF-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-tetracen-5-ylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](CCC1=C2C=CC=CC2=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)(Cl)Cl IRIFLPSARBTFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYCCZVNUTVCAJF-UHFFFAOYSA-N trichloro(6-chlorohexyl)silane Chemical compound ClCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl HYCCZVNUTVCAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSFCLSALIGPEOS-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-methylphenyl)methyl]silane Chemical compound CC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 CSFCLSALIGPEOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQGKNNROULCJMF-UHFFFAOYSA-N trichloro-[2-(10-methylanthracen-9-yl)ethyl]silane Chemical compound Cl[Si](CCC=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC=12)C)(Cl)Cl OQGKNNROULCJMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPJVCUQJDVDFF-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[5-(trichlorosilylmethyl)naphthalen-1-yl]methyl]silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC2=C(C=CC=C12)C[Si](Cl)(Cl)Cl WUPJVCUQJDVDFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGNTWNVBGLNYDV-UHFFFAOYSA-N triisopropylphosphine Chemical compound CC(C)P(C(C)C)C(C)C IGNTWNVBGLNYDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXPRHKXQKJZNRX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-naphthalen-1-ylethyl)silane Chemical compound C1=CC=C2C(CC[Si](OC)(OC)OC)=CC=CC2=C1 MXPRHKXQKJZNRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTJHVHZMRGODDL-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-perylen-3-ylethyl)silane Chemical group CO[Si](CCC=1C=CC=2C=3C=CC=C4C=CC=C(C5=CC=CC=1C5=2)C4=3)(OC)OC GTJHVHZMRGODDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIVCPFIIRHXSMF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(pentacen-6-ylmethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC1=C2C=C3C=CC=CC3=CC2=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 PIVCPFIIRHXSMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJNMPXSMNCNDHD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[(4-phenoxyphenyl)methyl]silane Chemical compound C1=CC(C[Si](OC)(OC)OC)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 XJNMPXSMNCNDHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTRSBMGPBAWRGY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[[10-(trimethoxysilylmethyl)anthracen-9-yl]methyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC=12)C[Si](OC)(OC)OC PTRSBMGPBAWRGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N tripropylphosphane Chemical compound CCCP(CCC)CCC KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
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Abstract
본 발명은 프리델-크래프트 알킬화 반응으로 합성되는 알킬아렌 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 알킬아렌 화합물은 화학식 3으로 표시되는 알킬아렌 화합물로
화학식 3:
상기에서 R1= 탄소수가 1~10인 알킬기 또는 (CH2)qSi(R3)p(OR4)3-p(q=1~10, R3= Cl 또는 CH3, p=0, 1, 2, 3, R4= CH3 또는 C2H5); n= 0, 1, 2 또는 3; Ar= 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 바이페닐, 터페닐렌, 안트론, 안트라퀴논, 피렌, 페난트란센, 퍼릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 아니솔, 플루오렌, 아니솔, 사이오아니솔, 테트라센, 펜타센 및 고리가 1~8개인 아로마틱 화합물; R2= 탄소수 1~8개의 알킬기나 페닐기를 포함하는 알킬기; l= 0, 1, 2, 3 또는 4; 그리고 m= 1, 2 또는 3이 된다.
화학식 3:
상기에서 R1= 탄소수가 1~10인 알킬기 또는 (CH2)qSi(R3)p(OR4)3-p(q=1~10, R3= Cl 또는 CH3, p=0, 1, 2, 3, R4= CH3 또는 C2H5); n= 0, 1, 2 또는 3; Ar= 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 바이페닐, 터페닐렌, 안트론, 안트라퀴논, 피렌, 페난트란센, 퍼릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 아니솔, 플루오렌, 아니솔, 사이오아니솔, 테트라센, 펜타센 및 고리가 1~8개인 아로마틱 화합물; R2= 탄소수 1~8개의 알킬기나 페닐기를 포함하는 알킬기; l= 0, 1, 2, 3 또는 4; 그리고 m= 1, 2 또는 3이 된다.
Description
본 발명은 프리델-크래프트 알킬화 반응으로 합성되는 알킬아렌 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이고, 구체적으로 유기포스핀 화합물을 촉매로 알킬할라이드 화합물과 아로마틱 화합물의 프리델-크래프트 알킬화 반응으로 합성되는 알킬아렌 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
아로마틱 화합물에 유기 치환기를 도입시키는 프리델-크래프트 알킬화반응은 유기합성에서 매우 중요한 반응으로 1세기 넘게 널리 사용되고 있다(Roberts, Royston M; Khalaf, Ali, Friedel-Crafts Alkylation Chemistry, Marcel Dekker, Inc., New York, New York, USA, 1984).이러한 프리델-크래프트 반응은 반드시 루이스산 촉매가 필요한 것으로 알려져 있으며 알루미늄, 보론, 철 등의 무기 염화물이 사용된다. 프리델-크래프트 알킬화 반응은 촉매인 보론 트리클로라이드나 알루미늄 트리클로라이드와 같은 루이스산이 알킬할라이드 화합물의 할라이드를 끌어들이는 단계 및 보론이나 알루미늄 테트라클로라드 음이온이 생기면서 알킬 양이온을 형성시켜 전자밀도가 높은 아렌에 친전자성 치환반응으로 알킬화시키는 단계로 이루어진다. 그러나 루이스산은 페닐기가 많은 시작 물질이 사용되거나 생성물에 페닐기가 많은 경우에는 이들과 쉽게 배위결합을 하므로 반응 후에 반응물로부터 제거가 쉽지 않다. 그러므로 벤젠을 벤질클로라이드와 프리델-크래프트 알킬화반응으로 디페닐메탄을 합성할 때 무기물 고체인 산성 실리카를 루이스산 촉매의 담체로 사용하여 반응 후에 촉매의 제거가 용이하다고 알려져 있다(Selvaraj, M.; Lee, T. G. Journal of Molecular Catalysis A: Chemical 2006, 243(2), 176-182). 