KR102469930B1 - Touch panel and method for forming the same - Google Patents

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Abstract

터치 패널은 가시 영역 및 가시 영역의 적어도 일 측에 배치된 비가시 영역을 가진다. 터치 패널은 기판, 나노 금속 전도성 층, 트레이스 층, 제 1 패시베이션 층 및 제 2 패시베이션 층을 포함한다. 나노 금속 전도성 층은 기판 상에 그리고 적어도 가시 영역 내에 배치된다. 트레이스 층은 기판 상에 그리고 비가시 영역 내에 배치된다. 트레이스 층은 나노 금속 전도성 층에 전기적으로 접속된다. 제 1 패시베이션 층는 트레이스 층을 덮는다. 제 2 패시베이션 층은 제 1 패시베이션 층의 적어도 일부분을 덮는다. 제 1 패시베이션 층은 제 2 패시베이션 층과는 상이한 영률을 가진다.The touch panel has a visible area and an invisible area disposed on at least one side of the visible area. The touch panel includes a substrate, a nano-metal conductive layer, a trace layer, a first passivation layer and a second passivation layer. A nano-metal conductive layer is disposed on the substrate and at least in the visible region. The trace layer is disposed on the substrate and in the invisible area. The trace layer is electrically connected to the nano-metal conductive layer. A first passivation layer covers the trace layer. The second passivation layer covers at least a portion of the first passivation layer. The first passivation layer has a different Young's modulus than the second passivation layer.

Description

터치 패널 및 그 형성 방법 {TOUCH PANEL AND METHOD FOR FORMING THE SAME}Touch panel and its forming method {TOUCH PANEL AND METHOD FOR FORMING THE SAME}

본 발명은 터치 패널 기술에 관한 것으로, 특히 플렉서블 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to touch panel technology, and more particularly to a flexible touch panel and a manufacturing method thereof.

터치 패널은 간단한 조작 특성을 가지고 있고, 따라서 그러한 터치 패널은 사용이 용이하다. 터치 패널은 현재 스마트 폰, 태블릿 컴퓨터 등 다양한 전자 제품에 널리 사용되고 있다. 웨어러블 전자 디바이스의 인기에 따라 구부러지고 접힐수 있는 플렉서블 터치 패널에 대한 수요가 점차 증가하고 있다.The touch panel has a simple operation characteristic, and therefore such a touch panel is easy to use. Touch panels are currently widely used in various electronic products such as smart phones and tablet computers. With the popularity of wearable electronic devices, demand for flexible touch panels that can be bent and folded is gradually increasing.

신뢰성을 높이고 환경적 피해를 방지하기 위해, 기존의 터치 패널에 패시베이션 층을 추가하는 것이 일반적이다. 그러나, 패시베이션 층의 설계는 종종 터치 패널의 유연성(굽힘 능력)을 손상시킨다. 따라서, 굽힘 능력 및 양호한 신뢰성 모두를 가지는 터치 패널을 제공하는 것이 바람직하다.To increase reliability and prevent environmental damage, it is common to add a passivation layer to existing touch panels. However, the design of the passivation layer often impairs the flexibility (bending ability) of the touch panel. Therefore, it is desirable to provide a touch panel having both bending ability and good reliability.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 이중층 패시베이션 층이 터치 패널의 트레이스 층 상에 제공되고, 이중층 패시베이션 층은, 트레이스 층의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력을 향상시키기 위해, 1 GPa 미만의 영률(Young's modulus)을 갖는 소프트 패시베이션 층 및 2 GPa 내지 4 GPa의 영률을 갖는 하드 패시베이션 층을 포함한다.According to some embodiments of the present disclosure, a double-layer passivation layer is provided on the trace layer of the touch panel, and the double-layer passivation layer has a Young's modulus of less than 1 GPa to improve bending ability and anti-oxidation ability of the trace layer. ) and a hard passivation layer with a Young's modulus of 2 GPa to 4 GPa.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 가시(visible) 영역 및 가시 영역의 적어도 일 측에 배치된 비가시(non-visible) 영역을 갖는 터치 패널이 제공되고, 터치 패널은, 기판; 기판 상에 그리고 적어도 가시 영역 내에 배치된 나노 금속 전도성 층; 기판 상에 그리고 비가시 영역 내에 배치된 트레이스 층 - 트레이스 층은 나노 금속 전도성 층에 전기적으로 접속됨 - ; 트레이스 층을 덮는 제 1 패시베이션 층; 및 제 1 패시베이션 층의 적어도 일부분을 덮는 제 2 패시베이션 층을 포함하고, 제 1 패시베이션 층은 제 2 패시베이션 층과는 상이한 영률을 가진다.According to some embodiments of the present disclosure, a touch panel having a visible area and a non-visible area disposed on at least one side of the visible area is provided, and the touch panel includes: a substrate; a nano-metal conductive layer disposed on the substrate and at least in the visible region; a trace layer disposed on the substrate and in the non-visible region, the trace layer electrically connected to the nano-metal conductive layer; a first passivation layer covering the trace layer; and a second passivation layer covering at least a portion of the first passivation layer, wherein the first passivation layer has a Young's modulus different from that of the second passivation layer.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층은 비가시 영역 내에만 배치되고 트레이스 층 상에 직접 배치되며, 제 2 패시베이션 층은 가시 영역 및 비가시 영역 내에 배치된다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer is disposed only in the invisible region and directly on the trace layer, and the second passivation layer is disposed in the visible and invisible regions.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층은 가시 영역 및 비가시 영역 내에 배치되고 가시 영역 내의 트레이스 층 상에 직접 배치되며, 제 2 패시베이션 층은 비가시 영역 내에만 배치된다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer is disposed in the visible and invisible regions and directly on the trace layer in the visible region, and the second passivation layer is disposed only in the invisible region.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층은 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 배치되고 비가시 영역 내의 트레이스 층 상에 직접 배치되며, 제 2 패시베이션 층은 가시 영역 및 비가시 영역 내에 배치된다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer is disposed in the visible and invisible regions and is directly disposed on the trace layer in the invisible region, and the second passivation layer is disposed in the visible and invisible regions .

