KR102419776B1 - Adhesive, manufacturing method of intermediate laminate and intermediate laminate - Google Patents

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Abstract

점착제는, 모노머 성분의 중합체인 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 산 발생제를 포함한다. 점착성 폴리머의 유리 전이 온도는 0℃ 이하이다. 20℃∼50℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는 1.0×104Pa 이상 1.0×106Pa 이하이다.An adhesive contains the adhesive polymer which is a polymer of a monomer component, the compound colored with an acid, and an acid generator. The glass transition temperature of the tacky polymer is 0° C. or less. The shear storage modulus G' at 20°C to 50°C is 1.0×10 4 Pa or more and 1.0×10 6 Pa or less.

Description

점착제, 중간 적층체의 제조 방법 및 중간 적층체Adhesive, manufacturing method of intermediate laminate and intermediate laminate

본 발명은, 점착제, 중간 적층체의 제조 방법 및 중간 적층체에 관한 것으로, 상세하게는, 점착제, 그 점착제로 이루어지는 점착층을 이용하여 얻어지는 중간 적층체의 제조 방법, 및 그 중간 적층체의 제조 방법에 의해 얻어지는 중간 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive, a method for producing an intermediate laminate, and an intermediate laminate, and more particularly, to a method for producing an intermediate laminate obtained by using a pressure-sensitive adhesive and an adhesive layer made of the pressure-sensitive adhesive, and production of the intermediate laminate It relates to an intermediate laminate obtained by the method.

근년, 유기 EL 패널을 탑재한 디스플레이가 알려져 있다. 유기 EL 패널은 반사성이 높은 전극층을 갖기 때문에, 외광 반사나 배경의 반영 등을 일으키기 쉽다.In recent years, a display equipped with an organic EL panel is known. Since the organic EL panel has an electrode layer with high reflectivity, reflection of external light, reflection of the background, and the like are likely to occur.

그리고, 외광 반사나 배경의 반영을 막기 위해서, 전극층의 반사면에 광을 흡수하는 기능을 갖는 층(광흡수층)을 마련하는 것이 알려져 있다.And in order to prevent reflection of external light or a background, it is known to provide the layer (light absorption layer) which has a function which absorbs light on the reflective surface of an electrode layer.

이와 같은 광흡수층으로서, 카본 블랙 안료 및 염료를 포함하는 광흡수층이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).As such a light absorption layer, a light absorption layer containing a carbon black pigment and dye has been proposed (for example, refer to Patent Document 1).

일본 특허공개 2017-203810 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2017-203810

한편, 광을 흡수하는 기능을 갖는 층이 점착층인 경우에는, 검사 등의 관점에서 투명성이 요구되는 경우가 있다.On the other hand, when the layer having a function of absorbing light is an adhesive layer, transparency is sometimes required from the viewpoint of inspection and the like.

본 발명은, 임의의 타이밍에 활성 광선을 조사함으로써, 착색시킬 수 있는 점착제, 그 점착제로 이루어지는 점착층을 이용하여 얻어지는 중간 적층체의 제조 방법, 및 그 중간 적층체의 제조 방법에 의해 얻어지는 중간 적층체를 제공하는 것에 있다.The present invention relates to a method for producing an intermediate laminate obtained by using a pressure-sensitive adhesive capable of being colored by irradiating actinic light at an arbitrary timing, a pressure-sensitive adhesive layer made of the pressure-sensitive adhesive, and an intermediate laminate obtained by the method for producing the intermediate laminate It is about providing a body.

본 발명[1]은, 모노머 성분의 중합체인 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 산 발생제를 포함하고, 상기 점착성 폴리머의 유리 전이 온도가 0℃ 이하이고, 20℃∼50℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가 1.0×104Pa 이상 1.0×106Pa 이하인, 점착제이다.The present invention [1] includes a tacky polymer that is a polymer of a monomer component, a compound colored by an acid, and an acid generator, wherein the glass transition temperature of the tacky polymer is 0° C. or less, and at 20° C. to 50° C. It is an adhesive whose shear storage modulus G' is 1.0×10 4 Pa or more and 1.0×10 6 Pa or less.

본 발명[2]는, 상기 모노머 성분이, 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머를 포함하는, 상기 [1]에 기재된 점착제를 포함하고 있다.This invention [2] contains the adhesive as described in said [1] in which the said monomer component contains the acidic vinyl monomer which has an anionic group.

본 발명[3]은, 상기 모노머 성분이, 실질적으로, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 점착제를 포함하고 있다.The present invention [3] contains the pressure-sensitive adhesive according to [1] or [2], wherein the monomer component does not substantially contain a basic vinyl monomer having a lone pair of electrons.

본 발명[4]는, 상기 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 점착제로 이루어지는 점착층을 준비하는 준비 공정, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하여, 상기 점착층에, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 높은 고조사 부분과, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 낮거나, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사/저조사 부분을 형성하는 것에 의해, 상기 고조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 상기 비조사/저조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 조사 공정, 및 상기 점착층의 타방면을 피착체에 첩착(貼着)하는 첩착 공정을 구비하는, 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.The present invention [4] is a preparatory step for preparing an adhesive layer comprising the pressure-sensitive adhesive according to any one of [1] to [3], irradiating actinic light to the pressure-sensitive adhesive layer, and to the pressure-sensitive adhesive layer, The visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion by forming a highly irradiated portion with a high irradiation amount of A method for producing an intermediate laminate, comprising: an irradiation step of making the non-irradiated/low-irradiated portion smaller than the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a bonding step of adhering the other side of the adhesive layer to an adherend contains

본 발명[5]는, 상기 준비 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하고, 상기 조사 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하는, 상기 [4]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [5] includes the manufacturing method of the intermediate laminated body as described in said [4] which implements the said irradiation process after the said preparation process, and implements the said sticking process after the said irradiation process.

본 발명[6]은, 상기 준비 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하고, 상기 첩착 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하는, 상기 [4]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [6] includes the manufacturing method of the intermediate laminated body as described in said [4] which implements the said sticking process after the said preparation process, and implements the said irradiation process after the said sticking process.

본 발명[7]은, 상기 조사 공정에 있어서, 상기 점착층의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [6]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [7] includes the manufacturing method of the intermediate|middle laminated body as described in said [6] which irradiates actinic light to the said adhesive layer from the surface side of the said adhesive layer in the said irradiation process.

본 발명[8]은, 상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [6]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.This invention [8] includes the manufacturing method of the intermediate|middle laminated body as described in said [6] which irradiates actinic light to the said adhesive layer from the surface side of the said to-be-adhered body in the said irradiation process.

본 발명[9]는, 상기 피착체의, 활성 광선의 평균 투과율이 60% 이상이고, 상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체측의 타방면의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는, 상기 [8]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [9], in the adherend, the average transmittance of actinic light is 60% or more, and in the irradiation step, after disposing a mask for blocking actinic light on a part of the other surface on the side of the adherend, The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body as described in said [8] of irradiating actinic light to the said adhesive layer is included.

본 발명[10]은, 상기 피착체가, 활성 광선을 차단하고, 상기 첩착 공정에 있어서, 상기 점착층의 타방면의 일부에, 상기 피착체를 배치하는 것을 특징으로 하는, 상기 [8]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [10], the intermediate according to the above [8], wherein the adherend blocks actinic light, and the adherend is disposed on a part of the other side of the adhesive layer in the sticking step A method for manufacturing a laminate is included.

본 발명[11]은, 상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사 부분이고, 상기 비조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인, 상기 [4]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [11], the above [4] to [11], wherein the non-irradiated/low irradiated portion is a non-irradiated portion not irradiated with actinic light, and the non-irradiated portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more. The method for producing the intermediate laminate according to any one of [10] is included.

본 발명[12]는, 상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고, 상기 조사 공정은, 활성 광선을 차단하는 제 1 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층에, 활성 광선이 조사된 제 1 조사 부분과, 활성 광선이 조사되어 있지 않은 가(假)비조사 부분을 형성하는 제 1 조사 공정과, 상기 제 1 조사 부분에, 활성 광선을 차단하는 제 2 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 있어서의 상기 가비조사 부분에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 가비조사 부분을, 제 2 조사 부분으로 하는 제 2 조사 공정을 구비하고, 상기 제 1 조사 부분 및 상기 제 2 조사 부분 중 어느 한쪽이 상기 고조사 부분이고, 다른 쪽이 상기 저조사 부분인, 상기 [4]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [12], the non-irradiated/low-irradiated portion is a low-irradiation portion with a low irradiation amount of actinic light, and the irradiation step is performed on the adhesive layer after disposing a first mask that blocks the actinic light A first irradiation step of forming, in the adhesive layer, a first irradiated portion irradiated with actinic light and a temporary non-irradiated portion not irradiated with actinic light by irradiating the adhesive layer with the first irradiation; After arranging a second mask that blocks actinic light in the portion, second irradiation using the provisionally irradiated portion as a second irradiation portion by irradiating the provisionally irradiated portion with actinic light on the portion of the adhesive layer The intermediate lamination according to any one of [4] to [9], comprising a step, wherein either one of the first irradiated portion and the second irradiated portion is the high irradiated portion, and the other is the low irradiated portion. It includes a method for manufacturing a sieve.

본 발명[13]은, 상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고, 상기 조사 공정은, 상기 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층의 전부를, 활성 광선이 조사된 제 3 조사 부분으로 하는 제 3 조사 공정과, 상기 제 3 조사 부분의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 제 3 조사 부분의 잔부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 제 3 조사 부분의 잔부를, 제 4 조사 부분으로 하는 제 4 조사 공정을 구비하고, 상기 제 3 조사 부분이, 상기 저조사 부분이고, 상기 제 4 조사 부분이, 상기 고조사 부분인, 상기 [4]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [13], the non-irradiated/low-irradiated portion is a low-irradiation portion with a low irradiation amount of actinic light, and in the irradiation step, all of the adhesive layer is irradiated with actinic light, whereby the adhesive layer is 3rd irradiation process which makes all of it the 3rd irradiation part irradiated with actinic light, and after arrange|positioning the mask which block|blocks actinic light in a part of said 3rd irradiation part, actinic light in the remainder of the said 3rd irradiation part a fourth irradiation step of making the remainder of the third irradiated portion into a fourth irradiated portion by irradiating The method for producing the intermediate laminate according to any one of [4] to [9], which is a highly irradiated portion, is included.

본 발명[14]는, 상기 고조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고, 상기 저조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인, 상기 [12] 또는 [13]에 기재된 중간 적층체의 제조 방법을 포함하고 있다.In the present invention [14], the high-irradiation portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of less than 20%, and the low-irradiation portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 20% or more and 70% or less. ] or the method for producing the intermediate laminate as described in [13].

본 발명[15]는, 상기 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 점착제로 이루어지는 점착층 및 상기 점착층의 타방면에 배치되는 피착체를 구비하고, 상기 점착층이, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분을 구비하는, 중간 적층체를 포함하고 있다.The present invention [15] includes an adhesive layer made of the adhesive according to any one of [1] to [3] and an adherend disposed on the other side of the adhesive layer, wherein the adhesive layer has a relative wavelength of 550 nm. An intermediate laminate comprising a high light transmittance portion having a large visible light transmittance and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm.

본 발명[16]은, 상기 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는, 상기 [15]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.The present invention [16] includes the intermediate laminate according to [15], wherein the low light transmittance portion has a pattern shape.

본 발명[17]은, 상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인, 상기 [15] 또는 [16]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.The present invention [17] includes the intermediate laminate according to the above [15] or [16], wherein the high light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more.

본 발명[18]은, 상기 저광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고, 상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인, 상기 [15] 또는 [16]에 기재된 중간 적층체를 포함하고 있다.In the present invention [18], the low light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm is less than 20%, and the high light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 20% or more and 70% or less. ] or the intermediate laminate according to [16].

본 발명의 점착제는, 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 산 발생제를 포함한다.The pressure-sensitive adhesive of the present invention contains a pressure-sensitive adhesive polymer, a compound colored with an acid, and an acid generator.

산 발생제는, 활성 광선 조사 또는 가열에 의해 산을 발생시키는 화합물이고, 산에 의해 착색되는 화합물은, 구체적으로는, 산에 의해 무색(투명)으로부터 유색으로 변화하는 화합물이다.An acid generator is a compound which generate|occur|produces an acid by actinic light irradiation or heating, and the compound colored by an acid is specifically, a compound which changes from colorless (transparent) to colored by an acid.

그 때문에, 이 점착제는, 활성 광선 조사 또는 가열에 의해, 산 발생제로부터 산을 발생시키고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색되는 것에 의해, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다.Therefore, this pressure-sensitive adhesive changes from colorless (transparent) to colored by generating an acid from an acid generator by irradiation with actinic light or heating, and the compound colored by the acid is colored by the acid. .

그렇게 하면, 이 점착제에 의하면, 임의의 타이밍에 활성 광선을 조사함으로써, 착색시킬 수 있다.Then, according to this adhesive, it can be made to color by irradiating actinic light at arbitrary timings.

또한, 본 발명에 있어서의 점착성 폴리머의 유리 전이 온도가 0℃ 이하이다.Moreover, the glass transition temperature of the adhesive polymer in this invention is 0 degreeC or less.

그 때문에, 단차 추종성이 우수하다.Therefore, it is excellent in step|step difference followability|trackability.

또한, 본 발명에 있어서의 점착성 폴리머의 20℃∼50℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가 1.0×104Pa 이상 1.0×106Pa 이하이다.Moreover, the shear storage modulus G' in 20 degreeC - 50 degreeC of the adhesive polymer in this invention is 1.0 x 10 4 Pa or more and 1.0 x 10 6 Pa or less.

그 때문에, 밀착성이 우수하고, 보다 전단 저장 탄성률 G'가 낮은 경우에는, 단차 추종성도 우수하다.Therefore, it is excellent in adhesiveness, and when shear storage elastic modulus G' is lower, it is also excellent in level|step difference followability|trackability.

본 발명의 중간 적층체의 제조 방법은, 본 발명의 점착제로 이루어지는 점착층을 준비하는 준비 공정을 구비한다.The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body of this invention is equipped with the preparatory process of preparing the adhesive layer which consists of the adhesive of this invention.

그 때문에, 이 점착층에 활성 광선을 조사함으로써, 점착층을 착색시킬 수 있다.Therefore, the adhesion layer can be colored by irradiating actinic light to this adhesion layer.

또한, 이 중간 적층체의 제조 방법에서는, 점착층에, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 높은 고조사 부분과, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 낮거나, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사/저조사 부분을 형성하는 것에 의해, 고조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 비조사/저조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 조사 공정을 구비한다.Moreover, in the manufacturing method of this intermediate|middle laminated body, the highly irradiated part with a relatively high irradiation amount of actinic light, and a non-irradiated/low-irradiation part where the irradiation amount of actinic light is relatively low, or actinic light is not irradiated to an adhesive layer. An irradiation step of making the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion smaller than the visible light transmittance of the non-irradiated/low irradiated portion at a wavelength of 550 nm is provided by forming a.

그 때문에, 점착층에 있어서의 착색 부분 이외를, 투명인 그대로 잔존시키거나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 할 수 있다.Therefore, it is made to remain|survive as it is transparent, except for the colored part in an adhesion layer, or can reduce the coloring amount rather than a colored part.

본 발명의 중간 적층체에 있어서, 점착층은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분을 구비한다.In the intermediate laminate of the present invention, the adhesive layer includes a high light transmittance portion having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm.

그 때문에, 중간 적층체에 있어서의 점착층은, 착색 부분에 있어서, 광을 흡수하는 기능을 갖고, 착색 부분 이외에 있어서, 투명성을 갖거나, 또는 착색 부분보다도 낮은 광을 흡수하는 기능을 갖는다.Therefore, the adhesive layer in an intermediate|middle laminated body has a function to absorb light in a colored part, and has transparency or has a function to absorb light lower than a colored part in other than a colored part.

[도 1] 도 1은 점착층을 제조하는 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 1A는 박리 필름을 준비하는 공정을 나타내고, 도 1B는 박리 필름의 일방면에, 점착층을 배치하는 공정을 나타낸다.
[도 2] 도 2는 점착 시트를 제조하는 방법의 일 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 2A는 기재를 준비하는 공정을 나타내고, 도 2B는 기재의 일방면에, 점착층을 배치하는 공정을 나타내고, 도 2C는 점착층의 일방면에, 박리 필름을 배치하는 공정을 나타낸다.
[도 3] 도 3은 본 발명의 중간 적층체의 일 실시형태를 나타내는 개략도이다.
[도 4] 도 4는 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 1 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 4A는 점착층을 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 4B는 박리 필름의 표면측(점착층의 표면측)으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 4C는 점착층을 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타낸다.
[도 5] 도 5는 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 2A 실시형태(피착체가 제 1 피착체인 경우)를 나타내는 개략도로서, 도 5A는 점착층을 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 5B는 점착층을 제 1 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타내고, 도 5C는 제 1 피착체의 표면측으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 5D는 제 2A 실시형태(피착체가 제 1 피착체인 경우)에 있어서 제조되는 중간 적층체를 나타낸다.
[도 6] 도 6은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 2A 실시형태(피착체가 제 2 피착체인 경우)를 나타내는 개략도로서, 도 6A는 점착층을 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 6B는 점착층을 제 2 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타내고, 도 6C는 제 2 피착체의 표면측으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 6D는 제 2A 실시형태(피착체가 제 2 피착체인 경우)에 있어서 제조되는 중간 적층체를 나타낸다.
[도 7] 도 7은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 2B 실시형태를 나타내는 개략도로서, 도 7A는 점착층을 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 7B는 점착층을 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타내고, 도 7C는 박리 필름의 표면측(점착층의 표면측)으로부터 점착층에 활성 광선을 조사하는 조사 공정을 나타내고, 도 7D는 제 2B 실시형태에 있어서 제조되는 중간 적층체를 나타낸다.
[도 8] 도 8은 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 1A 실시형태의 제 1 변형예를 나타내는 개략도로서, 도 8A는 점착층을 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 8B는 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 제 1 조사 부분과, 가비조사 부분을 형성하는 제 1 조사 공정을 나타내고, 도 8C는 가비조사 부분에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 가비조사 부분을, 제 2 조사 부분으로 하는 제 2 조사 공정을 나타내고, 도 8D는 점착층을 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타낸다.
[도 9] 도 9는 본 발명의 중간 적층체의 제조 방법의 제 1A 실시형태의 제 2 변형예를 나타내는 개략도로서, 도 9A는 점착 시트를 준비하는 준비 공정을 나타내고, 도 9B는 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 점착층의 전부를, 제 3 조사 부분으로 하는 제 3 조사 공정을 나타내고, 도 9C는 제 3 조사 부분의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 제 3 조사 부분의 잔부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 제 3 조사 부분의 잔부를, 제 4 조사 부분으로 하는 제 4 조사 공정을 나타내고, 도 9D는 점착 시트를 피착체에 첩착하는 첩착 공정을 나타낸다.
[도 10] 도 10은 점착층에 있어서의 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체의 제조 방법을 나타내는 개략도로서, 도 10A는 활성 광선을 차단하는 마스크를 복수 배치하는 조사 공정을 나타내고, 도 10B는 점착층에 있어서의 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체를 나타낸다.
1 is a schematic view showing an embodiment of a method for manufacturing an adhesive layer, in which FIG. 1A shows a step of preparing a release film, and FIG. 1B is a step of disposing an adhesive layer on one side of the release film indicates
[Fig. 2] Fig. 2 is a schematic view showing an embodiment of a method for manufacturing an adhesive sheet, in which Fig. 2A shows a process for preparing a substrate, and Fig. 2B shows a process for arranging an adhesive layer on one side of the substrate , Fig. 2C shows a step of disposing a release film on one side of the pressure-sensitive adhesive layer.
[Fig. 3] Fig. 3 is a schematic view showing one embodiment of the intermediate laminate of the present invention.
[Fig. 4] Fig. 4 is a schematic view showing a first embodiment of a method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, Fig. 4A showing a preparatory process for preparing an adhesive layer, and Fig. 4B showing a surface side of the release film (adhesive layer) The irradiation step of irradiating the adhesive layer with actinic light from the surface side) is shown, and Fig. 4C shows the sticking step of sticking the adhesive layer to the adherend.
[Fig. 5] Fig. 5 is a schematic diagram showing a second embodiment (when an adherend is a first adherend) of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, Fig. 5A shows a preparatory process for preparing an adhesive layer, Fig. 5B shows a sticking step of adhering the adhesive layer to the first adherend, Fig. 5C shows an irradiation step of irradiating the adhesive layer with actinic light from the surface side of the first adherend, and Fig. 5D shows the second A embodiment (adhering) In the case where the sieve is the first adherend), the intermediate laminate produced is shown.
[Fig. 6] Fig. 6 is a schematic view showing a second embodiment (when an adherend is a second adherend) of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, Fig. 6A shows a preparatory step for preparing an adhesive layer, Fig. 6B shows a bonding step of adhering the pressure-sensitive adhesive layer to the second adherend; The intermediate laminate produced in the case of the sieve as the second adherend) is shown.
[Fig. 7] Fig. 7 is a schematic view showing a second embodiment of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, in which Fig. 7A shows a preparatory process for preparing an adhesive layer, and Fig. 7B is a method for adhering the adhesive layer to an adherend. shows the sticking step, Fig. 7C shows the irradiation step of irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with actinic light from the surface side of the release film (the surface side of the pressure-sensitive adhesive layer), and Fig. 7D shows the intermediate laminate produced in the second B embodiment. indicates.
[Fig. 8] Fig. 8 is a schematic view showing a first modification of Embodiment 1A of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, wherein Fig. 8A shows a preparation step for preparing an adhesive layer, and Fig. 8B shows actinic light A first irradiation step of forming a first irradiated portion and a provisionally irradiated portion by irradiating is shown. Fig. 8C shows the provisionally irradiated portion as a second irradiated portion by irradiating an actinic light to the provisionally irradiated portion The second irradiation step is shown, and Fig. 8D shows a sticking step of adhering the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend.
[Fig. 9] Fig. 9 is a schematic view showing a second modification of the first embodiment 1A of the method for manufacturing an intermediate laminate of the present invention, wherein Fig. 9A shows a preparation step for preparing an adhesive sheet, and Fig. 9B shows the pressure-sensitive adhesive layer A third irradiation step is shown in which all of the adhesive layer serves as a third irradiated portion by irradiating the entire area with actinic light, and Fig. 9C is after arranging a mask for blocking actinic light on a part of the third irradiated portion , shows a fourth irradiation step in which the remainder of the third irradiated portion is irradiated with actinic light to the remaining portion of the third irradiated portion as a fourth irradiated portion, and FIG. represents the process.
[Fig. 10] Fig. 10 is a schematic view showing a method for manufacturing an intermediate laminate in which a low light transmittance portion in an adhesive layer has a pattern shape, Fig. 10A shows an irradiation process of arranging a plurality of masks for blocking actinic light, Fig. 10B shows the intermediate|middle laminated body in which the low light transmittance part in an adhesive layer has a pattern shape.

