KR102437265B1 - Iso탱크용 공급량 제어시스템 - Google Patents

Iso탱크용 공급량 제어시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR102437265B1
KR102437265B1 KR1020200120450A KR20200120450A KR102437265B1 KR 102437265 B1 KR102437265 B1 KR 102437265B1 KR 1020200120450 A KR1020200120450 A KR 1020200120450A KR 20200120450 A KR20200120450 A KR 20200120450A KR 102437265 B1 KR102437265 B1 KR 102437265B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
iso
tanks
flow rate
semiconductor manufacturing
Prior art date
Application number
KR1020200120450A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20220037685A (ko
Inventor
김지훈
이상근
김용태
강태욱
권호산
장성업
최영수
황효종
유방연
임상재
Original Assignee
버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 filed Critical 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨
Priority to KR1020200120450A priority Critical patent/KR102437265B1/ko
Priority to PCT/US2021/050737 priority patent/WO2022061029A1/en
Priority to US18/245,341 priority patent/US20230408034A1/en
Priority to EP21870243.9A priority patent/EP4196717A1/en
Priority to IL301375A priority patent/IL301375A/en
Priority to JP2023517943A priority patent/JP2023542000A/ja
Priority to TW110134964A priority patent/TWI796794B/zh
Publication of KR20220037685A publication Critical patent/KR20220037685A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102437265B1 publication Critical patent/KR102437265B1/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C7/00—Methods or apparatus for discharging liquefied, solidified, or compressed gases from pressure vessels, not covered by another subclass
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/02—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment
    • F17C13/023—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment having the mass as the parameter
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/02—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment
    • F17C13/025—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment having the pressure as the parameter
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/02—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment
    • F17C13/028—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment having the volume as the parameter
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/04—Arrangement or mounting of valves
    • F17C13/045—Automatic change-over switching assembly for bottled gas systems with two (or more) gas containers
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/12—Arrangements or mounting of devices for preventing or minimising the effect of explosion ; Other safety measures
    • F17C13/123—Arrangements or mounting of devices for preventing or minimising the effect of explosion ; Other safety measures for gas bottles, cylinders or reservoirs for tank vehicles or for railway tank wagons
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00—Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/01—Mounting arrangements
    • F17C2205/0123—Mounting arrangements characterised by number of vessels
    • F17C2205/013—Two or more vessels
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2270/00—Applications
    • F17C2270/05—Applications for industrial use
    • F17C2270/0518—Semiconductors

Abstract

ISO탱크용 공급량 제어시스템이 개시된다. 본 발명에 따른 ISO탱크용 공급량 제어시스템는, 반도체 제조용 가스가 대량으로 저장된 복수의 ISO탱크; 복수의 상기 ISO탱크에 각각 연결된 부공급관과 연통되어 반도체 제조설비로 가스를 제공하는 주공급관; 상기 부공급관에 각각 구비되어 상기 ISO탱크에서 송출되는 가스의 유량을 조절하는 복수의 유량제어기; 상기 주공급관에 구비되어 복수의 상기 ISO탱크로부터 반도체 제조설비에 공급되는 실시간 가스 유량과 공급압을 측정하는 센싱부; 반도체 제조설비로 안정적인 가스 공급이 이루어지도록, 상기 주공급관에 연결되어 저장된 가스를 보충적으로 송출하는 백업부; 및 상기 주공급관을 통하여 반도체 제조설비에 설정된 가스 유량이 공급되도록, 상기 센싱부에서 측정된 가스 유량 정보 또는 공급압 정보에 기초하여 상기 유량제어기 및 상기 백업부를 작동제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, ISO탱크별 가스 잔량의 확인 및 조절은 물론, ISO탱크의 교체 주기가 효율적으로 관리될 수 있으며, ISO탱크의 교체나 배관 이상 등이 발생하더라도 반도체 제조설비에 필요한 정량의 가스가 안정적으로 공급될 수 있는 효과가 있다.

Description

ISO탱크용 공급량 제어시스템{SUPPLY CONTROL SYSTEM FOR ISO TANK}
본 발명은, ISO탱크용 공급량 제어시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 반도체 제조용 가스를 대량으로 저장한 복수의 ISO탱크로부터 반도체 제조설비로 안정적인 가스 공급이 이루어지게 하는 공급량 제어시스템에 관한 것이다.
ISO탱크는, 다양한 유체, 특히 화학제품 등과 같은 위험물을 안전하게 저장하고 수송하기 위해 IMO(국제해사기관)과 ISO(국제표준화기구) 등에서 마련한 국제적 규격에 따라 제작 및 운용되는 컨테이너를 말한다.
이러한 ISO탱크는, 대형 트럭이나 트레일러에 탑재되어 용이하게 이송되고, 별도의 기반시설물을 준비하지 않아도 설치 및 적재가 용이하며, 중앙공급방식으로 화학제품을 대량으로 운용할 수 있는 특징으로 인해 물류비와 공급단가를 절감하고 공급에 대한 안정성을 확보하고자 하는 다양한 제조현장에서 점차 그 활용도가 증대되고 있다.
상술한 제조현장 중 특히, 대규모 설비들로 이루어진 반도체 제조공장의 경우, 종래 소량의 실린더 용기단위로 저장된 화학제품을 제공받아 공급캐비닛을 통해 제조설비에 공급하던 방식에서 근래에는 여러 개의 ISO탱크를 하나의 ISO모듈로 구성한 BSGS(Bulk Specialty Gas Supply System) 공급방식으로 대체되고 있다.
이러한 반도체 제조공장의 화학제품 공급방식이 BSGS 방식으로 변경됨으로 인해, 종래 문제되었던 실린더의 반복적인 교체와 오체결 등으로 인한 화학제품 누출이나 실린더 운반시 안전사고 등은 크게 저감되고, 공급캐비닛을 구축하기 위한 설비투자비 또한 절감되는 효과가 있었다.
그러나 반도체 제조공장에 현재 설치된 BSGS는, 여러 개의 ISO탱크를 하나의 공급라인으로 취합하여 반도체 제조설비에 연결하는 수준으로 구축된 경우가 일반적이어서, 제조설비에 제공되는 화학제품의 송출량을 ISO탱크별로 조절하기 어려운 한편, 특정한 ISO탱크를 통해서만 가스의 공급이 이루어지는 등의 문제가 있었다.
