KR102461975B1 - 롤투롤 원자층 증착장치 - Google Patents

롤투롤 원자층 증착장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102461975B1
KR102461975B1 KR1020200141699A KR20200141699A KR102461975B1 KR 102461975 B1 KR102461975 B1 KR 102461975B1 KR 1020200141699 A KR1020200141699 A KR 1020200141699A KR 20200141699 A KR20200141699 A KR 20200141699A KR 102461975 B1 KR102461975 B1 KR 102461975B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
source material
roll
porous material
atomic layer
layer deposition
Prior art date
Application number
KR1020200141699A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20220056980A (ko
Inventor
서지현
Original Assignee
주식회사 비이아이랩
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 비이아이랩 filed Critical 주식회사 비이아이랩
Priority to KR1020200141699A priority Critical patent/KR102461975B1/ko
Priority to US17/507,383 priority patent/US20220136105A1/en
Publication of KR20220056980A publication Critical patent/KR20220056980A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102461975B1 publication Critical patent/KR102461975B1/ko
Priority to US18/328,843 priority patent/US20230304153A1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45544—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus
    • C23C16/45548—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus having arrangements for gas injection at different locations of the reactor for each ALD half-reaction
    • C23C16/45551—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus having arrangements for gas injection at different locations of the reactor for each ALD half-reaction for relative movement of the substrate and the gas injectors or half-reaction reactor compartments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates

Abstract

본 발명은 다공성 소재에 원자층을 증착시키기 위한 롤투롤 원자층 증착장치에 있어서, 서로 이격되어 배치되고 상기 다공성 소재의 길이방향 양 측부가 권취되는 한 쌍의 권취롤러로서, 상기 다공성 소재를 길이방향으로 왕복이동 시킬 수 있는 한 쌍의 권취롤러; 상기 한 쌍의 권취롤러 사이에 배치되고, 상기 다공성 소재를 향해 소스물질을 공급하는 하나 이상의 소스물질 공급부; 및 상기 하나 이상의 소스물질 공급부로부터 공급된 소스물질을 흡입하도록 형성된 하나 이상의 펌프를 포함하고, 상기 하나 이상의 펌프는 상기 하나 이상의 소스물질 공급부에 대응하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치에 관한 것이다.

Description

롤투롤 원자층 증착장치{Roll to roll atomic layer deposition apparatus}
본 발명은 롤투롤 원자층 증착장치에 관한 것으로서, 구체적으로, 진공챔버 없이, 상압 환경 하에서, 다공성 소재에 원자층을 증착시킬 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치에 관한 것이다.
우선, 본 발명을 지원한 연구개발사업은 아래와 같다.
과제고유번호: D202017, 부처명: 경기도, 연구관리전문기관: (재)경기테크노파크, 연구사업명: 장비국산화 및 수입대체 분야, 연구과제명: 차세대 배터리 소재 개발 및 국산화 대비 고반응성 소재 원자층 증착기 고도화, 주관연구기관: 비이아이랩, 연구기간: 2020.03.01~2021.05.31.
일반적으로, 원자층 증착장치는 웨이퍼(또는 기판)에 대한 원자층을 증착하기 위해 사용된다.
종래의 롤투롤 원자층 증착 장치는 가공 대상물이 진공상태로 유지되는 반응챔버 내에 수용된 상태에서 가공 대상물을 향해 소스물질을 공급하는 형태로 수행된다.
즉, 종래의 롤투롤 원자층 증착장치는 가공 대상물에 원자층 증착 공정을 수행하기 위한 대형 진공 챔버를 필수적으로 구비한다.
이러한 종래의 롤투롤 원자층 증착장치에 따르면, 대형 진공 챔버의 설치를 위한 공간 및 비용이 필요한 문제가 있다.
또한, 종래의 롤투롤 원자층 증착장치는 가공 대상물을 향해 소스물질(예를 들어, 전구체)을 펄스 형태로 공급한다. 한편, 서로 다른 소스물질을 순차적으로 공급하는 경우, 하나의 소스물질의 공급과 다른 소스물질의 공급 사이에 퍼지공정이 필수적으로 요구될 수 있다.
이러한 종래의 롤투롤 원자층 증착장치에 따르면, 원자층 증착공정의 소요 시간을 증가시킬 수 있는 문제가 있다.
예를 들어, 대한민국공개특허 제10-2015-0030400호는 종래의 롤투롤 방식의 원자층 증착 장비를 개시하고 있다.
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위한 것으로서, 진공챔버가 불필요하며, 상압 환경 하에서, 가공 대상물에 대한 원자층 증착 공정이 수행될 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
즉, 본 발명은 진공챔버에 소요되는 비용을 절감하여, 장치 전체의 제작 비용을 절감할 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 가공 대상물에 대한 소스물질의 공급방식을 펄스형태가 아닌 연속적인 공급방식(즉, 계속적인 공급방식)으로 하여, 가공 대상물에 대한 원자층의 증착공정의 소요시간을 줄일 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 하나의 소스물질의 고급과 다른 소스물질의 공급 사이에 퍼지 공정이 별도로 필요 없어서, 원자층 증착공정의 소요시간을 줄일 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 전술한 목적을 달성하기 위한 것으로서, 다공성 소재에 원자층을 증착시키기 위한 롤투롤 원자층 증착장치에 있어서, 서로 이격되어 배치되고, 상기 다공성 소재의 길이방향 양 측부가 권취되며,상기 다공성 소재를 길이방향으로 왕복이동 시킬 수 있는 한 쌍의 권취롤러; 상기 한 쌍의 권취롤러 사이에 배치되고, 상기 다공성 소재를 향해 소스물질을 공급하는 하나 이상의 소스물질 공급부; 및 상기 하나 이상의 소스물질 공급부로부터 공급된 소스물질을 흡입하도록 형성된 하나 이상의 펌프를 포함하고, 상기 하나 이상의 펌프는 상기 하나 이상의 소스물질 공급부에 대응하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공한다.
