KR102459724B1 - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 수평방향 및 수직방향으로 화소가 배열된 다수의 분할영역을 포함하는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역이 정의된 기판과; 상기 기판 상의 표시영역에, 상기 수평방향을 따라 연장되어 게이트전압을 해당 화소에 전달하는 다수의 게이트배선과; 상기 기판 상의 표시영역에 형성된 공통전극과; 상기 화소 내에, 상기 공통전극과 절연막을 사이에 두고 대향하며 다수의 전극패턴을 포함하는 화소전극을 포함하고, 상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 면적이 서로 상이한 액정표시장치를 제공한다.The present invention provides a display device comprising: a substrate in which a display area including a plurality of divided areas in which pixels are arranged in horizontal and vertical directions and a non-display area around the display area are defined; a plurality of gate wirings extending in the horizontal direction to transmit a gate voltage to a corresponding pixel in the display area on the substrate; a common electrode formed in the display area on the substrate; a pixel electrode having a plurality of electrode patterns facing each other with the common electrode and an insulating layer interposed therebetween; display is provided.

Description

액정표시장치{Liquid crystal display device}Liquid crystal display device

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 액정패널의 표시영역 내의 영역별 화소전압 변동량 편차를 완화하여 공통전압의 균일도를 향상시킬 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device capable of improving the uniformity of a common voltage by alleviating a variation in pixel voltage variation for each region within a display area of a liquid crystal panel.

정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD : liquid crystal display device), 플라즈마표시장치(PDP : plasma display panel), 유기발광소자(OLED : organic light emitting diode)표시장치와 같은 여러가지 평판표시장치(flat display device)가 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for a display device for displaying an image is increasing in various forms, and in recent years, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic Various flat display devices such as organic light emitting diode (OLED) display devices are being used.

이들 평판표시장치 중에서, 액정표시장치는 소형화, 경량화, 박형화, 저전력 구동의 장점을 가지고 있어 널리 사용되고 있다.Among these flat panel display devices, the liquid crystal display device is widely used because it has the advantages of miniaturization, weight reduction, thinness, and low power driving.

최근들어, 게이트구동회로를 액정패널의 어레이기판에 직접 형성한 GIP(gate-in panel) 방식 게이트구동회로가 사용되고 있다.Recently, a GIP (gate-in panel) type gate driving circuit in which a gate driving circuit is directly formed on an array substrate of a liquid crystal panel has been used.

이와 같은 GIP 게이트구동회로는 표시영역의 수평방향 외측의 비표시영역에 배치되고, 게이트전압을 게이트배선에 순차적으로 출력하게 된다. 이와 같은 게이트전압을 발생시키기 위한 게이트클럭은 비표시영역의 수직방향을 따라 전달되어 게이트구동회로에 입력된다.Such a GIP gate driving circuit is disposed in the non-display area outside the display area in the horizontal direction, and sequentially outputs the gate voltage to the gate wiring. The gate clock for generating such a gate voltage is transmitted along the vertical direction of the non-display area and is input to the gate driving circuit.

게이트구동회로가 형성된 액정패널은 크기가 대형화되고 베젤(bezel)이 내로우(narrow)됨에 따라, 표시영역 내에서 영역별 부하 편차가 발생하게 되며, 이로 인해 게이트클럭 및 게이트전압과 같은 게이트신호가 지연되어 영역별 감쇄량에 편차가 발생하게 된다.As the size of the liquid crystal panel on which the gate driving circuit is formed increases and the bezel becomes narrower, a load deviation occurs for each area within the display area, and as a result, gate signals such as gate clock and gate voltage The delay causes a deviation in the amount of attenuation for each area.

이에 따라, 표시영역 내에서 영역별 화소전압 변동량(ΔVp)의 편차가 발생되므로, 최적 공통전압값은 영역별로 다르게 되어 표시영역 내의 공통전압 균일도가 저하된다.Accordingly, the variation of the pixel voltage variation ΔVp for each region is generated within the display region, and thus the optimal common voltage value is different for each region, thereby lowering the uniformity of the common voltage in the display region.

이와 같은 공통전압 균일도 저하는 결과적으로 플리커 등을 유발하여 화질이 저하된다.As a result, such a reduction in the uniformity of the common voltage causes flicker and the like, and thus the image quality is deteriorated.

본 발명은, 액정패널의 표시영역 내의 영역별 화소전압 변동량 편차를 완화하여 공통전압의 균일도를 향상시키는 방안을 제공하는 것에 과제가 있다.An object of the present invention is to provide a method for improving the uniformity of the common voltage by alleviating the variation in the pixel voltage variation for each area within the display area of a liquid crystal panel.

전술한 바와 같은 과제를 달성하기 위해, 본 발명은 수평방향 및 수직방향으로 화소가 배열된 다수의 분할영역을 포함하는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역이 정의된 기판과; 상기 기판 상의 표시영역에, 상기 수평방향을 따라 연장되어 게이트전압을 해당 화소에 전달하는 다수의 게이트배선과; 상기 기판 상의 표시영역에 형성된 공통전극과; 상기 화소 내에, 상기 공통전극과 절연막을 사이에 두고 대향하며 다수의 전극패턴을 포함하는 화소전극을 포함하고, 상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 면적이 서로 상이한 액정표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate including a display area including a plurality of divided areas in which pixels are arranged in horizontal and vertical directions and a non-display area around the display area are defined; a plurality of gate wirings extending in the horizontal direction to transmit a gate voltage to a corresponding pixel in the display area on the substrate; a common electrode formed in the display area on the substrate; a pixel electrode having a plurality of electrode patterns facing each other with the common electrode and an insulating layer interposed therebetween; display is provided.

여기서, 상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 전극패턴의 폭이 서로 상이할 수 있다.Here, the width of the electrode pattern of the pixel electrode may be different between the divided regions adjacent in the horizontal direction or the vertical direction.

상기 화소전극은, 상기 다수의 전극패턴의 일단을 연결하는 연결부와, 상기 연결부의 외측으로 연장된 외연부를 포함하고, 상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 외연부의 면적이 서로 상이할 수 있다.The pixel electrode may include a connecting portion connecting one end of the plurality of electrode patterns, and an outer edge extending outward of the connecting portion, and an area of the outer edge of the pixel electrode between the divided regions adjacent to each other in a horizontal or vertical direction. These may be different from each other.

상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 외연부의 폭이 서로 상이할 수 있다.A width of an outer edge of the pixel electrode may be different between the divided regions adjacent in the horizontal direction or the vertical direction.

상기 비표시영역의 기판 상에, 상기 다수의 게이트배선에 연결된 게이트구동회로와; 상기 비표시영역의 기판 상에, 상기 수직방향을 따라 연장되어 상기 게이트구동회로에 게이트클럭을 전달하는 전달배선을 더 포함할 수 있다.a gate driving circuit connected to the plurality of gate lines on the substrate in the non-display area; A transfer line extending in the vertical direction to transmit the gate clock to the gate driving circuit may be further included on the substrate of the non-display area.

상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간의 화소전극의 면적은, 이 분할영역 간의 상기 게이트전압에 대한 부하 크기에 반비례할 수 있다.An area of the pixel electrode between the divided regions adjacent in the horizontal or vertical direction may be inversely proportional to the magnitude of a load for the gate voltage between the divided regions.

상기 다수의 분할영역 간의 공통전압 최대 편차는 10mV 미만일 수 있다.The maximum deviation of the common voltage between the plurality of division regions may be less than 10 mV.

상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 면적이 서로 동일한 경우에 공통전압 편차가 10mV 이상일 수 있다.A common voltage deviation between the divided regions adjacent in the horizontal or vertical direction may be 10 mV or more when the areas of the pixel electrodes are the same.

본 발명에서는, 게이트신호에 대한 부하 편차에 따라 표시영역을 다수의 분할영역으로 구분하고, 분할영역 별로 화소전극 면적을 차등화하여 스토리지커패시터 용량을 차등화하게 된다.In the present invention, the display area is divided into a plurality of divided areas according to the load deviation for the gate signal, and the area of the pixel electrode is differentiated for each divided area to differentiate the storage capacitor capacity.

이에 따라, 분할영역들 간 화소전압 변동량 편차가 완화됨으로써, 최적 공통전압 편차가 개선되고 공통전압 균일도가 확보되어, 플리커 등의 화질 불량을 개선할 수 있게 된다.Accordingly, as the variation in the pixel voltage variation between the divided regions is alleviated, the optimum common voltage variation is improved and common voltage uniformity is secured, thereby improving image quality such as flicker.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 블럭도.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 화소의 구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 화소를 도시한 평면도.
도 4는 도 3의 절단선 IV-IV를 따라 도시한 단면도.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수평방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수직방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 블럭도.
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수평방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도 9는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수직방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도 10은 본 발명의 실시예들에 따른 영역별 스토리지커패시터 차등화 구조에서의 영역별 최적 공통전압에 대한 실험 결과를 도시한 도면.
1 is a block diagram schematically showing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
2 is a circuit diagram schematically showing the structure of a pixel according to a first embodiment of the present invention;
3 is a plan view illustrating a pixel according to an embodiment of the present invention;
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 3 ;
5 is a diagram schematically illustrating a pixel structure in divided regions arranged in a horizontal direction in a display region of a liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention;
6 is a diagram schematically illustrating a pixel structure in divided regions arranged in a vertical direction in a display region of a liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention;
7 is a block diagram schematically showing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
8 is a diagram schematically illustrating a pixel structure in divided regions arranged in a horizontal direction in a display region of a liquid crystal panel according to a second embodiment of the present invention;
9 is a diagram schematically illustrating a pixel structure in divided regions arranged in a vertical direction in a display region of a liquid crystal panel according to a second embodiment of the present invention;
10 is a diagram illustrating experimental results for an optimal common voltage for each region in a storage capacitor differential structure for each region according to embodiments of the present invention;

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. 한편, 아래 실시예에서는 동일 유사한 구성에 대해서는 동일 유사한 도면부호를 부여하며 중복된 설명을 생략할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. On the other hand, in the following embodiment, the same and similar reference numerals are given to the same and similar components, and duplicate descriptions may be omitted.

<제1실시예><First embodiment>

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 블럭도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 화소의 구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.1 is a block diagram schematically showing a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram schematically showing a structure of a pixel according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(10)는 액정패널(100)과, 데이터구동회로(310)와, 게이트구동회로(320)와, 타이밍제어회로(330)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , a liquid crystal display 10 according to an embodiment of the present invention includes a liquid crystal panel 100 , a data driving circuit 310 , a gate driving circuit 320 , and a timing control circuit 330 . may include

액정패널(100)은 영상을 표시하는 표시패널로서, 이는 영상을 표시하는 영역인 표시영역(AA)과 표시영역(AA) 주변에 위치하여 이를 둘러싸는 비표시영역(NA)을 포함할 수 있다.The liquid crystal panel 100 is a display panel that displays an image, and may include a display area AA, which is an area for displaying an image, and a non-display area NA, which is located around and surrounds the display area AA. .

액정패널(100)의 표시영역(AA)에는 다수의 행라인과 열라인을 따라 매트릭스 형태로 화소(P)가 배치된다.In the display area AA of the liquid crystal panel 100 , pixels P are arranged in a matrix form along a plurality of row lines and column lines.

