KR102426654B1 - Conductive paste - Google Patents

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나오미 사토
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가부시키가이샤 아데카
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Abstract

본 발명은 감도, 해상도 및 밀착성이 양호하며 저저항인 도전 페이스트를 제공하는 것으로, 구체적으로는, 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 1종 이상을 포함하는 중합개시제(A), 바인더 수지(B), 에틸렌성 불포화 화합물(C), 도전성 입자(D) 및 용매(E)를 함유하는 도전 페이스트를 제공하는 것이다. 본 발명의 도전성 페이스트에서는, 바람직하게는, 바인더 수지(B)로서, 일반식(II)로 나타내는 에폭시 화합물에, 불포화 1염기산을 부가시킨 구조를 가지는 에폭시 부가 화합물, 또는 상기 에폭시 부가 화합물과 다염기산무수물의 에스테르화물을 이용한다. 일반식(I) 및 (II)에 대해서는 본 명세서에 기재한 바와 같다.The present invention provides a low-resistance conductive paste having good sensitivity, resolution and adhesion, specifically, a polymerization initiator (A) comprising at least one oxime ester compound represented by the general formula (I), a binder resin It is to provide the electrically conductive paste containing (B), an ethylenically unsaturated compound (C), electroconductive particle (D), and a solvent (E). In the electrically conductive paste of this invention, Preferably, as binder resin (B), the epoxy addition compound which has the structure which added unsaturated monobasic acid to the epoxy compound represented by General formula (II), or the said epoxy addition compound and a polybasic acid An esterified anhydride is used. Formulas (I) and (II) are as described herein.

Description

도전 페이스트{CONDUCTIVE PASTE}Conductive paste {CONDUCTIVE PASTE}

본 발명은 특정한 중합개시제를 함유하는 도전 페이스트에 관한 것이다.This invention relates to the electrically conductive paste containing a specific polymerization initiator.

유리, 세라믹, 실리콘 웨이퍼 등의 기판 상에 도전 패턴을 형성하는 방법으로서 포토리소그래피가 알려져 있고, 최근 스마트폰이나 터치 패널 등의 모바일 전자기기에 있어서 소형화, 고정밀화가 요구되고 있다. Photolithography is known as a method of forming a conductive pattern on a substrate such as glass, ceramic, or silicon wafer, and in recent years, miniaturization and high precision are required in mobile electronic devices such as smartphones and touch panels.

특허문헌 1~4에는 각종 도전 페이스트가 개시되어 있지만, 만족할 수 있는 해상도가 얻어지지 않고 있었다. Although various electrically conductive pastes were disclosed by patent documents 1-4, the resolution which can satisfy was not acquired.

일본 공개특허공보 2001-154345호Japanese Patent Laid-Open No. 2001-154345 일본 공개특허공보 2013-101861호Japanese Patent Laid-Open No. 2013-101861 일본 공개특허공보 2013-210498호Japanese Patent Laid-Open No. 2013-210498 일본 특허공보 3620861호Japanese Patent Publication No. 3620861

해결하고자 하는 문제점은 감도, 해상도 및 밀착성이 양호하며 저저항인 도전 페이스트가 지금까지 없었다는 것이다. The problem to be solved is that there has been no conductive paste having good sensitivity, resolution and adhesion, and having a low resistance so far.

따라서, 본 발명의 목적은 감도, 해상도 및 밀착성이 양호하며 저저항인 도전 페이스트를 제공하는 것에 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide an electrically conductive paste having good sensitivity, resolution and adhesion, and low resistance.

본 발명은 하기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 1종 이상을 포함하는 중합개시제(A), 바인더 수지(B), 에틸렌성 불포화 화합물(C), 도전성 입자(D) 및 용매(E)를 함유하는 도전 페이스트를 제공함으로써 상기 목적을 달성한 것이다. The present invention relates to a polymerization initiator (A), a binder resin (B), an ethylenically unsaturated compound (C), conductive particles (D), and a solvent (E) comprising at least one oxime ester compound represented by the following general formula (I) ) to achieve the above object by providing a conductive paste containing.

Figure 112022024758082-pat00001
Figure 112022024758082-pat00001

(식 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13 또는 CN을 나타내고, (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent R 11 , OR 11 , COR 11 , SR 11 , CONR 12 R 13 or CN,

R11, R12 및 R13은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내며,R 11 , R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 2 to carbon atoms 20 represents a heterocycle-containing group,

R11, R12 및 R13으로 나타내는 기의 수소 원자는, 또한 R21, OR21, COR21, SR21, NR22R23, CONR22R23, -NR22-OR23, -NCOR22-OCOR23, NR22COR21, OCOR21, COOR21, SCOR21, OCSR21, COSR21, CSOR21, 수산기, 니트로기, CN, 아미노기, 할로겐 원자 또는 COOR21로 치환되어 있는 경우도 있고, The hydrogen atom of the group represented by R 11 , R 12 and R 13 is further R 21 , OR 21 , COR 21 , SR 21 , NR 22 R 23 , CONR 22 R 23 , -NR 22 -OR 23 , -NCOR 22 - OCOR 23 , NR 22 COR 21 , OCOR 21 , COOR 21 , SCOR 21 , OCSR 21 , COSR 21 , CSOR 21 , hydroxyl group, nitro group, CN, amino group, halogen atom or COOR 21 ,

R21, R22 및 R23은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내며, R 21 , R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 2 to carbon atoms 20 represents a heterocycle-containing group,

R21, R22 및 R23으로 나타내는 기의 수소 원자는, 또한 수산기, 니트로기, CN, 할로겐 원자, 수산기 또는 카르복실기로 치환되어 있는 경우도 있고, A hydrogen atom of the group represented by R 21 , R 22 and R 23 may be further substituted with a hydroxyl group, a nitro group, CN, a halogen atom, a hydroxyl group or a carboxyl group,

R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 나타내는 기 중의 메틸렌기는, -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -NR24-, -NR24COO-, -OCONR24-, -SCO-, -COS-, -OCS- 또는 -CSO-에 의해 산소 원자가 이웃하지 않는 조건으로 1~5회 치환되어 있는 경우도 있으며, The methylene group in the group represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 and R 23 is -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -NR 24 -, -NR 24 COO- , -OCONR 24 -, -SCO-, -COS-, -OCS- or -CSO- may be substituted 1 to 5 times under the condition that the oxygen atom is not adjacent,

R24는 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고, R 24 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms,

R11, R12, R13, R21, R22, R23 및 R24로 나타내는 기가 알킬 부분을 가지는 경우, 상기 알킬 부분은 분기측 쇄를 가지는 경우도 있으며, 환상 알킬인 경우도 있고, When the group represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 , R 23 and R 24 has an alkyl moiety, the alkyl moiety may have a branched chain or may be a cyclic alkyl;

R3은 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내며, R3으로 나타내는 기가 알킬 부분을 가지는 경우, 상기 알킬 부분은 분기측 쇄를 가지는 경우도 있고, 환상 알킬인 경우도 있으며, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, R 3 When the group represented by has an alkyl moiety, the alkyl moiety may have a branched chain or may be cyclic alkyl,

R3으로 나타내는 기의 수소 원자는, 또한 R21, OR21, COR21, SR21, NR22R23, CONR22R23, -NR22-OR23, -NCOR22-OCOR23, NR22COR21, OCOR21, COOR21, SCOR21, OCSR21, COSR21, CSOR21, 수산기, 니트로기, CN, 할로겐 원자 또는 COOR21로 치환되어 있는 경우도 있고, The hydrogen atom of the group represented by R 3 is further R 21 , OR 21 , COR 21 , SR 21 , NR 22 R 23 , CONR 22 R 23 , -NR 22 -OR 23 , -NCOR 22 -OCOR 23 , NR 22 COR 21 , OCOR 21 , COOR 21 , SCOR 21 , OCSR 21 , COSR 21 , CSOR 21 , a hydroxyl group, a nitro group, CN, a halogen atom or COOR 21 may be substituted;

R4, R5, R6 및 R7은, 각각 독립적으로 R11, OR11, SR11, COR14, CONR15R16, NR12COR11, OCOR11, COOR14, SCOR11, OCSR11, COSR14, CSOR11, 수산기, CN 또는 할로겐 원자를 나타내며, R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently R 11 , OR 11 , SR 11 , COR 14 , CONR 15 R 16 , NR 12 COR 11 , OCOR 11 , COOR 14 , SCOR 11 , OCSR 11 , COSR 14 , CSOR 11 , a hydroxyl group, CN or a halogen atom,

또한, R3과 R7, R3과 R8, R4와 R5, R5와 R6 또는 R6과 R7은 각각 함께 환을 형성하고 있는 경우도 있고, In addition, R 3 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 or R 6 and R 7 may each form a ring together,

R14, R15 및 R16은 수소 원자 또는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기를 나타내며, R 14 , R 15 and R 16 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,

R8은 R11, OR11, SR11, COR11, CONR12R13, NR12COR11, OCOR11, COOR11, SCOR11, OCSR11, COSR11, CSOR11, 수산기, CN 또는 할로겐 원자를 나타내고, R 8 is R 11 , OR 11 , SR 11 , COR 11 , CONR 12 R 13 , NR 12 COR 11 , OCOR 11 , COOR 11 , SCOR 11 , OCSR 11 , COSR 11 , CSOR 11 , hydroxyl group, CN or halogen atom indicate,

n은 0 또는 1을 나타낸다.) n represents 0 or 1.)

또한, 본 발명은 상기 도전 페이스트로 이루어지는 도전 패턴을 제공하는 것이다. Moreover, this invention provides the electrically conductive pattern which consists of the said electrically conductive paste.

또한, 본 발명은 상기 도전 페이스트를 기판 상에 도포하는 공정, 건조하는 공정, 마스크를 이용해서 노광하는 공정, 현상하는 공정, 100~300℃에서 소성을 실시하는 공정을 포함하는 도전 패턴의 형성 방법을 제공하는 것이다.In addition, the present invention relates to a method for forming a conductive pattern including a step of applying the conductive paste on a substrate, a step of drying, a step of exposing using a mask, a step of developing, and a step of firing at 100 to 300°C is to provide

또한, 본 발명은 상기 도전 패턴을 구비하는 터치 패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a touch panel including the conductive pattern.

이하, 본 발명의 도전 페이스트에 대해 바람직한 실시형태에 기초하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the electrically conductive paste of this invention is demonstrated in detail based on preferable embodiment.

본 발명의 도전 페이스트는, 상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 1종 이상을 포함하는 중합개시제(A), 바인더 수지(B), 에틸렌성 불포화 화합물(C), 도전성 입자(D) 및 용매(E)를 함유한다. 이하, 각 성분에 대해 순서대로 설명한다. The electrically conductive paste of this invention contains a polymerization initiator (A) containing 1 or more types of the oxime ester compound represented by the said General formula (I), binder resin (B), an ethylenically unsaturated compound (C), and electroconductive particle (D) and solvent (E). Hereinafter, each component is demonstrated in order.

<중합개시제(A)> <Polymerization Initiator (A)>

본 발명에서 이용되는 중합개시제(A)는, 상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 1종 이상을 함유한다. The polymerization initiator (A) used by this invention contains 1 or more types of the oxime ester compound represented by the said General formula (I).

상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물에는, 옥심의 이중 결합에 의한 기하이성체(幾何異性體)가 존재하지만, 이들을 구별하는 것이 아니다. Although the geometric isomer by the double bond of an oxime exists in the oxime ester compound represented by the said General formula (I), these are not distinguished.

즉, 본 명세서에 있어서 상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물 및 그 예시 화합물은 그 화합물에 기하이성체가 존재하는 경우, 양쪽의 혼합물 또는 어느 한쪽을 나타내는 것이며, 본 명세서 중에 명시한 한쪽의 기하이성체에 한정되는 것이 아니다. That is, in the present specification, the oxime ester compound represented by the general formula (I) and the exemplary compound thereof represent a mixture of both or either one when a geometric isomer exists in the compound, and one geometric isomer specified in the present specification. is not limited to

상기 일반식(I) 중의 R3, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R21, R22, R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, s-부틸, t-부틸, 아밀, 이소아밀, t-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, t-옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 이소데실, 운데실, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 옥타데실, 이코실, 시클로펜틸, 시클로펜틸메틸, 시클로펜틸에틸, 시클로헥실, 시클로헥실메틸, 시클로헥실에틸 등을 들 수 있다. As an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 3 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 21 , R 22 , R 23 and R 24 in the general formula (I), , for example methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, octyl, isooctyl, 2-ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, icosyl, cyclopentyl, cyclopentylmethyl, cyclopentylethyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, Cyclohexylethyl, etc. are mentioned.

상기 일반식(I) 중의 R3, R11, R12, R13, R21, R22, R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자 수 6~30의 아릴기로서는, 예를 들면, 페닐, 트릴, 크실릴, 에틸페닐, 나프틸, 안트릴, 페난트레닐, 상기 알킬기에서 1개 이상 치환된페닐, 비페닐일, 나프틸, 안트릴 등을 들 수 있다. Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms represented by R 3 , R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 , R 23 and R 24 in the general formula (I) include phenyl, triyl, , xylyl, ethylphenyl, naphthyl, anthryl, phenanthrenyl, phenyl, biphenylyl, naphthyl, and anthryl substituted with one or more of the above alkyl groups.

상기 일반식(I) 중의 R3, R11, R12, R13, R21, R22, R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기로서는, 예를 들면, 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질, 페닐에틸 등을 들 수 있다. Examples of the arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms represented by R 3 , R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 , R 23 and R 24 in the general formula (I) include benzyl, α -methylbenzyl, α,α-dimethylbenzyl, phenylethyl, and the like.

상기 일반식(I) 중의 R3, R11, R12, R13, R21, R22, R23, 및 R24로 나타내는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기로서는, 예를 들면, 피리딜, 피리미딜, 푸릴, 티에닐, 테트라하이드로푸릴, 디옥소라닐, 벤조옥사졸-2-일, 테트라하이드로피라닐, 피롤리딜, 이미다졸리딜, 피라졸리딜, 티아졸리딜, 이소티아졸리딜, 옥사졸리딜, 이소옥사졸리딜, 피페리딜, 피페라질, 모르폴리닐 등의 5~7원 복소환과 메틸렌쇄를 조합한 기를 들 수 있다. As the heterocyclic-containing group having 2 to 20 carbon atoms represented by R 3 , R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 , R 23 , and R 24 in the general formula (I), for example, Pyridyl, pyrimidyl, furyl, thienyl, tetrahydrofuryl, dioxolanyl, benzoxazol-2-yl, tetrahydropyranyl, pyrrolidyl, imidazolidyl, pyrazolidyl, thiazolidyl, iso The group which combined 5-7 membered heterocyclic ring, such as thiazolidyl, oxazolidyl, isoxazolidyl, piperidyl, piperazyl, morpholinyl, and a methylene chain, is mentioned.

상기 일반식(I) 중의 R3과 R7, R3과 R8, R4와 R5, R5와 R6 또는 R6과 R7이 각각 함께 형성할 수 있는 환으로서는, 예를 들면, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로펜텐환, 벤젠환, 피페리딘환, 모르폴린환, 락톤환, 락탐환 등의 5~7원환을 바람직하게 들 수 있다. As the ring which R 3 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 or R 6 and R 7 each can form together in the general formula (I), for example, 5-7 membered rings, such as a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cyclopentene ring, a benzene ring, a piperidine ring, a morpholine ring, a lactone ring, and a lactam ring, are mentioned preferably.

또한, 상기 일반식(I) 중의 R4, R5, R6, R7 및 R8, 그리고 상기 일반식(I) 중의 R3, R11, R12, R13, R21, R22 및 R23을 치환해도 되는 할로겐 원자로서는, 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다. In addition, R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 in formula (I), and R 3 , R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 and Examples of the halogen atom which may be substituted for R 23 include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

상기 일반식(I) 중의 R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 나타내는 기 중의 메틸렌기는, -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -NR22-, -NR22CO-, -NR22COO-, -OCONR22-, -SCO-, -COS-, -OCS- 또는 -CSO-에 의해 산소 원자가 이웃하지 않는 조건으로 1~5회 치환되어 있어도 되고, 이 때 치환하는 결합기는 1종 또는 2종 이상의 기여도 되며, 연속해서 치환할 수 있는 기의 경우는 2개 이상 연속해서 치환되어 있어도 된다. The methylene group in the group represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 and R 23 in the general formula (I) is -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -NR 22 Even if oxygen atoms are substituted 1 to 5 times by -, -NR 22 CO-, -NR 22 COO-, -OCONR 22 -, -SCO-, -COS-, -OCS- or -CSO- In this case, the bonding group to be substituted may be contributed by one or two or more, and in the case of a group that can be continuously substituted, two or more may be continuously substituted.