본 발명에 따르면, 펌프가 소스물질 공급부에 대응하여 마련되기 때문에, 진공챔버와 같은 구성이 없이도, 다공성 소재에 대한 원자층의 증착(즉, 코팅)이 원활하게 수행될 수 있다.
상기 하나 이상의 소스물질 공급부와 상기 하나 이상의 펌프는 상기 다공성 소재를 사이에 두고 서로 마주하도록 배치될 수 있다. 따라서, 소스물질 공급부로부터 공급되는 소스물질이 다공성 소재를 경유한 후, 펌프로 바로 유입 및 배출될 수 있다.
상기 하나 이상의 펌프의 흡입구는 상기 하나 이상의 소스물질 공급부의 단부에 구비되는 공급구와 마주하도록 배치될 수 있다. 그리고, 상기 흡입구의 직경은 상기 공급구의 직경보다 큰 것이 바람직하다.
따라서, 소스물질 공급부로부터 공급되는 소스물질이 다공성 소재를 경유한 후에, 보다 효율적으로 그리고 보다 확실하게 펌프로 유입 및 배기될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 복수개의 소스물질 공급부 및 복수개의 펌프를 구비하고, 복수개의 소스물질 공급부의 공급구와 복수개의 펌프의 흡입구는 일대일로 대응되도록 배치될 수 있다.
이는, 챔버와 같은 구성이 없더라도, 그리고, 퍼지와 같은 공정이 별도로 없더라도, 다공성 소재에 대한 코팅을 원활하고 신속하게 수행하기 위함이다.
본 발명은 상기 한 쌍의 권취롤러, 상기 소스물질 공급부 및 상기 펌프를 제어하는 제어부를 더 포함하고, 상기 제어부는, 다공성 소재에 대한 원자층 증착 공정 중에, 상기 한 쌍의 권취롤러 사이에서 상기 다공성 소재가 길이방향의 기설정된 거리로 왕복이동하도록 상기 한 쌍의 권취롤러를 제어하고, 상기 소스물질 공급부 및 상기 펌프를 연속적으로 작동하도록 제어할 수 있다.
따라서, 소스물질이 펄스형태가 아닌 연속적으로 공급되기 때문에, 다공성 소재의 왕복이동 횟수에 따라서 코팅 두께가 결정될 수 있다. 바꾸어 말하면, 다공성 소재에 대한 코팅 두께는 다공성 소재의 왕복이동 횟수에 기초하여 결정될 수 있다.
본 발명에 따르면, 진공챔버가 불필요하며, 상압 환경 하에서, 가공 대상물에 대한 원자층 증착 공정이 수행될 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공할 수 있다.
즉, 본 발명에 따르면, 진공챔버에 소요되는 비용을 절감하여, 장치 전체의 제작 비용을 절감할 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 가공 대상물에 대한 소스물질의 공급방식을 펄스형태가 아닌 연속적인 공급방식(즉, 계속적인 공급방식)으로 하여, 가공 대상물에 대한 원자층의 증착공정의 소요시간을 줄일 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 하나의 소스물질의 고급과 다른 소스물질의 공급 사이에 퍼지 공정이 별도로 필요 없어서, 원자층 증착공정의 소요시간을 줄일 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치를 나타내는 개념도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 주요 구성들의 연결관계를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치를 나타내는 개념도이다.
도 4는 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 제어방법을 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치를 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다. 첨부된 도면은 본 발명의 예시적인 형태를 도시한 것으로, 이는 본 발명을 보다 상세히 설명하기 위해 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적인 범위가 한정되는 것은 아니다.
또한, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응되는 구성요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복 설명은 생략하기로 하며, 설명의 편의를 위하여 도시된 각 구성 부재의 크기 및 형상은 과장되거나 축소될 수 있다.
한편, 제 1 또는 제 2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들이 상기 용어들에 의해 한정되지 않으며, 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별시키는 목적으로만 사용된다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치를 나타내는 개념도이다. 이해르 돕기 위해, 도 1에서 X축 방향을 길이방향(또는 수평방향 또는 가공 대상물의 진행방향)으로 정의하고, Y축 방향을 상하방향(또는 높이방향 또는 수직방향)으로 정의한다. 예를 들어, Y축 방향은 X축방향에 수직인 방향을 의미할 수 있다.
또한, 가공 대상물(다공성 소재)에 대한 원자층의 증착은 가공 대상물의 코팅이라고 표현될 수도 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치는 상압 환경 하에서, 다공성 소재에 원자층을 증착시키기에 적합하도록 구성(또는 제어)될 수 있다.
여기서, 상압 환경은 진공챔버가 별도로 필요하지 않은 환경을 의미할 수 있으며, 예를 들어, 대기압 환경이 될 수 있다. 또한, 다공성 소재는 미세 홀이 형성되어 있는 섬유, 제지, 금속, 카본, 분리막, 웨브(Web) 등을 포함할 수 있다.
도 1에 도시된 롤투롤 원자층 증착장치는 다공성 소재(10)가 권취되는 한 쌍의 권취롤러(110, 120), 소스물질 공급부(210, 220) 및 펌프(310, 320)를 포함할 수 있다.
다공성 소재(10)는 유연한 재질 또는 플랙서블한 재질로 형성될 수 있다. 상기 다공성 소재(10)는 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120) 사이에서 일정한 장력을 가지고 길이방향으로 뻗도록 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120)에 권취될 수 있다.