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층은 1 GPa 미만의 영률을 갖고 제 2 패시베이션 층은 2 GPa 내지 4 GPa의 영률을 가지거나; 또는 제 1 패시베이션 층은 2 GPa 내지 4 GPa의 영률을 갖고 제 2 패시베이션 층은 1 GPa 미만의 영률을 가진다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer has a Young's modulus of less than 1 GPa and the second passivation layer has a Young's modulus of 2 GPa to 4 GPa; or the first passivation layer has a Young's modulus of 2 GPa to 4 GPa and the second passivation layer has a Young's modulus of less than 1 GPa.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층 및 제 2 패시베이션 층은 각각 10 μm 미만의 두께를 가진다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer and the second passivation layer each have a thickness of less than 10 μm.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층 및 제 2 패시베이션 층은 각각 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리아미드 또는 이들의 조합을 포함한다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer and the second passivation layer each include an acrylic resin, an epoxy resin, a polyamide, or a combination thereof.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 가시 영역 및 가시 영역의 적어도 일 측에 배치된 비가시 영역을 갖는 터치 패널을 제조하는 방법이 제공되고, 터치 패널을 제조하는 방법은, 기판 상에 나노 금속 전도성 층을 형성하는 단계; 기판 상에 그리고 비가시 영역 내에 트레이스 층을 형성하는 단계; 트레이스 층을 덮도록 제 1 패시베이션 층을 형성하는 단계; 및 제 1 패시베이션 층 상에, 제 1 패시베이션 층의 적어도 일부분을 덮는 제 2 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함하고, 제 1 패시베이션 층은 제 2 패시베이션 층과는 상이한 영률을 가진다.According to some embodiments of the present disclosure, a method of manufacturing a touch panel having a visible region and an invisible region disposed on at least one side of the visible region is provided, and the method of manufacturing the touch panel includes nano-metal conductivity on a substrate. forming a layer; forming a trace layer on the substrate and in the non-visible area; forming a first passivation layer to cover the trace layer; and forming a second passivation layer on the first passivation layer, covering at least a portion of the first passivation layer, wherein the first passivation layer has a Young's modulus different from that of the second passivation layer.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층을 형성하는 단계 및 제 2 패시베이션 층을 형성하는 단계는 각각 인쇄, 슬릿 코팅, 스프레이, 잉크젯 인쇄 또는 이들의 조합을 포함한다.According to some embodiments of the present disclosure, forming the first passivation layer and forming the second passivation layer each include printing, slit coating, spraying, inkjet printing, or a combination thereof.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 트레이스 층은 나노 금속 전도성 층이 형성된 후에 형성된다.According to some embodiments of the present disclosure, the trace layer is formed after the nano-metal conductive layer is formed.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 트레이스 층은 나노 금속 전도성 층이 형성되기 전에 형성된다.According to some embodiments of the present disclosure, the trace layer is formed before the nano metal conductive layer is formed.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층은 비가시 영역 내에만 형성되고 트레이스 층 상에 직접 형성되며, 제 2 패시베이션 층은 가시 영역 및 비가시 영역 내에 형성된다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer is formed only in the non-visible area and directly on the trace layer, and the second passivation layer is formed in the visible and non-visible areas.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층은 가시 영역 및 비가시 영역 내에 형성되고 비가시 영역 내의 트레이스 층 상에 직접 형성되며, 제 2 패시베이션 층은 비가시 영역 내에만 형성된다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer is formed in the visible and invisible regions and directly on the trace layer in the invisible region, and the second passivation layer is formed only in the invisible region.

본 개시의 일부 실시예에 따르면, 제 1 패시베이션 층은 가시 영역 및 비가시 영역 내에 형성되고 비가시 영역 내의 트레이스 층 상에 직접 형성되며, 제 2 패시베이션 층은 가시 영역 및 비가시 영역 내에 형성된다.According to some embodiments of the present disclosure, the first passivation layer is formed in the visible and invisible regions and directly on the trace layer in the invisible region, and the second passivation layer is formed in the visible and invisible regions.

본 개시의 실시예의 터치 패널은 다양한 유형의 터치 디바이스 분야에 적용될 수 있다. 상술된 본 발명의 대상, 특징 및 이점을 보다 명확하게 하고 이해하기 쉽게하기 위해, 여러 실시예를 아래에 열거되고 첨부 도면을 참조하여 상세한 설명이 제공된다.The touch panel of the embodiment of the present disclosure can be applied to various types of touch device fields. To make the objects, features and advantages of the present invention described above clearer and easier to understand, several embodiments are enumerated below and a detailed description is provided with reference to the accompanying drawings.

상세한 설명은 첨부 도면을 참조하여 다음의 실시예에서 제공된다. 업계의 표준 시행에 따르면 다양한 피처들이 일정한 비율로 그려지지 않았음이 주목된다. 실제, 다양한 피처들의 치수는 설명의 명료함을 위해 임의로 확대 또는 축소될 수 있다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 예시적인 터치 패널의 단면도를 도시한다.
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 예시적인 터치 패널의 단면도를 도시한다.
도 3은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 예시적인 터치 패널의 단면도를 도시한다.
도 4는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 예시적인 터치 패널의 단면도를 도시한다.
도 5는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 예시적인 터치 패널의 단면도를 도시한다.
도 6은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 예시적인 터치 패널의 단면도를 도시한다.A detailed description is provided in the following embodiments with reference to the accompanying drawings. It is noted that, according to industry standard practice, various features are not drawn to scale. Indeed, the dimensions of various features may be arbitrarily enlarged or reduced for clarity of explanation.
1 shows a cross-sectional view of an exemplary touch panel according to a first embodiment of the present invention.
2 shows a cross-sectional view of an exemplary touch panel according to a second embodiment of the present invention.
3 shows a cross-sectional view of an exemplary touch panel according to a third embodiment of the present invention.
4 shows a cross-sectional view of an exemplary touch panel according to a fourth embodiment of the present invention.
5 shows a cross-sectional view of an exemplary touch panel according to a fifth embodiment of the present invention.
6 shows a cross-sectional view of an exemplary touch panel according to a sixth embodiment of the present invention.

다음의 개시는 본 발명의 상이한 피처들을 구현하는 다수의 상이한 실시예들 또는 예시들을 제공한다. 본 개시를 단순화하기 위해 컴포넌트 및 장치의 특정 예들이 아래에서 설명된다. 물론, 이들은 단지 예시를 위한 것이며 한정을 의도하는 것은 아니다. 예를 들어, 다음의 설명에서 제 2 피처 상에 또는 그 위에 제 1 피처를 형성하는 것은 제 1 피처와 제 2 피처가 직접 접촉하여 형성된 실시예를 포함할 수 있고, 또한 제 1 피처와 제 2 피처가 직접 접촉하지 않도록 제 1 피처와 제 2 피처 사이에 추가의 피처가 형성될 수 있는 실시예도 포함할 수 있다. 또한, 본 개시는 다양한 실시예에서 참조 번호 및/또는 문자를 반복할 수 있다. 이러한 반복은 간략함 및 명료성을 위한 것이며 그 자체가 논의된 다양한 실시예 및/또는 구성들 사이의 관계를 지시하는 것은 아니다.The following disclosure provides a number of different embodiments or examples of implementing different features of the present invention. Specific examples of components and apparatus are described below to simplify the present disclosure. Of course, these are for illustrative purposes only and are not intended to be limiting. For example, forming a first feature on or over a second feature in the following description may include an embodiment in which the first feature and the second feature are formed in direct contact, and may also include the first feature and the second feature. Embodiments may also be included in which additional features may be formed between the first and second features so that the features do not come into direct contact. In addition, the present disclosure may repeat reference numerals and/or letters in the various embodiments. This repetition is for the purpose of brevity and clarity and does not in itself dictate a relationship between the various embodiments and/or configurations discussed.

또한, 도면들에 예시된 바와 같이, 하나의 요소 또는 피처에 대한 다른 요소(들) 또는 피처(들)의 관계를 설명하기 위해서 "아래", "밑", "하부", "위", "상부" 등과 같은 공간 상대적 용어들이 설명의 용이성을 위해 여기서 이용될 수 있다. 공간 상대적인 용어는 도면에 도시된 배향에 더하여 이용 또는 동작 중의 디바이스의 상이한 배향을 포함하도록 의도된다. 장치는 다르게 배향될(90도 회전 또는 다른 배향으로) 수 있고, 여기서 사용되는 공간 상대적인 기술어는 마찬가지로 적절하게 해석될 수 있다.Also, as illustrated in the drawings, "below", "beneath", "below", "above", "below", "below", "below" to describe the relationship of one element or feature to another element(s) or feature(s). Spatially relative terms such as "upper" and the like may be used herein for ease of explanation. Spatially relative terms are intended to include different orientations of the device during use or operation in addition to the orientations shown in the figures. The device may be otherwise oriented (rotated 90 degrees or at other orientations) and the spatially relative descriptors used herein may likewise be interpreted appropriately.