또한, 위와 같은 경우, 복수의 ISO탱크에 대한 주기적인 관리가 통합적이고 시스템적으로 이루어지지 못하게 되면, 저장된 화학제품의 소진 시점에 대한 정확한 파악이 어려울 뿐만 아니라 ISO탱크의 교체시점을 작업자가 임의로 조절하기 곤란한 문제가 있었다.
이러한 문제들이 총합되어 만일 여러 개의 ISO탱크가 동시에 교체되어야 하는 경우가 발생하게 되면, 연속적인 화학제품의 공급이 중요한 반도체 공정의 특성상 제조라인 전체가 정지하게 되는 경우가 발생할 수도 있다는 점에서 ISO모듈을 효과적으로 운용할 수 있는 공급시스템의 연구와 개발이 절실히 요구되고 있다.
본 발명의 목적은, 반도체 제조용 가스를 반도체 제조설비에 공급하기 위해 설치된 복수의 ISO탱크에 대하여 탱크별로 송출되는 가스 유량을 조절할 수 있고, 가스 잔량의 확인 및 조절을 통해 교체 주기에 대한 관리가 효율적으로 이루어질 수 있으며, ISO탱크의 교체나 배관 이상 등의 상태에서도 반도체 제조설비에 필요한 정량의 가스를 안정적으로 공급할 수 있는 ISO탱크용 공급량 제어시스템을 제공하는 것이다.
상기 목적은, 반도체 제조용 가스가 대량으로 저장된 복수의 ISO탱크; 복수의 상기 ISO탱크에 각각 연결된 부공급관과 연통되어 반도체 제조설비로 가스를 제공하는 주공급관; 상기 부공급관에 각각 구비되어 상기 ISO탱크에서 송출되는 가스의 유량을 조절하는 복수의 유량제어기; 상기 주공급관에 구비되어 복수의 상기 ISO탱크로부터 반도체 제조설비에 공급되는 실시간 가스 유량과 공급압을 측정하는 센싱부; 반도체 제조설비로 안정적인 가스 공급이 이루어지도록, 상기 주공급관에 연결되어 저장된 가스를 보충적으로 송출하는 백업부; 및 상기 주공급관을 통하여 반도체 제조설비에 설정된 가스 유량이 공급되도록, 상기 센싱부에서 측정된 가스 유량 정보 또는 공급압 정보에 기초하여 상기 유량제어기 및 상기 백업부를 작동제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 ISO탱크용 공급량 제어시스템에 의해 달성된다.
상기 제어부는, 복수의 상기 ISO탱크에 저장된 가스가 서로 다른 유량비로 송출되어 순차적으로 소진되도록 하기 위해, 복수의 상기 유량제어기를 서로 다른 개도율로 작동제어할 수 있다.
복수의 상기 ISO탱크와 상기 백업부에는, 저장된 가스의 잔량을 추정하기 위해, 저장된 가스의 송출에 따라 변하는 상기 ISO탱크와 상기 백업부의 무게를 각각 측정하는 로드셀 및 저장된 가스의 송출에 따라 변하는 상기 ISO탱크와 상기 백업부의 내부 압력을 측정하는 압력센서 중 적어도 어느 하나가 구비될 수 있다.
상기 제어부는, 상기 센싱부에 의해 측정된 가스 유량과 공급압 정보에 이상이 발생한 경우, 이에 대응한 상기 백업부에 의한 가스 보충이 이루어지도록 작동제어할 수 있다.
상기 제어부는, 순차적인 가스 소진에 따라 복수의 상기 ISO탱크 중 어느 하나에 대한 교체가 이루어지는 동안, 이에 대응한 상기 백업부에 의한 가스 보충이 이루어지도록 작동제어할 수 있다.
상기 ISO탱크가, 4개의 제1,2,3,4 탱크로 구성된 경우, 상기 제어부는, 상기 주공급관을 통하여 반도체 제조설비에 공급되도록 설정된 가스 유량을 기준으로, 상기 제1,2,3,4 탱크가 순서대로 40%, 30%, 20%, 10%의 가스 유량을 송출하도록, 상기 유량제어기를 각각 작동제어할 수 있다.
상기 제어부는, 상기 제1 탱크에 저장된 가스의 소진에 따라 상기 제1 탱크에 대한 교체가 이루어지게 되면, 상기 주공급관을 통하여 반도체 제조설비에 공급되도록 설정된 가스 유량을 기준으로, 상기 제1,2,3,4 탱크가 순서대로 10%, 40%, 30%, 20%의 가스 유량을 송출하도록, 상기 유량제어기를 각각 작동제어할 수 있다.
본 발명에 의하면, 부공급관에 구비되어 반도체 제조용 가스가 저장된 복수의 ISO탱크에서 송출되는 가스의 유량을 각각 조절하는 복수의 유량제어기와, 안정적인 가스 공급을 위해 주공급관에 연결되어 가스를 보충적으로 송출하는 백업부가 주공급관의 센싱부를 통해 측정된 실시간 가스 유량과 공급압에 기초하여 제어부에 의해 각각 작동제어됨에 따라, ISO탱크별 가스 잔량의 확인 및 조절은 물론, ISO탱크의 교체 주기가 효율적으로 관리될 수 있으며, ISO탱크의 교체나 배관 이상 등이 발생하더라도 반도체 제조설비에 필요한 정량의 가스가 안정적으로 공급될 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 ISO탱크용 공급량 제어시스템의 전체 구성을 개략적으로 도시한 블록도이다.
도 2는 도 1의 실시예에 의해 ISO탱크에 저장된 가스가 반도체 제조설비에 공급되는 일련의 과정을 단계별로 나타낸 순서도이다.