한 쌍의 권취롤러(110, 120)는 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120)에 상기 다공성 소재(10)의 길이방향 양 측부가 권취될 수 있다. 예를 들어, 상기 한 쌍의 권취롤러(110), 120)는 제1권취롤러(110) 및 제2권취롤러(120)를 포함할 수 있다. 상기 다공성 소재(10)의 일 측부는 상기 제1권취롤러(110)에 권취되고, 상기 다공성 소재(10)의 타 측부는 상기 제2권취롤러(120)에 권취될 수 있다.
상기 제1권취롤러(110) 및 상기 제2권취롤러(120) 사이에서, 상기 다공성 소재(10)는 수평방향으로 뻗을 수 있다. 즉, 상기 제1권취롤러(110) 및 상기 제2권취롤러(120)의 거리에 대응하는 길치만큼 상기 다공성 소재(10)가 수평방향으로 뻗을 수 있다.
후술할 제어부에 의해, 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120)는 정회전(예를 들어, 시계방향 회전) 및 역회전(예를 들어, 반시계방향 회전)하도록 제어될 수 있다.
도 1에서 X축의 우측방향을 진행방향으로 정의할 때, 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120)가 정회전하면 상기 다공성 소재(10)가 진행방향으로 진행될 수 있다. 반대로, 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120)가 역회전하면 상기 다공성 소재(10)가 반진행방향(즉, 진행방향의 역방향)으로 진행될 수 있다.
상기 다공성 소재(10)를 진행방향 및 반진행방향으로 왕복이동시키기 위해서는 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120)가 정회전 및 역회전을 반복하면 된다. 즉, 한 쌍의 권취롤러(110, 120)는 상기 다공성 소재(10)를 길이방향으로 왕복이동시킬 수 있다.
예를 들어, 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120)의 정회전 및 역회전 각도에 기초하여, 상기 다공성 소재(10)의 길이방향을 따르는 왕복이동 거리(즉, 왕복이동 길이)가 결정될 수 있다.
후술할 소스물질이 공급되고 있는 상태에서, 상기 다공성 소재(10)가 길이방향으로 왕복이동될 수 있다. 따라서, 상기 다공성 소재(10)의 길이방향 왕복이동 횟수에 기초하여 상기 다공성 소재(10) 상에 증착되는 원자층의 두께(즉, 코팅 두께)가 결정될 수 있다.
즉, 일반적으로 소스물질이 펄스 형태로 공급되는 경우, 펄스 수에 기초하여 코팅 두께가 결정된다. 이와 달리, 본 발명에 따르면, 소스물질이 연속적으로(즉, 계속적)으로 공급되기 때문에, 상기 다공성 소재(10)의 왕복이동 횟수에 기초하여 코티 두께가 결정된다.
도시된 실시예에서, 소스물질이 연속적으로 공급되고 있는 상태에서, 상기 다공성 소재(10)는 "L"로 나타낸 길이만큼 기설정된 횟수(목표 코팅 두께에 따라 결정)로 왕복이동될 수 있다.
여기서, 길이 "L"은 상기 다공성 소재(10)에 있어서, 가공 대상이 되는 부분의 길이를 의미할 수 있다. 즉, 도시된 실시예에서, "L"의 좌단이 후술할 소스물질 공급부(210, 220)의 좌단에 대응하는 제1위치 및 "L"의 우단이 소스물질 공급부(210, 220)의 우단에 대응하는 제2위치 사이에서, 상기 다공성 소재(10)가 왕복이동될 수 있다.
다공성 소재(10)의 왕복이동 횟수가 상기 기설정된 횟수에 도달하면, 상기 다공성 소재(10)는 길이 "L"만큼 진행방향(도면에서 우측방향)으로 진행되어 제2권취롤러(120)에 권취된다. 그 후, 제1권취롤러(110)에서 풀려나온 다공성 소재(10)의 미가공 부분이 길이 "L"만큼 기설정된 횟수로 왕복이동되면서 코팅될 수 있다. 그리고, 이러한 코팅 과정은 다공성 소재(10)의 전체 길이에 걸쳐서 순차적으로 진행될 수 있다.
상기 소스물질 공급부(210, 220)는 상기 다공성 소재(10)를 향해 소스물질(예를 들어, 전구물질(precursor))을 공급하도록 형성될 수 있다. 상기 소스물질 공급부(210, 220)는 하나 이상이 구비될 수 있으며, 복수개의 소스물질 공급부(210, 220)가 구비되는 경우, 각각의 소스물질 공급부는 서로 다른 소스물질을 공급하도록 형성될 수 있다.
예를 들어, 소스물질은 전구체로서, Al, Ti, Hf, Zr 등을 포함하는 주기율표 상의 원소로 구성될 수 있다. 그리고, 소스물질은 리액턴트(산화제)로서, H2O, H2O2, O2, O3 등을 포함할 수도 있다.
상기 소스물질 공급부(210, 220)는 상기 다공성 소재(10)의 가공 대상 길이 "L"를 향해 소스물질을 공급하도록 형성될 수 있다.
상기 소스물질 공급부(210, 220)는 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120) 사이에 배치될 수 있다. 즉, 상기 소스물질 공급부(210, 220)는 제1권취롤러(110) 및 제2권취롤러(120) 사이에 배치될 수 있다.
구체적으로, 상기 소스물질 공급부(210, 220)는 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120) 사이에서 수평방향으로 연장된 상기 다공성 소재(10)의 상측 또는 하측에 배치될 수 있다. 도시된 실시예에서, 상기 소스물질 공급부(210, 220)가 상기 다공성 소재(10)의 상측에 배치되나, 이에 한정되지는 않는다.
예를 들어, 상기 소스물질 공급부(210, 220)는 제1소스물질 공급부(210) 및 제2소스물질 공급부(220)를 포함할 수 있다. 상기 제1소스물질 공급부(210)와 상기 제2소스물질 공급부(220)는 수평방향으로 기설정된 거리만큼 서로 이격되도록 배치될 수 있다.