또한, 상기 일반식(I) 중의 R3, R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 나타내는 기가 알킬(알킬렌) 부분을 가지는 경우, 이 알킬(알킬렌) 부분은 분기측 쇄를 가지는 경우도 있고, 환상 알킬인 경우도 있다. 환상 알킬로서는, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등의 탄소 원자 수 4~8의 환상 알킬을 들 수 있다. 예를 들면, R3, R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 나타내는 기의 알킬 부분이, 환상 알킬인 기로서는, 시클로부틸메틸, 시클로부틸에틸, 시클로부틸프로필, 시클로부틸부틸, 시클로펜틸메틸, 시클로펜틸에틸, 시클로펜틸프로필, 시클로펜틸부틸, 시클로헥실메틸, 시클로헥실에틸, 시클로헥실프로필, 시클로헥실부틸, 시클로헵틸메틸, 시클로헵틸에틸, 시클로헵틸프로필, 시클로헵틸부틸 등의 탄소 원자 수 5~12의 시클로알킬기 등을 들 수 있다. Further, when the group represented by R 3 , R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 and R 23 in the general formula (I) has an alkyl (alkylene) moiety, the alkyl (alkylene) moiety is It may have a branched chain and may be cyclic alkyl. Examples of the cyclic alkyl include cyclic alkyl having 4 to 8 carbon atoms, such as cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl. For example, as the group in which the alkyl moiety of the group represented by R 3 , R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 and R 23 is cyclic alkyl, cyclobutylmethyl, cyclobutylethyl, cyclobutylpropyl, Cyclobutylbutyl, cyclopentylmethyl, cyclopentylethyl, cyclopentylpropyl, cyclopentylbutyl, cyclohexylmethyl, cyclohexylethyl, cyclohexylpropyl, cyclohexylbutyl, cycloheptylmethyl, cycloheptylethyl, cycloheptylpropyl, cycloheptyl C5-C12 cycloalkyl groups, such as butyl, etc. are mentioned.

따라서, 상기 일반식(I)로 나타내는 화합물의 바람직한 구체적인 예로서는, 이하의 화합물 No.1~No.30을 들 수 있다. 단, 본 발명은 이하의 화합물에 의해 아무런 제한을 받지 않는다. Therefore, as a preferable specific example of the compound represented by the said General formula (I), the following compounds No.1-No.30 are mentioned. However, the present invention is not limited by the following compounds.

Figure 112022024758082-pat00002
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Figure 112022024758082-pat00003
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Figure 112022024758082-pat00004
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상기 일반식(I)로 나타내는 화합물로서는, As a compound represented by the said general formula (I),

R1이 탄소 원자 수 1~12의 직쇄인 알킬기, 탄소 원자 수 5~12의 시클로알킬알킬기인 것이 바람직하고, It is preferable that R 1 is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkylalkyl group having 5 to 12 carbon atoms,

R2가 탄소 원자 수 1~6의 직쇄인 알킬기, 탄소 원자 수 6~10의 아릴기(특히, 페닐기)인 것이 바람직하며, It is preferable that R 2 is a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (especially, a phenyl group),

R3이 탄소 원자 수 1~6의 직쇄인 알킬기, COR21〔R21은 탄소 원자 수 1~6의 알킬기 또는 탄소 원자 수 6~10의 아릴기(특히 페닐기)〕, 수산기, 니트로기, CN, 할로겐 원자 혹은 아미노기로 치환되어 있거나 또는 무치환의 페닐기, 탄소 원자 수 7~10의 아릴알킬기(특히 벤질기)인 것이 바람직하고, R 3 is a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, COR 21 [R 21 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (especially a phenyl group)], a hydroxyl group, a nitro group, CN , a halogen atom or an amino group substituted or unsubstituted phenyl group, preferably an arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms (especially a benzyl group),

R4, R5, R6 또는 R7이 수소 원자, 시아노기, OR11〔R11은 수산기 혹은 카르복실기로 치환되어 있거나 또는 무치환의 탄소 원자 수 1~6의 알킬기〕인 것, 특히 R5가 시아노기, OR11〔R11은 수산기 혹은 카르복실기로 치환되어 있거나 또는 무치환의 탄소 원자 수 1~6의 알킬기〕인 것이 바람직하며, R 4 , R 5 , R 6 or R 7 is a hydrogen atom, a cyano group, OR 11 [R 11 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with a hydroxyl group or a carboxyl group], in particular R 5 is preferably a cyano group, OR 11 [R 11 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with a hydroxyl group or a carboxyl group],

R8이 수소 원자, 탄소 원자 수 1~6의 직쇄인 알킬기인 것이 바람직하다. It is preferable that R< 8 > is a hydrogen atom and a C1-C6 linear alkyl group.

상기 중합개시제(A) 중에서의 상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 함유량의 합계량은, 바람직하게는 30~100질량%, 보다 바람직하게는 50~100질량%이다. The total amount of content of the oxime ester compound represented by the said General formula (I) in the said polymerization initiator (A) becomes like this. Preferably it is 30-100 mass %, More preferably, it is 50-100 mass %.

상기 중합개시제(A)로서는, 상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물 이외의 공지의 중합개시제와 병용할 수도 있다. As said polymerization initiator (A), you can also use together with well-known polymerization initiators other than the oxime ester compound represented by the said General formula (I).

상기 공지의 중합개시제로서는, 아세트페논계 화합물, 벤질계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 비스이미다졸계 화합물, 아크리딘계 화합물, 아실포스핀계 화합물 등을 바람직한 것으로서 예시할 수 있다. Preferred examples of the known polymerization initiator include acetphenone-based compounds, benzyl-based compounds, benzophenone-based compounds, thioxanthone-based compounds, bisimidazole-based compounds, acridine-based compounds, and acylphosphine-based compounds.

상기 아세트페논계 화합물로서는 예를 들면, 디에톡시아세트페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4'-이소프로필-2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시메틸-2-메틸프로피오페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, p-디메틸아미노아세트페논, p-터셔리부틸디클로로아세트페논, p-터셔리부틸트리클로로아세트페논, p-아지드벤잘아세트페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판온-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다. Examples of the acetphenone-based compound include diethoxyacetphenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone. , 2-hydroxymethyl-2-methylpropiophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, p-dimethylaminoacetphenone, p-tert-butyldichloroacetphenone, p -tert-butyltrichloroacetphenone, p-azidebenzalacetphenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropanone- 1,2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n -Butyl ether, benzoin isobutyl ether, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤질계 화합물로서는 벤질 등을 들 수 있다. Benzyl etc. are mentioned as said benzyl type compound.

상기 벤조페논계 화합물로서는 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일 안식향산메틸, 미히라케톤, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드 등을 들 수 있다. Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, o-benzoyl methyl benzoate, mihiraketone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 4-benzoyl-4' -Methyldiphenyl sulfide, etc. are mentioned.

상기 티옥산톤계 화합물로서는, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤 등을 들 수 있다. Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and the like. can be heard

상기 비스이미다졸계 화합물로서는, 헥사아릴비스이미다졸(HABI, 트리아릴-이미다졸의 이량체(二量體)를 이용할 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,4,5,2',4',5'-헥사페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3-메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)-비스이미다졸, 2,5,2',5'-테트라키스(2-클로로페닐)-4,4'-비스(3,4-디메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2,6-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-니트로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-디-o-트릴-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-에톡시페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸 및 2,2'-비스(2,6-디플루오로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 5'-테트라(p-요오드페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐-4,4',5,5'-테트라(m-메톡시페닐)비이미다졸), 2,2'-비스(p-메틸티오페닐)-4,5,4',5'-디페닐-1,1'-비이미다졸, 비스(2,4,5-트리페닐)-1,1'-비이미다졸, 5,5'-테트라(p-클로로나프틸)비이미다졸 등이나 일본 공고특허공보 소45-37377호에 개시되어 있는 1,2'-, 1,4'-, 2,4'-로 공유결합하고 있는 호변이성체(互變異性體), WO00/52529호 공보에 기재된 화합물 등을 들 수 있다. As the bisimidazole-based compound, hexaarylbisimidazole (HABI, a dimer of triaryl-imidazole) can be used, and specifically, for example, 2,2'-bis(2- Chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(4-ethoxycarbonylphenyl)-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2-bromophenyl)-4 ,4',5,5'-tetrakis(4-ethoxycarbonylphenyl)-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5, 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimi Dazole, 2,2'-bis(2,4,6-trichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2 -Bromophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4-dibromophenyl)-4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4,6-tribromophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1 ,2'-biimidazole, 2,4,5,2',4',5'-hexaphenylbisimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,5,4',5 '-Tetraphenylbisimidazole, 2,2'-bis(2-bromophenyl)-4,5,4',5'-tetraphenylbisimidazole, 2,2'-bis(2,4-dichloro Phenyl)-4,5,4',5'-tetraphenylbisimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,5,4',5'-tetrakis(3-methoxyphenyl ) Bisimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,5,4',5'-tetrakis (3,4,5-trimethoxyphenyl)-bisimidazole, 2,5 ,2',5'-tetrakis(2-chlorophenyl)-4,4'-bis(3,4-dimethoxyphenyl)bisimidazole, 2,2'-bis(2,6-dichlorophenyl)- 4,5,4',5'-tetraphenylbisimidazole, 2,2'-bis(2-nitrophenyl)-4,5,4',5'-tetraphenylbisimidazole, 2,2'- Di-o-Tryl-4,5,4',5'-tetraphenylbisimidazole, 2,2'-bis(2-ethoxyphenyl)-4,5,4',5'-tetraphenylbisimi Dazole and 2,2'-bis(2,6-difluorophenyl)-4,5,4',5'-tetraphenylbisimidazole, 5'-tet Ra(p-iodophenyl)biimidazole, 2,2'-bis(o-chlorophenyl-4,4',5,5'-tetra(m-methoxyphenyl)biimidazole), 2,2' -bis(p-methylthiophenyl)-4,5,4',5'-diphenyl-1,1'-biimidazole, bis(2,4,5-triphenyl)-1,1'-bi imidazole, 5,5'-tetra(p-chloronaphthyl)biimidazole, etc. or 1,2'-, 1,4'-, 2,4' disclosed in Japanese Patent Publication No. 45-37377 tautomers covalently bonded with -, compounds described in WO00/52529, and the like.