도 3은 도 1에 도시된 복수의 ISO탱크에 저장된 가스가 순차적으로 소진되도록 서로 다른 유량비로 송출되는 작동상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 3에 따라 반도체 제조설비에 대한 가스 공급 중 이상이 발생한 경우 백업부의 작동상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 도 3에 따른 가스 공급으로 ISO탱크에 대한 교체가 이루어진 후 변경된 유량비로 가스가 송출되는 작동상태를 나타낸 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 ISO탱크용 공급량 제어시스템의 전체 구성을 개략적으로 도시한 블록도이고, 도 2는 도 1의 실시예에 의해 ISO탱크에 저장된 가스가 반도체 제조설비에 공급되는 일련의 과정을 단계별로 나타낸 순서도이고, 도 3은 도 1에 도시된 복수의 ISO탱크에 저장된 가스가 순차적으로 소진되도록 서로 다른 유량비로 송출되는 작동상태를 나타낸 도면이고, 도 4는 도 3에 따른 반도체 제조설비에 대한 가스 공급 중 이상이 발생한 경우 백업부의 작동상태를 나타낸 도면이고, 도 5는 도 3에 따른 가스 공급으로 ISO탱크에 대한 교체가 이루어진 후 변경된 유량비로 가스가 송출되는 작동상태를 나타낸 도면이다.
발명의 설명 및 청구범위 등에서 방향을 지칭하는 상(위쪽), 하(아래쪽), 좌우(옆쪽 또는 측방), 전(정,앞쪽), 후(배,뒤쪽) 등은 권리의 한정의 용도가 아닌 설명의 편의를 위해서 도면 및 구성 간의 상대적 위치를 기준으로 정한 것으로, 3개의 축은 서로 대응되게 회전하여 바뀔 수 있으며, 특별히 다르게 한정하는 경우 외에는 이에 따른다.
본 발명에 따른 ISO탱크용 공급량 제어시스템(100)은, 종래 소량의 실린더 용기단위로 저장된 가스(G,화학제품)를 제공받아 공급캐비닛을 통해 반도체 제조설비(10)로 공급하던 소량의 지점공급방식에 적용되는 것이 아니라 복수의 ISO탱크(110a~110d)를 활용한 대량의 중앙공급방식에 적용되는 시스템으로서, ISO탱크(110a~110d)별로 송출되는 가스 유량(GF)에 대한 개별적인 조절이 가능하고, ISO탱크(110a~110d)의 교체 주기에 대한 효율적인 관리가 가능하며, ISO탱크(110a~110d)의 교체나 배관 이상 등이 발생한 경우에도 반도체 제조설비(10)에 필요한 정량의 가스를 안정적으로 공급하는 기술적 특징이 있다.
이때, ISO탱크(110a~110d)란, 5 내지 8개의 튜브가 상호 연결되어 이루어진 ISO튜브모듈, 하나의 저장공간으로 이루어진 ISO탱크로리 등 그 명칭을 불문하고 대형 트럭이나 트레일러에 탑재되어 이송가능하고, 별도의 기반시설물을 준비하지 않아도 설치장소에 용이하게 적재될 수 있는 내부에 저장공간이 형성된 대용량의 저장용기를 모두 포괄하는 개념으로 이해될 수 있다.
상술한 바와 같은 기능 내지 특징을 구체적으로 구현하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 ISO탱크용 공급량 제어시스템(100)은, 도 1에 도시된 바와 같은, 복수의 ISO탱크(110a~110d), 주공급관(120a), 부공급관(120b), 유량제어기(130a~130d), 센싱부(140), 유량계(142), 백업부(150) 및 제어부(160) 등을 포함한 구성으로 이루어져, 도 2에 도시된 일련의 과정을 단계별로 수행함으로써, 반도체 제조설비(10)에 가스(화학제품)를 안정적으로 공급하게 된다.
여기서 반도체 제조설비(10)란 위험 물질인 케미칼이나 가스 등을 공급받아 기재 표면에 코팅물질을 화학적으로 증착시키는 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비, 증착부위를 식각하는 에칭 장비 또는 식각 부위를 클리닝하는 장비 등일 수 있다.
ISO탱크(110a~110d)는, 일반적으로 부식 및 압력에 강한 스테인리스 스틸로 제작되어 위험물인 반도체 제조용 가스 등을 대량으로 고압 저장하는 원기둥형상의 구성요소로서, 본 발명의 경우 반도체 제조설비(10)에 대한 장기간의 안정적인 가스 공급을 위해 동일한 저장용량의 탱크가 복수개로 구성되어 이루어질 수 있다.
이러한 ISO탱크(110a~110d)에는, 후술하는 바와 같이 부공급관(120b)과 연결되어 저장된 가스를 외부로 반출하는 송출구, 원기둥형상의 가장자리를 지지하는 구조프레임(미도시), 저장된 가스의 잔량을 추정하기 위한 로드셀(112) 및 압력센서(114) 등이 구비될 수 있다.
이때, 로드셀(112)은, 저장된 가스의 잔량을 추정하기 위해 저장된 가스의 송출에 따라 변하는 ISO탱크(110a~110d)의 무게를 측정하는 구성요소로서, ISO탱크(110a~110d)가 놓인 설치면과 ISO탱크(110a~110d) 사이에 위치하는 압전소자 등으로 구성된 다양한 상용 제품일 수 있다.
이러한 로드셀(112)을 이용한 ISO탱크(110a~110d) 내의 가스 잔량 추정은, 로드셀(112)과 전기적으로 연결된 상태로 로드셀(112)에 의해 측정된 ISO탱크(110a~110d)의 무게 정보를 실시간 또는 소정 시간 간격을 두고 전달받은 후술할 제어부(160)에 의해 이루어질 수 있다.
일례로 제어부(160)는, 가스가 만충된 상태일 때 측정된 최초 ISO탱크(110a~110d)의 무게를 기준으로 가스가 송출되는 동안 실시간 측정된 ISO탱크(110a~110d)의 무게를 상호 비교하여 소정 비율로 계산함으로써 ISO탱크(110a~110d) 내에 남은 가스 잔량을 추정할 수 있다.
압력센서(114)는, 상술한 로드셀(112)과 함께 서로 보완적으로 저장된 가스의 잔량을 추정하기 위해 저장된 가스의 송출에 따라 변하는 ISO탱크(110a~110d)의 내부 압력을 측정하는 구성요소로서, ISO탱크(110a~110d)의 내부공간과 연통되도록 설치되어 ISO탱크(110a~110d) 내부의 압력에 따라 소정의 전기적 신호를 생성하는 다양한 상용 제품일 수 있다.