전술한 소스물질 공급부(210, 220)의 좌단에 대응하는 제1위치는 제1소스물질 공급부(210)의 좌단을 의미할 수 있고, 소스물질 공급부(210, 220)의 우단에 대응하는 제2위치는 제2소스물질 공급부(220)의 우단을 의미할 수 있다.
상기 제1소스물질 공급부(210)는 소스물질1을 공급하도록 형성되고, 제2소스물질 공급부(220)는 소스물질2를 공급하도록 형성될 수 있다. 도시된 실시예에서, 소스물질1과 소스물질2는 서로 다른 소스물질이나, 소스물질1과 소스물질2가 서로 동일한 경우를 배제하지는 않는다.
상기 소스물질 공급부(210, 220)를 통한 상기 다공성 소재(10)에 대한 소스물질의 공급은 진공 환경에서 진행되지 않을 수 있다. 즉, 본 발명에 따르면, 진공챔버와 같은 구성 없이도, 상기 다공성 소재(10)에 대한 코팅공정이 수행될 수 있다.
이는, 상기 소스물질 공급부(210, 220)에서 공급된 소스물질이 상기 다공성 소재(10)의 가공 대상 부분을 경유한 후에, 후술할 펌프(310, 320)로 바로 유입 및 배기될 수 있기 때문이다. 이러한 소스물질의 공급, 가공 대상물(다공성 소재의 가공 대상 부분)의 경유, 및 배기는 가공 대상물이 다공성 소재이기 때문에 가능할 수 있다. 여기서, 배기는 가공 대상물을 경유한 소스물질이 롤투롤 원자층 증착장치가 설치된 공간의 외부로 안내 덕트 등을 통해 배출되는 것을 의미할 수 있다.
즉, 본 발명에 따르면, 진공 챔버 없이도, 상기 다공성 소재(10)에 대한 원자층 증착 공정(즉, 코팅 공정)이 수행될 수 있으며, 다공성 소재(10)에 형성되어 있는 미세홀의 표면에도 보다 빠르고 균일하게 원자층의 증착(즉, 코팅)이 될 수 있다.
상기 펌프(310, 320)는 상기 소스물질 공급부(210, 220)로부터 공급된 소스물질을 흡입하도록 형성될 수 있다. 상기 펌프(310, 320)는 하나 이상이 마련될 수 있으며, 전술한 소스물질 공급부(210, 220)의 갯수에 대응하는 갯수로 마련될 수 있다. 즉, 하나 이상의 펌프(310, 320)가 하나 이상의 소스물질 공급부(210, 220)에 대응하도록 배치될 수 있다.
예를 들어, 상기 펌프(310, 320)는, 상기 소스물질 공급부(210, 220)로부터 상기 다공성 소재(10)의 가공 대상 길이 "L"를 향해 공급되어, 상기 다공성 소재(10)를 경유한 소스물질을 흡입하도록 형성될 수 있다.
상기 펌프(310, 320)는 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120) 사이에 배치될 수 있다. 즉, 상기 펌프(310, 320)는 제1권취롤러(110) 및 제2권취롤러(120) 사이에 배치될 수 있다.
구체적으로, 상기 펌프(310, 320)는 상기 한 쌍의 권취롤러(110, 120) 사이에서 수평방향으로 연장된 상기 다공성 소재(10)의 상측 또는 하측에 배치될 수 있다. 도시된 실시예에서, 상기 펌프(310, 320)가 상기 다공성 소재(10)의 하측에 배치되나, 이에 한정되지는 않는다.
예를 들어, 상기 펌프(310, 320)는 제1펌프(310) 및 제2펌프(320)를 포함할 수 있다. 상기 제1펌프(310)와 상기 제2펌프(320)는 수평방향으로 기설정된 거리만큼 서로 이격되도록 배치될 수 있다.
그리고, 상기 제1펌프(310)는 전술한 제1소스물질 공급부(210)에 대응하도록(마주하도록) 배치되고, 상기 제2펌프(320)는 전술한 제2소스물질 공급부(220)에 대응하도록(마주하도록) 배치될 수 있다.
즉, 상기 소스물질 공급부(210, 220)와 상기 펌프(310, 320)는 상기 다공성 소재(10)를 사이에 두고 서로 마주하도록 배치될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 소스물질 공급부(210, 220)와 상기 펌프(310, 320)는 상기 다공성 소재(10)의 연장방향에 수직인 방향으로 서로 마주하도록 배치될 수 있다.
따라서, 상기 다공성 소재(10)를 경유한 소스물질은 상기 펌프(310, 320)를 통해 바로 흡입 및 배기될 수 있다.
또한, 상기 소스물질 공급부(210, 220)에서 공급된 소스물질이 상기 다공성 소재(10)의 가공 대상 부분을 경유한 후에, 바로 배기될 수 있도록, 상기 펌프(310, 320)는 상기 소스물질 공급부(210, 220)에 일대일(1:1)로 대응되도록 배치될 수 있다.
소스물질의 펌프(310, 320)에 의한 원활한 흡입 및 배기를 위하여, 상기 펌프(310, 320)의 흡입구(311, 321)는 상기 소스물질 공급부(210, 220)의 단부(즉, 토출 단부)에 구비되는 공급구(211, 221)와 마주하도록 배치될 수 있다.
구체적으로, 상기 공급구(211, 221)의 횡단면과, 상기 흡입구(311, 321)의 횡단면과, 상기 다공성 소재(10)의 가공 대상 부분의 표면은 실질적으로 평행하게 배치될 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 공급구(211, 221)의 반경방향 중심은 대응하는 상기 흡입구(311, 321)의 반경방향 중심과 동일선(예를 들어, 가상선) 상에 위치될 수 있다. 이때, 상기 가상선은 상기 다공성 소재(10)의 연장방향에 수직인 방향으로 뻗을 수 있다.