루이스산 촉매는 유기기를 도입하려는 아로마틱 화합물의 벤젠고리가 3개인 안트라센이나 그보다 더 벤젠고리가 많은 아로마틱 화합물과 쉽게 배위결합을 형성하여 촉매의 활성이 크게 저하되므로 실용성이 낮고, 반응 후에 제거가 상당히 어렵다. 그러므로 안트라센이나 그보다 더 벤젠고리가 많은 아로마틱 화합물을 알릴할라이드, 벤질할라이드 또는 알킬할라이드와 반응하여 유기 치환기를 도입시키기 위해서는 산 촉매를 사용하는 대신에 중성이나 염기성 화합물을 촉매로 사용하여야 한다. 이 프리델-크래프트 알킬화반응에 적합한 중성 촉매는 별로 알려져 있지 않고 있다. 한편 유기포스포늄 클로라이드를 촉매로 사용하여 알킬할라이드와 트리클로로실란을 반응하여 알킬할라이드에서 할로겐을 떼어내고 트리클로로실란에서 수소를 취해 할로겐화수소를 발생시키며 탈할로겐화수소 Si-C결합반응으로 알킬기를 실란에 치환시키는 알킬클로로실란의 합성이 공지되어 있다(Yeon Seok Cho, Y. S.; Kang, S.-H.; Han, J. S.; Yoo, B. R.; Jung, I. N., J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5584). 위의 선행기술에서 게시된 것처럼, 알킬할라이드와 트리클로로실란을 반응하여 탈할로겐화수소 Si-C결합반응으로 알킬기를 실란에 치환시키는 알킬클로로실란의 합성반응에서 촉매로 사용되는 유기포스포늄 클로라이드는 중성 유기염이 된다. 또한 3차 트리알킬포스핀은 루이스산이 아니라 루이스염기에 해당한다. 이러한 유기포스포늄 클로라이드가 아로마틱 화합물과 알킬할라이드 화합물의 반응에 사용되면 알킬할라이드 화합물에서 할로겐을 취하고 아로마틱 고리에서 수소를 빼서 HX를 발생시키는 탈할로겐화수소 C-C결합반응인 프리델-크래프트알킬화 반응이 유도될 수 있다. 또한 유기포스포늄 클로라이드 촉매는 반응물질 또는 생성물과 물리적인 성질이 서로 다르므로 회수하기가 쉽고 재사용이 가능하다. 예를 들어 트리알킬포스핀이나 유기포스포늄 할라이드를 촉매로 사용하여 알릴클로라이드나 벤질클로라이드를 아렌 화합물에 프리델-크래프트알킬화반응을 유도하면 매우 경제적이고 고수율로 각각 알릴아렌 화합물과 벤질아렌 화합물의 제조가 가능할 것이다. 프리델-크래프트 알킬화반응에 사용되는 알릴할라이드나 벤질할라이드 화합물은 할로겐이 치환된 메틸렌기에 비닐기나 페닐기와 같은 관능기가 치환되어 있어서 할로겐이 떨어지고 생기는 양이온을 안정화시키므로 큰 활성을 가진다. 그러므로 할로겐이 치환된 메틸렌기에 직접 결합된 관능기가 없어도 프리델-크래프트 알킬화반응으로 알킬아렌 화합물의 합성이 가능하고 이에 기초한 화합물 및 이에 제조 방법이 본 발명의 목적이 된다.
선행기술 1: Roberts, Royston M; Khalaf, Ali, Friedel-Crafts Alkylation Chemistry, Marcel Dekker, Inc., New York, New York, USA, 1984
선행기술 2: Selvaraj, M.; Lee, T. G. Journal of Molecular Catalysis A: Chemical 2006, 243(2), 176-182
선행기술 3: Yeon Seok Cho, Y. S.; Kang, S.-H.; Han, J. S.; Yoo, B. R.; Jung, I. N., J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5584
본 발명의 목적은 유기포스핀 화합물을 촉매로 사용하여 알킬할라이드 화합물을 아로마틱 화합물과 반응하여 합성되는 알킬아렌 화합물 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 알킬아렌 화합물은 화학식 3으로 표시되고,
화학식 3:
상기에서 R1= 탄소수가 1~10인 알킬기 또는 (CH2)qSi(R3)p(OR4)3-p(q=1~10, R3= Cl 또는 CH3, p=0, 1, 2, 3, R4= CH3 또는 C2H5); n= 0, 1, 2 또는 3; Ar= 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 바이페닐, 터페닐렌, 안트론, 안트라퀴논, 피렌, 페난트란센, 퍼릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 아니솔, 플루오렌, 아니솔, 사이오아니솔, 테트라센, 펜타센 및 고리가 1~8개인 아로마틱 화합물; R2= 탄소수 1~8개의 알킬기나 페닐기를 포함하는 알킬기; l= 0, 1, 2, 3 또는 4; 그리고 m= 1, 2 또는 3이 된다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 화학식 3에서 Ar = 안트라센, 바이페닐, 터페닐렌, 안트론, 안트라퀴논, 피렌, 페난트란센, 퍼릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 아니솔, 플루오렌, 아니솔, 사이오아니솔, 테트라센 또는 펜타센; = 메틸, 에틸, 프로필, 아이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, sec-부틸, 트리메틸실릴메틸, 트리클로로실릴메틸, 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이클로로실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸클로로실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리클로로실릴에틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리에토시실릴에틸, 트리크로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실, 트리에톡시실릴헥실; R2= CH3 또는 C2H5; m=1,2 또는 3; 그리고 l= 0, 1 또는 2가 된다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 알킬아렌 화합물의 제조 방법은 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물을 유기포스핀 화합물을 촉매로 하여 반응시켜 생성되는 화학식 3으로 표시되는 화합물이 제조되고,
화학식 1:
화학식 2:
화학식 3:
상기에서 화학식 1, 2 및 3의 R1= 탄소수가 1~10인 알킬기 또는 (CH2)qSi(R3)p(OR4)3-p(q=1~10, R3= Cl 또는 CH3, p=0, 1, 2, 3, R4= CH3또는 C2H5); n=0, 1, 2 또는 3; X= Cl, Br 또는 I; Ar= 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 바이페닐, 터페닐렌, 안트론, 안트라퀴논, 피렌, 페난트란센, 퍼릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 아니솔, 플루오렌, 아니솔, 사이오아니솔, 테트라센, 펜타센 및 고리가 1~8개인 아로마틱 화합물; R2= H 탄소수 1~8개의 알킬기나 페닐기를 포함하는 알킬기; l=0, 1, 2, 3 또는 4; 그리고 m= 1, 2 또는 3이 된다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 화학식 1로 표시되는 화합물과 화학식 2로 표시되는 화합물의 반응 몰비는 6:1 내지 1:3이 된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 화학식 4로 표시되는 화합물이 촉매로 사용되고,
화학식 4:
P(R")3,
상기에서 R“는 탄소 수가 1~12인 알킬기 또는 알케닐이 되는 페닐기를 포함하고, 서로 다른 R”는 공유 결합으로 연결된 환형 구조가 된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 화학식 5로 표시되는 화합물이 촉매로 사용되고,
화학식 5:
P(R")4X'
상기에서 R“는 탄소 수가 1~12인 알킬기 또는 알케닐이 되는 페닐기를 포함하고, 서로 다른 R”는 공유 결합으로 연결된 환형 구조가 되며, X'= Cl, Br 또는 I 중에서 선택되는 하나가 된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 화학식 6으로 표시되는 화합물이 촉매로 사용되고,
화학식 6:
X'(R")3 P-Y-P(R")3X'
상기에서 R”는 탄소 수가 1~12인 알킬기 또는 알케닐이 되는 페닐기를 포함하고, 서로 다른 R”는 공유 결합으로 연결된 환형 구조이며, X'= Cl, Br 또는 I이고, Y= 탄소 수가 1~12인 알킬기, 방향족기를 포함한 알킬기 또는 방향족기가 된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 알킬아렌 화합물의 제조 방법에서 사용되는 촉매의 농도는 화학식 1의 화합물에 대하여 5 내지 20몰%가 된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 알킬아렌 화합물의 제조 방법에서 반응 온도는 100~250℃가 된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 알킬아렌 화합물의 제조 방법에서 반응 용매는 탄화수소, 에테르(ether), 다이메톡시에탄(DME) 및 THF로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나가 된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 화학식1의 화합물과 화학식2로 표시되는 화합물이 액상인 경우 알킬아렌 화합물은 용매 없이 반응되어 생성된다.
