KR102406783B1 - Stretchable substrate and electronic device comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 출원은 실리콘계 접착층; 상기 실리콘계 접착층의 일면 상에 구비된 비신축성 패턴; 및 상기 비신축성 패턴이 구비된 상기 실리콘계 접착층의 면 상에 상기 비신축성 패턴을 매립하도록 구비된 신축성 고분자 필름을 포함하는 신축성 기판 및 이를 포함하는 전자 장치에 관한 것이다.The present application is a silicone-based adhesive layer; a non-stretchable pattern provided on one surface of the silicone-based adhesive layer; and a stretchable polymer film provided to bury the non-stretchable pattern on the surface of the silicone-based adhesive layer provided with the non-stretchable pattern, and an electronic device including the same.

Description

신축성 기판 및 이를 포함하는 전자 장치 {STRETCHABLE SUBSTRATE AND ELECTRONIC DEVICE COMPRISING THE SAME}Stretchable substrate and electronic device including same

본 명세서는 신축성 기판 및 이를 포함하는 전자 장치에 관한 것이다.The present specification relates to a stretchable substrate and an electronic device including the same.

종래, 디스플레이 장치는 변형이 되지 않는 디스플레이(unbreakable display), 곡면을 가지는 디스플레이(Curved display), 구부러진 디스플레이(bended display), 접을 수 있는 디스플레이(foldable display) 및 감을 수 있는 디스플레이(rollable display) 등이 개발되어 왔다.Conventionally, the display device includes an unbreakable display, a curved display, a bent display, a foldable display, and a rollable display. has been developed

현재 상용화 단계는 구부러진 디스플레이 형태의 mobile 분야 정도이며, 접을 수 있는 디스플레이를 활용한 mobile 분야가 본격적으로 등장할 것으로 예상된다. 또한 pOLED를 활용한 전장분야의 개발속도 역시 눈부시게 이루어지고 있다.Currently, the commercialization stage is about the mobile field in the form of a curved display, and it is expected that the mobile field using a foldable display will appear in earnest. In addition, the development speed of the electric field using pOLED is dazzling.

특히, 최근에는 디스플레이의 패러다임 변화에 따라 감을 수 있는 디스플레이의 특성을 뛰어 넘는 신축성을 가지는 디스플레이(stretchable display)가 개발되고 있으며, 신축성을 가지는 디스플레이는 방향에 무관하게 쉽게 늘어나고 줄어드는 특성이 필요하며 이를 위해서는 높은 연신률과 복원력을 갖추는 신축성 기재의 개발이 필수적이다.In particular, recently, according to the paradigm change of the display, a stretchable display that exceeds the characteristics of a display that can be wound has been developed, and a stretchable display needs to be easily stretched and contracted regardless of the direction. It is essential to develop a stretchable base material having high elongation and restoring force.

유기 발광 소자 등의 전자 소자를 포함하는 신축성 디스플레이 장치의 경우에는, 전자 소자에 유연성이 포함되지 않아 신축성 기재의 연신에 따른 표면적 변화는 전자 소자의 내구성을 크게 저하시킬 수 있는 문제점을 갖는다.In the case of a stretchable display device including an electronic device, such as an organic light emitting device, since the electronic device does not include flexibility, a change in surface area due to stretching of the stretchable substrate may significantly reduce durability of the electronic device.

신축성을 가지는 디스플레이의 응용분야로 터치 스크린 판넬(touch screen panel)로 시작하여 fiber를 이용한 형태의 착용성을 가지는 디스플레이(wearable display), 그리고 의료(medical) 목적의 디스플레이로 적용가능 할 것으로 제안되고 있다.It is suggested that it can be applied to a display for medical purposes, starting with a touch screen panel as an application field of a stretchable display, and then as a wearable display using fiber. .

상기와 같은 필요성에 따라, 신축성 기재 상부에 전자 소자를 형성함에 있어, 전자 소자의 내구성을 유지시킬 수 있으며, 신축성이 뛰어난 신축성 기재의 개발이 필요하다.According to the above necessity, in forming the electronic device on the stretchable substrate, the durability of the electronic device can be maintained and there is a need to develop a stretchable substrate having excellent stretchability.

일본 특허 공개 제2006-299283호Japanese Patent Laid-Open No. 2006-299283

본 명세서는 신축성 기판 및 이를 포함하는 전자 장치를 제공하고자 한다.An object of the present specification is to provide a stretchable substrate and an electronic device including the same.

본 명세서의 일 실시상태는 실리콘계 접착층; 상기 실리콘계 접착층의 일면 상에 구비된 비신축성 패턴; 및 상기 비신축성 패턴이 구비된 상기 실리콘계 접착층의 면 상에 상기 비신축성 패턴을 매립하도록 구비된 신축성 고분자 필름을 포함하는 신축성 기판을 제공하고자 한다.An exemplary embodiment of the present specification is a silicone-based adhesive layer; a non-stretchable pattern provided on one surface of the silicone-based adhesive layer; and a stretchable polymer film provided to embed the non-stretchable pattern on the surface of the silicone-based adhesive layer on which the non-stretchable pattern is provided.

또한, 본 출원의 일 실시상태는 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판; 및 상기 신축성 기판의 접착층 상에 구비된 전자 소자를 포함하는 전자 장치로, 상기 전자 소자는 상기 신축성 기판의 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성되는 것인 전자 장치를 제공하고자 한다.In addition, an exemplary embodiment of the present application is a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application; and an electronic device provided on the adhesive layer of the stretchable substrate, wherein the electronic device is formed on a position where the non-stretchable pattern of the stretchable substrate is buried.

본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판은 신축성 고분자 필름의 내부로 함몰된 구조를 갖는 비신축성 패턴이 구비되어 있어, 추후 신축성 기판 상에 전기 소자를 배치하는 경우, 연신에 따른 표면적 변화가 적어 전기 소자의 내구성이 크게 향상되는 특징을 갖는다.The stretchable substrate according to the exemplary embodiment of the present application is provided with a non-stretchable pattern having a structure recessed into the stretchable polymer film. It has a characteristic that the durability of the device is greatly improved.

또한, 본 출원에 따른 신축성 기판은 신축성 고분자 필름과 상기 신축성 고분자 필름 상에 실리콘계 접착층을 포함하여, 여러 번 신장 및 수축을 반복하는 경우에도 신축성 고분자 필름과 실리콘계 접착층간의 접착력이 우수하며, 추후 전자 소자의 적층이 안정적으로 이루어질 수 있어, 후 공정 중 전자 소자가 신축성 기판에서 탈착되는 문제를 방지할 수 있는 특징을 갖게 된다.In addition, the stretchable substrate according to the present application includes a stretchable polymer film and a silicone-based adhesive layer on the stretchable polymer film, and has excellent adhesion between the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer even when stretching and shrinking several times is repeated, and later electronic devices stacking can be made stably, so that it is possible to prevent the problem of the electronic device detaching from the stretchable substrate during the post-process.

도 1은 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판을 나타낸 측면도이다.
도 2는 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판을 나타낸 상면도이다.
도 3은 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판의 측면도를 나타낸 도이다.
도 4는 본 출원의 실시예 1에 따른 신축성 기판의 신장 전 SEM 이미지를 나타낸 도이다.
도 5는 본 출원의 실시예 1에 따른 신축성 기판의 신장 상태에서의 SEM 이미지를 나타낸 도이다.
도 6은 본 출원의 실시예 1에 따른 신축성 기판의 신장 상태에서의 비신축성 패턴을 확대한 SEM 이미지를 나타낸 도이다.
도 7은 본 출원의 비교예 1에 따른 신축성 기판의 신장 상태에서의 비신축성 패턴을 확대한 SEM 이미지를 나타낸 도이다.
1 is a side view illustrating a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application.
2 is a top view illustrating a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application.
3 is a view showing a side view of a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application.
4 is a view showing an SEM image before stretching of the stretchable substrate according to Example 1 of the present application.
5 is a view showing an SEM image of the stretchable substrate according to Example 1 of the present application in a stretched state.
6 is a view showing an enlarged SEM image of the non-stretchable pattern in the stretched state of the stretchable substrate according to Example 1 of the present application.
7 is a diagram illustrating an enlarged SEM image of a non-stretchable pattern in a stretched state of a stretchable substrate according to Comparative Example 1 of the present application.

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail.

본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily carry out the present invention. However, the present invention may be embodied in several different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 출원의 일 실시상태는 실리콘계 접착층; 상기 실리콘계 접착층의 일면 상에 구비된 비신축성 패턴; 및 상기 비신축성 패턴이 구비된 상기 실리콘계 접착층의 면 상에 상기 비신축성 패턴을 매립하도록 구비된 신축성 고분자 필름을 포함하는 신축성 기판을 제공하고자 한다.An exemplary embodiment of the present application is a silicone-based adhesive layer; a non-stretchable pattern provided on one surface of the silicone-based adhesive layer; and a stretchable polymer film provided to embed the non-stretchable pattern on the surface of the silicone-based adhesive layer on which the non-stretchable pattern is provided.

상기 신축성 기판은 상기 비신축성 패턴이 구비된 상기 실리콘계 접착층의 면 상에 상기 비신축성 패턴을 매립하도록 구비된 신축성 고분자 필름을 가져, 도 1에 기재된 바와 같이, 비신축성 패턴은 신축성 고분자 필름의 내부로 매립된 구조를 가지며, 비신축성 패턴의 일면과 실리콘계 접착층의 일면이 접하는 구조를 가진다.The stretchable substrate has a stretchable polymer film provided to embed the non-stretch pattern on the surface of the silicone-based adhesive layer provided with the non-stretch pattern, and as described in FIG. 1 , the non-stretch pattern is inserted into the stretchable polymer film It has a buried structure, and has a structure in which one surface of the non-stretchable pattern and one surface of the silicone-based adhesive layer are in contact.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름의 영률(Young's Modulus)은 G1이고, 상기 비신축성 패턴의 영률(Young's Modulus)은 G2이며, 상기 G1 및 G2는 하기 식 1 내지 식 3을 만족하는 것인 신축성 기판을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, the Young's Modulus of the stretchable polymer film is G1, the Young's Modulus of the non-stretchable pattern is G2, and G1 and G2 satisfy the following Equations 1 to 3 It provides a stretchable substrate that is.

[식 1][Equation 1]

G1 ≤ 2 MPaG1 ≤ 2 MPa

[식 2][Equation 2]

G2 ≥ 1000 MPaG2 ≥ 1000 MPa

[식 3][Equation 3]

G2/G1 ≥ 500 G2/G1 ≥ 500

상기 신축성 고분자 필름 및 상기 비신축성 패턴의 영률은 Zwick/Roell사 Z010 UTM 장비를 이용하여 측정할 수 있으며, 구체적으로 상기 신축성 고분자 필름 및 필름 형태의 비신축성 재료를 25±2℃, 50±5% RH (상대습도) 하에서, 폭 25mm, 길이는 165mm가 되도록 길이 방향 양끝을 고정시킨 후, 100mm/min의 속도로 길이방향으로 양쪽으로 잡아 늘리며 Stress/Strain 측정을 통하여 영률을 구할 수 있다.The Young's modulus of the stretchable polymer film and the non-stretchable pattern can be measured using Zwick/Roell's Z010 UTM equipment. Specifically, the stretchable polymer film and the non-stretchable material in the form of a film are 25±2° C., 50±5% Under RH (relative humidity), the Young's modulus can be obtained by measuring the stress/strain by fixing both ends in the longitudinal direction so that the width becomes 25mm and the length becomes 165mm, and then stretches it in the longitudinal direction at a speed of 100mm/min.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 1은 G1 ≤ 2 MPa이며, 바람직하게는 G1 ≤ 1.7 MPa, 더욱 바람직하게는 G1 ≤ 1.5 MPa 일 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, Equation 1 may be G1 ≤ 2 MPa, preferably G1 ≤ 1.7 MPa, more preferably G1 ≤ 1.5 MPa.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 1은 G1 ≥ 0.01 MPa이며, 바람직하게는 G1 ≥ 0.1 MPa, 더욱 바람직하게는 G1 ≥ 0.3 MPa 일 수 있다.In another exemplary embodiment, in Formula 1, G1 ≥ 0.01 MPa, preferably G1 ≥ 0.1 MPa, more preferably G1 ≥ 0.3 MPa.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 2는 G2 ≥ 1000 MPa이며, 바람직하게는 G2 ≥ 2000 MPa, 더욱 바람직하게는 G2 ≥ 4000 MPa 일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 2 is G2 ≥ 1000 MPa, preferably G2 ≥ 2000 MPa, more preferably G2 ≥ 4000 MPa can be

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 2는 G2 ≤ 10000 MPa이며, 바람직하게는 G2 ≤ 9000 MPa, 더욱 바람직하게는 G2 ≤ 8000 MPa 일 수 있다.In another exemplary embodiment, in Equation 2, G2 ≤ 10000 MPa, preferably G2 ≤ 9000 MPa, more preferably G2 ≤ 8000 MPa can be

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 1은 0.01 MPa ≤ G1 ≤ 2 MPa이며, 바람직하게는 0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1.7 MPa, 더욱 바람직하게는 0.3 MPa ≤ G1 ≤ 1.5 MPa 일 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, Equation 1 may be 0.01 MPa ≤ G1 ≤ 2 MPa, preferably 0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1.7 MPa, more preferably 0.3 MPa ≤ G1 ≤ 1.5 MPa.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 2는 1000 MPa ≤ G2 ≤ 10000 MPa이며, 바람직하게는 2000 MPa ≤ G2 ≤ 8000 MPa, 더욱 바람직하게는 4000 MPa ≤ G2 ≤ 8000 MPa 일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 2 may be 1000 MPa ≤ G2 ≤ 10000 MPa, preferably 2000 MPa ≤ G2 ≤ 8000 MPa, more preferably 4000 MPa ≤ G2 ≤ 8000 MPa.

상기 신축성 기판이 상기 식 1 및 식 2의 범위를 만족함에 따라, 상기 신축성 기판을 일축으로 신장하였을 때 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름의 계면부에 이격이 발생하지 않으며, 이에 따라 추후 전자 소자의 내구성이 우수한 특성을 가질 수 있게 된다.As the stretchable substrate satisfies the ranges of Equations 1 and 2, when the stretchable substrate is uniaxially stretched, no separation occurs at the interface between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film, and accordingly, the durability of the electronic device in the future It is possible to have this excellent characteristic.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 3은 G2/G1 ≥ 500이며, 바람직하게는 G2/G1 ≥ 1000, 더욱 바람직하게는 G2/G1 ≥ 3000를 만족한다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 3 satisfies G2/G1 ≥ 500, preferably G2/G1 ≥ 1000, and more preferably G2/G1 ≥ 3000.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 3은 G2/G1 ≤ 60000이며, 바람직하게는 G2/G1 ≤ 30000, 더욱 바람직하게는 G2/G1 ≤ 20000를 만족한다.In another exemplary embodiment, Equation 3 satisfies G2/G1 ≤ 60000, preferably G2/G1 ≤ 30000, and more preferably G2/G1 ≤ 20000.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 3은 500 ≤ G2/G1 ≤ 60000이며, 바람직하게는 2000 ≤ G2/G1 ≤ 30000, 더욱 바람직하게는 3000 ≤ G2/G1 ≤ 20000를 만족한다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 3 satisfies 500 ≤ G2/G1 ≤ 60000, preferably 2000 ≤ G2/G1 ≤ 30000, and more preferably 3000 ≤ G2/G1 ≤ 20000.

상기 신축성 기판이 상기 식 3과 같이 신축성 고분자 필름과 비신축성 패턴 영률의 비율이 상기 범위를 만족함에 따라, 상기 신축성 기판의 신장율이 우수하고 내구성이 우수한 특징을 갖게 된다.As the ratio of the stretchable polymer film to the non-stretchable pattern Young's modulus of the stretchable substrate satisfies the above range as shown in Equation 3, the stretchable substrate has excellent elongation and excellent durability.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 신축성 고분자 필름에 의하여 이격된 2 이상의 섬(island) 구조로 매립된 구조를 가지며, 상기 비신축성 패턴의 선폭은 D1이고, 상기 신축성 고분자 필름에 매립된 2개의 인접한 비신축성 패턴간의 거리는 D2이며, 상기 D1 및 D2는 하기 식 4 및 식 5를 만족하는 것인 신축성 기판을 제공한다.In the exemplary embodiment of the present application, the non-stretchable pattern has a structure embedded in two or more island structures spaced apart by the stretchable polymer film, the line width of the non-stretchable pattern is D1, and the stretchable polymer film A distance between two adjacent non-stretchable patterns embedded in the is D2, and D1 and D2 satisfy Equations 4 and 5 below.

[식 4][Equation 4]

30μm ≤ D1 ≤ 1000μm30μm ≤ D1 ≤ 1000μm

[식 5][Equation 5]

D1/D2 ≤ 4D1/D2 ≤ 4

상기 비신축성 패턴이 상기 신축성 고분자 필름에 이격된 2 이상의 섬 구조로 매립된 구조를 갖는다는 것은, 상기 비신축성 패턴이 규칙적 간격을 두고 매립된 구조이거나, 상기 비신축성 패턴이 불규칙적 간격을 두고 매립된 구조를 모두 포함할 수 있다.The fact that the non-stretch pattern has a structure buried in two or more island structures spaced apart from the stretchable polymer film means that the non-stretch pattern has a structure in which the non-stretch pattern is embedded at regular intervals, or that the non-stretch pattern is embedded at irregular intervals. All structures can be included.

본 출원에 있어서, 인접한의 의미는 대상이 되는 구성으로부터 옆에 닿아 있거나, 가장 근접하여 이웃하고 있다는 것을 의미하며, 구체적으로 상기 신축성 고분자 필름에 매립된 비신축성 패턴이 인접하였다는 것은 특정한 하나의 비신축성 패턴을 기준으로 하였을 때, 특정 비신축성 패턴의 중심부와 이웃한 비신축성 패턴의 중심부의 거리가 가장 가까운 것을 의미한다. 상기 패턴의 중심부는 패턴의 일면에 있어서의 중심부를 의미한다. In the present application, the meaning of adjacent means that it is adjacent to or closest to the target configuration, and specifically, that the non-stretchable pattern embedded in the stretchable polymer film is adjacent means that it is adjacent to a specific one ratio. Based on the elastic pattern, it means that the distance between the center of the specific non-stretch pattern and the center of the adjacent non-stretch pattern is the closest. The central portion of the pattern means a central portion on one surface of the pattern.

도 1은 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판의 측면도를 나타낸 것으로, 비신축성 패턴의 매립된 구조를 확인할 수 있다.1 is a side view of a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application, and a buried structure of a non-stretchable pattern can be confirmed.

도 2는 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판의 상면도를 나타낸 것으로, 구체적으로 비신축성 패턴의 선폭(100) 및 인접한 비신축성 패턴간의 거리(200)를 확인할 수 있다.2 is a top view of a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application. Specifically, a line width 100 of a non-stretchable pattern and a distance 200 between adjacent non-stretchable patterns can be confirmed.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향으로의 단면이 다각형일 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, the non-stretchable pattern may have a polygonal cross-section in the line width direction of the non-stretchable pattern.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향으로의 단면이 원형, 삼각형, 사각형, 오각형 및 육각형으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 일 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, the non-stretchable pattern may have a cross-section in the line width direction of the non-stretchable pattern selected from the group consisting of a circle, a triangle, a quadrangle, a pentagon, and a hexagon.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향으로의 단면이 사각형일 수 있다.In another exemplary embodiment, the non-stretchable pattern may have a quadrangular cross-section in the line width direction of the non-stretchable pattern.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 4는 30μm ≤ D1 ≤ 1000μm 이며, 바람직하게는 30μm ≤ D1 ≤ 500μm일 수 있고, 더욱 바람직하게는 30μm ≤ D1 ≤ 100μm일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 4 may be 30 μm ≤ D1 ≤ 1000 μm, preferably 30 μm ≤ D1 ≤ 500 μm, and more preferably 30 μm ≤ D1 ≤ 100 μm.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 5는 D1/D2 ≤ 4이며, 바람직하게는 D1/D2 ≤ 2, 더욱 바람직하게는 D1/D2 ≤ 1일 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, Equation 5 may be D1/D2 ≤ 4, preferably D1/D2 ≤ 2, more preferably D1/D2 ≤ 1.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 5는 D1/D2 ≥ 0.1, 바람직하게는 D1/D2 ≥ 0.5, 더욱 바람직하게는 D1/D2 ≥ 0.8일 수 있다.In another exemplary embodiment, in Equation 5, D1/D2 ≥ 0.1, preferably D1/D2 ≥ 0.5, more preferably D1/D2 ≥ 0.8.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 D2는 30μm ≤ D2 ≤ 500μm이며, 바람직하게는 55μm ≤ D2 ≤ 300μm, 더욱 바람직하게는 65μm ≤ D2 ≤ 100μm일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the D2 may be 30 μm ≤ D2 ≤ 500 μm, preferably 55 μm ≤ D2 ≤ 300 μm, more preferably 65 μm ≤ D2 ≤ 100 μm.

본 출원에 따른 신축성 기판이 상기 식 4 및 식 5의 범위를 만족함에 따라, 본 출원의 신축성 기판을 신장 시 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름 사이에 이격이 발생하지 아니하며, 신장율 및 경도를 만족하는 신축성 기판을 제작할 수 있는 특징을 갖게 된다.As the stretchable substrate according to the present application satisfies the ranges of Equations 4 and 5, there is no gap between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film when the stretchable substrate of the present application is stretched, and the stretchability and hardness are satisfied. It has the characteristics of being able to manufacture a substrate.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴의 선고는 5μm 이상 100 μm 이하일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the line height of the non-stretchable pattern may be 5 μm or more and 100 μm or less.

상기 비신축성 패턴의 선고는 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향에 수직 방향의 높이를 의미하는 것을 의미한다. 구체적으로 도 3에서 비신축성 패턴의 선고(300)를 확인할 수 있다. The line height of the non-stretch pattern means a height in a direction perpendicular to the line width direction of the non-stretch pattern. Specifically, the line 300 of the non-stretch pattern can be confirmed in FIG. 3 .

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴의 선고는 5μm 이상 100 μm 이하, 바람직하게는 10μm 이상 100 μm 이하, 더욱 바람직하게는 10μm 이상 50 μm 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the line height of the non-stretch pattern may be 5 μm or more and 100 μm or less, preferably 10 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 50 μm or less.

상기 비신축성 패턴의 선고가 상기 범위를 만족하는 경우, 추후 전자 소자를 적층함에 있어, 전자 소자의 변형이 이루어지지 않으며, 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름 사이의 이격이 발생하지 않아 전자 소자의 내구성이 좋은 특징을 갖는다.When the height of the non-stretchable pattern satisfies the above range, the electronic device is not deformed when the electronic device is subsequently stacked, and the distance between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film does not occur, so that the durability of the electronic device is improved. It has good characteristics.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 식 2의 영률을 만족하는 것이면 특별히 제한되지 않고 사용가능하며, 광경화성 고분자 재료로 구체적으로 전자회로기판 형성용 드라이 필름 레지스트, 컬럼 스페이서용 감광성 수지 조성물 및 유기절연 패턴 형성용 감광성 수지 조성물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, the non-stretchable pattern can be used without particular limitation as long as it satisfies the Young's modulus of Equation 2, and is a photo-curable polymer material, specifically, a dry film resist for forming an electronic circuit board, a column spacer It may be selected from the group consisting of a photosensitive resin composition and a photosensitive resin composition for forming an organic insulating pattern.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름의 파단 신장율(elongation at break)이 100% 이상인 폴리디메틸실록산(PDMS)인 것인 신축성 기판을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, there is provided a stretchable substrate of polydimethylsiloxane (PDMS) having an elongation at break of 100% or more of the stretchable polymer film.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름의 파단 신장율은 100% 이상, 바람직하게는 110% 이상, 더욱 바람직하게는 130% 이상일 수 있다.In another exemplary embodiment, the elongation at break of the stretchable polymer film may be 100% or more, preferably 110% or more, and more preferably 130% or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름의 신장율은 180% 이하, 바람직하게는 170% 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the elongation of the stretchable polymer film may be 180% or less, preferably 170% or less.

상기 신축성 고분자 필름의 파단 신장율은 신축성 고분자 필름의 초기 길이를 L1, 이를 연신에 의해 파단이 발생하는 길이를 L2라고 하는 경우 (L2-L1)/L1*100(%)를 의미한다.The elongation at break of the stretchable polymer film means (L2-L1)/L1*100 (%) when the initial length of the stretchable polymer film is L1 and the length at which breakage occurs by stretching it is L2.

상기 신축성 고분자 필름의 신장율이 상기 범위를 만족함에 따라, 추후 비신축성 패턴이 매립된 구조의 신축성 기판의 신장율이 특정의 범위를 만족할 수 있는 특징을 갖게 되며, 신축성 기판의 제조 공정에 있어 신축성 고분자 필름의 신장율이 상기 범위를 갖게 됨에 따라, 핸들링(handling)이 용이한 특성을 갖게 된다.As the elongation rate of the stretchable polymer film satisfies the above range, the elongation rate of the stretchable substrate having a structure in which the non-stretchable pattern is embedded later has a characteristic that can satisfy a specific range, and the stretchable polymer film in the manufacturing process of the stretchable substrate As the elongation rate of is within the above range, handling is easy.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름은 상기 식 1의 영률을 만족하는 것이면 특별히 제한되지 않고 사용가능하며, 폴리디메틸실록산 고분자 재료가 사용될 수 있고, 구체적으로 축합중합형 폴리디메틸실록산, 부가중합형 폴리디메틸실록산 및 라디칼중합형 폴리디메틸실록산으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the stretchable polymer film may be used without particular limitation as long as it satisfies the Young's modulus of Formula 1, and a polydimethylsiloxane polymer material may be used, specifically, a condensation polymerization type polydimethylsiloxane; It may be selected from the group consisting of addition polymerization type polydimethylsiloxane and radical polymerization type polydimethylsiloxane.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름은 폴리디메틸실록산일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the stretchable polymer film may be polydimethylsiloxane.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층은 폴리오르가노 실록산 및 경화 촉매를 포함한다.In an exemplary embodiment of the present application, the silicone-based adhesive layer includes polyorganosiloxane and a curing catalyst.

상기 실리콘계 접착층의 경우, 신축성 기판의 상부에 노출되어 있는 면으로 신축성 기판에서 상기 실리콘계 접착층에 포함되는 성분 및 함량은 NMR(Nuclear magnetic resonace) 분석에 의하여 확인할 수 있다.In the case of the silicon-based adhesive layer, the surface exposed on the upper portion of the stretchable substrate and components and contents included in the silicon-based adhesive layer in the stretchable substrate may be confirmed by Nuclear Magnetic Resonance (NMR) analysis.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층은 실리콘계 접착층 조성물을 건조하여 형성할 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, the silicone-based adhesive layer may be formed by drying the silicone-based adhesive layer composition.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층은 실리콘계 접착층 조성물을 경화하여 형성할 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, the silicone-based adhesive layer may be formed by curing the silicone-based adhesive layer composition.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층 조성물은 폴리오르가노 실록산; 경화 촉매; 및 용매를 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the silicone-based adhesive layer composition may include polyorganosiloxane; curing catalyst; and solvents.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 용매는 상기 실리콘계 접착층 조성물을 용해시킬 수 있으면 제한되지 않으며, 구체적으로 유기용매가 사용될 수 있고, 더욱 구체적으로 톨루엔(Toluene)이 사용될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the solvent is not limited as long as it can dissolve the silicone-based adhesive layer composition, and specifically, an organic solvent may be used, and more specifically, toluene may be used.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리오르가노 실록산은 상기 실리콘계 접착층 조성물 100 중량부 기준, 40 내지 70 중량부, 바람직하게는 45 내지 60 중량부, 더욱 바람직하게는 45 내지 55 중량부로 포함될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the polyorganosiloxane may be included in an amount of 40 to 70 parts by weight, preferably 45 to 60 parts by weight, more preferably 45 to 55 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone-based adhesive layer composition. have.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 경화 촉매는 상기 실리콘계 접착층 조성물 100 중량부 기준, 0.1 내지 2 중량부, 바람직하게는 0.2 내지 1 중량부, 더욱 바람직하게는 0.3 내지 0.8 중량부로 포함될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the curing catalyst may be included in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.2 to 1 parts by weight, more preferably 0.3 to 0.8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silicone-based adhesive layer composition.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 용매는 상기 실리콘계 접착층 조성물 100 중량부 기준, 40 내지 70 중량부, 바람직하게는 45 내지 60 중량부, 더욱 바람직하게는 45 내지 55 중량부로 포함될 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, the solvent may be included in an amount of 40 to 70 parts by weight, preferably 45 to 60 parts by weight, more preferably 45 to 55 parts by weight based on 100 parts by weight of the silicone-based adhesive layer composition.

본 출원에 따른 신축성 기판이 실리콘계 접착층을 가짐으로써, 상기 실리콘계 접착층과 폴리디메틸실록산으로 이루어진 상기 신축성 고분자 필름과의 접착력이 특히 우수하며, 신장 및 수축을 반복하여도 접착력이 유지될 수 있으며, 실리콘계 접착층 또한 신장율이 우수한 바, 신축성 기판에 적용하기에 우수한 특성을 갖는다.Since the stretchable substrate according to the present application has a silicone-based adhesive layer, the adhesive force between the silicone-based adhesive layer and the stretchable polymer film made of polydimethylsiloxane is particularly excellent, and the adhesive force can be maintained even after repeated stretching and contraction, and the silicone-based adhesive layer In addition, since the elongation rate is excellent, it has excellent properties to be applied to a stretchable substrate.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층의 상기 신축성 고분자 필름과 접하는 면의 반대면을 폴리이미드 필름(PI, Polyimide)에 대하여 접합 후, 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치 후의 접착력이 300 gf/inch 이상일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, after bonding the opposite side of the surface of the silicone-based adhesive layer in contact with the stretchable polymer film to a polyimide film (PI, Polyimide), the adhesive strength after standing at 23° C., 50 RH% for 1 hour It can be more than 300 gf/inch.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층의 상기 신축성 고분자 필름과 접하는 면의 반대면을 폴리이미드 필름(PI, Polyimide)에 대하여 접합 후, 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치 후의 접착력이 300 gf/inch 이상, 바람직하게는 350 gf/inch 이상, 더욱 바람직하게는 450 gf/inch 이상일 수 있으며, 1000 gf/inch 이하, 바람직하게는 850 gf/inch 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, after bonding the opposite surface of the surface in contact with the stretchable polymer film of the silicone-based adhesive layer to a polyimide film (PI, Polyimide), the adhesive strength after standing at 23° C., 50 RH% for 1 hour is 300 gf/inch or more, preferably 350 gf/inch or more, more preferably 450 gf/inch or more, and 1000 gf/inch or less, preferably 850 gf/inch or less.

상기 실리콘계 접착층의 상기 신축성 고분자 필름과 접하는 면의 반대면을 폴리이미드 필름(PI, Polyimide)에 대한 접착력이 상기 조건 및 범위를 만족함으로써, 추후 전자 소자가 상기 실리콘계 접착층에 배치 되는 경우, 전자 소자의 적층이 안정적으로 이루어질 수 있어, 후 공정 중 전자 소자가 신축성 기판에서 탈착되는 문제를 방지할 수 있는 특징을 갖게 된다.When the adhesive force of the silicone-based adhesive layer to a polyimide film (PI, Polyimide) opposite to the surface in contact with the stretchable polymer film of the silicone-based adhesive layer satisfies the above conditions and ranges, an electronic device is later disposed on the silicone-based adhesive layer, the electronic device Since the stacking can be made stably, it is possible to prevent the problem of the electronic device being detached from the stretchable substrate during a post process.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층이 접하는 면에 대하여, 상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층을 접합 후, 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치 후의 접착력이 300gf/inch 이상인 것인 신축성 기판을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, with respect to the surface in which the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer are in contact, the adhesive strength is 300 gf/ It provides a stretchable substrate that is more than an inch.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층이 접하는 면에 대하여, 상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층을 접합 후, 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치 후의 접착력이 300gf/inch 이상, 바람직하게는 350gf/inch 이상, 더욱 바람직하게는 400gf/inch 이상일 수 있다.In another exemplary embodiment, with respect to the surface in which the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer are in contact, the adhesive strength is 300 gf/inch after bonding the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer and standing at 23° C. and 50 RH% for 1 hour or more, preferably 350 gf/inch or more, and more preferably 400 gf/inch or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층이 접하는 면에 대하여, 상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층을 접합 후, 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치 후의 접착력이 900gf/inch 이하, 바람직하게는 850gf/inch 이하, 더욱 바람직하게는 800gf/inch 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, with respect to the surface in which the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer are in contact, the adhesive force is 900 gf/inch after bonding the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer and leaving it at 23° C. and 50 RH% for 1 hour or less, preferably 850 gf/inch or less, and more preferably 800 gf/inch or less.

상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층이 접하는 면의 접착력이 상기 범위를 만족함에 따라, 추후 전자 소자의 접착이 안정적으로 이루어질 수 있으며, 또한 여러 번의 신장 및 수축을 반복하더라도 상기 실리콘계 접착층과 상기 신축성 고분자 필름의 계면이 들뜨지 않아 내구성 및 안정성이 우수한 신축성 기판을 제작할 수 있는 특징을 갖게 되며, 신축성 고분자 필름 내부에 매립된 비신축성 패턴과의 이격이 발생하지 않는 특징을 갖게 된다.As the adhesive force between the contact surface of the stretchable polymer film and the silicone adhesive layer satisfies the above range, the electronic device can be stably bonded in the future, and even after repeated stretching and contraction several times, the silicone adhesive layer and the stretchable polymer film It has the characteristics of being able to manufacture a stretchable substrate with excellent durability and stability because the interface does not float, and it has a characteristic that there is no separation from the non-stretchable pattern embedded in the stretchable polymer film.

본 출원에 있어, 상기 접착력은 유리 기판에 상기 실리콘계 접착층을 20㎛ 두께로 형성한 후, 상기 실리콘계 접착층이 구비되어 있는 유리 기판의 상기 실리콘계 접착층 면에 신축성 고분자 필름 또는 폴리이미드 필름을 합지한 후 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치한 후 상기 신축성 고분자 필름 또는 폴리이미드 필름을 접착층에서 90° 각도로 떼어내면서 접착력을 측정할 수 있다. (Stable Micro Systems사 Texture Analyser)In the present application, the adhesive strength is measured after forming the silicone-based adhesive layer to a thickness of 20 μm on a glass substrate, and then laminating a stretchable polymer film or polyimide film on the surface of the silicone-based adhesive layer of the glass substrate provided with the silicone-based adhesive layer 23 After standing at ℃, 50 RH% for 1 hour, the adhesive strength can be measured while peeling the stretchable polymer film or polyimide film from the adhesive layer at an angle of 90°. (Stable Micro Systems' Texture Analyzer)

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층의 두께는 5μm 이상 30μm 이하일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the thickness of the silicone-based adhesive layer may be 5 μm or more and 30 μm or less.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층의 두께는 5μm 이상 30μm 이하, 바람직하게는 10μm 이상 25μm 이하, 더욱 바람직하게는 15μm 이상 25μm 이하 일 수 있다.In another exemplary embodiment, the thickness of the silicone-based adhesive layer may be 5 μm or more and 30 μm or less, preferably 10 μm or more and 25 μm or less, and more preferably 15 μm or more and 25 μm or less.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름의 두께는 100 μm 이상 1000 μm 이하일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the thickness of the stretchable polymer film may be 100 μm or more and 1000 μm or less.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름의 두께는 100 μm 이상 1000 μm 이하, 바람직하게는 100 μm 이상 700 μm 이하, 더욱 바람직하게는 200 μm 이상 500 μm 이하 일 수 있다.In another exemplary embodiment, the thickness of the stretchable polymer film may be 100 μm or more and 1000 μm or less, preferably 100 μm or more and 700 μm or less, and more preferably 200 μm or more and 500 μm or less.

상기 실리콘계 접착층 및 상기 신축성 고분자 필름이 상기 두께 범위를 만족함에 따라, 본원의 신축성 기판의 신장율이 우수하며, 또한 신축성 고분자 필름과 실리콘계 접착층의 접착력이 특히 우수한 특성을 가지며, 상기 두께 범위를 가짐으로써 높은 신장력에 대하여 상기 실리콘계 접착층 및 상기 신축성 고분자 필름의 파단이 일어나지 않는 특성을 갖게 된다.As the silicone-based adhesive layer and the stretchable polymer film satisfy the thickness range, the stretchability of the stretchable substrate of the present application is excellent, and the adhesive strength between the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer is particularly excellent. It has a property that the silicone-based adhesive layer and the stretchable polymer film do not break with respect to the stretching force.

도 3은 본원 신축성 기판의 측면도를 나타내는 것으로, 상기 신축성 고분자 필름의 두께(400) 및 상기 실리콘계 접착층(500)의 두께를 확인할 수 있다. 즉, 신축성 고분자 필름의 두께 및 실리콘계 접착층의 두께는 신축성 기판에서의 적층되는 방향으로의 두께를 의미하는 것이다.3 is a side view of the stretchable substrate of the present application, and the thickness 400 of the stretchable polymer film and the thickness of the silicone-based adhesive layer 500 can be confirmed. That is, the thickness of the stretchable polymer film and the thickness of the silicone-based adhesive layer mean the thickness in the stacking direction on the stretchable substrate.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 기판의 신장율이 20% 이상일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, an elongation of the stretchable substrate may be 20% or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 기판의 신장율이 20% 이상, 바람직하게는 35% 이상, 더욱 바람직하게는 50% 이상일 수 있으며, 150%이하, 바람직하게는 130% 이하의 범위를 만족할 수 있다.In another exemplary embodiment, the stretchable substrate may have an elongation of 20% or more, preferably 35% or more, more preferably 50% or more, and may satisfy a range of 150% or less, preferably 130% or less. have.

상기 신축성 기판의 신장율이란, 신축성 고분자 필름과 비신축성 패턴 사이에 이격이 발생하지 않는 최대의 신장률을 의미하며, 신축성 고분자 필름과 비신축성 패턴 사이에 이격이 발생하였다는 것은 들뜸이 발생하였다는 것으로 도 6에서 이격이 발생한 것에 대한 구체적 SEM 이미지를 확인할 수 있다.The elongation of the stretchable substrate means the maximum elongation at which no separation occurs between the stretchable polymer film and the non-stretchable pattern, and the occurrence of the separation between the stretchable polymer film and the non-stretchable pattern indicates that lifting occurs. A specific SEM image of the occurrence of separation in Fig. 6 can be confirmed.

즉, 본 출원에 있어 신축성 기판의 신장율은, 상기 신축성 고분자 필름의 내부의 일면에 함몰되어 구비되어 있는 비신축성 패턴의 선폭(D1) 및 인접한 비신축성 패턴 간 거리(D2)에 따라 상기 이격이 발생하지 않는 최대 신장율을 의미하는 것으로, 본 출원에 따른 신축성 기판이 상기 식4 및 5의 조건을 만족할 경우 상기 이격이 발생하지 않는 최대 신장율을 의미할 수 있다.That is, in the present application, in the elongation rate of the stretchable substrate, the spacing occurs according to the line width (D1) of the non-stretchable pattern and the distance (D2) between adjacent non-stretchable patterns recessed on one surface of the inside of the stretchable polymer film. It means the maximum elongation rate not to do this, and when the stretchable substrate according to the present application satisfies the conditions of Equations 4 and 5, it may mean the maximum elongation rate at which the separation does not occur.

상기 신축성 기판의 신장율은 1.5cm * 5cm 크기의 신축성 기판을 장축 방향으로 좌우로 신장하며, 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름의 경계부에서 이격이 발생하는 시점의 신장율을 측정할 수 있다.The elongation rate of the stretchable substrate is that the stretchable substrate having a size of 1.5 cm * 5 cm is stretched left and right in the long axis direction, and the elongation rate at the time when the separation occurs at the boundary between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film can be measured.

결국 상기 신축성 기판의 경우, 실리콘계 접착층 및 비신축성 패턴이 매립된 신축성 고분자 필름으로 구성되며, 이에 대한 신축성 기판의 신장율이 상기 범위를 갖는 경우에도 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름 사이에 이격이 발생하지 않는 신축성 기판을 제조할 수 있다.After all, in the case of the stretchable substrate, the silicone-based adhesive layer and the non-stretchable pattern are embedded in the stretchable polymer film, and even when the stretch rate of the stretchable substrate is within the above range, there is no gap between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film. A stretchable substrate can be manufactured.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 실리콘계 접착층의 상기 신축성 고분자 필름과 접하는 면의 반대면에 이형 필름을 추가로 포함할 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, a release film may be further included on the opposite side of the surface of the silicone-based adhesive layer in contact with the stretchable polymer film.

상기 이형 필름은 두께가 매우 얇은 실리콘 접착층을 보호하기 위한 층으로서, 실리콘 접착층의 일면에 부착하는 투명층을 말하는 것이며, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등이 우수한 필름을 사용할 수 있다. 예를들면, 트리아세틸셀룰로오즈(TAC)와 같은 아세테이트계, 폴리에스테르계, 폴리에테르술폰계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리올레핀계, 시클로 올레핀계, 폴리우레탄계 및 아크릴계 수지 필름 등을 사용 할 수 있으나, 시판되는 불소 처리 이형필름이라면 이에 한정되지 않는다.The release film is a layer for protecting a very thin silicone adhesive layer, refers to a transparent layer attached to one surface of the silicone adhesive layer, and a film excellent in mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, isotropy, etc. can be used. For example, acetate-based, polyester-based, polyethersulfone-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyolefin-based, cycloolefin-based, polyurethane-based and acrylic resin films such as triacetylcellulose (TAC) can be used, but is not limited thereto if it is a commercially available fluorine-treated release film.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 본 출원에 따른 신축성 기판; 및 상기 신축성 기판의 접착층 상에 구비된 전자 소자를 포함하는 전자 장치로, 상기 전자 소자는 상기 신축성 기판의 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성되는 것인 전자 장치를 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, the stretchable substrate according to the present application; and an electronic device provided on the adhesive layer of the stretchable substrate, wherein the electronic device is formed on a position where the non-stretchable pattern of the stretchable substrate is buried.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 전자 장치는 디스플레이 장치, 터치패널 또는 반도체 패널일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the electronic device may be a display device, a touch panel, or a semiconductor panel.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 전자 소자는, 유기 광전 소자, 유기 트랜지스터, 유기 태양 전지, 마이크로 LED 소자 및 유기 발광 소자로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 전자 장치를 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, the electronic device provides an electronic device selected from the group consisting of an organic photoelectric device, an organic transistor, an organic solar cell, a micro LED device, and an organic light emitting device.

본 출원에 따른 전자 장치가 디스플레이 장치에 사용되는 경우 경우, 신축성을 가지는 디스플레이를 포함할 수 있으며, 전자 소자가 상기 신축성 기판의 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성됨에 따라, 신장 및 원복을 반복하여도 전자 소자 자체에 외력이 가해지는 것을 최소화 할 수 있어, 신장력이 우수하고 내구성이 우수한 디스플레이 장치를 제공할 수 있는 특징을 갖게 된다.When the electronic device according to the present application is used in a display device, it may include a stretchable display, and as the electronic device is formed on a position where the non-stretchable pattern of the stretchable substrate is embedded, stretching and original restoration are repeated. Even so, it is possible to minimize the application of external force to the electronic device itself, and thus, it is possible to provide a display device having excellent extensibility and excellent durability.

특히, 본 출원에 따른 신축성 기판이 실리콘계 접착층을 포함함으로써, 신장 및 원복을 반복하여도 신축성 기판 상에 전자 소자를 안정적으로 배치할 수 있는 특징을 갖게 된다.In particular, since the stretchable substrate according to the present application includes a silicon-based adhesive layer, electronic devices can be stably disposed on the stretchable substrate even after repeated stretching and original restoration.

본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판은, 동박을 준비하는 단계; 동박의 일면에 보호 필름을 합지하는 단계; 상기 동박의 상기 보호 필름이 합지된 면의 반대면 상에 비신축성 패턴을 형성하는 단계; 상기 비신축성 패턴이 형성된 상기 동박 상에 신축성 고분자 필름을 도포하는 단계; 상기 보호 필름 및 동박을 제거하는 단계; 상기 신축성 고분자 필름의 상기 비신축 패턴 구비된 면 상에 실리콘계 접착층을 형성하는 단계에 따라 제조될 수 있다.A stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application includes the steps of preparing a copper foil; Laminating a protective film on one side of the copper foil; forming a non-stretchable pattern on the opposite side of the side on which the protective film of the copper foil is laminated; applying a stretchable polymer film on the copper foil on which the non-stretch pattern is formed; removing the protective film and the copper foil; It may be manufactured according to the step of forming a silicone-based adhesive layer on the non-stretchable patterned surface of the stretchable polymer film.

상기 보호 필름은 기재 필름 및 상기 기재 필름의 일면에 구비된 감압 접착층으로 이루어질 수 있다.The protective film may include a base film and a pressure-sensitive adhesive layer provided on one surface of the base film.