다시 말해서, 상기 공급구(211, 221)의 반경방향 중심과 상기 흡입구(311, 321)의 반경방향 중심을 연결하는 가상선이 상기 다공성 소재(10)를 수직으로 관통하도록, 상기 공급구(211, 221) 및 상기 흡입구(311, 321)가 배치될 수 있다.
또한, 소스물질의 원활한 흡입 및 배기를 달성하기 위하여, 상기 흡입구(311, 321)의 직경은 상기 공급구(211, 221)의 직경보다 큰 것이 바람직하다. 즉, 상기 공급구(211, 221)의 횡단면의 면적은 상기 흡입구(311, 321)의 횡단면의 면적에 완전히 중첩될 수 있다. 예를 들어, 상기 흡입구(311, 321)의 반경은 상기 공급구(211, 221)의 반경의 1.2 내지 3배가 될 수 있다.
소스물질 공급부(210, 220)로부터 공급된 소스물질이 다공성 소재(10)를 경유한 후에 펌프(310, 320)로 바로 흡입 및 배기되기 때문에, 진공 챔버 없이도, 상기 다공성 소재(10)에 대한 코팅 공정이 원활하게 수행될 수 있다. 또한, 다공성 소재(10)에 형성되어 있는 미세홀의 표면에도 보다 빠르고 균일하게 코팅이 형성될 수 있다.
이하, 다른 도면을 더 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 주요구성의 연결관계 및 제어에 대하여 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 주요 구성들의 연결관계를 나타내는 도면이다.
도 1 및 2를 함께 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치는 전술한 권취롤러(110, 120), 소스물질 공급부(210, 220) 및 펌프(310, 320)를 제어하는 제어부(C)를 더 포함할 수 있다.
상기 제어부(C)는 권취롤러(110, 120), 소스물질 공급부(210, 220) 및 펌프(310, 320)에 전기적으로 연결되어 제어신호를 전달하고 작동상태를 피드백 받도록 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치는 상기 제어부(C)에 전기적으로 연결되는 입력부(400) 및 디스플레이(500)를 더 포함할 수 있다.
상기 입력부(400)를 통해 입력되는 제어명령은 상기 제어부(C)를 통해 상기 권취롤러(110, 120), 상기 소스물질 공급부(210, 220) 및 상기 펌프(310, 320) 중 적어도 하나에 전달될 수 있다.
또한, 상기 디스플레이(500)는 입력부(400)를 통해 입력되는 제어명령 및 제어부(C)를 통해 피트백 되는 각각의 구성의 작동상태를 표시하도록 형성될 수 있다.
한편, 사용자는 상기 입력부(400)를 통해 다공성 소재에 증착되는 원자층의 두께(즉, 코팅 두께)에 관한 정보를 입력할 수 있다. 제어부(C)는 입력된 정보에 기초하여 다공성 소재의 왕복이동 횟수를 결정하고, 상기 권취롤러(110, 120)가 기설정된 횟수로 반복적으로 정회전 및 역회전하도록 제어할 수 있다.
예를 들어, 도시되지 않은 서버(또는 메모리)에는 코팅 두께에 대응하는 다공성 소재의 왕복이동 횟수가 저장되어 있을 수 있으며, 제어부(C)는 상기 서버(또는 메모리)에 저장된 정보를 통해 다공성 소재의 왕복이동 횟수를 결정할 수 있다.
상기 제어부(C)는 상기 다공성 소재에 대한 원자층 증착 공정 중에, 상기 권취롤러(110, 120) 사이에서 상기 다공성 소재가 길이방향의 기설정된 거리로 왕복이동하도록 상기 권취롤러(110, 120)를 제어할 수 있다.
구체적으로, 입력부(400)를 통해 제어명령(예를 들어, 코팅 두께)이 입력되면, 권취롤러(110, 120)의 구동에 의해 다공성 소재(10)의 왕복이동 개시되고, 소스물질 공급부(210, 220)를 통해 소스물질이 연속적으로(계속적으로) 공급될 수 있다.
이때, 제어부(C)는 다공성 소재(10)의 왕복이동 횟수의 기산 시점을 소스물질 공급부(210, 220)를 통해 소스물질의 공급이 개시되는 시점으로 할 수 있다.
상기 제어부(C)는 상기 다공성 소재(10)의 왕복이동 횟수만큼의 왕복이동이 완료되면, 상기 권취롤러(110, 120)를 제어하여, 다공성 소재(10)의 현재의 가공 대상 부분만큼 진행방향(즉, 도 1에서 우측방향)으로 진행시키고, 다공성 소재(10)의 다음의 가공 대상 부분에 대한 코팅이 진행되도록 할 수 있다.
상기 제어부(C)는 다공성 소재(10)의 현재의 가공 대상 부분이 진행방향(즉, 도 1에서 우측방향)으로 진행될 때, 상기 소스물질 공급부(210, 220)의 작동을 정지시킬 수 있으며, 펌프(310, 320)의 작동은 계속시킬 수 있다.
여기서, 다공성 소재(10)의 현재의 가공 대상 부분은 전술한 바와 같이 소스물질 공급부(210, 220)의 하측에서 왕복이동되는 다공성 소재(10)의 길이 "L"만큼의 부분이 될 수 있다. 또한, 다공성 소재(10)의 다음의 가공 대상 부분의 길이도 "L"과 동일할 수 있다.
이와 같이, 다공성 소재(10)의 길이 "L"만큼의 왕복이동과 동시에 수행되는 코팅과, 다공성 소재(10)의 길이 "L"만큼의 진행방향에 따른 이동을 반복하면서, 다공성 소재(10)의 전체 길이에 걸쳐서 코팅 공정이 수행될 수 있다.
또한, 상기 제어부(C)는 상기 펌프(310, 320)를 연속적으로(계속적으로) 작동하도록 제어할 수 있으며, 상기 펌프(310, 320)의 작동은 상기 소스물질 공급부(210, 220)의 작동과 동시에 또는 상기 소스물질 공급부(210, 220)의 작동 전에 개시될 수 있다.
다만, 상압 환경 하에서, 다공성 소재(10)에 대한 원활한 코팅 공정이 수행되도록 하기 위하여, 상기 펌프(310, 320)의 작동은 상기 소스물질 공급부(210, 220)의 작동 전에 개시되는 것이 바람직하다.
한편, 공간에 여유가 있는 경우, 모듈 형태의 복수개의 소스물질 공급부가 나란히 배치될 수 있다. 이 경우, 다공성 소재(10)의 보다 긴 길이를 한번에 코팅하는 것이 가능하다.
이하, 다른 도면을 참조하여, 모듈 형태의 복수개의 소스물질 공급부가 나란히 배치되는 본 발명의 다른 실시예에 대하여 설명한다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치를 나타내는 개념도이다. 이하, 편의를 위하여, 도 1 및 2에서 설명한 내용과 중복되는 부분에 대한 설명은 생략하거나 최소화하고, 도 1의 실시예와 다른 부분에 대하여 중점적으로 설명한다.
본 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치는 모듈 형태의 소스물질 공급부가 복수개 마련되며, 다공성 소재의 길이방향(연장방향)을 따라 나란히 배치되어 있다는 점에서 도 1에 도시된 실시예와 상이하다. 그 외에, 권취롤러의 구동에 의한 다공성 소재의 반복이동, 그리고 소스물질 공급부와 펌프의 일대일 대응 배치에 대한 구성은 도 1의 실시예와 동일하다.
또한, 도 3에는 소스물질 공급부의 2개의 모듈(즉, 2개의 세트)이 도시되어 있으나, 3개 이상이 나란히 마련되는 것도 가능하다.
도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착 장치는 전술한 소스물질 공급부(210, 220)와 펌프(310, 320)가 제1 증착모듈로 마련되고, 상기 제1 증착모듈과 나란하게, 다른 소스물질 공급부(230, 240)와 다른 펌프(330, 340)가 제2 증착모듈로 마련될 수 있다.
즉, 상기 제1 증착모듈과 상기 제2 증착모듈은 다공성 소재(10)의 연장방향을 따라서 나란히 배치될 수 있다.
상기 제1 증착모듈은 제1소스물질 공급부(210), 제2소스물질 공급부(220), 제1펌프(310) 및 제2펌프(320)를 포함할 수 있고, 상기 제2 증착모듈은 제3소스물질 공급부(230), 제4소스물질 공급부(240), 제3펌프(330) 및 제4펌프(340)를 포함할 수 있다.
상기 제1 증착모듈과 상기 제2 증착모듈은 동일한 구성으로 형성될 수 있으며, 동일한 소스물질을 공급하도록 형성될 수 있다.
구체적으로, 상기 제1소스물질 공급부(210) 및 상기 제3소스물질 공급부(230)에서는 서로 동일한 소스물질1이 공급될 수 있다. 또한, 상기 제2소스물질 공급부(220) 및 상기 제4소스물질 공급부(240)에서는 서로 동일한 소스물질2가 공급될 수 있다.
또한, 상기 제1펌프(310)는 상기 제1소스물질 공급부(210)에 대응하도록 배치도고, 상기 제2펌프(320)는 상기 제2소스물질 공급부(220)에 대응하도록 배치되며, 상기 제3펌프(330)는 상기 제3소스물질 공급부(230)에 대응하도록 배치되고, 상기 제4펌프(340)는 상기 제4소스물질 공급부(240)에 대응하도록 배치될 수 있다.
한편, 한 쌍의 권취롤러(110, 120) 사이에서 뻗어 있는 다공성 소재(10)에 있어서, 제1길이 "L1"에 해당하는 부분은 상기 제1 증착모듈에 의해 코팅되고, 상기 제1길이에 이웃하는 제2길이 "L2"에 해당하는 부분은 상기 제2 증착모듈에 의해 코팅될 수 있다.
즉, 본 실시예에 따르면, 다공성 소재(10)의 한 쌍의 권취롤러(110, 120) 사이의 전체길이 "L3(=L1+L2)"에 해당하는 부분이 한번에 코팅될 수 있다. 이때, L1과 L2는 동일할 수 있다. 이는, 다공성 소재(10)의 왕복이동 거리가 일정한 상태에서 다공성 소재(10)의 제1길이에 해당하는 L1 부분과 제2길이에 해당하는 L2 부분의 코팅이 동시에 달성되도록 하기 위함이다.
구체적으로, 다공성 소재(10)의 제1길이에 해당하는 L1 부분의 우단은 제2길이에 해당하는 L2 부분의 좌단에 접하고 있다.
L1 부분의 좌단이 제1 증착모듈의 좌단(즉, 제1소스물질 공급부(210)의 좌단)에 대응하는 위치를 제1위치라고 하고, L1 부분의 우단이 제1 증착모듈의 우단(즉, 제2소스물질 공급부(220)의 우단)에 대응하는 위치를 제2위치라고 할 때, L1 부분은 제1위치와 제2위치 사이에서 왕복이동할 수 있다.
마찬가지로, L2 부분 역시, L2 부분의 좌단이 제2 증착모듈의 좌단(즉, 제3소스물질 공급부(230)의 좌단)에 대응하는 제1위치 및 L2 부분의 우단이 제2 증착모듈의 우단(즉, 제4소스물질 공급부(240)의 우단)에 대응하는 제2위치 사이에서 왕복운동할 수 있다.