이와 같은 액정패널(100)은 액정층과 이를 사이에 두고 서로 대면 합착된 2개의 기판인 제1기판(101) 및 제2기판을 포함하여 구성될 수 있다.Such a liquid crystal panel 100 may include a liquid crystal layer and a first substrate 101 and a second substrate, which are two substrates face to face bonded to each other with the liquid crystal layer therebetween.

제1기판(101)은 예를 들면 하부기판 또는 어레이기판에 해당되며, 이 제1기판에는 화소(P)를 구동하는 어레이소자가 형성될 수 있다.The first substrate 101 corresponds to, for example, a lower substrate or an array substrate, and an array element for driving the pixels P may be formed on the first substrate.

제1기판(101)에 대향하는 대향기판인 제2기판은 예를 들면 상부기판 또는 컬러필터기판에 해당되며, 각 화소(P)에 대응되는 컬러필터패턴과, 컬러필터패턴을 두르며 어레이소자를 가리는 블랙매트릭스가 형성될 수 있다.The second substrate, which is a substrate opposite to the first substrate 101, corresponds to, for example, an upper substrate or a color filter substrate, and includes a color filter pattern corresponding to each pixel P, and an array element surrounding the color filter pattern. A black matrix may be formed to cover the

한편, 본 실시예의 액정패널(100)은 액정을 구동하는 화소전극 및 공통전극이 어레이기판인 제1기판(101)에 형성되고, 화소전극 및 공통전극 간에 발생하는 프린지필드(fringe field)에 의해 액정을 구동하는 소위 AH-IPS(advanced high performance-IPS) 방식의 액정패널이 사용될 수 있다. On the other hand, in the liquid crystal panel 100 of this embodiment, the pixel electrode and the common electrode for driving the liquid crystal are formed on the first substrate 101 which is an array substrate, and is formed by a fringe field generated between the pixel electrode and the common electrode. A so-called AH-IPS (advanced high performance-IPS) type liquid crystal panel that drives the liquid crystal may be used.

이때, 각 화소(P)를 기준으로 공통전극은 해당 화소(P)의 전면에 실질적으로 플레이트 형상으로 형성되고, 화소전극은 핑거형상(또는 바 형상)의 다수의 전극패턴으로 형성되어 프린지필드를 형성하도록 구성될 수 있다.At this time, based on each pixel (P), the common electrode is substantially formed in a plate shape on the entire surface of the corresponding pixel (P), and the pixel electrode is formed in a plurality of finger-shaped (or bar-shaped) electrode patterns to form a fringe field. can be configured to form.

이와 같은 액정패널(100)(또는 제1기판(101))은 이의 형상을 정의하는 4개의 외변들인 제1 내지 4외변들(L1 내지 L4)을 갖게 된다. The liquid crystal panel 100 (or the first substrate 101 ) has first to fourth outer sides L1 to L4 that are four outer sides defining its shape.

여기서, 설명의 편의를 위해, 도면상 좌단,우단,하단,상단(또는 좌측,우측,하측,상측) 각각에 위치하는 외변들을 각각 제1,2,3,4외변들(L1 내지 L4)이라고 한다.Here, for convenience of explanation, the outer edges located at the left end, the right end, the lower end, and the upper end (or the left, right, lower, upper side) in the drawing are referred to as first, second, third, and fourth outer sides (L1 to L4), respectively. do.

한편, 표시영역(AA)은 다수의 분할영역(또는 부분영역)으로 분할(또는 구분)될 수 있다. Meanwhile, the display area AA may be divided (or divided) into a plurality of divided areas (or partial areas).

이와 관련하여 예를 들면, 표시영역(AA)의 중앙에는 중앙영역(Am)이 위치할 수 있다. In this regard, for example, the central area Am may be positioned in the center of the display area AA.

그리고, 중앙영역(Am)의 수평방향의 양측인 좌측 및 우측과 수직방향의 양측인 하측 및 상측에는 제1 내지 4측방영역들(As1 내지 As4)이 위치할 수 있다. 이에 대해 예를 들면, 중앙영역(Am)의 좌측에는 이의 좌측변에 접하는 제1측방영역(As1)이 위치하고, 중앙영역(Am)의 우측에는 이의 우측변에 접하는 제2측방영역(As2)이 위치하고, 중앙영역(Am)의 하측에는 이의 하측변에 접하는 제3측방영역(As3)이 위치하고, 중앙영역(Am)의 상측에는 이의 상측변에 접하는 제4측방영역(As4)이 위치할 수 있다.In addition, the first to fourth lateral regions As1 to As4 may be positioned on the left and right sides of the central region Am in the horizontal direction, and on the lower and upper sides of the central region Am, which are both sides in the vertical direction. On the other hand, for example, the first lateral region As1 contacting the left side thereof is located on the left side of the central region Am, and the second lateral region As2 contacting the right side thereof is located on the right side of the central region Am. The third lateral region As3 in contact with the lower side thereof may be located below the central region Am, and the fourth lateral region As4 in contact with the upper side thereof may be located above the central region Am. .

또한, 중앙영역(Am)의 4개의 대각방향 각각에는 제1 내지 4코너영역(또는 제1 내지 4대각영역)(Ac1 내지 Ac4)이 위치할 수 있다. 이에 대해 예를 들면, 중앙영역(Am)의 하좌 대각방향(또는 제1대각방향)에는 표시영역(AA)의 해당 제1코너를 포함한 제1코너영역(Ac1)이 위치하고, 중앙영역(Am)의 하우 대각방향(또는 제2대각방향)에는 표시영역(AA)의 해당 제2코너를 포함한 제2코너영역(Ac2)이 위치하고, 중앙영역(Am)의 상좌 대각방향(또는 제3대각방향)에는 표시영역(AA)의 해당 제3코너를 포함한 제3코너영역(Ac3)이 위치하고, 중앙영역(Am)의 상우 대각방향(또는 제4대각방향)에는 표시영역(AA)의 해당 제4코너를 포함한 제4코너영역(Ac4)이 위치할 수 있다.Also, first to fourth corner regions (or first to fourth diagonal regions) Ac1 to Ac4 may be positioned in each of the four diagonal directions of the central region Am. In contrast to this, for example, in the lower left diagonal direction (or in the first diagonal direction) of the central area Am, the first corner area Ac1 including the first corner of the display area AA is located, and the center area Am The second corner area Ac2 including the corresponding second corner of the display area AA is positioned in the lower diagonal direction (or the second diagonal direction) of the display area AA, and the upper left diagonal direction (or the third diagonal direction) of the central area Am. A third corner area Ac3 including a corresponding third corner of the display area AA is located in the upper and right diagonal directions (or a fourth diagonal direction) of the central area Am, and a corresponding fourth corner of the display area AA is located at A fourth corner area Ac4 including

위와 같이, 표시영역(AA)은 다수의 분할영역들로서 내부 중앙 부분에 위치하는 중앙영역(Am)과 이를 둘러싸는 측방영역들(As1~As4) 및 코너영역들(Ac1~Ac4)로 구분될 수 있다.As described above, the display area AA is a plurality of divided areas, and may be divided into a central area Am positioned at an inner central portion, lateral areas As1 to As4 and corner areas Ac1 to Ac4 surrounding the display area AA. have.

이때, 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4) 각각에는, 해당 다수의 행라인 및 다수의 열라인을 따라 다수의 화소(P)가 매트릭스 형태로 배치될 수 있다.In this case, in each of the divided regions Am, As1 to As4, and Ac1 to Ac4, a plurality of pixels P may be arranged in a matrix form along a plurality of row lines and a plurality of column lines.

이와 같은 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4)의 배치 형태를 행방향인 수평방향을 기준으로 나누어 보면, 수평방향의 가운데 부분에는 중앙영역(Am) 및 이의 하측 및 상측의 제3,4측방영역(As3,As4)이 배치되고, 수평방향의 좌측 부분에는 제1측방영역(As1) 및 이의 하측 및 상측의 제1,3코너영역(Ac1,Ac3)이 배치되며, 수평방향의 우측 부분에는 제2측방영역(As2) 및 이의 하측 및 상측의 제2,4코너영역(Ac2,Ac4)이 배치된다.When the arrangement of the divided regions Am, As1 to As4, and Ac1 to Ac4 is divided based on the horizontal direction, which is the row direction, the central region Am and the third lower and upper portions of the central region Am in the horizontal direction are shown. , the four lateral regions As3 and As4 are arranged, and the first lateral region As1 and the lower and upper first and third corner regions Ac1 and Ac3 are arranged on the left side in the horizontal direction. On the right side, the second lateral region As2 and the second and fourth corner regions Ac2 and Ac4 below and above the second side region As2 are disposed.

그리고, 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4)의 배치 형태를 열방향인 수직방향을 기준으로 나누어 보면, 수직방향의 가운데 부분에는 중앙영역(Am) 및 이의 좌측 및 우측의 제1,2측방영역(As1,As2)이 배치되고, 수직방향의 하측 부분에는 제3측방영역(As3) 및 이의 좌측 및 우측의 제1,2코너영역(Ac1,Ac2)이 배치되며, 수직방향의 상측 부분에는 제4측방영역(As4) 및 이의 좌측 및 우측의 제3,4코너영역(Ac3,Ac4)이 배치된다.In addition, when the arrangement of the divided areas Am, As1 to As4 and Ac1 to Ac4 is divided based on the vertical direction, which is the column direction, the central area Am and the first left and right sides of the central area Am in the vertical direction are shown. , 2 lateral regions As1 and As2 are disposed, and a third lateral region As3 and first and second corner regions Ac1 and Ac2 on the left and right sides thereof are disposed in the lower portion in the vertical direction, The fourth lateral region As4 and the third and fourth corner regions Ac3 and Ac4 on the left and right sides thereof are disposed on the upper portion.

이와 같이 표시영역(AA)에서 서로 다른 위치에 배치된 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4)은, 게이트전압 및 게이트클럭(CLK)과 같은 게이트신호를 기준으로 부하 크기가 서로 상이하다. 이로 인해, 게이트전압 보다 상세하게는 게이트하이전압 지연에 따른 감쇄량에 편차가 발생하게 되어, 분할영역별 즉 분할영역 간에 화소전압 변동량(ΔVp)의 편차가 발생되어 공통전압 또한 편차가 발생할 수 있다.As described above, the divided areas Am, As1 to As4, and Ac1 to Ac4 arranged at different positions in the display area AA have different load sizes based on the gate voltage and the gate signal such as the gate clock CLK. do. For this reason, more specifically, a deviation occurs in the attenuation due to the delay of the gate high voltage, and thus the variation in the pixel voltage variation ΔVp for each divided region, that is, between the divided regions, may also occur, resulting in a deviation in the common voltage.

이를 개선하기 위해, 본 실시예에서는 분할영역별로 스토리지커패시터(Cst)를 차등화하여 화소전압 변동량(ΔVp)의 편차를 완화하게 된다. 이와 같은 영역별 스토리지커패시터(Cst)의 용량 조절을 위한 구체적인 방안에 대한 상세한 설명은 후술한다.In order to improve this, in the present embodiment, the storage capacitor Cst is differentiated for each divided area to alleviate the variation in the pixel voltage variation ΔVp. A detailed description of a specific method for adjusting the capacity of the storage capacitor Cst for each area will be described later.