상기 아크리딘계 화합물로서는, 아크리딘, 9-페닐아크리딘, 9-(p-메틸페닐)아크리딘, 9-(p-에틸페닐)아크리딘, 9-(p-iso-프로필페닐)아크리딘, 9-(p-n-부틸페닐)아크리딘, 9-(p-tert-부틸페닐)아크리딘, 9-(p-메톡시페닐)아크리딘, 9-(p-에톡시페닐)아크리딘, 9-(p-아세틸페닐)아크리딘, 9-(p-디메틸아미노페닐)아크리딘, 9-(p-시아노페닐페닐)아크리딘, 9-(p-클로로페닐)아크리딘, 9-(p-브로모페닐)아크리딘, 9-(m-메틸페닐)아크리딘, 9-(m-n-프로필페닐)아크리딘, 9-(m-iso-프로필페닐)아크리딘, 9-(m-n-부틸페닐)아크리딘, 9-(m-tert-부틸페닐)아크리딘, 9-(m-메톡시페닐)아크리딘, 9-(m-에톡시페닐)아크리딘, 9-(m-아세틸페닐)아크리딘, 9-(m-디메틸아미노페닐)아크리딘, 9-(m-디에틸아미노페닐)아크리딘, 9-(시아노페닐)아크리딘, 9-(m-클로로페닐)아크리딘, 9-(m-브로모페닐)아크리딘, 9-메틸아크리딘, 9-에틸아크리딘, 9-n-프로필아크리딘, 9-iso-프로필아크리딘, 9-시아노에틸아크리딘, 9-하이드록시에틸아크리딘, 9-클로로에틸아크리딘, 9-브로모아크리딘, 9-하이드록시아크리딘, 9-니트로아크리딘, 9-아미노아크리딘, 9-메톡시아크리딘, 9-에톡시아크리딘, 9-n-프로폭시아크리딘, 9-iso-프로폭시아크리딘, 9-클로로에톡시아크리딘, 4,6-비스(디메틸아미노)아크리딘, 10-아세트산아크리딘, 10-메틸아세테이트아크리딘, 3,6-디메틸아크리딘, 7,13-디메틸아크리딘, 7,13-비스(디메틸아미노)아크리딘, 3,6-디메틸-10-아세트산아크리딘, 3,5-디메틸-10-메틸아세테이트아크리딘, 7,13-디메틸-10-아세트산아크리딘, 7,13-디메틸-10-메틸아세테이트아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 2,7-디벤조일-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(α-하이드록시벤질)-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(α-아세톡시벤질)-9-페닐아크리딘, 2,7-디메틸-9-(4-메틸페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(3,4-디메틸-벤조일)-9-(3,4-디메틸페닐)아크리딘, 2,7-비스(α-아세톡시-4-tert-부틸벤질)-9-(4-tert-부틸페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-(3,4-디클로로페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-(4-벤조일페닐)아크리딘, 2,7-비스(2-클로로벤조일)-9-(2-클로로페닐)아크리딘, 2-(α-하이드록시-3-브로모벤질)-6-메틸-9-(3-브로모페닐)아크리딘, 2,5-비스(4-tert-부틸벤조일)-9-(4-tert-부틸페닐)아크리딘, 1,4-비스(2,7-디메틸-9-아크리디닐)벤젠, 2,7-비스(α-페닐아미노카르보닐옥시-3,4-디메틸벤질)-9-(3,4-디메틸페닐)아크리딘 및 2,7-비스(3,5-디메틸-4-하이드록시-4'-플루오로디페닐메틸)-9-(4-플루오로페닐)아크리딘, 9,10-디하이드로아크리딘, 1-메틸아크리딘, 4-메틸아크리딘, 2,3-디메틸아크리딘, 1-페닐아크리딘, 4-페닐아크리딘, 1-벤질아크리딘, 4-벤질아크리딘, 1-클로로아크리딘, 2,3-디클로로아크리딘, 10-부틸-2-클로로아크리딘-9(10H)-온, 10-프로필-2-클로로아크리딘-9(10H)-온, 10-부틸-2-클로로아크리딘-9(10H)-온, 1,2-비스(9-아크리디닐)에탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 1,4-비스(9-아크리디닐)부탄, 1,6-비스(9-아크리디닐)헥산, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,8-비스(9-아크리디닐)옥탄, 1,9-비스(9-아크리디닐)노난, 1,10-비스(9-아크리디닐)데칸, 1,11-비스(9-아크리디닐)운데칸, 1,12-비스(9-아크리디닐)도데칸, 1,14-비스(9-아크리디닐)테트라데칸, 1,16-비스(9-아크리디닐)헥사데칸, 1,18-비스(9-아크리디닐)옥타데칸, 1,20-비스(9-아크리디닐)에이코산, 1,3-비스(9-아크리디닐)-2-티아프로판, 1,5-비스(9-아크리디닐)-3-티아펜탄, 7-메틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-에틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-프로필-벤조〔c〕아크리딘, 7-부틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-펜틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-헥실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헵틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-옥틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-노닐-벤조〔c〕아크리딘, 7-데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-운데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-도데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-트리데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-테트라데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-펜타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헥사데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헵타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-옥타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-노나데실-벤조〔c〕아크리딘, 1,1-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)메탄, 1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에탄, 1,3-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)프로판, 1,4-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)부탄, 1,5-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)펜탄, 1,6-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헥산, 1,7-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헵탄, 1,8-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)옥탄, 1,9-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)노난, 1,10-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)데칸, 1,11-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)운데칸, 1,12-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)도데칸, 1,13-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)트리데칸, 1,14-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)테트라데칸, 1,15-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)펜타데칸, 1,16-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헥사데칸, 1,17-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헵타데칸, 1,18-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)옥타데칸, 1,19-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)노나데칸, 1,20-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에이코산, 7-페닐-벤조〔c〕아크리딘, 7-(2-클로로페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(4-메틸페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(4-니트로페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 1,3-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)벤젠, 1,4-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)벤젠, 7-〔1-프로펜-3-일(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7-〔1-에틸펜틸-(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7-〔8-헵타데세닐-(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7,8-디페닐-1,14-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)테트라데칸, 1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에틸렌, 1-메틸-1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에틸렌, 7-스티릴-벤조〔c〕아크리딘, 7-(1-프로페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(1-펜테닐)-벤조〔c〕아크리딘, 9-(2-피리딜)아크리딘, 9-(3-피리딜)아크리딘, 9-(4-피리딜)아크리딘, 9-(4-피리미디닐)아크리딘, 9-(2-피라진일)아크리딘, 9(5-메틸-2-피라진일)아크리딘, 9-(2-퀴놀리닐)아크리딘, 9-(2-피리딜)-2-메틸-아크리딘, 9-(2-피리딜)-2-에틸아크리딘, 9-(3-피리딜)-2-메틸-아크리딘, 9-(3-피리딜)-2,4-디에틸-아크리딘, 3,6-디아미노-아크리딘술폰산염, 3,6-비스-(디메틸아미노)-아크리딘술폰산염, 3,6-디아미노-10-메틸-아크리디늄클로라이드, 9-아크리딘카르복실산 등을 들 수 있다. Examples of the acridine-based compound include acridine, 9-phenylacridine, 9-(p-methylphenyl)acridine, 9-(p-ethylphenyl)acridine, and 9-(p-iso-propylphenyl). ) acridine, 9- (p-n-butylphenyl) acridine, 9- (p-tert-butylphenyl) acridine, 9- (p-methoxyphenyl) acridine, 9- (p- Toxyphenyl) acridine, 9-(p-acetylphenyl) acridine, 9-(p-dimethylaminophenyl) acridine, 9-(p-cyanophenylphenyl) acridine, 9-(p -Chlorophenyl) acridine, 9- (p-bromophenyl) acridine, 9- (m-methylphenyl) acridine, 9- (m-n-propylphenyl) acridine, 9- (m-iso -Propylphenyl) acridine, 9-(m-n-butylphenyl) acridine, 9-(m-tert-butylphenyl) acridine, 9-(m-methoxyphenyl) acridine, 9-( m-ethoxyphenyl) acridine, 9-(m-acetylphenyl) acridine, 9-(m-dimethylaminophenyl) acridine, 9-(m-diethylaminophenyl) acridine, 9 - (cyanophenyl) acridine, 9- (m-chlorophenyl) acridine, 9- (m-bromophenyl) acridine, 9-methyl acridine, 9-ethyl acridine, 9 -n-propyl acridine, 9-iso-propyl acridine, 9-cyanoethyl acridine, 9-hydroxyethyl acridine, 9-chloroethyl acridine, 9-bromoacridine, 9-hydroxyacridine, 9-nitroacridine, 9-aminoacridine, 9-methoxyacridine, 9-ethoxyacridine, 9-n-propoxyacridine, 9-iso- Propoxyacridine, 9-chloroethoxyacridine, 4,6-bis(dimethylamino)acridine, 10-acridine, 10-methylacetate acridine, 3,6-dimethylacridine Dean, 7,13-dimethylacridine, 7,13-bis(dimethylamino)acridine, 3,6-dimethyl-10-acridine, 3,5-dimethyl-10-methylacetate acridine , 7,13-dimethyl-10-acridine acetate, 7,13-dimethyl-10-methyl acetate acridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis (9- Acridinyl)pentane, 1,3-bis(9-acridinyl)propane, 2,7-dibenzoyl-9-phenylacridine, 2,7-bis(α-hydroxybenzyl)-9-phenyl Acridine, 2,7-bis(α-acetoxybenzyl)-9-phenyl Acridine, 2,7-dimethyl-9-(4-methylphenyl)acridine, 2,7-dimethyl-9-phenylacridine, 2,7-bis(3,4-dimethyl-benzoyl)-9 -(3,4-dimethylphenyl)acridine, 2,7-bis(α-acetoxy-4-tert-butylbenzyl)-9-(4-tert-butylphenyl)acridine, 2,7- Dimethyl-9- (3,4-dichlorophenyl) acridine, 2,7-dimethyl-9- (4-benzoylphenyl) acridine, 2,7-bis (2-chlorobenzoyl) -9- (2 -Chlorophenyl) acridine, 2- (α-hydroxy-3-bromobenzyl) -6-methyl-9- (3-bromophenyl) acridine, 2,5-bis (4-tert- Butylbenzoyl)-9-(4-tert-butylphenyl)acridine, 1,4-bis(2,7-dimethyl-9-acridinyl)benzene, 2,7-bis(α-phenylaminocarbonyl) Oxy-3,4-dimethylbenzyl)-9-(3,4-dimethylphenyl)acridine and 2,7-bis(3,5-dimethyl-4-hydroxy-4′-fluorodiphenylmethyl)- 9-(4-fluorophenyl)acridine, 9,10-dihydroacridine, 1-methylacridine, 4-methylacridine, 2,3-dimethylacridine, 1-phenyla Creidine, 4-phenylacridine, 1-benzylacridine, 4-benzylacridine, 1-chloroacridine, 2,3-dichloroacridine, 10-butyl-2-chloroacridine -9(10H)-one, 10-propyl-2-chloroacridin-9(10H)-one, 10-butyl-2-chloroacridin-9(10H)-one, 1,2-bis( 9-acridinyl)ethane, 1,3-bis(9-acridinyl)propane, 1,4-bis(9-acridinyl)butane, 1,6-bis(9-acridinyl)hexane, 1,7-bis(9-acridinyl)heptane, 1,8-bis(9-acridinyl)octane, 1,9-bis(9-acridinyl)nonane, 1,10-bis(9- Acridinyl)decane, 1,11-bis(9-acridinyl)undecane, 1,12-bis(9-acridinyl)dodecane, 1,14-bis(9-acridinyl)tetradecane , 1,16-bis (9-acridinyl) hexadecane, 1,18-bis (9-acridinyl) octadecane, 1,20-bis (9-acridinyl) eicosane, 1,3- Bis(9-acridinyl)-2-thiapropane, 1,5-bis(9-acridinyl)-3-thiapentane, 7-methyl-benzo [c] acridine, 7-ethyl-benzo [ c] acridine; 7-propyl-benzo [c] acridine, 7-butyl-benzo [c] acridine, 7-pentyl-benzo [c] acridine, 7-hexyl-benzo [c] acridine, 7- Heptyl-benzo [c] acridine, 7-octyl-benzo [c] acridine, 7-nonyl-benzo [c] acridine, 7-decyl-benzo [c] acridine, 7-undecyl -benzo[c]acridine, 7-dodecyl-benzo[c]acridine, 7-tridecyl-benzo[c]acridine, 7-tetradecyl-benzo[c]acridine, 7- pentadecyl-benzo [c] acridine, 7-hexadecyl-benzo [c] acridine, 7-heptadecyl-benzo [c] acridine, 7-octadecyl-benzo [c] acridine, 7-nonadecyl-benzo [c] acridine, 1,1-bis (7-benzo [c] acridinyl) methane, 1,2-bis (7-benzo [c] acridinyl) ethane, 1 ,3-bis(7-benzo[c]acridinyl)propane, 1,4-bis(7-benzo[c]acridinyl)butane, 1,5-bis(7-benzo[c]acridinyl) ) pentane, 1,6-bis (7-benzo [c] acridinyl) hexane, 1,7-bis (7-benzo [c] acridinyl) heptane, 1,8-bis (7-benzo [c] ]acridinyl)octane, 1,9-bis(7-benzo[c]acridinyl)nonane, 1,10-bis(7-benzo[c]acridinyl)decane, 1,11-bis(7 -benzo [c] acridinyl) undecane, 1,12-bis (7-benzo [c] acridinyl) dodecane, 1,13-bis (7-benzo [c] acridinyl) tridecane, 1,14-bis(7-benzo[c]acridinyl)tetradecane, 1,15-bis(7-benzo[c]acridinyl)pentadecane, 1,16-bis(7-benzo[c] Acridinyl)hexadecane, 1,17-bis(7-benzo[c]acridinyl)heptadecane, 1,18-bis(7-benzo[c]acridinyl)octadecane, 1,19-bis (7-benzo [c] acridinyl) nonadecane, 1,20-bis (7-benzo [c] acridinyl) eicosane, 7-phenyl-benzo [c] acridine, 7- (2- Chlorophenyl)-benzo[c]acridine, 7-(4-methylphenyl)-benzo[c]acridine, 7-(4-nitrophenyl)-benzo[c]acridine, 1,3-bis (7-benzo [c] acridinyl) benzene, 1,4-bis (7-benzo [c] acridinyl) benzene, 7- [1-propen-3-yl (benzo [c] acridine) )], 7-[1-ethylpentyl-(benzo[c]acridine)], 7-[8-heptadecenyl-(benzo[c] acridine)], 7,8-diphenyl-1,14-bis(7-benzo[c]acridinyl)tetradecane, 1,2-bis(7-benzo[c]acridinyl)ethylene; 1-methyl-1,2-bis(7-benzo[c]acridinyl)ethylene, 7-styryl-benzo[c]acridine, 7-(1-propenyl)-benzo[c]acrylic acid Dean, 7-(1-pentenyl)-benzo[c]acridine, 9-(2-pyridyl)acridine, 9-(3-pyridyl)acridine, 9-(4-pyridyl) ) acridine, 9- (4-pyrimidinyl) acridine, 9- (2-pyrazinyl) acridine, 9 (5-methyl-2-pyrazinyl) acridine, 9- (2- Quinolinyl) acridine, 9-(2-pyridyl)-2-methyl-acridine, 9-(2-pyridyl)-2-ethylacridine, 9-(3-pyridyl)- 2-Methyl-acridine, 9-(3-pyridyl)-2,4-diethyl-acridine, 3,6-diamino-acridinesulfonate, 3,6-bis-(dimethylamino )-acridinesulfonate, 3,6-diamino-10-methyl-acridinium chloride, and 9-acridinecarboxylic acid.

상기 아실포스핀계 화합물로서는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(Lucirin TPO; BASF사 제품), 이소부티릴-메틸포스핀산메틸에스테르, 이소부티릴-페닐포스핀산메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산메틸에스테르, 2-에틸헥산오일-페닐포스핀산메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산 이소프로필에스테르, p-톨루일-페닐포스핀산메틸에스테르, o-톨루일-페닐포스핀산메틸에스테르, 2,4-디메틸벤조일-페닐포스핀산메틸에스테르, p-3급 부틸벤조일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, 아크릴로일-페닐포스핀산메틸에스테르, 이소부티릴-디페닐포스핀옥사이드, 2-에틸헥산오일-디페닐포스핀옥사이드, o-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, p-3급 부틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 3-피리딜카르보닐-디페닐포스핀옥사이드, 아크릴로일-디페닐포스핀옥사이드, 벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-페닐포스핀산비닐에스테르, 아지포일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-디페닐포스핀옥사이드, p-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, 4-(3급 부틸)-벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2-메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-2-에틸헥산오일-디페닐포스핀옥사이드, 1-메틸-시클로헥산오일-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-페닐포스핀산메틸에스테르 및 피발로일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, 4-옥틸페닐포스핀옥사이드, 테레프탈로일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 1-메틸-시클로헥실 카르보닐디페닐포스핀옥사이드, 버사토일-디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소부톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일) 페닐포스핀옥사이드(Irgacure819; BASF사 제품), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로-3,4,5-트리메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로-3,4,5-트리메톡시벤조일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메톡시-1-나프토일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-클로로-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디옥틸옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소프로폭시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디헥실옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2-프로폭시-4-메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소펜틸옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-4-비페닐일포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-2-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드(CGI403), 6-트리메틸벤조일-에틸-페닐-포스피네이트(SPEEDCURE TPO-L; Lambson사 제품) 등을 들 수 있다. Examples of the acylphosphine-based compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (Lucirin TPO; manufactured by BASF), isobutyryl-methylphosphinate methyl ester, isobutyryl-phenylphosphinate methyl ester, and p Valoyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2-ethylhexanoyl-phenylphosphinic acid methyl ester, pivaloyl-phenylphosphinic acid isopropyl ester, p-toluyl-phenylphosphinic acid methyl ester, o-toluyl-phenylphos Methyl phinate, 2,4-dimethylbenzoyl-phenylphosphinate methyl ester, p-tert-butylbenzoyl-phenylphosphinic acid isopropyl ester, acryloyl-phenylphosphinate methyl ester, isobutyryl-diphenylphosphine Oxide, 2-ethylhexanoyl-diphenylphosphine oxide, o-toluyl-diphenylphosphine oxide, p-tert-butylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 3-pyridylcarbonyl-diphenylphosphine oxide , acryloyl-diphenylphosphine oxide, benzoyl-diphenylphosphine oxide, pivaloyl-phenylphosphine vinyl ester, azifoyl-bis-diphenylphosphine oxide, pivaloyl-diphenylphosphine oxide, p-toluyl-diphenylphosphine oxide, 4-(tertiary butyl)-benzoyl-diphenylphosphine oxide, 2-methylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2-methyl-2-ethylhexanoyl-diphenyl Phosphine oxide, 1-methyl-cyclohexanoyl-diphenylphosphine oxide, pivaloyl-phenylphosphinic acid methyl ester and pivaloyl-phenylphosphinic acid isopropyl ester, 4-octylphenylphosphine oxide, terephthalo 1-bis-diphenylphosphine oxide, 1-methyl-cyclohexyl carbonyldiphenylphosphine oxide, versatoyl-diphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-di Isobutoxyphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide (Irgacure819; manufactured by BASF), bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine Oxide, bis(2,6-dichloro-3,4,5-trimethoxybenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis(2,6-dichloro-3,4,5-trimethoxybenzoyl) )-4-ethoxyphenylphosphine oxide, bis(2-methyl-1-naphthoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis(2-methyl-1-naphthoyl)-4-ethoxyphenyl Phosphine oxide, bis( 2-methyl-1-naphthoyl)-2-naphthylphosphine oxide, bis(2-methyl-1-naphthoyl)-4-propylphenylphosphine oxide, bis(2-methyl-1-naphthoyl)- 2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis(2-methoxy-1-naphthoyl)-4-ethoxyphenylphosphine oxide, bis(2-chloro-1-naphthoyl)-2,5-dimethylphenyl Phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-dioctyloxyphenylphosphine oxide , bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-diisopropoxyphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-dihexyloxyphenylphosphine oxide; Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2-propoxy-4-methylphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-diisopentyloxyphenylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl)phenylphosphine oxide, bis(2,6-dichlorobenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis(2,6-dichlorobenzoyl)-phenylphosphine oxide, bis( 2,6-dichlorobenzoyl)-4-biphenylylphosphine oxide, bis(2,6-dichlorobenzoyl)-4-propylphenylphosphine oxide, bis(2,6-dichlorobenzoyl)-2-naphthylphos Pinoxide, bis(2,6-dichlorobenzoyl)-1-naphthylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide (CGI403), 6- trimethylbenzoyl-ethyl-phenyl-phosphinate (SPEEDCURE TPO-L; Lambson's product) etc. are mentioned.

상기 중합개시제(A)의 함유량은, 본 발명의 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 0.1~10질량부인 것이 바람직하고, 0.5~5질량부인 것이 바람직하다. 또한 고형분이란, 어떤 성분 중, 용매를 제외한 성분을 의미한다. 이하의 설명에서 동일하다.It is preferable that it is 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of solid content of the electrically conductive paste of this invention, and, as for content of the said polymerization initiator (A), it is preferable that it is 0.5-5 mass parts. In addition, solid content means the component except a solvent among certain components. It is the same in the following description.

<바인더 수지(B)> <Binder resin (B)>

바인더 수지로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌 등의 폴리올레핀계 폴리머; 폴리부타디엔, 폴리이소프렌 등의 디엔계 폴리머; 폴리아세틸렌계 폴리머, 폴리페닐렌계 폴리머 등의 공역 폴리엔 구조를 가지는 폴리머; 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 아세트산비닐, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산에스테르, 폴리아크릴아미드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리비닐페놀 등의 비닐 폴리머; 폴리페닐렌에테르, 폴리옥시란, 폴리옥세탄, 폴리테트라하이드로푸란, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아세탈 등의 폴리에테르; 노볼락 수지, 레졸 수지 등의 페놀 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리페놀프탈레인테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 알키드 수지, 불포화 폴리에스테르 수지 등의 폴리에스테르; 나일론-6, 나일론66, 수용성 나일론, 폴리페닐렌아미드 등의 폴리아미드; 젤라틴, 카제인 등의 폴리펩티드; 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀 에폭시 수지, 노볼락 에폭시 아크릴레이트 및 산무수물에 의해 변성 수지 등의 에폭시 수지 및 그 변성물; 폴리우레탄, 폴리이미드, 멜라민 수지, 요소 수지, 폴리이미다졸, 폴리옥사졸, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리술피드, 폴리술폰, 셀룰로오스류 등을 들 수 있다. As binder resin, For example, polyolefin polymers, such as polyethylene, a polypropylene, and polyisobutylene; diene-based polymers such as polybutadiene and polyisoprene; polymers having a conjugated polyene structure such as polyacetylene-based polymers and polyphenylene-based polymers; vinyl polymers such as polyvinyl chloride, polystyrene, vinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, polyacrylamide, polyacrylonitrile, and polyvinylphenol; polyethers such as polyphenylene ether, polyoxirane, polyoxetane, polytetrahydrofuran, polyether ketone, polyether ether ketone, and polyacetal; phenol resins such as novolac resins and resol resins; polyesters such as polyethylene terephthalate, polyphenolphthalein terephthalate, polycarbonate, alkyd resin, and unsaturated polyester resin; polyamides such as nylon-6, nylon 66, water-soluble nylon, and polyphenylenamide; polypeptides such as gelatin and casein; epoxy resins such as novolac epoxy resins, bisphenol epoxy resins, novolac epoxy acrylates and resins modified with acid anhydrides and modified products thereof; Polyurethane, polyimide, melamine resin, urea resin, polyimidazole, polyoxazole, polypyrrole, polyaniline, polysulfide, polysulfone, cellulose, etc. are mentioned.