1. 점착제1. Adhesive

본 발명의 점착제는, 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 산 발생제를 포함한다.The pressure-sensitive adhesive of the present invention contains a pressure-sensitive adhesive polymer, a compound colored with an acid, and an acid generator.

점착성 폴리머는, 점착제에 점착성을 부여하기 위해서 배합된다.An adhesive polymer is mix|blended in order to provide adhesiveness to an adhesive.

점착성 폴리머는, 모노머 성분(후술)의 중합체이고, 예를 들면, 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 유레테인계 폴리머, 고무계 폴리머 등을 들 수 있고, 광학적 투명성, 접착성, 및 저장 탄성률의 제어의 관점에서, 바람직하게는 아크릴계 폴리머를 들 수 있다.The adhesive polymer is a polymer of a monomer component (described later), for example, an acrylic polymer, a silicone polymer, a urethane polymer, a rubber polymer, etc., from the viewpoint of optical transparency, adhesiveness, and control of storage modulus , preferably an acrylic polymer.

아크릴계 폴리머는, (메트)아크릴산 알킬 에스터를 주성분으로서 포함하는 모노머 성분의 중합에 의해 얻어진다.The acrylic polymer is obtained by polymerization of a monomer component containing (meth)acrylic acid alkyl ester as a main component.

(메트)아크릴산 알킬 에스터는, 아크릴산 에스터 및/또는 메타크릴산 에스터이고, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 아이소프로필, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 s-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 아이소펜틸, (메트)아크릴산 네오펜틸, (메트)아크릴산 헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 아이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 아이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 아이소데실, (메트)아크릴산 운데실, (메트)아크릴산 도데실, (메트)아크릴산 아이소트라이도데실, (메트)아크릴산 테트라데실, (메트)아크릴산 아이소테트라데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 세틸, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실, (메트)아크릴산 아이소옥타데실, (메트)아크릴산 노나데실, (메트)아크릴산 에이코실 등의 직쇄상 또는 분기상의, (메트)아크릴산 C1-20 알킬 에스터 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 뷰틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, 보다 바람직하게는 메타크릴산 메틸, 아크릴산 뷰틸, 아크릴산 2-에틸헥실을 들 수 있다.(meth)acrylic acid alkyl ester is acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester, for example, (meth) methyl acrylate, (meth) ethyl acrylate, (meth) acrylic acid propyl, (meth) acrylic acid butyl, (meth) Acrylic acid isopropyl, (meth)acrylic acid butyl, (meth)acrylic acid isobutyl, (meth)acrylic acid s-butyl, (meth)acrylic acid t-butyl, (meth)acrylic acid pentyl, (meth)acrylic acid isopentyl, (meth)acrylic acid Neopentyl, (meth)acrylic acid hexyl, (meth)acrylic acid heptyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth)acrylic acid octyl, (meth)acrylic acid isooctyl, (meth)acrylic acid nonyl, (meth)acrylic acid isono Neyl, (meth)acrylic acid decyl, (meth)acrylic acid isodecyl, (meth)acrylic acid undecyl, (meth)acrylic acid dodecyl, (meth)acrylic acid isotridodecyl, (meth)acrylic acid tetradecyl, (meth)acrylic acid iso Tetradecyl, (meth)acrylic acid pentadecyl, (meth)acrylic acid cetyl, (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl, (meth)acrylic acid isooctadecyl, (meth)acrylic acid nonadecyl, (meth)acrylic acid eico linear or branched (meth)acrylic acid C1-20 alkyl esters such as yarn, preferably (meth)acrylic acid methyl, (meth)acrylic acid butyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, more preferably Examples include methyl methacrylate, butyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate.

(메트)아크릴산 알킬 에스터는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.(meth)acrylic acid alkyl ester can be used individually or in combination of 2 or more types.

(메트)아크릴산 알킬 에스터로서, 유리 전이 온도 및 전단 저장 탄성률 G'를 조정하는 관점에서, 바람직하게는 (메트)아크릴산 C4-12 알킬 에스터로부터 선택되는 단독 또는 복수 사용, 또는 메타크릴산 메틸과 아크릴산 C4-12 알킬 에스터의 병용, 보다 바람직하게는 메타크릴산 메틸과 아크릴산 C4-12 알킬 에스터의 병용을 들 수 있다.As the (meth)acrylic acid alkyl ester, from the viewpoint of adjusting the glass transition temperature and the shear storage modulus G', it is preferably used alone or in plurality selected from (meth)acrylic acid C4-12 alkyl esters, or methyl methacrylate and acrylic acid A combined use of a C4-12 alkyl ester, more preferably a combination of methyl methacrylate and a C4-12 acrylic acid alkyl ester is used.

(메트)아크릴산 알킬 에스터로서, 메타크릴산 메틸과 아크릴산 C4-12 알킬 에스터를 병용하는 경우에는, 메타크릴산 메틸 및 아크릴산 C4-12 알킬 에스터의 총량 100질량부에 대해서, 메타크릴산 메틸의 배합 비율은, 예를 들면, 5질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 20질량부 이하이며, 또한, 아크릴산 C4-12 알킬 에스터의 배합 비율은, 예를 들면, 80질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 95질량부 이하이다.When methyl methacrylate and C4-12 acrylate alkyl ester are used together as (meth)acrylic acid alkyl ester, methyl methacrylate is blended with respect to 100 parts by mass of the total amount of methyl methacrylate and C4-12 acrylate alkyl ester The ratio is, for example, 5 parts by mass or more, and for example, 20 parts by mass or less, and the blending ratio of the acrylic acid C4-12 alkyl ester is, for example, 80 parts by mass or more, For example, it is 95 mass parts or less.

(메트)아크릴산 알킬 에스터의 배합 비율은, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 50질량% 이상, 바람직하게는 60질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 99질량% 이하, 바람직하게는 80질량% 이하이다.The blending ratio of the (meth)acrylic acid alkyl ester is, for example, 50 mass % or more, preferably 60 mass % or more, with respect to the monomer component, and for example, 99 mass % or less, preferably 80 mass % or less. % or less.

또한, 모노머 성분은, 바람직하게는 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머를 포함한다.Further, the monomer component preferably contains an acidic vinyl monomer having an anionic group.

모노머 성분이, 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머를 포함하면, 산 발생제(후술)로부터 생긴 강산에 의해 괴리 촉진되고, 색감이 강해져, 후술하는 착색 안정성이 우수하다.When a monomer component contains the acidic vinyl monomer which has an anionic group, separation is accelerated|stimulated by the strong acid generated from an acid generator (described later), a color becomes strong, and it is excellent in the coloring stability mentioned later.

음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 카복실기 함유 바이닐 모노머, 설포기 함유 바이닐 모노머, 인산기 함유 바이닐 모노머 등을 들 수 있다.As an acidic vinyl monomer which has an anionic group, a carboxyl group containing vinyl monomer, a sulfo group containing vinyl monomer, a phosphoric acid group containing vinyl monomer, etc. are mentioned, for example.

카복실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 2-카복시에틸, 카복시펜틸 (메트)아크릴산 카복시펜틸, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing vinyl monomer include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid 2-carboxyethyl, carboxypentyl (meth)acrylic acid carboxypentyl, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid.

또한, 카복실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머도 들 수 있다.Moreover, as a carboxyl group containing vinyl monomer, acid anhydride group containing monomers, such as maleic anhydride and itaconic anhydride, are mentioned, for example.

설포기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 스타이렌 설폰산, 알릴 설폰산 등을 들 수 있다.Examples of the sulfo group-containing vinyl monomer include styrene sulfonic acid and allyl sulfonic acid.

인산기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸아크릴로일 포스페이트 등을 들 수 있다.As a phosphoric acid group containing vinyl monomer, 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate etc. are mentioned, for example.

음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.The acidic vinyl monomer which has an anionic group can be used individually or in combination of 2 or more types.

음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머의 배합 비율은, (메트)아크릴산 알킬 에스터 100질량부에 대해서, 예를 들면, 3질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 10질량부 이하이며, 또한, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 1질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 8질량% 이하이다.The blending ratio of the acidic vinyl monomer having an anionic group is, for example, 3 parts by mass or more, and for example, 10 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the (meth)acrylic acid alkyl ester, the monomer component It is, for example, 1 mass % or more with respect to, and is 8 mass % or less, for example.

또한, 모노머 성분은, 바람직하게는, 실질적으로, (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않는다.Further, the monomer component preferably does not substantially contain a basic vinyl monomer having a lone pair of electrons copolymerizable with the (meth)acrylic acid alkyl ester.

구체적으로는, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머의 배합 비율은, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 3질량% 이하, 바람직하게는 1질량% 이하, 더 바람직하게는 0.5질량% 이하, 특히 바람직하게는 0질량% 이하이다. 환언하면, 특히 바람직하게는, 모노머 성분은, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않는다.Specifically, the blending ratio of the basic vinyl monomer having a lone pair of electrons is, for example, 3% by mass or less, preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, with respect to the monomer component, particularly preferably is 0 mass % or less. In other words, particularly preferably, the monomer component does not contain a basic vinyl monomer having a lone pair of electrons.

모노머 성분이, 실질적으로, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않으면, 각 모노머 성분의 용출을 억제할 수 있어, 후술하는 착색 안정성을 향상시킬 수 있다.When a monomer component does not contain the basic vinyl monomer which has a lone electron pair substantially, elution of each monomer component can be suppressed and the coloring stability mentioned later can be improved.

고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머로서는, 헤테로환에 질소를 갖는 헤테로환 함유 염기성 바이닐 모노머로서, 예를 들면, N-바이닐피롤리돈, 메틸 바이닐피롤리돈, 바이닐피리딘, 바이닐피페리돈, 바이닐피리미딘, 바이닐피페라진, 바이닐피라진, 바이닐피롤, 바이닐이미다졸, 바이닐옥사졸, 바이닐모폴린, N-아크릴로일모폴린, N-바이닐카프로락탐 등을 들 수 있다.The basic vinyl monomer having a lone pair of electrons is a basic vinyl monomer containing a heterocycle having nitrogen in the heterocyclic ring, for example, N-vinylpyrrolidone, methyl vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine. , vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, N-acryloylmorpholine, N-vinylcaprolactam, and the like.

또한, 모노머 성분은, 바람직하게는 (메트)아크릴산 알킬 에스터와 공중합 가능한 작용기 함유 바이닐 모노머(상기의 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머 및 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 제외한다)를 포함하고 있다.In addition, the monomer component preferably contains a functional group-containing vinyl monomer copolymerizable with (meth)acrylic acid alkyl ester (excluding the above acidic vinyl monomer having an anionic group and basic vinyl monomer having a lone pair of electrons).

작용기 함유 바이닐 모노머로서는, 하이드록실기 함유 바이닐 모노머, 사이아노기 함유 바이닐 모노머, 글라이시딜기 함유 바이닐 모노머, 방향족 바이닐 모노머, 바이닐 에스터 모노머, 바이닐 에터 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the functional group-containing vinyl monomer include a hydroxyl group-containing vinyl monomer, a cyano group-containing vinyl monomer, a glycidyl group-containing vinyl monomer, an aromatic vinyl monomer, a vinyl ester monomer, and a vinyl ether monomer.

하이드록실기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 4-하이드록시뷰틸, (메트)아크릴산 6-하이드록시헥실, (메트)아크릴산 8-하이드록시옥틸, (메트)아크릴산 10-하이드록시데실, (메트)아크릴산 12-하이드록시라우릴, (메트)아크릴산 4-(하이드록시메틸)사이클로헥실)메틸 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, 보다 바람직하게는 아크릴산 2-하이드록시에틸을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing vinyl monomer, for example, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 6-hydroxy Hexyl, (meth)acrylic acid 8-hydroxyoctyl, (meth)acrylic acid 10-hydroxydecyl, (meth)acrylic acid 12-hydroxylauryl, (meth)acrylic acid 4-(hydroxymethyl)cyclohexyl)methyl, etc. These are mentioned, Preferably 2-hydroxyethyl (meth)acrylic acid is mentioned, More preferably, 2-hydroxyethyl acrylate is mentioned.

사이아노기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴로나이트릴 등을 들 수 있다.As a cyano group containing vinyl monomer, (meth)acrylonitrile etc. are mentioned, for example.

글라이시딜기 함유 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 글라이시딜 등을 들 수 있다.As a glycidyl group containing vinyl monomer, (meth)acrylic-acid glycidyl etc. are mentioned, for example.

방향족 바이닐 모노머로서는, 예를 들면, 스타이렌, p-메틸 스타이렌, o-메틸 스타이렌, α-메틸 스타이렌 등을 들 수 있다.As an aromatic vinyl monomer, styrene, p-methyl styrene, o-methyl styrene, (alpha)-methyl styrene etc. are mentioned, for example.

바이닐 에스터 모노머로서는, 예를 들면, 아세트산 바이닐, 프로피온산 바이닐 등을 들 수 있다.As a vinyl ester monomer, vinyl acetate, vinyl propionate, etc. are mentioned, for example.

바이닐 에터 모노머로서는, 예를 들면, 메틸 바이닐 에터 등을 들 수 있다.As a vinyl ether monomer, methyl vinyl ether etc. are mentioned, for example.

작용기 함유 바이닐 모노머는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다. 가교제(후술)가 배합되는 경우에는, 폴리머에 가교 구조를 도입하는 관점에서, 바람직하게는 하이드록실기 함유 바이닐 모노머를 들 수 있다.The functional group-containing vinyl monomer may be used alone or in combination of two or more. When a crosslinking agent (described later) is blended, a hydroxyl group-containing vinyl monomer is preferably used from the viewpoint of introducing a crosslinked structure to the polymer.

작용기 함유 바이닐 모노머의 배합 비율은, (메트)아크릴산 알킬 에스터 100질량부에 대해서, 예를 들면, 3질량부 이상, 바람직하게는 5질량부 이상, 보다 바람직하게는 15질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 20질량부 이하이며, 또한, 모노머 성분에 대해서, 예를 들면, 4질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 30질량% 이하, 바람직하게는 20질량% 이하이다.The blending ratio of the functional group-containing vinyl monomer is, for example, 3 parts by mass or more, preferably 5 parts by mass or more, more preferably 15 parts by mass or more, with respect to 100 parts by mass of the (meth)acrylic acid alkyl ester, For example, it is 20 mass parts or less, and with respect to a monomer component, for example, 4 mass % or more, Preferably it is 10 mass % or more, For example, 30 mass % or less, Preferably 20 mass % or less. mass% or less.

그리고, 아크릴계 폴리머는, 상기한 모노머 성분을 중합하여 이루어지는 중합체이다.And the acrylic polymer is a polymer formed by superposing|polymerizing the above-mentioned monomer component.

모노머 성분을 중합시키기 위해서는, 예를 들면, (메트)아크릴산 알킬 에스터와, 필요에 따라, 염기성 바이닐 모노머 및 작용기 함유 바이닐 모노머를 배합하여 모노머 성분을 조제하고, 이것을, 예를 들면, 용액 중합, 괴상(塊狀) 중합, 유화 중합 등의 공지된 중합 방법에 의해 조제한다.In order to polymerize the monomer component, for example, (meth)acrylic acid alkyl ester and, if necessary, a basic vinyl monomer and a functional group-containing vinyl monomer are blended to prepare a monomer component, and this is, for example, solution polymerization, bulk (塊狀) It prepares by well-known polymerization methods, such as polymerization and emulsion polymerization.

중합 방법으로서는, 바람직하게는 용액 중합을 들 수 있다.As a polymerization method, Preferably solution polymerization is mentioned.

용액 중합에서는, 예를 들면, 용매에, 모노머 성분과 중합 개시제를 배합하여, 모노머 용액을 조제하고, 그 후, 모노머 용액을 가열한다.In solution polymerization, a monomer component and a polymerization initiator are mix|blended with a solvent, for example, a monomer solution is prepared, and a monomer solution is heated after that.

용매로서는, 예를 들면, 유기 용매 등을 들 수 있다.As a solvent, an organic solvent etc. are mentioned, for example.

유기 용매로서는, 예를 들면, 톨루엔, 벤젠, 자일렌 등의 방향족 탄화수소계 용매, 예를 들면, 다이에틸 에터 등의 에터계 용매, 예를 들면, 아세톤, 메틸 에틸 케톤 등 케톤계 용매, 예를 들면, 아세트산 에틸 등의 에스터계 용매, 예를 들면, N,N-다이메틸폼아마이드 등의 아마이드계 용매를 들 수 있고, 바람직하게는 에스터계 용매, 보다 바람직하게는 아세트산 에틸을 들 수 있다.Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene, and xylene, ether solvents such as diethyl ether, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, For example, ester solvents, such as ethyl acetate, For example, amide solvents, such as N,N- dimethylformamide, are mentioned, Preferably an ester solvent is mentioned, More preferably, ethyl acetate is mentioned.

용매는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A solvent can be used individually or can use 2 or more types together.

용매의 배합 비율은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들면, 100질량부 이상, 바람직하게는 200질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 500질량부 이하, 바람직하게는 300질량부 이하이다.The mixing ratio of the solvent is, for example, 100 parts by mass or more, preferably 200 parts by mass or more, and for example, 500 parts by mass or less, preferably 300 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the monomer component. to be.

중합 개시제로서는, 예를 들면, 퍼옥사이드계 중합 개시제, 아조계 중합 개시제 등을 들 수 있다.As a polymerization initiator, a peroxide type polymerization initiator, an azo type polymerization initiator, etc. are mentioned, for example.

퍼옥사이드계 중합 개시제로서는, 예를 들면, 퍼옥시카보네이트, 케톤 퍼옥사이드, 퍼옥시케탈, 하이드로퍼옥사이드, 다이알킬 퍼옥사이드, 다이아실 퍼옥사이드, 퍼옥시에스터 등의 유기 과산화물을 들 수 있다.Examples of the peroxide-based polymerization initiator include organic peroxides such as peroxycarbonate, ketone peroxide, peroxyketal, hydroperoxide, dialkyl peroxide, diacyl peroxide, and peroxyester.