이러한 압력센서(114)를 이용한 ISO탱크(110a~110d) 내의 가스 잔량 추정 또한, 압력센서(114)와 전기적으로 연결된 상태로 압력센서(114)에 의해 측정된 ISO탱크(110a~110d)의 압력 정보를 실시간 또는 소정 시간 간격을 두고 전달받은 후술할 제어부(160)에 의해 이루어질 수 있다.
일례로 제어부(160)는, 가스가 만충된 상태일 때 측정된 최초 ISO탱크(110a~110d)의 압력을 기준으로 가스가 송출되는 동안 실시간 측정된 ISO탱크(110a~110d)의 압력을 상호 비교하여 소정 비율로 계산함으로써 ISO탱크(110a~110d) 내에 남은 가스 잔량을 추정할 수 있다.
주공급관(120a)은, 복수의 ISO탱크(110a~110d)로부터 송출된 가스가 제조설비(10)에 공급되도록, 복수의 ISO탱크(110a~110d)와 제조설비(10) 간을 연결하는 관로에 해당하는 구성요소로서, 구체적으로 도 1에 도시된 바와 같이, ISO탱크(110a~110d)의 송출구와 각각 연결된 복수의 부공급관(120b)과 연통되어 반도체 제조설비(10)로 가스를 제공하게 된다.
이러한 주공급관(120a)은, 소정 길이로 분할된 다수의 관체와, 이들 상호 간을 밀폐되게 연결하는 다수의 VCR(체결구)과, 관체들 사이에 구비되는 레귤레이터 및 수동/자동밸브 등으로 구성될 수 있다.
유량제어기(130a~130d)는, 복수의 ISO탱크(110a~110d)에서 송출되는 가스의 유량(GF)을 각각 개별적으로 조절하기 위해 부공급관(120b)에 각각 구비되는 구성요소로서, 후술할 제어부(160)와 전기적으로 연결된 상태로 제어부(160)의 제어명령에 따라 해당 ISO탱크(110a~110d)에서 송출되는 가스의 유량(GF)을 조절하거나 가스의 송출을 폐쇄하는 작동을 수행하게 된다.
이렇게 복수 개로 구성되는 유량제어기(130a~130d)는, 가스 등의 유체가 유동하는 관로의 단면 크기 즉, 개도율(Opening rate)을 가변시키거나 우회 관로를 가변적으로 형성하는 등의 다양한 방식으로 구현된 상용화된 전자식 제어밸브일 수 있다.
한편, 상술한 유량제어기(130a~130d)는, 부공급관(120b)을 유동하는 가스의 유량(GF)을 측정하는 유량계(142)와 통합된 형태의 상용화된 제품으로 이루어져 제어부(160)에 해당 가스 유량(GF)정보를 송출하도록 구성하는 것이 바람직한데, 이는 도 3에 도시된 바와 같이 ISO탱크(110a~110d)별로 가스가 서로 다른 유량비로 설정되어 송출되는 경우, 해당 유량비에 대응하는 가스의 송출이 이루어지는 지를 확인하기 위함이다.
센싱부(140)는, 반도체 제조설비(10)에 필요한 가스 유량(GF)이 ISO탱크(110a~110d)로부터 정확하게 공급되고 있는 지를 확인하기 위해 주공급관(120a)에 마련되는 구성요소로서, 상술한 유량제어기(130a~130d)에 대한 작동제어에 따라 주공급관(120a)을 통해 반도체 제조설비(10)에 실제로 공급되는 실시간 가스 유량(GF)과 공급압을 측정하는 작동을 수행하게 된다.
이러한 센싱부(140)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 주공급관(120a) 내부를 통해 반도체 제조설비(10)로 유동하는 가스의 양을 측정하는 유량계(142)와, 유량계(142)와 함께 보완적으로 가스 유량(GF)의 이상 여부를 추정하기 위해 주공급관(120a) 내부의 압력을 측정하는 압력센서(144) 등으로 구성될 수 있다.
이때, 유량계(142)는, 차압식, 면적식, 전자식, 초음파 등을 이용한 다양한 방식의 상용화된 제품일 수 있고, 압력센서(144)는 앞서 기술한 바와 같이 주공급관(120a) 내부의 압력에 따라 소정의 전기적 신호를 생성하는 다양한 상용 제품일 수 있다.
상술한 바와 같은 유량계(142)와 압력센서(144)에서 측정된 가스 유량(GF) 정보와 공급압 정보는, 후술할 제어부(160)로 전송되어 상술한 유량제어기(130a~130d)의 오작동이나 고장 또는 배관 연결부 등에 대한 가스 유출 여부 등을 판별하는 데에 활용될 수 있다.
백업부(150)는, 반도체 제조설비(10)로 안정적인 가스 공급이 이루어지도록 하기 위해 마련된 구성요소로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 백업용 ISO탱크(150a), 유량제어기(150b), 로드셀(152) 및 압력센서(154) 등을 포함하여 구성될 수 있다.
여기서 백업용 ISO탱크(150a)는, 반도체 제조설비(10)에 대한 가스 공급에 이상이 발생한 경우 저장된 가스를 송출하게 되는 구성요소로서, 상술한 ISO탱크(110a~110d)와 동일하게 내부에 가스를 저장한 상태로 주공급관(120a)에 연통되도록 설치될 수 있다.
이때, 백업용 ISO탱크(150a)의 저장용량은 상술한 ISO탱크(110a~110d)와 동일할 수 있고, 필요에 따라서는 ISO탱크(110a~110d)의 개수, 반도체 제조설비(10)로 공급되는 가스의 유량(GF) 등을 고려하여 적절하게 변경될 수 있다.
유량제어기(150b)는 백업용 ISO탱크(150a)에서 송출되는 가스의 유량(GF)을 조절하는 구성요소이고, 로드셀(152)은 백업용 ISO탱크(150a)의 무게를 측정하는 구성요소이고, 압력센서(154)는 백업용 ISO탱크(150a)의 내부 압력을 측정하는 구성요소로서, 앞서 설명한 유량제어기(130a~130d), 로드셀(112) 및 압력센서(114)와는 설치 대상만이 다른 동일한 구성일 수 있다.
이러한 백업부(150)는, 후술할 제어부(160)와 전기적으로 연결되어 제어부(160)에 의한 판단과 작동제어에 따라 저장된 가스를 유량제어기(150b)를 통해 주공급관(120a)에 선택적 보충적으로 송출함으로써, 설정된 정량의 가스 유량(GF)을 반도체 제조설비(10)에 안정적으로 공급될 수 있게 된다.