즉, 다공성 소재(10)가 왕복이동하는 경우, L1 부분의 좌단이 제1 증착모듈의 좌단에 대응하도록 위치될 때, L2 부분의 좌단은 제2 증착모듈의 좌단에 대응하도록 위치될 수 있다. 또한, L1 부분의 우단이 제1 증착모듈의 우단에 대응하도록 위치될 때, L2 부분의 우단은 제2 증착모듈의 우단에 대응하도록 위치될 수 있다.
따라서, 제1 내지 제4 소스물질 공급부(210, 220, 230, 240)부로부터 소스물질이 공급되고 있는 상태에서, 다공성 소재(10)가 왕복이동됨에 따라서, 다공성 소재(10)의 가공 대상이 되는 길이인 L3 부분 전체가 코팅될 수 있다.
이 경우에도, 전술한 바와 같이, 제1 내지 제4 소스물질 공급부(210, 220, 230, 240)로부터 소스물질이 공급됨과 동시에(바람직하게는 소스물질 공급되기 전에), 제1 내지 제4 펌프(310, 320, 330, 340)는 계속적으로 작동될 수 있다.
또한, 코팅 두께에 기초하여 결정되는 기설정된 왕복횟수만큼 다공성 소재(10)가 왕복이동한 후, 소스물질의 공급은 정지되고, 다공성 소재(10)는 가공대상이 된 전체 길이에 해당하는 L3만큼 진행방향(도면에서 우측)으로 진행되어 제2 권취롤러(120)에 권취될 수 있다. 그리고, 제1 권취롤러(110)로부터 풀려서 공급된 다공성 소재(10)의 다음의 가공 대상 부분에 대한 코팅이 전술한 것과 동일한 방식으로 수행될 수 있다.
따라서, 진공챔버와 같은 구성이 없더라도, 다공성 소재(10)에 대한 코팅이 원활하고 균일하게 수행될 수 있으며, 퍼지와 같은 과정(공정)이 별도로 필요하지 않기 때문에 다공성 소재(10)에 대한 코팅이 상대적으로 단시간 내에 완료될 수 있다.
이하, 다른 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 제어방법에 대하여 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 제어방법을 나타내는 도면이다. 본 제어방법에 있어서, 도 2를 참조하여 설명한 제어 구성이 본 제어방법에도 동일하게 적용될 수 있으며, 반대로 본 제어방법의 특징이 전술한 롤투롤 원자층 증착장치의 제어에 적용될 수 있음은 자명하다.
도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 제어방법은 제어명령 입력단계(S10), 왕복이동단계(S20), 소스물질 공급단계(S30), 왕복횟수 판단단계(S40) 및 소재 이동단계(S50)를 포함할 수 있다.
제어명령 입력단계(S10)에서는 전술한 입력부(400)를 통해 사용자의 제어명령이 입력될 수 있다. 여기서, 제어명령은 소스물질의 종류, 다공성 소재에 증착되는 코팅의 두께, 다공성 소재의 왕복이동 횟수 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 왕복이동단계(S20)에서는, 제어명령 입력단계(S10)에서 입력된 제어명령에 기초하여, 다공성 소재가 기설정된 왕복이동 거리만큼 길이방향(수평방향)으로 왕복이동될 수 있다.
상기 소스물질 공급단계(S30)에서는, 다공성 소재의 왕복이동이 계속되고 있는 상태에서, 전술한 제1 내지 제4 소스물질 공급부 중 적어도 하나로부터 다공성 소재를 향해 소스물질이 공급될 수 있다.
왕복횟수 판단단계(S40)에서는, 다공성 소재의 길이방향 왕복이동 횟수가 판단될 수 있다. 구체적으로, 상기 제어명령 입력단계(S10)에서 입력된 제어명령에 기초하여(즉, 코팅 두께에 기초하여) 다공성 소재의 왕복이동 횟수가 결정된다. 그리고, 상기 왕복횟수 판단단계(S40)에서는 다공성 소재의 길이방향 왕복이동 횟수가 기결정된 왕복이동 횟수에 도달했는지 여부가 판단될 수 있다.
한편, 다공성 소재의 왕복이동이 개시된 후에 소스물질의 공급이 시작되기 때문에, 보다 정확한 코팅 두께를 달성하기 위해서, 황복횟수 판단단계(S40)에서의 왕복횟수 판단의 기산점은 소스물질의 공급이 시작된 시점이 될 수 있다.
왕복횟수 판단단계(S40)에서 다공성 소재의 왕복이동 횟수가 기결정된 왕복이동 횟수에 도달했다고 판단되면, 소재 이동단계(S50)로 진행된다.
상기 소재 이동단계(S50)에서는, 왕복 이동단계(S20)에서 수행되는 왕복 이동 거리만큼 다공성 소재가 진행방향으로 진행되어 일측 권취롤러에 권취될 수 있다.
그리고, 타측 권취롤러에서 공급되는 미가공 상태의 다공성 소재에 대하여 전술한 과정이 반복적으로 수행될 수 있다.