아조계 중합 개시제로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸뷰티로나이트릴), 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스아이소뷰티르산 다이메틸 등의 아조 화합물을 들 수 있다.As the azo polymerization initiator, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis(2, Azo compounds, such as 4-dimethylvaleronitrile) and 2,2'- azobisisobutyrate dimethyl, are mentioned.

중합 개시제로서, 바람직하게는 아조계 중합 개시제, 보다 바람직하게는 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴을 들 수 있다.As a polymerization initiator, Preferably it is an azo type polymerization initiator, More preferably, 2,2'- azobisisobutyronitrile is mentioned.

중합 개시제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A polymerization initiator can be used individually or can use 2 or more types together.

중합 개시제의 배합 비율은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.05질량부 이상, 바람직하게는 0.1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 1질량부 이하, 바람직하게는 0.5질량부 이하이다.The mixing ratio of the polymerization initiator is, for example, 0.05 parts by mass or more, preferably 0.1 parts by mass or more, and for example, 1 part by mass or less, preferably 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer component. is below.

가열 온도는, 예를 들면, 50℃ 이상 80℃ 이하이고, 가열 시간은, 예를 들면, 1시간 이상 8시간 이하이다.The heating temperature is, for example, 50°C or more and 80°C or less, and the heating time is, for example, 1 hour or more and 8 hours or less.

이에 의해, 모노머 성분을 중합하여, 아크릴계 폴리머를 포함하는 아크릴계 폴리머 용액을 얻는다.Thereby, a monomer component is superposed|polymerized and the acrylic polymer solution containing an acrylic polymer is obtained.

아크릴계 폴리머 용액의 고형분 농도는, 예를 들면, 20질량% 이상이고, 또한, 예를 들면, 80질량% 이하이다.The solid content concentration of the acrylic polymer solution is, for example, 20 mass% or more, and is, for example, 80 mass% or less.

아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 예를 들면, 100000 이상, 바람직하게는 300000 이상, 보다 바람직하게는 500000 이상, 더 바람직하게는 650000 이상이고, 또한, 예를 들면, 5000000 이하, 바람직하게는 3000000 이하, 보다 바람직하게는 2000000 이하이다.The weight average molecular weight of the acrylic polymer is, for example, 100000 or more, preferably 300000 or more, more preferably 500000 or more, still more preferably 650000 or more, and for example, 5000000 or less, preferably 300000 or less. , More preferably, it is 2000000 or less.

한편, 상기의 중량 평균 분자량은, GPC(겔 퍼미에이션 크로마토그래프)에 의해 측정하고, 폴리스타이렌 환산에 의해 산출된 값이다.In addition, said weight average molecular weight is the value computed by polystyrene conversion by measuring by GPC (gel permeation chromatography).

점착성 폴리머의 유리 전이 온도는, 예를 들면, 0℃ 이하, 바람직하게는 -20℃ 이하이고, 또한, 통상 -70℃ 이상이다.The glass transition temperature of the adhesive polymer is, for example, 0°C or lower, preferably -20°C or lower, and is usually -70°C or higher.

점착성 폴리머의 유리 전이 온도가, 상기 상한 이하이면, 단차 추종성이 우수하다.When the glass transition temperature of the pressure-sensitive adhesive polymer is equal to or less than the upper limit, the level difference followability is excellent.

한편, 유리 전이 온도는, FOX의 식에 의한 계산으로 얻어진다.In addition, the glass transition temperature is obtained by calculation by the formula of FOX.

산에 의해 착색되는 화합물은, 산에 의해 무색(투명)으로부터 유색으로 변화하는 화합물이고, 예를 들면, 로이코계 색소, 예를 들면, p,p',p"-트리스-다이메틸아미노트라이페닐메테인 등의 트라이아릴메테인계 색소, 예를 들면, 4,4-비스-다이메틸아미노페닐벤즈하이드릴벤질 에터 등의 다이페닐메테인계 색소, 예를 들면, 3-다이에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란 등의 플루오란계 색소, 예를 들면, 3-메틸스파이로다이나프토피란 등의 스파이로피란계 색소, 예를 들면, 로다민-B-아닐리노락탐 등의 로다민계 색소 등을 들 수 있고, 바람직하게는 로이코계 색소를 들 수 있다.A compound colored by an acid is a compound that changes from colorless (transparent) to colored by an acid, for example, a leuco-based dye, for example, p,p',p"-tris-dimethylaminotriphenyl Triarylmethane-based dyes such as methane, for example, diphenylmethane-based dyes such as 4,4-bis-dimethylaminophenylbenzhydrylbenzyl ether, for example 3-diethylamino-6-methyl Fluorane-based dyes such as -7-chlorofluoran, for example, spiropyran-based dyes such as 3-methylspirodynaphthopyran, for example, rhodamine-based dyes such as rhodamine-B-anilinolactam etc. are mentioned, Preferably a leuco-type pigment|dye is mentioned.

산에 의해 착색되는 화합물은, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.The compound colored by an acid can be used individually or can use 2 or more types together.

산에 의해 착색되는 화합물의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.5질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 5질량부 이하, 바람직하게는 2질량부 이하이다.The compounding ratio of the compound colored with the acid is, for example, 0.5 parts by mass or more, and for example, 5 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer.

산 발생제로서는, 예를 들면, 광산 발생제, 열산 발생제 등을 들 수 있다.As an acid generator, a photo-acid generator, a thermal acid generator, etc. are mentioned, for example.

광산 발생제는, 광(활성 광선)의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물이다.A photo-acid generator is a compound which generate|occur|produces an acid by irradiation of light (actinic light).

활성 광선으로서는, 자외선, 가시광, 적외선, X선, α선, β선, γ선을 들 수 있고, 바람직하게는 사용 설비의 다양성 및 핸들링 용이성의 관점에서, 자외선을 들 수 있다.Examples of the actinic light include ultraviolet rays, visible light, infrared rays, X-rays, α-rays, β-rays, and γ-rays, and preferably, ultraviolet rays from the viewpoint of diversity of equipment used and ease of handling.

또한, 자외선이란, 1nm 이상 400nm 이하의 파장 범위의 전자파를 의미한다.In addition, an ultraviolet-ray means the electromagnetic wave in the wavelength range of 1 nm or more and 400 nm or less.

이와 같은 광산 발생제 중, 자외선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물(자외선 산 발생제)로서, 예를 들면, 오늄 화합물 등을 들 수 있다.Among such photo-acid generators, as a compound (ultraviolet-ray acid generator) which generate|occur|produces an acid by irradiation of an ultraviolet-ray, an onium compound etc. are mentioned, for example.

오늄 화합물로서는, 예를 들면, 아이오도늄 및 설포늄 등의 오늄 양이온과, Cl-, Br-, I-, ZnCl3 -, HSO3 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (C6F5)4B-, (C4H9)4B- 등의 음이온으로 이루어지는 염 등을 들 수 있다.Examples of the onium compound include onium cations such as iodonium and sulfonium, Cl - , Br - , I - , ZnCl 3 - , HSO 3 - , BF 4 - , PF 6 - , AsF 6 - , SbF and salts composed of anions such as 6 - , CH 3 SO 3 - , CF 3 SO 3 - , (C 6 F 5 ) 4 B - , and (C 4 H 9 ) 4 B - .

이와 같은 오늄 화합물로서, 바람직하게는 설포늄(오늄 양이온)과, (C6F5)4B-(음이온)로 이루어지는 염을 들 수 있다.As such an onium compound, Preferably, the salt which consists of sulfonium (onium cation) and (C 6 F 5 ) 4 B - (anion) is mentioned.

또한, 자외선 산 발생제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, CPI-310B(설포늄과 (C6F5)4B-로 이루어지는 염, 산 아프로사제) 등을 들 수 있다.Moreover, as an ultraviolet acid generator, a commercial item can also be used, For example, CPI-310B (salt which consists of sulfonium and (C 6 F 5 ) 4 B - , the acid Apro company make) etc. are mentioned.

광산 발생제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A photo-acid generator can be used individually or can use 2 or more types together.

열산 발생제는, 가열에 의해 산을 발생시키는 화합물이고, 예를 들면, 아릴설포늄염, 아릴아이오도늄염 등을 들 수 있다.A thermal acid generator is a compound which generate|occur|produces an acid by heating, For example, an arylsulfonium salt, an aryliodonium salt, etc. are mentioned.

열산 발생제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A thermal acid generator can be used individually or can use 2 or more types together.

산 발생제로서는, 가열 제막 시의 착색 방지나 단시간에서의 착색 처리 등의 관점에서, 광산 발생제가 선택되고, UV 중합에서의 제막에 있어서의 착색 방지나 UV에 의한 피착체(후술)에 대한 영향 회피 등의 관점에서, 열산 발생제가 선택된다.As the acid generator, a photo-acid generator is selected from the viewpoint of color prevention at the time of heating film forming, color treatment in a short time, etc. From the viewpoint of avoidance and the like, a thermal acid generator is selected.

산 발생제의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 1질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 20질량부 이하, 바람직하게는 15질량부 이하이다.The blending ratio of the acid generator is, for example, 1 part by mass or more, and for example, 20 parts by mass or less, preferably 15 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer.

그리고, 점착제는, 점착성 폴리머(용액 중합에 의해 점착성 폴리머를 조제한 경우는, 폴리머 용액)와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 산 발생제를 상기의 비율로 배합하고, 혼합하는 것에 의해, 조제된다(점착성 폴리머로서, 폴리머 용액을 이용한 경우에는, 점착제의 용액으로서 조제된다).Then, the pressure-sensitive adhesive is prepared by blending the pressure-sensitive adhesive polymer (a polymer solution when the pressure-sensitive adhesive polymer is prepared by solution polymerization), a compound colored with an acid, and an acid generator in the above ratio and mixing them. (When a polymer solution is used as an adhesive polymer, it is prepared as a solution of an adhesive).

점착제에는, 점착성 폴리머에 가교 구조를 도입시키는 관점에서, 바람직하게는 가교제를 배합한다.A crosslinking agent is preferably mix|blended with an adhesive from a viewpoint of introduce|transducing a crosslinked structure into an adhesive polymer.

가교제로서는, 예를 들면, 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카보다이이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등등 들 수 있다.As a crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, an oxazoline type crosslinking agent, an aziridine type crosslinking agent, a carbodiimide type crosslinking agent, a metal chelate type crosslinking agent, etc. are mentioned, for example.

아이소사이아네이트계 가교제로서는, 예를 들면, 뷰틸렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트 등의 지방족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 사이클로펜틸렌 다이아이소사이아네이트, 사이클로헥실렌 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트 등의 지환족 다이아이소사이아네이트, 예를 들면, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 4,4'-다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트 등의 방향족 다이아이소사이아네이트를 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, For example, aliphatic diisocyanate, such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, For example, cyclopentylene diisocyanate, cyclo Alicyclic diisocyanate, such as hexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, for example, 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'- diphenylmethane Aromatic diisocyanate, such as diisocyanate and xylylene diisocyanate, is mentioned.

또한, 아이소사이아네이트계 가교제로서, 상기의 아이소사이아네이트의 유도체(예를 들면, 아이소사이아누레이트 변성체, 폴리올 변성체 등)도 들 수 있다.Moreover, as an isocyanate type crosslinking agent, the derivative of said isocyanate (For example, isocyanurate modified body, polyol modified product, etc.) is also mentioned.

아이소사이아네이트계 가교제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 코로네이트 L(톨릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체, 도소제), 타케네이트 D110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 미쓰이 화학제) 등을 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, a commercial item can also be used, For example, Coronate L (trimethylol propane adduct body of tolylene diisocyanate, a dosing agent), Coronate HL (hexamethylene diamond) Trimethylolpropane adduct of isocyanate, dosing agent), Coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, dosing agent), Takenate D110N (xylylene diisocyanate) The trimethylol propane adduct body of nate, the Mitsui Chemicals make) etc. are mentioned.

아이소사이아네이트계 가교제로서는, 바람직하게는 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체, 자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체를 들 수 있다.As an isocyanate type crosslinking agent, Preferably the trimethylol propane adduct body of hexamethylene diisocyanate and the trimethylol propane adduct body of xylylene diisocyanate are mentioned.

에폭시계 가교제로서는, 예를 들면, 다이글라이시딜아닐린, 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy-based crosslinking agent include diglycidylaniline and 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane.

에폭시계 가교제로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 테트라드 C(미쓰비시 가스화학제) 등을 들 수 있다.As an epoxy-type crosslinking agent, a commercial item can also be used, For example, Tetrad C (made by Mitsubishi Gas Chemicals), etc. are mentioned.

에폭시계 가교제로서는, 바람직하게는 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인을 들 수 있다.As an epoxy-type crosslinking agent, Preferably 1, 3-bis (N, N- diglycidyl aminomethyl) cyclohexane is mentioned.

가교제로서는, 바람직하게는 아이소사이아네이트계 가교제를 들 수 있다.As a crosslinking agent, Preferably, an isocyanate type crosslinking agent is mentioned.

가교제는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking agent can be used individually or can use 2 or more types together.

점착제에 가교제를 배합하면, 폴리머 중의 하이드록실기 등의 작용기와, 가교제가 반응하여, 폴리머에 가교 구조가 도입된다.When a crosslinking agent is blended with an adhesive, a functional group such as a hydroxyl group in the polymer reacts with the crosslinking agent to introduce a crosslinked structure into the polymer.

가교제의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.01질량부 이상, 바람직하게는 0.1질량부 이상, 보다 바람직하게는 1.0질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 10질량부 이하, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 4질량부 이하, 더 바람직하게는 3질량부 이하이다.The mixing ratio of the crosslinking agent is, for example, 0.01 parts by mass or more, preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 1.0 parts by mass or more, and, for example, 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer. Hereinafter, Preferably it is 5 mass parts or less, More preferably, it is 4 mass parts or less, More preferably, it is 3 mass parts or less.

또한, 점착제에 가교제를 배합하는 경우에는, 가교 반응을 촉진시키기 위해서, 가교 촉매를 배합할 수도 있다.Moreover, when mix|blending a crosslinking agent with an adhesive, in order to accelerate|stimulate a crosslinking reaction, you may mix|blend a crosslinking catalyst.

가교 촉매로서는, 예를 들면, 테트라-n-뷰틸 타이타네이트, 테트라아이소프로필 타이타네이트, 나셈 제2철, 뷰틸주석 옥사이드, 다이옥틸주석 다이라우레이트 등의 금속계 가교 촉매 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinking catalyst include metal-based crosslinking catalysts such as tetra-n-butyl titanate, tetraisopropyl titanate, nashem ferric, butyltin oxide, and dioctyltin dilaurate.

가교 촉매는, 단독 사용하거나 또는 2종 이상 병용할 수 있다.A crosslinking catalyst can be used individually or can use 2 or more types together.

가교 촉매의 배합 비율은, 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들면, 0.001질량부 이상, 바람직하게는 0.01질량부 이상이고, 또한, 예를 들면, 0.05질량부 이하이다.The mixing ratio of the crosslinking catalyst is, for example, 0.001 parts by mass or more, preferably 0.01 parts by mass or more, and for example, 0.05 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer.

또한, 점착제에는, 필요에 따라서, 예를 들면, 실레인 커플링제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 열화 방지제, 충전제, 착색제, 계면활성제, 대전 방지제, 형광등하 또는 자연광하에서의 안정화의 관점에서, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등의 첨가제 등의 각종 첨가제를, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 함유시킬 수 있다.Further, the pressure-sensitive adhesive includes, if necessary, for example, a silane coupling agent, a tackifier, a plasticizer, a softener, an anti-degradation agent, a filler, a colorant, a surfactant, an antistatic agent, from the viewpoint of stabilization under fluorescent light or under natural light, ultraviolet rays Various additives, such as additives, such as a water absorbing agent and antioxidant, can be contained in the range which does not impair the effect of this invention.

이에 의해, 점착제(점착성 폴리머로서, 폴리머 용액을 이용한 경우에는, 점착제의 용액)가 얻어진다.Thereby, an adhesive (in the case of using a polymer solution as an adhesive polymer, the solution of an adhesive) is obtained.

이 점착제(고형분)의 20℃∼50℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 예를 들면, 1.0×104Pa 이상, 바람직하게는 2.0×104Pa 이상, 보다 바람직하게는 4.0×104Pa 이상이고, 또한, 예를 들면, 1.0×106Pa 이하, 바람직하게는 5.0×105Pa 이하이다.The shear storage modulus G' of this pressure-sensitive adhesive (solid content) at 20°C to 50°C is, for example, 1.0×10 4 Pa or more, preferably 2.0×10 4 Pa or more, more preferably 4.0×10 4 Pa or more. above, and for example, 1.0×10 6 Pa or less, preferably 5.0×10 5 Pa or less.

상기의 전단 저장 탄성률 G'가, 상기의 범위 내이면, 밀착성이 우수하고, 보다 전단 저장 탄성률 G'가 낮은 경우에는, 단차 추종성도 우수하다.When said shear storage elastic modulus G' is in the said range, it is excellent in adhesiveness, and when shear storage elastic modulus G' is lower, it is also excellent also in step|step difference followability.

한편, 상기의 전단 저장 탄성률 G'는, 상세하게는, 후술하는 실시예에서 기술하지만, 주파수 1Hz, 승온 속도 5℃/분, 온도 범위 -70℃∼250℃의 조건에 있어서의 동적 점탄성 측정에 의해 측정된다.On the other hand, the shear storage modulus G' is described in detail in the Examples to be described later, but it is used for dynamic viscoelasticity measurement under the conditions of a frequency of 1 Hz, a temperature increase rate of 5° C./min, and a temperature range of -70° C. to 250° C. is measured by

그리고, 이 점착제는, 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 산 발생제를 포함한다.And this adhesive contains an adhesive polymer, the compound colored with an acid, and an acid generator.

그 때문에, 이 점착제는, 광(활성 광선) 조사 또는 가열에 의해, 산 발생제로부터 산을 발생시키고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색되는 것에 의해, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다. 즉, 광(활성 광선) 조사 전 또는 가열 전에 있어서, 점착제는, 무색(투명)이다.Therefore, this pressure-sensitive adhesive generates an acid from an acid generator by irradiation with light (actinic light) or heating, and the acid causes the compound to be colored by the acid to be colored from colorless (transparent) to colored. change to That is, before light (actinic light) irradiation or before heating, an adhesive is colorless (transparent).

또한, 무색(투명)이란, 후술하는 실시예에 있어서 측정되는 투과율이, 예를 들면, 60% 이상, 바람직하게는 70% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이고, 또한, 예를 들면, 100% 이하인 것을 의미한다.In addition, colorless (transparent) means that the transmittance measured in Examples to be described later is, for example, 60% or more, preferably 70% or more, more preferably 90% or more, and, for example, 100% or more. % or less.

또한, 유색이란, 후술하는 실시예에 있어서 측정되는 투과율이, 예를 들면, 0% 이상이고, 또한, 예를 들면, 60% 미만, 바람직하게는 50% 이하인 것을 의미한다.In addition, the color means that the transmittance|permeability measured in the Example mentioned later is, for example, 0 % or more, and is less than 60 %, for example, Preferably it is 50 % or less.

한편, 착색 후의(광(활성 광선) 조사 후의) 점착제(후술하는 점착층(1))의 20℃∼50℃에서의 전단 저장 탄성률 G'는, 예를 들면, 1.0×104Pa 이상, 바람직하게는 2.0×104Pa 이상, 보다 바람직하게는 4.0×104Pa 이상이고, 또한, 예를 들면, 1.0×106Pa 이하, 바람직하게는 5.0×105Pa 이하이다.On the other hand, the shear storage modulus G' at 20°C to 50°C of the pressure-sensitive adhesive (adhesive layer 1 to be described later) after coloring (after irradiation with light (actinic light)) is, for example, 1.0×10 4 Pa or more, preferably Preferably, it is 2.0×10 4 Pa or more, more preferably 4.0×10 4 Pa or more, and for example, 1.0×10 6 Pa or less, preferably 5.0×10 5 Pa or less.

즉, 이 점착제(후술하는 점착층(1))는, 광(활성 광선) 조사 전후에서, 전단 저장 탄성률 G'가 크게 변화하지 않고, 접착력도 크게 변화하지 않는다.That is, in this pressure-sensitive adhesive (adhesive layer 1 to be described later), the shear storage modulus G' does not significantly change before and after light (actinic light) irradiation, and the adhesive force does not change greatly either.