상기 바인더 수지(B)의 중량평균 분자량(Mw)은, 겔투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 폴리스티렌 환산한 것으로, 바람직하게는 1,000~500,000, 보다 바람직하게는 2,000~200,000, 가장 바람직하게는 3,000~100,000이다. 바인더 수지의 Mw가 1,000 미만에서는 막의 내열성이 저하하는 경향이 있고, 또한 500,000을 초과하면, 막의 현상성이나 도포성이 저하하는 경향이 있다. 또한, 상기 바인더 수지(B)의 산가는 바람직하게는 30~300㎎KOH/g이다. 산가의 값이 30㎎KOH/g 미만이면, 현상성이 나빠지는 우려가 있고, 산가의 값이 300㎎KOH/g 초과이면, 수지의 열화가 진행될 우려가 있다. The weight average molecular weight (Mw) of the binder resin (B) is in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC), preferably 1,000 to 500,000, more preferably 2,000 to 200,000, most preferably 3,000 to 100,000. When the Mw of the binder resin is less than 1,000, the heat resistance of the film tends to decrease, and when it exceeds 500,000, the developability and applicability of the film tend to decrease. In addition, the acid value of the binder resin (B) is preferably 30 to 300 mgKOH/g. When the value of an acid value is less than 30 mgKOH/g, there exists a possibility that developability may worsen, and when the value of an acid value is more than 300 mgKOH/g, there exists a possibility that deterioration of resin may progress.

상기 바인더 수지(B)로서는, 하기 일반식(II)로 나타내는 에폭시 화합물에, 불포화 1염기산을 부가시킨 구조를 가지는 에폭시 부가 화합물, 또는 상기 에폭시 부가 화합물과 다염기산무수물의 에스테르화물이, 감도 및 해상도가 높으므로 바람직하다. As the binder resin (B), an epoxy addition compound having a structure in which an unsaturated monobasic acid is added to an epoxy compound represented by the following general formula (II), or an ester product of the epoxy addition compound and a polybasic acid anhydride, has sensitivity and resolution is high, so it is preferable.

Figure 112022024758082-pat00005
Figure 112022024758082-pat00005

(식 중, M은 직접 결합, 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기, 탄소 원자 3~30의 지환식 탄화수소기, 탄소 원자 수 6~12의 아릴기, O, S, SO2, SS, SO, CO, OCO 또는 하기 일반식(II-1), (II-2) 혹은 (II-3)으로 나타내는 기를 나타내고, R101, R102, R103, R104, R105, R106, R107 및 R108은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내며, s는 0~10의 수를 나타낸다.) (Wherein, M is a direct bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, O, S, SO 2 , SS, SO , CO, OCO or a group represented by the following general formula (II-1), (II-2) or (II-3), R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , R 105 , R 106 , R 107 and R 108 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and s represents a number from 0 to 10.)

Figure 112022024758082-pat00006
Figure 112022024758082-pat00006

(R109, R110, R111, R112, R113, R114, R115, R116, R117, R118, R119, R120, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 및 R132는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 아릴알킬기 중의 메틸렌기는 불포화 결합, -O- 또는 -S-에 의해 산소 원자가 이웃하지 않는 조건으로 치환되어 있는 경우도 있으며, R109, R110, R111, R112, R117, R118, R119, R120, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 및 R132는, 인접하는 R109, R110, R111, R112, R117, R118, R119, R120, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 또는 R132끼리 환을 형성하고 있는 경우도 있다. *는 *부분에서 인접하는 기와 결합하는 것을 의미한다.) (R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 113 , R 114 , R 115 , R 116 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 121 , R 122 , R 123 , R 124 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 and R 132 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or carbon represents an aryl group having 6 to 20 atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom, and the methylene group in the alkyl group and the arylalkyl group is an unsaturated bond, -O Oxygen atoms may be substituted by - or -S- on condition that they are not adjacent, R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 and R 132 are adjacent R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 or R 132 may form a ring with each other. * means bonding with an adjacent group at the * part.)

상기 일반식(II) 중의 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기로서는, 직쇄의 알킬렌으로서는, -(CH2)1-4-로 나타내는 것을 들 수 있고, Examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms in the general formula (II) include those represented by -(CH 2 ) 1-4 - as the straight-chain alkylene,

분기(分岐)의 알킬렌으로서는, 1-메틸메탄-1,1-디일, 1-에틸메탄-1,1-디일, 1-프로필메탄-1,1-디일, 1-메틸에탄-1,2-디일, 1-에틸에탄-1,2-디일, 1-메틸프로판-1,3-디일 등을 들 수 있다. Examples of branched alkylene include 1-methylmethane-1,1-diyl, 1-ethylmethane-1,1-diyl, 1-propylmethane-1,1-diyl, 1-methylethane-1,2 -diyl, 1-ethylethane-1,2-diyl, 1-methylpropane-1,3-diyl, etc. are mentioned.

상기 일반식(II) 중의 탄소 원자 3~30의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 시클로데카닐, 1-아다만틸, 2-아다만틸, 노르아다만틸, 2-메틸아다만틸, 노르보르닐, 이소노르보르닐, 퍼하이드로나프틸, 퍼하이드로안트라세닐, 비시클로[1.1.0]부틸, 비시클로[1.1.1]펜틸, 비시클로[2.1.0]펜틸, 비시클로[3.1.0]헥실, 비시클로[2.1.1]헥실, 비시클로[2.2.0]헥실, 비시클로[4.1.0]헵틸, 비시클로[3.2.0]헵틸, 비시클로[3.1.1]헵틸, 비시클로[2.2.1]헵틸, 비시클로[5.1.0]옥틸, 비시클로[4.2.0]옥틸, 비시클로[4.1.1]옥틸, 비시클로[3.3.0]옥틸, 비시클로[3.2.1]옥틸, 비시클로[2.2.2]옥틸, 스피로[4,4]노나닐, 스피로[4,5]데카닐, 데칼린, 트리시클로데카닐, 테트라시클로도데카닐, 세드롤, 시클로도데카닐 등을 들 수 있다. Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms in the general formula (II) include cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclodecanyl, 1-adamantyl, 2-adamantyl, and noradamane. tyl, 2-methyladamantyl, norbornyl, isonorbornyl, perhydronaphthyl, perhydroanthracenyl, bicyclo[1.1.0]butyl, bicyclo[1.1.1]pentyl, bicyclo[2.1 .0]pentyl, bicyclo[3.1.0]hexyl, bicyclo[2.1.1]hexyl, bicyclo[2.2.0]hexyl, bicyclo[4.1.0]heptyl, bicyclo[3.2.0]heptyl, Bicyclo[3.1.1]heptyl, bicyclo[2.2.1]heptyl, bicyclo[5.1.0]octyl, bicyclo[4.2.0]octyl, bicyclo[4.1.1]octyl, bicyclo[3.3. 0]octyl, bicyclo[3.2.1]octyl, bicyclo[2.2.2]octyl, spiro[4,4]nonanyl, spiro[4,5]decanyl, decalin, tricyclodecanyl, tetracyclodo decanyl, cedrol, cyclododecanyl, and the like.

상기 일반식(II) 중의 R101, R102, R103, R104, R105, R106, R107 및 R108로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, M으로 나타내는 탄소 원자 수 6~12의 아릴기, 상기 일반식(II-1), (II-2) 또는 (II-3) 중의 R109, R110, R111, R112, R113, R114, R115, R116, R117, R118, R119, R120, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 및 R132로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기 및 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기로서는, 각각 상기 일반식(I)의 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 설명 중에서 예시한 기 중, 소정의 탄소 원자 수를 충족시키는 기를 들 수 있다. R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , R 105 , R 106 , R 107 and R 108 in the general formula (II) represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and M represented by 6 to 12 carbon atoms. of an aryl group, R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 113 , R 114 , R 115 , R 116 , R in Formula (II-1), (II-2) or (II-3) Carbon atoms represented by 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 121 , R 122 , R 123 , R 124 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 and R 132 . Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the aryl group having 6 to 20 carbon atoms, the arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms and the heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms are the carbon atoms of the general formula (I). A predetermined number of carbon atoms among the groups exemplified in the description of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms. There are groups that satisfy

상기 일반식(II) 중의 R101, R102, R103, R104, R105, R106, R107 및 R108로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기, 상기 일반식(II-1), (II-2) 또는 (II-3) 중의 R109, R110, R111, R112, R113, R114, R115, R116, R117, R118, R119, R120, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 및 R132로 나타내는 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기로서는, 메틸옥시, 에틸옥시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, 제2부틸옥시, 제3부틸옥시, 이소부틸옥시, 아밀옥시, 이소아밀옥시, 제3아밀옥시, 헥실옥시, 시클로헥실옥시, 헵틸옥시, 이소헵틸옥시, 제3헵틸옥시, n-옥틸옥시, 이소옥틸옥시, 제3옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 노닐옥시, 데실옥시 등을 들 수 있다. An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , R 105 , R 106 , R 107 and R 108 in the general formula (II), the general formula (II-1) R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 113 , R 114 , R 115 , R 116 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R in (II-2) or (II-3) Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms represented by 121 , R 122 , R 123 , R 124 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 and R 132 include methyloxy; Ethyloxy, propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, sec-butyloxy, tert-butyloxy, isobutyloxy, amyloxy, isoamyloxy, tertiary amyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, heptyloxy , isoheptyloxy, tertiary heptyloxy, n-octyloxy, isooctyloxy, tertiary octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, and the like.

상기 일반식(II-1), (II-2) 또는 (II-3) 중의 R109, R110, R111, R112, R117, R118, R119, R120, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 및 R132는, 인접하는 R109, R110, R111, R112, R117, R118, R119, R120, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 또는 R132끼리 형성할 수 있는 환으로서는, 상기 일반식(I) 중의 R3과 R7, R3과 R8, R4와 R5, R5와 R6 또는 R6과 R7이 각각 함께 형성할 수 있는 환과 동일한 환을 들 수 있다. R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 125 , R 126 in Formula (II-1), (II-2) or (II-3) , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 and R 132 are adjacent R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 or R 132 may form a ring between R 3 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R in the general formula (I). 5 , R 5 and R 6 , or R 6 and R 7 may each form the same ring together.

상기 일반식(II)로 나타내는 에폭시 화합물로서는, M이 상기 일반식(II-1)~ (II-3)으로 나타내는 기인 화합물, R101, R102, R103, R104, R105, R106, R107 또는 R108이 수소 원자인 화합물이 바람직하다. Examples of the epoxy compound represented by the general formula (II) include a compound in which M is a group represented by the general formulas (II-1) to (II-3), R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , R 105 , R 106 , R 107 or R 108 is a hydrogen atom.

상기 일반식(II)로 나타내는 에폭시 화합물에 작용시키는 상기 불포화 1염기산으로서는, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 계피산, 소르빈산, 하이드록시에틸메타크릴레이트·말레이트(maleate), 하이드록시에틸아크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필메타크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필아크릴레이트·말레이트, 디시클로펜타디엔·말레이트 등을 들 수 있고, 특히 아크릴산 및 메타크릴산이 바람직하다. As said unsaturated monobasic acid made to act on the epoxy compound represented by the said general formula (II), acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, sorbic acid, hydroxyethyl methacrylate maleate, hydroxyethyl acrylic acid lactate maleate, hydroxypropyl methacrylate maleate, hydroxypropyl acrylate maleate, dicyclopentadiene maleate, etc. are mentioned, Especially, acrylic acid and methacrylic acid are preferable.

또한, 상기 불포화 1염기산을 작용시킨 후에 작용시키는 상기 다염기산무수물로서는, 비페닐테트라카르복실산2무수물, 테트라하이드로무수프탈산, 무수숙신산, 비프탈산무수물, 무수말레산, 트리멜리트산무수물, 피로멜리트산무수물, 2,2'-3,3'-벤조페논테트라카르복실산무수물, 에틸렌글리콜비스안하이드로트리멜리테이트, 글리세롤트리스안하이드로트리멜리테이트, 헥사하이드로무수프탈산, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 나딕산무수물, 메틸나딕산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 도데세닐무수숙신산, 무수메틸히믹산 등을 들 수 있고, 특히 비프탈산무수물, 테트라하이드로무수프탈산, 무수숙신산이 바람직하다. Further, as the polybasic acid anhydride to be acted upon after the unsaturated monobasic acid has been reacted, biphenyltetracarboxylic dianhydride, tetrahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, biphthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromelli Tonic anhydride, 2,2'-3,3'-benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bisanhydrotrimellitate, glycerol trisanhydrotrimellitate, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, Na Dixic anhydride, methylnadic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuryl)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxyl acid anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride-maleic anhydride adduct, dodecenyl succinic anhydride, methylhimic anhydride, etc. are mentioned, and nonphthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and succinic anhydride are especially preferable.

상기 에폭시 화합물, 상기 불포화 1염기산 및 상기 다염기산무수물의 반응 몰비는, 다음과 같이 하는 것이 바람직하다. It is preferable that the reaction molar ratio of the said epoxy compound, the said unsaturated monobasic acid, and the said polybasic acid anhydride is carried out as follows.

즉, 상기 에폭시 부가 화합물은 상기 에폭시 화합물의 에폭시기 1개에 대하여, 상기 불포화 1염기산의 카르복실기가 0.1~1.0개의 비율, 특히 0.4~1.0개의 비율이 되도록 부가시키는 것이 바람직하고, 또한 상기 에틸렌성 불포화 화합물은 상기 에폭시 부가물의 수산기 1개에 대하여, 상기 다염기산무수물의 산무수물 구조가 0.1~1.0개가 되는 비율, 특히 0.4~1.0개의 비율이 되도록 하는 것이 바람직하다. That is, the epoxy addition compound is preferably added such that the carboxyl groups of the unsaturated monobasic acid are 0.1 to 1.0, particularly 0.4 to 1.0, with respect to one epoxy group of the epoxy compound, and the ethylenically unsaturated The compound preferably has a ratio of 0.1 to 1.0, particularly 0.4 to 1.0, of the acid anhydride structure of the polybasic acid anhydride with respect to one hydroxyl group of the epoxy adduct.

상기 에폭시 화합물, 상기 불포화 1염기산 및 상기 다염기산무수물의 반응은 통상의 방법에 따라서 실시할 수 있다. Reaction of the said epoxy compound, the said unsaturated monobasic acid, and the said polybasic acid anhydride can be performed according to a conventional method.

상기 바인더 수지(B)는 본 발명의 도전 페이스트 100질량부에 대하여 고형분 환산으로 1~50질량부인 것이 바람직하고, 10~30질량부인 것이 보다 바람직하다. 또한, 고형분 환산이란 용매를 제외해서 환산하는 것을 의미한다. 이하의 설명에 있어서 동일하다. It is preferable that it is 1-50 mass parts in conversion of solid content with respect to 100 mass parts of electrically conductive pastes of this invention, and, as for the said binder resin (B), it is more preferable that it is 10-30 mass parts. In addition, conversion of solid content means removing a solvent and converting. It is the same in the following description.