한편, 백업부(150)에 구비되는 로드셀(152)과 압력센서(154)는 상술한 ISO탱크(110a~110d)와 마찬가지로, 백업용 ISO탱크(150a)에 저장된 가스의 잔량을 각각 개별적 보완적으로 추정하기 위해 마련될 수 있다.
제어부(160)는, 상술한 ISO탱크(110a~110d)의 로드셀(112,152) 및 압력센서(114,144,154), 유량제어기(130a~130d), 센싱부(140) 및 백업부(150) 등과 각각 전기적으로 연결된 상태에서 제어전원 내지 신호를 인가하여 그 작동을 제어하고, 측정된 정보나 데이터를 전달받아 처리하는 구성요소로서, PLC(Programable Logic Control) 등과 같은 모듈화된 정보처리유닛, 처리된 정보 등을 표시하는 디스플레이(미도시) 및 사용자 설정을 위한 입력장치(미도시) 등을 포함하여 이루어질 수 있다.
이러한 제어부(160)가 연결된 각 장치를 제어하고 송수신된 데이터 등을 처리하는 일련의 과정 내지 알고리즘은, 정보처리유닛을 통해 읽힐 수 있는 C, C++, JAVA, 기계어 등의 프로그래밍 언어로 코딩됨으로써 이루어질 수 있다.
이때, 코딩되는 제어부(160)에 의한 일련의 연산 및 데이터 처리를 위한 알고리즘은, 당업자 수준에서 다양한 방식 및 형태로 이루어질 수 있는바, 이에 대한 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
다만, 본 발명의 실시예에 따른 제어부(160)가 어떠한 일련의 제어작동을 통해 복수의 ISO탱크(110a~110d)에서 반도체 제조설비(10)로 설정된 가스 유량(GF)을 안정적으로 공급하고 관리하는지에 대하여는 도 2 내지 도 5를 참조하여 이하에서 설명하기로 한다.
먼저, 도 2 도시된 바와 같이 제어부(160)는, 반도체 제조설비(10)에 연속적으로 공급될 가스 유량(GF)을 입력장치를 통해 입력받아 저장하게 된다. 이때, 반도체 제조설비(10)에 연속적으로 공급될 가스 유량(GF)은, 반도체 제조설비(10)의 전체적인 규모나 운용상황 등을 고려하여 작업자에 의해 설정 내지 결정될 수 있다.
일례로, 일주일간 공급된 가스 유량(GF)이 일별로 50,55,50,60,55,55,55라고 할 때(단위는 GPM 또는 LPM), 평균값인 54.28에 안전팩터(1.2)를 곱한 양인 65.14(도 3의 100%GF 참조)를 최종 공급될 가스 유량(GF)으로 설정할 수 있다.
상술한 바와 같이 반도체 제조설비(10)에 공급되도록 설정된 가스 유량(GF)은, 대응되는 가스 공급압으로 변환될 수 있고 사정에 따라 임의로 변경될 수 있는 설정값으로써, 이후 제어부(160)에 의한 제어작동의 기준으로 작용하게 된다.(S100)
다음으로, 반도체 제조설비(10)에 연속적으로 공급될 가스 유량(GF)이 설정되면, 제어부(160)는, 도 2에 도시된 바와 같이, ISO탱크(110a~110d)별 유량비에 따라 각각의 유량제어기(130a~130d)를 작동제어하여 반도체 제조설비(10)에 가스를 공급하게 된다.
이때, ISO탱크(110a~110d)별 유량비는, 도 3에 도시된 바와 같이 4개의 ISO탱크 즉, 제1,2,3,4 탱크(110a~110d)로 구성된 경우, 앞서 반도체 제조설비(10)에 공급되도록 설정된 가스 유량(GF)을 100%라고 할 때, 순서대로 40%, 30%, 20%, 10%의 비율로 가스 공급을 분담하도록 설정될 수 있다.
위와 같이 4개의 ISO탱크(110a~110d)에 각각 저장된 가스를 서로 다른 유량비로 송출하는 이유는, ISO탱크(110a~110d)에 대한 가스의 소진과 교체가 동시에 발생하지 않고 하나씩 순차적으로 이루어지도록 하기 위함이다.
이러한 ISO탱크(110a~110d)의 순차적인 교체로 인해 반도체 제조설비(10)에 대한 가스 공급은 중단 없이 효율적이고 안정적으로 운용될 수 있게 되고, 복수의 ISO탱크(110a~110d)에 대한 유지 관리가 효율적으로 이루어질 수 있게 된다.
상술한 바와 같이 설정된 ISO탱크(110a~110d)별 유량비의 반영은, 제어부(160)가 복수의 유량제어기(130a~130d)를 서로 다른 개도율(Opening rate)로 작동제어함으로써 이루어지게 된다.(S200)
다음으로, 제어부(160)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 센싱부(140)를 통해 주공급관(120a)을 유동하며 반도체 제조설비(10)로 공급되는 가스 유량(GF)과 공급압을 측정하여 모니터링하게 된다. 이때, 센싱부(140)의 측정작동은, 제어부(160)에 의한 작동제어에 따라 실시간 또는 일정 시간 간격마다 수행될 수 있다.(S300)
다음으로, 제어부(160)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 주공급관(120a)을 거쳐 반도체 제조설비(10)에 공급되는 것으로 측정된 가스 유량(GF)과 공급압을 모니터링하는 과정에서 이상 여부 즉, 측정된 가스 유량(GF)(또는 공급압)이 설정된 가스 유량(GF)(또는 공급압)과 일정 범위에서 동일한 지를 판별하게 된다.
여기서 일정범위란, 제조공정의 상황이나 현장 운용에 따라 변경될 수 있는 것으로, 일반적으로는 반도체 제조설비(10)에 공급되도록 설정된 가스 유량(GF)(또는 공급압)을 기준으로 5% 내지 10%의 범위에서 결정될 수 있다.
우선, 본 단계에서 제어부(160)가 측정된 가스 유량(GF)(공급압)이 설정된 가스 유량(GF)(공급압) 보다 일정 범위를 넘어 작은 것으로 판별한 경우, 제어부(160)는, 도 4에 도시된 바와 같이 백업부(150)에 대한 작동제어 즉, 백업용 ISO탱크(150a)에서 부족분(도 4의 15%GF 참조)에 해당하는 가스 유량(GF)이 주공급관(120a)에 보충되도록 백업부(150)의 유량제어기(150b)를 개방하는 작동제어를 수행하게 된다.