여기서 사용되는 용어 "약" 및 "대략"은 값의 20 %, 바람직하게는 값의 10 %, 보다 바람직하게는 값의 5 %, 3 %, 2 %, 1 % 또는 0.5 % 내에서 변하는 소정의 양의 값을 나타낸다. 명세서에 제공된 수량은 대략적인 수량이며, 즉, "약" 또는 "대략"에 대한 구체적인 설명이 없는 경우에도 "약" 및 "대략"이 암시될 수 있음을 주목한다.As used herein, the terms "about" and "approximately" refer to a predetermined amount that varies within 20% of a value, preferably 10% of a value, more preferably within 5%, 3%, 2%, 1% or 0.5% of a value. represents a positive value. It is noted that quantities provided herein are approximate quantities, ie, "about" and "approximately" may be implied even when there is no specific recitation of "about" or "approximately."

본 발명은 수분 및 산소의 침투를 차단하는 능력을 향상시키고, 동시에 터치 패널의 굽힘(bending) 능력을 향상시키기 위해 소프트 패시베이션 층과 하드 패시베이션 층을 결합한 이중층 패시베이션 층 구조물을 제공한다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 패널(100)의 단면도를 예시한다. 본 발명의 일 실시예의 터치 패널(100)은 기판(110), 나노 금속 전도성 층(120), 트레이스 층(130), 하드 패시베이션 층(140) 및 소프트 패시베이션 층(150)을 포함한다.The present invention provides a double-layer passivation layer structure combining a soft passivation layer and a hard passivation layer to improve the ability to block penetration of moisture and oxygen, and at the same time to improve the bending ability of a touch panel. Referring to FIG. 1 , a cross-sectional view of a touch panel 100 according to a first embodiment of the present invention is illustrated. The touch panel 100 according to an embodiment of the present invention includes a substrate 110, a nano-metal conductive layer 120, a trace layer 130, a hard passivation layer 140, and a soft passivation layer 150.

일부 실시예에서, 터치 패널(100)은 가시 영역(100A) 및 비가시 영역(100B)을 포함한다. 비가시 영역(100B)은 일반적으로, 가시 영역(100A)을 둘러싸거나, 가시 영역(100A)의 대향하는 측들에 위치하거나, 가시 영역(100A)의 일 측에만 위치하는 것과 같이, 가시 영역(100A)의 적어도 일 측에 위치된다. 가시 영역(100A) 및 비가시 영역(100B)의 범위가 도 1에서 점선으로 그려져 있지만, 이 범위는 예시일 뿐이며, 본 발명의 실시예는 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 비가시 영역(100B)은 트레이스 층(130)과 정렬되지 않고 기판(110)의 중심을 향해 연장될 수 있다.In some embodiments, the touch panel 100 includes a visible area 100A and an invisible area 100B. The invisible region 100B generally surrounds the visible region 100A, is located on opposite sides of the visible region 100A, or is located on only one side of the visible region 100A. ) is located on at least one side of Although the ranges of the visible region 100A and the invisible region 100B are drawn with dotted lines in FIG. 1 , this range is only an example, and embodiments of the present invention are not limited thereto. For example, the non-visible region 100B may extend toward the center of the substrate 110 without being aligned with the trace layer 130 .

도 1에 도시된 바와 같이, 터치 패널(100)에서, 나노 금속 전도성 층(120)은 기판(110) 위에 배치된다. 일부 실시예에서, 나노 금속 전도성 층(120)은 가시 영역(100A) 내에 배치되고 비가시 영역(100B)으로 연장된다. 또한, 일부 실시예에서, 나노 금속 전도성 층(120)은 터치 위치를 감지하기 위해 패터닝 공정에 의해 서로 절연된 복수의 나노 금속 전도성 전극(도시되지 않음)을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 1 , in the touch panel 100 , the nano-metal conductive layer 120 is disposed over the substrate 110 . In some embodiments, the nano-metal conductive layer 120 is disposed within the visible region 100A and extends into the invisible region 100B. Also, in some embodiments, the nano-metal conductive layer 120 may form a plurality of nano-metal conductive electrodes (not shown) insulated from each other by a patterning process to detect a touch position.

트레이스 층(130)은 기판(110) 위에 배치되고 비가시 영역(100B) 내에 위치되며, 트레이스 층(130)은 나노 금속 전도성 층(120)과 전기적으로 접속하기 위해 사용된다. 보다 구체적으로, 트레이스 층(130)은 패터닝 공정에 의해 서로 절연된 복수의 주변 리드 와이어(도시되지 않음)를 형성할 수 있고, 각 주변 리드 와이어는 상기 언급된 나노 금속 전도성 전극 중 하나에 전기적으로 접속되어 나노 금속 전도성 전극에 의해 감지된 터치 신호를 프로세싱 유닛(도시되지 않음)으로 전송한다.The trace layer 130 is disposed on the substrate 110 and positioned within the non-visible region 100B, and the trace layer 130 is used to electrically connect with the nano-metal conductive layer 120 . More specifically, the trace layer 130 may form a plurality of peripheral lead wires (not shown) insulated from each other by a patterning process, and each peripheral lead wire is electrically connected to one of the aforementioned nano-metal conductive electrodes. It is connected to transmit a touch signal sensed by the nano-metal conductive electrode to a processing unit (not shown).

일부 실시예에서, 소프트 패시베이션 층(150)은 비가시 영역(100B) 내에만 배치되고 트레이스 층(130) 상에 직접 배치되어 트레이스 층(130)을 덮는다. 하드 패시베이션 층(140)은 가시 영역(100A) 및 비가시 영역(100B) 내에 배치된다. 하드 패시베이션 층(140)은 비가시 영역(100B) 내의 소프트 패시베이션 층(150) 상에 배치되어 소프트 패시베이션 층(150)을 덮고, 하드 패시베이션 층(140)은 가시 영역(100A) 내의 나노 금속 전도성 층(120) 상에 배치되어 나노 금속 전도성 층(120)을 덮는다. 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)은 상이한 영률을 갖는 패시베이션 층이며, 이는 아래에 자세히 설명될 것이다.In some embodiments, the soft passivation layer 150 is disposed only within the non-visible region 100B and is directly disposed on the trace layer 130 to cover the trace layer 130 . The hard passivation layer 140 is disposed in the visible region 100A and the invisible region 100B. The hard passivation layer 140 is disposed on the soft passivation layer 150 in the invisible region 100B to cover the soft passivation layer 150, and the hard passivation layer 140 is a nano-metal conductive layer in the visible region 100A. (120) to cover the nano-metal conductive layer (120). The soft passivation layer 150 and the hard passivation layer 140 are passivation layers having different Young's moduli, which will be described in detail below.