2. 점착층2. Adhesive layer

점착층(1)은, 피착체(4)(후술)에 접착시키기 위한 감압 접착층이다. 또한, 점착층(1)은, 면 방향으로 연장되는 필름 형상을 갖고 있고, 평탄한 평면 및 평탄한 하면을 갖는다.The pressure-sensitive adhesive layer 1 is a pressure-sensitive adhesive layer for adhering to the adherend 4 (described later). Further, the adhesive layer 1 has a film shape extending in the plane direction, and has a flat plane and a flat lower surface.

점착층(1)은, 상기의 점착제로 형성된다.The adhesive layer 1 is formed of said adhesive.

이하, 점착층(1)을 제조하는 방법에 대하여, 도 1을 참조해서 설명한다.Hereinafter, the method of manufacturing the adhesive layer 1 is demonstrated with reference to FIG.

점착층(1)을 형성하기 위해서는, 우선, 도 1A에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)을 준비한다.In order to form the adhesion layer 1, first, as shown to FIG. 1A, the peeling film 2 is prepared.

박리 필름(2)으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에스터 필름 등의 가요성의 플라스틱 필름을 들 수 있다.As the release film 2, flexible plastic films, such as polyethylene, a polypropylene, a polyethylene terephthalate, a polyester film, are mentioned, for example.

박리 필름(2)의 두께는, 예를 들면, 3μm 이상, 바람직하게는 10μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 200μm 이하, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 50μm 이하이다.The thickness of the release film 2 is, for example, 3 µm or more, preferably 10 µm or more, and for example, 200 µm or less, preferably 100 µm or less, more preferably 50 µm or less.

박리 필름(2)에는, 바람직하게는 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계, 지방산 아마이드계 등의 이형제에 의한 이형 처리, 또는 실리카 분말에 의한 이형 처리가 실시되어 있다.The release film 2 is preferably subjected to a release treatment with a release agent such as a silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl, or fatty acid amide-based release agent, or a release treatment with silica powder.

이어서, 도 1B에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)의 일방면에, 상기 점착제(점착제의 용액)를 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 제거한다.Next, as shown in FIG. 1B, the said adhesive (a solution of an adhesive) is apply|coated to one side of the peeling film 2, and a solvent is dried and removed as needed.

점착제의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비어 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어 나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 다이 코팅 등을 들 수 있다.As a coating method of an adhesive, For example, roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brush, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, die coating coating etc. are mentioned.

건조 조건으로서, 건조 온도는, 예를 들면, 50℃ 이상, 바람직하게는 70℃ 이상, 보다 바람직하게는 100℃ 이상이고, 또한, 예를 들면, 200℃ 이하, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 150℃ 이하이며, 건조 시간은, 예를 들면, 5초 이상, 바람직하게는 10초 이상이고, 또한, 예를 들면, 20분 이하, 바람직하게는 15분 이하, 보다 바람직하게는 10분 이하이다.As the drying conditions, the drying temperature is, for example, 50°C or higher, preferably 70°C or higher, more preferably 100°C or higher, and for example, 200°C or lower, preferably 180°C or lower, more Preferably it is 150 degrees C or less, and drying time is, for example, 5 second or more, Preferably it is 10 second or more, For example, it is 20 minutes or less, Preferably, it is 15 minutes or less, More preferably, 10 minutes or less. less than a minute

이에 의해, 박리 필름(2)의 일방면에, 점착층(1)을 배치한다(형성한다).Thereby, the adhesion layer 1 is arrange|positioned (formed) on one side of the peeling film 2.

또한, 필요에 따라, 점착층(1)의 일방면에, 다른 박리 필름(2)을 배치할 수도 있다(도 1B 점선 참조).Moreover, you may arrange|position the other peeling film 2 on one side of the adhesive layer 1 as needed (refer FIG. 1B dotted line).

한편, 점착제가 가교제를 포함하는 경우에는, 건조 제거와 동시, 또는 용매의 건조 후(필요에 따라, 점착층(1)의 일방면에, 박리 필름(2)을 적층한 후)에, 바람직하게는 에이징에 의해 가교를 진행시킨다.On the other hand, when the pressure-sensitive adhesive contains a crosslinking agent, simultaneously with the drying removal or after drying the solvent (if necessary, after laminating the release film 2 on one side of the pressure-sensitive adhesive layer 1 ), preferably advances crosslinking by aging.

에이징 조건은, 가교제의 종류에 따라 적절히 설정되고, 에이징 온도는, 예를 들면, 20℃ 이상이고, 또한, 예를 들면, 160℃ 이하, 바람직하게는 50℃ 이하이며, 또한, 에이징 시간은, 1분 이상, 바람직하게는 12시간 이상, 보다 바람직하게는 1일 이상이고, 또한, 예를 들면, 7일 이하이다.Aging conditions are appropriately set according to the type of crosslinking agent, and the aging temperature is, for example, 20 ° C. or higher, and for example, 160 ° C. or lower, preferably 50 ° C. or lower, and the aging time is, 1 minute or longer, preferably 12 hours or longer, more preferably 1 day or longer, and for example, 7 days or shorter.

3. 점착 시트3. Adhesive sheet

점착층(1)은, 취급성의 관점에서, 점착 시트(3)의 점착층(1)으로서 준비할 수도 있다.The adhesive layer 1 can also be prepared as the adhesive layer 1 of the adhesive sheet 3 from a viewpoint of handleability.

이하, 점착 시트(3)를 제조하는 방법에 대하여, 도 2를 참조해서 설명한다.Hereinafter, the method of manufacturing the adhesive sheet 3 is demonstrated with reference to FIG.

점착 시트(3)를 제조하는 방법은, 기재(5)를 준비하는 공정과, 기재(5)의 일방면에, 점착층(1)을 배치하는 공정을 구비한다.The method of manufacturing the adhesive sheet 3 is equipped with the process of preparing the base material 5, and the process of arrange|positioning the adhesive layer 1 on one side of the base material 5.

기재(5)를 준비하는 공정에서는, 도 2A에 나타내는 바와 같이, 기재(5)를 준비한다.In the process of preparing the base material 5, as shown to FIG. 2A, the base material 5 is prepared.

기재(5)는, 점착 시트(3)의 하층이다. 기재(5)는, 점착 시트(3)의 기계 강도를 확보하는 지지층(지지재)이다. 또한, 기재(5)는, 면 방향으로 연장되는 필름 형상을 갖고 있고, 평탄한 평면 및 평탄한 하면을 갖는다.The base material 5 is a lower layer of the adhesive sheet 3 . The base material 5 is a support layer (support material) which ensures the mechanical strength of the adhesive sheet 3 . In addition, the base material 5 has a film shape extending in the planar direction, and has a flat plane and a flat lower surface.

기재(5)는, 가요성의 플라스틱 재료로 이루어진다.The substrate 5 is made of a flexible plastic material.

이와 같은 플라스틱 재료로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스터 수지, 예를 들면, 폴리메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴 수지(아크릴 수지 및/또는 메타크릴 수지), 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 사이클로올레핀 폴리머(COP) 등의 폴리올레핀 수지, 예를 들면, 폴리카보네이트 수지, 예를 들면, 폴리에터설폰 수지, 예를 들면, 폴리아릴레이트 수지, 예를 들면, 멜라민 수지, 예를 들면, 폴리아마이드 수지, 예를 들면, 폴리이미드 수지, 예를 들면, 셀룰로스 수지, 예를 들면, 폴리스타이렌 수지, 예를 들면, 노보넨 수지의 합성 수지 등을 들 수 있다.As such a plastic material, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, for example, (meth)acrylic resins such as polymethacrylate (acrylic resins) and/or methacrylic resin), such as polyethylene, polypropylene, polyolefin resin such as cycloolefin polymer (COP), such as polycarbonate resin, such as polyethersulfone resin, for example, polyarylate resins such as melamine resins such as polyamide resins such as polyimide resins such as cellulose resins such as polystyrene resins such as norbornene resins. A synthetic resin etc. are mentioned.

기재(5)측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여 점착층(1)을 착색시키는 경우에는, 바람직하게는, 기재(5)는, 광에 대한 투명성을 갖는다. 구체적으로는, 기재(5)의 전광선 투과율(JIS K 7375-2008)이, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 85% 이상이다.When irradiating actinic light (preferably, ultraviolet rays) from the side of the base material 5 to color the adhesive layer 1, preferably, the base material 5 has transparency to light. Specifically, the total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the substrate 5 is, for example, 80% or more, preferably 85% or more.

광에 대한 투명성 및 기계 강도를 양립시키는 관점에서, 플라스틱 재료로서, 바람직하게는 폴리에스터 수지, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 들 수 있다.As a plastic material from a viewpoint of making transparency with respect to light and mechanical strength compatible, Preferably a polyester resin, More preferably, polyethylene terephthalate (PET) is mentioned.

기재(5)의 두께는, 예를 들면, 4μm 이상, 바람직하게는 20μm 이상, 보다 바람직하게는 30μm 이상, 더 바람직하게는 45μm 이상이고, 또한, 예를 들면, 500μm 이하, 가요성 및 핸들링성의 관점에서, 바람직하게는 300μm 이하, 보다 바람직하게는 200μm 이하, 더 바람직하게는 100μm 이하이다.The thickness of the base material 5 is, for example, 4 µm or more, preferably 20 µm or more, more preferably 30 µm or more, still more preferably 45 µm or more, and further, for example, 500 µm or less, flexibility and handling properties. From a viewpoint, it is preferably 300 µm or less, more preferably 200 µm or less, still more preferably 100 µm or less.

점착층(1)을 배치하는 공정에서는, 도 2B에 나타내는 바와 같이, 기재(5)의 일방면에, 점착층(1)을 배치한다.In the process of arranging the adhesion layer 1, as shown in FIG. 2B, the adhesion layer 1 is arrange|positioned on one side of the base material 5.

점착층(1)은, 기재(5)의 일방면의 전체면에 배치되고, 점착층(1)은, 점착 시트(3)의 상층이다.The adhesive layer 1 is arrange|positioned on the whole surface of one side of the base material 5, The adhesive layer 1 is the upper layer of the adhesive sheet 3 .

기재(5)의 일방면에, 점착층(1)을 배치하기 위해서는, 기재(5)의 일방면에, 상기와 마찬가지로, 상기의 점착제(점착제의 용액)를 도포하고, 필요에 따라 용매를 건조 제거한다.In order to arrange the adhesive layer 1 on one side of the substrate 5, the above adhesive (solution of the adhesive) is applied to one side of the substrate 5 in the same manner as above, and, if necessary, the solvent is dried. Remove.

이에 의해, 기재(5)의 일방면에, 점착층(1)이 형성되고, 기재(5)와, 기재(5)의 일방면에 배치되는 점착층(1)을 구비한 점착 시트(3)가 얻어진다.Thereby, the adhesive layer 1 is formed on one side of the base material 5, and the adhesive sheet 3 provided with the base material 5 and the adhesive layer 1 arrange|positioned on one side of the base material 5. is obtained

또한, 도 2C에 나타내는 바와 같이, 점착 시트(3)는, 필요에 따라, 점착층(1)의 일방면에, 박리 필름(2)을 적층해도 된다.In addition, as shown to FIG. 2C, the adhesive sheet 3 may laminate|stack the peeling film 2 on one side of the adhesive layer 1 as needed.

이와 같은 경우에는, 점착 시트(3)는, 기재(5)와, 점착층(1)과, 박리 필름(2)을 순서대로 구비한다.In such a case, the adhesive sheet 3 is equipped with the base material 5, the adhesive layer 1, and the peeling film 2 in order.

4. 중간 적층체4. Intermediate Laminate

도 3에 나타내는 바와 같이, 중간 적층체(6)는, 소정의 두께를 갖는 필름 형상(시트 형상을 포함한다)을 갖고, 두께 방향과 직교하는 방향(면 방향)으로 연장되고, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.As shown in Fig. 3, the intermediate laminate 6 has a film shape (including a sheet shape) having a predetermined thickness, extends in a direction (plane direction) orthogonal to the thickness direction, and has a flat upper surface and a flat have a bottom

구체적으로는, 중간 적층체(6)는, 점착층(1) 및 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)를 구비한다.Specifically, the intermediate laminate 6 includes an adhesive layer 1 and an adherend 4 disposed on the other surface of the adhesive layer 1 .

또한, 필요에 따라, 점착층(1)의 일방면에, 박리 필름(2)을 배치할 수도 있다(도 3 점선 참조).Moreover, the peeling film 2 can also be arrange|positioned on one side of the adhesive layer 1 as needed (refer FIG. 3 dotted line).

이와 같은 경우에는, 중간 적층체(6)는, 박리 필름(2)과, 박리 필름(2)의 타방면에 배치되는 점착층(1)과, 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)를 구비한다.In such a case, the intermediate laminate 6 comprises a release film 2, an adhesive layer 1 disposed on the other side of the release film 2, and an adherend disposed on the other side of the adhesive layer 1 ( 4) is provided.

상세하게는 후술하지만, 중간 적층체(6)는, 상기한 점착층(1)을 피착체(4)에 첩부(貼付)하는 것에 의해 얻어진다.Although mentioned later in detail, the intermediate|middle laminated body 6 is obtained by sticking the above-mentioned adhesive layer 1 to the to-be-adhered body 4 .

4-1. 점착층4-1. adhesive layer

상기한 바와 같이, 점착층(1)은, 상기한 점착제로 형성된다.As described above, the pressure-sensitive adhesive layer 1 is formed of the above-described pressure-sensitive adhesive.

또한, 이하의 설명에서는, 점착제는, 산 발생제로서, 광산 발생제를 포함한다.In addition, in the following description, an adhesive contains a photo-acid generator as an acid generator.

또한, 점착층(1)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, the adhesive layer 1 includes a high light transmittance portion 10 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm and a low light transmittance portion 11 having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm.

한편, 상세하게는 후술하지만, 고광투과율 부분(10) 및 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 후술하는 중간 적층체(6)의 제조 방법에 의해 정해진다.On the other hand, although described later in detail, the visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 and the low light transmittance portion 11 at a wavelength of 550 nm is determined by a method for manufacturing the intermediate laminate 6 described later.

4-2. 피착체4-2. adherend

피착체(4)로서는, 예를 들면, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그의 구성 부품 등을 들 수 있다.As the to-be-adhered body 4, an optical device, an electronic device, its component, etc. are mentioned, for example.

한편, 도 3에 있어서, 피착체(4)는, 평판 형상을 갖지만, 피착체(4)의 형상은, 특별히 한정되지 않고, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그의 구조 부품의 종류에 따라, 여러 가지 형상이 선택된다.On the other hand, in Fig. 3 , the adherend 4 has a flat plate shape, but the shape of the adherend 4 is not particularly limited, and various shapes are available depending on the types of optical devices, electronic devices, and structural parts thereof. this is chosen

또한, 상세하게는 후술하지만, 중간 적층체(6)의 제조 방법에 있어서, 피착체(4)의 표면측으로부터 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 경우(후술하는 제 2A 실시형태)에는, 피착체(4)가, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 투과하는지, 또는 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는지에 따라, 중간 적층체(6)의 제조 방법이 정해진다.In addition, although detailed later, in the manufacturing method of the intermediate|middle laminated body 6, when irradiating actinic light (preferably ultraviolet) to the adhesive layer 1 from the surface side of the to-be-adhered body 4 (described later) In the second embodiment of the present invention, the adherend 4 transmits an actinic light (preferably, ultraviolet light) or blocks the actinic light (preferably ultraviolet light), depending on whether the intermediate laminate 6) The manufacturing method is determined.

이와 같은 피착체(4) 중, 활성 광선을 투과하는 피착체(4)(이하, 제 1 피착체(30)로 한다.)로서는, 바람직하게는 자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)를 들 수 있다.Among such adherends 4, as the adherend 4 that transmits the actinic light (hereinafter referred to as the first adherend 30), the first adherend 30 that transmits the ultraviolet rays is preferably used. can be heard

자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)로서는, 예를 들면, 무알칼리 유리, PET 필름 등을 들 수 있다.As the 1st to-be-adhered body 30 which permeate|transmits an ultraviolet-ray, alkali-free glass, a PET film, etc. are mentioned, for example.

활성 광선을 투과하는 제 1 피착체(30)의, 활성 광선의 평균 투과율은, 예를 들면, 60% 이상, 바람직하게는 65% 이상이고, 특히, 활성 광선을 투과하는 제 1 피착체(30)가, 자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)인 경우에는, 자외선을 투과하는 제 1 피착체(30)의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 60% 이상, 바람직하게는 65% 이상이다.The average transmittance of the actinic light of the first adherend 30 that transmits the actinic light is, for example, 60% or more, preferably 65% or more, and in particular, the first adherend 30 that transmits the actinic light ) is the first adherend 30 that transmits ultraviolet rays, the average transmittance of the first adherend 30 that transmits ultraviolet rays at a wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less is, for example, 60% or more. , preferably 65% or more.

상기한 평균 투과율이, 상기 하한 이상이면, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 제 1 피착체(30)를 투과하여, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.When the above average transmittance is equal to or greater than the lower limit, the actinic light (preferably, ultraviolet light) passes through the first adherend 30 and the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet light). can

또한, 이와 같은 피착체(4) 중, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 피착체(4)(이하, 제 2 피착체(31)로 한다.)로서는, 활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31), 활성 광선을 반사하는(활성 광선을 투과하지 않는) 제 2 피착체(31)를 들 수 있다.In addition, among such adherends 4, as the adherend 4 that blocks actinic light (preferably, ultraviolet rays) (hereinafter referred to as the second adherend 31), an agent that absorbs actinic light is used. 2 to-be-adhered body 31, and the 2nd to-be-adhered body 31 which reflects actinic light (it does not transmit actinic light) are mentioned.

활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31)로서는, 바람직하게는 자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)를 들 수 있다.As the second adherend 31 that absorbs actinic light, preferably, the second adherend 31 that absorbs ultraviolet rays is used.

자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)로서는, 예를 들면, 폴리이미드 필름, 자외선 흡수제가 도포된 유리판 등을 들 수 있다.As the 2nd to-be-adhered body 31 which absorbs an ultraviolet-ray, a polyimide film, the glass plate etc. to which the ultraviolet absorber was apply|coated are mentioned, for example.

활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31)의, 활성 광선의 평균 투과율은, 예를 들면, 15% 이하, 바람직하게는 10% 이하이고, 특히, 활성 광선을 흡수하는 제 2 피착체(31)가, 자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)인 경우에는, 자외선을 흡수하는 제 2 피착체(31)의, 파장 300nm 이상 400nm 이하에 있어서의 평균 투과율은, 예를 들면, 15% 이하, 바람직하게는 10% 이하이다.The average transmittance of the actinic light of the second adherend 31 that absorbs the actinic light is, for example, 15% or less, preferably 10% or less, and in particular, the second adherend 31 which absorbs the actinic light ) is the second adherend 31 that absorbs ultraviolet rays, the average transmittance of the second adherend 31 that absorbs ultraviolet rays at a wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less is, for example, 15% or less. , preferably 10% or less.

상기한 평균 투과율이, 상기 하한 이상이면, 제 2 피착체(31)가 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 흡수할 수 있다.When the average transmittance is equal to or greater than the lower limit, the second adherend 31 can absorb actinic light (preferably, ultraviolet light).

활성 광선을 반사하는 제 2 피착체(31)로서는, 바람직하게는 자외선을 반사하는 제 2 피착체(31)를 들 수 있다.The second adherend 31 that reflects the actinic light preferably includes a second adherend 31 that reflects the ultraviolet light.

자외선을 반사하는 제 2 피착체(31)로서는, 예를 들면, 구리판 등의 금속 기판 등을 들 수 있다.As the 2nd to-be-adhered body 31 which reflects an ultraviolet-ray, metal substrates, such as a copper plate, etc. are mentioned, for example.