<에틸렌성 불포화 화합물(C)> <Ethylenic unsaturated compound (C)>

에틸렌성 불포화 화합물(C)이란, 구조 중에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물을 의미하고, 이러한 화합물로서는, 예를 들면, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 이소부틸렌, 염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐리덴, 테트라플루오로에틸렌 등의 불포화 지방족 탄화수소; (메타)아크릴산, α-클로로아크릴산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산, 푸마르산, 히믹산, 크로톤산, 이소크로톤산, 비닐아세트산, 알릴아세트산, 계피산, 소르빈산, 메사콘산, 숙신산모노[2-아크릴로일록시에틸], 프탈산모노[2-아크릴로일록시에틸], ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 가지는 폴리머의 모노아크릴레이트, 숙신산모노[2-메타크릴로일록시에틸], 프탈산모노[2-메타크릴로일록시에틸], ω-카르복시폴리카프로락톤모노메타크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 가지는 폴리머의 모노아크릴레이트 또는 메타크릴레이트; 하이드록시에틸아크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필아크릴레이트·말레이트, 디시클로펜타디엔·말레이트 혹은 1개의 카르복실기와 2개 이상의 아크릴로일기를 가지는 다관능 아크릴레이트, 하이드록시에틸메타크릴레이트·말레이트, 하이드록시프로필메타크릴레이트·말레이트, 디시클로펜타디엔·말레이트 혹은 1개의 카르복실기와 2개 이상의 메타크릴로일기를 가지는 다관능 메타크릴레이트 등의 불포화 다염기산; 아크릴산-2-하이드록시에틸, 아크릴산-2-하이드록시프로필, 아크릴산글리시딜, 메타크릴산-2-하이드록시에틸, 메타크릴산-2-하이드록시프로필, 메타크릴산글리시딜, 하기 화합물 No.A1~No.A4, 아크릴산메틸, 아크릴산부틸, 아크릴산이소부틸, 아크릴산-t-부틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산n-옥틸, 아크릴산이소옥틸, 아크릴산이소노닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산라우릴, 아크릴산메톡시에틸, 아크릴산디메틸아미노메틸, 아크릴산디메틸아미노에틸, 아크릴산아미노프로필, 아크릴산디메틸아미노프로필, 아크릴산에톡시에틸, 아크릴산 폴리(에톡시)에틸, 아크릴산부톡시에톡시에틸, 아크릴산에틸헥실, 아크릴산페녹시에틸, 아크릴산테트라하이드로푸릴, 아크릴산비닐, 아크릴산알릴, 아크릴산벤질, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸올디아크릴레이트, 트리[아크릴로일에틸]이소시아누레이트, 폴리에스테르아크릴레이트올리고머, 메타크릴산메틸, 메타크릴산부틸, 메타크릴산이소부틸, 메타크릴산-t-부틸, 메타크릴산시클로헥실, 메타크릴산n-옥틸, 메타크릴산이소옥틸, 메타크릴산이소노닐, 메타크릴산스테아릴, 메타크릴산라우릴, 메타크릴산메톡시에틸, 메타크릴산디메틸아미노메틸, 메타크릴산디메틸아미노에틸, 메타크릴산아미노프로필, 메타크릴산디메틸아미노프로필, 메타크릴산에톡시에틸, 메타크릴산폴리(에톡시)에틸, 메타크릴산부톡시에톡시에틸, 메타크릴산에틸헥실, 메타크릴산페녹시에틸, 메타크릴산테트라하이드로푸릴, 메타크릴산비닐, 메타크릴산알릴, 메타크릴산벤질, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 트리메틸올에탄트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸올디메타크릴레이트, 트리[메타크릴로일에틸]이소시아누레이트, 폴리에스테르메타크릴레이트올리고머 등의 불포화 1염기산 및 다가알코올 또는 다가페놀의 에스테르; 아크릴산아연, 아크릴산마그네슘, 메타크릴산아연, 메타크릴산마그네슘 등의 불포화 다염기산의 금속염; 말레산무수물, 이타콘산무수물, 시트라콘산무수물, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 테트라하이드로무수프탈산, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 도데세닐무수숙신산, 무수메틸히믹산 등의 불포화 다염기산의 산무수물; 아크릴아미드, 메틸렌비스-아크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스아크릴아미드, 크실릴렌비스아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸아크릴아미드, 메타크릴아미드, 메틸렌비스-메타크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스메타크릴아미드, 크실릴렌비스메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 1염기산 및 다가 아민의 아미드; 아크롤레인 등의 불포화 알데히드; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴, 시안화 알릴 등의 불포화 니트릴; 스티렌, 4-메틸스티렌, 4-에틸스티렌, 4-메톡시스티렌, 4-하이드록시스티렌, 4-클로로스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, 비닐안식향산, 비닐페놀, 비닐술폰산, 4-비닐벤젠술폰산, 비닐벤질메틸에테르, 비닐벤질글리시딜에테르 등의 불포화 방향족 화합물; 메틸비닐케톤 등의 불포화 케톤; 비닐아민, 알릴아민, N-비닐피롤리돈, 비닐피페리딘 등의 불포화 아민 화합물; 알릴 알코올, 클로틸알코올 등의 비닐알코올; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 비닐에테르; 말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공역 디엔류; 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기를 가지는 매크로 모노머류, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노메타크릴로일기를 가지는 매크로 모노머류; 비닐클로라이드, 비닐리덴클로라이드, 디비닐숙시네이트, 디알릴프탈레이트, 트리알릴포스페이트, 트리알릴이소시아누레이트, 비닐티오에테르, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸린, 비닐카르바졸, 비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 수산기 함유 비닐모노머 및 폴리이소시아네이트 화합물의 비닐우레탄 화합물, 수산기 함유 비닐모노머 및 폴리에폭시 화합물의 비닐에폭시 화합물을 들 수 있다. 상기 에틸렌성 불포화 화합물(C)은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다. The ethylenically unsaturated compound (C) means a compound having an ethylenically unsaturated bond in its structure, and examples of such compounds include ethylene, propylene, butylene, isobutylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, and vinyl fluoride. unsaturated aliphatic hydrocarbons such as leadene and tetrafluoroethylene; (meth)acrylic acid, α-chloroacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, citraconic acid, fumaric acid, hymic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, vinylacetic acid, allylacetic acid, cinnamic acid, sorbic acid, mesaconic acid, succinic acid mono[2- Acryloyloxyethyl], phthalic acid mono[2-acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, etc. Polymer monoacrylate having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, succinic acid mono[2-meth acryloyloxyethyl], phthalic acid mono[2-methacryloyloxyethyl], omega-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, etc. polymer monoacrylates or methacrylates having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals; Hydroxyethyl acrylate maleate, hydroxypropyl acrylate maleate, dicyclopentadiene maleate or polyfunctional acrylate having one carboxyl group and two or more acryloyl groups, hydroxyethyl methacrylate unsaturated polybasic acids such as maleate, hydroxypropyl methacrylate maleate, dicyclopentadiene maleate or polyfunctional methacrylate having one carboxyl group and two or more methacryloyl groups; Acrylic acid-2-hydroxyethyl, acrylic acid-2-hydroxypropyl, glycidyl acrylate, methacrylic acid-2-hydroxyethyl, methacrylic acid-2-hydroxypropyl, glycidyl methacrylate, the following compounds No.A1 to No.A4, methyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, acrylate-t-butyl, cyclohexyl acrylate, n-octyl acrylate, isooctyl acrylate, isononyl acrylate, stearyl acrylate, lauryl acrylate, Methoxyethyl acrylate, dimethylaminomethyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, aminopropyl acrylate, dimethylaminopropyl acrylate, ethoxyethyl acrylate, poly(ethoxy)ethyl acrylate, butoxyethoxyethyl acrylate, ethylhexyl acrylate, phenoxy acrylate Cyethyl, tetrahydrofuryl acrylate, vinyl acrylate, allyl acrylate, benzyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, 1 ,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, pentaeryth Ritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, tricyclodecanedimethylol diacrylate, tri[acryloylethyl]isocyanurate, polyester acrylate oligomer, methyl methacrylate, butyl methacrylate, methacrylic Isobutyl acid, t-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, isooctyl methacrylate, isononyl methacrylate, stearyl methacrylate, lauryl methacrylate, methacrylic acid Methoxyethyl acid, dimethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, aminopropyl methacrylate, dimethylaminopropyl methacrylate, ethoxyethyl methacrylate, poly(ethoxy)ethyl methacrylate, methacrylic acid Butoxyethoxyethyl acid, ethylhexyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, tetrahydrofuryl methacrylate, vinyl methacrylate, allyl methacrylate, benzyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene Glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol di Methacrylate, propylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, dipenta Erythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, tricyclodecanedimethylol dimethacrylate, tri[methacryloylethyl]iso esters of unsaturated monobasic acids and polyhydric alcohols or polyphenols such as cyanurate and polyester methacrylate oligomers; metal salts of unsaturated polybasic acids such as zinc acrylate, magnesium acrylate, zinc methacrylate, and magnesium methacrylate; Maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuryl)-3-methyl-3 -Acid anhydrides of unsaturated polybasic acids, such as cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride- maleic anhydride adduct, dodecenyl succinic anhydride, and methyl hymic anhydride; Acrylamide, methylenebis-acrylamide, diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethylacrylamide, methacrylamide, methylenebis-methacrylamide , amides of unsaturated monobasic acids and polyvalent amines such as diethylenetriaminetrismethacrylamide, xylylenebismethacrylamide, α-chloroacrylamide and N-2-hydroxyethylmethacrylamide; unsaturated aldehydes such as acrolein; unsaturated nitriles such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinylidene cyanide, and allyl cyanide; Styrene, 4-methylstyrene, 4-ethylstyrene, 4-methoxystyrene, 4-hydroxystyrene, 4-chlorostyrene, divinylbenzene, vinyltoluene, vinylbenzoic acid, vinylphenol, vinylsulfonic acid, 4-vinylbenzenesulfonic acid , unsaturated aromatic compounds such as vinyl benzyl methyl ether and vinyl benzyl glycidyl ether; unsaturated ketones such as methyl vinyl ketone; unsaturated amine compounds such as vinylamine, allylamine, N-vinylpyrrolidone and vinylpiperidine; vinyl alcohol such as allyl alcohol and clothyl alcohol; vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, and allyl glycidyl ether; unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide; indene, such as indene and 1-methylindene; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; Macromonomers having a monoacryloyl group at the end of the polymer molecular chain, such as polystyrene, polymethyl acrylate, poly-n-butyl acrylate, polysiloxane, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl methacrylate, polysiloxane macromonomers having a monomethacryloyl group at the terminal of the polymer molecular chain, such as; Vinyl chloride, vinylidene chloride, divinyl succinate, diallyl phthalate, triallyl phosphate, triallyl isocyanurate, vinyl thioether, vinylimidazole, vinyl oxazoline, vinyl carbazole, vinyl pyrrolidone, vinyl The vinyl urethane compound of a pyridine, a hydroxyl-containing vinyl monomer, and a polyisocyanate compound, the vinyl epoxy compound of a hydroxyl-containing vinyl monomer, and a polyepoxy compound are mentioned. The said ethylenically unsaturated compound (C) can be used individually or in mixture of 2 or more types.

이들 중에서도, 양 말단에 카르복실기와 수산기를 가지는 폴리머의 모노아크릴레이트 또는 메타크릴레이트, 1개의 카르복실기와 2개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 가지는 다관능 아크릴레이트 또는 다관능 메타크릴레이트, 불포화 1염기산 및 다가알코올 또는 다가페놀의 에스테르가, 경화성, 색도 특성의 관점에서 바람직하다. Among these, a polymer monoacrylate or methacrylate having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, a polyfunctional acrylate or polyfunctional methacrylate having one carboxyl group and two or more acryloyl or methacryloyl groups, unsaturated Ester of a monobasic acid and polyhydric alcohol or polyhydric phenol is preferable from a viewpoint of sclerosis|hardenability and chromaticity characteristic.

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본 발명의 도전 페이스트에 있어서, 상기 에틸렌성 불포화 화합물(C)의 함유량은 본 발명의 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 1~50질량부인 것이 바람직하고, 1~10질량부인 것이 보다 바람직하다. The electrically conductive paste of this invention WHEREIN: It is preferable that it is 1-50 mass parts with respect to 100 mass parts of solid content of the electrically conductive paste of this invention, and, as for content of the said ethylenically unsaturated compound (C), it is more preferable that it is 1-10 mass parts.

<도전성 입자(D)> <Conductive Particles (D)>

도전성 입자(D)로서는, 각종 금속이나 합금의 분말, 혹은 그 산화물을 이용할 수 있고, 예를 들면, 금, 은, 백금, 이리듐, 로듐, 텅스텐, 몰리브덴, 루테늄, 알루미늄, 구리, 니켈, 팔라듐, 아연, 알루미늄 등의 금속입자; 은-팔라듐, 은-구리 등의 합금입자; 상기 금속입자 혹은 합금 입자를 코어 또는 피복층으로 하는 다층체; 산화주석, 산화인듐, ITO, 산화알루미늄, 산화붕소, 실리카, 산화티탄, 산화지르코니아, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화스트론튬, 산화바륨 등의 금속산화물; 탄산칼슘 등을 들 수 있다. 그 중에서도 은이 도전성이 좋으므로 바람직하다. As the conductive particles (D), powders of various metals and alloys, or oxides thereof can be used, for example, gold, silver, platinum, iridium, rhodium, tungsten, molybdenum, ruthenium, aluminum, copper, nickel, palladium, metal particles such as zinc and aluminum; alloy particles such as silver-palladium and silver-copper; a multilayer body using the metal particles or alloy particles as a core or a coating layer; metal oxides such as tin oxide, indium oxide, ITO, aluminum oxide, boron oxide, silica, titanium oxide, zirconia, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, and barium oxide; Calcium carbonate etc. are mentioned. Especially, since silver has good electroconductivity, it is preferable.

상기 도전성 입자(D)의 형상으로서는, 구 형상, 판 형상, 덩어리 형상, 원추 형상, 바늘 형상, 막대 형상, 프레이크 형상, 덴트라이트 형상의 것을 이용할 수 있지만, 구 형상인 것이 분산성이 좋으므로 바람직하다. As a shape of the said electroconductive particle (D), although spherical shape, plate shape, lump shape, conical shape, needle shape, rod shape, flake shape, and a dentrite shape can be used, a spherical thing is preferable because dispersibility is good. do.

상기 도전성 입자(D)의 평균 입경은, 0.05~10㎛, 바람직하게는 0.1~5㎛이다. The average particle diameter of the said electroconductive particle (D) is 0.05-10 micrometers, Preferably it is 0.1-5 micrometers.

또한, 평균 입경은, SEM(주사형 전자현미경)을 이용해서 관찰한 랜덤인 10개의 도전성 입자(D)를 측정한 평균을 산출함으로써 구해진다. In addition, an average particle diameter is calculated|required by calculating the average which measured 10 random electroconductive particle (D) observed using SEM (scanning electron microscope).

본 발명의 도전 페이스트에 있어서, 상기 도전성 입자(D)의 함유량은, 본 발명의 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 바람직하게는 30~90질량부, 보다 바람직하게는 50~85질량부이다. The electrically conductive paste of this invention WHEREIN: With respect to 100 mass parts of solid content of the electrically conductive paste of this invention, content of the said electroconductive particle (D) becomes like this. Preferably it is 30-90 mass parts, More preferably, it is 50-85 mass parts.

<용매(E)> <Solvent (E)>

용매(E)로서는, 통상, 필요에 따라서 상기의 각 성분(상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 1종 이상을 포함하는 중합개시제(A), 바인더 수지(B), 에틸렌성 불포화 화합물(C), 도전성 입자(D) 등)을 용해 또는 분산할 수 있는 용매, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산온, 2-헵탄온 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산 이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산시클로헥실, 락트산에틸, 숙신산디메틸, 텍사놀 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올 등의 알코올계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸에테르아세테이트, 에톡시에틸에테르프로피오네이트 등의 에테르에스테르계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 BTX계 용매; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매; 테레핀유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄 스피릿, 스와졸#310(코스모마쯔야마세끼유사), 솔베소#100(엑손가가쿠사) 등의 파라핀계 용매; 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용매; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소계 용매; 카르비톨계 용매; 아닐린; 트리에틸아민; 피리딘; 아세트산; 아세트니트릴; 이황화탄소; N,N-디메틸포름아미드; N,N-디메틸아세트아미드; N-메틸피롤리돈; 디메틸술폭시드; 물 등을 들 수 있고, 이들 용매는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용매로서 사용할 수 있다. As a solvent (E), normally, as needed, each component (a polymerization initiator (A) containing 1 or more types of the oxime ester compound represented by the said General formula (I), binder resin (B), an ethylenically unsaturated compound (C), a solvent capable of dissolving or dispersing the conductive particles (D)), for example, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, diethyl ketone, acetone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexane ketones such as one and 2-heptanone; ether solvents such as ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, and dipropylene glycol dimethyl ether; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, dimethyl succinate, and texanol; cellosolve solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; alcohol solvents such as methanol, ethanol, iso- or n-propanol, iso- or n-butanol, and amyl alcohol; Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl ether acetate, ethoxyethyl ether propionate ether ester solvents such as; BTX solvents, such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane and cyclohexane; terpene hydrocarbon oils such as turpentine oil, D-limonene and pinene; Paraffinic solvents, such as mineral spirit, Swasol #310 (Cosmo Matsuyama Seki Co., Ltd.), and Solveso #100 (Exxon Chemicals); halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethylene, methylene chloride and 1,2-dichloroethane; halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene; carbitol-based solvents; aniline; triethylamine; pyridine; acetic acid; acetonitrile; carbon disulfide; N,N-dimethylformamide; N,N-dimethylacetamide; N-methylpyrrolidone; dimethyl sulfoxide; water etc. are mentioned, These solvent can be used as 1 type or 2 or more types of mixed solvent.

이들 중에서도, 케톤류, 에테르에스테르계 용매 등, 특히 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 시클로헥산온 등이 상기의 각 성분과의 상용성이 좋으므로 바람직하다. Among these, ketones, ether ester solvents, etc., especially propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, cyclohexanone, etc. are preferable since they have good compatibility with said each component.