도 2를 함께 참조하면, 액정패널(100)의 표시영역(AA) 내에 배치된 각 화소(P)에는, 스위칭트랜지스터(Ts)와, 액정커패시터(Clc)와, 스토리지커패시터(Cst)가 구성될 수 있다.Referring to FIG. 2 together, each pixel P disposed in the display area AA of the liquid crystal panel 100 includes a switching transistor Ts, a liquid crystal capacitor Clc, and a storage capacitor Cst. can

스위칭트랜지스터(Ts)의 게이트전극은 해당 행라인의 게이트배선(GL)에 연결되고 소스전극은 해당 열라인의 데이터배선(DL)에 연결될 수 있다. The gate electrode of the switching transistor Ts may be connected to the gate line GL of the corresponding row line, and the source electrode may be connected to the data line DL of the corresponding column line.

액정커패시터(Clc)는, 각 화소(P)에 형성되며 스위칭트랜지스터(Ts)의 드레인전극과 연결되어 데이터전압 즉 화소전압을 인가받는 화소전극과, 공통전압을 인가받는 공통전극과, 화소전극 및 공통전극 사이에 위치하는 액정층으로 구성될 수 있다. The liquid crystal capacitor Clc is formed in each pixel P and is connected to the drain electrode of the switching transistor Ts to receive a data voltage, that is, a pixel voltage, a pixel electrode, a common electrode to which a common voltage is applied, a pixel electrode and It may be composed of a liquid crystal layer positioned between the common electrodes.

액정커패시터(Clc)의 액정층은, 화소전극과 공통전극 사이에 발생되는 전계에 의해 구동되어 투과도가 조절될 수 있게 된다.The liquid crystal layer of the liquid crystal capacitor Clc is driven by an electric field generated between the pixel electrode and the common electrode so that transmittance can be adjusted.

스토리지커패시터(Cst)는 액정커패시터(Clc)의 화소전극 및 스위칭트랜지스터(Ts)의 드레인전극에 연결된다. 스토리지커패시터(Cst)는, 액정커패시터(Clc)의 화소전극에 인가된 데이터전압을 다음번 프레임의 데이터전압 인가시까지 유지하는 기능을 수행하게 된다.The storage capacitor Cst is connected to the pixel electrode of the liquid crystal capacitor Clc and the drain electrode of the switching transistor Ts. The storage capacitor Cst performs a function of maintaining the data voltage applied to the pixel electrode of the liquid crystal capacitor Clc until the data voltage of the next frame is applied.

이때, 스토리지커패시터(Cst)는, 해당 화소(P) 내에서 공통전극과 화소전극 간의 중첩된 부분에 의해 형성된다.In this case, the storage capacitor Cst is formed by an overlapping portion between the common electrode and the pixel electrode in the corresponding pixel P.

데이터구동회로(310)는 타이밍제어회로(330)로부터 디지털 영상데이터와 데이터제어신호를 입력받고, 이 데이터제어신호에 응답하여 영상데이터를 아날로그 데이터전압으로 변환하여 각 데이터배선(DL)에 출력한다. The data driving circuit 310 receives digital image data and a data control signal from the timing control circuit 330, and in response to the data control signal, converts the image data into an analog data voltage and outputs it to each data line DL. .

데이터구동회로(310)는 적어도 하나의 구동IC로 구성될 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다. 그리고, 데이터구동회로(310)는 액정패널(100)의 어레이기판(101)의 일측 가장자리에 COG(chip on glass) 방식으로 실장될 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다.The data driving circuit 310 may include at least one driving IC, but is not limited thereto. Further, the data driving circuit 310 may be mounted on one edge of the array substrate 101 of the liquid crystal panel 100 in a chip on glass (COG) method, but is not limited thereto.

이와 같은 데이터구동회로(310)는, 예를 들면, 액정패널(100)의 하단측에 위치할 수 있으며, 이 경우에 데이터전압의 전달방향은 하단에서 상단을 향하는 수직방향이 된다.The data driving circuit 310 may be located, for example, at the lower end of the liquid crystal panel 100 , and in this case, the data voltage is transmitted in a vertical direction from the lower end to the upper end.

게이트구동회로(320)는 타이밍제어회로(330)로부터 게이트제어신호를 입력받아 게이트전압을 게이트배선(GL)에 순차적으로 출력하게 된다.The gate driving circuit 320 receives a gate control signal from the timing control circuit 330 and sequentially outputs a gate voltage to the gate wiring GL.

이와 관련하여 예를 들면, 데이터전압의 전달 방향인 상부 수직방향을 따라 게이트배선(GL)이 순차적으로 구동될 수 있다.In this regard, for example, the gate lines GL may be sequentially driven along an upper vertical direction that is a data voltage transmission direction.

이와 같은 게이트구동회로(320)는, 다수의 게이트배선들(GL) 각각에 연결되어 해당 게이트전압을 출력하는 다수의 스테이지를 포함할 수 있으며, 다수의 스테이지는 수직방향을 따라 배열될 수 있다.The gate driving circuit 320 may include a plurality of stages connected to each of the plurality of gate lines GL to output a corresponding gate voltage, and the plurality of stages may be arranged in a vertical direction.

게이트제어신호는 게이트전압 출력을 위해 게이트구동회로(320)에 공급되는 제어신호로서, 예를 들면, 스타트펄스, 초기화펄스, n상(n은 2 이상의 정수)의 쉬프트클럭 즉 게이트클럭(CLK) 등을 포함할 수 있다. The gate control signal is a control signal supplied to the gate driving circuit 320 for outputting the gate voltage, for example, a start pulse, an initialization pulse, an n-phase shift clock (n is an integer of 2 or more), that is, a gate clock (CLK). and the like.

이와 같은 게이트구동회로(320)는 GIP 방식으로 구성되어, 어레이기판(101)의 비표시영역(NA)에 직접 형성될 수 있다.Such a gate driving circuit 320 may be configured in a GIP method, and may be directly formed in the non-display area NA of the array substrate 101 .

이 경우에, 게이트구동회로(320)는 표시영역(AA)의 어레이소자들을 형성하는 공정과 동일한 공정으로 형성된다.In this case, the gate driving circuit 320 is formed by the same process as the process of forming the array elements of the display area AA.

이와 같은 게이트구동회로(320)는, 게이트배선(GL)의 연장방향인 수평방향 상의 적어도 일측 비표시영역(NA)에 형성될 수 있다.The gate driving circuit 320 may be formed in at least one side of the non-display area NA in the horizontal direction that is the extension direction of the gate line GL.

본 실시예에서는, 게이트구동회로(320)가 표시영역(AA)의 수평방향 양측에 각각 형성된 경우를 예로 든다. 이 경우에, 좌측 및 우측에 각각 위치하는 2개의 게이트구동회로(320)를 제1,2게이트구동회로(320a,320b)라 한다.In this embodiment, a case in which the gate driving circuits 320 are respectively formed on both sides of the display area AA in the horizontal direction is taken as an example. In this case, the two gate driving circuits 320 positioned on the left and right sides, respectively, are referred to as first and second gate driving circuits 320a and 320b.

이처럼, 표시영역(AA) 양측에 게이트구동회로(320)를 형성하게 되면, 각 게이트배선(GL)에 인가되는 게이트전압은 좌우 양측에서 표시영역(AA) 내부로 전달될 수 있게 되므로, 게이트전압의 신호 감쇄가 완화될 수 있다.As such, when the gate driving circuits 320 are formed on both sides of the display area AA, the gate voltage applied to each gate line GL can be transferred to the inside of the display area AA from both left and right sides, so that the gate voltage signal attenuation can be alleviated.

한편, 게이트구동회로(320)가 형성된 비표시영역(NA) 부분에는, 게이트클럭(CLK)을 포함한 게이트제어신호를 전달하는 전달배선(TL)이 게이트구동회로(320)의 연장방향인 수직방향을 따라 연장되어 형성될 수 있다.On the other hand, in the non-display area NA in which the gate driving circuit 320 is formed, the transfer line TL for transmitting the gate control signal including the gate clock CLK is provided in the vertical direction in which the gate driving circuit 320 extends. It may be formed to extend along the

이에 따라, 게이트클럭(CLK)은 해당 전달배선(TL)을 통해 상부 수직방향으로 전송되어 게이트구동회로(320)의 해당 스테이지에 입력될 수 있다. 스테이지는 해당 출력 타이밍에 입력된 게이트클럭(CLK)을 출력하게 되고, 이에 따라 게이트전압 즉 게이트하이전압이 해당 게이트배선(GL)에 출력될 수 있게 된다.Accordingly, the gate clock CLK may be transmitted in the upper vertical direction through the corresponding transmission line TL and input to the corresponding stage of the gate driving circuit 320 . The stage outputs the gate clock CLK input at the corresponding output timing, and accordingly, the gate voltage, that is, the gate high voltage, can be output to the corresponding gate line GL.

이와 같은 전달배선(TL)은, 제1,2게이트구동회로(320a,320b) 각각에 대응하여 연결되는 제1,2전달배선(TL1,TL2)을 포함할 수 있다.The transmission wiring TL may include first and second transmission wirings TL1 and TL2 connected to correspond to the first and second gate driving circuits 320a and 320b, respectively.

타이밍제어회로(330)는, 예를 들면, LVDS(Low Voltage Differential Signaling) 인터페이스나 TMDS(Transition Minimized Differential Signaling) 인터페이스 등의 인터페이스를 통해 외부의 호스트 시스템으로부터 타이밍신호와 디지털 영상데이터를 입력받게 된다.The timing control circuit 330 receives, for example, a timing signal and digital image data from an external host system through an interface such as a low voltage differential signaling (LVDS) interface or a transition minimized differential signaling (TMDS) interface.

이와 같이 입력된 타이밍신호를 사용하여, 타이밍제어회로(330)는 데이터제어신호와 게이트제어신호를 각각 생성하고 데이터구동회로(310)와 게이트구동회로(320)에 각각 출력하게 된다. 그리고, 타이밍제어회로(330)는 입력된 영상데이터를 처리하여 데이터구동회로(310)에 출력하게 된다.Using the input timing signal as described above, the timing control circuit 330 generates a data control signal and a gate control signal, respectively, and outputs them to the data driving circuit 310 and the gate driving circuit 320 , respectively. Then, the timing control circuit 330 processes the input image data and outputs it to the data driving circuit 310 .

이하, 도 3 및 4를 함께 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 화소의 구조를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the structure of the pixel according to the first embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 3 and 4 .

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 화소를 도시한 평면도이고, 도 4는 도 3의 절단선 IV-IV를 따라 도시한 단면도이다.3 is a plan view illustrating a pixel according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 3 .

도 1 및 2와 함께 도 3 및 4를 참조하여 살펴보면, 각 화소(P)에는 어레이기판(101)인 제1기판(101) 상에 스위칭트랜지스터(Ts)가 형성된다.Referring to FIGS. 3 and 4 together with FIGS. 1 and 2 , each pixel P has a switching transistor Ts formed on the first substrate 101 , which is the array substrate 101 .

이와 관련하여, 화소(P)에는 제1기판(101) 내면 상에 게이트전극(121)이 형성된다. 한편, 게이트전극(121) 형성시 이에 연결되는 게이트배선(GL)이 형성될 수 있다.In this regard, in the pixel P, the gate electrode 121 is formed on the inner surface of the first substrate 101 . Meanwhile, when the gate electrode 121 is formed, a gate line GL connected thereto may be formed.

게이트전극(121) 상에는 실질적으로 제1기판(101)의 전면을 따라 게이트절연막(130)이 형성된다. The gate insulating layer 130 is formed on the gate electrode 121 substantially along the entire surface of the first substrate 101 .

게이트절연막(130) 상에는 반도체층(131)이 형성된다. 이때, 반도체층(131)은, 비정질 실리콘, 다결정 실리콘, 산화물 반도체 등으로 형성될 수 있다.A semiconductor layer 131 is formed on the gate insulating layer 130 . In this case, the semiconductor layer 131 may be formed of amorphous silicon, polycrystalline silicon, an oxide semiconductor, or the like.

그리고, 반도체층(131) 상에는 서로 이격된 소스전극(133) 및 드레인전극(135)이 형성된다. 한편, 소스전극(133) 및 드레인전극(135) 형성시, 소스전극(133)에 연결되는 데이터배선(DL)이 형성될 수 있다.In addition, a source electrode 133 and a drain electrode 135 spaced apart from each other are formed on the semiconductor layer 131 . Meanwhile, when the source electrode 133 and the drain electrode 135 are formed, a data line DL connected to the source electrode 133 may be formed.

화소(P)의 스위칭트랜지스터(Ts)는 위와 같이 배치된 게이트전극(121)과 반도체층(131)과 소스전극(133) 및 드레인전극(135)으로 구성될 수 있다.The switching transistor Ts of the pixel P may include the gate electrode 121 , the semiconductor layer 131 , the source electrode 133 , and the drain electrode 135 arranged as above.

스위칭트랜지스터(Ts) 상에는, 이들을 덮는 적어도 하나의 보호막이 실질적으로 제1기판(101) 전면에 걸쳐 형성될 수 있다.At least one passivation layer covering the switching transistors Ts may be formed substantially over the entire surface of the first substrate 101 .

이와 관련하여 예를 들면, 제1보호막(141) 및 이 상부의 제2보호막(142)이 적층될 수 있다. In this regard, for example, the first passivation layer 141 and the second passivation layer 142 thereon may be stacked.

이 경우에, 제1보호막(141)은 산화실리콘(SiO2)이나 질화실리콘(SiNx)과 같은 무기절연물질로 형성될 수 있다. 그리고, 제2보호막(142)은 벤조사이클로부텐이나 포토 아크릴과 같은 유기절연물질로 형성될 수 있다.In this case, the first passivation layer 141 may be formed of an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO2) or silicon nitride (SiNx). In addition, the second passivation layer 142 may be formed of an organic insulating material such as benzocyclobutene or photoacrylic.

제2보호막(142) 상에는, 실질적으로 표시영역(AA)에 배치된 화소들(P) 전체에 대응하여 공통전극(150)이 형성될 수 있다. A common electrode 150 may be formed on the second passivation layer 142 to substantially correspond to all of the pixels P disposed in the display area AA.

공통전극(150)은 ITO와 같은 투명 도전성물질로 형성되며, 공통전압을 인가받게 된다.The common electrode 150 is made of a transparent conductive material such as ITO, and receives a common voltage.

공통전극(150) 상에는, 실질적으로 제1기판(101) 전면에 걸쳐 제3보호막(151)이 형성될 수 있다. On the common electrode 150 , a third passivation layer 151 may be formed substantially over the entire surface of the first substrate 101 .

제3보호막(151)은 산화실리콘(SiO2)이나 질화실리콘(SiNx)과 같은 무기절연물질이나, 벤조사이클로부텐이나 포토 아크릴과 같은 유기절연물질로 형성될 수 있다.The third passivation layer 151 may be formed of an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO2) or silicon nitride (SiNx), or an organic insulating material such as benzocyclobutene or photoacrylic.

표시영역(AA)의 제3보호막(151) 상에는, 화소(P) 마다 패터닝된 화소전극(155)이 형성될 수 있다. A patterned pixel electrode 155 for each pixel P may be formed on the third passivation layer 151 of the display area AA.

화소전극(155)은 드레인콘택홀(CH)을 통해 해당 화소(P)의 드레인전극(135)와 연결될 수 있다. 이때, 드레인콘택홀(CH)은, 제1,2,3보호막(141,142,151)에 형성될 수 있다.The pixel electrode 155 may be connected to the drain electrode 135 of the corresponding pixel P through the drain contact hole CH. In this case, the drain contact hole CH may be formed in the first, second, and third passivation layers 141 , 142 , and 151 .

여기서, 화소전극(155)은, 해당 화소(P)에 위치하는 공통전극(150) 부분과 마주보며 프린지필드를 형성하는 핑거(finger) 형상(또는 바(bar) 형상)의 다수의 전극패턴(156)을 포함할 수 있다.Here, the pixel electrode 155 has a plurality of electrode patterns (finger-shaped (or bar-shaped) forming a fringe field facing the common electrode 150 located in the corresponding pixel P) ( 156) may be included.

이와 같은 다수의 전극패턴 사이에는 개구부(op)가 형성될 수 있다.An opening op may be formed between the plurality of electrode patterns.

더욱이, 화소전극(155)은 다수의 전극패턴(156)에 공통적으로 연결된 연결부(157,158)를 포함할 수 있다. Furthermore, the pixel electrode 155 may include connecting portions 157 and 158 commonly connected to the plurality of electrode patterns 156 .

이와 관련하여 예를 들면, 다수의 전극패턴(156)의 일단인 상단에 연결된 제1연결부(157)와, 다수의 전극패턴(156)의 타단인 하단에 연결된 제2연결부(158)를 포함할 수 있다.In this regard, for example, it may include a first connector 157 connected to the upper end of the plurality of electrode patterns 156 and a second connector 158 connected to the lower end of the plurality of electrode patterns 156 . can

이와 같이 구성된 화소전극(155)은 해당 공통전극(150)과 제3보호막(151)을 사이에 두고 중첩되어 스토리지커패시터(Cst)를 형성할 수 있다. 이와 관련하여, 실질적으로 화소전극(155) 전체는 공통전극(150)에 의해 모두 가려지도록 공통전극(150)에 중첩될 수 있고, 이에 따라 스토리지커패시터(Cst)가 해당 화소(P)에 구성될 수 있다.The pixel electrode 155 configured as described above may be overlapped with the common electrode 150 and the third passivation layer 151 interposed therebetween to form the storage capacitor Cst. In this regard, substantially the entire pixel electrode 155 may be overlapped with the common electrode 150 to be completely covered by the common electrode 150 , and accordingly, the storage capacitor Cst may be configured in the corresponding pixel P. can

이때, 앞서 언급한 바와 같이, 본 실시예에서는 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4) 간의 화소전압 변동량(ΔVp)의 편차를 완화하기 위해, 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4) 단위로 스토리지커패시터(Cst)의 용량을 차등화하게 된다.At this time, as mentioned above, in the present embodiment, in order to alleviate the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the divided regions Am, As1 to As4 and Ac1 to Ac4, the divided regions Am, As1 to As4, The capacity of the storage capacitor (Cst) is differentiated in units of Ac1~Ac4).

이와 관련하여, 먼저 화소전압 변동량(ΔVp)에 대한 아래 수식(1)을 참조한다.In this regard, first, reference is made to Equation (1) below for the pixel voltage variation ΔVp.

수식(1): ΔVp =

Figure 112017129255747-pat00001
Equation (1): ΔVp =
Figure 112017129255747-pat00001

수식(1)에서, Clc는 액정커패시터의 용량이고, Cst는 스토리지커패시터의 용량이고, Cgs는 스위칭트랜지스터(Ts)의 게이트-소스 간 기생용량이고, ΔVg는 스위칭트랜지스터(Ts)에 인가되는 게이트하이전압(Vgh)과 게이트로우전압(Vgl) 간의 전압차(또는 변동량)(Vgh-Vgl)이다.In Equation (1), Clc is the capacitance of the liquid crystal capacitor, Cst is the storage capacitor capacitance, Cgs is the gate-source parasitic capacitance of the switching transistor Ts, and ΔVg is the gate high applied to the switching transistor Ts. A voltage difference (or variation) (Vgh-Vgl) between the voltage Vgh and the gate low voltage Vgl.

위 수식(1)에 따르면, 게이트하이전압(Vgh)에서 게이트로우전압(Vgl)으로 변경될 때, 화소(P) 내에 인가된 데이터전압인 화소전압(Vp)은 화소(P)에 형성된 커패시터들에 의해 변동되어, 화소(P)에는 화소전압 변동량(ΔVp)이 발생하게 된다.According to Equation (1) above, when the gate high voltage Vgh to the gate low voltage Vgl is changed, the pixel voltage Vp, which is the data voltage applied to the pixel P, is applied to the capacitors formed in the pixel P. , a pixel voltage fluctuation amount ΔVp is generated in the pixel P.

이때, 액정패널(100)의 표시영역(AA)에는 영역에 따라 게이트클럭(CLK) 및 게이트전압과 같은 게이트신호의 부하가 상이하므로, 영역별 게이트하이전압(Vgh)의 감쇄율은 편차가 발생하게 된다. At this time, since the load of the gate signal such as the gate clock CLK and the gate voltage is different in the display area AA of the liquid crystal panel 100 depending on the area, the attenuation rate of the gate high voltage Vgh for each area is different. do.

이로 인해, 영역별 화소전압 변동량(ΔVp)은 편차를 갖게 되고, 이에 따라 영역별 최적 공통전압 또한 편차를 갖게 되어 표시영역(AA)의 공통전압 균일도가 저하된다.As a result, the pixel voltage variation ΔVp for each area has a deviation, and accordingly, the optimum common voltage for each area also has a deviation, thereby deteriorating the uniformity of the common voltage of the display area AA.

여기서, 공통전압(또는 화소전압 변동량(ΔVp))의 편차가 특정값 이상이 되면, 플리커와 같은 화질 불량이 시인될 수 있다.Here, when the deviation of the common voltage (or the pixel voltage variation ΔVp) is greater than or equal to a specific value, image quality defects such as flicker may be recognized.

이에 대해 예를 들면, 영역 간에 공통전압(또는 화소전압 변동량(ΔVp))이 대략 10mV 이상 편차가 발생하게 되면 화질 불량이 시인될 수 있게 된다.In contrast, if, for example, a deviation of the common voltage (or the pixel voltage variation ΔVp) between regions is about 10 mV or more, the image quality defect may be recognized.

이러한바, 본 실시예에서는, 전술한 바와 같이 표시영역(AA)을 다수의 분할영역(Am,As1~As4,Ac1~Ac4)으로 구분하여 정의하고, 분할영역별로 스토리지커패시터(Cst) 용량을 차등화 한다.As such, in the present embodiment, as described above, the display area AA is divided into a plurality of divided areas Am, As1 to As4, and Ac1 to Ac4, and the storage capacitor Cst capacity is differentiated for each divided area. do.