일부 실시예에서, 기판(110)의 재료는 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리(메틸 메타크릴레이트)(PMMA), 사이클릭 올레핀 코폴리머(COP) 등, 또는 이들의 조합과 같은 플렉시블 투명 기판을 포함한다.In some embodiments, the material of substrate 110 is polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), poly(methyl methacrylate) (PMMA), cyclic olefin copolymer (COP) and the like, or combinations thereof.

일부 실시예에서, 나노 금속 전도성 층(120)은 은 나노와이어(SNW) 층일 수 있는 금속 나노와이어 층을 포함하고, 금속 나노와이어 층의 내구성을 향상시키기 위해 오버코트(OC)를 더 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 나노 금속 전도성 층(120)은 스크린 코팅, 인쇄, 라미네이션, 롤-투-롤(roll-to-roll) 등과 같은 공정에 의해 기판 상에 증착될 수 있다. 후속하여, 리소그래피 및 에칭 공정과 같은 공정이 나노 금속 전도성 층(120)을 패터닝하기 위해 사용될 수 있다.In some embodiments, the nano-metal conductive layer 120 includes a metal nanowire layer, which may be a silver nanowire (SNW) layer, and may further include an overcoat (OC) to improve durability of the metal nanowire layer. . In some embodiments, nano metal conductive layer 120 may be deposited on a substrate by a process such as screen coating, printing, lamination, roll-to-roll, and the like. Subsequently, processes such as lithography and etching processes may be used to pattern the nano-metal conductive layer 120 .

일부 실시예에서, 트레이스 층(130)의 주변 리드 와이어는 구리-니켈(CuNi), 구리(Cu), 은(Ag), 은-팔라듐-구리 합금(Ag Palladium Cu, APC) 등, 또는 이들의 조합)을 포함하는 금속 트레이스일 수 있다. 일부 실시예에서, 트레이스 층(130)은 나노 금속 전도성 층(120)이 형성된 후에 형성될 수 있다. 대안적인 실시예에서, 트레이스 층(130)은 나노 금속 전도성 층(120)이 형성되기 전에 형성될 수 있다.In some embodiments, the peripheral lead wire of trace layer 130 is copper-nickel (CuNi), copper (Cu), silver (Ag), silver-palladium-copper alloy (Ag Palladium Cu, APC), etc., or any of these combination). In some embodiments, the trace layer 130 may be formed after the nano-metal conductive layer 120 is formed. In an alternative embodiment, the trace layer 130 may be formed before the nano-metal conductive layer 120 is formed.

일부 실시예에서, 소프트 패시베이션 층(150)은 1 GPa 미만의, 예를 들어 0.5 GPa 내지 1 GPa의 영률을 갖고, 하드 패시베이션 층(140)은 2 GPa 내지 4 GPa의, 예를 들어, 2 GPa 내지 3 GPa의 영률을 가진다. 일부 실시예에서, 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)의 재료는 각각 아크릴, 에폭시 수지, 폴리아미드(PA) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)의 재료는, 그 재료가 상기 언급된 영률을 만족하는 한, 이에 한정되지 않는다. 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)은 상이한 재료, 또는 상이한 영률을 갖는 동일하거나 유사한 재료일 수 있다. 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)은 인쇄, 슬릿 코팅, 스프레이 또는 잉크젯 인쇄 프로세스에 의해 형성될 수 있다.In some embodiments, the soft passivation layer 150 has a Young's modulus less than 1 GPa, for example between 0.5 GPa and 1 GPa, and the hard passivation layer 140 has a Young's modulus between 2 GPa and 4 GPa, for example 2 GPa. to a Young's modulus of 3 GPa. In some embodiments, the material of the soft passivation layer 150 and the hard passivation layer 140 may each include acrylic, epoxy resin, polyamide (PA), or a combination thereof. The material of the soft passivation layer 150 and the hard passivation layer 140 is not limited thereto as long as the material satisfies the above-mentioned Young's modulus. The soft passivation layer 150 and the hard passivation layer 140 can be different materials, or the same or similar materials with different Young's moduli. Soft passivation layer 150 and hard passivation layer 140 may be formed by a printing, slit coating, spray or inkjet printing process.

일부 실시예에서, 소프트 패시베이션 층(150)의 두께는 10 μm 미만, 예를 들어 3 μm 내지 10 μm이고, 하드 패시베이션 층(140)의 두께는 10 μm 미만, 예를 들어 2 μm 내지 5 μm이다. 일부 실시예에서, 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)을 포함하는(또는 이들로 구성되는) 이중층 패시베이션 층의 두께는 5 μm 내지 20 μm의, 예를 들어 5 μm 내지 10 μm의 범위 내에 있다. 이중층 패시베이션 층의 두께가 20 μm를 초과하면, 과도한 두께로 인해 터치 패널(100)의 굽힘 능력 및 효과에 영향을 미칠 수 있다.In some embodiments, the thickness of the soft passivation layer 150 is less than 10 μm, such as between 3 μm and 10 μm, and the thickness of the hard passivation layer 140 is less than 10 μm, such as between 2 μm and 5 μm. . In some embodiments, the bi-layer passivation layer comprising (or consisting of) soft passivation layer 150 and hard passivation layer 140 has a thickness between 5 μm and 20 μm, such as between 5 μm and 10 μm. are within range. When the thickness of the double layer passivation layer exceeds 20 μm, the bending ability and effect of the touch panel 100 may be affected due to the excessive thickness.

본 발명에서, 수분 및 산소의 침투를 차단하는 능력을 향상시키고 굽힘 능력을 향상시키기 위해, 더 우수한 유연성을 갖는 소프트 패시베이션 층(150)이 더 우수한 압축성을 갖는 하드 패시베이션 층(140)과 결합하도록 구성된다. 구체적으로, 비가시 영역(100B)에서는, 트레이스 층(130) 위에 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 배치함으로써 트레이스 층(130)의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력을 동시에 향상시킬 수 있다. 또한, 가시 영역(100A) 내에 위치되는 나노 금속 전도성 층(120)의 산화 방지 능력은 위에 놓인 하드 패시베이션 층(140)으로 인해 향상된다.In the present invention, the soft passivation layer 150 with better flexibility is combined with the hard passivation layer 140 with better compressibility to improve the ability to block penetration of moisture and oxygen and improve the bending ability. do. Specifically, in the non-visible region 100B, a double passivation layer including a soft passivation layer 150 and a hard passivation layer 140 is placed on the trace layer 130 to prevent bending and oxidation of the trace layer 130 . ability can be improved at the same time. In addition, oxidation prevention ability of the nano-metal conductive layer 120 located in the visible region 100A is improved due to the overlying hard passivation layer 140 .