본 발명의 도전 페이스트에 있어서 상기 용매(E)의 함유량은, 본 발명의 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 바람직하게는 50~1000질량부, 보다 바람직하게는 80~150질량부이다. In the electrically conductive paste of this invention, content of the said solvent (E) becomes like this with respect to 100 mass parts of solid content of the electrically conductive paste of this invention. Preferably it is 50-1000 mass parts, More preferably, it is 80-150 mass parts.

본 발명의 도전 페이스트에는, 또한 도전성 입자(D) 이외의 무기화합물을 함유시킬 수 있다. 상기 무기화합물로서는, 예를 들면, 산화니켈, 산화철, 산화이리듐, 산화티탄, 산화아연, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화칼륨, 실리카, 알루미나 등의 금속산화물; 그라파이트, 층상 점토광물, 밀로리 블루, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 코발트계, 망간계, 유리분말(특히 글래스 프릿, 마이카, 탤크, 카올린, 페로시안화물, 각종 금속황산염, 황화물, 셀렌화물, 알루미늄실리케이트, 칼슘실리케이트, 수산화알루미늄, 백금, 금, 은, 구리 등을 들 수 있다. 이들 무기화합물은 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. The electrically conductive paste of this invention can be made to contain inorganic compounds other than electroconductive particle (D) further. Examples of the inorganic compound include metal oxides such as nickel oxide, iron oxide, iridium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, calcium oxide, potassium oxide, silica and alumina; Graphite, layered clay mineral, Milori Blue, calcium carbonate, magnesium carbonate, cobalt, manganese, glass powder (especially glass frit, mica, talc, kaolin, ferrocyanide, various metal sulfates, sulfide, selenide, aluminum silicate , calcium silicate, aluminum hydroxide, platinum, gold, silver, copper, etc. One or two or more of these inorganic compounds may be used.

이들 중에서도, 글래스 프릿, 산화티탄, 실리카, 층상 점토광물, 은 등이 바람직하다. Among these, glass frit, titanium oxide, silica, a layered clay mineral, silver, and the like are preferable.

본 발명의 도전 페이스트에 있어서 상기 무기화합물의 함유량은, 본 발명의 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 바람직하게는 5~1000질량부, 바람직하게는 50~100질량부이다. In the electrically conductive paste of this invention, content of the said inorganic compound becomes like this with respect to 100 mass parts of solid content of the electrically conductive paste of this invention, Preferably it is 5-1000 mass parts, Preferably it is 50-100 mass parts.

이들 무기화합물은, 예를 들면, 충전제, 반사방지제, 도전제, 안정제, 난연제, 기계적 강도향상제, 특수파장흡수제, 잉크 반발제 등으로서 이용된다. These inorganic compounds are used, for example, as fillers, antireflection agents, conductive agents, stabilizers, flame retardants, mechanical strength improvers, special wavelength absorbers, ink repellents, and the like.

본 발명의 도전 페이스트에는, 도전성 입자(D) 및/ 또는 무기화합물을 분산시키는 분산제를 첨가할 수 있다. 상기 분산제로서는, 도전성 입자(D) 또는 무기화합물을 분산, 안정화할 수 있는 것이면 제한되지 않고, 시판의 분산제, 예를 들면, 빅케미사 제품의 BYK시리즈 등을 이용할 수 있다. 특히, 염기성 관능기를 가지는 폴리에스테르, 폴리에테르, 또는 폴리우레탄으로 이루어지는 고분자 분산제, 염기성 관능기로서 질소 원자를 가지고, 질소 원자를 가지는 관능기가 아민, 및/ 또는 그 4급염이며, 아민가가 1~100㎎KOH/g인 것이 적합하게 이용된다. A dispersing agent for dispersing the conductive particles (D) and/or the inorganic compound can be added to the conductive paste of the present invention. The dispersing agent is not limited as long as it can disperse and stabilize the conductive particles (D) or the inorganic compound, and a commercially available dispersing agent, for example, the BYK series manufactured by Bikchemi, etc. can be used. In particular, a polymer dispersing agent made of polyester, polyether, or polyurethane having a basic functional group, having a nitrogen atom as the basic functional group, the functional group having a nitrogen atom is an amine and/or a quaternary salt thereof, and the amine value is 1 to 100 mg KOH/g is suitably used.

또한, 본 발명의 도전 페이스트에는, 필요에 따라서 p-아니솔, 하이드로퀴논, 피로카테콜, t-부틸카테콜, 페노티아진 등의 열중합 억제제; 전사성(轉寫性) 부여제; 열중합개시제; 착색제; 가소제; 접착촉진제; 충전제; 소포제(消泡劑); 레벨링제; 표면조정제; 산화방지제; 자외선흡수제; 안정제; 분산조제; 응집방지제; 촉매; 효과촉진제; 가교제; 증점제; 박리제 등의 관용의 첨가물을 첨가할 수 있다. Moreover, in the electrically conductive paste of this invention, thermal polymerization inhibitors, such as p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butylcatechol, and phenothiazine, as needed; transferability-imparting agents; thermal polymerization initiator; coloring agent; plasticizer; adhesion promoter; fillers; antifoaming agent (消泡劑); leveling agent; surface conditioning agent; antioxidants; UV absorbers; stabilizator; dispersing aid; anti-aggregation agent; catalyst; effect enhancers; crosslinking agent; thickener; Conventional additives, such as a release agent, can be added.

본 발명의 도전 페이스트에 있어서, 상기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 1종 이상을 포함하는 중합개시제(A), 바인더 수지(B), 에틸렌성 불포화 화합물(C), 도전성 입자(D) 이외의 임의 성분(단, 상기의 무기화합물(충전제)은 제외한다)의 사용량은, 그 사용 목적에 따라 적절히 선택되어 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는, 본 발명의 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 합계로 50질량부 이하로 한다. The electrically conductive paste of this invention WHEREIN: The polymerization initiator (A) containing 1 or more types of the oxime ester compound represented by the said general formula (I), binder resin (B), an ethylenically unsaturated compound (C), electroconductive particle (D) ), the amount of the optional component (however, the inorganic compound (filler) is excluded) is appropriately selected depending on the intended use and is not particularly limited, but preferably 100 parts by mass of solid content of the conductive paste of the present invention. to 50 parts by mass or less in total.

또한, 본 발명의 도전 페이스트에는, 상기 바인더 수지(B)와 함께, 다른 유기 중합체를 이용함으로써 경화물의 특성을 개선할 수도 있다. 상기 유기 중합체로서는, 예를 들면, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-에틸아크릴레이트 공중합체, 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 스티렌-아크릴산 공중합체, 스티렌-메타크릴산 공중합체, 아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산-메틸 메타크릴산 공중합체, 에틸렌-염화비닐 공중합체, 에틸렌-비닐 공중합체, 폴리염화비닐 수지, ABS 수지, 나일론6, 나일론66, 나일론12, 우레탄 수지, 폴리카보네이트폴리비닐부티랄, 셀룰로오스 에스테르, 폴리아크릴아미드, 포화 폴리에스테르, 페놀수지, 페녹시수지, 폴리아미드이미드수지, 폴리아믹산 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 폴리스티렌, 아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에폭시 수지가 바람직하다. Moreover, the characteristic of hardened|cured material can also be improved for the electrically conductive paste of this invention by using another organic polymer with the said binder resin (B). Examples of the organic polymer include polystyrene, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-ethyl acrylate copolymer, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, Acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, methacrylic acid-methyl methacrylic acid copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl copolymer, polyvinyl chloride resin, ABS resin, nylon 6, nylon 66, nylon 12, Urethane resin, polycarbonate polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, saturated polyester, phenol resin, phenoxy resin, polyamide-imide resin, polyamic acid resin, epoxy resin, etc. are mentioned, Among these, polystyrene, acrylic acid -Methylmethacrylate copolymer, methacrylic acid-methylmethacrylate copolymer, and an epoxy resin are preferable.

본 발명의 도전 페이스트에는, 또한 연쇄이동제, 증감제, 계면활성제, 실란 커플링제, 멜라민 등을 병용할 수 있다. A chain transfer agent, a sensitizer, a surfactant, a silane coupling agent, a melamine, etc. can be used together with the electrically conductive paste of this invention further.

상기 연쇄이동제 또는 증감제로서는, 일반적으로 유황 원자 함유 화합물이 이용된다. 예를 들면 티오글리콜산, 티오사과산, 티오살리실산, 2-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토부티르산, N-(2-메르캅토프로피오닐)글리신, 2-메르캅토니코틴산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)카르바모일]프로피온산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)아미노]프로피온산, N-(3-메르캅토프로피오닐)알라닌, 2-메르캅토에탄술폰산, 3-메르캅토프로판술폰산, 4-메르캅토부탄술폰산, 도데실(4-메틸티오)페닐에테르, 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올, 1-메르캅토-2-프로판올, 3-메르캅토-2-부탄올, 메르캅토페놀, 2-메르캅토에틸아민, 2-메르캅토이미다졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토-3-피리디놀, 2-메르캅토벤조티아졸, 메르캅토아세트산, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) 등의 메르캅토 화합물, 상기 메르캅토 화합물을 산화해서 얻어지는 디술피드 화합물, 요오드아세트산, 요오드프로피온산, 2-요오드에탄올, 2-요오드에탄술폰산, 3-요오드프로판술폰산 등의 요오드화 알킬 화합물, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 디에틸티옥산톤, 디이소프로필티옥산톤, 하기 화합물 No.C1, 트리메르캅토프로피온산트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 등의 지방족 다관능 티올 화합물, 쇼와덴코사 제품 카렌즈 MT BD1, PE1, NR1 등을 들 수 있다. As the chain transfer agent or sensitizer, a compound containing a sulfur atom is generally used. For example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N-(2-mercaptopropionyl)glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3 -[N-(2-mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3-[N-(2-mercaptoethyl)amino]propionic acid, N-(3-mercaptopropionyl)alanine, 2-mercaptoethane Sulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, dodecyl (4-methylthio)phenyl ether, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto- 2-propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, Mercapto compounds, such as 2-mercaptobenzothiazole, mercaptoacetic acid, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), and pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), the said mercapto compound Disulfide compounds obtained by oxidizing iodine acetic acid, iodopropionic acid, 2-iodethanol, 2-iodethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, alkyl iodide compounds such as trimethylolpropane tris(3-mercaptoisobutylate) , Butanediolbis(3-mercaptoisobutylate), hexanedithiol, decanedithiol, 1,4-dimethyl mercaptobenzene, butanediol bisthiopropionate, butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate , Trimethylolpropane tristhioglycolate, butanediol bisthiopropionate, trimethylolpropane tristhiopropionate, trimethylolpropane tristhioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakistioglycol aliphatic such as lactate, trishydroxyethyl tristhiopropionate, diethylthioxanthone, diisopropylthioxanthone, compound No.C1 below, trimercaptopropionate tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, etc. A polyfunctional thiol compound, the Showa Denko Co., Ltd. product Karenz MT BD1, PE1, NR1, etc. are mentioned.

Figure 112022024758082-pat00011
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상기 계면활성제로서는, 퍼플루오로알킬인산에스테르, 퍼플루오로알킬카르복실산염 등의 불소계면활성제; 고급지방산 알칼리염, 알킬술폰산염, 알킬황산염 등의 음이온계 계면활성제; 고급 아민할로겐산염, 제4급 암모늄염 등의 양이온계 계면활성제; 폴리에틸렌글리콜알킬에테르, 폴리에틸렌글리콜 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 지방산 모노글리세리드 등의 비이온계 계면활성제; 양성 계면활성제; 실리콘계 계면활성제 등의 계면활성제를 이용할 수 있고, 이들은 조합하여 이용해도 된다. As said surfactant, Fluorosurfactant, such as perfluoroalkyl phosphate ester and a perfluoroalkyl carboxylate; anionic surfactants such as alkali salts of higher fatty acids, alkyl sulfonates, and alkyl sulfates; cationic surfactants such as higher amine halides and quaternary ammonium salts; nonionic surfactants such as polyethylene glycol alkyl ether, polyethylene glycol fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, and fatty acid monoglyceride; amphoteric surfactants; Surfactants, such as a silicone type surfactant, can be used, and these may be used in combination.

상기 실란 커플링제로서는, 예를 들면 신에츠 가가쿠사 제품 실란 커플링제를 이용할 수 있고, 그중에서도, KBE-9007, KBM-502, KBE-403 등의 이소시아네이트기, 메타크릴로일기 또는 에폭시기를 가지는 실란커플링제가 적합하게 이용된다. As the silane coupling agent, for example, a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical can be used, and among them, a silane coupling agent having an isocyanate group, such as KBE-9007, KBM-502, and KBE-403, a methacryloyl group, or an epoxy group I am used appropriately.

상기 멜라민 화합물로서는, (폴리)메틸올메라민, (폴리)메틸올글리콜우릴, (폴리)메틸올벤조구아나민, (폴리)메틸올우레아 등의 질소 화합물 중의 활성 메틸올기(CH2OH기)의 전부 또는 일부(적어도 2개)가 알킬 에테르화된 화합물 등을 들 수 있다. Examples of the melamine compound include active methylol groups (CH 2 OH groups) in nitrogen compounds such as (poly) methylolmeramine, (poly) methylol glycoluril, (poly) methylol benzoguanamine, and (poly) methylol urea) and compounds in which all or part (at least two) have been alkyl etherified.

여기서, 알킬에테르를 구성하는 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기 또는 부틸기를 들 수 있고, 서로 동일해도 되고, 달라도 된다. 또한, 알킬에테르화되어 있지 않은 메틸올기는, 1분자 내에서 자기(自己)축합하고 있어도 되고, 2분자 사이에서 축합하여, 그 결과 올리고머 성분이 형성되어 있어도 된다. Here, as an alkyl group which comprises an alkyl ether, a methyl group, an ethyl group, or a butyl group is mentioned, It may mutually be same or different. In addition, the methylol group which is not alkyl-etherified may self-condensate within 1 molecule, it may condense between 2 molecules, and as a result, the oligomer component may be formed.

구체적으로는, 헥사메톡시메틸메라민, 헥사부톡시메틸메라민, 테트라메톡시메틸글리콜우릴, 테트라부톡시메틸글리콜우릴 등을 이용할 수 있다. Specifically, hexamethoxymethyl meramine, hexabutoxymethyl meramine, tetramethoxymethyl glycoluril, tetrabutoxymethyl glycoluril, or the like can be used.

이들 중에서도, 헥사메톡시메틸메라민, 헥사부톡시메틸메라민 등의 알킬에테르화된 멜라민이 바람직하다. Among these, alkyl-etherified melamines, such as hexamethoxymethylmeramine and hexabutoxymethylmeramine, are preferable.

본 발명의 도전 패턴은, (1)본 발명의 도전 페이스트를 기판 상에 도포하고, 상기 기판 상에 도막을 형성하는 공정, (2)도막을 건조하는 공정, (3)건조시킨 상기 도막을 소정의 패턴 형상을 가지는 마스크를 통해 방사선(에너지선)을 조사하여 경화하는 공정, (4)경화시킨 상기 도막을 현상하는 공정, (5)현상 후의 상기 도막을 소성하는 공정에 의해 바람직하게 형성된다. 이하, 각 공정에 대해 순서대로 설명한다. The conductive pattern of the present invention includes: (1) applying the conductive paste of the present invention on a substrate and forming a coating film on the substrate, (2) drying the coating film, (3) drying the coating film It is preferably formed by a step of curing by irradiating radiation (energy rays) through a mask having a pattern shape of (4) developing the cured coating film, and (5) firing the coating film after development. Hereinafter, each process is demonstrated in order.

상기 (1)의 공정은, 조제한 본 발명의 도전 페이스트를, 대상으로 하는 기판에 도포하고, 기판 상에 도막을 형성하는 공정이다. 대상으로 하는 기재로서는, 소다유리, 석영유리, 반도체기판, 금속, 종이, 플라스틱 등을 들 수 있다. 또한 기판은 표면처리를 행한 것을 이용해도 된다. 도포의 방법은 특별히 한정되지 않고, 스핀 코터, 롤 코터, 바 코터, 다이 코터, 블레이드 코터, 커튼 코터, 각종의 인쇄, 침지 등의 공지의 수단을 채용할 수 있다. The process of said (1) is a process of apply|coating the electrically conductive paste of this invention prepared to the target board|substrate, and forming a coating film on a board|substrate. Examples of the target substrate include soda glass, quartz glass, semiconductor substrate, metal, paper, plastic, and the like. Moreover, you may use what surface-treated the board|substrate. The coating method is not particularly limited, and known means such as a spin coater, a roll coater, a bar coater, a die coater, a blade coater, a curtain coater, various types of printing and immersion can be employed.

또한, 기판 상에 대한 본 발명의 도전 페이스트의 도막의 형성은, 본 발명의 도전 페이스트의 도막을 일단 필름 등의 기판 상에 형성한 후, 다른 기판 상에 전사(轉寫)할 수도 있고, 그 형성 방법에 제한은 없다. In addition, in the formation of the coating film of the conductive paste of the present invention on a substrate, the coating film of the conductive paste of the present invention is once formed on a substrate such as a film, and then transferred onto another substrate. There is no limitation on the formation method.

상기 (2)의 공정은, 기판 상에 형성된 도막을 건조(프리베이크)하고, 도막으로부터 용매(E)를 제거하기 위한 공정이다. 프리베이크된 도막은, 알카리성 용액에 대해 난용성(難溶性)이며, 다음 노광 공정에서 에너지선을 조사함으로써 에너지선이 조사된 부분(이하, 노광 부분이라고 하는 경우가 있다)이 알칼리 가용성(可溶性)이 된다. The process of said (2) is a process for drying (prebaking) the coating film formed on the board|substrate, and removing the solvent (E) from the coating film. The prebaked coating film is poorly soluble in an alkaline solution, and the part irradiated with an energy ray by irradiating an energy ray in the next exposure step (hereinafter, sometimes referred to as an exposure part) is alkali-soluble. becomes this

프리베이크의 온도는, 사용한 용매(E)의 종류에 따라서도 다르지만, 온도가 지나치게 낮으면, 용매(E)의 잔류분이 많아져 노광 감도나 해상도의 저하의 원인이 되는 경우가 있고, 또한 온도가 지나치게 높으면, 프리베이크에 의해 도막의 전체의 경화가 진행되어, 에너지선이 조사된 부분의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하하고, 결과적으로 노광 감도나 해상도가 저하하는 경우가 있기 때문에, 80~150℃가 바람직하고, 90~120℃가 더 바람직하다. 프리베이크의 시간은, 사용한 용제(E)의 종류와 프리베이크의 온도에 의해 다르지만, 30초~10분이 바람직하고, 1~5분이 더 바람직하다. Although the temperature of prebaking also varies depending on the kind of solvent (E) used, when the temperature is too low, the residual amount of the solvent (E) increases, which may cause a decrease in exposure sensitivity and resolution, and if the temperature is too low, When it is too high, hardening of the whole coating film advances by prebaking, the solubility with respect to the alkaline developing solution of the part irradiated with energy rays falls, and exposure sensitivity and resolution may fall as a result, so 80-150 degreeC is preferable, and 90-120 degreeC is more preferable. Although the time of a prebaking changes with the kind of solvent (E) used, and the temperature of a prebaking, 30 second - 10 minutes are preferable, and 1-5 minutes are more preferable.

상기 (3)의 공정은, 건조시킨 상기 도막에 소정의 패턴 형상을 가지는 마스크를 통해 방사선(에너지선)을 조사하고, 본 발명의 도전 페이스트의 도막을 경화시키는 공정이다. 본 발명의 도전 페이스트의 도막을 경화시킬 때에 이용되는 에너지선의 광원으로서는, 초고압 수은 램프, 고압 수은 램프, 중압 수은 램프, 저압 수은 램프, 수은증기 아크등(燈), 제논 아크등, 카본 아크등, 메탈하라이드 램프, 형광등, 텅스텐 램프, 엑시머 램프, 살균등, 발광 다이오드, CRT광원 등으로부터 얻어지는 2000옹스트롬에서 7000옹스트롬의 파장을 가지는 전자파 에너지나 전자선, X선, 방사선 등의 고에너지선을 이용할 수 있지만, 바람직하게는, 파장 300~450㎚의 광을 발광하는 초고압 수은 램프, 수은증기 아크등, 카본 아크등, 제논 아크등 등을 들 수 있다. The step (3) is a step of irradiating the dried coating film with radiation (energy rays) through a mask having a predetermined pattern shape, and curing the coating film of the conductive paste of the present invention. As a light source of an energy ray used when curing the coating film of the conductive paste of the present invention, an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a mercury vapor arc lamp, a xenon arc lamp, a carbon arc lamp, Electromagnetic energy with a wavelength of 2000 angstroms to 7000 angstroms obtained from metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, excimer lamps, germicidal lamps, light emitting diodes, CRT light sources, etc., or high energy rays such as electron beams, X-rays, and radiation However, preferably, an ultra-high pressure mercury lamp that emits light having a wavelength of 300 to 450 nm, a mercury vapor arc lamp, a carbon arc lamp, a xenon arc lamp, and the like are used.

본 발명의 도전 페이스트의 도막을 경화시킬 때에 이용되는 에너지선의 광원으로서는, 또한 노광 광원에 레이저광을 이용함으로써 마스크를 이용하지 않고, 컴퓨터 등의 디지털 정보로부터 직접 화상을 형성하는 레이저 직접 묘화법이, 생산성뿐만 아니라 해상성이나 위치 정밀도 등의 향상도 도모할 수 있기 때문에 유용하고, 그 레이저광으로서는, 340~430㎚의 파장의 광이 적합하게 사용되지만, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 아르곤이온 레이저, 헬륨카드뮴 레이저, 헬륨네온 레이저, 크립톤이온 레이저, 각종 반도체 레이저 및 YAG 레이저 등의 가시로부터 적외 영역의 광을 발하는 것도 이용된다. 이들 레이저를 사용하는 경우에는, 가시로부터 적외의 해당 영역을 흡수하는 증감색소가 더해진다. As a light source of energy rays used when curing the coating film of the conductive paste of the present invention, there is also a laser direct drawing method in which an image is formed directly from digital information such as a computer without using a mask by using a laser light as an exposure light source, It is useful because not only productivity but also resolution and positional accuracy can be improved, and as the laser beam, light having a wavelength of 340 to 430 nm is suitably used, but excimer laser, nitrogen laser, argon ion laser, helium Those emitting light in the visible to infrared range, such as a cadmium laser, a helium neon laser, a krypton ion laser, various semiconductor lasers, and a YAG laser, are also used. In the case of using these lasers, a sensitizing dye that absorbs the region from visible to infrared is added.

상기 마스크로서는, 사용하는 성분에 맞추어, 네거티브형용 마스크 및 포지티브형용의 마스크를 모두 사용할 수 있고, 상기 마스크로서는, 하프톤 마스크 또는 그레이 스케일 마스크 등의 다계조 마스크를 이용할 수도 있다. As the mask, both a negative type mask and a positive type mask can be used in accordance with the components to be used, and as the mask, a multi-gradation mask such as a halftone mask or a gray scale mask can also be used.

상기 (4)의 공정은, 노광 후의 상기 도막 중, 조사광에 의해 알칼리 용해성이 향상된 부분을 현상액을 이용해서 제거함으로써, 소정의 패턴을 형성하는 공정이다. The process of said (4) is a process of forming a predetermined pattern by removing the part whose alkali solubility improved by irradiation light among the said coating film after exposure using a developing solution.

현상 방법으로서는, 예를 들면, 스프레딩(spreading)법, 침지법, 샤워법, 스프레이법 등 중의 어느 방법도 이용할 수 있다. As a developing method, any method of a spreading method, an immersion method, a shower method, a spray method, etc. can also be used, for example.

현상 시간은, 각 성분의 종류나 분자량, 현상액의 온도 등에 따라 다르지만, 통상 30~180초간이다. Although development time changes with the kind, molecular weight of each component, the temperature of a developing solution, etc., it is 30 to 180 second normally.

현상 공정으로 이용되는 현상액은, 노광 부분을 액 중에 용해 또는 분산되어 제거할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 규산나트륨, 암모니아 등의 무기 알칼리류; 에틸아민, n-프로필아민 등의 1급 아민류; 디에틸아민, 디-n-프로필아민 등의 2급 아민류; 트리메틸아민, 메틸디에틸아민, 디메틸에틸아민, 트리에틸아민 등의 3급 아민류; 디메틸에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 3급 알칸올아민류; 피롤, 피페리딘, N-메틸피페리딘, N-메틸피롤리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]-5-노넨 등의 환상 3급 아민류; 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 퀴놀린 등의 방향족 3급 아민류; 테트라메틸암모늄하이드록시드, 테트라에틸암모늄하이드록시드 등의 4급 암모늄염의 수용액 등의 알칼리류의 수용액을 이용할 수 있고, 그 농도는, 통상 이용되는 현상액의 알칼리 농도이면 된다. 이들 알칼리류의 수용액은, 또한 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기용매 및/ 또는 계면활성제를 적당량 함유해도 된다. The developing solution used in the developing step is not particularly limited as long as the exposed portion can be dissolved or dispersed in the solution and removed. For example, inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, and ammonia Ryu; primary amines such as ethylamine and n-propylamine; secondary amines such as diethylamine and di-n-propylamine; tertiary amines such as trimethylamine, methyldiethylamine, dimethylethylamine, and triethylamine; tertiary alkanolamines such as dimethylethanolamine, methyldiethanolamine, and triethanolamine; pyrrole, piperidine, N-methylpiperidine, N-methylpyrrolidine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, 1,5-diazabicyclo[4.3.0] cyclic tertiary amines such as -5-nonene; aromatic tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine and quinoline; Aqueous solutions of alkalis, such as aqueous solutions of quaternary ammonium salts, such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide, can be used, The density|concentration may just be the alkali concentration of the developing solution normally used. The aqueous solution of these alkalis may further contain an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol and ethanol and/or a surfactant.

노광 부분을 현상액으로 제거한 후, 흐르는 물 또는 샤워에 의해 물로 린스하는 것이 바람직하고, 필요에 따라 50~120℃의 범위에서 탈수 건조시켜도 된다. After removing an exposed part with a developing solution, it is preferable to rinse with water with flowing water or a shower, and you may dehydrate and dry in the range of 50-120 degreeC as needed.

상기 (5)의 공정은, 현상 후의 상기 도막을 소성(포스트베이크)하는 공정이다.The process of said (5) is a process of baking (post-baking) the said coating film after image development.

이 공정에 있어서 상기 도막을 소성함으로써 바인더 수지의 경화 수축이 일어나 도전성 입자끼리가 접촉해서 충분한 도전성이 얻어지는 동시에, 내약품성도 향상된다. In this process, curing shrinkage of binder resin occurs by baking the said coating film, electroconductive particle contacts, sufficient electroconductivity is acquired, and chemical-resistance also improves.

포스트베이크는, 바람직하게는, 질소, 헬륨, 아르곤 등의 불활성 가스 분위기 하에서, 100~300℃에서 10~60분의 시간 내에서 실시하는 것이 바람직하다. Post-baking, Preferably, it is 100-300 degreeC in inert gas atmosphere, such as nitrogen, helium, and argon, It is preferable to perform within the time of 10 to 60 minutes.

상기 (1)~(5)의 공정에 의해 형성되는 도전 패턴은, 그 두께가 3~5㎛, 도체의 폭이 5~20㎛인 것이 저저항이며 양호한 패턴이 얻어지므로 바람직하다. The conductive pattern formed by the steps (1) to (5) has a thickness of 3 to 5 µm and a conductor width of 5 to 20 µm, which has low resistance and is preferable because a good pattern can be obtained.

본 발명의 도전 패턴은, 터치 패널, 터치 센서, 3차원 실장 등의 용도로 이용할 수 있다. The conductive pattern of the present invention can be used for applications such as a touch panel, a touch sensor, and three-dimensional mounting.

실시예 Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예 등에 한정되는 것이 아니다. 또한, 이하의 기재에 있어서 '%'는, 특별히 명기하지 않는 한 질량%을 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples and the like. In addition, in the following description, "%" represents mass % unless otherwise indicated.

[제조예 1] 바인더 수지 B-1의 조제 [Production Example 1] Preparation of binder resin B-1

1,1-비스〔4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐〕인단의 184g, 아크릴산 58g, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸 0.26g, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드 0.11g 및 PGMEA 105g을 넣고, 120℃에서 16시간 교반했다. 반응액을 실온까지 냉각하고, PGMEA 160g, 비프탈산무수물 59g 및 테트라-n-부틸암모늄브로마이드 0.24g을 첨가하여, 120℃에서 4시간 교반했다. 또한, 테트라하이드로무수프탈산 20g을 첨가하고, 120℃에서 4시간, 100℃에서 3시간, 80℃에서 4시간, 60℃에서 6시간, 40℃에서 11시간 교반한 후, PGMEA 128g을 첨가하여, PGMEA 용액으로 하여 바인더 수지 B-1을 얻었다 (Mw=5000, 고형분 44.0%, 산가=100㎎KOH/g). 184 g of 1,1-bis[4-(2,3-epoxypropyloxy)phenyl]indane, 58 g of acrylic acid, 0.26 g of 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 0.11 tetra-n-butylammonium bromide g and 105 g of PGMEA were put, and the mixture was stirred at 120°C for 16 hours. The reaction liquid was cooled to room temperature, 160 g of PGMEA, 59 g of nonphthalic anhydride, and 0.24 g of tetra-n-butylammonium bromide were added, and it stirred at 120 degreeC for 4 hours. In addition, after adding 20 g of tetrahydrophthalic anhydride, stirring at 120 ° C. for 4 hours, 100 ° C. for 3 hours, 80 ° C. for 4 hours, 60 ° C. for 6 hours, and at 40 ° C. for 11 hours, 128 g of PGMEA was added, It was set as a PGMEA solution, and binder resin B-1 was obtained (Mw=5000, solid content 44.0%, acid value=100 mgKOH/g).

[제조예 2] 바인더 수지 B-2의 조제 [Production Example 2] Preparation of binder resin B-2

비스〔4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐〕-4-비페닐일(시클로헥실)메탄 89.9g, 아크릴산 23.5g, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸 0.457g, 벤질트리에틸암모늄클로라이드 0.534g 및 PGMEA 75.6g을 넣고, 120℃에서 16시간 교반했다. 실온까지 냉각하고, 2,4-펜탄디온 12.0g, 트리에틸아민 1.0g을 넣고, 92℃에서 17시간 교반했다. 실온까지 냉각하고, 무수숙신산 25.6g, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드 1.39g, PGMEA 40.42g을 첨가하여 100℃에서 5시간 교반했다. 실온까지 냉각하고, PGMEA 46.7g을 첨가하여, PGMEA 용액으로 하여 바인더 수지 B-2를 얻었다(Mw=3500, 고형분 44.0%, 산가 90㎎KOH/g). Bis[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]-4-biphenylyl(cyclohexyl)methane 89.9g, acrylic acid 23.5g, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol 0.457g, benzyl 0.534 g of triethylammonium chloride and 75.6 g of PGMEA were put, and it stirred at 120 degreeC for 16 hours. It cooled to room temperature, 12.0 g of 2, 4- pentanedione and 1.0 g of triethylamine were put, and it stirred at 92 degreeC for 17 hours. After cooling to room temperature, 25.6 g of succinic anhydride, 1.39 g of tetra-n-butylammonium bromide, and 40.42 g of PGMEA were added, followed by stirring at 100°C for 5 hours. It cooled to room temperature, 46.7 g of PGMEA was added, and it was set as the PGMEA solution, and binder resin B-2 was obtained (Mw=3500, solid content 44.0%, acid value 90 mgKOH/g).

[실시예 1~3 및 비교예 1~3] 도전 페이스트 No.1~3 및 비교 도전 페이스트 No.1~3의 조제 [Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3] Preparation of conductive pastes No. 1 to 3 and comparative conductive pastes No. 1 to 3

[표 1]의 배합에 따라 각 성분을 혼합하여, 도전 페이스트 No.1~3 및 비교 도전 페이스트 No.1~3을 얻었다. 또한, 숫자는 질량부를 나타낸다. According to the compounding|blending of Table 1, each component was mixed, and electrically conductive paste No. 1-3 and comparative electrically conductive paste No. 1-3 were obtained. In addition, a number represents a mass part.

Figure 112022024758082-pat00012
Figure 112022024758082-pat00012

이하의 성분 중, B-1, B-2 및 B-3 그리고 용매에 해당하는 E-1 이외의 성분은, 용매를 비함유이며 고형분 100%이다. Among the following components, components other than B-1, B-2 and B-3 and E-1 corresponding to the solvent do not contain a solvent and have a solid content of 100%.