상기 감압 접착층은 상기 기재 필름과 상기 동박을 접착하기 위한 용도로 사용되는 것이며, 접착력이 있으면 이에 한정되지 않고 시판되는 접착층을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer is used for bonding the base film and the copper foil, and is not limited thereto, and a commercially available adhesive layer may be used if there is an adhesive force.

상기 기재 필름으로는 공정 중 동박의 손상을 방지할 수 있는 것이면 한정되지 않으나, PET(polyethylene terephthalate), 폴리에스테르(polyester), PC(Polycarbonate), PI(polyimide), PEN(polyethylene naphthalate), PEEK(polyether ether ketone), PAR(polyarylate), PCO(polycylicolefin), 폴리노보넨(polynorbornene), PES(polyethersulphone) 및 COP(cycloolefin polymer)로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.The base film is not limited as long as it can prevent damage to the copper foil during the process, but PET (polyethylene terephthalate), polyester, PC (polycarbonate), PI (polyimide), PEN (polyethylene naphthalate), PEEK ( It may be selected from the group consisting of polyether ether ketone), polyarylate (PAR), polycylicolefin (PCO), polynorbornene, polyethersulphone (PES), and cycloolefin polymer (COP).

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴을 형성하는 단계는 포토리소그래피 공정을 이용하여 형성할 수 있다.In the exemplary embodiment of the present application, the forming of the non-stretchable pattern may be formed using a photolithography process.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호 필름 및 상기 동박은 상기 신축성 고분자 필름을 도포하는 단계 이후 제거될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the protective film and the copper foil may be removed after the step of applying the stretchable polymer film.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 동박의 제거는 식각액을 이용하여 제거될 수 있으며, 상기 식각액은 염화철계 구리 식각액을 사용할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the copper foil may be removed using an etchant, and the etchant may be an iron chloride-based copper etchant.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 고분자 필름의 상기 비신축 패턴 구비된 면 상에 실리콘계 접착층을 형성하는 단계는 불소계 이형 필름을 준비하는 단계; 상기 불소계 이형 필름 상부에 상기 실리콘계 접착층 조성물을 도포하는 단계; 및 상기 실리콘계 접착층 조성물을 경화하는 단계에 따라 제조될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the step of forming a silicone-based adhesive layer on the non-stretchable pattern-equipped surface of the stretchable polymer film includes: preparing a fluorine-based release film; applying the silicone-based adhesive layer composition on the fluorine-based release film; and curing the silicone-based adhesive layer composition.

상기 불소계 이형 필름은 전술한 이형 필름의 설명과 동일하다.The fluorine-based release film is the same as the description of the release film described above.

상기 실리콘계 접착층 조성물의 경우, 전술한 실리콘계 접착층이 경화되기 전의 상태로, 전술한 실리콘계 접착층에 용매를 포함할 수 있다.In the case of the silicone-based adhesive layer composition, before the silicone-based adhesive layer is cured, a solvent may be included in the aforementioned silicone-based adhesive layer.

이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 명세서를 예시하기 위한 것일 뿐, 본 명세서를 한정하기 위한 것은 아니다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail through examples. However, the following examples are only for illustrating the present specification, and not for limiting the present specification.

<< 제조예production example >>

[[ 실시예Example 1]- 신축성 기판의 제조 1]- Fabrication of stretchable substrate

일면에 보호 필름이 합지되어 있는 10㎛ 두께의 동박을 준비하였다. 상기 동박 상부에 광경화형 고분자 재료로서 10㎛ 두께의 TPF(Transparent Photosensitive Film, Hitachi Chemical)를 합지한 후 포토 공정을 통하여 비신축성 패턴 선폭이 82㎛이고 비신축성 패턴간 거리가 85㎛인 정사각형의 비신축성 패턴을 형성하였다. 상기 비신축성 패턴이 구비되어 있는 적층체 상부에 폴리디메틸실록산 재료로서 KE-441K-T(Shinetsu사)를 300㎛ 두께로 도포한 후 상온에서 24시간 경화 후 100℃에서 1시간 추가로 열처리하였다. 상기 폴리디메틸실록산 고분자 층이 구비되어 있는 적층체에서 보호 필름을 제거한 후 노출된 동박을 염화 제2철계 구리 식각액을 이용하여 제거하여 비신축성 패턴이 매립되어 있는 신축성 고분자 필름을 제작하였다.A copper foil having a thickness of 10 μm with a protective film laminated on one side was prepared. After laminating 10㎛ TPF (Transparent Photosensitive Film, Hitachi Chemical) as a photocurable polymer material on the copper foil, the non-stretchable pattern line width is 82㎛ and the distance between the non-stretchable patterns is 85㎛ through a photo process. An elastic pattern was formed. KE-441K-T (Shinetsu Corporation) as a polydimethylsiloxane material was applied to the upper portion of the laminate provided with the non-stretch pattern to a thickness of 300 μm, cured at room temperature for 24 hours, and then additionally heat treated at 100° C. for 1 hour. After removing the protective film from the laminate provided with the polydimethylsiloxane polymer layer, the exposed copper foil was removed using a ferric chloride-based copper etchant to prepare a stretchable polymer film having a non-stretchable pattern embedded therein.

실리콘계 접착제 조성물로서 오르가노폴리실록산인 KR-3700(Shinetsu사) 50 중량부, 경화촉매인 CAT-PL-50T 0.5 중량부 및 희석 용매인 톨루엔 49.5 중량부를 혼합한 후 불소계 이형 필름 상에 바 코팅법을 이용하여 도포한 후 100℃에서 20분간 건조하여 20㎛ 두께의 실리콘계 접착층을 형성하였다.As a silicone adhesive composition, 50 parts by weight of organopolysiloxane of KR-3700 (Shinetsu), 0.5 parts by weight of CAT-PL-50T as a curing catalyst, and 49.5 parts by weight of toluene as a diluting solvent were mixed, and then a bar coating method was applied on the fluorine-based release film. After coating using a sieve, it was dried at 100° C. for 20 minutes to form a silicone-based adhesive layer having a thickness of 20 μm.

상기 비신축성 패턴이 매립되어 있는 신축성 고분자 필름의 비신축성 패턴이 노출되어 있는 면과 상기 실리콘계 접착층이 구비되어 있는 불소계 이형 필름의 실리콘계 접착층 면이 대응되도록 합지한 후 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치하였다. After laminating so that the non-stretchable pattern exposed side of the stretchable polymer film in which the non-stretchable pattern is embedded and the silicone-based adhesive layer side of the fluorine-based release film provided with the silicone-based adhesive layer correspond to each other, at 23°C, 50 RH% for 1 hour was left

[[ 실시예Example 2] 2]

상기 실시예 1에서 폴리디메틸실록산 재료로서 KE-4896(Shinetus사)을 적용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1에서 제조한 것과 동일한 방법으로 신축성 기판을 제조하였다.A stretchable substrate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that KE-4896 (Shinetus) was applied as a polydimethylsiloxane material in Example 1.

[[ 비교예comparative example 1] One]

상기 실시예 1에서 폴리디메틸실록산 재료로서 KE-441K-T(Shinetsu사) 대신 폴리디메틸실록산 재료로서 KE-106(Shinetsu사)을 적용하고, 실리콘계 접착층 대신 두께 25㎛ 에폭시계 접착제를 적용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1에서 제조한 것과 동일한 방법으로 신축성 기판을 제조하였다. In Example 1, KE-106 (Shinetsu) was applied as a polydimethylsiloxane material instead of KE-441K-T (Shinetsu) as the polydimethylsiloxane material, and an epoxy-based adhesive with a thickness of 25 μm was applied instead of a silicone-based adhesive layer. , to prepare a stretchable substrate in the same manner as prepared in Example 1.