본 발명의 제 2 실시예에 따른 터치 패널(200)의 단면도를 예시하는 도 2을 참조한다. 제 1 실시예의 터치 패널(100)과 터치 패널(200)의 구조적 차이점은, 하드 패시베이션 층(140)과 소프트 패시베이션 층(150)의 구성이 교환된다는 점이다. 즉, 터치 패널(200)에서는, 하드 패시베이션 층(140)은 비가시 영역(100B) 내에만 배치되고 트레이스 층(130) 상에 직접 배치되어 트레이스 층(130)을 덮는다. 소프트 패시베이션 층(150)은 가시 영역(100A) 및 비가시 영역(100B) 내에 배치된다. 비가시 영역(100B)에서는, 소프트 패시베이션 층(150)이 하드 패시베이션 층(140) 상에 배치되어 하드 패시베이션 층(140)을 덮고, 가시 영역(100A)에서는, 소프트 패시베이션 층(150)이 나노 금속 전도성 층(120) 상에 배치되어 나노 금속 전도성 층(120)을 덮는다.Reference is made to FIG. 2 illustrating a cross-sectional view of a touch panel 200 according to a second embodiment of the present invention. A structural difference between the touch panel 100 and the touch panel 200 of the first embodiment is that the configurations of the hard passivation layer 140 and the soft passivation layer 150 are exchanged. That is, in the touch panel 200 , the hard passivation layer 140 is disposed only in the non-visible region 100B and is directly disposed on the trace layer 130 to cover the trace layer 130 . The soft passivation layer 150 is disposed in the visible region 100A and the invisible region 100B. In the non-visible region 100B, the soft passivation layer 150 is disposed on the hard passivation layer 140 to cover the hard passivation layer 140, and in the visible region 100A, the soft passivation layer 150 is a nano-metal It is disposed on the conductive layer 120 and covers the nano-metal conductive layer 120 .

터치 패널(200)의 비가시 영역(100B)에서, 트레이스 층(130) 위에 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 배치함으로써 트레이스 층(130)의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력이 동시에 향상될 수 있다. 또한, 가시 영역(100A) 내에 위치하는 나노 금속 전도성 층(120)의 굽힘 능력은 위에 놓인 소프트 패시베이션 층(150)으로 인해 향상된다.In the non-visible region 100B of the touch panel 200, the bending ability of the trace layer 130 is obtained by disposing a double passivation layer including a soft passivation layer 150 and a hard passivation layer 140 on the trace layer 130. and antioxidant ability can be simultaneously improved. In addition, the bending ability of the nano-metal conductive layer 120 located in the visible region 100A is improved due to the overlying soft passivation layer 150 .

본 발명의 제 3 실시예에 따른 터치 패널(300)의 단면도를 예시하는 도 3을 참조한다. 제 1 실시예의 터치 패널(100)과 터치 패널(300)의 구조적 차이점은, 터치 패널(300)에서, 소프트 패시베이션 층(150)이 비가시 영역(100B) 내에만 배치되는 것만 아니라 가시 영역(100A)으로 또한 연장되어, 전체 구조물로서, 소프트 패시베이션 층(150)은 비가시 영역(100B) 내의 트레이스 층(130) 상에 직접 배치되어 트레이스 층(130)을 덮고 가시 영역(100A) 내의 나노 금속 전도성 층(120) 상에 배치되어 나노 금속 전도성 층(120)을 덮는다는 점이다. 반대로, 하드 패시베이션 층(140)은 비가시 영역(100B) 내의 소프트 패시베이션 층(150) 상에만 대응하여 배치된다.Reference is made to FIG. 3 illustrating a cross-sectional view of a touch panel 300 according to a third embodiment of the present invention. The structural difference between the touch panel 100 and the touch panel 300 of the first embodiment is that, in the touch panel 300, the soft passivation layer 150 is disposed not only in the non-visible area 100B but also in the visible area 100A. ), as an overall structure, the soft passivation layer 150 is disposed directly on the trace layer 130 in the non-visible region 100B to cover the trace layer 130 and conduct nano-metallic in the visible region 100A. It is disposed on the layer 120 and covers the nano-metal conductive layer 120 . Conversely, the hard passivation layer 140 is disposed correspondingly only on the soft passivation layer 150 in the non-visible region 100B.

터치 패널(300)의 비가시 영역(100B)에서는, 트레이스 층(130) 위에 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 배치함으로써 트레이스 층(130)의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력이 동시에 향상될 수 있다. 또한, 가시 영역(100A) 내의 나노 금속 전도성 층(120)의 굽힘 능력이 위에 놓인 소프트 패시베이션 층(150)으로 인해 또한 향상된다.In the non-visible region 100B of the touch panel 300, the bending ability of the trace layer 130 is obtained by disposing a double layer passivation layer including a soft passivation layer 150 and a hard passivation layer 140 on the trace layer 130. and antioxidant ability can be simultaneously improved. In addition, the bending ability of the nano-metal conductive layer 120 in the visible region 100A is also improved due to the overlying soft passivation layer 150 .

본 발명의 제 4 실시예에 따른 터치 패널(400)의 단면도를 예시하는 도 4를 참조한다. 제 3 실시예의 터치 패널(300)과 터치 패널(400)의 구조적 차이는 하드 패시베이션 층(140)과 소프트 패시베이션 층(150)의 구성이 교환된다는 점이다. 구체적으로, 터치 패널(400)에서, 하드 패시베이션 층(140)은 비가시 영역(100B) 내에 배치되는 것만 아니라 가시 영역(100A)으로 또한 연장되어, 전체 구조물로서, 비가시 영역(100B)에서, 하드 패시베이션 층(140)은 트레이스 층(130) 위에 직접 배치되어 트레이스 층(130)을 덮고, 가시 영역(100A)에서, 하드 패시베이션 층(140)은 나노 금속 전도성 층(120) 상에 배치되어 나노 금속 전도성 층(120)을 덮는다. 반대로, 소프트 패시베이션 층(150)은 비가시 영역(100B) 내의 하드 패시베이션 층(140) 상에만 대응하여 배치된다.Reference is made to FIG. 4 illustrating a cross-sectional view of a touch panel 400 according to a fourth embodiment of the present invention. A structural difference between the touch panel 300 and the touch panel 400 of the third embodiment is that the configurations of the hard passivation layer 140 and the soft passivation layer 150 are exchanged. Specifically, in the touch panel 400, the hard passivation layer 140 is not only disposed in the invisible region 100B but also extends to the visible region 100A, as a whole structure, in the invisible region 100B, The hard passivation layer 140 is disposed directly on the trace layer 130 to cover the trace layer 130, and in the visible region 100A, the hard passivation layer 140 is disposed on the nano-metal conductive layer 120 to cover the nano-metal conductive layer 120. It covers the metal conductive layer 120 . Conversely, the soft passivation layer 150 is disposed correspondingly only on the hard passivation layer 140 in the non-visible region 100B.

터치 패널(400)의 비가시 영역(100B)에서, 트레이스 층(130) 위에 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 배치함으로써 트레이스 층(130)의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력이 동시에 향상될 수 있다. 또한, 가시 영역(100A) 내의 나노 금속 전도성 층(120)의 굽힘 능력이 위에 놓인 하드 패시베이션 층(140)으로 인해 또한 향상된다.In the non-visible region 100B of the touch panel 400, the bending ability of the trace layer 130 is obtained by disposing a double-layer passivation layer including a soft passivation layer 150 and a hard passivation layer 140 on the trace layer 130. and antioxidant ability can be simultaneously improved. In addition, the bending ability of the nano-metal conductive layer 120 in the visible region 100A is also improved due to the overlying hard passivation layer 140 .