A-1 화합물 No.6 A-1 Compound No.6

A'-1 IRGACURE-907(중합개시제; BASF사 제품) A'-1 IRGACURE-907 (Polymerization initiator; manufactured by BASF)

A'-2 OXE-02(중합개시제; BASF사 제품) A'-2 OXE-02 (polymerization initiator; manufactured by BASF)

B-1 상기 제조예 1에서 얻어진 것 B-1 What was obtained in Preparation Example 1

B-2 상기 제조예 2에서 얻어진 것 B-2 What was obtained in Preparation Example 2

B-3 SPC-1000(Mw=32000, 고형분 29.0%, 산가 110㎎KOH/g, 아크릴레이트; 쇼와덴코사 제품) B-3 SPC-1000 (Mw=32000, solid content 29.0%, acid value 110 mgKOH/g, acrylate; Showa Denko Co., Ltd. product)

C-1 카야라드 DPHA(다관능 아크릴레이트; 니혼카야쿠사 제품) C-1 Kayarrad DPHA (polyfunctional acrylate; manufactured by Nippon Kayaku)

D-1 FA-333(바인더 수지+도전성 입자; 후지쿠라 가세이사 제품) D-1 FA-333 (binder resin + conductive particles; manufactured by Fujikura Kasei Corporation)

E-1 프로필렌 글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트 E-1 Propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate

F-1 F-554(레벨링제; DIC사 제품) F-1 F-554 (leveling agent; manufactured by DIC)

[평가 방법][Assessment Methods]

스핀 코터로 웨이퍼 상에 도전 페이스트 No.1~3 및 비교 도전 페이스트 No.1~3을 각각 도포 후, 건조했다. 포토마스크를 이용하여 노광했다. 이어서, 0.4% 탄산나트륨 현상액을 이용해서 현상, 린스를 실시하여, 패턴을 얻었다. 그 후 큐어 화로로 큐어를 실시하고, 하기 감도, 해상도 및 오버행량을 평가했다. It dried after apply|coating electrically conductive paste No. 1-3 and comparative electrically conductive paste No. 1-3, respectively on the wafer with a spin coater. Exposure was performed using a photomask. Then, development and rinsing were performed using a 0.4% sodium carbonate developer to obtain a pattern. After that, it was cured with a curing furnace, and the following sensitivity, resolution, and overhang amount were evaluated.

(감도) (Sensitivity)

30㎛의 선폭이 벗겨지지 않도록 해상되어 있는 노광량을 가지고 감도로 했다. It was set as the sensitivity with the exposure amount resolved so that the line|wire width of 30 micrometers might not peel off.

(해상도) (resolution)

선폭이 30㎛일 때 선간이 몇㎛까지 해상되어 있는 지를 측정했다. When the line width was 30 µm, it was measured how many µm the line spacing was resolved.

(오버행량) (Overhang amount)

SEM(주사형 전자현미경)으로 패턴의 절단면을 보았을 때, 패턴의 표면 측과 기판 측의 패턴 폭의 차이를 측정했다. When the cut surface of the pattern was viewed with an SEM (scanning electron microscope), the difference in the pattern width between the surface side of the pattern and the substrate side was measured.

(밀착성) (Adhesiveness)

스핀 코터로 웨이퍼 상에 도전 페이스트 No.1~3 및 비교 도전 페이스트 No.1~3을 각각 도포 후, 건조했다. 이어서, 초고압 수은 램프로 300mJ/㎠의 에너지를 조사하고, 샘플을 제작했다. 제작한 샘플의 점착테이프 필링을 실시하여, 패턴의 박리 여부를 평가했다. 평가 기준은 다음과 같다. It dried after apply|coating electrically conductive paste No. 1-3 and comparative electrically conductive paste No. 1-3, respectively on the wafer with a spin coater. Next, 300 mJ/cm<2> of energy was irradiated with an ultra-high pressure mercury lamp, and the sample was produced. The adhesive tape peeling of the produced sample was performed, and the peeling of a pattern was evaluated. The evaluation criteria are as follows.

○: 패턴 박리 없음 ○: No pattern peeling

△: 패턴의 일부에 박리 있음(triangle|delta): peeling exists in a part of pattern

×: 패턴 박리 있음 ×: With pattern peeling

(비저항값) (Specific resistance value)

스핀 코터로 웨이퍼 상에 도전 페이스트 No.1~3 및 비교 도전 페이스트 No.1~3을 각각 도포 후, 건조했다. 이어서, 초고압 수은 램프로 300mJ/㎠의 에너지를 조사하여, 샘플을 제작했다. 제작한 샘플을 로레스타 HP〔다이아 인스트루먼트 제품: 상품명〕에 의해 4단침법으로 비저항값을 측정했다. It dried after apply|coating electrically conductive paste No. 1-3 and comparative electrically conductive paste No. 1-3, respectively on the wafer with a spin coater. Next, 300 mJ/cm<2> of energy was irradiated with an ultra-high pressure mercury lamp, and the sample was produced. The specific resistance value was measured for the produced sample by the 4-step needle method by Loresta HP [DIA Instruments product: brand name].

Figure 112022024758082-pat00013
Figure 112022024758082-pat00013

따라서, 본 발명의 도전 페이스트는, 감도, 해상도, 밀착성이 뛰어나고, 비저항값이 낮기 때문에, 도전 패턴으로서 유용한 것이다. Therefore, the electrically conductive paste of this invention is excellent in a sensitivity, a resolution, and adhesiveness, and since a specific resistance value is low, it is useful as an electrically conductive pattern.

본 발명에 의하면, 감도, 해상도 및 밀착성이 뛰어나고, 저저항인 도전 페이스트를 제공할 수 있다. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in a sensitivity, resolution, and adhesiveness, and can provide the electrically conductive paste which is low resistance.

Claims (5)

하기 일반식(I)로 나타내는 옥심에스테르 화합물의 1종 이상을 포함하는 중합개시제(A), 바인더 수지(B), 에틸렌성 불포화 화합물(C), 도전성 입자(D) 및 용매(E)를 함유하는 도전 페이스트로서,
상기 중합개시제(A)의 함유량이 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 0.5~5질량부이고,
상기 바인더 수지(B)가 하기 일반식(II)로 나타내는 에폭시 화합물에, 불포화 1염기산을 부가시킨 구조를 가지는 에폭시 부가 화합물, 또는 상기 에폭시 부가 화합물과 다염기산무수물의 에스테르화물이고, 또한 상기 바인더 수지(B)의 함유량이 도전 페이스트 100질량부에 대하여 고형분 환산으로 10~30질량부이며,
상기 에틸렌성 불포화 화합물(C)이 1개의 카르복실기와 2개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 가지는 다관능 아크릴레이트이고, 또한 상기 에틸렌성 불포화 화합물(C)의 함유량이 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 1~10질량부이며,
상기 도전성 입자(D)가 은입자이고, 또한 상기 도전성 입자의 함유량이 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 30~90질량부이며,
상기 용매(E)가 에테르에스테르계 용매이고, 또한 상기 용매(E)의 함유량이 도전 페이스트의 고형분 100질량부에 대하여 80~150질량부인 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.
Figure 112022024758082-pat00014

(식 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 R11, OR11, COR11, SR11, CONR12R13 또는 CN을 나타내고,
R11, R12 및 R13은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내며,
R11, R12 및 R13으로 나타내는 기의 수소 원자는, 또한 R21, OR21, COR21, SR21, NR22R23, CONR22R23, -NR22-OR23, -NCOR22-OCOR23, NR22COR21, OCOR21, COOR21, SCOR21, OCSR21, COSR21, CSOR21, 수산기, 니트로기, CN, 아미노기, 할로겐 원자 또는 COOR21로 치환되어 있는 경우도 있고,
R21, R22 및 R23은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내며,
R21, R22 및 R23으로 나타내는 기의 수소 원자는, 또한 수산기, 니트로기, CN, 할로겐 원자, 수산기 또는 카르복실기로 치환되어 있는 경우도 있고,
R11, R12, R13, R21, R22 및 R23으로 나타내는 기 중의 메틸렌기는, -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -NR24-, -NR24COO-, -OCONR24-, -SCO-, -COS-, -OCS- 또는 -CSO-에 의해 산소 원자가 이웃하지 않는 조건으로 1~5회 치환되어 있는 경우도 있으며,
R24는 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내고,
R11, R12, R13, R21, R22, R23 및 R24로 나타내는 기가 알킬 부분을 가지는 경우, 상기 알킬 부분은, 분기측 쇄를 가지는 경우도 있으며, 환상 알킬인 경우도 있고,
R3은 수소 원자, 탄소 원자 수 1~20의 알킬기, 탄소 원자 수 6~30의 아릴기, 탄소 원자 수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기를 나타내며, R3으로 나타내는 기가 알킬 부분을 가지는 경우, 상기 알킬 부분은 분기측 쇄를 가지는 경우도 있고, 환상 알킬인 경우도 있으며,
R3으로 나타내는 기의 수소 원자는, 또한 R21, OR21, COR21, SR21, NR22R23, CONR22R23, -NR22-OR23, -NCOR22-OCOR23, NR22COR21, OCOR21, COOR21, SCOR21, OCSR21, COSR21, CSOR21, 수산기, 니트로기, CN, 할로겐 원자 또는 COOR21로 치환되어 있는 경우도 있고,
R4, R5, R6 및 R7은, 각각 독립적으로 R11, OR11, SR11, COR14, CONR15R16, NR12COR11, OCOR11, COOR14, SCOR11, OCSR11, COSR14, CSOR11, 수산기, CN 또는 할로겐 원자를 나타내며,
또한, R3과 R7, R3과 R8, R4와 R5, R5와 R6 또는 R6과 R7은 각각 함께 환을 형성하고 있는 경우도 있고,
R14, R15 및 R16은 수소 원자 또는 탄소 원자 수 1~20의 알킬기를 나타내며,
R8은 R11, OR11, SR11, COR11, CONR12R13, NR12COR11, OCOR11, COOR11, SCOR11, OCSR11, COSR11, CSOR11, 수산기, CN 또는 할로겐 원자를 나타내고,
n은 0 또는 1을 나타낸다.)

Figure 112022024758082-pat00015

(식 중, M은 직접 결합, 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기, 탄소 원자 수 3~30의 지환식 탄화수소기, 탄소 원자 수 6~12의 아릴기, O, S, SO2, SS, SO, CO, OCO 또는 하기 일반식(II-1), (II-2) 혹은 (II-3)으로 나타내는 기를 나타내고, R101, R102, R103, R104, R105, R106, R107 및 R108은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타내며, s는 0~10의 수를 나타낸다.)
Figure 112022024758082-pat00016

(R109, R110, R111, R112, R113, R114, R115, R116, R117, R118, R119, R120, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 및 R132는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~10의 알킬기, 탄소 원자 수 1~10의 알콕시기, 탄소 원자 수 6~20의 아릴기, 탄소 원자 수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자 수 2~20의 복소환 함유기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 아릴알킬기 중의 메틸렌기는 불포화 결합, -O- 또는 -S-에 의해 산소 원자가 이웃하지 않는 조건으로 치환되어 있는 경우도 있으며, R109, R110, R111, R112, R117, R118, R119, R120, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 및 R132는, 인접하는 R109, R110, R111, R112, R117, R118, R119, R120, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131 또는 R132끼리 환을 형성하고 있는 경우도 있다. *는 *부분에서 인접하는 기와 결합하는 것을 의미한다.)
A polymerization initiator (A) containing at least one oxime ester compound represented by the following general formula (I), a binder resin (B), an ethylenically unsaturated compound (C), conductive particles (D) and a solvent (E) are contained As a conductive paste to
Content of the said polymerization initiator (A) is 0.5-5 mass parts with respect to 100 mass parts of solid content of an electrically conductive paste,
The binder resin (B) is an epoxy addition compound having a structure in which an unsaturated monobasic acid is added to an epoxy compound represented by the following general formula (II), or an ester product of the epoxy addition compound and a polybasic acid anhydride, and the binder resin Content of (B) is 10-30 mass parts in conversion of solid content with respect to 100 mass parts of electrically conductive pastes,
The said ethylenically unsaturated compound (C) is a polyfunctional acrylate which has one carboxyl group and two or more acryloyl groups or methacryloyl groups, and content of the said ethylenically unsaturated compound (C) is 100 mass of solid content of an electrically conductive paste 1 to 10 parts by mass per part,
The said electroconductive particle (D) is a silver particle, and content of the said electroconductive particle is 30-90 mass parts with respect to 100 mass parts of solid content of an electrically conductive paste,
The said solvent (E) is an ether ester solvent, and content of the said solvent (E) is 80-150 mass parts with respect to 100 mass parts of solid content of an electrically conductive paste, The electrically conductive paste characterized by the above-mentioned.
Figure 112022024758082-pat00014

(Wherein, R 1 and R 2 each independently represent R 11 , OR 11 , COR 11 , SR 11 , CONR 12 R 13 or CN,
R 11 , R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 2 to carbon atoms 20 represents a heterocycle-containing group,
The hydrogen atom of the group represented by R 11 , R 12 and R 13 is further R 21 , OR 21 , COR 21 , SR 21 , NR 22 R 23 , CONR 22 R 23 , -NR 22 -OR 23 , -NCOR 22 - OCOR 23 , NR 22 COR 21 , OCOR 21 , COOR 21 , SCOR 21 , OCSR 21 , COSR 21 , CSOR 21 , hydroxyl group, nitro group, CN, amino group, halogen atom or COOR 21 ,
R 21 , R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or an arylalkyl group having 2 to carbon atoms 20 represents a heterocycle-containing group,
A hydrogen atom of the group represented by R 21 , R 22 and R 23 may be further substituted with a hydroxyl group, a nitro group, CN, a halogen atom, a hydroxyl group or a carboxyl group,
The methylene group in the group represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 and R 23 is -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -NR 24 -, -NR 24 COO- , -OCONR 24 -, -SCO-, -COS-, -OCS- or -CSO- may be substituted 1 to 5 times under the condition that the oxygen atom is not adjacent,
R 24 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms,
When the group represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 21 , R 22 , R 23 and R 24 has an alkyl moiety, the alkyl moiety may have a branched chain or may be a cyclic alkyl;
R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, R 3 When the group represented by has an alkyl moiety, the alkyl moiety may have a branched chain or may be cyclic alkyl,
The hydrogen atom of the group represented by R 3 is further R 21 , OR 21 , COR 21 , SR 21 , NR 22 R 23 , CONR 22 R 23 , -NR 22 -OR 23 , -NCOR 22 -OCOR 23 , NR 22 COR 21 , OCOR 21 , COOR 21 , SCOR 21 , OCSR 21 , COSR 21 , CSOR 21 , a hydroxyl group, a nitro group, CN, a halogen atom or COOR 21 may be substituted;
R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently R 11 , OR 11 , SR 11 , COR 14 , CONR 15 R 16 , NR 12 COR 11 , OCOR 11 , COOR 14 , SCOR 11 , OCSR 11 , COSR 14 , CSOR 11 , a hydroxyl group, CN or a halogen atom,
In addition, R 3 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 or R 6 and R 7 may each form a ring together,
R 14 , R 15 and R 16 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
R 8 is R 11 , OR 11 , SR 11 , COR 11 , CONR 12 R 13 , NR 12 COR 11 , OCOR 11 , COOR 11 , SCOR 11 , OCSR 11 , COSR 11 , CSOR 11 , hydroxyl group, CN or halogen atom indicate,
n represents 0 or 1.)

Figure 112022024758082-pat00015

(wherein, M is a direct bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, O, S, SO 2 , SS, SO, CO, OCO or a group represented by the following general formula (II-1), (II-2) or (II-3), R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , R 105 , R 106 , R 107 and R 108 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and s represents a number from 0 to 10.)
Figure 112022024758082-pat00016

(R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 113 , R 114 , R 115 , R 116 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 121 , R 122 , R 123 , R 124 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 and R 132 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or carbon represents an aryl group having 6 to 20 atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, or a halogen atom, and the methylene group in the alkyl group and the arylalkyl group is an unsaturated bond, -O Oxygen atoms may be substituted by - or -S- on condition that they are not adjacent, R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 and R 132 are adjacent R 109 , R 110 , R 111 , R 112 , R 117 , R 118 , R 119 , R 120 , R 125 , R 126 , R 127 , R 128 , R 129 , R 130 , R 131 or R 132 may form a ring with each other. * means bonding with an adjacent group at the * part.)
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지(B)가 산가 30~300㎎KOH/g이며, 중량평균 분자량(Mw) 1,000~500,000인 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.
According to claim 1,
The binder resin (B) has an acid value of 30 to 300 mgKOH/g, and a weight average molecular weight (Mw) of 1,000 to 500,000.
제1항 또는 제2항에 기재된 도전 페이스트로 이루어지는 도전 패턴. The conductive pattern which consists of the electrically conductive paste of Claim 1 or 2. 제1항 또는 제2항에 기재된 도전 페이스트를, 기판 상에 도포하는 공정, 건조하는 공정, 마스크를 이용해서 노광하는 공정, 현상하는 공정, 100~300℃에서 소성을 실시하는 공정을 포함하는 도전 패턴의 형성 방법. Conduction including the process of applying the electrically conductive paste of Claim 1 or 2 on a board|substrate, the process of drying, the process of exposing using a mask, the process of developing, and the process of baking at 100-300 degreeC How to form a pattern. 제3항에 기재된 도전 패턴을 구비하는 터치 패널.A touch panel provided with the conductive pattern of Claim 3.
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