4-3. 중간 적층체의 제조 방법4-3. Method for producing an intermediate laminate

중간 적층체(6)의 제조 방법은, 상기의 점착층(1)을 준비하는 준비 공정, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(1)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮거나, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사/저조사 부분(21)을 형성하는 것에 의해, 고조사 부분(20)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 비조사/저조사 부분(21)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 조사 공정, 및 점착층(1)의 타방면을 피착체(4)에 첩착하는 첩착 공정을 구비한다.In the manufacturing method of the intermediate laminate 6, the preparatory step of preparing the adhesive layer 1 described above, the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), the adhesive layer 1 is The highly irradiated portion 20 with a relatively high irradiation amount of actinic light (preferably, ultraviolet light), and a relatively low irradiation amount of actinic light (preferably ultraviolet light) or actinic light (preferably ultraviolet light) By forming the non-irradiated/low irradiated portion 21 that is not irradiated, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion 20 is higher than the visible light transmittance of the non-irradiated/low irradiated portion 21 at a wavelength of 550 nm. An irradiation process of making it small, and a sticking process of sticking the other surface of the adhesion layer 1 to the to-be-adhered body 4 are provided.

이 중간 적층체(6)의 제조 방법은, 상기한 준비 공정을 구비하고 있기 때문에, 이 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사함으로써, 점착층(1)을 착색시킬 수 있다.Since the manufacturing method of this intermediate|middle laminated body 6 is equipped with the above-mentioned preparatory process, by irradiating actinic light (preferably ultraviolet) to this adhesive layer 1, the adhesive layer 1 will be colored. can

또한, 이 중간 적층체(6)의 제조 방법은, 상기의 조사 공정을 구비하기 때문에, 점착층(1)에 있어서의 착색 부분 이외(비조사/저조사 부분(21))를, 투명인 그대로 잔존시키거나, 착색 부분보다도 착색량을 적게 할 수 있다.In addition, since the manufacturing method of this intermediate|middle laminated body 6 is equipped with the said irradiation process, except the colored part (non-irradiated/low-irradiation part 21) in the adhesion layer 1, it is transparent as it is. It can be made to remain|survive, or the amount of coloring can be made less than a colored part.

이하, 중간 적층체(6)의 제조 방법을, 각 공정의 순번 및 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사 방향마다로 나누어, 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the intermediate|middle laminated body 6 is divided into the order of each process, and every irradiation direction of actinic light (preferably, an ultraviolet-ray), and is demonstrated.

상세하게는, 각 공정의 순번으로서는, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시하거나(이하, 제 1 실시형태로 한다.), 또는 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시한다(이하, 제 2 실시형태로 한다.).In detail, as the order of each process, an irradiation process is implemented after a preparation process, an adhesion process is implemented after an irradiation process (it is set as 1st Embodiment hereafter), or a sticking process is implemented after a preparation process. And, after the sticking process, an irradiation process is implemented (it is set as 2nd Embodiment hereafter).

또한, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사 방향으로서는, 제 2 실시형태에 있어서, 피착체(4)의 표면측으로부터 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하거나(이하, 제 2A 실시형태로 한다.), 또는 점착층(1)의 표면측으로부터 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사(이하, 제 2B 실시형태로 한다.)한다.Further, as the irradiation direction of actinic light (preferably ultraviolet), in the second embodiment, the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably ultraviolet) from the surface side of the adherend 4, or (Hereinafter, it is set as 2nd A Embodiment.) Alternatively, actinic light (preferably ultraviolet) is irradiated to the adhesive layer 1 from the surface side of the adhesive layer 1 (it is set as 2nd B embodiment hereafter). do.

이하, 각 실시형태에 대하여, 상세히 기술한다.Hereinafter, each embodiment is described in detail.

한편, 이 중간 적층체(6)의 제조 방법에 있어서, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량에 의해, 비조사/저조사 부분(21)이, 비조사 부분(22)이 될지, 또는 저조사 부분(23)이 될지가 정해지지만, 이하의 설명에서는, 비조사/저조사 부분(21)이, 비조사 부분(22)인 경우에 대하여, 상세히 기술한다.On the other hand, in the manufacturing method of this intermediate laminated body 6, the non-irradiated/low-irradiated part 21 will become the non-irradiated part 22 depending on the irradiation amount of actinic light (preferably, an ultraviolet-ray), or Whether or not it will be the low-irradiation part 23 is determined, but in the following description, the case where the non-irradiated/low-irradiated part 21 is the non-irradiated part 22 will be described in detail.

또한, 비조사 부분(22)은, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 부분이고, 비조사 부분(22)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.In addition, the non-irradiated portion 22 is a portion not irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the visible light transmittance of the non-irradiated portion 22 at a wavelength of 550 nm is, for example, 80% or more; Preferably it is 90% or more.

상기의 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 비조사 부분(22)은, 투명성을 갖는다.When the visible light transmittance is equal to or greater than the lower limit, the non-irradiated portion 22 has transparency.

또한, 이하의 설명에서는, 점착층(1)으로서, 점착층(1)의 양면에, 박리 필름(2)이 배치된 점착층(1)을 이용한 경우에 대하여 설명한다.In addition, in the following description, as the adhesive layer 1, the case where the adhesive layer 1 in which the peeling film 2 was arrange|positioned on both surfaces of the adhesive layer 1 is demonstrated.

4-3-1. 제 1 실시형태4-3-1. first embodiment

제 1 실시형태에서는, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시한다.In 1st Embodiment, an irradiation process is implemented after a preparation process, and a sticking process is implemented after an irradiation process.

제 1 실시형태를, 도 4를 참조해서 설명한다.A first embodiment will be described with reference to FIG. 4 .

준비 공정에서는, 도 4A에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)의 일방면에, 점착층(1)을 준비하고, 그 후, 점착층(1)의 일방면에, 다른 박리 필름(2)을 배치한다.In a preparatory process, as shown to FIG. 4A, the adhesive layer 1 is prepared on one side of the peeling film 2, After that, on one side of the adhesive layer 1, another peeling film 2 is applied. place it

조사 공정에서는, 도 4B에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(1)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 4B , the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the adhesive layer 1 is relatively irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays). The highly irradiated portion 20 and the non-irradiated portion 22 not irradiated with active rays (preferably, ultraviolet rays) are formed.

한편, 이하의 설명에서는, 점착층(1)의 일부에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 경우, 구체적으로는, 점착층(1)을 면 방향으로 3분할한 것 중 양단 부분의 2개소에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 점착층(1)의 일부를, 고조사 부분(20)(환언하면, 점착층(1)을 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소만이 비조사 부분(22))으로 해서, 설명한다.On the other hand, in the following description, when irradiating actinic light (preferably, ultraviolet rays) to a part of the adhesive layer 1, specifically, the adhesive layer 1 is divided into three in the plane direction, and the Two places are irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and a part of the adhesive layer 1 for irradiating actinic rays (preferably, ultraviolet rays) is placed on the highly irradiated portion 20 (in other words, the adhesive layer ( Among those obtained by dividing 1) into three in the plane direction, only one portion of the central portion is defined as the non-irradiated portion 22).

구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착층(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 박리 필름(2)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the adhesion layer 1, the highly irradiated portion 20 is irradiated with actinic light (preferably ultraviolet) from the surface side of the release film 2, and the non-irradiated portion ( 22) is not irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays).

상세하게는, 고조사 부분(20)(상세하게는, 고조사 부분(20)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 비조사 부분(22)(상세하게는, 비조사 부분(22)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 박리 필름(2)의 표면측(점착층(1)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Specifically, the highly irradiated portion 20 (specifically, the other side of the release film 2 disposed on the other side of the highly irradiated portion 20) has a mask ( 7) without arranging, to the non-irradiated portion 22 (specifically, the other side of the release film 2 disposed on the other side of the non-irradiated portion 22) to block actinic light (preferably, ultraviolet rays) The mask 7 to be used is disposed, and actinic light (preferably ultraviolet) is irradiated from the surface side of the release film 2 (the surface side of the adhesive layer 1).

이에 의해, 고조사 부분(20)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사된다.Thereby, only the highly irradiated part 20 is irradiated with actinic light (preferably, an ultraviolet-ray).

그리고, 고조사 부분(20)에 있어서의 점착층(1)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 고조사 부분(20)에 있어서의 점착층(1)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.). 그렇게 하면, 고조사 부분(20)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 비조사 부분(22)의 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작아진다(구체적으로는, 고조사 부분(20)이, 비조사 부분(22)보다 검어진다.).And in the adhesion layer 1 in the highly irradiated part 20, an acid generate|occur|produces from a photo-acid generator, and the compound colored with an acid is colored (specifically, black) by the acid. As a result, the adhesion layer 1 in the highly irradiated portion 20 changes from colorless (transparent) to colored (visible light transmittance at a wavelength of 550 nm becomes low). Then, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion 20 becomes smaller than the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the non-irradiated portion 22 (specifically, the highly irradiated portion 20 is a non-irradiated portion (22) is darker than that).

즉, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 비조사 부분(22)이 형성된다.That is, the highly irradiated portion 20 having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm and a non-irradiated portion 22 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm are formed.

그렇게 하면, 고조사 부분(20)이, 저광투과율 부분(11)이 되고, 비조사 부분(22)이, 고광투과율 부분(10)이 된다.Then, the highly irradiated portion 20 becomes the low light transmittance portion 11 , and the non-irradiated portion 22 becomes the high light transmittance portion 10 .

첩착 공정에서는, 도 4C에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)의 타방면을, 피착체(4)에 첩부한다.In the sticking step, as shown in FIG. 4C , the other surface of the adhesion layer 1 is affixed to the adherend 4 .

구체적으로는, 점착층(1)의 타방면으로부터, 박리 필름(2)을 박리하고, 점착층(1)의 타방면에, 피착체(4)를 배치한다.Specifically, the release film 2 is peeled off from the other surface of the adhesion layer 1 , and the adherend 4 is disposed on the other surface of the adhesion layer 1 .

이에 의해, 박리 필름(2)과, 박리 필름(2)의 타방면에 배치되는 점착층(1)과, 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereby, the intermediate laminated body 6 provided with the release film 2, the adhesive layer 1 arrange|positioned on the other surface of the release film 2, and the to-be-adhered body 4 arrange|positioned on the other surface of the adhesion layer 1). ) is obtained.

또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(1)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the intermediate laminate 6, the adhesive layer 1 comprises a high light transmittance portion 10 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm ( 11) is provided.

그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this intermediate laminate 6, the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 at a wavelength of 550 nm is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, It is 0.01% or more, and the visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 at a wavelength of 550 nm is, for example, 80% or more, preferably 90% or more.

저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 is less than the upper limit, the function of absorbing light can be reliably provided to the low light transmittance portion 11 .

또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 is equal to or more than the above lower limit, the high light transmittance portion 10 has transparency.

제 1 실시형태에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 조사 공정을 실시하고, 조사 공정 후에, 첩착 공정을 실시하기 때문에, 착색 개소를 얼라인먼트의 정밀도 향상에 활용할 수 있다.According to 1st Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of said intermediate|middle laminated body 6, since an irradiation process is implemented after a preparatory process, and a sticking process is performed after an irradiation process, a colored location is aligned. It can be used to improve the precision of

또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측에서의 외광(활성 광선)에 의해, 비조사 부분(22)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, if the adherend 4 is the second adherend 31, it is possible to suppress the coloration of the non-irradiated portion 22 by external light (actinic light) from the surface side of the second adherend 31. can

4-3-2. 제 2A 실시형태4-3-2. 2A embodiment

제 2A 실시형태에서는, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시한다.In 2nd A embodiment, a sticking process is implemented after a preparatory process, and an irradiation process is implemented after a sticking process.

또한, 제 2A 실시형태에서는, 조사 공정에 있어서, 피착체(4)의 표면측으로부터, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Moreover, in 2nd A, in the irradiation process, actinic light (preferably, ultraviolet-ray) is irradiated to the adhesion layer 1 from the surface side of the to-be-adhered body 4 .

제 2A 실시형태에서는, 피착체(4)가, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 투과하는지, 또는 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는지에 따라(구체적으로는, 피착체(4)가 제 1 피착체(30)이거나, 또는 제 2 피착체(31)인지에 따라), 중간 적층체(6)의 제조 방법이 정해진다.In the second A embodiment, depending on whether the adherend 4 transmits actinic light (preferably, ultraviolet) or blocks the actinic light (preferably, ultraviolet) (specifically, the adherend 4 ) is the first adherend 30 or the second adherend 31), the manufacturing method of the intermediate laminate 6 is determined.

이하, 피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우와, 피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우로 나누어 설명한다.Hereinafter, the case where the adherend 4 is the first adherend 30 and the case where the adherend 4 is the second adherend 31 will be described.

피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우의 제 2A 실시형태를, 도 5를 참조해서 설명한다.Embodiment 2A in the case where the adherend 4 is the first adherend 30 will be described with reference to FIG. 5 .

준비 공정에서는, 도 5A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 점착층(1)을 준비한다.In a preparatory process, as shown to FIG. 5A, the adhesion layer 1 is prepared similarly to above-mentioned 1st Embodiment.

첩착 공정에서는, 도 5B에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 점착층(1)의 타방면을, 제 1 피착체(30)에 첩부한다.In the sticking step, as shown in FIG. 5B , the other side of the adhesion layer 1 is affixed to the first adherend 30 , similarly to the first embodiment described above.

조사 공정에서는, 도 5C에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(1)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 5C , the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the adhesive layer 1 is relatively irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays). The highly irradiated portion 20 and the non-irradiated portion 22 not irradiated with active rays (preferably, ultraviolet rays) are formed.

구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착층(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 제 1 피착체(30)측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the adhesion layer 1, the highly irradiated portion 20 is irradiated with actinic light (preferably ultraviolet) from the first adherend 30 side, and the non-irradiated portion ( 22) is not irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays).

상세하게는, 제 1 피착체(30)의 타방면의 일부에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한 후, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In detail, after disposing a mask 7 that blocks actinic light (preferably, ultraviolet light) on a part of the other side of the first adherend 30, actinic light (preferably UV light) is disposed on the adhesive layer 1 . , UV) is irradiated.

보다 상세하게는, 고조사 부분(20)(상세하게는, 고조사 부분(20)의 타방면에 배치되는 제 1 피착체(30)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 비조사 부분(22)(상세하게는, 비조사 부분(22)의 타방면에 배치되는 제 1 피착체(30)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 제 1 피착체(30)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, in the highly irradiated portion 20 (specifically, the other surface of the first adherend 30 disposed on the other surface of the highly irradiated portion 20), actinic light (preferably, ultraviolet rays) is blocked. Without disposing the mask 7 to be used, actinic light rays (preferably , ultraviolet rays) is disposed, and actinic rays (preferably ultraviolet rays) are irradiated from the surface side of the first adherend 30 .

이때, 제 1 피착체(30)는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 투과시키기 때문에, 고조사 부분(20)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.At this time, since the first adherend 30 transmits actinic light (preferably, ultraviolet), only the highly irradiated portion 20 can be irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet).

이에 의해, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과, 비조사 부분(22)(고광투과율 부분(10))을 형성할 수 있다.Thereby, the highly irradiated part 20 (low light transmittance part 11) and the non-irradiated part 22 (high light transmittance part 10) can be formed similarly to 1st Embodiment mentioned above.

이상에 의해, 도 5D에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)과, 박리 필름(2)의 타방면에 배치되는 점착층(1)과, 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)(제 1 피착체(30))를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.As described above, as shown in Fig. 5D, the release film 2, the adhesive layer 1 disposed on the other side of the release film 2, and the adherend 4 disposed on the other side of the adhesive layer 1) The intermediate laminate 6 provided with (1st to-be-adhered body 30) is obtained.

또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(1)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the intermediate laminate 6, the adhesive layer 1 comprises a high light transmittance portion 10 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm ( 11) is provided.

그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this intermediate laminate 6, the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 at a wavelength of 550 nm is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, It is 0.01% or more, and the visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 at a wavelength of 550 nm is, for example, 80% or more, preferably 90% or more.

저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 is less than the upper limit, the function of absorbing light can be reliably provided to the low light transmittance portion 11 .

또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 is equal to or more than the above lower limit, the high light transmittance portion 10 has transparency.

제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시하기 때문에, 첩착 공정 시에, 이물이나 기포를 확인할 수 있다.According to the 2nd A embodiment (when the to-be-adhered body 4 is the 1st to-be-adhered body 30), while showing the effect of the manufacturing method of the said intermediate|middle laminated body 6, a sticking process is implemented after a preparatory process. And since an irradiation process is implemented after a sticking process, a foreign material and a bubble can be confirmed at the time of a sticking process.

또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)에 의하면, 조사 공정에 있어서, 피착체(4)(제 1 피착체(30))의 표면측으로부터, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 착색하고 싶은 개소의 위치 맞춤의 정밀도가 향상된다.Further, according to the second embodiment (when the adherend 4 is the first adherend 30), in the irradiation step, from the surface side of the adherend 4 (first adherend 30), In order to irradiate the adhesive layer 1 with actinic light (preferably, ultraviolet-ray), the precision of alignment of the location to be colored improves.

또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)에 의하면, 제 1 피착체(4)를 이용하고 있기 때문에, 피착체(4)(제 1 피착체(30))의 표면측으로부터, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 확실하게 조사할 수 있다.Further, according to the second embodiment (when the adherend 4 is the first adherend 30), since the first adherend 4 is used, the adherend 4 (the first adherend ( 30)), the adhesive layer 1 can be reliably irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays).

다음으로, 피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우의 제 2B 실시형태를, 도 6을 참조해서 설명한다.Next, with reference to FIG. 6, 2nd Embodiment in the case where the to-be-adhered body 4 is the 2nd to-be-adhered body 31 is demonstrated.

준비 공정에서는, 도 6A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 점착층(1)을 준비한다.In a preparatory process, as shown to FIG. 6A, the adhesion layer 1 is prepared similarly to above-mentioned 1st Embodiment.

첩착 공정에서는, 도 6B에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)의 타방면의 일부에, 제 2 피착체(31)를 배치한다.In the sticking step, as shown in FIG. 6B , the second adherend 31 is disposed on a part of the other surface of the adhesive layer 1 .

구체적으로는, 점착층(1)의 타방면으로부터, 박리 필름(2)을 박리하고, 점착층(1)의 타방면의 일부에, 제 2 피착체(31)를 배치한다.Specifically, the release film 2 is peeled off from the other side of the adhesive layer 1 , and the second adherend 31 is disposed on a part of the other side of the adhesive layer 1 .

한편, 이하의 설명에서는, 도 6B에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)을 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소에, 제 2 피착체(31)를 배치하는 경우에 대하여, 설명한다.In addition, in the following description, as shown in FIG. 6B, the case where the 2nd to-be-adhered body 31 is arrange|positioned at the center part of what divided the adhesive layer 1 into 3 in the plane direction is demonstrated. do.

조사 공정에서는, 도 6C에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(1)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 6C , the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the adhesive layer 1 is relatively irradiated with actinic rays (preferably ultraviolet rays). The highly irradiated portion 20 and the non-irradiated portion 22 not irradiated with active rays (preferably, ultraviolet rays) are formed.

구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착층(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the adhesion layer 1 , the highly irradiated portion 20 is irradiated with actinic rays (preferably ultraviolet rays) from the surface side of the second adherend 31, and non-irradiated. The portion 22 is not irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays).

상세하게는, 상기한 제 1 실시형태 및 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 1 피착체(30)인 경우)와 달리, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 이용하지 않고, 그대로, 제 2 피착체(31)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In detail, unlike the above-described first and second embodiments (when the adherend 4 is the first adherend 30), the mask 7 for blocking actinic light (preferably, ultraviolet rays) ) is not used, and actinic light (preferably, ultraviolet rays) is irradiated from the surface side of the second adherend 31 as it is.

이때, 제 2 피착체(31)는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하기 때문에, 제 2 피착체(31)가, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 대체할 수 있고, 제 2 피착체(31)를 배치한 비조사 부분(22)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되는 것을 방지할 수 있는 한편, 제 2 피착체(31)를 배치하지 않는 고조사 부분(20)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.At this time, since the second adherend 31 blocks actinic rays (preferably, ultraviolet rays), the second adherend 31 uses a mask 7 that blocks actinic rays (preferably, ultraviolet rays). can be replaced, and the non-irradiated portion 22 on which the second adherend 31 is disposed can be prevented from being irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays), while the second adherend 31 can be prevented from being irradiated. Only the highly irradiated portion 20 on which is not disposed can be irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays).

이에 의해, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과, 비조사 부분(22)(고광투과율 부분(10))을 형성할 수 있다.Thereby, the highly irradiated part 20 (low light transmittance part 11) and the non-irradiated part 22 (high light transmittance part 10) can be formed similarly to 1st Embodiment mentioned above.