본 발명의 제 5 실시예에 따른 터치 패널(500)의 단면도를 예시하는 도 5를 참조한다. 제 3 실시예의 터치 패널(300)과 터치 패널(500)의 구조적 차이는 하드 패시베이션 층(140)이 비가시 영역(100B)에만 배치되는 것만 아니라 가시 영역(100A)으로 또한 연장되어 하드 패시베이션 층(140)이 소프트 패시베이션 층(150)을 완전히 덮도록 소프트 패시베이션 층(150) 상에 배치된다는 점이다. 즉, 터치 패널(500)에서, 소프트 패시베이션 층(150)은 트레이스 층(130) 및 나노 금속 전도성 층(120) 상에 직접 배치되고, 하드 패시베이션 층(140)은 소프트 패시베이션 층(150)을 완전히 덮기 위해 소프트 패시베이션 층(150) 상에 배치되고, 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)은 트레이스 층(130) 및 나노 금속 전도성 층(120) 상의, 완전히 적층된 두 개의 층이다.Reference is made to FIG. 5 illustrating a cross-sectional view of a touch panel 500 according to a fifth embodiment of the present invention. The structural difference between the touch panel 300 and the touch panel 500 of the third embodiment is that the hard passivation layer 140 is not only disposed in the non-visible area 100B but also extends to the visible area 100A, so that the hard passivation layer ( 140) is disposed on the soft passivation layer 150 to completely cover the soft passivation layer 150. That is, in the touch panel 500, the soft passivation layer 150 is directly disposed on the trace layer 130 and the nano-metal conductive layer 120, and the hard passivation layer 140 completely covers the soft passivation layer 150. Disposed on the soft passivation layer 150 to cover, the soft passivation layer 150 and the hard passivation layer 140 are two completely stacked layers on the trace layer 130 and the nano metal conductive layer 120.

터치 패널(500)에서, 트레이스 층(130) 및 나노 금속 전도성 층(120) 위에 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 배치함으로써 트레이스 층(130) 및 나노 금속 전도성 층(120)의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력이 동시에 향상될 수 있다.In the touch panel 500, a double layer passivation layer including a soft passivation layer 150 and a hard passivation layer 140 is placed over the trace layer 130 and the nano-metal conductive layer 120, thereby forming the trace layer 130 and the nano-metal conductive layer 120. The bending ability and oxidation preventing ability of the metal conductive layer 120 can be simultaneously improved.

본 개시의 제 6 실시예에 따른 터치 패널(600)의 단면도를 예시하는 도 6을 참조한다. 제 5 실시예의 터치 패널(500)과 터치 패널(600)의 구조적 차이는 하드 패시베이션 층(140)과 소프트 패시베이션 층(150)의 구성이 교환된다는 점이다. 즉, 터치 패널(600)에서, 하드 패시베이션 층(140)은 트레이스 층(130) 및 나노 금속 전도성 층(120) 상에 직접 배치되도록 비가시 영역(100B) 및 가시 영역(100A) 내에 배치되고, 소프트 패시베이션 층(150)은 하드 패시베이션 층(140) 상에 배치되고 하드 패시베이션 층(140)을 완전히 덮도록 비가시 영역(100B) 및 가시 영역(100A) 내에 배치된다.Reference is made to FIG. 6 illustrating a cross-sectional view of a touch panel 600 according to a sixth embodiment of the present disclosure. A structural difference between the touch panel 500 and the touch panel 600 of the fifth embodiment is that the configurations of the hard passivation layer 140 and the soft passivation layer 150 are exchanged. That is, in the touch panel 600, the hard passivation layer 140 is disposed in the invisible region 100B and the visible region 100A so as to be directly disposed on the trace layer 130 and the nano-metal conductive layer 120, The soft passivation layer 150 is disposed on the hard passivation layer 140 and is disposed in the invisible region 100B and the visible region 100A to completely cover the hard passivation layer 140 .

터치 패널(600)에서, 트레이스 층(130) 및 나노 금속 전도성 층(120) 위에 소프트 패시베이션 층(150) 및 하드 패시베이션 층(140)을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 제공함으로써 트레이스 층(130) 및 나노 금속 전도성 층(120)의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력이 동시에 향상될 수 있다.In the touch panel 600, the trace layer 130 and the nano-metal conductive layer 120 are formed by providing a double layer passivation layer including a soft passivation layer 150 and a hard passivation layer 140 over the trace layer 130 and the nano-metal conductive layer 120. The bending ability and oxidation preventing ability of the metal conductive layer 120 can be simultaneously improved.

나노 금속 전도성 층에 대한 본 발명의 이중층 패시베이션 층의 보호 능력을 평가하기 위해, 나노 금속 전도성 층 및 패시베이션 층을 포함하는 구조물에 대해 고온 고습(high-temperature and high-humidity, HTHH) 시험이 수행되었고, 여기서 시험 온도는 85 ℃였고, 습도 85 %였으며, 나노 금속 전도성 층의 면저항 변동율이 계산되었다. 시험 결과는 아래 표 1에 도시된다. 단층 소프트 패시베이션 층, 단층 하드 패시베이션 층, 및 소프트 패시베이션 층과 하드 패시베이션 층을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 포함하는 구조물이 각각 시험되었다.In order to evaluate the protective ability of the double layer passivation layer of the present invention for the nano-metal conductive layer, a high-temperature and high-humidity (HTHH) test was performed on the structure including the nano-metal conductive layer and the passivation layer. , where the test temperature was 85 °C and the humidity was 85%, and the rate of change in sheet resistance of the nano-metallic conductive layer was calculated. The test results are shown in Table 1 below. Structures comprising a single soft passivation layer, a single hard passivation layer, and a bi-layer passivation layer comprising a soft passivation layer and a hard passivation layer were each tested.

Figure 112021022538344-pat00001
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표 1에 작성된 데이터에 따르면, 고온 고습의 조건 하에, 이중층 패시베이션 층 구조물을 갖는 나노 금속 전도성 층은 10 % 미만의 면저항 변동률에 대한 요건을 충족하고; 이중층 패시베이션 층 구조물은, 특히 오랜 시간 동안(예를 들어, 240 시간 이상의 시험에서) 더 우수한 보호 능력을 나타냈다.According to the data prepared in Table 1, under conditions of high temperature and high humidity, the nano-metal conductive layer with the double-layer passivation layer structure meets the requirements for sheet resistance fluctuation rate of less than 10%; The double-layer passivation layer structure exhibited better protection, especially for longer periods of time (eg, in tests of 240 hours or more).

또한, 나노 금속 전도성 층 자체가 더 우수한 유연성 및 굽힘 능력을 가지고 있기 때문에, 다음 단계는 패시베이션 층이 나노 금속 전도성 층의 금속 트레이스의 굽힘 능력을 향상시킬 수 있는지를 시험하는 것이다. 금속 트레이스 및 패시베이션 층을 포함하는 구조물에는 굽힘 시험이 시행되었고, 금속 트레이스의 라인 저항 변동이 측정되었다. 시험 결과는 아래 표 2 및 3에 나타내었다. 단층 소프트 패시베이션 층, 단층 하드 패시베이션 층, 및 소프트 패시베이션 층과 하드 패시베이션 층을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 포함하는 구조물이 각각 시험되었다. 굽힘 방향은 패시베이션 층 외측 방향에 대한 기판의 동적 굽힘이고 굽힘 R 각도 반경은 3 mm였고 굽힘 속도는 초당 1 회였다.In addition, since the nano-metal conductive layer itself has better flexibility and bending ability, the next step is to test whether the passivation layer can improve the bending ability of the metal traces of the nano-metal conductive layer. A bending test was performed on the structure including the metal trace and the passivation layer, and the line resistance variation of the metal trace was measured. The test results are shown in Tables 2 and 3 below. Structures comprising a single soft passivation layer, a single hard passivation layer, and a bi-layer passivation layer comprising a soft passivation layer and a hard passivation layer were each tested. The bending direction was dynamic bending of the substrate with respect to the outward direction of the passivation layer, the bending R angular radius was 3 mm, and the bending speed was 1 turn per second.