본 발명에 따른 알킬아렌 화합물의 제조 방법은 알킬할라이드 화합물과 아로마틱 화합물의 반응으로 알킬아렌을 합성하기 위하여 금속화합물이 아닌 중성이나 염기성의 유기포스핀 촉매를 사용하여 루이스산이 촉매로 사용되는 경우에 따른 제한이 없이 프리델-크래프트 알킬화 반응이 용이하게 진행되도록 한다. 일반적으로 프리델-크래프트 알킬화반응의 경우 촉매는 루이스산 촉매로 알루미늄, 보론, 철, 구리 등의 금속 클로라이드가 되고, 이와 같은 촉매는 반응 후에 반응물로부터 분리 및 재사용이 어렵다는 단점을 가진다. 또한 안트라센이나 그보다 더 벤젠고리가 많은 아로마틱 화합물을 사용하면 촉매가 이들과 쉽게 복합물을 형성하여 활성이 저하하므로 알킬화반응을 원활하게 수행하기가 어렵다는 문제점이 발생한다. 본 발명에 따른 유기포스핀 촉매에 의한 알킬아렌의 제조 방법은 이와 같은 문제점의 해결이 가능하도록 한다. 본 발명에 따른 제조 방법에 사용되는 촉매 화합물 군은 유기물 중에서 5족인 3차 유기인 화합물이나 4차 유기포스포늄 염이 될 수 있다. 4차 유기포스포늄 염을 촉매로 사용하여 알킬 클로라이드와 Si-H 결합을 가진 클로로실란을 반응하면 탈할로겐화수소 Si-C 결합반응으로 다양한 알킬실란이 합성될 수 있다. 이와 따라 이러한 촉매는 탈할로겐화수소 C-C결합 반응에 의한 알킬아렌의 합성 과정에서 매우 효과적으로 작용할 수 있고, 촉매가 쉽게 회수되어 재활용할 수 있는 장점을 가진다. 아렌 화합물들은 그동안 낮은 반응성과 유기용매에 대한 낮은 용해도로 인하여 극히 제한적으로 전자재료로 사용되었다. 그러나 본 발명에 따른 알킬아렌 화합물은 형광성을 갖는 안트라센이나 그보다 더 많은 벤젠고리를 갖는 아로마틱 화합물에 유기 기나 유기-무기 결합제인 유기실리콘을 직접 반응시킴으로써 유기용매에 대한 용해도를 높이면서 형광성을 가질 수 있다. 또한 알킬아렌 화합물은 부착성이 향상되어 새로운 기능성 실리콘 제품으로 전자재료에 유용하게 적용될 수 있다.
아래에서 본 발명은 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다.
본 발명에 따른 알킬아렌 화합물의 제조 방법은 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물을 유기포스핀 화합물을 촉매로 하여 반응시켜 생성되는 화학식 3으로 표시되는 화합물이 생성되도록 한다.
화학식 1:
화학식 2:
화학식 3:
상기에서 R1= 탄소수가 1~10인 알킬기 또는 (CH2)qSi(R3)p(OR4)3-p(q=1~10, R3= Cl 또는 CH3, p=0, 1, 2, 3, R4= CH3 또는 C2H5); n=0, 1, 2 또는 3; X= Cl, Br 또는 I; Ar= 벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 바이페닐, 터페닐렌, 안트론, 안트라퀴논, 피렌, 페난트란센, 퍼릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 아니솔, 플루오렌, 아니솔, 사이오아니솔, 테트라센, 펜타센 또는 고리가 1~8개인 아로마틱 화합물; R2= H, 탄소수 1~8개의 알킬기나 페닐기를 포함하는 알킬기; l=0, 1, 2, 3 또는 4; 그리고 m= 1, 2 또는 3이 된다.
반응식 1
반응식 1에서 촉매는 3차 유기포스핀 또는 4차 유기포스포늄 염이 될 수 있고, 화학식 1의알킬할라이드 화합물에서 할로겐을 취하고, 화학식 2의 아로마틱 고리에서 수소를 빼서 HX를 발생시키는 탈할로겐화수소 C-C결합 반응을 통해 화학식 3으로 표시되는 알킬아렌 화합물이 생성될 수 있다.
반응식 1에서 촉매로 사용되는 3차 유기포스핀은 아래의 화학식 4로 표시될 수 있고, 4차 유기포스포늄 염은 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시될 수 있다.
화학식 4:
P(R")3,
상기에서 R"는 탄소 수가 1~12개의 알킬기 또는 알케닐기가 되는 페닐기를 포함할 수 있다. 2개의 R"는 서로 공유 결합으로 연결되어 환형구조를 가질 수 있고, 각각의 R"는 서로 동일하거나 또는 상이한 구조를 가질 수 있다.
화학식 5:
P(R")4X',
상기에서 X'= Cl, Br, 또는 I이고, R"는 화학식 4의 화합물과 동일하고, R"는 서로 공유결합으로 연결되어 환형 구조를 가질 수 있고, 각각의 R"는 서로 동일하거나 또는 상이한 구조를 가질 수 있다.
화학식 6:
X'(R")3 P-Y-P(R")3X',
상기에서 X'와 R"는 각각 화학식 5의 화합물과 동일하고 Y= 탄소가 1~12인 알킬기나 방향족기를 포함한 알킬기 또는 방향족기가 될 수 있고, 2개의 R"는 서로 공유결합으로 연결되어 환형 구조를 가질 수 있고, 각각의 R"는 서로 동일하거나 또는 상이한 구조를 가질 수 있다.
촉매가 되는 3차 유기포스포핀은 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 트리부틸포스핀, 메틸디페닐포스핀, 트리사이클로헥실포스핀, 트리아이소프로필포스핀, 트리프로필포스핀, 디메틸페닐포스핀, 에틸디페닐포스핀, t-부틸디페닐포스핀, t-부틸디아이소프로필, 아이소프로필디페닐포스핀, 디사이클로헥실페닐포스핀, 벤질디페닐포스핀, 사이클로헥실디페닐포스핀, 트리사이클로펜틸포스핀, 디-t-부틸네오펜틸포스핀, 디-t-부틸페닐포스핀, 디-t-부틸메틸포스핀 및 t-부틸디사이클로헥실포스핀으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함할 수 있다.
4차 유기포스포늄 염은 벤질트리부틸포스포늄 클로라이드, 테트라부틸포스포늄 클로라이드, 테트라부틸포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 요오드, 테트라메틸포스포늄 브로마이드, 테트라에틸포스포늄 클로라이드, (4-에틸벤질)트리페닐포스포늄 클로라이드, 헥실트리페닐포스포늄 클로라이드, 벤질트리페닐포스늄 클로라이드, 테트라페닐포스포늄 클로라이드, 비스(벤질디메틸포스포늄 클로라이드)에탄, 비스(벤질디메틸포스포늄 클로라이드)부탄 또는 실리카나 실리콘수지, 실리콘 실세스퀴옥센 및 유기 폴리머에 고정화된 4차 알킬포스포늄 클로라이드으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 포함할 수 있다.
알킬아렌 화합물의 제조 과정에서 화학식 1의 알킬할라이드 화합물이나 화학식 2의 아로마틱 화합물 그리고 사용되는 용매의 끓는점이 반응온도인 250℃보다 더 낮으므로 일정 수준의 높은 압력에 견디는 반응조에서 고압 조건으로 반응이 될 필요가 있다. 화학식 1의 알킬할라이드 화합물과 화학식 2의 아로마틱 화합물을 준비한 후, 촉매로 사용되는 3차 유기포스핀 또는 4차 유기포스포늄 염을 화학식 1에 대하여 5 내지 20몰% 범위로 투입하고 혼합한다. 이후 반응 혼합물을 100 ∼ 250 ℃, 바람직하게는 150 ∼ 220 ℃로 가열시키면 상기 반응식 1에 따른 화학식 3과 같은 알킬아렌 화합물을 합성할 수 있다. 이와 같은 과정에서 촉매로 사용하는 3차 유기포스핀은 반응 중에 알킬할라이드 화합물과 반응하여 4차 유기포스핀 할라이드 염이 된다. 또한 촉매로 사용된 4차 유기포스포늄 염은 반응 혼합물로부터의 회수가 용이하고, 예를 들어 반응 완료 후 반응생성물을 감압 증류하면 촉매는 증류되지 않고 잔류하여 간단하게 회수될 수 있다. 촉매는 처음 사용된 양에 대하여 80%의 수준까지 회수될 수 있고, 회수된 촉매는 적당한 용매로 재결정 처리되어 재사용될 수 있다.
본 발명의 하나의 실시 예에 따르면, 알킬아렌의 합성공정은 질소 대기 하에서 화학식 1의 알킬할라이드 화합물과 화학식 2의 아로마틱 화합물을 넣고 3차 유기포스핀이나 4차 유기포스포늄 염 촉매를 압력에 견디는 스텐레스 관으로 된 반응조에 투입한 후 마개를 닫고 반응 온도까지 가열하여 반응시키는 것으로 진행될 수 있다. 이와 같은 과정에서 화학식 1의 알킬할라이드 화합물과 화학식 2의 아로마틱 화합물은 몰 비로 6:1 내지 1:3의 비로 혼합될 수 있고, 아로마틱 화합물에 여러 몰의 알킬기가 도입될 필요가 있다면, 화학식 1의 알킬할라이드 화합물의 비율이 높아져 반응이 진행될 수 있다. 화학식 4로 표시되는 3차 유기포스핀이나 화학식 5 및 6의 4차 유기포스포늄 염 촉매는 화학식 1에 대하여 5 내지 20몰%이 될 수 있다. 이와 같은 과정에서 반응 용매는 반응물에 따라서 예컨대 지방족 탄화수소와 같은 반응용매를 사용하거나 에테르(ether), 다이메톡시에탄(DME) 또는 THF와 같은 용매를 사용할 수 있다. 이와 같은 반응 용매를 사용하면 반응물을 균일하게 분포시킬 수 있고, 특히 THF를 사용할 경우 부산물인 HX에 의해 고리가 열리고 할로부틸알콜이 생성된 후 이러한 알코올의 축합반응을 통해 할로부틸에테르가 생성되므로 부산물인 HX 가스를 제거할 수 있다. 그러나 알콕시실란이나 클로로실란이 포함된 화학식 1의 물질을 사용할 경우에는 THF에 의한 부산물에 의해 가수 분해되거나 Si-Cl가 할로부톡시로 치환될 수 있기 때문에 THF를 용매로 사용하는 것은 적합하지 않다. 끓는점이 낮은 에테르를 용매로 사용하면 200℃의 반응온도에서 전부 기화하므로 반응조의 압력을 높이게 되어 폭발의 위험이 증가될 수 있다. 다른 한편으로 화학식 1 및 화학식 2의 화합물이 모두 액체이거나 서로 상용성이 있으면 용매를 사용하지 않고 반응할 수 있다. 반응온도는 100 ∼ 250℃이 될 수 있고, 바람직하게 150 ∼ 220℃가 될 수 있다. 이와 같은 조건에서 1 ∼ 48시간 정도 반응시킨 후 반응이 끝나면 마개를 열어서 발생된 할로겐화수소를 배출시키고 상압 또는 감압 하에서 증류하거나 재결정하여 생성물을 분리하면 목적물을 얻을 수가 있다. 위에서 설명된 것처럼 생성물을 제조 후 촉매를 분리하여 재활용을 하는 것이 가능하다. 촉매로 4차 포스포늄 염을 쓰지 않고 3차 유기포스핀을 사용하는 경우 반응 중에 알킬할라이드 화합물과 반응하여 4차 포스포늄 염이 되므로 생성물로부터 별다른 어려움이 없이 촉매를 분리하여 다시 사용할 수 있다. 촉매인 4차 유기포스포늄 염은 80%까지 회수하여 재사용할 수 있어서 경제적으로 매우 유리하다. 유기포스포늄 염을 실리콘수지나 실리카 혹은 제올라이트에 고정화시켜서 사용하면 반응 후에 회수하여 재사용하기가 매우 편리하다.
반응을 위한 화학식 1의 알킬할라이드 화합물은 메틸클로라이드, 메틸브로마이드, 메틸아이오다이드, 에틸클로라이드, 에틸브로마이드, 에틸아이오다이드,1-클로로프로판, 1-브로모프로판, 1-아이오도프로판, 2-클로로프로판, 2-브로모프로판, 2-아이오도프로판, 1-클로로부탈,1-브로모부탄, 1-아이오도부탄, 2-클로로부탄, 2-브로모부탄, 2-아이오도부탄, t-부틸클로라이드,t-부틸브로마이드, t-부틸아이오다이이드, 1-클로로펜탄, 1-브로모펜탄, 1-아이오도펜탄, 2-크로로펜탄, 2-브로모펜탄, 2-아이오도펜탄, 1-클로로헥산, 1-브로모헥산, 1-아이오도헥산, 2-클로로헥산, 2-브로모헥산, 2-아이오도헥산, 3-클로로헥산, 3-브로모헥산, 3-아이오도헥산, 1-클로로헵탄, 1-브로모헵탄, 1-아이오도헵탄, 2-클로로헵탄, 2-브로모헵탄, 2-아이오도헵탄, 1-클로로옥탄, 1-브로모옥탄, 1-아이오도옥탄, 1-클로로노난, 1-브로모노난, 1-아이오도노난, 1-클로로데칸, 1-브로모데칸, 1-아이오도데칸, (클로로메틸)트리클로로실란, (클로로메틸)메틸다이클로로실란, (클로로메틸)다이메틸클로로실란, (클로로메틸)트리메틸실란, (클로로메틸)트리메톡시실란, (클로로메틸)트리에톡시실란, (클로로메틸)메틸다이메톡시실란, (클로로메틸)메틸다이에톡시실란, (클로로메틸)다이메틸메톡시실란, (클로로메틸)다이메틸에톡시실란, 2-클로로에틸트리클로로실란, 2-클로로에틸트리메톡시실란, 2-클로로에틸트리에톡시실란, 3-클로로프로필트리클로로실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란, 6-클로로헥실트리클로로실란, 6-클로로헥실트리메톡시실란 및 6-클로로헥실트리에톡시실란로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물이 될 수 있다. 이와 같은 화합물은 모두 상업적으로 생산되는 물질이거나 문헌에 합성방법이 알려진 화합물에 해당한다.
화학식 2로 표시되는 화합물은 상업적으로 획득되거나, 합성이 될 수 있는 화합물에 해당하고, 벤젠, 톨루엔, o-자일렌, m-자일렌, p-자일렌, 메시틸렌, 에틸벤젠, 프로필벤젠, n-부틸벤젠, 이소부틸벤젠, t-부틸벤젠, 1,2,4,5-테트라메틸벤젠, 플루오로벤젠, 브로모벤젠, 아이오도벤젠, 아니솔, 사이오아니솔, 바이페닐, 플루오렌, o-터페닐렌, m-터페닐렌, p-터페닐렌, 나프탈렌, 1-메틸나프탈렌, 2-메틸나프탈렌, 1-메틸-2-메틸나프탈렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 안트라센, 9-브로모안트라센, 9-메틸안트라센, 9,10-디메틸안트라센, 안트론, 피렌, 1,6-디메틸피렌, 2,7-디메틸피렌, 1,6-디페닐피렌, 2,7-디벤질피렌, 2,7-비스(디페닐메틸)피렌, 퍼릴렌, 디메틸퍼릴렌, 테트라센, 및 펜타센로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 화합물이 될 수 있다.
화학식 1의 알킬할라이드 화합물은 화학식 2의 아로마틱 화합물의 벤젠고리에 결합된 수소의 수만큼 치환될 수 있으므로 반응 몰 비율에 따라 다양한 형태의 생성물이 획득될 수 있다. 화학식 1의 알킬할라이드 화합물이 과량으로 사용되는 경우 즉, 화학식 1과 화학식 2의 화합물을 6:1의 몰비로 반응시키면, 화학식 2의 아로마틱 화합물에서 다수의 알킬이 치환될 수 있고, 화학식 2의 아로마틱 화합물을 알킬할라이드 화합물에 대하여 과량으로 사용하는 경우 즉, 화학식 1과 화학식 2의 화합물을 1:3의 몰비로 반응시키면 알킬이 하나가 치환된 화합물이 주된 생성물로 얻어질 수 있다. 아래에서는 본 발명에 따른 화학식 3의 생산을 위한 구체적인 방법과 조건이 기재된 실시 예를 설명하기로 한다.
아래의 실시 예는 예시적인 것으로 본 발명은 이에 의하여 제한되지 않는다.
실시 예
실시예 1: 1-아이소프로필-2-메틸나프탈렌의 합성
290ml들이 스테인리스 관으로 된 고온, 고압 반응조에 1-메틸나프탈렌 50g (0.35mol)과 2-클로로프로판 13.8g (0.18mol), 2-클로로프로판 몰수의 10%에 해당하는 디메틸페닐포스핀 2.5g (0.018mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 용액을 둥근바닥 플라스크에 꺼내고 감압 증류를 통하여 생성물 18.2g (0.10mol, 수율 55%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명의 분석결과, 1.31ppm (d, 6H)에서 C-CH 3 , 2.62ppm (s, 3H)에서 C-CH 3 , 2.88ppm (s, 1H)에서 C-CH, 6.9-7.9ppm (m, 6H)에서 Naph-H를 확인하였다.
실시예 2: 1-부틸나프탈렌의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 나프탈렌 50g (0.39mol)과 1-브로모부탄 26.7g (0.20mol), 트리부틸포스핀 3.9g (0.02mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 17.3g (0.09mol, 수율 47%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.89ppm (t, 3H)에서 C-CH 3 , 1.30ppm (m, 2H)에서 C-CH 2 -C, 1.55ppm (m, 2H)에서 Naph-C-CH 2 , 3.07ppm (t, 2H)에서 Naph-CH 2 , 6.98-8.08ppm (m, 7H)에서 Naph-CH 2 를 확인하였다.
실시예 3: 9-(t-부틸)-10-메틸안트라센의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 9-메틸안트라센 50g (0.26mol)과 t-부틸클로라이드 12g (0.13mol), 트리사이클로헥실포스핀 3.6g (0.013mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 18.1g (0.07mol, 수율 56%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.48ppm (s, 9H)에서 Anth-C-CH 3 , 2.72ppm (s, 3H)에서 Anth-CH 3 , 7.40-8.20ppm (m, 8H)에서 Anth-H를 확인하였다.
실시예 4: 1,5-비스(아이소부틸)나프탈렌의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 나프탈렌 30g (0.23mol), 아이소부틸클로라이드 55.2g (0.7mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 8.9g (0.03mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 28.3g (0.13mol, 수율 58%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.3ppm (d, 12H)에서 C-CH 3 , 2.9ppm (m, 2H)에서 Naph-CH, 7.0-7.9ppm (m, 6H)에서 Naph-H를 확인하였다.
실시예 5: ((4-헥실페닐)페닐)설파이드의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 바이페닐 설파이드 50g (0.268mol)과 1-클로로헥산 16.1g (0.134mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 4g (0.0134mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 4.2g (0.163mol, 수율 61%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.88ppm (t, 3H)에서 C-CH 3 , 1.31ppm (m, 6H)에서 C-CH 2 -C, 1.58ppm (m, 2H)에서 Ph-C-CH 2 , 2.64ppm (t, 2H)에서 Ph-C-CH 2 , 7.00-7.52ppm (m, 9H)에서 Ph-H를 확인하였다.
실시예 6: 4-(2-헥실)-1,1‘-바이페닐의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 바이페닐 50g (0.324mol)과 2-클로로헥산 19.55g (0.162mol), 트리부틸포스핀 3.3g (0.0162mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 35.5g (0.149mol, 수율 46%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.88ppm (t, 3H)에서 C-CH 3 , 1.16ppm (d, 3H)에서 Ph-C-CH 3 , 1.31ppm (m, 4H)에서 C-CH 2 -C, 1.54ppm (m, 2H)에서 Ph-C-CH 2 , 2.55ppm (s, 1H)에서 Ph-CH, 7.38-7.75ppm (m, 9H)에서 Ph-H를 확인하였다.
실시예 7: 6-옥틸펜타센의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 펜타센 50g (0.18mol)과 1-브로모옥탄 13.4g (0.09mol), 트리에틸포스핀 1g (0.009mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물20.2g (0.06mol, 수율 62%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.88ppm (t, 3H)에서 C-CH 3 , 1.31ppm (m, 10H)에서 C-CH 2 -C, 1.61ppm (m, 2H)에서 Pentacene-C-CH 2 , 3.07ppm (t, 2H)에서 Pentacene-CH 2 , 7.54-8.25ppm (m, 13H)에서 PentaceneH를 확인하였다.
실시예 8: 1-아이소프로필나프탈렌의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 나프탈렌 50g (0.39mol)과 2-클로로프로판 15.3g (0.195mol), 트리사이클로헥실포스핀 5.5g (0.0195mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 16.6g (0.10mol, 수율 50%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.31ppm (d, 6H)에서 C-CH 3 , 2.28ppm (m, 1H)에서 Naph-CH, 6.98-8.08ppm (m, 7H)에서 Naph-H를 확인하였다.
실시예 9: 2-(t-부틸)피렌의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 피렌 50g (0.247mol)과 t-부틸클로라이드 11.4g (0.12 mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 3.6g (0.012mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 17.4g (0.07mol, 수율 56%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.4ppm (s, 9H)에서 C-CH 3 , 8.0-8.2ppm (m, 9H)에서 Pyrene-H를 확인하였다.
실시예 10: 2-sec-부틸피렌의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 피렌 50g (0.247mol)과 2-아이오도부탄 22.7g (0.124mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 3.6g (0.0124mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 16.3g (0.06mol, 수율 51%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.8ppm (t,3H)에서 C-CH3, 1.2ppm (d, 3H)에서 C-Ch3, 1.5ppm (m, 2H)에서 C-Ch2-C, 2.6ppm (m, 1H)에서 Pyrene-Ch-C, 8.0-8.2ppm (m, 9H)에서 Pyrene-H를 확인하였다.
실시예 11: 4-헥실바이페닐의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 바이페닐 50g (0.324mol)과 1-클로로헥산 19.6g (0.162mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 4.8g (0.0162mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 23.2g (0.10mol, 수율 60%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.88ppm (t, 3H)에서 C-Ch2, 1.30ppm (m, 6H)에서 C-Ch2-C, 1.58ppm (m, 2H)에서 Ph-C-Ch2 , 2.63ppm (t, 2H)에서 Ph-Ch2 , 7.28-7.75ppm (m, 9H)에서 Ph-h를 확인하였다.
실시예 12: 9-(2-헥실)안트라센의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 안트라센 50g (0.28mol)과 2-클로로헥산 16.9g (0.14mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 4.1g (0.014mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 18.4g (0.07mol, 수율 49%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.9ppm (t, 3H)에서 C-CH 3 , 1.3ppm (m, 7H)에서 C-CH 2 -C 및 C-CH 3, 1.56ppm (m, 2H)에서 Anth-C-CH 2 , 2.55ppm (m, 1H)에서 Anth-CH, 7.47-8.24ppm (m, 9H)에서 Anth-H를 확인하였다.
실시예 13: 2-아이소프로필피렌의 합성
실시예 1과 같은 방법으로 피렌 30g (0.15mol), 아이소프로필클로라이드 6.3g (0.08mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 3g (0.01mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 12.2g (0.05mol, 59%)를 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.3ppm (d, 6H)에서 C-CH 3 , 2.9ppm (m, 1H)에서 Pyrene-CH, 7.9-8.2ppm (m, 9H)에서 Pyrene-H를 확인하였다.
실시예 14: 1-메틸-4-(2-펜틸)벤젠의 합성
290ml들이 스테인레스관으로 된 고온, 고압 반응조에 톨루엔 50g (0.54mol)과 2-브로모펜탄 40.9g (0.27mol) 및 2-브로모펜탄의 10% 몰수에 해당하는 디메틸페닐포스핀 3.7g (0.027mol)를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 용액을 둥근 바닥 플라스크에 꺼내고 감압증류를 통하여 생성물 20.6g (0.13mol, 수율 47%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.89ppm (t, 3H)에서 C-CH 3 , 1.16ppm (d, 3H)에서 Ph-C-CH 3 , 1.31ppm (m, 2H)에서 C-CH 2 -C, 1.54ppm (m, 2H)에서 Ph-C-CH 2 , 2.19ppm (s, 3H)에서 Ph-CH 3 , 2.55ppm (m, 1H)에서 Ph-CH, 7.06-7.11ppm (m, 4H)에서 Ph-H를 확인하였다.
실시예 15: 1-sec-부틸-4-메틸벤젠의 합성
실시예 14과 같은 방법으로 톨루엔 50g (0.54mol)과 2-아이오도부탄 49.9g (0.27mol), 트리에틸포스핀 3.2g (0.027mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 21.6g (0.15mol, 수율 54%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.73ppm (t, 3H)에서 C-CH 3 , 1.16ppm (d, 3H)에서 Ph-C-CH 3 , 1.52ppm (m, 2H)에서 Ph-C-CH 2 , 2.19ppm (s, 3H)에서 Ph-CH 2 , 2.55ppm (m, 1H)에서 Ph-CH, 7.00ppm (m, 4H)에서 Ph-H를 확인하였다.
실시예 16: 9,10-(비스(t-부틸))안트라센의 합성
290ml들이 스테인레스관으로 된 고온, 고압 반응조에 안트라센 30g (0.17mol), t-부틸브로마이드 70g (0.51mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 8.9g (0.03mol) 및 THF 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 용액을 둥근 바닥 플라스크에 꺼내고 감압증류를 통하여 생성물 29.6g ( 0.1mol, 62%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.5ppm (s, 18H)에서 C-CH 3 , 7.5-8.2ppm (m, 8H)에서 Anth-H를 확인하였다.
실시예 17: (9-(트리클로로실릴)메틸)안트라센의 합성
290ml들이 스테인레스관으로 된 고온, 고압 반응조에 질소 대기하에서 안트라센 50g (0.28mol)과 (클로로메틸)트리클로로실란 25.7g (0.14mol) 및 디메틸페닐포스핀 1.9g (0.014mol), 데칸 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 용액을 둥근 바닥 플라스크에 꺼내고 건조된 데칸으로 5회 씻어 여과하였다. 이 여과액을 감압증류를 통하여 생성물 20.5g (0.06mol, 수율 45%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 3.05ppm (s, 2H)에서 Anth-CH 2 , 7.47-8.20ppm (m, 9H)에서 Anth-H를 확인하였다.
실시예 18 : 5-(2-(트리클로로실릴)에틸)테트라센의 합성
실시예 17과 같은 방법으로 테트라센 50g (0.219mol)과 2-클로로에틸트리클로로실란 21.7g (0.11mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 3.2g (0.011mol) 및 데칸 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 21.9g (0.06mol, 수율 51%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.7ppm (t, 2H)에서 Si-CH 2 -C 3.3ppm (t, 2H)에서 Tetracene-CH 2 -C , 7.5-8.5ppm (m, 11H)에서 Tetracene-H를 확인하였다.
실시예 19: 3-(2-(트리메톡시실릴)에틸)퍼릴렌의 합성
실시예 17과 같은 방법으로 퍼릴렌 50g (0.198mol)과 2-클로로에틸트리메톡시실란 18.3g (0.099mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 2.9g (0.0099mol) 및 데칸 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 19.6g (0.049mol, 수율 49%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.93ppm (t, 2H)에서 Si-CH 2 -C, 3.0ppm (t, 2H)에서 C-CH 2 -C, 3.6ppm (s, 9H)에서 Si-OCH 3 , 7.2-8.2ppm (m, 11H)에서 Perylene-H를 확인하였다.