이상에 의해, 도 6D에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)과, 박리 필름(2)의 타방면에 배치되는 점착층(1)과, 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)(제 2 피착체(31))를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.As described above, as shown in FIG. 6D , the release film 2 , the adhesive layer 1 disposed on the other side of the release film 2 , and the adherend 4 disposed on the other side of the adhesive layer 1 ) The intermediate laminate 6 provided with (2nd to-be-adhered body 31) is obtained.

또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(1)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the intermediate laminate 6, the adhesive layer 1 comprises a high light transmittance portion 10 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm ( 11) is provided.

그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this intermediate laminate 6, the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 at a wavelength of 550 nm is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, It is 0.01% or more, and the visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 at a wavelength of 550 nm is, for example, 80% or more, preferably 90% or more.

저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 is less than the upper limit, the function of absorbing light can be reliably provided to the low light transmittance portion 11 .

또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 is equal to or more than the above lower limit, the high light transmittance portion 10 has transparency.

제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우)에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시하기 때문에, 첩착 공정 시에, 이물이나 기포를 확인할 수 있다.According to the 2nd embodiment (when the to-be-adhered body 4 is the 2nd to-be-adhered body 31), while showing the effect of the manufacturing method of the said intermediate|middle laminated body 6, a sticking process is implemented after a preparatory process. And since an irradiation process is implemented after a sticking process, a foreign material and a bubble can be confirmed at the time of a sticking process.

또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우)에 의하면, 조사 공정에 있어서, 피착체(4)(제 2 피착체(31))의 표면측으로부터, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 착색하고 싶은 개소의 위치 맞춤의 정밀도가 향상된다.Further, according to the second embodiment (when the adherend 4 is the second adherend 31), in the irradiation step, from the surface side of the adherend 4 (the second adherend 31), In order to irradiate the adhesive layer 1 with actinic light (preferably, ultraviolet-ray), the precision of alignment of the location to be colored improves.

또한, 제 2A 실시형태(피착체(4)가 제 2 피착체(31)인 경우)에 의하면, 제 2 피착체(4)가 배치된 부분(비조사 부분(22))을, 확실하게 활성 광선(바람직하게는, 자외선)으로부터 차단할 수 있다.Further, according to the second embodiment (when the adherend 4 is the second adherend 31), the portion on which the second adherend 4 is disposed (the non-irradiated portion 22) is reliably activated It can block from light rays (preferably, ultraviolet rays).

4-3-3. 제 2B 실시형태4-3-3. 2B embodiment

제 2B 실시형태에서는, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시한다.In 2nd B Embodiment, a sticking process is implemented after a preparatory process, and an irradiation process is implemented after a sticking process.

또한, 제 2B 실시형태에서는, 조사 공정에 있어서, 점착층(1)측으로부터, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Moreover, in 2nd B Embodiment, in an irradiation process, actinic light (preferably, an ultraviolet-ray) is irradiated to the adhesion layer 1 from the adhesion layer 1 side.

제 2B 실시형태를, 도 7을 참조해서 설명한다.Embodiment 2B will be described with reference to FIG. 7 .

준비 공정에서는, 도 7A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 점착층(1)을 준비한다.In a preparatory process, as shown to FIG. 7A, the adhesion layer 1 is prepared similarly to above-mentioned 1st Embodiment.

첩착 공정에서는, 도 7B에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 점착층(1)의 타방면을, 피착체(4)에 첩부한다.In the sticking step, as shown in FIG. 7B , the other side of the adhesion layer 1 is affixed to the adherend 4 similarly to the first embodiment described above.

조사 공정에서는, 도 7C에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(1)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되지 않는 비조사 부분(22)을 형성한다.In the irradiation step, as shown in FIG. 7C , the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the adhesive layer 1 is relatively irradiated with actinic rays (preferably ultraviolet rays). The highly irradiated portion 20 and the non-irradiated portion 22 not irradiated with active rays (preferably, ultraviolet rays) are formed.

구체적으로는, 조사 공정에서는, 점착층(1)에 있어서, 고조사 부분(20)에는, 박리 필름(2)의 표면측(점착층(1)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 비조사 부분(22)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the irradiation step, in the adhesion layer 1, the highly irradiated portion 20 is directed to the surface side of the release film 2 (the surface side of the pressure-sensitive adhesive layer 1) from the active light beam (preferably, ultraviolet), and the non-irradiated portion 22 is not irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays).

상세하게는, 고조사 부분(20)(상세하게는, 고조사 부분(20)의 일방면에 배치되는 박리 필름(2)의 일방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 비조사 부분(22)(상세하게는, 비조사 부분(22)의 일방면에 배치되는 박리 필름(2)의 일방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 박리 필름(2)의 표면측(점착층(1)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.Specifically, in the highly irradiated portion 20 (specifically, one side of the release film 2 disposed on one side of the highly irradiated portion 20), the active light (preferably, ultraviolet rays) is blocked. Without disposing the mask 7, actinic light (preferably, A mask 7 that blocks ultraviolet rays) is disposed, and actinic light rays (preferably ultraviolet rays) are irradiated from the surface side of the release film 2 (the surface side of the adhesive layer 1).

이에 의해, 고조사 부분(20)에만 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있고, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과, 비조사 부분(22)(고광투과율 부분(10))을 형성할 수 있다.Thereby, only the highly irradiated portion 20 can be irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and, similarly to the first embodiment described above, the highly irradiated portion 20 (low light transmittance portion 11), A non-irradiated portion 22 (high light transmittance portion 10) may be formed.

그 후, 도 7D에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)과, 박리 필름(2)의 타방면에 배치되는 점착층(1)과, 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereafter, as shown in Fig. 7D, the release film 2, the adhesive layer 1 disposed on the other side of the release film 2, and the adherend 4 disposed on the other side of the adhesive layer 1 were separated. The intermediate laminate 6 provided is obtained.

또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(1)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the intermediate laminate 6, the adhesive layer 1 comprises a high light transmittance portion 10 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm ( 11) is provided.

그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 80% 이상, 바람직하게는 90% 이상이다.And, in this intermediate laminate 6, the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 at a wavelength of 550 nm is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, It is 0.01% or more, and the visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 at a wavelength of 550 nm is, for example, 80% or more, preferably 90% or more.

저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 상한 미만이면, 저광투과율 부분(11)에 광을 흡수하는 기능을 확실하게 부여할 수 있다.When the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 is less than the upper limit, the function of absorbing light can be reliably provided to the low light transmittance portion 11 .

또한, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이, 상기 하한 이상이면, 고광투과율 부분(10)은 투명성을 갖는다.In addition, when the above-described visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 is equal to or more than the above lower limit, the high light transmittance portion 10 has transparency.

제 2B 실시형태에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 준비 공정 후에, 첩착 공정을 실시하고, 첩착 공정 후에, 조사 공정을 실시하기 때문에, 첩착 공정 시에, 이물이나 기포를 확인할 수 있다.According to 2nd B Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the said intermediate|middle laminated body 6, after a preparatory process, since a sticking process is implemented and an irradiation process is implemented after a sticking process, at the time of a sticking process , foreign matter or air bubbles can be checked.

또한, 제 2B 실시형태에 의하면, 조사 공정에 있어서, 점착층(1)의 표면측으로부터, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하기 때문에, 점착층(1)에 확실하게 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.Moreover, according to 2B Embodiment, in the irradiation process, in order to irradiate actinic light (preferably, ultraviolet-ray) to the adhesive layer 1 from the surface side of the adhesive layer 1, since the adhesive layer 1 is The actinic light (preferably, ultraviolet-ray) can be irradiated reliably.

또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측에서의 외광(활성 광선)에 의해, 비조사 부분(22)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, if the adherend 4 is the second adherend 31, it is possible to suppress the coloration of the non-irradiated portion 22 by external light (actinic light) from the surface side of the second adherend 31. can

4-3-4. 변형예4-3-4. variation

상기한 설명에서는, 비조사/저조사 부분(21)이, 비조사 부분(22)인 경우에 대하여 설명했지만, 이하의 설명에서는, 비조사/저조사 부분(21)이, 저조사 부분(23)이 될 수도 있다.In the above description, the case where the non-irradiated/low irradiated portion 21 is the non-irradiated portion 22 has been described, but in the following description, the non-irradiated/low irradiated portion 21 is the low irradiated portion 23 ) may be

비조사/저조사 부분(21)이, 저조사 부분(23)인 경우에는, 조사 공정은, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 1 마스크(8)를 배치한 후, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 점착층(1)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사된 제 1 조사 부분(40)과, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사되어 있지 않은 가비조사 부분(41)을 형성하는 제 1 조사 공정과, 제 1 조사 부분(40)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 2 마스크(9)를 배치한 후, 점착층(1)에 있어서의 가비조사 부분(41)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 가비조사 부분(41)을, 제 2 조사 부분(42)으로 하는 제 2 조사 공정을 구비한다.When the non-irradiated/low-irradiated portion 21 is the low-irradiated portion 23 , the irradiation step is performed after disposing the first mask 8 that blocks actinic rays (preferably, ultraviolet rays), and then the adhesive layer (1) by irradiating actinic rays (preferably, ultraviolet rays) to the adhesive layer 1, the first irradiated portion 40 irradiated with actinic rays (preferably ultraviolet rays), and actinic rays ( Preferably, a first irradiation step of forming the provisionally irradiated portion 41 not irradiated with ultraviolet rays), and a second mask that blocks active rays (preferably ultraviolet rays) on the first irradiated portion 40 . After arranging (9), the provisionally irradiated portion 41 is converted into a second irradiated portion by irradiating the provisionally irradiated portion 41 in the adhesive layer 1 with actinic light (preferably, ultraviolet rays). The 2nd irradiation process referred to as (42) is provided.

그리고, 상세하게는 후술하지만, 제 1 조사 공정에 있어서의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량과, 제 2 조사 공정에 있어서의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 상이하기 때문에, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42) 중 어느 한쪽이 고조사 부분(20)이 되고, 다른 쪽이 저조사 부분(23)이 된다.And although mentioned later in detail, since the irradiation amount of actinic light (preferably, ultraviolet-ray) in a 1st irradiation process differs from the irradiation amount of actinic-ray (preferably, an ultraviolet-ray) in a 2nd irradiation process, , one of the first irradiated portion 40 and the second irradiated portion 42 becomes the high irradiated portion 20 , and the other becomes the low irradiated portion 23 .

이하의 설명에서는, 제 1 실시형태에 있어서, 비조사/저조사 부분(21)이 저조사 부분(23)인 경우(이하, 제 1 실시형태의 제 1 변형예로 한다.)를, 도 8을 참조해서, 설명한다.In the following description, in the first embodiment, the case where the non-irradiated/low-irradiation portion 21 is the low-irradiation portion 23 (hereinafter, referred to as a first modification of the first embodiment) is shown in Fig. 8 . It will be described with reference to .

준비 공정에서는, 도 8A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 점착층(1)을 준비한다.In a preparatory process, as shown to FIG. 8A, the adhesion layer 1 is prepared similarly to above-mentioned 1st Embodiment.

조사 공정에서는, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(1)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)을 형성한다.In the irradiation step, the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the adhesive layer 1 is subjected to a relatively high irradiation amount of actinic light (preferably ultraviolet) to the highly irradiated portion 20 ) and a relatively low irradiation amount 23 of actinic rays (preferably, ultraviolet rays) are formed.

구체적으로는, 조사 공정에 있어서의 제 1 조사 공정에 있어서, 제 1 조사 부분(40)과 가비조사 부분(41)을 형성하고, 조사 공정에 있어서의 제 2 조사 공정에 있어서, 가비조사 부분(41)을, 제 2 조사 부분(42)으로 한다.Specifically, in the first irradiation step in the irradiation step, the first irradiation portion 40 and the provisionally irradiated portion 41 are formed, and in the second irradiation step in the irradiation step, the provisionally irradiated portion ( 41 ) as the second irradiation portion 42 .

제 1 조사 공정에서는, 도 8B에 나타내는 바와 같이, 제 1 조사 부분(40)에는, 박리 필름(2)의 표면측(점착층(1)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하고, 가비조사 부분(41)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.In the first irradiation step, as shown in FIG. 8B , in the first irradiation part 40 , actinic light (preferably, ultraviolet rays) from the surface side of the release film 2 (the surface side of the adhesive layer 1) is irradiated, and the provisionally irradiated portion 41 is not irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays).

한편, 이하의 설명에서는, 점착층(1)을 면 방향으로 3분할한 것 중 양단 부분의 2개소를 제 1 조사 부분(40)(환언하면, 점착층(1)을 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소만이 가비조사 부분(41))으로 해서, 설명한다.On the other hand, in the following description, the first irradiation part 40 (in other words, the adhesive layer 1 is divided into three parts in the plane direction) Among them, only one part of the central portion is used as the provisional irradiation part 41), and description will be made.

보다 상세하게는, 제 1 조사 부분(40)(상세하게는, 제 1 조사 부분(40)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 1 마스크(8)를 배치하지 않고, 가비조사 부분(41)(상세하게는, 가비조사 부분(41)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 1 마스크(8)를 배치하고, 박리 필름(2)의 표면측(점착층(1)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, the first irradiated portion 40 (specifically, the other side of the release film 2 disposed on the other side of the first irradiated portion 40) blocks actinic light (preferably, ultraviolet rays) Without disposing the first mask 8 to be used, actinic light (preferably , ultraviolet rays) is disposed, and actinic rays (preferably ultraviolet rays) are irradiated from the surface side of the release film 2 (the surface side of the adhesive layer 1).

이에 의해, 제 1 조사 부분(40)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있다.Thereby, only the 1st irradiation part 40 can be irradiated with actinic light (preferably, an ultraviolet-ray).

그리고, 제 1 조사 부분(40)에 있어서의 점착층(1)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 제 1 조사 부분(40)에 있어서의 점착층(1)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).And in the adhesion layer 1 in the 1st irradiation part 40, an acid generate|occur|produces from a photo-acid generator, and the compound colored with an acid is colored (specifically, black) by the acid. As a result, the adhesive layer 1 in the first irradiated portion 40 changes from colorless (transparent) to colored (visible light transmittance at a wavelength of 550 nm becomes low).

이어서, 제 2 조사 공정에서는, 가비조사 부분(41)을, 제 2 조사 부분(42)으로 한다.Next, in a 2nd irradiation process, let the provisional irradiation part 41 be the 2nd irradiation part 42. As shown in FIG.

상세하게는, 도 8C에 나타내는 바와 같이, 제 2 조사 공정에서는, 가비조사 부분(41)에는, 점착층(1)의 표면측으로부터 제 1 조사 공정과는 상이한 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 한편, 제 1 조사 부분(40)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, as shown in Fig. 8C, in the second irradiation step, in the provisionally irradiated portion 41, from the surface side of the adhesive layer 1, actinic light of a different amount from the first irradiation step (preferably, While irradiating ultraviolet rays), the first irradiated portion 40 is not irradiated with actinic rays (preferably ultraviolet rays).

보다 상세하게는, 가비조사 부분(41)(상세하게는, 가비조사 부분(41)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 2 마스크(9)를 배치하지 않고, 제 1 조사 부분(40)(상세하게는, 제 1 조사 부분(40)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 제 2 마스크(9)를 배치하고, 점착층(1)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, in the provisionally irradiated portion 41 (specifically, the other side of the release film 2 disposed on the other side of the provisionally irradiated portion 41), an agent that blocks active light (preferably, ultraviolet rays) 2 Without disposing the mask 9, the first irradiated portion 40 (specifically, the other side of the release film 2 disposed on the other side of the first irradiated portion 40) is directed to the actinic light (preferably , ultraviolet rays) is disposed, and actinic rays (preferably ultraviolet rays) are irradiated from the surface side of the adhesive layer 1 .

이에 의해, 가비조사 부분(41)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있고, 가비조사 부분(41)은, 제 2 조사 부분(42)이 된다.As a result, only the provisionally irradiated portion 41 can be irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the provisionally irradiated portion 41 becomes the second irradiated portion 42 .

그리고, 제 2 조사 부분(42)에 있어서의 점착층(1)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 제 2 조사 부분(42)에 있어서의 점착층(1)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).And in the adhesion layer 1 in the 2nd irradiation part 42, an acid generate|occur|produces from a photo-acid generator, and the compound colored with an acid is colored (specifically, black) by the acid. As a result, the adhesive layer 1 in the second irradiated portion 42 changes from colorless (transparent) to colored (visible light transmittance at a wavelength of 550 nm becomes low).

이에 의해, 점착층(1)에, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42)이 형성된다.Thereby, the 1st irradiation part 40 and the 2nd irradiation part 42 are formed in the adhesive layer 1 .

그리고, 상기한 바와 같이, 제 2 조사 공정에서는, 제 1 조사 공정과는 상이한 광량의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.And as mentioned above, in a 2nd irradiation process, the actinic light (preferably ultraviolet) of the amount of light different from the 1st irradiation process is irradiated.

즉, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42)의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 서로 상이하다.That is, the irradiation amounts of the actinic rays (preferably, ultraviolet rays) of the first irradiated portion 40 and the second irradiated portion 42 are different from each other.

그 때문에, 제 1 조사 부분(40) 및 제 2 조사 부분(42) 중 어느 한쪽이 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮은 저광투과율 부분(11))이 되고, 다른 쪽이 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 높은 고광투과율 부분(10))이 된다.Therefore, either one of the first irradiated portion 40 and the second irradiated portion 42 has a relatively high irradiation amount of actinic light (preferably, ultraviolet rays) high irradiation portion 20 (in other words, a relatively wavelength It becomes a low light transmittance portion 11 having a low visible light transmittance at 550 nm, and the other is a low irradiation portion 23 with a relatively low irradiation amount of actinic light (preferably, ultraviolet light) (in other words, relatively at a wavelength of 550 nm of high light transmittance portion 10) with high visible light transmittance.

한편, 도 8에서는, 제 1 조사 부분(40)이 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))이고, 제 2 조사 부분(42)이 저조사 부분(21)(고광투과율 부분(10))인 것으로 해서, 설명한다.On the other hand, in Fig. 8, the first irradiated portion 40 is the high irradiated portion 20 (low light transmittance portion 11), and the second irradiated portion 42 is the low irradiated portion 21 (high light transmittance portion 10). )) and will be described.

상세하게는, 고조사 부분(20)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 저조사 부분(23)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.Specifically, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion 20 is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, 0.01% or more, and low irradiation The visible light transmittance of the portion 23 at a wavelength of 550 nm is, for example, 20% or more, preferably 40% or more, and is, for example, 70% or less.

그리고, 첩착 공정에서는, 도 8D에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 점착층(1)의 타방면을, 피착체(4)에 첩부한다.And in the sticking process, as shown in FIG. 8D, the other surface of the adhesion layer 1 is stuck to the to-be-adhered body 4 similarly to above-mentioned 1st Embodiment.

이에 의해, 박리 필름(2)과, 박리 필름(2)의 타방면에 배치되는 점착층(1)과, 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereby, the intermediate laminated body 6 provided with the release film 2, the adhesive layer 1 arrange|positioned on the other surface of the release film 2, and the to-be-adhered body 4 arrange|positioned on the other surface of the adhesion layer 1). ) is obtained.

또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(1)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the intermediate laminate 6, the adhesive layer 1 comprises a high light transmittance portion 10 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm ( 11) is provided.

그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.And, in this intermediate laminate 6, the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 at a wavelength of 550 nm is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, 0.01 % or more, and the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the high light transmittance portion 10 is, for example, 20% or more, preferably 40% or more, and for example, 70% or less.

저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이고, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이면, 광투과율 부분(11) 및 고광투과율 부분(10)의 색감을 확실하게 바꿀 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 is within the above range, and the above-described visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 is within the above range, the light transmittance portion 11 and the high light transmittance portion 10 You can definitely change the color.

제 1 실시형태의 제 1 변형예에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 제 1 조사 공정 및 제 2 조사 공정에 의해, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과 저조사 부분(23)(고광투과율 부분(10))을 형성하기 때문에, 색감이 상이한 영역을 갖는 점착층(1)을 구비하는 중간 적층체(6)를 제조할 수 있다.According to the 1st modification of 1st Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the said intermediate|middle laminated body 6, the highly irradiated part 20 (low light) by a 1st irradiation process and a 2nd irradiation process. Since the transmittance portion 11) and the low irradiated portion 23 (high light transmittance portion 10) are formed, the intermediate laminate 6 including the adhesive layer 1 having regions having different colors can be manufactured. have.