여기서, 분할영역을 구분하는 기준과 관련하여 예를 들면, 표시영역(AA)의 전체 화소들(P)이 모두 동일한 스토리지커패시터 용량을 갖는 종래의 구조를 기반으로 할 때, 인접 배치된 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4) 간의 공통전압(또는 화소전압 변동량) 차이가 화질 불량이 시인되는 특정값 예를 들어 대략 10mV 이상이 되도록, 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4)을 구분하여 정의할 수 있다. Here, with respect to the criterion for dividing the divided areas, for example, when all the pixels P of the display area AA are based on a conventional structure having the same storage capacitor capacity, the adjacently arranged divided areas are The divided regions Am, As1 to As4, Ac1 to such that the difference in common voltage (or pixel voltage variation) between (Am, As1 to As4, and Ac1 to Ac4) is greater than or equal to a specific value at which image quality is recognized, for example, about 10 mV or more Ac4) can be distinguished and defined.

즉, 종래의 구조를 기초로, 인접한 분할영역들(Am,As1~As4,Ac1~Ac4)은 공통전압은 대략 10mV 이상 편차를 가질 수 있게 된다.That is, based on the conventional structure, the common voltage of the adjacent divided regions Am, As1 to As4, and Ac1 to Ac4 may have a deviation of about 10 mV or more.

한편, 본 실시예에서는 좌측 및 우측 각각에 게이트구동회로(320)가 배치된 좌우 대칭 구조를 예로 들고 있으므로, 이 대칭 구조에서는 동일한 수평위치의 좌측 분할영역(Ac1,As1,Ac3)과 우측 분할영역(Ac2,As2,Ac4) 간에는 부하가 실질적으로 동일하여 스트리지커패시터(Cst)는 실질적으로 동일하게 구성될 수 있다.Meanwhile, in the present embodiment, a left-right symmetric structure in which the gate driving circuit 320 is disposed on the left and right sides is taken as an example. Loads are substantially the same between (Ac2, As2, and Ac4), so that the storage capacitor (Cst) may be configured to be substantially the same.

이와 같이, 스토리지커패시터(Cst) 용량을 차등화함으로써, 분할영역 간의 게이트전압 변동량(ΔVg) 편차를 상쇄할 수 있게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)의 분할영역 간 편차는 완화될 수 있게 된다.As such, by differentiating the capacitance of the storage capacitor Cst, it is possible to offset the deviation of the gate voltage variation ΔVg between the divided regions, and as a result, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the divided regions can be alleviated.

이와 관련하여 예를 들면, 수평방향을 기준으로 하여 게이트전압은 좌측 및 우측 각각에서 내부 방향으로 전달되므로, 좌측 및 우측에 대칭되어 배치된 동일한 수직위치(즉, 동일한 행)의 분할영역들 일예로 하측 부분에 배치된 제1 및 2코너영역(Ac1,Ac2)은 상대적으로 부하가 낮아 이의 게이트전압 변동량(ΔVg)은 상대적으로 높고, 이들 사이에 위치하는 분할영역 일예로 제3측방영역(As3)은 상대적으로 부하가 높아 이의 게이트전압 변동량(ΔVg)은 상대적으로 낮다.In this regard, for example, with respect to the horizontal direction, since the gate voltage is transmitted in the inward direction from each of the left and right sides, the divided regions of the same vertical position (that is, the same row) arranged symmetrically on the left and right sides are used as an example. The first and second corner regions Ac1 and Ac2 disposed on the lower portion have a relatively low load, and thus the gate voltage variation ΔVg thereof is relatively high. has a relatively high load, so its gate voltage variation (ΔVg) is relatively low.

이에 대해, 상대적으로 부하가 낮은 제1 및 2코너영역(Ac1,Ac2)에 대해 스토리지커패시터(Cst) 용량을 상대적으로 높여서 이 영역의 상대적으로 높은 게이트전압 변동량(ΔVg)을 상쇄할 수 있게 되므로, 이 영역의 상대적으로 높은 화소전압 변동량(ΔVp)이 낮아지는 작용이 발생하게 된다.In contrast, the storage capacitor Cst capacity is relatively increased for the first and second corner regions Ac1 and Ac2 with relatively low loads to offset the relatively high gate voltage variation ΔVg in these regions. A relatively high pixel voltage variation ΔVp in this region is lowered.

이와 반대로, 상대적으로 부하가 높은 제3측방영역(As3)에 대해 스토리지커패시터(Cst) 용량을 상대적으로 낮추어서 이 영역의 상대적으로 낮은 게이트전압 변동량(ΔVg)을 상쇄할 수 있게 되어, 이 영역의 상대적으로 낮은 화소전압 변동량(ΔVp)이 높아지는 작용이 발생하게 된다.On the contrary, the capacity of the storage capacitor Cst is relatively lowered for the third lateral region As3, which has a relatively high load, so that the relatively low gate voltage variation ΔVg of this region can be offset. As a result, a low pixel voltage variation ΔVp increases.

이처럼, 수평방향에서 서로 인접 배치된 분할영역들에 대해 이들 간의 게이트전압 변동량(ΔVg) 편차를 보상하기 위해, 이 편차에 반비례하도록 스토리지커패시터(Cst) 용량을 영역별 차등화함으로써, 화소전압 변동량(ΔVp)의 분할영역 간 편차는 완화될 수 있게 된다.As such, in order to compensate for the deviation of the gate voltage variation ΔVg between the divided regions arranged adjacent to each other in the horizontal direction, the storage capacitor Cst capacity is differentiated for each region so as to be inversely proportional to the deviation, so that the pixel voltage fluctuation amount ΔVp ), the deviation between the partitions can be mitigated.

위와 유사하게, 수직방향에 대해서도 서로 인접 배치된 분할영역들에 대해 이들 간의 게이트전압 변동량(ΔVg) 편차를 보상하도록 스토리지커패시터(Cst) 용량을 차등화하게 된다. Similarly to the above, the storage capacitor Cst capacity is differentiated to compensate for the difference in the gate voltage variation ΔVg between the divided regions arranged adjacent to each other in the vertical direction.

이에 대해 예를 들면, 게이트하이전압을 발생시키는 신호인 게이트클럭(CLK)은 상부 수직방향으로 전달되므로, 동일한 수평위치(즉, 동일한 열)의 하측,중앙,상측에 배치된 분할영역들 일예로 제3측방영역(As3),중앙영역(Am),제4측방영역(As4)은 부하가 순서대로 높아져 영역별 게이트전압 변동량(ΔVg)은 상대적으로 낮아지게 된다. 즉, 게이트전압 변동량(ΔVg)은, 중앙영역(Am)이 상대적으로 대략 가운데로서 기준에 해당된다고 볼 수 있고, 제3측방영역(As3)이 상대적으로 높고, 제4측방영역(As4)이 상대적으로 낮다.In contrast, for example, the gate clock CLK, which is a signal generating the gate high voltage, is transmitted in the upper vertical direction, so the divided regions arranged at the lower, center, and upper sides of the same horizontal position (ie, the same column) are used as an example. In the third lateral region As3, the central region Am, and the fourth lateral region As4, the loads are sequentially increased, so that the gate voltage variation ΔVg for each region is relatively low. That is, the gate voltage fluctuation amount ΔVg corresponds to the reference as the central region Am is relatively approximately in the middle, the third lateral region As3 is relatively high, and the fourth lateral region As4 is relatively high. as low as

이에 대해, 중앙영역(Am)의 스토리지커패시터(Cst) 용량을 기준으로 하여, 상대적으로 부하가 높은 제4측방영역(As4)에 대해 스토리지커패시터(Cst) 용량을 상대적으로 낮추어 이 영역의 상대적으로 낮은 게이트전압 변동량(ΔVg)을 상쇄할 수 있게 되므로, 이 영역의 상대적으로 낮은 화소전압 변동량(ΔVp)이 높아지는 작용이 발생하게 된다.In contrast, on the basis of the storage capacitor Cst capacity of the central region Am, the storage capacitor Cst capacity is relatively lowered for the fourth lateral region As4, which has a relatively high load. Since the gate voltage fluctuation amount ΔVg can be offset, a relatively low pixel voltage fluctuation amount ΔVp in this region increases.

이와 반대로, 중앙영역(Am)의 스토리지커패시터(Cst) 용량을 기준으로 하여, 상대적으로 부하가 낮은 제3측방영역(As3)에 대해 스토리지커패시터(Cst) 용량을 상대적으로 높여서 이 영역의 상대적으로 높은 게이트전압 변동량(ΔVg)을 상쇄할 수 있게 되어, 이 영역의 상대적으로 높은 화소전압 변동량(ΔVp)이 낮아지는 작용이 발생하게 된다.On the contrary, on the basis of the storage capacitor Cst capacity of the central area Am, the storage capacitor Cst capacity is relatively increased with respect to the third lateral area As3, which has a relatively low load. Since the gate voltage fluctuation amount ΔVg can be offset, a relatively high pixel voltage fluctuation amount ΔVp in this region is lowered.

한편, 본 실시예에서는, 위와 같이 영역별 스토리지커패시터(Cst) 용량 차등화를 위해, 화소전극(155)의 전극패턴(156)의 폭을 차등화하게 된다.Meanwhile, in the present embodiment, the width of the electrode pattern 156 of the pixel electrode 155 is differentiated in order to differentiate the capacity of the storage capacitor Cst for each region as described above.

이에 대해, 아래 수식(2)를 참조할 수 있다.For this, reference can be made to Equation (2) below.

수식(2): Cst = ε*(S/d).Equation (2): Cst = ε*(S/d).

수식(2)에서, ε은 제3보호막(151)의 유전율이고, S는 공통전극(150)에 중첩되는 화소전극(155)의 면적이며, d는 공통전극(150)과 화소전극(155) 간의 거리로서 실질적으로 제3보호막(151)의 두께에 해당된다.In Equation (2), ε is the dielectric constant of the third passivation layer 151 , S is the area of the pixel electrode 155 overlapping the common electrode 150 , and d is the common electrode 150 and the pixel electrode 155 . As a distance between them, it substantially corresponds to the thickness of the third passivation layer 151 .

이 수식(2)에 따르면, Cst는 화소전극(155)의 면적에 비례하게 됨을 알 수 있으며, 화소전극(155)의 면적은 이의 전극패턴(156)의 폭에 의존한다. According to Equation (2), it can be seen that Cst is proportional to the area of the pixel electrode 155 , and the area of the pixel electrode 155 depends on the width of the electrode pattern 156 .

이러한바, 화소전극(155)의 전극패턴(156)의 폭을 조절하여, 영역별 스토리지커패시터(Cst)를 차등화할 수 있게 된다.As such, by adjusting the width of the electrode pattern 156 of the pixel electrode 155, it is possible to differentiate the storage capacitor Cst for each region.

이와 관련하여 도 5 및 6을 함께 참조하여 살펴본다.In this regard, it will be described with reference to FIGS. 5 and 6 together.

도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수평방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수직방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.5 is a diagram schematically illustrating a pixel structure in divided regions arranged in a horizontal direction in a display region of a liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention. It is a diagram schematically illustrating a pixel structure in divided areas arranged in a vertical direction in a display area of a panel.

여기서, 설명의 편의를 위해, 도 5에서는 표시영역의 하측 부분에 배열된 분할영역들을 예로 들어 도시하였고, 도 6에서는 표시영역의 가운데 부분에 배열된 분할영역들을 예로 들어 도시하였다.Here, for convenience of explanation, the divided areas arranged in the lower portion of the display area are illustrated as examples in FIG. 5 , and the divided areas arranged in the middle portion of the display area are illustrated as examples in FIG. 6 .

먼저, 도 5를 참조하여 살펴보면, 표시영역(AA)의 하측 부분에는, 좌측 및 우측에 대칭되어 배치된 동일한 수직위치의 분할영역들인 제1,2코너영역(Ac1,Ac2) 각각에는 해당 영역을 구성하는 화소인 제1,2코너화소(Pc1,Pc2)가 위치한다. 그리고, 제1,2코너영역(Ac1,Ac2) 사이에 배치된 제3측방영역(As3)에는 이를 구성하는 화소인 제3측방화소(Ps3)가 위치한다.First, referring to FIG. 5 , in the lower portion of the display area AA, a corresponding area is formed in each of the first and second corner areas Ac1 and Ac2, which are divided areas at the same vertical position symmetrically disposed on the left and right sides. The first and second corner pixels Pc1 and Pc2 constituting the pixels are located. In addition, the third lateral pixel Ps3 which is a pixel constituting the third lateral region As3 disposed between the first and second corner regions Ac1 and Ac2 is positioned.

여기서, 제1,2코너화소(Pc1,Pc2) 각각에 형성된 화소전극(155)의 전극패턴(156)은 제1폭(W1)을 갖게 된다. Here, the electrode pattern 156 of the pixel electrode 155 formed in each of the first and second corner pixels Pc1 and Pc2 has a first width W1.

그리고, 제3측방화소(Ps3)에 형성된 화소전극(155)의 전극패턴(156)은 제2폭(W2)을 갖게 된다.In addition, the electrode pattern 156 of the pixel electrode 155 formed in the third side pixel Ps3 has a second width W2 .

이때, 제1,2코너화소(Pc1,Pc2)의 전극패턴(156)의 제1폭(W1)은, 제3측방화소(Ps3)의 전극패턴(156)의 제2폭(W2) 보다 크게 형성된다.At this time, the first width W1 of the electrode pattern 156 of the first and second corner pixels Pc1 and Pc2 is larger than the second width W2 of the electrode pattern 156 of the third side pixel Ps3. is formed

이에 따라, 제1,2코너화소(Pc1,Pc2)의 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상대적으로 증가하게 되고, 이와 반대로 제3측방화소(Ps3)의 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상대적으로 감소하게 된다. Accordingly, the storage capacitor Cst capacity of the first and second corner pixels Pc1 and Pc2 is relatively increased, and on the contrary, the storage capacitor Cst capacity of the third side pixel Ps3 is relatively decreased. .

이로 인해, 상대적으로 부하가 낮아 게이트전압 변동량(ΔVg)이 높은 제1,2코너화소(Ac1,Ac2)는 스토리지커패시터(Cst)의 용량이 증가하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 낮아질 수 있게 된다. 이와 반대로, 상대적으로 부하가 높아 게이트전압 변동량(ΔVg)이 낮은 제3측방화소(As3)는 스토리지커패시터(Cst)의 용량이 감소하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 높아질 수 있게 된다.For this reason, the storage capacitor Cst increases the capacity of the first and second corner pixels Ac1 and Ac2 with a relatively low load and high gate voltage fluctuation ΔVg, resulting in a lower pixel voltage fluctuation ΔVp. be able to Conversely, in the third side pixel As3 having a relatively high load and low gate voltage variation ΔVg, the storage capacitor Cst has a reduced capacity, and as a result, the pixel voltage variation ΔVp can be increased.

따라서, 수평방향으로 인접 배치된 분할영역들 간의 화소전압 변동량(ΔVp)의 편차가 완화될 수 있게 된다.Accordingly, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the divided regions adjacent in the horizontal direction can be alleviated.

다음으로, 도 6을 참조하여 살펴보면, 표시영역(AA)의 동일한 수직위치의 하측,중앙,상측에 배치된 분할영역들 일예로 제3측방영역(As3),중앙영역(Am),제4측방영역(As4) 각각에는 해당 영역을 구성하는 화소인 제3측방화소(Ps3),중앙화소(Pm),제4측방화소(Ps4)가 위치한다.Next, referring to FIG. 6 , the third lateral region As3, the central region Am, and the fourth lateral region as an example of the divided regions disposed on the lower side, the center, and the upper side of the same vertical position of the display region AA. A third side pixel Ps3, a central pixel Pm, and a fourth side pixel Ps4, which are pixels constituting the corresponding area, are located in each of the area As4.

여기서, 제3층방화소(Ps3)에 형성된 화소전극(155)의 전극패턴(156)은 제2폭(W2)을 갖게 된다. 중앙화소(Pm)에 형성된 화소전극(155)의 전극패턴(156)은 제3폭(W3)을 갖게 된다. 제4층방화소(Ps4)에 형성된 화소전극(155)의 전극패턴(156)은 제4폭(W4)을 갖게 된다.Here, the electrode pattern 156 of the pixel electrode 155 formed in the third layer fire-proofing pixel Ps3 has a second width W2. The electrode pattern 156 of the pixel electrode 155 formed in the central pixel Pm has a third width W3. The electrode pattern 156 of the pixel electrode 155 formed in the fourth layer fire extinguishing pixel Ps4 has a fourth width W4.

이때, 제3측방화소(Ps3)의 전극패턴(156)의 제2폭(W2)은, 중앙화소(Pm)의 전극패턴(156)의 제3폭(W3) 보다 크게 형성된다. 그리고, 중앙화소(Pm)의 전극패턴(156)의 제3폭(W3)은, 제4측방화소(Ps4)의 전극패턴(156)의 제4폭(W4) 보다 크게 형성된다.In this case, the second width W2 of the electrode pattern 156 of the third side pixel Ps3 is formed to be larger than the third width W3 of the electrode pattern 156 of the central pixel Pm. And, the third width W3 of the electrode pattern 156 of the central pixel Pm is formed to be larger than the fourth width W4 of the electrode pattern 156 of the fourth side pixel Ps4.

이에 따라, 중앙화소(Pm)를 기준으로, 제3측방화소(Ps3)의 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상대적으로 증가하게 되고, 이와 반대로 제4측방화소(Ps4)의 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상대적으로 감소하게 된다. Accordingly, based on the central pixel Pm, the storage capacitor Cst capacity of the third side pixel Ps3 is relatively increased, and on the contrary, the storage capacitor Cst capacity of the fourth side pixel Ps4 is will decrease relatively.

다시 말하면, 영역별 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상부 수직방향으로는 감소하게 되며, 하부 수직방향으로는 증가하게 된다.In other words, the capacity of the storage capacitor Cst for each area decreases in the upper vertical direction and increases in the lower vertical direction.

이로 인해, 중앙화소(Pm)를 기준으로, 제3측방화소(As3)는 스토리지커패시터(Cst) 용량이 증가하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 낮아질 수 있게 된다. 이와 반대로, 중앙화소(Pm)를 기준으로, 제4측방화소(As4)는 스토리지커패시터(Cst) 용량이 감소하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 높아질 수 있게 된다.Accordingly, with respect to the central pixel Pm, the storage capacitor Cst capacity of the third side pixel As3 increases, and as a result, the pixel voltage fluctuation amount ΔVp may decrease. Conversely, with respect to the central pixel Pm, the storage capacitor Cst capacity of the fourth side pixel As4 decreases, and as a result, the pixel voltage variation ΔVp may increase.

따라서, 수직방향으로 인접 배치된 분할영역들 간의 화소전압 변동량(ΔVp) 편차가 완화될 수 있게 된다.Accordingly, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the vertically adjacent divided regions can be alleviated.

위와 같이 화소전극(155)의 전극패턴(156) 폭을 차등화하여, 수평방향 및 수직방향으로 인접한 분할영역들 간의 화소전압 변동량(ΔVp) 편차가 완화될 수 있게 된다.By differentiating the width of the electrode pattern 156 of the pixel electrode 155 as described above, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the horizontally and vertically adjacent divided regions can be alleviated.

이에 따라, 표시영역(AA) 전체에서 분할영역별 화소전압 변동량(ΔVp) 편차가 완화됨으로써, 최적 공통전압 편차가 개선되어 공통전압 균일도가 확보되고 화질이 향상될 수 있게 된다.Accordingly, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp for each divided area is alleviated in the entire display area AA, so that the optimum common voltage deviation is improved, so that the common voltage uniformity can be secured and the image quality can be improved.

이때, 공통전압 최대 편차는 화질 저하가 시인되는 특정값 미만로서 예를 들어 대략 10mV 미만이 되도록, 스토리지커패시터 용량을 차등화하는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable to differentiate the storage capacitor capacity so that the maximum deviation of the common voltage is less than a specific value at which image quality degradation is recognized, for example, less than about 10 mV.

여기서, 공통전압 최대 편차는, 최소 부하의 분할영역인 제1,2코너영역(Ac1,Ac2)에서의 최소 공통전압과 최대 부하의 분할영역인 제4측방영역(As4)의 최대 공통전압 간의 편차를 의미할 수 있다.Here, the maximum common voltage deviation is the deviation between the minimum common voltage in the first and second corner regions Ac1 and Ac2 that is the division region of the minimum load and the maximum common voltage of the fourth side region As4 that is the division region of the maximum load. can mean

한편, 본 실시예의 표시영역(AA) 분할 구조에서 영역별 부하의 크기 관계를 살펴보면, 제1,2코너영역(Ac1,Ac2)/제1,2측방영역(As1,As2)/제3측방영역(As3)/제3,4코너영역(Ac3,Ac4)/중앙영역(Am)/제4층방영역(As4)의 순서로 부하가 증가할 수 있다.Meanwhile, in the display area AA division structure of the present embodiment, looking at the relationship between the load sizes for each area, the first and second corner areas Ac1 and Ac2 / the first and second side areas As1 and As2 / the third side area The load may increase in the order of (As3)/the third and fourth corner areas (Ac3, Ac4)/the central area (Am)/the fourth floor area (As4).

이 경우에, 앞서 설명한 바와 같이, 부하의 크기에 반비례하도록 분할영역의 스토리지커패시터 용량을 차등화함으로써, 공통전압의 균일도를 향상시킬 수 있다.In this case, as described above, the uniformity of the common voltage can be improved by differentiating the storage capacitor capacity of the divided area so as to be inversely proportional to the size of the load.

<제2실시예><Second embodiment>

전술한 제1실시예에서는 공통전압 균일도 확보를 위해 분할영역들 간의 스토리지커패시터 용량 차등화를 구현함에 있어, 화소전극의 전극패턴의 폭을 차등화하게 된다.In the above-described first embodiment, the width of the electrode pattern of the pixel electrode is differentiated in implementing the storage capacitor capacity differentiation between the divided regions to ensure common voltage uniformity.