이러한 백업부(150)에 대한 작동제어는, 설정된 가스 유량(GF)(공급압) 대비 측정된 가스 유량(GF)(공급압)의 부족분(도 4의 15%GF 참조)이 발생하는 즉시 이루어지게 된다.
다만, 이후에 가스 유량(GF)의 부족이 일시적인 것이 아니라 소정 시간이상(일례로 1분) 지속적으로 발생하는 경우, 제어부(160)는 위와 같은 백업부(150)에 대한 작동제어를 철회하고, ISO탱크(110a~110d)별로 구비된 유량제어기(130a~130d)의 개도율을 증대시키는 작동제어로 전환하여 부족분(도 4의 15%GF 참조)에 해당하는 만큼의 가스 유량(GF)을 주공급관(120a)에 보충하게 된다.
여기서 ISO탱크(110a~110d)별 유량제어기(130a~130d)의 개도율 증대는, 상술한 ISO탱크(110a~110d)별 유량비(40%,30%,20%,10%)에 대응한 비율로(4:3:2:1) 모든 유량제어기(130a~130d)에 대하여 동시에 이루어질 수 있고, 특정한 ISO탱크(110a~110d)에 대하여 우선적인 가스 소진이 요구되는 경우 해당 ISO탱크(110a~110d)의 유량제어기(130a~130d)에 대하여만 개도율을 증대시키는 제어작동이 이루어질 수도 있다.
상술한 바와 같은 가스 유량(GF)의 부족은, 반도체 제조설비(10)에서 발생하는 일시적인 딜레이, 주공급관(120a)이나 부공급관(120b)의 연결부위에서의 오체결 또는 ISO탱크(110a~110d) 자체의 문제, 주변환경의 온도변화 등 다양한 원인에 기인해서 발생할 수 있다.(S410)
위와 반대로, 본 단계에서 제어부(160)가 측정된 가스 유량(GF)(공급압)이 설정된 가스 유량(GF)(공급압) 보다 일정 범위를 넘어 큰 것으로 판별한 경우, 제어부(160)는 ISO탱크(110a~110d)별로 각각 구비된 복수의 유량제어기(130a~130d)에 대한 작동제어를 수행하게 된다.
즉, 제어부(160)는, ISO탱크(110a~110d)별로 구비된 유량제어기(130a~130d)의 개도율을 감소시키는 작동제어를 하여 과공급분에 해당하는 만큼의 가스 유량(GF)이 주공급관(120a)에 송출되는 것을 근본적으로 방지하게 된다.
여기서 ISO탱크(110a~110d)별 유량제어기(130a~130d)의 개도율 감소는, 상술한 ISO탱크(110a~110d)별 유량비(40%,30%,20%,10%)에 대응한 비율로(4:3:2:1) 모든 유량제어기(130a~130d)에 대하여 동시에 이루어질 수 있고, 특정한 ISO탱크(110a~110d)에 대한 가스 소진을 억제할 필요가 있는 경우 해당 ISO탱크(110a~110d)의 유량제어기(130a~130d)에 대하여만 개도율을 감소시키는 제어작동이 이루어질 수도 있다.
상술한 바와 같은 가스 유량(GF)의 과공급 또한, 반도체 제조설비(10)에서 발생하는 작업 상황, 주공급관(120a)이나 부공급관(120b)의 연결부위에서의 오체결 또는 ISO탱크(110a~110d) 자체의 문제, 주변환경의 온도변화 등 다양한 원인에 기인해서 발생할 수 있다.(S420)
이상에서 살펴본 바와 같은 가스 유량(GF)의 보충 및 조절과정이 이루어지게 되면, 제어부(160)는 다시 센싱부(140)를 통해 주공급관(120a)을 유동하며 반도체 제조설비(10)로 공급되는 가스 유량(GF)과 공급압을 측정하여 가스 유량(GF)의 보충 및 조절이 정상적으로 이루어졌는지를 모니터링하게 된다.(S400)
다음으로, 제어부(160)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 ISO탱크(110a~110d)마다 설치된 로드셀(112)과 압력센서(114)를 통해 측정된 ISO탱크(110a~110d)별 무게 정보 및 내부 압력 정보를 실시간 또는 소정 시간 간격을 두고 전달받아 각각의 가스 잔량을 추정 내지 산출한 후 이를 모니터링하는 작동을 수행하게 된다.(S500)
이때, 로드셀(112)을 이용하여 추정되는 가스 잔량은, ISO탱크(110a~110d)에 가스가 만충된 상태일 때 측정된 최초 ISO탱크(110a~110d)의 무게를 기준으로 가스가 송출되는 동안 실시간 측정된 ISO탱크(110a~110d)의 무게를 상호 비교하여 소정의 파라미터를 적용한 비율로 계산함으로써 추정될 수 있다.
또한, 압력센서(114,154)를 이용하여 추정되는 가스 잔량은, ISO탱크(110a~110d)에 가스가 만충된 상태일 때 측정된 최초 ISO탱크(110a~110d)의 압력을 기준으로 가스가 송출되는 동안 실시간 측정된 ISO탱크(110a~110d)의 압력을 상호 비교하여 소정의 파라미터를 적용한 비율로 계산함으로써 추정될 수 있다.
다음으로, 제어부(160)는, 도 2 및 도 5에 도시된 바와 같이 ISO탱크(110a~110d)별 가스 잔량을 모니터링하는 동안 특정한 ISO탱크(110a) 내부의 가스가 소진되었는지를 판별하게 된다.(S600)
이때, 특정한 ISO탱크(110a) 내부의 가스가 소진된 것으로 판별되면, 가스가 소진된 해당 ISO탱크(110a)의 교체가 이루어지게 하는 제어작동을 수행하게 되는데, 일례로 반도체 제조설비(10)의 운용을 위한 중앙시스템(미도시) 또는 담당 작업자에게 해당 ISO탱크(110a)의 교체를 알리는 신호나 알림을 전송하는 등의 작동일 수 있다.(S610)
이러한 제어부(160)의 교체 신호나 알림에 의해 해당 ISO탱크(110a)(제1 탱크)에 대한 교체가 이루어지는 동안, 제어부(160)는 나머지 반도체 제조설비(10)에 대하여 설정된 가스 유량(GF)이 유지될 수 있도록, 추가적인 제어작동을 수행하게 된다.