Figure 112021022538344-pat00002
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Figure 112021022538344-pat00003
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표 2로부터 단층 하드 패시베이션 층이 위에 배치된 금속 트레이스의 라인 저항은 굽힘 후 비정상(abnormal)이고 과부하(OL)였고, 금속 트레이스와 패시베이션 층 모두에 균열이 있음을 알 수 있다. 표 3으로부터 이중층 패시베이션 층 구조물이 위에 배치된 금속 트레이스의 라인 저항은 굽힘 후 비정상이 아님을 알 수 있다. 따라서, 단일 층 하드 패시베이션 층과 비교하여, 이중층 패시베이션 층은 금속 트레이스의 굽힘 능력을 상당히 향상시킬 수 있다.It can be seen from Table 2 that the line resistance of the metal trace with the single-layer hard passivation layer disposed thereon was abnormal and overloaded (OL) after bending, and that both the metal trace and the passivation layer had cracks. It can be seen from Table 3 that the line resistance of the metal trace having the double passivation layer structure disposed thereon is not abnormal after bending. Therefore, compared with the single-layer hard passivation layer, the double-layer passivation layer can significantly improve the bending ability of the metal trace.

또한, 금속 트레이스 및 패시베이션 층을 포함하는 구조물에 대해 HTHH 시험이 수행되었으며, 여기서 시험 온도는 65 ℃였고, 습도는 90 %였고, 산화 현상이 관찰되었다. 시험 결과는 표 4에 나타내었다. 단층 소프트 패시베이션 층, 단층 하드 패시베이션 층, 및 소프트 패시베이션 층과 하드 패시베이션 층을 포함하는 이중층 패시베이션 층을 포함하는 구조물이 각각 시험되었다.In addition, HTHH tests were performed on the structure including the metal traces and the passivation layer, where the test temperature was 65° C., the humidity was 90%, and an oxidation phenomenon was observed. The test results are shown in Table 4. Structures comprising a single soft passivation layer, a single hard passivation layer, and a bi-layer passivation layer comprising a soft passivation layer and a hard passivation layer were each tested.

Figure 112021022538344-pat00004
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표 4로부터 단층 하드 패시베이션 층 또는 소프트 패시베이션 층이 위에 배치된 금속 트레이스가 240 시간 후에 산화되기 시작함을 알 수 있다. 금속 트레이스는 소프트 패시베이션 층 이전에 금속 트레이스 위에 하드 패시베이션 층이 배치된 이중층 패시베이션 층 구조물 하에 360 시간 후에 산화되기 시작하였다. 금속 트레이스는 산화되지 않은 채로 남았고 하드 패시베이션 층 이전에 금속 트레이스 위에 소프트 패시베이션 층이 배치되었던 이중층 패시베이션 층 구조물 하에 500 시간 시험을 통과하였다. 이중층 패시베이션 층 구조물은 단층 패시베이션 층보다 금속 트레이스에 대해 더 우수한 산화 방지 능력을 제공할 수 있다.It can be seen from Table 4 that metal traces having either a single hard passivation layer or a soft passivation layer disposed thereon begin to oxidize after 240 hours. The metal traces started to oxidize after 360 hours under a double passivation layer structure in which a hard passivation layer was placed over the metal traces before the soft passivation layer. The metal traces remained unoxidized and passed the 500 hour test under a double layer passivation layer structure in which a soft passivation layer was placed over the metal traces before a hard passivation layer. A double-layer passivation layer structure can provide better oxidation protection for metal traces than a single-layer passivation layer.

상기 시험 결과로부터 단층 소프트 패시베이션 층 또는 단층 하드 패시베이션 층과 비교하여, 금속 트레이스 또는 나노 금속 전도성 층 상에 하드 패시베이션 층 및 소프트 패시베이션 층을 포함하는 이중층 패시베이션 층 구조물의 보호 능력이 더 우수함을 알 수 있다. 또한, 단층 하드 패시베이션 층과 비교하여, 이중층 패시베이션 층 구조물은 금속 트레이스가 더 우수한 굽힘 능력을 갖도록 할 수 있다. 따라서, 터치 패널에서의 이중층 패시베이션 층의 구성은, 디바이스의 굽힘 능력 및 산화 방지 능력을 동시에 향상시킬 수 있어, 이중층 패시베이션 층이 터치 패널의 신뢰성을 향상시킬 수 있고 터치 패널의 수명을 연장시킨다.From the above test results, compared to a single-layer soft passivation layer or a single-layer hard passivation layer, it can be seen that the double-layer passivation layer structure including a hard passivation layer and a soft passivation layer on a metal trace or a nano-metal conductive layer has better protection ability. . In addition, compared to the single-layer hard passivation layer, the double-layer passivation layer structure can make the metal trace have better bending ability. Therefore, the configuration of the double-layer passivation layer in the touch panel can simultaneously improve the bending ability and anti-oxidation ability of the device, so that the double-layer passivation layer can improve the reliability of the touch panel and prolong the life of the touch panel.

상기는 본 개시의 양상들을 본 발명분야의 당업자가 더 잘 이해할 수 있도록 여러 실시예들의 특징들을 약술한다. 당업자는 본 명세서에 개시된 실시예들과 동일한 목적을 수행하고, 그리고/또는 동일한 이점을 성취하는 다른 공정들 및 구조물들을 설계하거나 수정하기 위해 본 개시를 기초로서 쉽게 사용할 수 있다는 것을 인지해야 한다. 또한, 당업자는 그러한 동등한 구성이 본 개시의 사상 및 범주로부터 벗어나지 않고, 이들은 본 개시의 사상 및 범주를 벗어나지 않으면서 다양한 수정, 대체 및 변경이 가능하다는 것을 인지해야 한다.The foregoing outlines features of several embodiments so that those skilled in the art may better understand the aspects of the present disclosure. Skilled artisans should appreciate that they may readily use the present disclosure as a basis to design or modify other processes and structures that carry out the same purposes and/or achieve the same advantages of the embodiments disclosed herein. In addition, those skilled in the art should appreciate that such equivalent constructions do not depart from the spirit and scope of the present disclosure, and that they are capable of various modifications, substitutions, and changes without departing from the spirit and scope of the present disclosure.