이와 다른 실시예로서 제2실시예에서는, 화소전극의 연결부를 외측으로 확장하고 확장된 부분의 면적을 차등화함으로써 분할영역들 간의 스토리지커패시터 용량을 차등화를 구현하게 된다.As another embodiment, in the second embodiment, the storage capacitor capacity between the divided regions is differentiated by extending the connection part of the pixel electrode to the outside and differentiating the area of the extended part.

이와 관련하여 도 7 내지 9를 참조하여 살펴본다.In this regard, it will be described with reference to FIGS. 7 to 9 .

도 7은 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 블럭도이다. 그리고, 도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수평방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 9는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정패널의 표시영역에서 수직방향으로 배열된 분할영역들 내의 화소 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.7 is a block diagram schematically illustrating a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. 8 is a diagram schematically illustrating a pixel structure in divided regions arranged in a horizontal direction in a display region of a liquid crystal panel according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a second embodiment of the present invention. A diagram schematically illustrating a pixel structure in divided regions arranged in a vertical direction in a display region of a liquid crystal panel according to the present invention.

여기서, 도 7은 제1실시예의 도 1과 실질적으로 동일하며, 도 8 및 9는 각각 제1실시예의 도 5 및 6에 대응된다.Here, Fig. 7 is substantially the same as Fig. 1 of the first embodiment, and Figs. 8 and 9 correspond to Figs. 5 and 6 of the first embodiment, respectively.

도 7 내지 9를 참조하면, 본 실시예의 표시영역(AA)의 분할영역들(Am,Ac1~Ac4,As1~As4) 각각에 구성된 화소(P)의 화소전극(155)은 연결부의 일단에서 외측으로 연장된(또는 확장된) 외연부(159)가 더 구비된다.7 to 9 , the pixel electrode 155 of the pixel P configured in each of the divided areas Am, Ac1 to Ac4, As1 to As4 of the display area AA of the present embodiment is connected from one end of the connection part to the outside. An extended (or extended) outer edge 159 is further provided.

이때, 외연부(159)는 예를 들면 제1연결부(156)의 일단에서 외측으로 연장되도록 형성될 수 있다. 다른 예로서, 외연부(159)는 제2연결부(157)의 일단에서 외측으로 연장되도록 구성될 수도 있다.In this case, the outer edge portion 159 may be formed to extend outwardly from one end of the first connection portion 156 , for example. As another example, the outer edge portion 159 may be configured to extend outwardly from one end of the second connection portion 157 .

이와 같은 외연부(159)는 면적이 분할영역 별로 차등화될 수 있는데, 이와 같은 외연부(159) 면적의 차등화는 예를 들면 그 폭을 차등화함으로써 구현될 수 있다.The area of the outer edge portion 159 may be differentiated for each divided region, and the area of the outer edge portion 159 may be differentiated, for example, by differentiating the width thereof.

이와 관련하여 먼저 도 8을 참조하여 살펴보면, 표시영역(AA)의 하측 부분에는, 좌측 및 우측에 대칭되어 배치된 동일한 수평위치의 분할영역들인 제1,2코너영역(Ac1,Ac2) 각각에 해당 영역을 구성하는 화소인 제1,2코너화소(Pc1,Pc2)가 위치한다. 그리고, 제1,2코너영역(Ac1,Ac2) 사이에 배치된 제3측방영역(As3)에는 이를 구성하는 화소인 제3측방화소(Ps3)가 위치한다.In this regard, referring to FIG. 8 first, the lower portion of the display area AA corresponds to the first and second corner areas Ac1 and Ac2, which are divided areas at the same horizontal position symmetrically disposed on the left and right sides. The first and second corner pixels Pc1 and Pc2, which are pixels constituting the area, are located. In addition, the third lateral pixel Ps3 which is a pixel constituting the third lateral region As3 disposed between the first and second corner regions Ac1 and Ac2 is positioned.

여기서, 제1,2코너화소(Pc1,Pc2) 각각에 형성된 화소전극(155)의 외연부(159)는 제1폭(We1)을 갖게 된다. Here, the outer edge 159 of the pixel electrode 155 formed in each of the first and second corner pixels Pc1 and Pc2 has a first width We1.

그리고, 제3측방화소(Ps3)에 형성된 화소전극(155)의 외연부(159)는 제2폭(We2)을 갖게 된다.In addition, the outer edge 159 of the pixel electrode 155 formed in the third side pixel Ps3 has a second width We2.

이때, 제1,2코너화소(Pc1,Pc2)의 외연부(159)의 제1폭(We1)은, 제3측방화소(Ps3)의 외연부(159)의 제2폭(We2) 보다 크게 형성된다.In this case, the first width We1 of the outer edge portion 159 of the first and second corner pixels Pc1 and Pc2 is larger than the second width We2 of the outer edge portion 159 of the third side pixel Ps3. is formed

이에 따라, 제1,2코너화소(Pc1,Pc2)의 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상대적으로 증가하게 되고, 이와 반대로 제3측방화소(Ps3)의 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상대적으로 감소하게 된다.Accordingly, the storage capacitor Cst capacity of the first and second corner pixels Pc1 and Pc2 is relatively increased, and on the contrary, the storage capacitor Cst capacity of the third side pixel Ps3 is relatively decreased. .

이로 인해, 상대적으로 부하가 낮아 게이트전압 변동량(ΔVg)이 높은 제1,2코너화소(Ac1,Ac2)는 스토리지커패시터(Cst) 용량이 증가하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 낮아질 수 있게 된다. 이와 반대로, 상대적으로 부하가 높아 게이트전압 변동량(ΔVg)이 낮은 제3측방화소(As3)는 스토리지커패시터(Cst) 용량이 감소하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 높아질 수 있게 된다.For this reason, the storage capacitor Cst capacity of the first and second corner pixels Ac1 and Ac2 having a relatively low load and high gate voltage fluctuation amount ΔVg increases, and as a result, the pixel voltage fluctuation amount ΔVp may be lowered. there will be Conversely, in the third lateral pixel As3 having a relatively high load and low gate voltage fluctuation amount ΔVg, the storage capacitor Cst capacity decreases, and as a result, the pixel voltage fluctuation amount ΔVp may increase.

따라서, 수평방향으로 인접 배치된 분할영역들 간의 화소전압 변동량(ΔVp) 편차가 완화될 수 있게 된다.Accordingly, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the divided regions adjacent in the horizontal direction can be alleviated.

다음으로, 도 9를 참조하여 살펴보면, 표시영역(AA)의 동일한 수평위치의 하측,중앙,상측에 배치된 분할영역들 일예로 제3측방영역(As3),중앙영역(Am),제4측방영역(As4) 각각에는 해당 영역을 구성하는 화소인 제3측방화소(Ps3),중앙화소(Pm),제4측방화소(Ps4)가 위치한다.Next, referring to FIG. 9 , the third lateral region As3, the central region Am, and the fourth lateral region as an example of the divided regions disposed on the lower side, the center, and the upper side of the same horizontal position of the display region AA. A third side pixel Ps3, a central pixel Pm, and a fourth side pixel Ps4, which are pixels constituting the corresponding area, are located in each of the area As4.

여기서, 제3측방화소(Ps3)에 형성된 화소전극(155)의 외연부(159)는 제2폭(We2)을 갖게 된다. 중앙화소(Pm)에 형성된 화소전극(155)의 외연부(159)는 제3폭(We3)을 갖게 된다. 제4측방화소(Ps4)에 형성된 화소전극(155)의 외연부(159)는 제4폭(We4)을 갖게 된다.Here, the outer edge 159 of the pixel electrode 155 formed in the third side pixel Ps3 has a second width We2. The outer edge 159 of the pixel electrode 155 formed in the central pixel Pm has a third width We3 . The outer edge 159 of the pixel electrode 155 formed in the fourth side pixel Ps4 has a fourth width We4.

이때, 제3측방화소(Ps3)의 외연부(159)의 제2폭(We2)은, 중앙화소(Pm)의 외여연부(159)의 제3폭(We3) 보다 크게 형성된다. 그리고, 중앙화소(Pm)의 외연부(159)의 제3폭(We3)은, 제4측방화소(Ps4)의 외연부(159)의 제4폭(We4) 보다 크게 형성된다.In this case, the second width We2 of the outer edge portion 159 of the third side pixel Ps3 is formed to be larger than the third width We3 of the outer edge portion 159 of the central pixel Pm. In addition, the third width We3 of the outer edge portion 159 of the central pixel Pm is formed to be larger than the fourth width We4 of the outer edge portion 159 of the fourth lateral pixel Ps4.

이에 따라, 중앙화소(Pm)를 기준으로, 제3측방화소(Ps3)의 스토리지커패시터(Cst) 용량은 상대적으로 증가하게 되고, 이와 반대로 제4측방화소(Ps4)의 스토리지커패시터(Cst)의 용량은 상대적으로 감소하게 된다. Accordingly, based on the central pixel Pm, the storage capacitor Cst capacity of the third side pixel Ps3 is relatively increased, and on the contrary, the storage capacitor Cst capacity of the fourth side pixel Ps4 is relatively decreased.

다시 말하면, 스토리지커패시터(Cst)의 용량은 상부 수직방향으로 감소하게 되며, 하부 수직방향으로는 증가하게 된다.In other words, the capacity of the storage capacitor Cst decreases in the upper vertical direction and increases in the lower vertical direction.

이로 인해, 중앙화소(Pm)를 기준으로, 제3측방화소(As3)는 스토리지커패시터(Cst) 용량이 증가하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 낮아질 수 있게 된다. 이와 반대로, 중앙화소(Pm)를 기준으로, 제4측방화소(As4)는 스토리지커패시터(Cst)의 용량이 감소하게 되어, 결과적으로 화소전압 변동량(ΔVp)이 높아질 수 있게 된다.Accordingly, with respect to the central pixel Pm, the storage capacitor Cst capacity of the third side pixel As3 increases, and as a result, the pixel voltage fluctuation amount ΔVp may decrease. On the contrary, the capacity of the storage capacitor Cst is decreased in the fourth side pixel As4 based on the central pixel Pm, and as a result, the pixel voltage variation ΔVp may be increased.

따라서, 수직방향으로 인접 배치된 분할영역들 간의 화소전압 변동량(ΔVp) 편차가 완화될 수 있게 된다.Accordingly, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the vertically adjacent divided regions can be alleviated.

위와 같이 화소전극(155)에 외연부(159)를 추가적으로 형성하고 이의 폭을 차등화하여, 수평방향 및 수직방향으로 인접한 분할영역들 간의 화소전압 변동량(ΔVp) 편차가 완화될 수 있게 된다.As described above, by additionally forming the outer edge portion 159 on the pixel electrode 155 and differentiating the width thereof, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the horizontally and vertically adjacent divided regions can be alleviated.

이에 따라, 표시영역(AA) 전체에서 분할영역들 간의 화소전압 변동량(ΔVp) 편차가 완화됨으로써, 최적 공통전압의 편차가 개선되어 공통전압 균일도가 확보되고 화질이 향상될 수 있게 된다.Accordingly, the deviation of the pixel voltage variation ΔVp between the divided areas in the entire display area AA is alleviated, so that the deviation of the optimum common voltage is improved, so that the common voltage uniformity can be secured and the image quality can be improved.