여기서 제어부(160)에 의한 추가적인 제어작동은, 백업부(150)에 의한 가스 보충이 이루어지도록 백업부(150)를 작동제어함으로써 이루어질 수 있다.
이때, 제어부(160)는 교체 중인 ISO탱크(110a)(제1 탱크)가 분담하던 가스 유량비(일례로, 도 3의 40%GF 참조)를 백업용 ISO탱크(150a)가 대체하여 해당 가스 유량(GF)을 주공급관(120a)에 송출(일례로, 40%GF)하도록 유량제어기(150b)를 작동제어하게 된다.
또한, 위와 달리 제어부(160)에 의한 추가적인 제어작동은, 교체 중인 ISO탱크(110a)(제1 탱크)를 제외한 나머지 ISO탱크(110b~110d)들에 의한 가스 보충이 이루어지도록 작동제어함으로써 이루어질 수도 있다.
이때, 제어부(160)는 교체 중인 ISO탱크(110a)(제1 탱크)가 분담하던 가스 유량비(일례로, 도 3의 40%GF 참조)를 나머지 ISO탱크(110b~110d)가 각각 분담하던 유량비(도 3의 30%GF, 20%GF, 10%GF 참조)에 따라 추가로 더 할당(순서대로 도 3의 30%GF의 경우 20%GF, 20%GF의 경우 13.3%GF, 10%GF의 경우 6.7%)받아 주공급관(120a)에 송출하도록 특정한 유량제어기(130b~130d)의 개도율을 각각 증대시키게 된다.
마지막으로, 제어부(160)는, ISO탱크(110a)(제1 탱크)에 대한 교체가 완료되면, 도 2 및 도 5에 도시된 바와 같이 소정의 ISO탱크(110a~110d)별 유량비에 따라 각각의 유량제어기(130a~130d)를 작동제어하여 반도체 제조설비(10)에 가스를 공급하게 된다.
이때, 소정의 ISO탱크(110a~110d)별 유량비는, 앞서 기술한 도 3과는 다르게 도 5에서 처럼, 4개의 ISO탱크(110a~110d) 즉, 제1,2,3,4 탱크(110a~110d)로 구성된 경우, 교체 완료된 제1 탱크(110a)를 제외하고 나머지 ISO탱크(110b~110d)가 순차로 소진되도록 제어부(160)에 의해 변경될 수 있다.
즉, 제어부(160)는, 주공급관(120a)을 통하여 반도체 제조설비(10)에 공급되도록 설정 내지 결정된 가스 유량(GF,100%GF)을 기준으로, 제1,2,3,4 탱크(110a~110d)가 순서대로 10%, 40%, 30%, 20%의 가스 유량(GF)을 송출하도록 각각의 유량제어기(130a~130d)를 작동제어하게 된다.
위와 같이 4개의 ISO탱크(110a~110d)에 각각 저장된 가스를 도 3과 달리 위와 같이 변경된 유량비로 송출하는 이유는, 2 이상의 ISO탱크(110a~110d)가 동시에 교체되는 것을 막기 위한 것으로, 이로 인해 ISO탱크(110a~110d)에 대한 가스의 소진과 교체가 순서대로 하나씩 이루어지게 됨으로써, 반도체 제조설비(10)에 대한 가스 공급이 중단 없이 효율적이고 안정적으로 운용될 수 있게 된다.
상술한 바와 같이 변경 설정된 ISO탱크(110a~110d)별 유량비의 반영은, 제어부(160)가 복수의 유량제어기(130a~130d)를 서로 다른 개도율로 작동제어함으로써 이루어지게 되고, 이후의 과정은 도 2와 같이 상술한 과정의 반복을 통해 연속적으로 이루어지게 된다.
이상에서 살펴본 바와 같은 제어부(160)의 일련의 제어작동에 따라 본 발명의 ISO탱크용 공급량 제어시스템(100)이 운영됨으로써, 복수의 ISO탱크(110a~110d) 간의 내부 압력 차이에 따른 가스 송출의 불균형 문제, 장기간 불사용 내지 적은 사용으로 인한 일부 ISO탱크(110a~110d) 내 가스의 품질 문제 등은 효과적으로 해소될 수 있게 된다.
앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
10: 반도체 제조설비 G: 가스
GF: 가스 유량
100: ISO탱크용 공급량 제어시스템
110a 내지 110d: ISO탱크, 제1,2,3,4 탱크
112,152: 로드셀 114,144,154: 압력센서
120a: 주공급관 120b: 부공급관
130a 내지 130d: 유량제어기 140: 센싱부
142: 유량계 150: 백업부
150a: 백업용 ISO탱크 150b: 유량제어기
160: 제어부

Claims (7)

  1. 반도체 제조용 가스가 대량으로 저장된 복수의 ISO탱크;
    복수의 상기 ISO탱크에 각각 연결된 부공급관과 연통되어 반도체 제조설비로 가스를 제공하는 주공급관;
    상기 부공급관에 각각 구비되어 상기 ISO탱크에서 송출되는 가스의 유량을 조절하는 복수의 유량제어기;
    상기 주공급관에 구비되어 복수의 상기 ISO탱크로부터 반도체 제조설비에 공급되는 실시간 가스 유량과 공급압을 측정하는 센싱부;
    반도체 제조설비로 안정적인 가스 공급이 이루어지도록, 상기 주공급관에 연결되어 저장된 가스를 보충적으로 송출하는 백업부; 및
    상기 주공급관을 통하여 반도체 제조설비에 설정된 가스 유량이 공급되도록, 상기 센싱부에서 측정된 가스 유량 정보 또는 공급압 정보에 기초하여 상기 유량제어기 및 상기 백업부를 작동제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는,
    복수의 상기 ISO탱크에 저장된 가스가 서로 다른 유량비로 송출되어 순차적으로 소진되도록 하기 위해, 복수의 상기 유량제어기를 서로 다른 개도율로 작동제어하는 것을 특징으로 하는 ISO탱크용 공급량 제어시스템.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    복수의 상기 ISO탱크와 상기 백업부에는,
    저장된 가스의 잔량을 추정하기 위해,
    저장된 가스의 송출에 따라 변하는 상기 ISO탱크와 상기 백업부의 무게를 각각 측정하는 로드셀 및 저장된 가스의 송출에 따라 변하는 상기 ISO탱크와 상기 백업부의 내부 압력을 측정하는 압력센서 중 적어도 어느 하나가 구비되는 것을 특징으로 하는 ISO탱크용 공급량 제어시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 센싱부에 의해 측정된 가스 유량과 공급압 정보에 이상이 발생한 경우, 이에 대응한 상기 백업부에 의한 가스 보충이 이루어지도록 작동제어하는 것을 특징으로 하는 ISO탱크용 공급량 제어시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는,
    순차적인 가스 소진에 따라 복수의 상기 ISO탱크 중 어느 하나에 대한 교체가 이루어지는 동안, 이에 대응한 상기 백업부에 의한 가스 보충이 이루어지도록 작동제어하는 것을 특징으로 하는 ISO탱크용 공급량 제어시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 ISO탱크가, 4개의 제1,2,3,4 탱크로 구성된 경우,
    상기 제어부는,
    상기 주공급관을 통하여 반도체 제조설비에 공급되도록 설정된 가스 유량을 기준으로, 상기 제1,2,3,4 탱크가 순서대로 40%, 30%, 20%, 10%의 가스 유량을 송출하도록, 상기 유량제어기를 각각 작동제어하는 것을 특징으로 하는 ISO탱크용 공급량 제어시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 제1 탱크에 저장된 가스의 소진에 따라 상기 제1 탱크에 대한 교체가 이루어지게 되면,
    상기 주공급관을 통하여 반도체 제조설비에 공급되도록 설정된 가스 유량을 기준으로, 상기 제1,2,3,4 탱크가 순서대로 10%, 40%, 30%, 20%의 가스 유량을 송출하도록, 상기 유량제어기를 각각 작동제어하는 것을 특징으로 하는 ISO탱크용 공급량 제어시스템.
KR1020200120450A 2020-09-18 2020-09-18 Iso탱크용 공급량 제어시스템 KR102437265B1 (ko)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200120450A KR102437265B1 (ko) 2020-09-18 2020-09-18 Iso탱크용 공급량 제어시스템
PCT/US2021/050737 WO2022061029A1 (en) 2020-09-18 2021-09-16 Supply control system for a plurality of tanks
US18/245,341 US20230408034A1 (en) 2020-09-18 2021-09-16 Supply control system for a plurality of tanks
EP21870243.9A EP4196717A1 (en) 2020-09-18 2021-09-16 Supply control system for a plurality of tanks
IL301375A IL301375A (en) 2020-09-18 2021-09-16 Supply control system for a large number of containers
JP2023517943A JP2023542000A (ja) 2020-09-18 2021-09-16 複数のタンク用の供給制御システム
TW110134964A TWI796794B (zh) 2020-09-18 2021-09-17 複數個桶的供應控制系統

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200120450A KR102437265B1 (ko) 2020-09-18 2020-09-18 Iso탱크용 공급량 제어시스템

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220037685A KR20220037685A (ko) 2022-03-25
KR102437265B1 true KR102437265B1 (ko) 2022-08-26

Family

ID=80935379

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200120450A KR102437265B1 (ko) 2020-09-18 2020-09-18 Iso탱크용 공급량 제어시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102437265B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100970833B1 (ko) * 2008-09-01 2010-07-16 주식회사 플로웰 암모니아 가스 공급설비
JP2013130218A (ja) * 2011-12-20 2013-07-04 Kobe Steel Ltd ガス供給方法およびガス供給装置
JP6150839B2 (ja) * 2015-04-14 2017-06-21 本田技研工業株式会社 燃料充填システム及びその燃料充填方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090005172U (ko) * 2007-11-26 2009-05-29 주식회사 케이씨텍 가스 공급장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100970833B1 (ko) * 2008-09-01 2010-07-16 주식회사 플로웰 암모니아 가스 공급설비
JP2013130218A (ja) * 2011-12-20 2013-07-04 Kobe Steel Ltd ガス供給方法およびガス供給装置
JP6150839B2 (ja) * 2015-04-14 2017-06-21 本田技研工業株式会社 燃料充填システム及びその燃料充填方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220037685A (ko) 2022-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6435224B2 (en) Automatic refill system for ultra pure or contamination sensitive chemicals
US9062996B2 (en) Device for supplying the liquid material inside a filling container and method of controlling the liquid level inside the filling container for said liquid material supply device
US10926996B2 (en) Mobile distribution station having adjustable feed network
US20030037836A1 (en) Automatic refill system for ultra pure or contamination sensitive chemicals
BRPI0617737A2 (pt) sistema integrado de transferência e dispensa de material
KR20130086569A (ko) 처리 장치 및 프로세스 상태의 확인 방법
KR102437265B1 (ko) Iso탱크용 공급량 제어시스템
US20090297897A1 (en) Methods for monitoring hydrogen fueling systems
CA3149565A1 (en) Gas supply system having two gas reservoirs connected to a common delivery line
JP2944611B2 (ja) ガス供給装置の制御方法
TWI796794B (zh) 複數個桶的供應控制系統
US11124407B2 (en) Mobile distribution station having onboard fluid storage tank
TWM465965U (zh) 具有定量加料裝置的處理設備
JP7076694B2 (ja) 充填装置
CN116507848A (zh) 用于多个罐的供应控制系统
EP1197823A2 (en) Method and apparatus for the distribution of treatment liquids
KR20230068404A (ko) 재료 공급 시스템
JP2004278674A (ja) バッチ処理システム
JP2023528067A (ja) ガス混合物を送達するためのプラント及び方法
CN103539057A (zh) 一种高危高纯化学液体分配系统
EP0661493B1 (en) Gas charging equipment
CN215489079U (zh) 氨库自动倒罐系统
CN219995087U (zh) 集中式煤油分配系统及变压器制造厂
CN212565323U (zh) 原油储存混输系统
US20210087048A1 (en) Automatic Fueling System And Method For Hydraulic Fracturing Equipments

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant