KR102475748B1 - An optical member comprising a polyamideimide resin and the polyamideimide resin - Google Patents

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Abstract

높은 유연성 및 굴곡 내성을 양립하는 광학 부재를 위한 폴리아미드이미드 수지, 특히 화상 표시 장치의 전면판을 위한 폴리아미드이미드 수지, 및 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 전면판 등의 광학 부재를 제공한다. 하기 식 (1) 및 하기 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리아미드이미드 수지; [식 (1) 및 식 (2) 중, X 및 Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, Y는 4가의 유기기를 나타내며, Z의 적어도 일부는, 식 (3): (식 (3) 중, R1~R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, A는, -O-, -S-, -CO- 또는 -NR9-를 나타내고, R9는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화수소기를 나타내며, m은 1~4의 정수이고, *은 결합손을 나타낸다)로 나타나는 구성 단위이다].

Figure 112019083295191-pct00022
A polyamideimide resin for an optical member having both high flexibility and bending resistance, particularly a polyamideimide resin for a front plate of an image display device, and an optical member such as a front plate containing the polyamideimide resin are provided. Polyamide-imide resin which has structural units represented by following formula (1) and following formula (2); [In Formula (1) and Formula (2), X and Z each independently represent a divalent organic group, Y represents a tetravalent organic group, and at least a part of Z is Formula (3): (Formula (3) ), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in R 1 to R 8 is each independently a halogen atom. may be substituted with an atom, A represents -O-, -S-, -CO- or -NR 9 -, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and m is 1 to 12 It is an integer of 4, and * represents a bond) is a constituent unit represented by].
Figure 112019083295191-pct00022

Description

폴리아미드이미드 수지 및 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재An optical member comprising a polyamideimide resin and the polyamideimide resin

본 발명은, 폴리아미드이미드 수지, 및 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재에 관한 것이다.The present invention relates to a polyamide-imide resin and an optical member comprising the polyamide-imide resin.

현재, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 텔레비전뿐만 아니라, 휴대 전화나 스마트 워치와 같은 다양한 용도로 널리 활용되고 있다. 이러한 용도의 확대에 따라, 플렉시블 특성을 가지는 화상 표시 장치(플렉시블 디스플레이)가 요구되고 있다.Currently, image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely used not only for televisions but also for various applications such as mobile phones and smart watches. Along with the expansion of these uses, an image display device (flexible display) having flexible characteristics is in demand.

화상 표시 장치는, 액정 표시 소자 또는 유기 EL 표시 소자 등의 표시 소자 외에, 편광판이나 위상차판 및 전면(前面)판 등의 구성 부재로 구성된다. 플렉시블 디스플레이를 달성하기 위해서는, 이들 모든 구성 부재가 유연성을 가질 필요가 있다.BACKGROUND ART An image display device is composed of display elements such as a liquid crystal display element or an organic EL display element, as well as structural members such as a polarizing plate, a retardation plate, and a front plate. In order to achieve a flexible display, all of these constituent members need to have flexibility.

지금까지 전면판으로서는 유리가 이용되고 있다. 유리는, 투명도가 높고, 유리의 종류에 따라서는 고경도를 발현할 수 있는 반면, 매우 강직하고, 깨지기 쉽기 때문에, 플렉시블 디스플레이의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다.Until now, glass has been used as the front plate. While glass has high transparency and can exhibit high hardness depending on the type of glass, it is very rigid and brittle, so it is difficult to use it as a front plate material for flexible displays.

이 때문에, 유리를 대신하는 재료로서 고분자 재료의 활용이 검토되고 있다. 고분자 재료로 이루어지는 전면판은 플렉시블 특성을 발현하기 쉽기 때문에, 다양한 용도로 이용하는 것을 기대할 수 있다. 유연성을 가지는 수지로서는 다양한 것을 들 수 있지만, 그 하나로 폴리아미드이미드 수지가 있다. 폴리아미드이미드 수지는, 투명성이나 내열성의 관점에서, 다양한 용도로 사용되고 있다(특허 문헌 1).For this reason, utilization of a polymeric material as a material in place of glass is being studied. Since the front plate made of a polymer material tends to exhibit flexible characteristics, it can be expected to be used for various purposes. A variety of resins having flexibility can be cited, but polyamideimide resin is one of them. Polyamide-imide resins are used in various applications from the viewpoint of transparency and heat resistance (Patent Document 1).

일본공개특허 특개2010-150552호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-150552

플렉시블 디스플레이가 굴곡될 때에는, 모든 구성 부재가 굴곡된다. 각 구성 부재의 유연성이 불충분하면, 다른 구성 부재를 손상시키는 경우가 있다. 이 때문에, 구성 부재의 하나인 전면판에도 높은 유연성이 요구된다. 동시에, 전면판이 굴곡된 후, 그 표면에 접힘 주름이 남으면, 디스플레이의 시인성에 문제가 발생하기 때문에, 전면판은 높은 굴곡 내성을 가질 필요가 있다.When the flexible display is bent, all constituent members are bent. If the flexibility of each constituent member is insufficient, other constituent members may be damaged. For this reason, high flexibility is also required for the front plate, which is one of the constituent members. At the same time, the front plate needs to have high resistance to bending, since a problem in the visibility of the display will occur if creases remain on the surface after the front plate is bent.

따라서 본 발명은, 높은 유연성 및 굴곡 내성을 양립하는 광학 부재를 위한 폴리아미드이미드 수지, 특히 화상 표시 장치의 전면판을 위한 폴리아미드이미드 수지, 및 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 전면판 등의 광학 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, the present invention is a polyamide-imide resin for an optical member having both high flexibility and bending resistance, particularly a polyamide-imide resin for a front plate of an image display device, and a front plate comprising the polyamide-imide resin. It aims to provide members.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.The present inventors came to complete this invention, as a result of earnestly examining in order to solve the said subject.

즉, 본 발명은, 이하의 바람직한 양태를 제공하는 것이다.That is, the present invention provides the following preferred aspects.

[1] 식 (1) 및 식 (2):[1] Equation (1) and Equation (2):

Figure 112019083295191-pct00001
Figure 112019083295191-pct00001

[식 (1) 및 식 (2) 중, X 및 Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고,[In Formula (1) and Formula (2), X and Z each independently represent a divalent organic group,

Y는 4가의 유기기를 나타내며,Y represents a tetravalent organic group,

Z의 적어도 일부는, 식 (3):At least part of Z is Equation (3):

Figure 112019083295191-pct00002
Figure 112019083295191-pct00002

〔식 (3) 중, R1∼R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In Formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,

A는, -O-, -S-, -CO- 또는 NR9-를 나타내고, R9는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화수소기를 나타내며,A represents -O-, -S-, -CO- or NR 9 -, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 1~4의 정수이고,m is an integer from 1 to 4;

*은 결합손을 나타낸다〕* represents a binding hand]

로 나타나는 구성 단위이다]It is a constituent unit represented by]

로 나타나는 구성 단위를 가지는 폴리아미드이미드 수지.A polyamideimide resin having a structural unit represented by

[2] Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율이 3몰% 이상 90몰% 이하인, 상기 [1]에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[2] The polyamideimide resin according to [1] above, wherein the content of the structural unit represented by formula (3) is 3 mol% or more and 90 mol% or less with respect to the total of Y and Z.

[3] Z의 5몰% 이상 100몰% 이하는 식 (3)으로 나타나는, 상기 [1]에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[3] The polyamideimide resin described in [1] above, wherein 5 mol% or more and 100 mol% or less of Z are represented by formula (3).

[4] 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이, 3몰% 이상 90몰% 이하인, 상기 [1]에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[4] The above [1] in which the ratio of the structural unit represented by formula (3) to the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) is 3 mol% or more and 90 mol% or less. The polyamideimide resin described in.

[5] 식 (1)로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 10몰% 이상 90몰% 이하인, 상기 [1]~[4] 중 어느 것에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[5] The content rate of the structural unit represented by formula (1) is 10 mol% or more and 90 mol% or less with respect to the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2), the above [1] The polyamide-imide resin described in any of [4].

[6] X의 적어도 일부는 식 (4):[6] At least part of X is expressed in equation (4):

Figure 112019083295191-pct00003
Figure 112019083295191-pct00003

[식 (4) 중, R10~R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In Formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,

*은 결합손을 나타낸다]* represents a bonding hand]

로 나타나는 구성 단위인, 상기 [1]~[5] 중 어느 것에 기재된 폴리아미드이미드 수지.The polyamideimide resin according to any one of [1] to [5] above, which is a structural unit represented by

[7] Y의 적어도 일부는 식 (5):[7] At least part of Y is Equation (5):

Figure 112019083295191-pct00004
Figure 112019083295191-pct00004

[식 (5) 중, R18~R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In Formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,

*은 결합손을 나타낸다]* represents a bonding hand]

로 나타나는 구성 단위인, 상기 [1]~[6] 중 어느 것에 기재된 폴리아미드이미드 수지.The polyamideimide resin according to any one of [1] to [6] above, which is a structural unit represented by

[8] DMA 측정에 있어서의 tanδ에 의해 산출된 유리 전이 온도 Tg가 380℃ 미만인, 상기 [1]~[7] 중 어느 것에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[8] The polyamideimide resin according to any one of [1] to [7] above, wherein the glass transition temperature Tg calculated by tan δ in DMA measurement is less than 380°C.

[9] 상기 [1]~[8] 중 어느 것에 기재된 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는, 광학 부재.[9] An optical member comprising the polyamideimide resin according to any one of [1] to [8] above.

[10] 상기 [9]에 기재된 광학 부재를 구비한 화상 표시 장치.[10] An image display device provided with the optical member described in [9] above.

본 발명에 의하면, 높은 유연성 및 굴곡 내성을 양립하는 광학 부재를 위한 폴리아미드이미드 수지, 특히 화상 표시 장치의 전면판을 위한 폴리아미드이미드 수지, 및 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 전면판 등의 광학 부재를 제공할 수 있다. 추가해, 본 발명에 의하면 표면 경도가 우수한 광학 부재를 제공할 수 있다.According to the present invention, a polyamide-imide resin for an optical member having both high flexibility and bending resistance, particularly a polyamide-imide resin for a front plate of an image display device, and a front plate containing the polyamide-imide resin are used for optics. member can be provided. In addition, according to the present invention, an optical member having excellent surface hardness can be provided.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여, 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 손상시키지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various changes can be made within a range not impairing the gist of the present invention.

본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드 수지는, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 가지는 것이다.The polyamide-imide resin, which is an embodiment of the present invention, has a structural unit represented by Formula (1) and a structural unit represented by Formula (2).

Figure 112019083295191-pct00005
Figure 112019083295191-pct00005

식 (2)에 있어서, Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타낸다. 본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수종의 Z를 포함할 수 있고, 복수종의 Z는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. Z의 적어도 일부는, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위이다.In Formula (2), Z each independently represents a divalent organic group. The polyamide-imide resin, which is an embodiment of the present invention, may contain plural types of Z, and the plural types of Z may be the same as or different from each other. At least one part of Z is a structural unit represented by Formula (3).

Figure 112019083295191-pct00006
Figure 112019083295191-pct00006

[식 (3) 중, R1~R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In Formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in R 1 to R 8 is each Independently, it may be substituted with a halogen atom,

A는, -O-, -S-, -CO- 또는 NR9-를 나타내고, R9는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화수소기를 나타내며,A represents -O-, -S-, -CO- or NR 9 -, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 1~4의 정수이고,m is an integer from 1 to 4;

*은 결합손을 나타낸다.]* represents a binding hand.]

식 (3)에 있어서, A는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO- 또는 NR9-를 나타내고, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 유연성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 S-를 나타내며, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다. R1~R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 유연성 및 표면 경도의 관점에서, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. R9는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화수소기를 나타낸다.In Formula (3), A each independently represents -O-, -S-, -CO- or NR 9 -, and from the viewpoint of flexibility of the optical member made of the polyamideimide resin, it is preferable Preferably -O- or S-, more preferably -O-. R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and from the viewpoint of flexibility and surface hardness of an optical member made of the polyamideimide resin, Preferably, it represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and still more preferably represents a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may each independently be substituted with a halogen atom. R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.

식 (3)에 있어서, m은, 1~4의 범위의 정수이며, m이 이 범위 내이면, 광학 부재의 유연성이 양호하다. 또한, 식 (3)에 있어서, m은, 바람직하게는 1~3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 1 또는 2, 더 바람직하게는 1이며, m이 이 범위 내이면, 광학 부재의 유연성이 양호함과 동시에, 원료의 입수성이 비교적 양호하다.In formula (3), m is an integer in the range of 1 to 4, and when m is within this range, the flexibility of the optical member is good. In formula (3), m is preferably an integer in the range of 1 to 3, more preferably 1 or 2, still more preferably 1, and when m is within this range, the flexibility of the optical member increases. While being good, the availability of raw materials is relatively good.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서는, 식 (3)은 식 (3')으로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 Z의 적어도 일부는 식 (3')으로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 표면 경도를 발휘함과 동시에, 탄성률이 낮아, 높은 유연성을 가질 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, formula (3) is a structural unit represented by formula (3'), that is, at least a part of a plurality of Z is a structural unit represented by formula (3'). In this case, the optical member made of the polyamide-imide resin exhibits high surface hardness, has a low modulus of elasticity, and can have high flexibility.

Figure 112019083295191-pct00007
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본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 9몰% 이상, 특히 바람직하게는 15몰% 이상, 매우 바람직하게는 30몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 87몰% 이하, 더 바람직하게는 85몰% 이하, 특히 바람직하게는 83몰% 이하, 매우 바람직하게는 80몰% 이하이다. 폴리아미드이미드 수지 중의 Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 탄성률이 낮아, 유연성이 우수하며, 동시에 높은 표면 경도를 발현할 수 있다. 폴리아미드이미드 수지 중의 Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율이 상기 상한값 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 증점을 억제함으로써, 후술하는 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 억제할 수 있어, 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the content of the structural unit represented by formula (3) with respect to the total of Y and Z in the polyamideimide resin is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, more preferably 7 mol% or more, even more preferably 9 mol% or more, particularly preferably 15 mol% or more, very preferably 30 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably It is preferably 87 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, particularly preferably 83 mol% or less, and very preferably 80 mol% or less. When the content of the structural unit represented by formula (3) with respect to the sum of Y and Z in the polyamideimide resin is equal to or greater than the lower limit, the optical member made of the polyamideimide resin has a low modulus of elasticity and excellent flexibility, At the same time, high surface hardness can be expressed. When the content of the structural unit represented by formula (3) with respect to the total of Y and Z in the polyamideimide resin is equal to or less than the above upper limit, by suppressing the thickening due to hydrogen bonds between amide bonds derived from formula (3), the polyamide-imide resin described later The viscosity of the amide-imide varnish can be suppressed, and processing of optical members can be facilitated. In addition, the content rate of the structural unit represented by Formula (3) can be measured using 1 H-NMR, for example, or it can also be calculated from the introduction ratio of raw materials.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Z가, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 7몰% 이상, 더 바람직하게는 9몰% 이상, 특히 바람직하게는 11몰% 이상이 식 (3)으로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의 상기 하한값 이상이 식 (3)으로 나타나면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 높은 표면 경도를 발현함과 동시에, 탄성률이 낮아, 높은 유연성을 가질 수 있다. 또한, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Z의 100몰% 이하가 식 (3)으로 나타나는 것이 바람직하다. 또한, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamideimide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 7 mol% or more, still more preferably 9 mol% or more, particularly preferably 11 mol% % or more is represented by formula (3). When the above lower limit value or more of Z in the polyamideimide resin is represented by formula (3), the optical member made of the polyamideimide resin exhibits high surface hardness, has a low elastic modulus, and can have high flexibility. . Moreover, it is preferable that 100 mol% or less of Z in the said polyamideimide resin is represented by Formula (3). In addition, the content rate of the structural unit represented by Formula (3) in the said polyamideimide resin can be measured using <1> H-NMR, for example, or it can also be computed from the introduction ratio of a raw material.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 9몰% 이상, 특히 바람직하게는 15몰% 이상, 매우 바람직하게는 30몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 87몰% 이하, 더 바람직하게는 85몰% 이하, 특히 바람직하게는 83몰% 이하, 매우 바람직하게는 80몰% 이하이다. 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이 상기 하한값 이상이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 탄성률이 낮아, 유연성이 우수하고, 동시에 높은 표면 경도를 발현할 수 있다. 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이 상기 상한값 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 증점을 억제함으로써, 후술하는 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 억제할 수 있어, 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the ratio of the structural unit represented by formula (3) to the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) in the polyamideimide resin is preferably Preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, still more preferably 7 mol% or more, even more preferably 9 mol% or more, particularly preferably 15 mol% or more, very preferably 30 mol% % or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 87 mol% or less, still more preferably 85 mol% or less, particularly preferably 83 mol% or less, and very preferably 80 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by formula (3) to the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) in the polyamideimide resin is equal to or greater than the lower limit, the polyamideimide resin is included. The optical member made of the above has a low modulus of elasticity, excellent flexibility, and at the same time can express high surface hardness. If the ratio of the structural unit represented by formula (3) to the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) in the polyamideimide resin is equal to or less than the above upper limit, the amide derived from formula (3) By suppressing the thickening by the hydrogen bond between bonds, the viscosity of the polyamide-imide varnish described later can be suppressed, and processing of the optical member can be facilitated. In addition, the content rate of the structural unit represented by Formula (3) can be measured using 1 H-NMR, for example, or it can also be calculated from the introduction ratio of raw materials.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. 또한, 식 (1)에 있어서의 X는, 식 (2)에 있어서의 X와 동일해도 되고, 상이해도 된다. 본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수종의 X를 포함할 수 있으며, 복수종의 X는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. X로서는, 이하의 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18)로 나타나는 기; 그들 식으로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formulas (1) and (2), X each independently represents a divalent organic group, and is preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. In addition, X in Formula (1) may be the same as or different from X in Formula (2). The polyamide-imide resin, which is an embodiment of the present invention, may contain multiple types of X, and the multiple types of X may be the same as or different from each other. As X, the following formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) or formula (18) appear; groups in which hydrogen atoms in groups represented by these formulas are substituted with methyl, fluoro, chloro or trifluoromethyl groups; and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure 112019083295191-pct00008
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[식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18) 중, *은 결합손을 나타내고,[In Formula (10), Formula (11), Formula (12), Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (16), Formula (17), or Formula (18), * is a bond represent hands,

V1~V3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 CO-를 나타낸다.]V 1 to V 3 are each independently a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or CO-.]

V1과 V2와의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3과의 각 환에 대한 결합 위치는, 각각, 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치인 것이 바람직하고, 파라 위치인 것이 보다 바람직하다.The bonding position to each ring of V 1 and V 2 and the bonding position to each ring of V 2 and V 3 are preferably meta-position or para-position, respectively, and para-position with respect to each ring. more preferable

식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18)로 나타나는 기 중에서도, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 또는 식 (17)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 또는 식 (16)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 또한, V1~V3은, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, 각각 독립적으로, 단결합, -O- 또는 S-인 것이 바람직하고, 단결합 또는 O-인 것이 보다 바람직하다.Among the groups represented by formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) or formula (18), the From the viewpoint of surface hardness and flexibility of an optical member made of polyamideimide resin, a group represented by formula (13), formula (14), formula (15), formula (16) or formula (17) is preferable, and The group represented by (14), formula (15) or formula (16) is more preferable. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical member made of the polyamideimide resin, V 1 to V 3 are each independently preferably a single bond, -O-, or S-, and a single bond or It is more preferably O-.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4)로 나타나는 구성 단위이다. 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타나는 기이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 높은 표면 경도를 발현할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, at least one part of a plurality of Xs in formulas (1) and (2) is a structural unit represented by formula (4). When at least a part of the plurality of Xs in formulas (1) and (2) is a group represented by formula (4), the optical member made of the polyamideimide resin expresses high transparency and has high surface hardness. can express.

Figure 112019083295191-pct00009
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[식 (4) 중, R10~R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In Formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,

*은 결합손을 나타낸다.]* represents a binding hand.]

식 (4)에 있어서, R10~R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, 여기서, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. R10~R17은, 각각 독립적으로, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면 경도, 유연성 및 투명성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 수소 원자 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms more preferably, wherein the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 may each independently be substituted with a halogen atom. R 10 to R 17 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a triglyceride group, more preferably from the viewpoint of the surface hardness, flexibility and transparency of the optical member comprising the polyamideimide resin. It is a fluoromethyl group, and a hydrogen atom or a trifluoromethyl group is particularly preferred.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서는, 식 (4)로 나타나는 구성 단위는 식 (4')로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시켜, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있어, 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is a structural unit represented by formula (4'), that is, at least a part of the plurality of X's is a structural unit represented by formula (4'). In this case, the optical member made of the polyamide-imide resin exhibits high transparency, and at the same time, the solubility of the polyamide-imide resin in a solvent is improved by the fluorine element-containing skeleton, thereby forming a polyamide-imide varnish. The viscosity of can be suppressed low, and processing of an optical member can be made easy.

Figure 112019083295191-pct00010
Figure 112019083295191-pct00010

[식 (4') 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (4'), * represents a bond]

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 60몰% 이상, 특별히 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타나면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시켜, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 또한 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X의 100몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X는 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X의 식 (4)로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 60 mol% or more, particularly preferably 70 mol% of X in the polyamideimide resin % or more is represented by formula (4), particularly formula (4'). When X within the above range in the polyamideimide resin is represented by formula (4), particularly formula (4'), an optical member made of the polyamideimide resin exhibits high transparency and element fluorine. The solubility of the polyamide-imide resin in a solvent is improved by the skeleton containing , the viscosity of the polyamide-imide varnish can be kept low, and processing of optical members can be facilitated. Also preferably, 100 mol% or less of X in the polyamideimide resin is represented by formula (4), particularly formula (4'). Formula (4), especially Formula (4'), may be sufficient as X in the said polyamideimide resin. The content rate of the structural unit represented by formula (4) of X in the polyamideimide resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of raw materials.

식 (1)에 있어서, Y는, 각각 독립적으로, 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. 본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수종의 Y를 포함할 수 있고, 복수종의 Y는, 서로 동일해도 되며, 상이해도 된다. Y로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기; 그들 식으로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formula (1), Y each independently represents a tetravalent organic group, and is preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. The polyamide-imide resin, which is an embodiment of the present invention, may contain plural types of Y, and the plural types of Y may be the same as or different from each other. As Y, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) or formula ( 29); groups in which hydrogen atoms in groups represented by these formulas are substituted with methyl, fluoro, chloro or trifluoromethyl groups; and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure 112019083295191-pct00011
Figure 112019083295191-pct00011

[식 (20)~식 (29) 중,[In formula (20) to formula (29),

*은 결합손을 나타내고,* represents a bonding hand,

W1은, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.]W 1 is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- or Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms, and specific examples include phenylene groups.]

식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기 중에서도, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 황색도를 억제하기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26) 또는 식 (27)로 나타나는 기; 및 이들 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기를 들 수 있다. 또한, W1은, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 C(CF3)2-인 것이 바람직하고, 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 C(CF3)2-인 것이 보다 바람직하며, 단결합, -O-, -C(CH3)2- 또는 C(CF3)2-인 것이 더 바람직하고, -O- 또는 C(CF3)2-인 것이 특별히 바람직하다.Equation (20), Equation (21), Equation (22), Equation (23), Equation (24), Equation (25), Equation (26), Equation (27), Equation (28) and Equation (29) Among the groups shown, from the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical member comprising the polyamideimide resin, the group represented by formula (26), formula (28) or formula (29) is preferable, and represented by formula (26) Giga is more preferred. From the viewpoint of easy suppression of yellowness, preferably formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26) or formula (27) ) group represented by; and groups in which hydrogen atoms in these groups are substituted with methyl, fluoro, chloro or trifluoromethyl groups. In addition, W 1 is each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, from the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical member made of the polyamideimide resin. -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or C(CF 3 ) 2 - is preferable, and a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, - It is more preferably C(CH 3 ) 2 - or C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -O-, -C(CH 3 ) 2 - or C(CF 3 ) 2 -, -O- or C(CF 3 ) 2 - is particularly preferred.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5)로 나타나는 구성 단위이다. 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타나는 기이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 높은 굴곡성 골격에 유래하여, 당해 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시켜, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 또한 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, at least one part of a plurality of Ys in formula (1) is a structural unit represented by formula (5). When at least a part of the plurality of Ys in formula (1) is a group represented by formula (5), the optical member made of the polyamideimide resin expresses high transparency and is derived from a highly flexible skeleton, By improving the solubility of the polyamide-imide resin in a solvent, the viscosity of the polyamide-imide varnish can be kept low, and processing of optical members can be facilitated.

Figure 112019083295191-pct00012
Figure 112019083295191-pct00012

[식 (5) 중, R18~R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In Formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,

*은 결합손을 나타낸다.]* represents a binding hand.]

식 (5)에 있어서, R18~R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, 여기서, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. R18~R25는, 각각 독립적으로, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 수소 원자 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms more preferably, wherein the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 may each independently be substituted with a halogen atom. R 18 to R 25 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoro group, more preferably from the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical member comprising the polyamideimide resin. It is a methyl group, and it is a hydrogen atom or a trifluoromethyl group especially preferably.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서는, 식 (5)로 나타나는 구성 단위는, 식 (5')로 나타나는 기이며, 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 가질 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (5) is a group represented by formula (5'), that is, at least a part of the plurality of Y is a structural unit represented by formula (5'). In this case, the optical member made of the polyamideimide resin can have high transparency.

Figure 112019083295191-pct00013
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[식 (5') 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (5'), * represents a bond]

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타나면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 높은 투명성을 가질 수 있으며, 추가로 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시켜, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 또한 광학 부재의 제조가 용이하다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의 100몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면 1H-NMR를 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more of Y in the polyamideimide resin is represented by the formula (5), particularly It is represented by formula (5'). When Y within the above range in the polyamideimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'), an optical member made of the polyamideimide resin can have high transparency, and further element fluorine. The solubility of the polyamide-imide resin in the solvent is improved by the skeleton containing the, the viscosity of the polyamide-imide varnish can be kept low, and the manufacture of the optical member is easy. Also preferably, 100 mol% or less of Y in the polyamideimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'). Y in the said polyamideimide resin may be Formula (5), especially Formula (5'). The content rate of the structural unit represented by formula (5) of Y in the polyamideimide resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of raw materials.

상기 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 5,000 이상, 보다 바람직하게는 10,000 이상, 더 바람직하게는 50,000 이상, 특히 바람직하게는 70,000 이상이며, 특별히 바람직하게는 100,000 이상이고, 바람직하게는 800,000 이하, 보다 바람직하게는 600,000 이하, 더 바람직하게는 500,000 이하, 특히 바람직하게는 450,000 이하이다. 상기 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량(Mw)이 상기 하한값 이상이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 더 양호한 굴곡 내성을 가진다. 상기 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량(Mw)이 상기 상한값 이하이면, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 또한 광학 부재, 특히 광학 필름의 연신이 용이하기 때문에, 가공성이 양호하다. 또한, 본 발명에 있어서 중량 평균 분자량(Mw)은, 예를 들면, GPC 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있고, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 의해 구할 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, still more preferably 50,000 or more, particularly preferably 70,000 or more, particularly preferably 100,000 or more, It is preferably 800,000 or less, more preferably 600,000 or less, still more preferably 500,000 or less, and particularly preferably 450,000 or less. When the weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin is equal to or greater than the lower limit, the optical member containing the polyamideimide resin has better bending resistance. When the weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin is equal to or less than the above upper limit, the viscosity of the polyamideimide varnish can be kept low, and the optical member, particularly the optical film, can be easily stretched, so the workability is good. In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) can be obtained by, for example, GPC measurement and standard polystyrene conversion, and can be specifically obtained by the method described in Examples.

상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 10몰% 이상, 보다 바람직하게는 15몰% 이상, 더 바람직하게는 18몰% 이상, 특히 바람직하게는 20몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 60몰% 이하, 특히 바람직하게는 50몰% 이하이다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타나는 구성 단위의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하여, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 저감할 수 있어, 광학 부재의 제조가 용이하다. 상기 폴리아미드이미드 수지가 있어서, 식 (1)로 나타나는 구성 단위의 함유율이 상기 상한값 이하이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 표면 경도를 발휘한다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In the polyamideimide resin, the content of the structural unit represented by formula (1) is preferably 10 mol% or more relative to the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2), More preferably 15 mol% or more, still more preferably 18 mol% or more, particularly preferably 20 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 60 mol% or less, particularly preferably 50 mol% or less. In the polyamide-imide resin, when the content of the structural unit represented by formula (1) is equal to or greater than the lower limit, the thickening due to hydrogen bonds between amide bonds in formula (2) can be suppressed, and the viscosity of the polyamide-imide varnish can be reduced. Therefore, it is easy to manufacture the optical member. In the said polyamide-imide resin, if the content rate of the structural unit represented by Formula (1) is below the said upper limit, the optical member which consists of the said polyamide-imide resin will exhibit high surface hardness. In addition, the said ratio can be measured using 1 H-NMR, for example, or it can also be calculated from the introduction ratio of a raw material.

상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 20몰% 이상, 보다 바람직하게는 30몰% 이상, 더 바람직하게는 40몰% 이상, 특히 바람직하게는 50몰% 이상이며, 바람직하게는 80몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 60몰% 이하, 특히 바람직하게는 50몰% 이하이다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타나는 구성 단위의 함유율이 상기 상한값 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하여, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 저감할 수 있어, 광학 부재의 제조가 용이하다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타나는 구성 단위의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 표면 경도를 발휘한다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In the polyamideimide resin, the content of the structural unit represented by formula (2) is preferably 20 mol% or more relative to the total of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2); More preferably 30 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, particularly preferably 50 mol% or more, preferably 80 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 60 mol% mol% or less, particularly preferably 50 mol% or less. In the polyamide-imide resin, when the content of the structural unit represented by formula (1) is equal to or less than the upper limit, the thickening due to the hydrogen bond between amide bonds in formula (2) can be suppressed, and the viscosity of the polyamide-imide varnish can be reduced. Therefore, it is easy to manufacture the optical member. In the said polyamide-imide resin, when the content rate of the structural unit represented by Formula (1) is more than the said lower limit, the optical member containing the said polyamide-imide resin exhibits high surface hardness. In addition, the said ratio can be measured using 1 H-NMR, for example, or it can also be calculated from the introduction ratio of a raw material.

상기 폴리아미드이미드 수지는, 동적 점탄성 측정(DMA 측정)에 있어서의 tanδ에 의해 산출된 유리 전이 온도 Tg가, 바람직하게는 380℃ 미만, 보다 바람직하게는 379℃ 이하, 더 바람직하게는 378℃ 이하, 예를 들면 370℃ 이하이다. 상기 폴리아미드이미드 수지의 상기 유리 전이 온도 Tg가 상기 상한값 미만(또는 이하)이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재가 높은 표면 경도를 발현함과 동시에, 탄성률이 낮아, 높은 유연성을 가질 수 있다. 유리 전이 온도를 상기 범위로 제어하기 위해서는, 폴리아미드이미드를 구성하는 모노머로서, 제막하여 얻어지는 폴리아미드이미드 필름에 유연성을 부여할 수 있는 2가의 기를 가지는 모노머를 포함하는 것이 바람직하고, 유연성을 부여할 수 있는 2가의 기로서 구체적으로는, -O-, -CH2-, -CF2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-를 들 수 있고, 유연성을 부여할 수 있는 2가의 기를 가지는 모노머로서, -O-를 포함하는 2가의 기를 가지는 모노머를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 폴리아미드이미드 수지의 상기 유리 전이 온도 Tg는 통상 300℃ 이상이다. 동적 점탄성 측정(DMA 측정)에 있어서의 tanδ에 의해 유리 전이 온도를 산출하는 방법은, 구체적으로는 실시예와 같이 행할 수 있다.The polyamideimide resin has a glass transition temperature Tg calculated by tan δ in a dynamic viscoelasticity measurement (DMA measurement) of preferably less than 380°C, more preferably 379°C or less, and still more preferably 378°C or less. , for example, 370°C or less. When the glass transition temperature Tg of the polyamideimide resin is less than (or less than) the upper limit, the optical member made of the polyamideimide resin exhibits high surface hardness, low elastic modulus, and high flexibility. can In order to control the glass transition temperature within the above range, it is preferable to include, as a monomer constituting the polyamideimide, a monomer having a divalent group capable of imparting flexibility to the polyamideimide film obtained by film formation, and imparting flexibility. Examples of divalent groups that can be specifically include -O-, -CH 2 -, -CF 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, and -C(CF 3 ) 2 -, which can impart flexibility. As the monomer having a possible divalent group, it is more preferable to include a monomer having a divalent group containing -O-. Moreover, the said glass transition temperature Tg of the said polyamideimide resin is normally 300 degreeC or more. The method of calculating the glass transition temperature by tan δ in the dynamic viscoelasticity measurement (DMA measurement) can be specifically performed as in the Examples.

상기 폴리아미드이미드 수지는, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 외에, 식 (10-2)로 나타나는 구성 단위, 및/또는 식 (11-2)로 나타나는 구성 단위를 포함해도 된다.In addition to the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2), the said polyamide-imide resin has the structural unit represented by Formula (10-2), and/or the structural unit represented by Formula (11-2) units may be included.

Figure 112019083295191-pct00014
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식 (10-2)에 있어서, Y1은, 각각 독립적으로, 4가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수종의 Y1을 포함할 수 있으며, 복수종의 Y1은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In Formula (10-2), Y 1 is each independently a tetravalent organic group, and is preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 1 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) or formula The group represented by (29) and a tetravalent C6 or less chain hydrocarbon group are exemplified. The polyamide-imide resin according to one embodiment of the present invention may contain plural types of Y 1 , and the plural types of Y 1 may be the same as or different from each other.

식 (11-2)에 있어서, Y2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는, 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수종의 Y2를 포함할 수 있으며, 복수종의 Y2는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In the formula (11-2), Y 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 2 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) Alternatively, a group in which any one of the bonds of the group represented by Formula (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. The polyamide-imide resin according to an embodiment of the present invention may contain plural types of Y 2 , and the plural types of Y 2 may be the same as or different from each other.

식 (10-2) 및 식 (11-2)에 있어서, X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는, 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18)로 나타나는 기; 그들 식으로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In formulas (10-2) and (11-2), X 1 and X 2 are each independently a divalent organic group, and preferably a hydrogen atom in the organic group is substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is an organic group which may be. As X 1 and X 2 , formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) or formula (18) ) group represented by; groups in which hydrogen atoms in groups represented by these formulas are substituted with methyl, fluoro, chloro or trifluoromethyl groups; and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지는, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위, 및 경우에 따라 식 (10-2) 및/또는 식 (11-2)로 나타나는 구성 단위로 이루어진다. 또한, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 유연성 및 표면 경도의 관점에서, 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (10-2) 및 식 (11-2)로 나타나는 전체 구성 단위에 의거하여, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상, 더 바람직하게는 95% 이상이다. 또한, 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 식 (1) 또는 식 (2), 혹은 경우에 따라 식 (10-2) 또는 식 (11-2)로 나타나는 전체 구성 단위에 의거하여, 통상 100% 이하이다. 또한, 상기 함유율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyamideimide resin is a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2), and in some cases, formula (10-2) and/or formula (11) It consists of the constituent units represented by -2). Further, from the viewpoint of flexibility and surface hardness of the optical member comprising the polyamideimide resin, in the polyamideimide resin, the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) are (1) and formula (2), and based on the total structural units represented by formulas (10-2) and (11-2) as the case may be, preferably 80% or more, more preferably 90% or more, More preferably, it is 95% or more. In addition, in the polyamideimide resin, the content of the structural unit represented by formula (1) and the structural unit represented by formula (2) is formula (1) or formula (2), or in some cases, formula (10-2 ) Or it is usually 100% or less based on all structural units represented by Formula (11-2). In addition, the said content rate can be measured using <1> H-NMR, for example, or it can also be calculated from the introduction ratio of a raw material.

폴리아미드이미드 수지는, 예를 들면, 후술하는 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로서 제조할 수 있다. 여기서, 디카르본산 화합물은 적어도 식 (3'')으로 나타나는 화합물을 포함한다.The polyamide-imide resin can be produced, for example, using a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound described later as main raw materials. Here, the dicarboxylic acid compound includes at least a compound represented by formula (3'').

Figure 112019083295191-pct00015
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[식 (3'') 중, R1~R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In formula (3''), each of R 1 to R 8 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in R 1 to R 8 is , may each independently be substituted with a halogen atom,

A는, -O-, -S-, -CO- 또는 NR9-를 나타내고, R9는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화수소기를 나타내며,A represents -O-, -S-, -CO- or NR 9 -, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 1~4의 정수이고,m is an integer from 1 to 4;

R31 및 R32는, 각각 독립적으로, -OH 또는 Cl이다.]R 31 and R 32 are each independently —OH or Cl.]

바람직한 실시 양태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, A가 -O-인, 식 (3'')으로 나타나는 화합물이다. 또한, 다른 바람직한 실시 양태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R32가 -Cl인, 식 (3'')으로 나타나는 화합물이다. 또한, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다.In a preferred embodiment, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3'') wherein A is -O-. In another preferred embodiment, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3'') in which R 32 is -Cl. Moreover, you may use a diisocyanate compound instead of a diamine compound.

폴리아미드이미드 수지의 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라 카르본산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 2무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라 카르본산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 2무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the synthesis of the polyamideimide resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid and an anhydride thereof, preferably a dianhydride thereof; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid and its anhydride, preferably its dianhydride. A tetracarboxylic acid compound may be used independently, and may use 2 or more types together. The tetracarboxylic acid compound may be an analog of a tetracarboxylic acid compound such as an acid chloride compound other than a dianhydride. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물(OPDA라고 기재하는 경우가 있음), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물(BPDA라고 기재하는 경우가 있음), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 또한, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2무수물이, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2무수물이, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. Specific examples of non-fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (sometimes described as OPDA), 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (sometimes described as BPDA), 2, 2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfotetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoro Isopropylidene)diphthalic dianhydride (sometimes described as 6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl) Ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl) Methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic acid 2 Anhydride can be mentioned. In addition, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride is used as monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic is used as condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. As the aromatic tetracarboxylic dianhydride in which the main acid dianhydride is condensed polycyclic, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride is exemplified. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

이들 중에서도, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물이 바람직하고, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물이 보다 바람직하다.Among these, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfotetra Carboxylic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4 -Dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1 -bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride , bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride and 4,4' -(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride is preferred, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'- (Hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride is more preferable.

지방족 테트라카르본산 2무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 가지는 테트라카르본산 2무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2무수물, 디시클로헥실 3,3'-4,4'-테트라카르본산 2무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물을 조합하여 이용해도 된다.Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. Cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4- Cycloalkane tetracarboxylic dianhydride such as cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-en-2,3, 5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3'-4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and positional isomers thereof. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. or a combination of two or more may be used. Moreover, you may use combining cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 테트라카르본산 2무수물 중에서도, 광학 부재의 고표면 경도, 고유연성, 고굴곡 내성, 고투명성 및 저착색성의 관점에서, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 및 이들의 혼합물이 바람직하고, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물, 및 이들의 혼합물이 보다 바람직하며, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물이 더 바람직하다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4 from the viewpoints of high surface hardness, high flexibility, high bending resistance, high transparency, and low colorability of optical members '-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3' ,4,4'-diphenylsulfotetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride , and mixtures thereof are preferred, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene )diphthalic dianhydride, and mixtures thereof are more preferred, and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride is still more preferred.

폴리아미드이미드 수지의 합성에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 4,4'-옥시비스벤조산 및/또는 그 산 클로라이드 화합물이 이용된다. 구체적으로는, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)를 바람직한 예로서 들 수 있다. 4,4'-옥시비스벤조산 또는 그 산 클로라이드 화합물에 추가해, 다른 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 다른 디카르본산 화합물로서는, 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는, 테레프탈산; 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물 및 그들의 산 클로라이드 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 테레프탈로일클로라이드를 바람직한 예로서 들 수 있다.As the dicarboxylic acid compound used in the synthesis of the polyamideimide resin, 4,4'-oxybisbenzoic acid and/or acid chloride compounds thereof are preferably used. Specifically, 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) is mentioned as a preferable example. In addition to 4,4'-oxybisbenzoic acid or its acid chloride compound, other dicarboxylic acid compounds may be used. As another dicarboxylic acid compound, aromatic dicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acid, and their derivative acid chloride compound, acid anhydride, etc. are mentioned, You may use 2 or more types together. As a specific example, terephthalic acid; isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids connected by a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or a phenylene group. compounds and their acid chloride compounds. Specifically, terephthaloyl chloride is exemplified as a preferred example.

또한, 상기 폴리아미드이미드 수지는, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 각종 물성을 손상시키지 않는 범위에서, 상기의 폴리아미드이미드 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물에 추가해, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition, the polyamide-imide resin, in addition to the tetracarboxylic acid compound used in the polyamide-imide synthesis, tetracarboxylic acid and Tricarboxylic acids and their anhydrides and derivatives may be further reacted.

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 수(水) 부가체를 들 수 있다.As tetracarboxylic acid, the water adduct of the anhydride of the said tetracarboxylic acid compound is mentioned.

트리카르본산 화합물로서는, 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다.As a tricarboxylic acid compound, aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, and their derivative acid chloride compounds, acid anhydrides, etc. are mentioned, You may use 2 or more types together.

구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 혹은 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalene tricarboxylic acid-2,3-anhydride; and compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are connected by a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or a phenylene group.

폴리아미드이미드 수지의 합성에 이용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 그 밖의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 축합환이어도 되고, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환이다. 또한 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 그 밖의 치환기를 포함하고 있어도 된다.As a diamine compound used for the synthesis|combination of polyamideimide resin, aliphatic diamine, aromatic diamine, and mixtures thereof are mentioned, for example. In the present embodiment, "aromatic diamine" refers to diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and may contain an aliphatic group or other substituent in a part of its structure. This aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring, but are not limited thereto. Among these, a benzene ring is preferable. In addition, "aliphatic diamine" represents diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and may contain an aromatic ring or other substituents in a part of its structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine and 4, and cyclic aliphatic diamines such as 4'-diaminodicyclohexylmethane. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 및 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 가지는 방향족 디아민; 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르(ODA라고 기재하는 경우가 있음), 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘(MB라고 기재하는 경우가 있음), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 및 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 가지는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, and aromatic diamines having one aromatic ring such as 2,6-diaminonaphthalene; 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether (sometimes described as ODA), 3,4'-diaminodi Phenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4 -bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone , bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine (sometimes written as MB), 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine (sometimes written as TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino Aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as -3-chlorophenyl)fluorene and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene; These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이며, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As aromatic diamine, preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy) ) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) phenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone , 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2 ,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl, and 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 부재의 고표면 경도, 고유연성, 고굴곡 내성, 고투명성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 가지는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the above diamine compounds, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoint of high surface hardness, high flexibility, high bending resistance, high transparency and low colorability of the optical member. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use at least one selected from the group, and it is even more preferable to use 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine.

본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드 수지는, 디아민 화합물과, 테트라카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르본산 2무수물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체) 및 디카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르본산 화합물 유연체), 및 경우에 따라 트리카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르본산 무수물 등의 트리카르본산 화합물 유연체)과의 중축합 생성물인 축합형 고분자이다. 식 (1) 및 식 (10-2)로 나타나는 구성 단위는, 통상, 디아민류 및 테트라카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (2)로 나타나는 구성 단위는, 통상, 디아민 및 디카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (11-2)로 나타나는 구성 단위는, 통상, 디아민 및 트리카르본산 화합물로부터 유도된다.The polyamideimide resin, which is an embodiment of the present invention, is a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound (an acid chloride compound, a tetracarboxylic acid compound analog such as tetracarboxylic dianhydride), and a dicarboxylic acid compound (acid chloride compound, etc.) It is a condensation-type polymer that is a polycondensation product of a dicarboxylic acid compound analogue), and in some cases a tricarboxylic acid compound (an analogue of a tricarboxylic acid compound such as an acid chloride compound or a tricarboxylic acid anhydride). Structural units represented by formula (1) and formula (10-2) are usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The structural unit represented by Formula (2) is normally derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. The structural unit represented by Formula(11-2) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound.

본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지에는, 상기와 같이, 할로겐 원자가 포함될 수 있다. 함불소 치환기의 구체예로서는, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다. 폴리아미드이미드 수지가 할로겐 원자를 포함함으로써, 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 황색도(YI라고 기재하는 경우가 있음)를 저감시킬 수 있는 경우가 있으며, 추가로 높은 유연성 및 굴곡 내성을 양립시킬 수 있는 경향이 있다. 또한, 광학 부재의 황색도의 저감(즉, 투명성의 향상), 흡수율의 저감, 및 내굴곡성의 관점에서, 할로겐 원자는 바람직하게는 불소 원자이다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyamideimide resin may contain a halogen atom as described above. Specific examples of the fluorine-containing substituent include a fluoro group and a trifluoromethyl group. By containing a halogen atom in the polyamide-imide resin, the yellowness (sometimes described as YI) of an optical member made of the polyamide-imide resin can be reduced in some cases, and further high flexibility and bending resistance can be obtained. They tend to be compatible. Further, the halogen atom is preferably a fluorine atom from the viewpoints of reducing the yellowness of the optical member (namely, improving transparency), reducing the water absorption, and bending resistance.

폴리아미드이미드 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유율은, 황색도의 저감(투명성의 향상), 흡수율의 저감, 및 광학 부재의 변형 억제의 관점에서, 폴리아미드이미드 수지의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1~40질량%, 보다 바람직하게는 3~35질량%, 더 바람직하게는 5~32질량%이다.The content of halogen atoms in the polyamide-imide resin is preferably based on the mass of the polyamide-imide resin from the viewpoint of reducing the yellowness (improving transparency), reducing the water absorption, and suppressing deformation of the optical member. is 1 to 40% by mass, more preferably 3 to 35% by mass, and still more preferably 5 to 32% by mass.

본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지의 합성 반응에 있어서, 이미드화 촉매가 존재해도 된다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘, 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다.In one embodiment of the present invention, an imidation catalyst may be present in the synthesis reaction of polyamideimide resin. Examples of the imidation catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2.2]nonane; and pyridine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3 and aromatic amines such as ,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline.

디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 50~350℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 30분~10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 반응을 행해도 된다. 또한, 반응은 용제 중에서 행해도 되고, 용제로서는 예를 들면, 폴리아미드이미드 바니시의 조제에 이용되는 후술하는 용제를 들 수 있다.The reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound, and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 50 to 350°C. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under an inert atmosphere or reduced pressure. In addition, the reaction may be performed in a solvent, and examples of the solvent include solvents described below used for preparation of polyamideimide varnish.

(광학 부재)(optical member)

본 발명의 다른 실시 양태에 있어서는, 상기 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 폴리아미드이미드 필름인 광학 부재도 제공된다. 광학 부재로서는, 예를 들면 광학 필름을 들 수 있다. 당해 광학 부재는, 유연성, 굴곡 내성 및 표면 경도가 우수하기 때문에, 화상 표시 장치의 전면판, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도우 필름)으로서 적당하다. 광학 부재는 단층이어도 되고, 복층이어도 된다. 광학 부재가 복층인 경우, 각 층은 동일한 조성이어도 되고, 상이한 조성이어도 된다.In another embodiment of the present invention, an optical member that is a polyamideimide film containing the polyamideimide resin is also provided. As an optical member, an optical film is mentioned, for example. Since the said optical member is excellent in flexibility, bending resistance, and surface hardness, it is suitable as the front plate of an image display apparatus, especially the front plate (window film) of a flexible display. A single layer or a multi-layer may be sufficient as an optical member. When the optical member is a multilayer, each layer may have the same composition or a different composition.

본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 광학 부재 중에 있어서의 폴리아미드이미드 수지의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 40질량% 이상, 보다 바람직하게는 50질량% 이상, 더 바람직하게는 70질량% 이상, 특히 바람직하게는 80질량% 이상, 매우 바람직하게는 90질량% 이상이다. 폴리아미드이미드 수지의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 광학 부재의 굴곡 내성이 양호하다. 또한, 광학 부재 중에 있어서의 폴리아미드이미드 수지의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량을 기준으로 하여, 통상 100질량% 이하이다.In one embodiment of the present invention, the content of the polyamideimide resin in the optical member is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total mass of the optical member. It is preferably 70% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more, and very preferably 90% by mass or more. When the content of the polyamide-imide resin is equal to or greater than the lower limit, the bending resistance of the optical member is good. Moreover, the content rate of polyamide-imide resin in an optical member is 100 mass % or less normally on the basis of the total mass of an optical member.

(무기 재료)(inorganic material)

광학 부재는, 폴리아미드이미드 수지 외에 무기 입자 등의 무기 재료를 더 함유해도 된다. 무기 재료로서, 예를 들면, 티타니아 입자, 알루미나 입자, 지르코니아 입자, 실리카 입자 등의 무기 입자, 및 오르토 규산 테트라에틸 등의 4급 알콕시실란 등의 규소 화합물 등을 들 수 있다. 광학 부재를 제조하기 위한 폴리아미드이미드 바니시의 안정성의 관점에서, 무기 재료는 무기 입자, 특히 실리카 입자인 것이 바람직하다. 무기 입자끼리는, 실록산 결합(즉, -SiOSi-)을 가지는 분자에 의해 결합되어 있어도 된다.The optical member may further contain inorganic materials such as inorganic particles in addition to polyamideimide resin. Examples of the inorganic material include inorganic particles such as titania particles, alumina particles, zirconia particles, and silica particles, and silicon compounds such as quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl orthosilicate. From the viewpoint of the stability of the polyamideimide varnish for producing an optical member, the inorganic material is preferably inorganic particles, particularly silica particles. The inorganic particles may be bonded to each other by a molecule having a siloxane bond (ie, -SiOSi-).

무기 입자의 평균 1차 입자경은, 광학 부재의 투명성, 기계 물성, 및 무기 입자의 응집 억제의 관점에서, 바람직하게는 10~100㎚이며, 보다 바람직하게는 20~80㎚이다. 본 발명에 있어서, 평균 1차 입자경은, 투과형 전자 현미경에 의한 정방향경(徑)의 10점 평균값을 측정함으로써 결정할 수 있다.The average primary particle diameter of the inorganic particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 80 nm, from the viewpoints of transparency of the optical member, mechanical properties, and suppression of aggregation of the inorganic particles. In the present invention, the average primary particle size can be determined by measuring the 10-point average value of the positive direction diameters using a transmission electron microscope.

광학 부재 중의 무기 재료의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0질량% 이상 90질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01질량% 이상 60질량% 이하, 더 바람직하게는 5질량% 이상 40질량% 이하이다. 무기 재료의 함유율이 상기 범위 내이면, 광학 부재의 투명성 및 기계 물성을 양립시키기 쉬운 경향이 있다.The content of the inorganic material in the optical member is preferably 0% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 60% by mass or less, still more preferably 5% by mass, based on the total mass of the optical member. % or more and 40 mass % or less. When the content of the inorganic material is within the above range, it tends to be easy to achieve both transparency and mechanical properties of the optical member.

(자외선 흡수제)(ultraviolet ray absorbent)

광학 부재는, 1종 또는 2종 이상의 자외선 흡수제를 함유하고 있어도 된다. 자외선 흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선 흡수제로서 통상 이용되고 있는 것으로부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선 흡수제는, 400㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 광학 부재가 자외선 흡수제를 함유함으로써, 폴리아미드이미드 수지의 열화가 억제되기 때문에, 광학 부재의 시인성을 높일 수 있다.The optical member may contain 1 type, or 2 or more types of ultraviolet absorbers. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone-based compounds, salicylate-based compounds, benzotriazole-based compounds, and triazine-based compounds. Since deterioration of polyamide-imide resin is suppressed when an optical member contains a ultraviolet absorber, the visibility of an optical member can be improved.

본 명세서에 있어서, 「계 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 부여되는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합하고 있는 치환기를 가지는 화합물을 가리킨다.In the present specification, a "system compound" refers to a derivative of a compound to which the "system compound" is given. For example, "benzophenone compound" refers to a compound having benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to benzophenone.

광학 부재가 자외선 흡수제를 함유하는 경우, 자외선 흡수제의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량에 대하여, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 2질량% 이상, 더 바람직하게는 3질량% 이상이며, 바람직하게는 10질량% 이하, 보다 바람직하게는 8질량% 이하, 더 바람직하게는 6질량% 이하이다. 바람직한 함유율은 이용하는 자외선 흡수제에 따라 상이하지만, 400㎚의 광선투과율이 20~60% 정도가 되도록 자외선 흡수제의 함유율을 조절하면, 광학 부재의 내광성을 높일 수 있음과 함께, 투명성이 높은 광학 부재를 얻을 수 있다.When the optical member contains a UV absorber, the content of the UV absorber is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and still more preferably 3% by mass or more with respect to the total mass of the optical member. , Preferably it is 10 mass % or less, More preferably, it is 8 mass % or less, More preferably, it is 6 mass % or less. Although the preferable content rate varies depending on the ultraviolet absorber used, adjusting the content rate of the ultraviolet absorber so that the light transmittance of 400 nm is about 20 to 60% can improve the light resistance of the optical member and obtain an optical member with high transparency. can

(다른 첨가제)(other additives)

광학 부재는, 또 다른 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들면, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제, 난연제, pH 조정제, 실리카 분산제, 활제, 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다.The optical member may also contain other additives. Examples of other components include antioxidants, release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, and leveling agents.

다른 첨가제의 함유율은, 광학 부재의 질량에 대하여, 바람직하게는 0질량% 이상 20질량% 이하, 보다 바람직하게는 0질량% 이상 10질량% 이하이다.The content of the other additives is preferably 0% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less, based on the mass of the optical member.

광학 부재, 특히 광학 필름의 두께는, 용도에 따라 적절히 조정되지만, 통상 10~1000㎛, 바람직하게는 15~500㎛, 보다 바람직하게는 20~400㎛, 더 바람직하게는 25~300㎛이다. 또한, 본 발명에 있어서, 두께는 접촉식의 디지매틱 인디케이터에 의해 측정할 수 있다.The thickness of the optical member, particularly the optical film, is appropriately adjusted depending on the application, but is usually 10 to 1000 µm, preferably 15 to 500 µm, more preferably 20 to 400 µm, and still more preferably 25 to 300 µm. Further, in the present invention, the thickness can be measured by a contact type digimatic indicator.

광학 부재에 있어서, JIS K 7105:1981에 준거한 전광선 투과율 Tt가 바람직하게는 70% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다. 광학 부재의 전광선 투과율 Tt가 상기 하한값 이상이면, 광학 부재를 화상 표시 장치에 조립하였을 때에, 충분한 시인성을 확보할 수 있다. 또한, 광학 부재의 전광선 투과율 Tt의 상한값은 통상 100% 이하이다.The optical member WHEREIN: The total light transmittance Tt based on JIS K 7105:1981 is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. When the total light transmittance Tt of an optical member is more than the said lower limit, when an optical member is incorporated in an image display apparatus, sufficient visibility is securable. Moreover, the upper limit of the total light transmittance Tt of an optical member is 100% or less normally.

(광학 부재의 제조 방법)(Method of manufacturing optical member)

상기 광학 부재, 특히 광학 필름의 제조 방법은, 광학 부재가 상기 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 한, 특별히 한정되지 않는다. 본 발명의 일 실시 양태에 있어서 광학 부재, 특히 광학 필름은, 예를 들면 이하의 공정:The method for manufacturing the optical member, particularly the optical film, is not particularly limited as long as the optical member contains the polyamideimide resin. In one embodiment of the present invention, the optical member, particularly the optical film, is, for example, the following steps:

(a) 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 액(폴리아미드이미드 바니시)을 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정), 및 (a) a step of applying a liquid containing polyamideimide resin (polyamideimide varnish) to a substrate to form a coating film (application step), and

(b) 도포된 액(폴리아미드이미드 바니시)을 건조시켜 광학 부재, 특히 광학 필름(폴리아미드이미드 필름)을 형성하는 공정(형성 공정)을 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 공정 (a) 및 (b)는, 통상 이 순서로 행할 수 있다.(b) It can be manufactured by a manufacturing method including a step of drying the applied liquid (polyamideimide varnish) to form an optical member, particularly an optical film (polyamideimide film) (formation step). Steps (a) and (b) can usually be performed in this order.

도포 공정에 있어서는, 우선 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 액(폴리아미드이미드 바니시)을 조제한다. 폴리아미드이미드 바니시의 조제를 위해, 상기 디아민 화합물, 상기 테트라카르본산 화합물, 상기 디카르본산 화합물, 및 필요에 따라, 이미드화 촉매로서 작용하는 3급 아민, 탈수제 등의 다른 성분을 혼합하고, 반응시켜 폴리아미드이미드 혼합액을 조제한다. 3급 아민으로서는, 전술의 방향족 아민이나 지방족 아민 등을 들 수 있다. 탈수제로서는, 무수 아세트산이나 프로피온산 무수물, 이소부티르산 무수물, 피발산 무수물, 부티르산 무수물, 이소발레르산 무수물 등을 들 수 있다. 이 폴리아미드이미드 혼합액에 빈용매(貧溶媒)를 가해 재침전법에 의해 폴리아미드이미드 수지를 석출시키고, 건조하여 침전물로 취출한다.In the application step, first, a liquid containing polyamide-imide resin (polyamide-imide varnish) is prepared. For the preparation of the polyamideimide varnish, the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound, the dicarboxylic acid compound, and other components such as a tertiary amine acting as an imidation catalyst, a dehydrating agent, and the like are mixed as necessary, and the reaction to prepare a polyamideimide mixture. As a tertiary amine, the above-mentioned aromatic amine, aliphatic amine, etc. are mentioned. Examples of the dehydrating agent include acetic anhydride, propionic anhydride, isobutyric anhydride, pivalic anhydride, butyric anhydride, and isovaleric anhydride. A poor solvent is added to this polyamide-imide mixture, the polyamide-imide resin is precipitated by a reprecipitation method, dried, and taken out as a precipitate.

취출한 폴리아미드이미드 수지 침전물을 용제에 용해하고, 필요에 따라 상기 자외선 흡수제 및 다른 첨가제를 첨가하고, 교반함으로써, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 액(폴리아미드이미드 바니시)을 조제한다.The polyamide-imide resin precipitate taken out is dissolved in a solvent, and a liquid containing polyamide-imide resin (polyamide-imide varnish) is prepared by adding and stirring the ultraviolet absorber and other additives as necessary.

폴리아미드이미드 바니시의 조제에 이용되는 용제는, 폴리아미드이미드 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용제로서는, 예를 들면 N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용제; γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용제; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함황계 용제; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용제; 및 그들의 조합(혼합 용제)을 들 수 있다. 이들 용제 중에서도, 아미드계 용제 또는 락톤계 용제가 바람직하다. 또한, 폴리아미드이미드 바니시에는 물, 알코올계 용제, 케톤계 용제, 비환상 에스테르계 용제, 에테르계 용제 등이 포함되어도 된다.The solvent used for preparing the polyamideimide varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the polyamideimide resin. Examples of such a solvent include amide solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof (mixed solvents). Among these solvents, amide-based solvents or lactone-based solvents are preferred. Further, the polyamideimide varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, or the like.

이어서, 예를 들면 공지의 롤·투·롤이나 배치 방식에 의해, 수지 기재, SUS 벨트, 또는 유리 기재 등의 기재 상에, 폴리아미드이미드 바니시를 이용하여, 유연(流涎) 성형 등에 의해 도막을 형성할 수 있다.Subsequently, a coating film is formed by casting or the like using a polyamideimide varnish on a substrate such as a resin substrate, a SUS belt, or a glass substrate by a known roll-to-roll or batch method, for example. can form

형성 공정에 있어서, 도막을 건조하고, 기재로부터 박리함으로써, 광학 부재를 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 광학 부재를 건조시키는 건조 공정을 행해도 된다. 도막의 건조는, 통상 50~350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다.In the forming step, the optical member can be formed by drying the coating film and peeling it from the base material. You may perform the drying process of drying an optical member further after peeling. Drying of the coating film can be normally performed at a temperature of 50 to 350°C. If necessary, the coating film may be dried in an inert atmosphere or under reduced pressure.

광학 부재의 적어도 일방의 표면에, 표면 처리를 실시하는 표면 처리 공정을 행해도 된다. 표면 처리로서는, 예를 들면 UV 오존 처리, 플라즈마 처리, 및 코로나 방전 처리를 들 수 있다.You may perform the surface treatment process of giving surface treatment to the surface of at least one side of an optical member. As surface treatment, UV ozone treatment, plasma treatment, and corona discharge treatment are mentioned, for example.

수지 기재의 예로서는, PET 필름, PEN 필름, 폴리이미드 필름, 및 폴리아미드이미드 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 내열성이 우수한 관점에서, PET 필름, PEN 필름, 폴리이미드 필름, 및 다른 폴리아미드이미드 필름이 바람직하다. 또한, 광학 부재와의 밀착성 및 비용의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.Examples of the resin substrate include PET film, PEN film, polyimide film, and polyamideimide film. Among them, from the viewpoint of excellent heat resistance, a PET film, a PEN film, a polyimide film, and other polyamideimide films are preferable. Further, from the viewpoints of adhesiveness with optical members and cost, a PET film is more preferred.

[기능층][functional layer]

본 발명의 일 실시 양태인 광학 부재는 기능층을 구비해도 된다. 기능층으로서는, 자외선 흡수층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층 등의 다양한 기능을 가지는 층을 들 수 있다. 광학 부재는, 단수 또는 복수의 기능층을 구비하고 있어도 된다. 또한, 하나의 기능층이 복수의 기능을 가져도 된다.An optical member according to an embodiment of the present invention may include a functional layer. Examples of the functional layer include layers having various functions such as a UV absorbing layer, an adhesive layer, a color adjusting layer, and a refractive index adjusting layer. The optical member may be provided with one or a plurality of functional layers. Also, one functional layer may have a plurality of functions.

자외선 흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 가지는 층이며, 예를 들면, 자외선 경화형의 투명 수지, 전자선 경화형의 투명 수지, 및 열경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선 흡수제로 구성된다. 기능층으로서 자외선 흡수층을 마련함으로써, 광조사에 의한 황색도의 변화를 용이하게 억제할 수 있다.The ultraviolet absorbing layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays, and includes, for example, a main material selected from ultraviolet curable transparent resins, electron beam curable transparent resins, and thermosetting transparent resins, and dispersed in the main material. Composed of UV absorbers. By providing an ultraviolet ray absorbing layer as a functional layer, a change in yellowness due to light irradiation can be easily suppressed.

점착층은, 점착성의 기능을 가지는 층이며, 광학 부재를 다른 부재에 접착시키는 기능을 가진다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다.The adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering an optical member to another member. As the material for forming the adhesive layer, a commonly known material can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used.

점착층은, 중합성 관능기를 가지는 성분을 포함하는 수지 조성물로 구성되어 있어도 된다. 이 경우, 광학 부재를 다른 부재에 밀착시킨 후에 점착층을 구성하는 수지 조성물을 추가로 중합시킴으로써, 강고한 접착을 실현할 수 있다. 광학 부재와 점착층과의 접착 강도는, 0.1N/cm 이상, 또는 0.5N/cm 이상이어도 된다.The adhesive layer may be composed of a resin composition containing a component having a polymerizable functional group. In this case, strong adhesion can be realized by further polymerizing the resin composition constituting the adhesive layer after the optical member is brought into close contact with the other member. The adhesive strength between the optical member and the pressure-sensitive adhesive layer may be 0.1 N/cm or more or 0.5 N/cm or more.

점착층은, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 재료로서 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.The adhesive layer may contain a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition as a material. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy ex post facto.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 부착되는 접착제로 구성되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 가지고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착하는 물질」(JIS K6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로캡슐)에 내용(內容)하고, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지(保持)할 수 있는 접착제」(JIS K6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The pressure-sensitive adhesive layer may be a layer composed of an adhesive called a pressure sensitive adhesive (PSA) that adheres to an object by pressure. The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive that is “a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to adherends with light pressure” (JIS K6800), or “a specific component is incorporated into a protective film (microcapsule) and suitable means An adhesive capable of maintaining stability until the film is destroyed by (pressure, heat, etc.)” (JIS K6800) may be a capsule type adhesive.

색상 조정층은, 색상 조정의 기능을 가지는 층이며, 광학 부재를 목적의 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상 조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는, 예를 들면, 산화 티탄, 산화 아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산 바륨, 및 탄산 칼슘 등의 체질 안료; 및 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.A color adjustment layer is a layer which has a function of color adjustment, and is a layer which can adjust an optical member to a target color. A color adjusting layer is a layer containing resin and a coloring agent, for example. Examples of the coloring agent include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, bengala, titanium oxide-based fired pigments, ultramarine blue, cobalt aluminate, and carbon black; organic pigments such as azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, perylene-based compounds, isoindolinone-based compounds, phthalocyanine-based compounds, quinophthalone-based compounds, threnic compounds, and diketopyrrolopyrrole-based compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

굴절률 조정층은, 굴절률 조정의 기능을 가지는 층이며, 광학 부재와는 상이한 굴절률을 가지고, 광학 부재에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률 조정층은, 예를 들면, 적절히 선택된 수지, 및 경우에 따라 추가로 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다.The refractive index adjustment layer is a layer having a refractive index adjustment function, has a refractive index different from that of the optical member, and is a layer capable of imparting a predetermined refractive index to the optical member. The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin layer containing an appropriately selected resin and, in some cases, a pigment, or may be a metal thin film.

굴절률을 조정하는 안료로서는, 예를 들면, 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 안티몬, 산화 주석, 산화 티탄, 산화 지르코늄 및 산화 탄탈을 들 수 있다. 안료의 평균 1차 입자경은, 0.1㎛ 이하여도 된다. 안료의 평균 1차 입자경을 0.1㎛ 이하로 함으로써, 굴절률 조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지하여, 투명도의 저하를 방지할 수 있다.As a pigment for adjusting the refractive index, silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide are exemplified. The average primary particle diameter of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle diameter of the pigment to 0.1 μm or less, irregular reflection of light passing through the refractive index adjusting layer can be prevented, and a decrease in transparency can be prevented.

굴절률 조정층에 이용되는 금속으로서는, 예를 들면, 산화 티탄, 산화 탄탈, 산화 지르코늄, 산화 아연, 산화 주석, 산화 규소, 산화 인듐, 산질화 티탄, 질화 티탄, 산질화 규소, 질화 규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.As a metal used for a refractive index adjustment layer, metals, such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, silicon nitride, for example oxides or metal nitrides.

또한, 광학 부재는, 하드 코팅층을 구비해도 된다. 하드 코팅층으로서는, 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계, 벤질클로라이드계, 비닐계 등의 공지의 하드 코팅을 들 수 있다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서는, 광학 부재는, 하드 코팅층이 없더라도, 높은 표면 경도를 발현할 수 있다. 이 때문에, 당해 폴리아미드이미드 수지로 이루어지는 광학 부재를 포함하는 하드 코팅층 적층체는, 단독으로 높은 표면 경도를 발현할 수 없는 광학 부재를 포함하는 하드 코팅 적층체보다 높은 표면 경도를 발현할 수 있다.Moreover, the optical member may be provided with a hard coat layer. As the hard coating layer, well-known hard coatings such as acrylic, epoxy, urethane, benzyl chloride, and vinyl are exemplified. Further, in a preferred embodiment of the present invention, the optical member can develop high surface hardness even without a hard coat layer. For this reason, the hard coat layer laminate containing the optical member made of the polyamide-imide resin can express higher surface hardness than the hard coat laminate containing the optical member which cannot express high surface hardness alone.

상기 광학 부재는, 높은 표면 경도를 발현할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 광학 부재의 표면 경도는, 바람직하게는 2B 이상, 보다 바람직하게는 B 이상, 더 바람직하게는 HB 이상, 특히 바람직하게는 H 이상, 매우 바람직하게는 2H 이상이다. 광학 부재의 표면 경도가 상기 하한값 이상이면, 화상 표시 장치의 전면판(윈도우 필름)으로서 사용한 경우에 화상 표시 장치 표면의 흠집을 유리하게 억제할 수 있고, 또한, 광학 부재의 수축 및 팽창 방지에 기여할 수 있다. 또한, 광학 부재의 표면 경도는, 통상 9H 이하이다. 또한, 본 발명에 있어서, 표면 경도는 JIS K5600-5-4:1999에 따라 측정할 수 있고, 예를 들면 하중은 100g, 주사 속도는 60㎜/min으로서, 4000럭스의 환경하에서 흠집의 유무의 평가를 행할 수 있다. 플렉시블 디스플레이의 유연성을 이용하여, 화상 표시 장치를 플랫 형상뿐만 아니라 다양한 형상으로 할 수 있지만, 화상 표시 장치의 플렉시블화에 따라, 사용자가 화면을 직접 만지거나, 화면에 주위의 물체가 직접 접촉하거나 하는 기회가 늘어난다. 이 때문에, 본 발명의 일 실시 양태인 광학 부재는, 플렉시블 디스플레이의 전면판으로서 매우 유용하다.The said optical member can express high surface hardness. In a preferred embodiment of the present invention, the surface hardness of the optical member is preferably 2B or more, more preferably B or more, still more preferably HB or more, particularly preferably H or more, very preferably 2H or more to be. If the surface hardness of the optical member is equal to or greater than the lower limit, it is possible to advantageously suppress scratches on the surface of the image display device when used as a front plate (window film) of the image display device, and also contribute to preventing shrinkage and expansion of the optical member. can Moreover, the surface hardness of an optical member is 9H or less normally. Further, in the present invention, the surface hardness can be measured according to JIS K5600-5-4: 1999, for example, the load is 100 g, the scanning speed is 60 mm / min, and the presence or absence of scratches in an environment of 4000 lux evaluation can be made. Using the flexibility of the flexible display, the image display device can be made into various shapes as well as the flat shape. opportunities increase. For this reason, the optical member of one embodiment of the present invention is very useful as a front plate of a flexible display.

상기 광학 부재는, 높은 유연성을 발현할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 광학 부재의 탄성률은, 바람직하게는 5.9GPa 이하, 보다 바람직하게는 5.5GPa 이하, 더 바람직하게는 5.2GPa 이하, 특히 바람직하게는 5.0GPa 이하, 매우 바람직하게는 4.5GPa 이하이다. 광학 부재의 탄성률이 상기 상한값 이하이면, 플렉시블 디스플레이가 굴곡될 때에, 상기 광학 부재에 의한 다른 부재의 손상을 억제할 수 있다. 또한, 광학 부재의 탄성률은, 통상 2.0GPa 이상이다. 탄성률은, 예를 들면 (주)시마즈제작소제 오토그래프 AG-IS를 이용하여, 10㎜ 폭의 시험편을 척간 거리 500㎜, 인장 속도 20㎜/min의 조건으로 S-S 곡선을 측정하고, 그 기울기로부터 측정할 수 있다.The said optical member can express high flexibility. In a preferred embodiment of the present invention, the modulus of elasticity of the optical member is preferably 5.9 GPa or less, more preferably 5.5 GPa or less, still more preferably 5.2 GPa or less, particularly preferably 5.0 GPa or less, very preferably is less than 4.5 GPa. If the modulus of elasticity of the optical member is equal to or less than the above upper limit value, when the flexible display is bent, damage to other members by the optical member can be suppressed. Moreover, the elasticity modulus of an optical member is 2.0 GPa or more normally. The modulus of elasticity is determined by measuring the S-S curve of a test piece having a width of 10 mm under conditions of a distance between chucks of 500 mm and a tensile speed of 20 mm/min using, for example, Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation. can be measured

상기 광학 부재, 특히 광학 필름은, 우수한 굴곡 내성을 발현할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 광학 부재는, R=1㎜로 135°를 가중 0.75kgf로 속도 175cpm에 의해 측정하였을 때에 파단할 때까지의 왕복 절곡(折曲) 횟수가 바람직하게는 10,000회 이상, 보다 바람직하게는 20,000회 이상, 더 바람직하게는 30,000회 이상, 특히 바람직하게는 40,000회 이상, 매우 바람직하게는 50,000회 이상이다. 광학 부재의 왕복 절곡 횟수가 상기 하한값 이상이면, 광학 부재를 굴곡하였을 때에 발생할 수 있는 접힘 주름을 더 억제할 수 있다. 또한, 광학 부재의 왕복 절곡 횟수는 제한되지 않지만, 통상 1,000,000회의 절곡이 가능하면 충분히 실용적이다. 왕복 절곡 횟수는, 예를 들면 (주)도요정기제작소제 MIT 내절 피로시험기(형식 0530)로 두께 50㎛, 폭 10㎜의 시험편(광학 부재)을 이용하여 구할 수 있다.The said optical member, especially an optical film, can express excellent bending resistance. In a preferred embodiment of the present invention, the number of reciprocating bends until breakage of the optical member is preferably 10,000 times as measured by R = 1 mm, 135 °, weight 0.75 kgf, and speed 175 cpm. or more, more preferably 20,000 or more, still more preferably 30,000 or more, particularly preferably 40,000 or more, and very preferably 50,000 or more. If the number of times of reciprocating bending of the optical member is equal to or greater than the above lower limit, wrinkles that may occur when the optical member is bent can be further suppressed. In addition, although the number of reciprocal bending of the optical member is not limited, it is usually sufficiently practical if it can be bent 1,000,000 times. The number of reciprocating bends can be determined using a test piece (optical member) with a thickness of 50 μm and a width of 10 mm, for example, with an MIT internal bending fatigue tester (model 0530) manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.

상기 광학 부재는, 우수한 투명성을 발현할 수 있다. 이 때문에, 상기 광학 부재는, 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도우 필름)으로서 매우 유용하다. 본 발명의 바람직한 실시 양태에 있어서, 광학 부재는, JIS K 7373:2006에 준거한 황색도 YI가, 바람직하게는 5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하이다. 황색도 YI가 상기 상한값 이하인 광학 부재는, 표시 장치 등의 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또한, 상기 광학 부재의 황색도는 바람직하게는 0 이상이다.The said optical member can express excellent transparency. For this reason, the said optical member is very useful as a front plate (window film) of an image display apparatus, especially a flexible display. In a preferred embodiment of the present invention, the yellowness YI of the optical member in accordance with JIS K 7373:2006 is preferably 5 or less, more preferably 3 or less, still more preferably 2.5 or less. An optical member whose yellowness YI is equal to or less than the above upper limit can contribute to high visibility of a display device or the like. Further, the yellowness of the optical member is preferably 0 or more.

본 발명의 일 실시 양태인 광학 부재, 특히 광학 필름은, 화상 표시 장치의 전면판, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도우 필름)으로서 유용하다. 상기 광학 부재는, 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 디스플레이의 시인측 표면에 전면판으로서 배치할 수 있다. 이 전면판은, 플렉시블 디스플레이 내의 화상 표시 소자를 보호하는 기능을 가진다. 상기 광학 부재를 구비하는 화상 표시 장치는, 높은 유연성 및 굴곡 내성을 가짐과 동시에, 높은 표면 경도를 가지기 때문에, 굴곡되었을 때에 다른 부재를 손상시키지 않고, 또한 광학 부재 자체에도 접힘 주름이 발생하기 어렵고, 추가로, 표면의 흠집을 유리하게 억제할 수 있다.An optical member, particularly an optical film, which is an embodiment of the present invention is useful as a front plate of an image display device, particularly a front plate (window film) of a flexible display. The optical member can be disposed as a front plate on the viewer-side surface of an image display device, particularly a flexible display. This front plate has a function of protecting the image display elements in the flexible display. Since the image display device including the optical member has high flexibility and bending resistance and high surface hardness, when bent, other members are not damaged, and creases are not easily generated in the optical member itself, Additionally, scratches on the surface can be advantageously suppressed.

화상 표시 장치로서는, 텔레비전, 스마트 폰, 휴대 전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는, 플렉시블 특성을 가지는 화상 표시 장치, 예를 들면 텔레비전, 스마트 폰, 휴대 전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다.Examples of image display devices include televisions, smart phones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game consoles, electronic paper, indicators, bulletin boards, watches, and wearable devices such as smart watches. Examples of flexible displays include image display devices having flexible characteristics, such as televisions, smart phones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game machines, electronic papers, indicators, bulletin boards, watches, and wearable devices.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는, 특별히 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 우선 평가 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples. "%" and "part" in the examples mean mass % and mass part unless otherwise specified. First, the evaluation method will be described.

<탄성률의 측정><Measurement of modulus of elasticity>

실시예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 탄성률을 (주)시마즈제작소제 오토그래프 AG-IS를 이용하여 측정했다. 10㎜ 폭의 필름을 제작하고, 척간 거리 500㎜, 인장 속도 20㎜/min의 조건으로 S-S 곡선을 측정하여, 그 기울기로부터 탄성률을 산출했다.The elastic modulus of the polyamideimide films obtained in Examples was measured using Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation. A film with a width of 10 mm was produced, the S-S curve was measured under conditions of a distance between chucks of 500 mm and a tensile speed of 20 mm/min, and the modulus of elasticity was calculated from the inclination.

<표면 경도 측정><Surface hardness measurement>

실시예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도로서는, JIS K5600-5-4:1999에 준거하여, 필름 표면의 연필 경도를 채용했다. 하중은 100g, 주사 속도 60㎜/min으로 하고, 4000럭스의 환경하에서 흠집의 유무의 평가를 행했다.As the surface hardness of the polyamide-imide film obtained in the examples, the pencil hardness of the film surface was adopted based on JIS K5600-5-4:1999. The load was 100 g and the scanning speed was 60 mm/min, and the presence or absence of scratches was evaluated in an environment of 4000 lux.

<굴곡 내성의 측정><Measurement of bending tolerance>

실시예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 굴곡 내성을, (주)도요정기제작소제 MIT 내절 피로시험기(형식(型式) 0530)를 이용하여 측정했다. 두께 50㎛, 10㎜ 폭의 필름을 제작하고, R=1㎜로 135°를 가중 0.75kgf로 속도 175cpm에 의해 측정하였을 때에 파단될 때까지의 왕복 절곡 횟수를 평가했다.The bending resistance of the polyamideimide film obtained in the examples was measured using an MIT bending fatigue tester (model 0530) manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. A film having a thickness of 50 μm and a width of 10 mm was produced, and the number of reciprocal bending until breaking was evaluated when measured at 135° at R = 1 mm, at a weight of 0.75 kgf, and at a speed of 175 cpm.

<중량 평균 분자량(Mw)의 측정><Measurement of weight average molecular weight (Mw)>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel permeation chromatography (GPC) measurements

(1) 전처리 방법(1) Pretreatment method

샘플에 DMF 용리액(10mM 브롬화 리튬 용액)을 농도 2mg/mL가 되도록 가하고, 80℃에서 30분간 교반하면서 가열하며, 냉각 후, 0.45㎛ 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 했다.A DMF eluent (10 mM lithium bromide solution) was added to the sample so as to have a concentration of 2 mg/mL, heated while stirring at 80°C for 30 minutes, cooled, and filtered through a 0.45 µm membrane filter to obtain a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

칼럼: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0㎜ I.D.×150㎜×3개)(모두, 토소(주)제)Column: TSKgel SuperAWM-H × 2 + SuperAW2500 × 1 (6.0 mm I.D. × 150 mm × 3) (all manufactured by Tosoh Corporation)

용리액: DMF(10mM의 브롬화 리튬 첨가)Eluent: DMF (added 10 mM lithium bromide)

유량: 1.0mL/min.Flow rate: 1.0 mL/min.

검출기: RI 검출기Detector: RI detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

주입량: 100μLInjection volume: 100 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Standard Polystyrene

<전광선 투과율(Tt)의 측정><Measurement of total light transmittance (Tt)>

실시예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 전광선 투과율 Tt를, JIS K7105:1981에 준거하여, 스가시험기(주)제의 전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP에 의해 측정했다.The total light transmittance Tt of the polyamideimide films obtained in Examples was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. in accordance with JIS K7105:1981.

<황색도(YI)의 측정><Measurement of Yellowness Index (YI)>

실시예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 황색도(Yellow Index: YI)를, JIS K 7373:2006에 준거하여, 일본분광(주)제의 자외가시 근적외 분광광도계 V-670을 이용하여 측정했다. 필름이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 필름을 샘플 홀더에 세팅하고, 300~800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구했다. YI를, 하기의 식에 의거하여 산출했다.The yellowness (Yellow Index: YI) of the polyamideimide films obtained in Examples was measured in accordance with JIS K 7373: 2006 using an ultraviolet-visible and near-infrared spectrophotometer V-670 manufactured by Nippon Spectrosco. did. After performing the background measurement in the absence of the film, the film was set in the sample holder, and the transmittance to light of 300 to 800 nm was measured to obtain tristimulus values (X, Y, Z). YI was computed based on the following formula.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y

<유리 전이 온도(Tg)의 측정><Measurement of glass transition temperature (Tg)>

TA Instrument사제 DMA Q800을 이용하여, 실시예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름을 이하와 같은 시료로 하고, 이하의 조건하에서 측정하여, 손실 탄성률과 보존 탄성률의 값의 비인 tanδ 곡선을 얻었다. tanδ 곡선의 피크의 최정점으로부터 Tg를 산출했다.Using a DMA Q800 manufactured by TA Instruments, the polyamideimide film obtained in the examples was used as the following sample and measured under the following conditions to obtain a tan δ curve representing the ratio of the loss elastic modulus to the storage elastic modulus. Tg was calculated from the peak of the tan-delta curve.

-시료: 길이 5-15㎜, 폭 5㎜-Sample: length 5-15 mm, width 5 mm

-실험 모드: DMA Multi-Frequency-Strain-Experiment Mode: DMA Multi-Frequency-Strain

-실험 모드 상세 조건:-Experimental mode detailed conditions:

(1) Clamp:Tension:Film(1) Clamp:Tension:Film

(2) Amplitude: 5㎛(2) Amplitude: 5㎛

(3) Frequncy: 10Hz(전체 온도 구간에서 변동 없음)(3) Frequncy: 10Hz (no change in the entire temperature range)

(4) Preload Force: 0.01N(4) Preload Force: 0.01N

(5) Force Track: 125N(5) Force Track: 125N

-온도 조건: (1) 승온 범위: 상온~400℃, (2) 승온 속도: 5℃/분-Temperature conditions: (1) Temperature increase range: room temperature ~ 400℃, (2) temperature increase rate: 5℃/min

-주요 수집 데이터: (1) 보존 탄성률(Storage modulus, E'), (2) 손실 탄성률(Loss modulus, E''), (3) tanδ(E''/E')-Main collected data: (1) Storage modulus (E'), (2) Loss modulus (E''), (3) tanδ (E''/E')

실시예 1Example 1

[폴리아미드이미드 수지 (1)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (1)]

질소 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 52g(162.38㎜ol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 734.10g을 가해, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc 중에 용해시켰다. 이어서, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA) 28.90g(65.05㎜ol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 28.80g(97.57㎜ol)을 플라스크에 가해, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 피리딘 7.49g(94.65㎜ol)과 무수아세트산 26.56g(260.20㎜ol)을 가해, 실온에서 30분간 교반한 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a nitrogen atmosphere, in a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) 52 g (162.38 mmol) and N, N-dimethylacetamide (DMAc) 734.10 g was added, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Then, 28.90 g (65.05 mmol) of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 28.80 g (97.57 mmol) of 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) (OBBC) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then, 7.49 g (94.65 mmol) of pyridine and 26.56 g (260.20 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, and stirred for further 3 hours. , to obtain a reaction solution.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실 형상(絲狀)으로 투입하고, 석출한 침전물을 취출하여, 메탄올 중에 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 이어서, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (1)을 얻었다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, put into a large amount of methanol in a thread shape, and the precipitate was taken out and washed with methanol after being immersed in methanol for 6 hours. Subsequently, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain polyamideimide resin (1).

[폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막][Formation of polyamideimide film (1)]

얻어진 폴리아미드이미드 수지 (1)에, 농도가 15질량%가 되도록 DMAc를 가해, 폴리아미드이미드 바니시 (1)을 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드 바니시 (1)을 폴리에스테르 기재(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막(自立膜)의 막 두께가 55㎛가 되도록 애플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃ 30분간, 이어서 140℃ 15분간으로 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 틀에 고정하고, 추가로 질소 분위기하에서 300℃ 30분간 건조하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (1)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (1)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 120,000, Tt는 91%, YI는 2.2, Tg는 345℃였다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.To the obtained polyamide-imide resin (1), DMAc was added to a concentration of 15% by mass to prepare a polyamide-imide varnish (1). The obtained polyamideimide varnish (1) was applied on a smooth surface of a polyester base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name "A4100") using an applicator so that the film thickness of a self-supporting film was 55 µm. , 50°C for 30 minutes and then dried at 140°C for 15 minutes to obtain a self-supporting film. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 300°C for 30 minutes in a nitrogen atmosphere to obtain a polyamideimide film (1) having a thickness of 50 µm. According to the above measurement method, the weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (1) were measured. Mw was 120,000, Tt was 91%, YI was 2.2, Tg was 345°C. In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

실시예 2Example 2

[폴리아미드이미드 수지 (2)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (2)]

DMAc의 사용량을 701.64g, 6FDA의 사용량을 14.45g(32.52㎜ol), OBBC의 사용량을 38.39g(130.10㎜ol), 피리딘의 사용량을 9.98g(126.20㎜ol), 무수아세트산의 사용량을 13.28g(130.10㎜ol)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 수지 (1)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 (2)를 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The amount of DMAc was 701.64g, the amount of 6FDA was 14.45g (32.52mmol), the amount of OBBC was 38.39g (130.10mmol), the amount of pyridine was 9.98g (126.20mmol), and the amount of acetic anhydride was 13.28g. Polyamide-imide resin (2) was obtained in the same manner as in Example 1 [Preparation of polyamide-imide resin (1)] except for changing to (130.10 mmol). In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (2)의 제막][Formation of polyamideimide film (2)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (2)를 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (2)를 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (2)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 150,000, Tt는 91%, YI는 2.5, Tg는 345℃였다.Polyamideimide having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as in Example 1 [Film formation of polyamideimide film (1)] except that polyamideimide resin (2) was used instead of polyamideimide resin (1). Film (2) was obtained. According to the above measurement method, the weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (2) were measured. Mw was 150,000, Tt was 91%, YI was 2.5, Tg was 345°C.

실시예 3Example 3

[폴리아미드이미드 수지 (3)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (3)]

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 52g(162.38㎜ol) 및 DMAc 697.82g을 가해, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 이어서, 플라스크에 6FDA 21.67g(48.79㎜ol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, OBBC 24.00g(81.31㎜ol), 이어서 테레프탈로일클로라이드(TPC) 6.60g(32.52㎜ol)을 플라스크에 가해, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 피리딘 8.73g(110.42㎜ol)과 무수아세트산 19.92g(195.15㎜ol)을 가해, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a nitrogen gas atmosphere, TFMB 52g (162.38mmol) and DMAc 697.82g were added to a 1L separable flask equipped with a stirring blade, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Then, 6FDA 21.67g (48.79mmol) was added to the flask, and it stirred at room temperature for 3 hours. After that, 24.00 g (81.31 mmol) of OBBC and then 6.60 g (32.52 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then, 8.73 g (110.42 mmol) of pyridine and 19.92 g (195.15 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, and further stirred for 3 hours, A reaction solution was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실 형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 취출하여, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 이어서, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (3)을 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, put into a large amount of methanol in a thread shape, and the precipitate was taken out and washed with methanol after being immersed in methanol for 6 hours. Subsequently, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain polyamideimide resin (3). In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (3)의 제막][Formation of polyamideimide film (3)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (3)을 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (3)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (3)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 100,000, Tt는 91%, YI는 2.3, Tg는 340℃였다.A polyamide-imide film having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as [Film formation of polyamide-imide film (1)] in Example 1, except that polyamide-imide resin (3) was used instead of polyamide-imide resin (1). Film (3) was obtained. According to the above measurement method, the weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (3) were measured. Mw was 100,000, Tt was 91%, YI was 2.3, Tg was 340°C.

실시예 4Example 4

[폴리아미드이미드 수지 (4)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (4)]

DMAc의 사용량을 667.75g, 6FDA의 사용량을 21.67g(162.38㎜ol), OBBC의 사용량을 9.60g(48.79㎜ol), TPC의 사용량을 16.51g(81.31㎜ol), 피리딘의 사용량을 8.73g(110.42㎜ol), 무수아세트산의 사용량을 19.92g(195.15㎜ol)으로 변경한 것 이외는, 실시예 3의 [폴리아미드이미드 수지 (3)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 (4)를 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The amount of DMAc was 667.75g, the amount of 6FDA was 21.67g (162.38mmol), the amount of OBBC was 9.60g (48.79mmol), the amount of TPC was 16.51g (81.31mmol), and the amount of pyridine was 8.73g ( 110.42 mmol) and polyamide-imide resin (4) in the same manner as [Preparation of polyamide-imide resin (3)] in Example 3, except that the amount of acetic anhydride was changed to 19.92 g (195.15 mmol). got In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (4)의 제막][Formation of polyamideimide film (4)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (4)를 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (4)를 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (4)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 230,000, Tt는 91%, YI는 2.3, Tg는 369℃였다.A polyamide-imide film having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as [Film formation of polyamide-imide film (1)] in Example 1, except that polyamide-imide resin (4) was used instead of polyamide-imide resin (1). Film (4) was obtained. According to the above measurement method, the weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (4) were measured. Mw was 230,000, Tt was 91%, YI was 2.3, Tg was 369°C.

실시예 5Example 5

[폴리아미드이미드 수지 (5)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (5)]

DMAc의 사용량을 884.53g, 6FDA의 사용량을 21.67g(38.79㎜ol), OBBC의 사용량을 4.80g(16.26㎜ol), TPC의 사용량을 19.81g(97.57㎜ol), 피리딘의 사용량을 8.73g(110.42㎜ol), 무수아세트산의 사용량을 19.92g(195.15㎜ol)으로 변경한 것 이외는, 실시예 3의 [폴리아미드이미드 수지 (3)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 (5)를 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The amount of DMAc was 884.53g, the amount of 6FDA was 21.67g (38.79mmol), the amount of OBBC was 4.80g (16.26mmol), the amount of TPC was 19.81g (97.57mmol), and the amount of pyridine was 8.73g ( 110.42 mmol) and polyamide-imide resin (5) in the same manner as [Preparation of polyamide-imide resin (3)] in Example 3, except that the amount of acetic anhydride was changed to 19.92 g (195.15 mmol). got In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (5)의 제막][Formation of polyamideimide film (5)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (5)를 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (5)를 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (5)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 345,000, Tt는 91%, YI는 2.2, Tg는 377℃였다.A polyamide-imide film having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as [Formation of polyamide-imide film (1)] in Example 1, except that polyamide-imide resin (5) was used instead of polyamide-imide resin (1). A film (5) was obtained. According to the above measurement method, the weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (5) were measured. Mw was 345,000, Tt was 91%, YI was 2.2, Tg was 377°C.

실시예 6Example 6

[폴리아미드이미드 수지 (6)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (6)]

DMAc의 사용량을 849.23g, 6FDA의 사용량을 14.45g(32.52㎜ol), OBBC의 사용량을 4.80g(16.26㎜ol), TPC의 사용량을 23.11g(113.84㎜ol), 피리딘의 사용량을 9.98g(126.20㎜ol), 무수아세트산의 사용량을 13.28g(130.10㎜ol)으로 변경한 것 이외는, 실시예 3의 [폴리아미드이미드 수지 (3)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 (6)을 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The amount of DMAc was 849.23g, the amount of 6FDA was 14.45g (32.52mmol), the amount of OBBC was 4.80g (16.26mmol), the amount of TPC was 23.11g (113.84mmol), and the amount of pyridine was 9.98g ( 126.20 mmol) and polyamide-imide resin (6) in the same manner as [Preparation of polyamide-imide resin (3)] in Example 3, except that the amount of acetic anhydride was changed to 13.28 g (130.10 mmol). got In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (6)의 제막][Formation of polyamideimide film (6)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (6)을 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (6)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (6)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 341,000, Tt는 91%, YI는 2.4, Tg는 378℃였다.A polyamide-imide film having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as [Film formation of polyamide-imide film (1)] in Example 1, except that polyamide-imide resin (6) was used instead of polyamide-imide resin (1). A film (6) was obtained. According to the above measurement method, the weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (6) were measured. Mw was 341,000, Tt was 91%, YI was 2.4, Tg was 378°C.

비교예 1Comparative Example 1

[폴리아미드이미드 수지 (7)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (7)]

DMAc의 사용량을 647.70g, 6FDA의 사용량을 21.67g(48.79㎜ol), TPC의 사용량을 23.11g(113.84㎜ol), 피리딘의 사용량을 8.73g(110.42㎜ol), 무수아세트산의 사용량을 19.92g(195.15㎜ol)으로 변경한 것, 및 OBBC을 첨가하지 않은 것 이외는, 실시예 3의 [폴리아미드이미드 수지 (3)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 (7)을 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The amount of DMAc was 647.70g, the amount of 6FDA was 21.67g (48.79mmol), the amount of TPC was 23.11g (113.84mmol), the amount of pyridine was 8.73g (110.42mmol), and the amount of acetic anhydride was 19.92g. A polyamide-imide resin (7) was obtained in the same manner as in [Preparation of polyamide-imide resin (3)] in Example 3, except for changing to (195.15 mmol) and not adding OBBC. In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (7)의 제막][Formation of polyamideimide film (7)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (7)을 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (7)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (7)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 80,000, Tt는 90%, YI는 2.4, Tg는 380℃였다.A polyamide-imide film having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as in Example 1 [Formation of polyamide-imide film (1)] except that polyamide-imide resin (7) was used instead of polyamide-imide resin (1). Film (7) was obtained. According to the above measurement method, the weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (7) were measured. Mw was 80,000, Tt was 90%, YI was 2.4, Tg was 380°C.

비교예 2Comparative Example 2

[폴리이미드 수지 (8)의 조제][Preparation of polyimide resin (8)]

DMAc의 사용량을 831.46g, 6FDA의 사용량을 72.24g(162.62㎜ol), 피리딘의 사용량을 18.72g(236.62㎜ol), 무수아세트산의 사용량을 66.41g(650.49㎜ol)으로 변경한 것, 및 OBBC을 첨가하지 않은 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 수지 (1)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리이미드 수지 (8)을 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The amount of DMAc was changed to 831.46 g, the amount of 6FDA was changed to 72.24 g (162.62 mmol), the amount of pyridine was changed to 18.72 g (236.62 mmol), and the amount of acetic anhydride was changed to 66.41 g (650.49 mmol), and OBBC A polyimide resin (8) was obtained in the same manner as in Example 1 [Preparation of polyamideimide resin (1)] except that no was added. In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리이미드 필름 (8)의 제막][Formation of polyimide film (8)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리이미드 수지 (8)을 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리이미드 필름 (8)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리이미드 필름 (8)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 268,000, Tt는 92%, YI는 2.0, Tg는 361℃였다.A polyimide film having a film thickness of 50 μm ( 8) was obtained. The weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyimide film (8) were measured according to the above measurement method. Mw was 268,000, Tt was 92%, YI was 2.0, Tg was 361 °C.

비교예 3Comparative Example 3

[폴리이미드 수지 (9)의 조제][Preparation of polyimide resin (9)]

DMAc의 사용량을 732.20g, 6FDA의 사용량을 28.9g(65.05㎜ol), 피리딘의 사용량을 18.72g(236.62㎜ol), 무수아세트산의 사용량을 66.41g(650.49㎜ol)으로 변경한 것, 및 OBBC을 첨가하지 않고, 6FDA와 동시에 4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물(BPDA) 28.51g(97.57㎜ol)을 첨가한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 수지 (1)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리이미드 수지 (9)를 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.The amount of DMAc was changed to 732.20 g, the amount of 6FDA was changed to 28.9 g (65.05 mmol), the amount of pyridine was changed to 18.72 g (236.62 mmol), and the amount of acetic anhydride was changed to 66.41 g (650.49 mmol), and OBBC [Polyamideimide resin (1) Preparation], polyimide resin (9) was obtained. In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리이미드 필름 (9)의 제막][Formation of polyimide film (9)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리이미드 수지 (9)를 이용한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리이미드 필름 (9)를 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리이미드 필름 (9)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 276,000, Tt는 85%, YI는 5.8, Tg는 365℃였다.A polyimide film having a film thickness of 50 μm ( 9) was obtained. The weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyimide film (9) were measured according to the above measurement method. Mw was 276,000, Tt was 85%, YI was 5.8, Tg was 365 ° C.