위에서 설명된 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
10 다공성 소재
110 제1권취롤러
120 제2권취롤러
210 제1소스물질 공급부
220 제2소스물질 공급부
230 제3소스물질 공급부
240 제4소스물질 공급부
310 제1펌프
320 제2펌프
330 제3펌프
340 제4펌프

Claims (5)

  1. 진공챔버 없이 상압 환경 하에서, 다공성 소재에 원자층을 증착시키기 위한 롤투롤 원자층 증착장치에 있어서,
    서로 이격되어 배치되고, 상기 다공성 소재의 길이방향 양 측부가 권취되며, 상기 다공성 소재를 길이방향으로 왕복이동 시킬 수 있는 한 쌍의 권취롤러;
    상기 한 쌍의 권취롤러 사이에 배치되고, 상기 다공성 소재를 향해 소스물질을 공급하는 복수개의 소스물질 공급부; 및
    상기 복수개의 소스물질 공급부로부터 공급된 소스물질을 흡입하도록 형성된 복수개의 펌프를 포함하고,
    상기 복수개의 펌프는 상기 복수개의 소스물질 공급부에 대응하도록 배치되며,
    복수개의 소스물질 공급부의 공급구와 복수개의 펌프의 흡입구는 일대일로 대응되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수개의 소스물질 공급부와 상기 복수개의 펌프는 상기 다공성 소재를 사이에 두고 서로 마주하도록 배치된 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 복수개의 펌프의 흡입구는 상기 복수개의 소스물질 공급부의 단부에 구비되는 공급구와 마주하도록 배치되며,
    상기 흡입구의 직경은 상기 공급구의 직경보다 큰 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 한 쌍의 권취롤러, 상기 복수개의 소스물질 공급부 및 상기 복수개의 펌프를 제어하는 제어부를 더 포함하고,
    상기 제어부는, 다공성 소재에 대한 원자층 증착 공정 중에,
    상기 한 쌍의 권취롤러 사이에서 상기 다공성 소재가 길이방향의 기설정된 거리로 왕복이동하도록 상기 한 쌍의 권취롤러를 제어하고,
    상기 복수개의 소스물질 공급부 및 상기 복수개의 펌프를 연속적으로 작동하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치.
KR1020200141699A 2020-10-29 2020-10-29 롤투롤 원자층 증착장치 KR102461975B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200141699A KR102461975B1 (ko) 2020-10-29 2020-10-29 롤투롤 원자층 증착장치
US17/507,383 US20220136105A1 (en) 2020-10-29 2021-10-21 Roll to roll atomic layer deposition apparatus
US18/328,843 US20230304153A1 (en) 2020-10-29 2023-06-05 Roll to roll atomic layer deposition apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200141699A KR102461975B1 (ko) 2020-10-29 2020-10-29 롤투롤 원자층 증착장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220056980A KR20220056980A (ko) 2022-05-09
KR102461975B1 true KR102461975B1 (ko) 2022-11-02

Family

ID=81378877

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200141699A KR102461975B1 (ko) 2020-10-29 2020-10-29 롤투롤 원자층 증착장치

Country Status (2)

Country Link
US (2) US20220136105A1 (ko)
KR (1) KR102461975B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015525302A (ja) * 2012-06-20 2015-09-03 エムティーエスナノテック株式会社Ｍｔｓ Ｎａｎｏｔｅｃｈ Ｉｎｃ． 原子層蒸着装置及びその方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4466258A (en) * 1982-01-06 1984-08-21 Sando Iron Works Co., Ltd. Apparatus for low-temperature plasma treatment of a textile product
ATE507320T1 (de) * 2006-03-26 2011-05-15 Lotus Applied Technology Llc Atomlagenabscheidungssystem und verfahren zur beschichtung von flexiblen substraten
US8993063B2 (en) * 2010-06-08 2015-03-31 President And Fellows Of Harvard College Low-temperature synthesis of silica
GB201320521D0 (en) * 2013-11-20 2014-01-01 Pilkington Group Ltd Coating apparatus
JP6697706B2 (ja) * 2015-12-07 2020-05-27 凸版印刷株式会社 原子層堆積装置
US20220131125A1 (en) * 2020-10-22 2022-04-28 Sila Nanotechnologies Inc. Surface coated porous substrates and particles and systems and methods thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015525302A (ja) * 2012-06-20 2015-09-03 エムティーエスナノテック株式会社Ｍｔｓ Ｎａｎｏｔｅｃｈ Ｉｎｃ． 原子層蒸着装置及びその方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20220136105A1 (en) 2022-05-05
US20230304153A1 (en) 2023-09-28
KR20220056980A (ko) 2022-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8974858B2 (en) Method of depositing organic material
TWI452166B (zh) 用於沉積有機材料之設備和其沉積方法
KR101293024B1 (ko) 평판패널 제조장치
KR102461975B1 (ko) 롤투롤 원자층 증착장치
CN110418691B (zh) 激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法
CN101994102A (zh) 膜沉积装置
JP2011068980A (ja) 有機物蒸着装置及び蒸着方法
JP4364690B2 (ja) 接着剤塗布方法
KR20090108497A (ko) 증착 장치
KR102185873B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체
JP2019119029A (ja) 基板処理装置及び制御方法
KR101239906B1 (ko) 유기물 증착 장치 및 이를 이용한 유기물 증착 방법
US10246776B2 (en) Layer-forming device and layer-forming method
CN211284519U (zh) 蒸镀系统和蒸镀产线
TWI548770B (zh) 形成膜層之裝置
WO2019244786A1 (ja) スパッタリング方法、スパッタリング装置
KR100920901B1 (ko) 다층박막 제조장치 및 이를 이용한 다층박막 제조방법
WO2019034255A1 (en) METHOD OF MANIPULATING MULTIPLE MASKS, PROCESS FOR TREATING SUBSTRATES, AND APPARATUS FOR COATING SUBSTRATES
CN215997684U (zh) 一种阳极层离子源工况下的线材处理装置
US9650710B2 (en) Sputtering device and sputtering method
JP7126054B2 (ja) 部品搭載方法
JP2013066868A (ja) 塗布装置
JP2012004606A (ja) 部品実装方法
JP7126052B2 (ja) 部品吸着方法
JP2021122788A (ja) 塗布装置及び塗布方法

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right