실시예 20: 5-(트리클로로메틸)테트라센의 합성
실시예 17과 같은 방법으로 테트라센 50g (0.219mol)과 (클로로메틸)트리클로로실란 20.1g (0.11mol), 트리에틸포스핀 1.3g (0.011mol) 및 데칸 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 20.7g (0.06mol, 수율 62%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 3.05ppm (s, 2H)에서 Tetracene-CH 2 , 3.05ppm (m, 11H)에서 Tetracene-H를 확인하였다.
실시예 21 : (4-페녹시벤질)트리메톡시실란의 합성
290ml들이 스테인레스관으로 된 고온, 고압 반응조에 질소 대기하에서 바이페닐에테르 50g (0.294mol)과 (클로로메틸)트리메톡시실란 25.1g (0.147mol), 트리사이클로헥실포스핀 4.1g (0.0147mol) 및 헥산 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 용액을 둥근 바닥 플라스크에 꺼내고 건조된 헥산으로 5회 씻어 여과하였다. 이 여과액을 감압증류를 통하여 생성물 20.1g (0.07mol, 수율 45%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.84ppm (s, 2H)에서 Si-CH 2 , 3.55ppm (s, 9H)에서 O-CH 3 , 7.06-7.42ppm (m, 9H)에서 Ph-H를 확인하였다.
실시예 22: 6-(트리메톡시실릴메틸)펜타센의 합성
실시예 21과 같은 방법으로 펜타센 50g (0.18mol)과 (클로로메틸)트리메톡시실란 15.3g (0.09mol), 트리부틸포스핀 1.8g (0.009mol) 및 헥산 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 19.7g (0.05mol, 수율 53%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 2.3ppm (s, 2H)에서 Pentacen-CH 2 , 3.6ppm (s, 9H)에서 Si-OCH 3 , 7.5-8.3ppm (m, 13H)에서 Pentacen-H를 확인하였다.
실시예 23: 9-(2-(트리클로로실릴)에틸)-10-메틸안트라센의 합성
실시예 21과 같은 방법으로 9-메틸안트라센 50g (0.26mol)과 2-클로로에틸트리클로로실란 25.7g (0.13mol), 트리부틸포스핀 2.6g (0.013mol) 및 헥산 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 25.8g (0.07mol, 수율 56%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.7ppm (t, 2H)에서 Si-CH 2 , 2.7ppm (t, 3H)에서 Anth-CH 3 , 3.3ppm (t, 2H)에서 Si-C-CH 2 , 7.5-8.2ppm (m, 8H)에서 Anth-H를 확인하였다.
실시예 24 : 1-(2-(트리메톡시실릴)에틸)나프탈렌의 합성
실시예 21과 같은 방법으로 나프탈렌 50g (0.39mol)과 2-클로로에틸트리메톡시실란 36g (0.195mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 5.8g (0.0195mol) 및 헥산 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 24.3g (0.09mol, 수율 45%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.9ppm (t, 2H)에서 Si-CH 2 , 2.9ppm (t, 2H)에서 Si-C-CH 2 , 3.6ppm (s, 9H)에서 Si-OCH 3 , 6.9-8.1ppm (m, 7H)에서 Naph-H를 확인하였다.
실시예 25: 9-((트리메톡시실릴)메틸)안트라센의 합성
실시예 21과 같은 방법으로 안트라센 50g (0.28mol)과 (클로로메틸)트리메톡시실란 23.9g (0.14mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 4.1g (0.014mol) 및 데칸 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 21g (0.07mol, 수율 48%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 2.28ppm (s, 2H)에서 Si-CH 2 , 3.55ppm (s, 9H)에서 Si-OCH 3 , 7.47-8.28ppm (m, 9H)에서 Anth-H를 확인하였다.
실시예 26: 6-(2-(트리클로로실릴)에틸)펜타센의 합성
실시예 21과 같은 방법으로 펜타센 50g (0.18mol)과 2-클로로에틸트리클로로실란 17.8g (0.09mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 2.7g (0.009mol) 및 데칸 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 20.6g (0.05mol, 수율 52%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 1.70ppm (t, 2H)에서 Si-CH 2 , 3.30ppm (t, 2H)에서 Si-C-CH 2 , 7.54-8.25ppm (m, 13H)에서 Pentacen-H를 확인하였다.
실시예 27: 4-((트리클로로실릴)메틸)톨루엔의 합성
290ml들이 스테인레스관으로 된 고온, 고압 반응조에 질소 대기하에서 톨루엔 50g (0.543mol)과 (클로로메틸)트리클로로실란 49.9g (0.27mol) 및 테트라부틸포스포늄 클로라이드 8g (0.027mol)를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 용액을 둥근 바닥 플라스크에 꺼내고 건조된 헥산으로 5회 씻어 여과하였다. 이 여과액을 감압증류를 통하여 생성물 38.8g (0.16mol, 수율 60%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 2.19ppm (s, 3H)에서 Ph-CH 3 , 2.61ppm (s, 2H)에서 Si-CH 2 , 7.01-7.11ppm (m, 4H)에서 Ph-H를 확인하였다.
실시예 28: 1,5-비스((트리클로로실릴)메틸)나프탈렌의 합성
290ml들이 스테인레스관으로 된 고온, 고압 반응조에 질소 대기 하에서 나프탈렌 30g (0.23mol)과 클로로메틸트리클로로실란 126.9g (0.69mol), 클로로메틸트리클로로실란의 5% 몰수에 해당하는 테트라부틸포스포늄 클로라이드 11.8g (0.04mol) 및 헥산 40ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 용액을 둥근 바닥 플라스크에 꺼내고 건조된 헥산으로 5회 씻어 여과하였다. 이 여과액을 감압증류를 통하여 생성물 59.2g (0.14mol, 수율 63%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 3.1ppm (s, 4H)에서 Si-CH 2 , 6.9-7.8ppm (m, 6H)에서 Naph-H를 확인하였다.
실시예 29: 9,10-비스((트리메톡시실릴)메틸)안트라센의 합성
실시예 28과 같은 방법으로 안트라센 20g (0.11mol)과 클로로메틸트리메톡시실란 58g (0.34mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 5.9g (0.02mol) 및 헥산 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 26.8g (0.06mol, 수율 57%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 2.3ppm (s, 4H)에서 Si-CH 2 , 3.6ppm (s, 9H)에서 Si-OCH 3 , 7.5-8.2ppm (m, 8H)에서 Anth-H를 확인하였다.
실시예 30: 9,10-비스((2-다이클로로메틸실릴)에틸)안트라센의 합성
실시예 28과 같은 방법으로 안트라센 20g (0.11mol)과 2-클로로에틸메틸다이클로로실란 58.6g (0.33mol), 테트라부틸포스포늄 클로라이드 5.9g (0.02mol) 및 헥산 50ml를 넣고 230℃에서 6시간 동안 반응하여 생성물 29.9g (0.06mol, 수율 59%)을 얻었다. 얻어진 생성물은 300MHz 수소핵자기공명 분석결과, 0.7ppm (s, 6H)에서 Si-CH 3 , 0.9ppm (t, 4H)에서 Si-CH 2 , 2.9ppm (t, 4H)에서 Anth-CH 2 , 7.5-8.2ppm (m, 8H)에서 Anth-H를 확인하였다.
Claims (11)
- 삭제
- 화학식 3으로 표시되는 알킬아렌 화합물로
화학식 3:
상기에서 R1= 탄소수가 1~10인 알킬기 또는 (CH2)qSi(R3)p(OR4)3-p(q=1~10, R3= Cl 또는 CH3, p=0, 1, 2, 3, R4= CH3 또는 C2H5); n= 0, 1, 2 또는 3; Ar = 안트라센 또는 바이페닐인 경우, = 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리에톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; Ar = 안트론 또는 테트라센인 경우, = 메틸, 에틸, 프로필, 아이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, sec-부틸, 트리메틸실릴메틸, 트리클로로실릴메틸, 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이클로로실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸클로로실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리클로로실릴에틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리에톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; Ar = 터페닐렌, 안트라퀴논, 피렌, 페난트렌센, 페릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 플루오렌 또는 펜타센인 경우, = 트리메틸실릴메틸, 트리클로로실릴메틸, 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이클로로실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸클로로실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리클로로실릴에틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리에톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; Ar = 아니솔 또는 사이오아니솔인 경우, = 트리클로로실릴메틸, 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이클로로실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸클로로실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리클로로실릴에틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; R2= CH3 또는 C2H5; m=1, 2 또는 3; 그리고 l= 0, 1 또는 2가 되는 것을 특징으로 하는 알킬아렌 화합물. - 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물을 유기포스핀 화합물을 촉매로 하여 반응시켜 생성되는 화학식 3으로 표시되는 알킬아렌 화합물의 제조 방법으로
화학식 1:
화학식 2:
화학식 3:
상기에서 화학식 1, 2 및 3의 R1= 탄소수가 1~10인 알킬기 또는 (CH2)qSi(R3)p(OR4)3-p(q=1~10, R3= Cl 또는 CH3, p=0, 1, 2, 3, R4= CH3또는 C2H5); n=0, 1, 2 또는 3; X= Cl, Br 또는 I; Ar = 안트라센 또는 바이페닐인 경우, = 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리에톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; Ar = 안트론 또는 테트라센인 경우, = 메틸, 에틸, 프로필, 아이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, sec-부틸, 트리메틸실릴메틸, 트리클로로실릴메틸, 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이클로로실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸클로로실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리클로로실릴에틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리에톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; Ar = 터페닐렌, 안트라퀴논, 피렌, 페난트렌센, 페릴렌, 바이페닐에테르, 바이페닐 설파이드, 플루오렌 또는 펜타센인 경우, = 트리메틸실릴메틸, 트리클로로실릴메틸, 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이클로로실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸클로로실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리클로로실릴에틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리에톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리에톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; Ar = 아니솔 또는 사이오아니솔인 경우, = 트리클로로실릴메틸, 트리메톡시실릴메틸, 트리에톡시실릴메틸, 메틸다이클로로실릴메틸, 메틸다이메톡시실릴메틸, 다이메틸클로로실릴메틸, 다이메틸메톡시실릴메틸, 다이메틸에톡시실릴메틸, 트리클로로실릴에틸, 트리메톡시실릴에틸, 트리클로로실릴프로필, 트리메톡시실릴프로필, 트리클로로실릴헥실, 트리메톡시실릴헥실 또는 트리에톡시실릴헥실이고; R2= CH3 또는 C2H5; m=1, 2 또는 3; 그리고 l= 0, 1 또는 2가 되는 것을 특징으로 하는 알킬아렌 화합물의 제조 방법. - 청구항 3에 있어서, 화학식 1로 표시되는 화합물과 화학식 2로 표시되는 화합물의 반응 몰비는 6:1 내지 1:3인 것을 특징으로 하는 알킬아렌의 제조 방법.
- 청구항 3에 있어서, 화학식 4로 표시되는 화합물이 촉매로 사용되고,
화학식 4:
P(R")3,
상기에서 R“는 탄소 수가 1~12인 알킬기 또는 알케닐이 되는 페닐기를 포함하고, 서로 다른 R”는 공유 결합으로 연결된 환형 구조가 되는 것을 특징으로 하는 알킬아렌 화합물의 제조 방법. - 청구항 3에 있어서, 화학식 5로 표시되는 화합물이 촉매로 사용되고,
화학식 5:
P(R")4X'
상기에서 R“는 탄소 수가 1~12인 알킬기 또는 알케닐이 되는 페닐기를 포함하고, 서로 다른 R”는 공유 결합으로 연결된 환형 구조가 되며, X'= Cl, Br 또는 I 중에서 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 알킬아렌의 제조 방법. - 청구항 3에 있어서, 화학식 6으로 표시되는 화합물이 촉매로 사용되고,
화학식 6:
X'(R")3 P-Y-P(R")3X'
상기에서 R”는 탄소 수가 1~12인 알킬기 또는 알케닐이 되는 페닐기를 포함하고, 서로 다른 R”는 공유 결합으로 연결된 환형 구조이며, X'= Cl, Br 또는 I이고, Y= 탄소 수가 1~12인 알킬기, 방향족기를 포함한 알킬기 또는 방향족기인 것을 특징으로 하는 알킬아렌의 제조 방법. - 청구항 3 내지 청구항 6 중 어느 하나에 있어서,
촉매의 농도는 화학식 1의 화합물에 대하여 5 내지 20몰%인 것을 특징으로 하는 알킬아렌의 제조 방법. - 청구항 3에 있어서, 반응 온도는 100~250℃인 것을 특징으로 하는 알킬아렌 화합물의 제조방법
- 청구항 3에 있어서, 반응 용매는 탄화수소, 에테르(ether), 다이메톡시에탄(DME) 및 THF로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나가 되는 것을 특징으로 하는 알킬아렌 화합물의 제조방법.
- 청구항 3에 있어서, 화학식1의 화합물과 화학식2로 표시되는 화합물이 액상인 경우 용매 없이 반응되는 것을 특징으로 하는 알킬아렌 화합물의 제조방법.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200103421A KR102509228B1 (ko) | 2020-08-18 | 2020-08-18 | 알킬아렌 화합물 및 이의 제조방법 |
US17/113,695 US11685702B2 (en) | 2019-12-20 | 2020-12-07 | Method for producing arene compounds and arene compounds produced by the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220022349A KR20220022349A (ko) | 2022-02-25 |
KR102509228B1 true KR102509228B1 (ko) | 2023-03-13 |
Family
ID=80490044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020200103421A KR102509228B1 (ko) | 2019-12-20 | 2020-08-18 | 알킬아렌 화합물 및 이의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102509228B1 (ko) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100453211B1 (ko) * | 2000-11-01 | 2004-10-15 | 한국과학기술연구원 | 유기 실란의 제조방법 |
-
2020
- 2020-08-18 KR KR1020200103421A patent/KR102509228B1/ko active IP Right Grant
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Y. Gong et al., Journal of Molecular Structure 963 (2010) 76-81.* |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220022349A (ko) | 2022-02-25 |
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