또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측에서의 외광(활성 광선)에 의해, 저조사 부분(23)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, if the adherend 4 is the second adherend 31, it is possible to suppress the coloration of the low-irradiated portion 23 by external light (actinic light) from the surface side of the second adherend 31. can

또한, 비조사/저조사 부분(21)이, 저조사 부분(23)인 경우에는, 조사 공정은, 점착층(1)의 전부에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 점착층(1)의 전부를, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)이 조사된 제 3 조사 부분(43)으로 하는 제 3 조사 공정과, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한 후, 제 3 조사 부분의 잔부(46)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)를, 제 4 조사 부분(44)으로 하는 제 4 조사 공정을 구비한다.In addition, when the non-irradiated/low-irradiated portion 21 is the low-irradiated portion 23, the irradiation step is performed by irradiating all of the adhesive layer 1 with actinic rays (preferably, ultraviolet rays), A third irradiation step in which all of the adhesive layer 1 is a third irradiation portion 43 irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and a part 45 of the third irradiation portion 43, After disposing the mask 7 for blocking actinic light (preferably, ultraviolet rays), the remaining portion 46 of the third irradiated portion is irradiated with actinic light (preferably ultraviolet) by irradiating the third irradiated portion The 4th irradiation process which makes the remainder 46 of (43) into the 4th irradiation part 44 is provided.

이하의 설명에서는, 제 1A 실시형태에 있어서, 비조사/저조사 부분(21)이, 저조사 부분(23)인 경우(이하, 제 1A 실시형태의 제 2 변형예로 한다.)를, 도 9를 참조해서, 설명한다.In the following description, in Embodiment 1A, the case where the non-irradiation/low irradiation portion 21 is the low-irradiation portion 23 (hereinafter, referred to as a second modification of Embodiment 1A) is illustrated. It will be described with reference to 9.

준비 공정에서는, 도 9A에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)를 준비한다.In a preparation process, as shown to FIG. 9A, the adhesive sheet 1 is prepared similarly to 1st A embodiment mentioned above.

조사 공정에서는, 점착층(1)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하여, 점착층(1)에, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)과, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)을 형성한다.In the irradiation step, the adhesive layer 1 is irradiated with actinic light (preferably, ultraviolet rays), and the adhesive layer 1 is subjected to a relatively high irradiation amount of actinic light (preferably ultraviolet) to the highly irradiated portion 20 ) and a relatively low irradiation amount 23 of actinic rays (preferably, ultraviolet rays) are formed.

구체적으로는, 조사 공정에 있어서의 제 3 조사 공정에 있어서, 제 3 조사 부분(43)을 형성하고, 조사 공정에 있어서의 제 4 조사 공정에 있어서, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)(후술)를, 제 4 조사 부분(44)으로 한다.Specifically, in the third irradiation process in the irradiation process, the third irradiation part 43 is formed, and in the fourth irradiation process in the irradiation process, the remainder 46 of the third irradiation part 43 is performed. ) (described later) is referred to as the fourth irradiation portion 44 .

제 3 조사 공정에서는, 도 9B에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)의 전부에, 박리 필름(2)의 표면측(점착층(1)의 표면측)으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.In the 3rd irradiation process, as shown in FIG. 9B, actinic light (preferably ultraviolet rays) from the surface side of the peeling film 2 (the surface side of the adhesive layer 1) to all of the adhesion layer 1 investigate

이에 의해, 점착층(1)의 전부가, 제 3 조사 부분(43)이 된다.Thereby, the whole of the adhesive layer 1 becomes the 3rd irradiation part 43. As shown in FIG.

또한, 점착층(1)(제 3 조사 부분(43))에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 점착층(1)의 전부(제 3 조사 부분(43))가, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).Moreover, in the adhesion layer 1 (3rd irradiation part 43), an acid generate|occur|produces from a photo-acid generator, and the compound colored with an acid is colored (specifically, black) by the acid. As a result, all of the adhesive layer 1 (the third irradiated portion 43) changes from colorless (transparent) to colored (visible light transmittance at a wavelength of 550 nm becomes low).

이어서, 제 4 조사 공정에서는, 도 9C에 나타내는 바와 같이, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한 후, 제 3 조사 부분의 잔부(46)에 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 것에 의해, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)를, 제 4 조사 부분(44)으로 한다.Next, in the fourth irradiation step, as shown in FIG. 9C , after disposing a mask 7 that blocks actinic light (preferably, ultraviolet rays) in a part 45 of the third irradiation part 43, By irradiating actinic light (preferably, ultraviolet rays) to the remainder 46 of the third irradiation portion, the remainder 46 of the third irradiation portion 43 is set as the fourth irradiation portion 44 .

한편, 이하의 설명에서는, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 양단 부분의 2개소를 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)(환언하면, 점착 시트(1)를 면 방향으로 3분할한 것 중 중앙분의 1개소만이 제 3 조사 부분(43)의 일부(45))로 해서, 설명한다.On the other hand, in the following description, the remainder 46 of the third irradiated portion 43 (in other words, the pressure-sensitive adhesive sheet 1 is face-up at two ends of the adhesive sheet 1 divided into three in the plane direction). Only one of the central portions among those divided into three directions will be described as a part (45) of the third irradiated portion (43).

상세하게는, 제 4 조사 공정에서는, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)에는, 점착층(1)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하는 한편, 제 3 조사 부분(43)의 잔부에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사하지 않는다.Specifically, in the fourth irradiation step, the remaining portion 46 of the third irradiation portion 43 is irradiated with actinic light (preferably ultraviolet) from the surface side of the adhesive layer 1, while the third irradiation The remainder of the portion 43 is not irradiated with actinic rays (preferably, ultraviolet rays).

보다 상세하게는, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)(상세하게는, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에는, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하지 않고, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)(상세하게는, 제 3 조사 부분(43)의 일부(45)의 타방면에 배치되는 박리 필름(2)의 타방면)에, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치하고, 점착층(1)의 표면측으로부터 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사한다.More specifically, the remaining portion 46 of the third irradiated portion 43 (specifically, the other side of the release film 2 disposed on the other side of the remaining portion 46 of the third irradiated portion 43) has an active Without disposing the mask 7 for blocking light rays (preferably ultraviolet rays), part 45 of the third irradiated part 43 (specifically, part 45 of the third irradiated part 43 ) On the other side of the release film 2 disposed on the other side), a mask 7 that blocks actinic light (preferably, ultraviolet light) is disposed, and actinic light (preferably, UV rays).

이에 의해, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)에만, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 조사할 수 있고, 제 3 조사 부분(43)의 잔부(46)는, 제 4 조사 부분(44)이 된다.Thereby, only the remaining part 46 of the 3rd irradiation part 43 can be irradiated with actinic light (preferably, an ultraviolet-ray), and the remainder 46 of the 3rd irradiation part 43 is a 4th irradiation part. (44) becomes.

그리고, 제 4 조사 부분(44)에 있어서의 점착층(1)에서는, 광산 발생제로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색(구체적으로는, 흑색)된다. 그 결과, 제 4 조사 부분(44)에 있어서의 점착층(1)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다(파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.).And in the adhesion layer 1 in the 4th irradiation part 44, an acid generate|occur|produces from a photo-acid generator, and the compound colored with an acid is colored (specifically, black) by the acid. As a result, the adhesive layer 1 in the fourth irradiated portion 44 changes from colorless (transparent) to colored (visible light transmittance at a wavelength of 550 nm becomes low).

이에 의해, 제 4 조사 부분(44)은, 제 3 조사 부분(43)보다도, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮아진다.As a result, the fourth irradiated portion 44 has a lower visible light transmittance at a wavelength of 550 nm than the third irradiated portion 43 .

즉, 제 3 조사 부분(43)이, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 낮은 저조사 부분(23)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 높은 고광투과율 부분(10))이 되고, 제 4 조사 부분(44)이, 상대적으로 활성 광선(바람직하게는, 자외선)의 조사량이 높은 고조사 부분(20)(환언하면, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 낮은 저광투과율 부분(11))이 된다.That is, the third irradiated portion 43 is a low irradiated portion 23 with a relatively low irradiation amount of actinic light (preferably, ultraviolet rays) (in other words, a high light transmittance portion with relatively high visible light transmittance at a wavelength of 550 nm ( 10)), and the fourth irradiated portion 44 has a relatively high irradiated portion 20 (in other words, a relatively low visible light transmittance at a wavelength of 550 nm) with a relatively high irradiation amount of actinic light (preferably, ultraviolet ray). low light transmittance portion 11).

상세하게는, 고조사 부분(20)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 저조사 부분(23)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.Specifically, the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion 20 is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, 0.01% or more, and low irradiation The visible light transmittance of the portion 23 at a wavelength of 550 nm is, for example, 20% or more, preferably 40% or more, and is, for example, 70% or less.

그리고, 첩착 공정에서는, 도 9D에 나타내는 바와 같이, 상기한 제 1A 실시형태와 마찬가지로, 점착 시트(1)의 타방면(점착층(1)의 타방면)을, 피착체(4)에 첩부한다.And in the sticking process, as shown in FIG. 9D, the other side of the adhesive sheet 1 (the other side of the adhesive layer 1) is stuck to the to-be-adhered body 4 similarly to above-mentioned 1A Embodiment.

이에 의해, 박리 필름(2)과, 박리 필름(2)의 타방면에 배치되는 점착층(1)과, 점착층(1)의 타방면에 배치되는 피착체(4)를 구비하는 중간 적층체(6)가 얻어진다.Thereby, the intermediate laminated body 6 provided with the release film 2, the adhesive layer 1 arrange|positioned on the other surface of the release film 2, and the to-be-adhered body 4 arrange|positioned on the other surface of the adhesion layer 1). ) is obtained.

또한, 중간 적층체(6)에 있어서, 점착층(1)은, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분(10)과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분(11)을 구비한다.Further, in the intermediate laminate 6, the adhesive layer 1 comprises a high light transmittance portion 10 having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm, and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm ( 11) is provided.

그리고, 이 중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 미만, 바람직하게는 10% 이하, 또한, 예를 들면, 0.01% 이상이고, 또한, 고광투과율 부분(10)의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율은, 예를 들면, 20% 이상, 바람직하게는 40% 이상이고, 또한, 예를 들면, 70% 이하이다.And, in this intermediate laminate 6, the visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 at a wavelength of 550 nm is, for example, less than 20%, preferably 10% or less, and further, for example, 0.01 % or more, and the visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the high light transmittance portion 10 is, for example, 20% or more, preferably 40% or more, and for example, 70% or less.

저광투과율 부분(11)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이고, 고광투과율 부분(10)의, 상기한 가시광 투과율이 상기 범위 내이면, 광투과율 부분(11) 및 고광투과율 부분(10)의 색감을 확실하게 바꿀 수 있다.When the above-described visible light transmittance of the low light transmittance portion 11 is within the above range, and the above-described visible light transmittance of the high light transmittance portion 10 is within the above range, the light transmittance portion 11 and the high light transmittance portion 10 You can definitely change the color.

제 1A 실시형태의 제 2 변형예에 의하면, 상기한 중간 적층체(6)의 제조 방법의 효과를 나타냄과 함께, 제 3 조사 공정 및 제 4 조사 공정에 의해, 고조사 부분(20)(저광투과율 부분(11))과 저조사 부분(23)(고광투과율 부분(10))을 형성하기 때문에, 색감이 상이한 영역을 갖는 점착층(1)을 구비하는 중간 적층체(6)를 제조할 수 있다.According to the 2nd modification of 1A Embodiment, while showing the effect of the manufacturing method of the above-mentioned intermediate|middle laminated body 6, by a 3rd irradiation process and a 4th irradiation process, the highly irradiated part 20 (low light) Since the transmittance portion 11) and the low irradiated portion 23 (high light transmittance portion 10) are formed, the intermediate laminate 6 including the adhesive layer 1 having regions having different colors can be manufactured. have.

또한, 특히, 피착체(4)가, 제 2 피착체(31)이면, 제 2 피착체(31)의 표면측에서의 외광(활성 광선)에 의해, 저조사 부분(23)이 착색되는 것을 억제할 수 있다.In particular, if the adherend 4 is the second adherend 31, it is possible to suppress the coloration of the low-irradiated portion 23 by external light (actinic light) from the surface side of the second adherend 31. can

상기한 설명에서는, 제 1A 실시형태에 있어서, 비조사/저조사 부분(21)을 저조사 부분(23)으로 하는 경우를 설명했지만, 제 1B 실시형태, 제 2A 실시형태(제 1 피착체를 이용하는 경우) 및 제 2B 실시형태에 있어서도, 상기한 제 1A 실시형태의 제 1 변형예 또는 제 2 변형예에 있어서의 조사 공정과 마찬가지의 수순에 기초하여, 비조사/저조사 부분(21)을 저조사 부분(23)으로 할 수 있다.In the above description, in the first A embodiment, the case where the non-irradiated/low irradiated portion 21 is the low irradiated portion 23 has been described. However, the 1B embodiment and the 2A embodiment (the first adherend Also in the case of use) and the second embodiment 2B, the non-irradiated/low-irradiation portion 21 is formed based on the same procedure as the irradiation process in the first modification or the second modification of the above-described embodiment 1A. It can be set as the low-irradiation part 23.

또한, 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 복수 이용함으로써, 점착층(1)에 있어서의 저광투과율 부분(11)이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체(6)를 얻을 수도 있다.In addition, by using a plurality of masks 7 that block actinic light (preferably, ultraviolet rays), an intermediate laminate 6 in which the low light transmittance portion 11 in the adhesive layer 1 has a pattern shape is obtained. may be

구체적으로는, 제 1 실시형태의 조사 공정에 있어서, 도 9A에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)의 타방면에 복수의 활성 광선(바람직하게는, 자외선)을 차단하는 마스크(7)를 배치한다(상세하게는, 서로 간격을 띄우고, 4개 배치한다).Specifically, in the irradiation step of the first embodiment, as shown in FIG. 9A , a mask 7 that blocks a plurality of actinic rays (preferably ultraviolet rays) is disposed on the other surface of the release film 2 . (In detail, spaced apart from each other and placed 4).

그리고, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지로, 준비 공정, 조사 공정 및 첩착 공정을 실시함으로써, 도 9B에 나타내는 바와 같이, 점착층(1)에 있어서의 저광투과율 부분(11)이 패턴 형상을 갖는 중간 적층체(6)를 얻을 수 있다.And as shown in FIG. 9B by implementing a preparatory process, an irradiation process, and a sticking process similarly to said 1st Embodiment, the low-light transmittance part 11 in the adhesion layer 1 has a pattern shape intermediate|middle A laminate 6 can be obtained.

중간 적층체(6)에 있어서, 저광투과율 부분(11)이 패턴 형상을 가지면, 패턴 형상을 자유롭게 설계할 수 있다.In the intermediate laminate 6, if the low light transmittance portion 11 has a pattern shape, the pattern shape can be freely designed.

상기한 설명에서는, 산 발생제가 광산 발생제인 경우에 대하여 설명했지만, 산 발생제가 열산 발생제인 경우에는, 상기의 설명에 있어서, 조사 공정에 있어서, 점착층(1)에 광을 조사하는 공정(조사 공정) 대신에, 점착층(1)을 가열한다. 이에 의해, 점착층(1)에 있어서의 산 발생제(열산 발생제)로부터 산이 발생하고, 그 산에 의해, 산에 의해 착색되는 화합물이 착색되는 것에 의해, 점착층(1)이, 무색(투명)으로부터 유색으로 변화한다.In the above description, although the case where an acid generator is a photo-acid generator was demonstrated, when an acid generator is a thermal acid generator, in the said description, it is an irradiation process WHEREIN: The process of irradiating light to the adhesion layer 1 (irradiation) step) instead, the pressure-sensitive adhesive layer 1 is heated. Thereby, an acid is generated from the acid generator (thermal acid generator) in the adhesive layer 1, and the acid causes the compound to be colored by the acid to be colored, so that the adhesive layer 1 is colorless ( from transparent) to colored.

실시예Example

이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 한편, 본 발명은, 실시예 및 비교예로 전혀 한정되지 않는다. 또한, 이하의 기재에 있어서 이용되는 배합 비율(함유 비율), 물성치, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기의 「발명을 실시하기 위한 구체적인 내용」에 있어서 기재되어 있는, 그들에 대응하는 배합 비율(함유 비율), 물성치, 파라미터 등 해당 기재의 상한치(「이하」, 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한치(「이상」, 「초과」로서 정의되어 있는 수치)로 대체할 수 있다.Examples and comparative examples are shown below, and the present invention will be described more specifically. In addition, this invention is not limited at all to an Example and a comparative example. In addition, specific numerical values, such as a compounding ratio (content ratio), physical property value, parameter, etc. used in the following description are described in the above "Specific contents for carrying out the invention", and the corresponding compounding ratio (contains) ratio), physical properties, parameters, etc., may be substituted with the upper limit (the numerical value defined as “less than” or “less than”) or the lower limit (the numerical value defined as “more than” or “exceed”) of the description.

한편, 「부」 및 「%」는, 특별히 언급이 없는 한, 질량 기준이다.In addition, unless otherwise indicated, "part" and "%" are based on mass.

1. 성분의 상세1. Details of ingredients

각 실시예 및 각 비교예에서 이용한 각 성분을 이하에 기재한다.Each component used in each Example and each comparative example is described below.

2EHA: 아크릴산 2-에틸헥실2EHA: 2-ethylhexyl acrylate

MMA: 메타크릴산 메틸MMA: methyl methacrylate

BA: 아크릴산 뷰틸BA: butyl acrylate

NVP: N-바이닐피롤리돈NVP: N-vinylpyrrolidone

HEA: 아크릴산 2-하이드록시에틸HEA: 2-hydroxyethyl acrylate

AA: 아크릴산AA: acrylic acid

타케네이트 D110N: 자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체의 75% 아세트산 에틸 용액, 미쓰이 화학제Takenate D110N: 75% ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals

코로네이트 HX: 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체, 도소제Coronate HX: isocyanurate form of hexamethylene diisocyanate, dosing agent

테트라드 C: 상품명: 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인(에폭시계 가교제), 미쓰비시 가스화학제Tetrad C: Trade name: 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane (epoxy crosslinking agent), manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals

BLACK ND1: 로이코 염료, 야마다 화학공업제BLACK ND1: leuco dye, made by Yamada Chemical Industries, Ltd.

CPI-310B: 설포늄과 (C6F5)4B-로 이루어지는 염, 광산 발생제, 산 아프로제CPI-310B: salt consisting of sulfonium and (C 6 F 5 ) 4 B - , photoacid generator, acid aproze

Solvent Black29: 염료Solvent Black29: Dye

2. 점착성 폴리머의 조제2. Preparation of adhesive polymer

합성예 1Synthesis Example 1

온도계, 교반기, 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 반응 용기에, 모노머 성분으로서, 아크릴산 2-에틸헥실(2EHA) 63질량부, N-바이닐피롤리돈(NVP) 15질량부, 메타크릴산 메틸(MMA) 9질량부, 아크릴산 2-하이드록시에틸(HEA) 13질량부, 중합 개시제로서, 아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.2질량부, 용매로서, 아세트산 에틸 233질량부를 투입하고, 질소 가스를 흘려보내고, 교반하면서 약 1시간 질소 치환했다. 그 후, 60℃로 가열하고, 7시간 반응시켜, 중량 평균 분자량(Mw)이 1200000인 점착성 폴리머의 용액을 얻었다.In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux cooling tube and a nitrogen gas introduction tube, as a monomer component, 63 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 15 parts by mass of N-vinylpyrrolidone (NVP), and methacrylic 9 parts by mass of methyl acid (MMA), 13 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA), 0.2 parts by mass of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator, 233 parts by mass of ethyl acetate as a solvent, and nitrogen gas was flowed, and nitrogen was substituted for about 1 hour while stirring. Then, it heated at 60 degreeC, made it react for 7 hours, and obtained the solution of the adhesive polymer whose weight average molecular weight (Mw) is 120000.

또한, FOX의 식으로 산출한 점착성 폴리머의 유리 전이 온도는, -34℃였다.In addition, the glass transition temperature of the adhesive polymer calculated by the formula of FOX was -34 degreeC.

합성예 2∼합성예 3Synthesis Example 2 to Synthesis Example 3

표 1에 따라, 모노머 성분의 배합 처방을 변경한 것 이외에는, 합성예 1과 마찬가지로 해서, 점착성 폴리머의 용액을 제조했다.According to Table 1, except having changed the mixing|blending prescription of a monomer component, it carried out similarly to Synthesis Example 1, and prepared a solution of an adhesive polymer.