Claims (15)

가시(visible) 영역 및 상기 가시 영역의 적어도 일 측에 배치된 비가시(non-visible) 영역을 갖는 터치 패널에 있어서,
기판;
상기 기판 상에 그리고 적어도 상기 가시 영역 내에 배치된 나노 금속 전도성 층;
상기 기판 상에 그리고 상기 비가시 영역 내에 배치된 트레이스 층 - 상기 트레이스 층은 상기 나노 금속 전도성 층에 전기적으로 접속됨 - ;
상기 트레이스 층을 덮는 제 1 패시베이션 층; 및
상기 제 1 패시베이션 층의 적어도 일부분을 덮는 제 2 패시베이션 층을 포함하고,
상기 제 1 패시베이션 층은 상기 제 2 패시베이션 층과는 상이한 영률(Young's modulus)을 갖고, 상기 제 1 패시베이션 층은 0.5 GPa 내지 1 GPa 사이의 영률을 갖고 상기 제 2 패시베이션 층은 2 GPa 내지 4 GPa 사이의 영률을 갖거나, 또는 상기 제 1 패시베이션 층은 2 GPa 내지 4 GPa 사이의 영률을 갖고 상기 제 2 패시베이션 층은 0.5 GPa 내지 1 GPa 사이의 영률을 갖는 것인, 터치 패널.A touch panel having a visible area and a non-visible area disposed on at least one side of the visible area,
Board;
a nano-metal conductive layer disposed on the substrate and at least within the visible region;
a trace layer disposed on the substrate and within the invisible region, the trace layer electrically connected to the nano-metal conductive layer;
a first passivation layer covering the trace layer; and
A second passivation layer covering at least a portion of the first passivation layer;
The first passivation layer has a Young's modulus different from the second passivation layer, the first passivation layer has a Young's modulus between 0.5 GPa and 1 GPa and the second passivation layer has a Young's modulus between 2 GPa and 4 GPa. or wherein the first passivation layer has a Young's modulus between 2 GPa and 4 GPa and the second passivation layer has a Young's modulus between 0.5 GPa and 1 GPa. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층은 상기 비가시 영역 내에만 배치되고 상기 트레이스 층 상에 직접 배치되며, 상기 제 2 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 배치되는 것인, 터치 패널.2. The touch of claim 1 , wherein the first passivation layer is disposed only in the invisible region and directly on the trace layer, and wherein the second passivation layer is disposed in the visible region and the invisible region. panel. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 배치되고 상기 비가시 영역 내의 상기 트레이스 층 상에 직접 배치되며, 상기 제 2 패시베이션 층은 상기 비가시 영역 내에만 배치되는 것인, 터치 패널.2. The method of claim 1, wherein the first passivation layer is disposed in the visible region and the invisible region and directly on the trace layer in the invisible region, and the second passivation layer is disposed only in the invisible region. The touch panel which will become. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 배치되고 상기 비가시 영역 내의 상기 트레이스 층 상에 직접 배치되며, 상기 제 2 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 배치되는 것인, 터치 패널.2. The method of claim 1 , wherein the first passivation layer is disposed in the visible region and the invisible region and directly disposed on the trace layer in the invisible region, and the second passivation layer is disposed in the visible region and the invisible region. A touch panel disposed within the area. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층 및 상기 제 2 패시베이션 층은 각각 10 μm 미만의 두께를 가지는 것인, 터치 패널.The touch panel according to claim 1 , wherein each of the first passivation layer and the second passivation layer has a thickness of less than 10 μm. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층 및 상기 제 2 패시베이션 층은 각각 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리아미드 또는 이들의 조합을 포함하는 것인, 터치 패널.The touch panel according to claim 1 , wherein each of the first passivation layer and the second passivation layer includes an acrylic resin, an epoxy resin, polyamide, or a combination thereof. 가시 영역 및 상기 가시 영역의 적어도 일 측에 배치된 비가시 영역을 갖는 터치 패널을 제조하는 방법에 있어서,
기판 상에 나노 금속 전도성 층을 형성하는 단계;
상기 기판 상에 그리고 상기 비가시 영역 내에 트레이스 층을 형성하는 단계;
상기 트레이스 층을 덮도록 제 1 패시베이션 층을 형성하는 단계; 및
상기 제 1 패시베이션 층 상에, 상기 제 1 패시베이션 층의 적어도 일부분을 덮는 제 2 패시베이션 층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 제 1 패시베이션 층은 상기 제 2 패시베이션 층과는 상이한 영률을 갖고, 상기 제 1 패시베이션 층은 0.5 GPa 내지 1 GPa 사이의 영률을 갖고 상기 제 2 패시베이션 층은 2 GPa 내지 4 GPa 사이의 영률을 갖거나, 또는 상기 제 1 패시베이션 층은 2 GPa 내지 4 GPa 사이의 영률을 갖고 상기 제 2 패시베이션 층은 0.5 GPa 내지 1 GPa 사이의 영률을 갖는 것인, 터치 패널을 제조하는 방법.A method of manufacturing a touch panel having a visible area and an invisible area disposed on at least one side of the visible area,
Forming a nano-metal conductive layer on the substrate;
forming a trace layer on the substrate and in the non-visible area;
forming a first passivation layer to cover the trace layer; and
Forming a second passivation layer on the first passivation layer, covering at least a portion of the first passivation layer,
The first passivation layer has a Young's modulus different from the second passivation layer, the first passivation layer has a Young's modulus between 0.5 GPa and 1 GPa and the second passivation layer has a Young's modulus between 2 GPa and 4 GPa. or, wherein the first passivation layer has a Young's modulus between 2 GPa and 4 GPa and the second passivation layer has a Young's modulus between 0.5 GPa and 1 GPa. 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층을 형성하는 단계 및 상기 제 2 패시베이션 층을 형성하는 단계는 각각 인쇄, 슬릿 코팅, 스프레이, 잉크젯 인쇄 또는 이들의 조합을 포함하는 것인, 터치 패널을 제조하는 방법.9. The method of claim 8 , wherein the forming of the first passivation layer and the forming of the second passivation layer include printing, slit coating, spraying, inkjet printing, or a combination thereof, respectively. How to. 제 8 항에 있어서, 상기 트레이스 층은 상기 나노 금속 전도성 층이 형성된 후에 형성되는 것인, 터치 패널을 제조하는 방법.The method of claim 8 , wherein the trace layer is formed after the nano-metal conductive layer is formed. 제 8 항에 있어서, 상기 트레이스 층은 상기 나노 금속 전도성 층이 형성되기 전에 형성되는 것인, 터치 패널을 제조하는 방법.The method of claim 8 , wherein the trace layer is formed before the nano-metal conductive layer is formed. 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층은 상기 비가시 영역 내에만 형성되고 상기 트레이스 층 상에 직접 형성되며, 상기 제 2 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 형성되는 것인, 터치 패널을 제조하는 방법.9. The touch screen of claim 8, wherein the first passivation layer is formed only in the invisible region and directly on the trace layer, and the second passivation layer is formed in the visible region and the invisible region. How to make a panel. 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 형성되고 상기 비가시 영역 내의 상기 트레이스 층 상에 직접 형성되며, 상기 제 2 패시베이션 층은 상기 비가시 영역 내에만 형성되는 것인, 터치 패널을 제조하는 방법.9. The method of claim 8, wherein the first passivation layer is formed in the visible region and the invisible region and directly on the trace layer in the invisible region, and the second passivation layer is formed only in the invisible region. That is, a method for manufacturing a touch panel. 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 형성되고 상기 비가시 영역 내의 트레이스 층 상에 직접 형성되며, 상기 제 2 패시베이션 층은 상기 가시 영역 및 상기 비가시 영역 내에 형성되는 것인, 터치 패널을 제조하는 방법.9. The method of claim 8, wherein the first passivation layer is formed in the visible region and the invisible region and directly on the trace layer in the invisible region, and the second passivation layer is formed in the visible region and the invisible region. Which is formed within, a method for manufacturing a touch panel. 삭제delete
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