실시예 7Example 7

[폴리아미드이미드 수지 (10)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (10)]

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 45.00g(140.5㎜ol) 및 DMAc 600.9g을 가해, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 이어서, 플라스크에 BPDA 4.14g(14.1㎜ol)을 가해, 실온에서 2.5시간 교반한 후, 6FDA 25.01g(56.3㎜ol)을 가해, 실온에서 15시간 교반했다. 또한, OBBC 4.15g(14.1㎜ol) 및 TPC 11.43g(56.3㎜ol)을 플라스크에 가해, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 무수아세트산 21.55g(211.1㎜ol)과 4-피콜린 3.28g(35.2㎜ol)을 가해, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.45.00 g (140.5 mmol) of TFMB and 600.9 g of DMAc were added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade under a nitrogen gas atmosphere, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Subsequently, after adding 4.14 g (14.1 mmol) of BPDA to the flask and stirring at room temperature for 2.5 hours, 25.01 g (56.3 mmol) of 6FDA was added and the mixture was stirred at room temperature for 15 hours. Further, 4.15 g (14.1 mmol) of OBBC and 11.43 g (56.3 mmol) of TPC were added to the flask and stirred at room temperature for 1 hour. Next, 21.55 g (211.1 mmol) of acetic anhydride and 3.28 g (35.2 mmol) of 4-picoline were added to the flask, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. By stirring, a reaction solution was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각한 후, 메탄올 647g 및 이온 교환수 180g을 가해 폴리아미드이미드의 침전을 얻었다. 그것을 메탄올 중에 12시간 침지하여, 여과로 회수해 메탄올로 세정했다. 이어서, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (10)을 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.After cooling the obtained reaction solution to room temperature, 647 g of methanol and 180 g of ion-exchanged water were added to precipitate polyamideimide. It was immersed in methanol for 12 hours, collected by filtration, and washed with methanol. Subsequently, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain a polyamideimide resin (10). In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (10)의 제막][Formation of polyamideimide film (10)]

폴리아미드이미드 수지 (1) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (10)을 이용하여, 질소 분위기하에서의 300℃에서 30분간의 건조 대신에 대기하에서의 200℃에서 30분간의 건조를 행한 것 이외는, 실시예 1의 [폴리아미드이미드 필름 (1)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (10)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (10)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 208,000, Tt는 91.8%, YI는 1.8, Tg는 373℃였다.Examples except that polyamide-imide resin (10) was used instead of polyamide-imide resin (1), and drying was performed at 200 ° C. for 30 minutes in the atmosphere instead of drying at 300 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere. A polyamideimide film (10) having a film thickness of 50 µm was obtained in the same manner as in [Formation of polyamideimide film (1)] in 1. The weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (10) were measured according to the above measurement method, and Mw was 208,000, Tt was 91.8%, YI was 1.8, Tg was 373°C.

실시예 8Example 8

[폴리아미드이미드 수지 (11)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (11)]

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 14.67g(45.8㎜ol) 및 DMAc 233.3g을 가해, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 이어서, 플라스크에 4,4'-옥시디프탈산 2무수물(OPDA) 4.283g(13.8㎜ol)을 가해, 실온에서 16.5시간 교반했다. 그 후, OBBC 1.359g(4.61㎜ol) 및 TPC 5.609g(27.6㎜ol)을 플라스크에 가해, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 무수아세트산 4.937g(48.35㎜ol)과 4-피콜린 1.501g(16.12㎜ol)을 가해, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a nitrogen gas atmosphere, 14.67 g (45.8 mmol) of TFMB and 233.3 g of DMAc were added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 4.283 g (13.8 mmol) of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (OPDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 16.5 hours. After that, 1.359 g (4.61 mmol) of OBBC and 5.609 g (27.6 mmol) of TPC were added to the flask and stirred at room temperature for 1 hour. Next, 4.937 g (48.35 mmol) of acetic anhydride and 1.501 g (16.12 mmol) of 4-picoline were added to the flask, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. By stirring, a reaction solution was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각한 후, 메탄올 360g 및 이온 교환수 170g을 가해 폴리아미드이미드의 침전을 얻었다. 그것을 메탄올 중에 12시간 침지하고, 여과로 회수하여 메탄올로 세정했다. 이어서, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (11)을 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.After cooling the obtained reaction solution to room temperature, 360 g of methanol and 170 g of ion-exchanged water were added to precipitate polyamideimide. It was immersed in methanol for 12 hours, collected by filtration, and washed with methanol. Subsequently, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain a polyamideimide resin (11). In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (11)의 제막][Formation of polyamideimide film (11)]

폴리아미드이미드 수지 (10) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (11)을 이용한 것 이외는, 실시예 7의 [폴리아미드이미드 필름 (10)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (11)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (11)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 259,000, Tt는 91.0%, YI는 1.9, Tg는 362℃였다.Polyamideimide having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as in Example 7 [Film formation of polyamideimide film 10], except that polyamideimide resin 11 was used instead of polyamideimide resin 10. A film (11) was obtained. The weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film (11) were measured according to the above measurement method, and Mw was 259,000, Tt was 91.0%, YI was 1.9, Tg was 362°C.

실시예 9Example 9

[폴리아미드이미드 수지 (12)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (12)]

4,4'-옥시디프탈산 2무수물(OPDA) 4.283g 대신에 6FDA 6.140g을, TFMB 14.67g(45.8㎜ol) 대신에 TFMB 8.809g(27.5㎜ol) 및 2,2'-디메틸벤지딘(MB) 3.889g(18.3㎜ol)을 이용한 것 이외는, 실시예 8의 [폴리아미드이미드 수지 (11)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 (12)를 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.6.140 g of 6FDA instead of 4.283 g of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (OPDA), 8.809 g (27.5 mmol) of TFMB instead of 14.67 g (45.8 mmol) of TFMB and 2,2'-dimethylbenzidine (MB ) Polyamide-imide resin (12) was obtained in the same manner as in Example 8 [Preparation of polyamide-imide resin (11)] except that 3.889 g (18.3 mmol) was used. In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (12)의 제막][Formation of polyamideimide film 12]

폴리아미드이미드 수지 (11) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (12)를 이용한 것 이외는, 실시예 8의 [폴리아미드이미드 필름 (11)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (12)를 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (12)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 189,000, Tt는 91.1%, Tg는 393℃였다.A polyamide-imide film having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as [Formation of polyamide-imide film 11] in Example 8, except that polyamide-imide resin 12 was used instead of polyamide-imide resin 11. A film (12) was obtained. The weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film 12 were measured according to the above measurement method, and the Mw was 189,000, the Tt was 91.1%, and the Tg was 393°C. was

실시예 10Example 10

[폴리아미드이미드 수지 (13)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (13)]

MB 3.889g 대신에 4,4'-디아미노디페닐에테르(ODA) 3.670g(18.3㎜ol)을 이용한 것 이외는, 실시예 9의 [폴리아미드이미드 수지 (12)의 조제]와 마찬가지로 하여, 폴리아미드이미드 수지 (13)을 얻었다. 또한, 각 성분의 몰비는 표 1과 같다.Except for using 3.670 g (18.3 mmol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether (ODA) instead of 3.889 g of MB, in the same manner as in [Preparation of polyamideimide resin (12)] in Example 9, A polyamideimide resin (13) was obtained. In addition, the molar ratio of each component is shown in Table 1.

[폴리아미드이미드 필름 (13)의 제막][Formation of polyamideimide film (13)]

폴리아미드이미드 수지 (12) 대신에, 폴리아미드이미드 수지 (13)을 이용한 것 이외는, 실시예 9의 [폴리아미드이미드 필름 (12)의 제막]과 마찬가지로 하여, 막 두께 50㎛의 폴리아미드이미드 필름 (13)을 얻었다. 상기 측정 방법에 따라 폴리아미드이미드 필름 (13)의 중량 평균 분자량(Mw), 전광선 투과율 Tt, 황색도 YI 및 유리 전이 온도 Tg를 측정한 바, Mw는 166,000, Tt는 91.3%, Tg는 350℃였다.A polyamide-imide film having a film thickness of 50 μm was prepared in the same manner as [Formation of polyamide-imide film 12] in Example 9, except that polyamide-imide resin 13 was used instead of polyamide-imide resin 12. A film (13) was obtained. The weight average molecular weight (Mw), total light transmittance Tt, yellowness YI, and glass transition temperature Tg of the polyamideimide film 13 were measured according to the above measurement method, and the Mw was 166,000, the Tt was 91.3%, and the Tg was 350°C. was

상기 실시예 및 비교예에 있어서의 각 성분의 몰비는 이하의 표 1과 같다.The molar ratio of each component in the above Examples and Comparative Examples is shown in Table 1 below.

Figure 112019083295191-pct00016
Figure 112019083295191-pct00016

얻어진 폴리아미드 필름 (1)~(9)에 대하여, 상기 측정 방법에 따라, 탄성률, 표면 경도, 및 굴곡 내성을 측정했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.About the obtained polyamide films (1)-(9), the elasticity modulus, surface hardness, and bending resistance were measured according to the said measuring method. The results are shown in Table 2.

Figure 112019083295191-pct00017
Figure 112019083295191-pct00017

상기로부터, 본 발명과 관련된 폴리아미드이미드 수지로 이루어지는 폴리아미드이미드 필름(광학 부재)은, 탄성률이 낮아, 유연성이 우수하면서도 높은 굴곡 내성을 가지는 것을 알 수 있다. 동시에, 높은 표면 경도를 가지는 것이 나타나 있으며, 표면의 흠집을 억제할 수도 있다.From the above, it can be seen that the polyamideimide film (optical member) made of the polyamideimide resin related to the present invention has a low elastic modulus, excellent flexibility and high bending resistance. At the same time, it has been shown to have high surface hardness, and surface scratches can be suppressed.

Claims (10)

식 (1) 및 식 (2):
[화학식 1]
Figure 112022056506932-pct00018

[식 (1) 및 식 (2) 중, X 및 Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고,
Y는 4가의 유기기를 나타내며,
Z의 적어도 일부는, 식 (3):
[화학식 2]
Figure 112022056506932-pct00019

〔식 (3) 중, R1~R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,
A는, -O-, -S-, -CO- 또는 -NR9-를 나타내고, R9는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화수소기를 나타내며,
m은 1~4의 정수이고,
*은 결합손을 나타낸다〕
로 나타나는 구성 단위이다]
로 나타나는 구성 단위를 가지고, Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유율이 3몰% 이상 90몰% 이하인 폴리아미드이미드 수지.
Equation (1) and Equation (2):
[Formula 1]
Figure 112022056506932-pct00018

[In Formula (1) and Formula (2), X and Z each independently represent a divalent organic group,
Y represents a tetravalent organic group,
At least part of Z is Equation (3):
[Formula 2]
Figure 112022056506932-pct00019

[In Formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,
A represents -O-, -S-, -CO- or -NR 9 -, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,
m is an integer from 1 to 4;
* represents a binding hand]
It is a constituent unit represented by]
A polyamideimide resin having a structural unit represented by and having a content rate of 3 mol% or more and 90 mol% or less of the structural unit represented by formula (3) with respect to the total of Y and Z.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
Z의 5몰% 이상 100몰% 이하는 식 (3)으로 나타나는, 폴리아미드이미드 수지.
According to claim 1,
5 mol% or more and 100 mol% or less of Z is a polyamideimide resin represented by formula (3).
제 1 항에 있어서,
식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율이, 3몰% 이상 90몰% 이하인, 폴리아미드이미드 수지.
According to claim 1,
A polyamideimide resin in which the ratio of the structural unit represented by Formula (3) to the total of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2) is 3 mol% or more and 90 mol% or less.
제 1 항에 있어서,
식 (1)로 나타나는 구성 단위의 함유율은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 합계에 대하여, 10몰% 이상 90몰% 이하인, 폴리아미드이미드 수지.
According to claim 1,
The content rate of the structural unit represented by Formula (1) is 10 mol% or more and 90 mol% or less with respect to the total of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2), Polyamide-imide resin.
제 1 항에 있어서,
X의 적어도 일부는 식 (4):
[화학식 3]
Figure 112022056506932-pct00020

[식 (4) 중, R10~R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,
*은 결합손을 나타낸다]
로 나타나는 구성 단위인, 폴리아미드이미드 수지.
According to claim 1,
At least part of X is in equation (4):
[Formula 3]
Figure 112022056506932-pct00020

[In Formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,
* represents a bonding hand]
Polyamide-imide resin, which is a structural unit represented by
제 1 항에 있어서,
Y의 적어도 일부는 식 (5):
[화학식 4]
Figure 112022056506932-pct00021

[식 (5) 중, R18~R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,
*은 결합손을 나타낸다]
로 나타나는 구성 단위인, 폴리아미드이미드 수지.
According to claim 1,
At least part of Y is expressed in equation (5):
[Formula 4]
Figure 112022056506932-pct00021

[In Formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom,
* represents a bonding hand]
Polyamide-imide resin, which is a structural unit represented by
제 1 항에 있어서,
DMA 측정에 있어서의 tanδ에 의해 산출된 유리 전이 온도 Tg가 380℃ 미만인, 폴리아미드이미드 수지.
According to claim 1,
A polyamideimide resin having a glass transition temperature Tg calculated by tan δ in DMA measurement of less than 380°C.
제 1 항 및 제 3 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는, 광학 부재.An optical member comprising the polyamide-imide resin according to any one of claims 1 and 3 to 8. 제 9 항에 기재된 광학 부재를 구비한 화상 표시 장치.An image display device provided with the optical member according to claim 9.
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