3. 점착제 및 점착층의 조제3. Preparation of adhesive and adhesive layer

실시예 1Example 1

합성예 1의 점착성 폴리머의 용액에, 가교제로서, 타케네이트 D-110N(자일릴렌 다이아이소사이아네이트의 트라이메틸올프로페인 어덕트체의 75% 아세트산 에틸 용액, 미쓰이 화학제)을, 점착성 폴리머의 용액 중의 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 1.1질량부, 산에 의해 착색되는 화합물로서, BLACK ND1(로이코 염료)을 점착성 폴리머의 용액 중의 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 1질량부, 산 발생제로서, CP-310B(광산 발생제)를 점착성 폴리머의 용액 중의 점착성 폴리머 100질량부에 대해서, 2질량부를 첨가하고, 균일하게 혼합하여 점착제를 조제했다.To the solution of the adhesive polymer of Synthesis Example 1, as a crosslinking agent, Takenate D-110N (75% ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals) was added to the adhesive polymer With respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer in the solution of 1.1 parts by mass, as a compound colored with an acid, BLACK ND1 (leuco dye) with respect to 100 parts by mass of the adhesive polymer in the solution of the adhesive polymer, 1 part by mass, acid generator As CP-310B (photoacid generator) with respect to 100 mass parts of adhesive polymers in the solution of an adhesive polymer, 2 mass parts was added, it mixed uniformly, and the adhesive was prepared.

이어서, 표면 이형 처리가 되어 있는 두께 50μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름의 일방면에, 실시예 1의 점착제를, 건조 후의 두께가 25μm가 되도록, 파운틴 롤에 의해 도포하고, 130℃에서 1분간 건조하여 용매를 제거했다. 이에 의해, 점착층을 형성했다. 추가로, 점착제의 일방면에, 박리 필름(표면이 실리콘 이형 처리된 두께 25μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름)의 이형 처리면을 첩합(貼合)했다. 그 후, 25℃의 분위기에서 4일간의 에이징 처리를 하여, 가교 반응을 진행시켰다. 이에 의해, 25μm의 점착층을 제조했다.Next, on one side of a 50 μm thick polyethylene terephthalate film subjected to surface release treatment, the pressure-sensitive adhesive of Example 1 is applied with a fountain roll so that the thickness after drying becomes 25 μm, dried at 130° C. for 1 minute, and the solvent has been removed Thereby, the adhesion layer was formed. Furthermore, the release-processed surface of the peeling film (the 25-micrometer-thick polyethylene terephthalate film by which the surface was silicone release-processed) was pasted together to one side of an adhesive. Then, the aging process for 4 days was performed in 25 degreeC atmosphere, and the crosslinking reaction was advanced. Thereby, the 25-micrometer adhesive layer was manufactured.

실시예 2Example 2

실시예 1에서 얻어진 25μm의 점착층을 2매 적층하여, 50μm의 점착층을 얻었다.Two 25-micrometer adhesive layers obtained in Example 1 were laminated|stacked, and the 50-micrometer adhesive layer was obtained.

실시예 3Example 3

실시예 1에서 얻어진 25μm의 점착층을 3매 적층하여, 75μm의 점착층을 얻었다.Three 25-micrometer adhesive layers obtained in Example 1 were laminated|stacked, and the 75-micrometer adhesive layer was obtained.

실시예 4Example 4

실시예 1에서 얻어진 25μm의 점착층을 4매 적층하여, 100μm의 점착층을 얻었다.Four 25-micrometer adhesive layers obtained in Example 1 were laminated|stacked, and the 100-micrometer adhesive layer was obtained.

실시예 5Example 5

표 2에 따라, 배합 처방을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 점착 시트(25μm의 점착층)를 제조했다.According to Table 2, except having changed the formulation prescription, it carried out similarly to Example 1, and produced the adhesive sheet (25 micrometers adhesive layer).

실시예 6Example 6

실시예 5에서 얻어진 25μm의 점착층을 2매 적층하여, 50μm의 점착층을 얻었다.Two 25-micrometer adhesive layers obtained in Example 5 were laminated|stacked, and the 50-micrometer adhesive layer was obtained.

실시예 7Example 7

실시예 5에서 얻어진 25μm의 점착층을 3매 적층하여, 75μm의 점착층을 얻었다.Three 25-micrometer adhesive layers obtained in Example 5 were laminated|stacked, and the 75-micrometer adhesive layer was obtained.

실시예 8Example 8

실시예 5에서 얻어진 25μm의 점착층을 4매 적층하여, 100μm의 점착층을 얻었다.Four 25-micrometer adhesive layers obtained in Example 5 were laminated|stacked, and the 100-micrometer adhesive layer was obtained.

실시예 9Example 9

표 2에 따라, 배합 처방을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 점착 시트(25μm의 점착층)를 제조했다.According to Table 2, except having changed the formulation prescription, it carried out similarly to Example 1, and manufactured the adhesive sheet (25 micrometers adhesive layer).

비교예 1∼비교예 3Comparative Examples 1 to 3

표 2에 따라, 배합 처방을 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 점착 시트(25μm의 점착층)를 제조했다.According to Table 2, except having changed the formulation prescription, it carried out similarly to Example 1, and manufactured the adhesive sheet (25 micrometers adhesive layer).

한편, 비교예 3에서는, 염료로서, Solvent Black29를 이용했다.On the other hand, in Comparative Example 3, Solvent Black29 was used as the dye.

4. 평가4. Evaluation

(전단 저장 탄성률 및 tanδ)(shear storage modulus and tanδ)

실시예 1, 실시예 5, 실시예 9의 점착층을, 점착층을 60매 준비하고, 이 점착층을 적층하여, 1.5mm의 전단 저장 탄성률 측정용의 샘플을 제작했다. 전단 저장 탄성률 측정용의 샘플을, Rheometric Scientific사제 「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」을 이용하여, 이하의 조건에 의해, 전단 저장 탄성률 및 tanδ를 측정했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.60 adhesive layers were prepared for the adhesive layer of Example 1, Example 5, and Example 9, this adhesive layer was laminated|stacked, and the sample for shear storage modulus measurement of 1.5 mm was produced. The shear storage modulus and tan δ were measured for the sample for shear storage modulus measurement under the following conditions using "Advanced Rheometric Expansion System (ARES)" manufactured by Rheometric Scientific. The results are shown in Table 2.

(측정 조건)(Measuring conditions)

변형 모드: 비틀림Deformation mode: torsion

측정 주파수: 1HzMeasuring frequency: 1Hz

승온 속도: 5℃/분Temperature increase rate: 5°C/min

측정 온도: -70℃∼250℃Measuring temperature: -70℃ to 250℃

형상: 패럴렐 플레이트 8.0mmφShape: Parallel plate 8.0mmφ

(투과율)(transmittance)

각 실시예 및 각 비교예의 점착층을 유리 기판에 첩부하고, LED(365nm, 8000mJ/□)를 조사하기 전후에서의 550nm에 있어서의 투과율을 측정했다.The adhesion layer of each Example and each comparative example was affixed on the glass substrate, and the transmittance|permeability in 550 nm before and behind irradiating LED (365 nm, 8000 mJ/□) was measured.

한편, 유리 기판만으로 측정한 데이터를 베이스라인으로 했다.In addition, the data measured only with the glass substrate were made into the baseline.

그 결과를 표 2에 나타낸다.The results are shown in Table 2.

(반사율)(reflectivity)

각 실시예 및 각 비교예의 점착층의 점착층을, 알루미늄 포일을 아크릴판에 붙인 피착체에 첩부하고, LED(365nm, 8000mJ/□)를 조사하기 전후에서의 550nm에 있어서의 반사율을 측정했다.The adhesive layer of the adhesive layer of each Example and each comparative example was affixed to the to-be-adhered body which affixed aluminum foil to the acrylic plate, and the reflectance in 550 nm before and behind irradiating LED (365 nm, 8000 mJ/□) was measured.

한편, 상기한 알루미늄 포일을 아크릴판에 붙인 피착체만으로 측정한 데이터를 베이스라인으로 했다.In addition, the data measured only with the to-be-adhered body which pasted the said aluminum foil on the acrylic plate was made into the baseline.

그 결과를 표 2에 나타낸다.The results are shown in Table 2.

(착색 안정성)(color stability)

각 실시예 및 각 비교예의 점착층에, 8000mJ/□의 광을 조사하고, 85℃에서 3일간 방치하고, 3일간 방치 전후의 투과율을 상기한 투과율 측정 수법과 마찬가지의 수순으로 측정했다.The adhesive layer of each Example and each comparative example was irradiated with light of 8000 mJ/□, left to stand at 85°C for 3 days, and the transmittance before and after standing for 3 days was measured in the same manner as in the above-described transmittance measurement method.

또한, 각 실시예 및 각 비교예의 점착 시트에, 8000mJ/□의 광을 조사하고, 85℃, 상대습도 85%에서 3일간 방치하고, 3일간 방치 전후의 투과율을 상기한 투과율 측정 수법과 마찬가지의 수순으로 측정했다.In addition, the pressure-sensitive adhesive sheet of each Example and each comparative example is irradiated with light of 8000 mJ/□, left at 85 ° C. and 85% relative humidity for 3 days, and the transmittance before and after leaving for 3 days is the same as the transmittance measurement method described above. measured in sequence.

그 결과를 표 2에 나타낸다.The results are shown in Table 2.

(투명 안정성)(Transparent Stability)

각 실시예 및 각 비교예의 점착층을, 23℃, 상대습도 50%에서 3일간 방치하고, 3일간 방치 전후의 투과율을 상기한 투과율 측정 수법과 마찬가지의 수순으로 측정했다.The adhesive layer of each Example and each comparative example was left to stand for 3 days at 23 degreeC and 50% of relative humidity, and the transmittance|permeability before and after leaving it for 3 days was measured by the procedure similar to the above-mentioned transmittance|permeability measurement method.

그 결과를 표 2에 나타낸다.The results are shown in Table 2.

Figure 112021105386156-pct00001
Figure 112021105386156-pct00001

Figure 112021105386156-pct00002
Figure 112021105386156-pct00002

한편, 상기 발명은, 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공했지만, 이는 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석해서는 안 된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는, 후기 청구의 범위에 포함되는 것이다.In addition, although the said invention was provided as embodiment of the illustration of this invention, this is only a mere illustration and should not be interpreted limitedly. Modifications of the present invention that are obvious to those skilled in the art are included in the following claims.

본 발명의 점착제, 중간 적층체의 제조 방법 및 중간 적층체는, 광학 디바이스, 전자 디바이스 및 그의 구성 부품에 있어서 적합하게 사용된다.The adhesive of this invention, the manufacturing method of an intermediate|middle laminated body, and an intermediate|middle laminated body are used suitably in an optical device, an electronic device, and its component.

1 점착층
4 피착체
6 중간 적층체
7 마스크
8 제 1 마스크
9 제 2 마스크
10 고광투과율 부분
11 저광투과율 부분
20 고조사 부분
21 비조사/저조사 부분
22 비조사 부분
23 저조사 부분
40 제 1 조사 부분
41 가비조사 부분
42 제 2 조사 부분
43 제 3 조사 부분
44 제 4 조사 부분
45 일부
46 잔부
1 adhesive layer
4 adherend
6 Intermediate Laminate
7 mask
8 first mask
9 second mask
10 High light transmittance part
11 Low light transmittance part
20 high irradiation part
21 non-irradiation/under-irradiation part
22 non-irradiated part
23 low-irradiation part
40 Part 1 Investigation
41 False Investigation Part
42 Part 2 of investigation
43 Part 3 Investigation
44 Part 4 Investigation
45 some
46 balance

Claims (18)

모노머 성분의 중합체인 점착성 폴리머와, 산에 의해 착색되는 화합물과, 산 발생제를 포함하고,
상기 점착성 폴리머의 유리 전이 온도가 0℃ 이하이고,
20℃∼50℃에서의 전단 저장 탄성률 G'가 1.0×104Pa 이상 1.0×106Pa 이하인 것을 특징으로 하는, 점착제.
A tacky polymer that is a polymer of a monomer component, a compound colored with an acid, and an acid generator,
The glass transition temperature of the adhesive polymer is 0 ° C. or less,
The shear storage modulus G' at 20°C to 50°C is 1.0×10 4 Pa or more and 1.0×10 6 Pa or less, The pressure-sensitive adhesive.
제 1 항에 있어서,
상기 모노머 성분이, 음이온성기를 갖는 산성 바이닐 모노머를 포함하는 것을 특징으로 하는, 점착제.
The method of claim 1,
The said monomer component contains the acidic vinyl monomer which has an anionic group, The adhesive characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 모노머 성분이, 실질적으로, 고립 전자쌍을 갖는 염기성 바이닐 모노머를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는, 점착제.
3. The method of claim 1 or 2,
The said monomer component does not contain the basic vinyl monomer which has a lone electron pair substantially, The adhesive characterized by the above-mentioned.
제 1 항에 기재된 점착제로 이루어지는 점착층을 준비하는 준비 공정,
상기 점착층에 활성 광선을 조사하여, 상기 점착층에, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 높은 고조사 부분과, 상대적으로 활성 광선의 조사량이 낮거나, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사/저조사 부분을 형성하는 것에 의해, 상기 고조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율을, 상기 비조사/저조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율보다도 작게 하는 조사 공정, 및
상기 점착층의 타방면을 피착체에 첩착(貼着)하는 첩착 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
A preparation step of preparing an adhesive layer made of the pressure-sensitive adhesive according to claim 1;
By irradiating actinic light to the adhesive layer, the adhesive layer has a relatively high irradiation amount of actinic light, and a relatively low irradiation amount of actinic light, or a non-irradiated/low irradiation part that is not irradiated with actinic light. an irradiation step of making the visible light transmittance of the highly irradiated portion at a wavelength of 550 nm smaller than the visible light transmittance of the non-irradiated/low irradiated portion at a wavelength of 550 nm by forming
A method for producing an intermediate laminate, comprising a bonding step of bonding the other side of the pressure-sensitive adhesive layer to an adherend.
제 4 항에 있어서,
상기 준비 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하고,
상기 조사 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
After the preparation process, the irradiation process is performed,
The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by implementing the said sticking process after the said irradiation process.
제 4 항에 있어서,
상기 준비 공정 후에, 상기 첩착 공정을 실시하고,
상기 첩착 공정 후에, 상기 조사 공정을 실시하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
After the preparation step, the bonding step is performed,
The said irradiation process is implemented after the said sticking process, The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by the above-mentioned.
제 6 항에 있어서,
상기 조사 공정에 있어서, 상기 점착층의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
7. The method of claim 6,
The said irradiation process WHEREIN: The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by irradiating actinic light to the said adhesive layer from the surface side of the said adhesive layer.
제 6 항에 있어서,
상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체의 표면측으로부터, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
7. The method of claim 6,
In the irradiating step, the adhesive layer is irradiated with actinic light from the surface side of the adherend, the method for producing an intermediate laminate.
제 8 항에 있어서,
상기 피착체의, 활성 광선의 평균 투과율이 60% 이상이고,
상기 조사 공정에 있어서, 상기 피착체측의 타방면의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The average transmittance of the actinic light of the adherend is 60% or more,
In the irradiating step, a mask for blocking actinic light is disposed on a part of the other side of the adherend, and then the adhesive layer is irradiated with actinic light.
제 8 항에 있어서,
상기 피착체가, 활성 광선을 차단하고,
상기 첩착 공정에 있어서, 상기 점착층의 타방면의 일부에, 상기 피착체를 배치하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The adherend blocks the actinic light,
The method for producing an intermediate laminate, wherein in the sticking step, the adherend is disposed on a part of the other surface of the pressure-sensitive adhesive layer.
제 4 항에 있어서,
상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선이 조사되지 않는 비조사 부분이고,
상기 비조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The non-irradiated/low irradiated portion is a non-irradiated portion to which actinic light is not irradiated,
The method for producing an intermediate laminate, wherein the non-irradiated portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more.
제 4 항에 있어서,
상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고,
상기 조사 공정은, 활성 광선을 차단하는 제 1 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층에, 활성 광선이 조사된 제 1 조사 부분과, 활성 광선이 조사되어 있지 않은 가(假)비조사 부분을 형성하는 제 1 조사 공정과,
상기 제 1 조사 부분에, 활성 광선을 차단하는 제 2 마스크를 배치한 후, 상기 점착층에 있어서의 상기 가비조사 부분에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 가비조사 부분을, 제 2 조사 부분으로 하는 제 2 조사 공정을 구비하고,
상기 제 1 조사 부분 및 상기 제 2 조사 부분 중 어느 한쪽이 상기 고조사 부분이고, 다른 쪽이 상기 저조사 부분인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The non-irradiated / low-irradiation part is a low-irradiation part with a low irradiation amount of actinic light,
In the irradiation step, after disposing a first mask that blocks actinic light, the adhesive layer is irradiated with actinic light. A first irradiation step of forming a temporary non-irradiated portion that is not
After arranging a second mask that blocks actinic light on the first irradiated portion, by irradiating the temporarily irradiated portion with actinic light on the temporarily irradiated portion of the adhesive layer, the provisionally irradiated portion is converted into a second irradiated portion and a second irradiation process to
One of the first irradiated portion and the second irradiated portion is the high irradiated portion, and the other is the low irradiated portion.
제 4 항에 있어서,
상기 비조사/저조사 부분이, 활성 광선의 조사량이 낮은 저조사 부분이고,
상기 조사 공정은, 상기 점착층의 전부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 점착층의 전부를, 활성 광선이 조사된 제 3 조사 부분으로 하는 제 3 조사 공정과,
상기 제 3 조사 부분의 일부에, 활성 광선을 차단하는 마스크를 배치한 후, 상기 제 3 조사 부분의 잔부에 활성 광선을 조사하는 것에 의해, 상기 제 3 조사 부분의 잔부를, 제 4 조사 부분으로 하는 제 4 조사 공정을 구비하고,
상기 제 3 조사 부분이, 상기 저조사 부분이고,
상기 제 4 조사 부분이, 상기 고조사 부분인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The non-irradiated / low-irradiation part is a low-irradiation part with a low irradiation amount of actinic light,
The irradiation step comprises: a third irradiation step of irradiating all of the adhesion layer with actinic light, so that all of the adhesion layer is a third irradiation portion irradiated with actinic light;
After arranging a mask that blocks actinic light on a part of the third irradiated part, by irradiating the remaining part of the third irradiated part with actinic light, the remainder of the third irradiated part is converted into a fourth irradiated part and a fourth irradiation process to
The third irradiated portion is the low irradiated portion,
The said 4th irradiated part is the said highly irradiated part, The manufacturing method of the intermediate|middle laminated body characterized by the above-mentioned.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
상기 고조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고,
상기 저조사 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체의 제조 방법.
14. The method according to claim 12 or 13,
Visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the highly irradiated portion is less than 20%,
A method for producing an intermediate laminate, wherein the low-irradiation portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 20% or more and 70% or less.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 점착제로 이루어지는 점착층 및 상기 점착층의 타방면에 배치되는 피착체를 구비하고,
상기 점착층이, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 큰 고광투과율 부분과, 상대적으로 파장 550nm에서의 가시광 투과율이 작은 저광투과율 부분을 구비하는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.
A pressure-sensitive adhesive layer comprising the pressure-sensitive adhesive according to claim 1 or 2, and an adherend disposed on the other side of the pressure-sensitive adhesive layer,
An intermediate laminate, characterized in that the adhesive layer includes a high light transmittance portion having a relatively large visible light transmittance at a wavelength of 550 nm and a low light transmittance portion having a relatively small visible light transmittance at a wavelength of 550 nm.
제 15 항에 있어서,
상기 저광투과율 부분이 패턴 형상을 갖는 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.
16. The method of claim 15,
The intermediate laminate, characterized in that the low light transmittance portion has a pattern shape.
제 15 항에 있어서,
상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 80% 이상인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.
16. The method of claim 15,
The intermediate laminate, characterized in that the high light transmittance portion has a visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more.
제 15 항에 있어서,
상기 저광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 미만이고,
상기 고광투과율 부분의, 파장 550nm에서의 가시광 투과율이, 20% 이상 70% 이하인 것을 특징으로 하는, 중간 적층체.
16. The method of claim 15,
Visible light transmittance at a wavelength of 550 nm of the low light transmittance portion is less than 20%,
A visible light transmittance of the high light transmittance portion at a wavelength of 550 nm is 20% or more and 70% or less.
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