이때, 공통전압의 최대 편차는 화질 저하가 시인되는 특정값 미만으로서 예를 들어 대략 10mV 미만이 되도록, 스토리지커패시터의 용량을 차등화하는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable to differentiate the capacity of the storage capacitor so that the maximum deviation of the common voltage is less than a specific value at which image quality degradation is recognized, for example, less than about 10 mV.

도 10은 본 발명의 실시예들에 따른 영역별 스토리지커패시터 차등화 구조에서의 영역별 최적 공통전압에 대한 실험 결과를 도시한 도면이다.10 is a diagram illustrating experimental results for an optimal common voltage for each region in a storage capacitor differential structure for each region according to embodiments of the present invention.

도 10에서는, 종래의 스토리지커패시터가 영역별로 동일한 구조에서의 영역별 공통전압을 검은색으로 표시하였으며, 본 발명의 실시예들의 스토리지커패시터 영역별 차등화 구조에서의 영역별 공통전압을 붉은색으로 표시하였다.In FIG. 10, the common voltage for each region in the same structure for each region of the conventional storage capacitor is displayed in black, and the common voltage for each region in the differential structure for each storage capacitor region of the embodiments of the present invention is displayed in red. .

한편, 이 시뮬레이션에서, 종래 구조의 스토리지커패시터 용량은 모든 분할영역에서 대략 408.4f 정도로 동일하다. 그리고, 본 실시예의 구조에서는, 분할영역별 스토리지커패시터 용량은, As4가 대략 408.4f, Am이 대략 412.2f, Ac3 및 Ac4가 대략 414.9f, As1 및 As2가 대략 419.4f, As3이 대략 417.3f, Ac1 및 Ac2가 대략 426.4f 정도로 차등화된다.On the other hand, in this simulation, the storage capacitor capacity of the conventional structure is approximately equal to about 408.4f in all partitions. And, in the structure of this embodiment, the storage capacitor capacity for each partition is about 408.4f for As4, about 412.2f for Am, about 414.9f for Ac3 and Ac4, about 419.4f for As1 and As2, and about 417.3f for As3, Ac1 and Ac2 are differentiated by approximately 426.4f.

도 10을 참조하여 살펴보면, 종래 구조에서는 수평방향 및 수직방향으로 인접한 분할영역들 간에 최적 공통전압 편차가 대체로 10mV 이상이며, 공통전압 최대 편차는 대략 29mV(즉, As4 영역과 Ac1 영역 간의 편차)로 매우 크다. 이에 따라, 표시영역 전반에서 플리커와 같은 화질 불량이 발생하게 된다.Referring to FIG. 10 , in the conventional structure, the optimum common voltage deviation between horizontally and vertically adjacent divided regions is approximately 10mV or more, and the maximum common voltage deviation is approximately 29mV (that is, the deviation between the As4 region and the Ac1 region). Very large. Accordingly, image quality defects such as flicker occur in the entire display area.

반면에, 본 실시예들의 구조에서는 수평방향 및 수직방향으로 인접한 분할영역들 간에 최적 공통전압 편차가 대체로 1mV 이하이며, 공통전압 최대 편차는 대략 1mV 정도로 매우 크다. 이에 따라, 표시영역 전반에서 공통전압의 균일도가 확보되어 화질 불량이 개선된다.On the other hand, in the structures of the present embodiments, the optimum common voltage deviation between the horizontally and vertically adjacent divided regions is generally less than 1 mV, and the maximum deviation of the common voltage is very large, about 1 mV. Accordingly, the uniformity of the common voltage is ensured throughout the display area, thereby improving image quality.

전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면, 게이트신호에 대한 부하 편차에 따라 표시영역을 다수의 분할영역으로 구분하고, 분할영역 별로 화소전극 면적을 차등화하여 스토리지커패시터 용량을 차등화하게 된다.As described above, according to the embodiments of the present invention, the display area is divided into a plurality of divided areas according to the load deviation with respect to the gate signal, and the area of the pixel electrode is differentiated for each divided area to differentiate the storage capacitor capacity.

이에 따라, 분할영역들 간 화소전압 변동량 편차가 완화됨으로써, 최적 공통전압 편차가 개선되고 공통전압 균일도가 확보되어, 플리커 등의 화질 불량을 개선할 수 있게 된다.Accordingly, as the variation in the pixel voltage variation between the divided regions is alleviated, the optimum common voltage variation is improved and common voltage uniformity is secured, thereby improving image quality such as flicker.

전술한 본 발명의 실시예는 본 발명의 일예로서, 본 발명의 정신에 포함되는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명은, 첨부된 특허청구범위 및 이와 등가되는 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.The above-described embodiment of the present invention is an example of the present invention, and free modifications are possible within the scope included in the spirit of the present invention. Accordingly, the present invention includes modifications of the present invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents thereto.

10: 액정표시장치 100: 액정패널
101: 제1기판 121: 게이트전극
130: 게이트절연막 131: 반도체층
133: 소스전극 133: 드레인전극
141: 제1보호막 142: 제2보호막
150: 공통전극 151: 제3보호막
155: 화소전극 156: 전극패턴
157: 제1연결부 158: 제2연결부
159: 외연부 310: 데이터구동회로
320: 게이트구동회로 330: 타이밍제어회로
P: 화소
GL: 게이트배선
DL: 데이터배선
TL: 전달배선
Ts: 스위칭트랜지스터
Clc: 액정커패시터
Cst: 스토리지커패시터
L1 내지 L4: 제1 내지 4외변
AA: 표시영역
NA: 비표시영역
Am: 중앙영역
Ac1 내지 Ac4: 제1 내지 4코너영역
As1 내지 As4: 제1 내지 4측방영역
10: liquid crystal display device 100: liquid crystal panel
101: first substrate 121: gate electrode
130: gate insulating layer 131: semiconductor layer
133: source electrode 133: drain electrode
141: first protective film 142: second protective film
150: common electrode 151: third protective film
155: pixel electrode 156: electrode pattern
157: first connection part 158: second connection part
159: outer edge 310: data driving circuit
320: gate driving circuit 330: timing control circuit
P: pixel
GL: gate wiring
DL: data wiring
TL: transmission wiring
Ts: switching transistor
Clc: liquid crystal capacitor
Cst: storage capacitor
L1 to L4: first to fourth outer edges
AA: display area
NA: non-display area
Am: central area
Ac1 to Ac4: first to fourth corner regions
As1 to As4: first to fourth lateral regions

Claims (11)

수평방향 및 수직방향으로 화소가 배열된 다수의 분할영역을 포함하는 표시영역과 상기 표시영역 주변의 비표시영역이 정의된 기판과;
상기 기판 상의 표시영역에, 상기 수평방향을 따라 연장되어 게이트전압을 해당 화소에 전달하는 다수의 게이트배선과;
상기 기판 상의 표시영역에 형성된 공통전극과;
상기 화소 내에, 상기 공통전극과 절연막을 사이에 두고 대향하며 다수의 전극패턴을 포함하는 화소전극
을 포함하고,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 면적이 서로 상이한
액정표시장치.
A substrate comprising: a substrate in which a display area including a plurality of divided areas in which pixels are arranged in a horizontal direction and a vertical direction and a non-display area around the display area are defined;
a plurality of gate wirings extending in the horizontal direction to transmit a gate voltage to a corresponding pixel in the display area on the substrate;
a common electrode formed in the display area on the substrate;
A pixel electrode having a plurality of electrode patterns facing each other with the common electrode and an insulating layer interposed therebetween in the pixel
including,
The area of the pixel electrode is different between the divided regions adjacent in the horizontal direction or the vertical direction.
liquid crystal display.
제 1 항에 있어서,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 전극패턴의 폭이 서로 상이한
액정표시장치.
The method of claim 1,
The width of the electrode pattern of the pixel electrode is different between the divided regions adjacent in the horizontal direction or the vertical direction.
liquid crystal display.
제 1 항에 있어서,
상기 화소전극은, 상기 다수의 전극패턴의 일단을 연결하는 연결부와, 상기 연결부의 외측으로 연장된 외연부를 포함하고,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 외연부의 면적이 서로 상이한
액정표시장치.
The method of claim 1,
The pixel electrode includes a connection portion connecting one end of the plurality of electrode patterns, and an outer edge portion extending outwardly of the connection portion,
The area of the outer edge of the pixel electrode is different between the divided regions adjacent in the horizontal direction or the vertical direction.
liquid crystal display.
제 3 항에 있어서,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 외연부의 폭이 서로 상이한
액정표시장치.
4. The method of claim 3,
Between the divided regions adjacent in the horizontal or vertical direction, the width of the outer edge of the pixel electrode is different from each other.
liquid crystal display.
제 1 항에 있어서,
상기 비표시영역의 기판 상에, 상기 다수의 게이트배선에 연결된 게이트구동회로와;
상기 비표시영역의 기판 상에, 상기 수직방향을 따라 연장되어 상기 게이트구동회로에 게이트클럭을 전달하는 전달배선
을 더 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 1,
a gate driving circuit connected to the plurality of gate lines on the substrate in the non-display area;
a transfer line extending in the vertical direction on the substrate of the non-display area to transmit the gate clock to the gate driving circuit
A liquid crystal display further comprising a.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간의 화소전극의 면적은, 이 분할영역 간의 상기 게이트전압에 대한 부하 크기에 반비례하는
액정표시장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The area of the pixel electrode between the divided regions adjacent in the horizontal or vertical direction is inversely proportional to the magnitude of the load for the gate voltage between the divided regions.
liquid crystal display.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 다수의 분할영역 간의 공통전압 최대 편차는 10mV 미만인
액정표시장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The maximum deviation of the common voltage between the plurality of divisions is less than 10mV.
liquid crystal display.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소전극의 면적이 서로 동일한 경우에 공통전압 편차가 10mV 이상인
액정표시장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Between the divided regions adjacent in the horizontal or vertical direction, when the area of the pixel electrode is the same, a common voltage deviation is 10 mV or more.
liquid crystal display.
제 1 항에 있어서,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간에는, 상기 화소의 스토리지커패시터의 용량이 상이한
액정표시장치.
The method of claim 1,
The capacity of the storage capacitor of the pixel is different between the divided areas adjacent to each other in the horizontal or vertical direction.
liquid crystal display.
제 9 항에 있어서,
상기 수평방향이나 수직방향으로 인접한 상기 분할영역 간의 상기 화소의 스토리지커패시터의 용량은, 이 분할영역 간의 상기 게이트전압에 대한 부하 크기에 반비례하는
액정표시장치.
10. The method of claim 9,
The capacity of the storage capacitor of the pixel between the divided regions adjacent in the horizontal or vertical direction is inversely proportional to the magnitude of the load for the gate voltage between the divided regions.
liquid crystal display.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 분할영역 각각에는, 상기 수직방향 및 수평방향을 따라 매트릭스 형태로 배치된 다수의 화소를 포함하는
액정표시장치.
The method of claim 1,
Each of the plurality of division areas includes a plurality of pixels arranged in a matrix form along the vertical and horizontal directions.
liquid crystal display.
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