상기 에폭시계 접착제 조성물로서 실란변성 에폭시 수지 KSR-277HMC70(Kukdo Chemical) 33 중량%, 실란변성 에폭시 수지 KSR-177(Kukdo Chemical) 35 중량%, 비스페놀 A형 페녹시 수지 YP-50E(Kukdo Chemical) 30 중량%, 열경화제 2P4MHZ(SHIKOKU) 1 중량%, 및 실란 커플링제 KBM-403(Shinetsu) 1 중량%를 포함하였다.As the epoxy-based adhesive composition, 33 wt% of silane-modified epoxy resin KSR-277HMC70 (Kukdo Chemical), 35 wt% of silane-modified epoxy resin KSR-177 (Kukdo Chemical), 30 wt% of bisphenol A phenoxy resin YP-50E (Kukdo Chemical) % by weight, 1% by weight of thermosetting agent 2P4MHZ (SHIKOKU), and 1% by weight of silane coupling agent KBM-403 (Shinetsu).

[ [ 비교예comparative example 2] 2]

상기 실시예 1에서 실리콘계 접착층 대신, 두께 25㎛ 아크릴계 접착제인 Optically Clear Adhesive(3M사)를 적용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1에서 제조한 것과 동일한 방법으로 신축성 기판을 제조하였다.In Example 1, a stretchable substrate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Optically Clear Adhesive (3M), an acrylic adhesive having a thickness of 25 μm, was applied instead of the silicone adhesive layer.

상기 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 및 비교예 2에 따른 신축성 고분자 필름의 물성 및 특성을 하기 표 1에 기재하였다.The physical properties and properties of the stretchable polymer films according to Examples 1 and 2, Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 신축성 고분자 필름의 Modulus(MPa), G1Modulus (MPa) of stretchable polymer film, G1 0.430.43 1.311.31 2.522.52 0.430.43 비신축성 패턴의 Modulus(MPa), G2Modulus (MPa) of non-stretch pattern, G2 48004800 48004800 48004800 48004800 G2/G1G2/G1 111,627111,627 3,6643,664 1,9051,905 111,627111,627 비신축 패턴 선폭(㎛), D1Non-stretch pattern line width (㎛), D1 8282 8282 8282 8282 비신축 패턴 간 거리(㎛), D2Distance between non-stretch patterns (㎛), D2 8585 8585 8585 8585 D1/D2D1/D2 0.960.96 0.960.96 0.960.96 0.960.96 비신축성 패턴 선고(㎛)Non-stretch pattern line (㎛) 1010 1010 1010 1010 신축성 고분자 필름의 파단 신장율(%)Elongation at break of stretchable polymer film (%) 280280 170170 100100 280280 접착층과 신축성 고분자 필름의 접착력(gf/in)Adhesion between the adhesive layer and the stretchable polymer film (gf/in) 500gf/in 이상500 gf/in or more 500gf/in 이상500 gf/in or more 100gf/in 미만less than 100 gf/in 100gf/in 미만less than 100 gf/in 접착층과 폴리이미드 필름의 접착력(gf/in)Adhesion between adhesive layer and polyimide film (gf/in) 500gf/in 이상500 gf/in or more 500gf/in 이상500 gf/in or more 500gf/in 이상500 gf/in or more 500gf/in 이상500 gf/in or more 신장 내구성(%)Elongation Durability (%) 100 이상over 100 50 이상50 or more 20 미만less than 20 100 이상over 100

1) Modulus 측정: 신축성 고분자 필름 및 필름 형태의 비신축성 재료를 각각 Zwick/Roell사 Z010 UTM 장비를 이용하여 측정하였으며, 구체적으로 상기 신축성 고분자 필름 및 필름 형태의 비신축성 재료를 25±2℃, 50±5% RH (상대습도) 하에서, 폭 25mm, 길이는 165mm가 되도록 길이 방향 양끝을 고정시킨 후, 100mm/min의 속도로 길이방향으로 양쪽으로 잡아 늘리며 Stress/Strain을 측정하였다. 1) Modulus measurement: The stretchable polymer film and the non-stretchable material in the form of a film were measured using Zwick/Roell's Z010 UTM equipment, respectively. Specifically, the stretchable polymer film and the non-stretchable material in the form of a film were measured at 25±2℃, 50 Under ±5% RH (relative humidity), both ends in the longitudinal direction were fixed so that the width became 25 mm and the length was 165 mm, and then the stress/strain was measured by stretching it in both directions in the longitudinal direction at a speed of 100 mm/min.

2) 접착층의 접착력 측정 방법: 유리 기판에 접착층을 20㎛ 두께로 형성한다. 상기 접착층이 구비되어 있는 유리 기판의 접착층 면에 신축성 고분자 필름 또는 폴리이미드 필름을 합지한 후 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치한 후 상기 신축성 고분자 필름 또는 폴리이미드 필름을 접착층에서 90° 각도로 떼어내면서 접착력을 측정하였다(Stable Micro Systems사 Texture Analyser). 2) Method of measuring adhesive strength of adhesive layer: An adhesive layer is formed to a thickness of 20 μm on a glass substrate. After laminating a stretchable polymer film or polyimide film on the adhesive layer side of the glass substrate provided with the adhesive layer, it was left at 23° C. and 50 RH% for 1 hour, and then the stretchable polymer film or polyimide film was applied to the adhesive layer at a 90° angle Adhesion was measured while peeling (Stable Micro Systems' Texture Analyzer).

3) 신장 내구성 평가: 1.5cm * 5cm 크기의 신축성 기판을 장축 방향으로 좌우로 신장하며, 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름의 경계부에서 이격이 발생하는 신장율을 측정하였다. 3) Stretching durability evaluation: A stretchable substrate having a size of 1.5cm * 5cm was stretched left and right in the long axis direction, and the elongation rate at which a gap occurred at the boundary between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film was measured.

상기 표 2에서 알 수 있듯, 본 출원에 따른 신축성 기판(실시예 1 및 실시예 2)은 상기의 modulus 및 조건을 만족함에 따라 신장 내구성이 20 이상의 값을 가짐을 확인할 수 있었다. 신장 내구성이 20 이상의 값을 갖는다는 것은 강한 외력을 가하여도 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름간의 이격이 발생하지 않음을 의미하는 것으로, 본 출원에 따른 신축성 기판은 내구성이 매우 우수함을 확인할 수 있었다.As can be seen from Table 2, it was confirmed that the stretchable substrates (Examples 1 and 2) according to the present application had a stretch durability of 20 or more as the above modulus and conditions were satisfied. If the stretch durability has a value of 20 or more, it means that a separation between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film does not occur even when a strong external force is applied, and it was confirmed that the stretchable substrate according to the present application has very excellent durability.

또한, 본 출원에 따른 신축성 기판은 실리콘계 접착층을 사용함에 따라, 실리콘계 접착층과 신축성 고분자 필름과의 접착력 및 실리콘계 접착층과 폴리이미드 필름과의 접착력이 우수하여, 추후 전자 장치에 사용되는 경우에 있어, 비신축성 패턴에 대응되는 영역에 전자 소자를 안정적으로 배치할 수 있음을 확인할 수 있었다.In addition, since the stretchable substrate according to the present application uses a silicone-based adhesive layer, the adhesive strength between the silicone-based adhesive layer and the stretchable polymer film and the adhesive strength between the silicone-based adhesive layer and the polyimide film are excellent. It was confirmed that the electronic device could be stably disposed in the region corresponding to the stretchable pattern.

구체적으로, 도 4는 본원 실시예 1에 따른 신축성 기판을 신장하기 전의 SEM 사진에 관한 도이며, 도 5는 본원 실시예 1에 따른 신축성 기판을 30% 신장한 상태에서의 SEM 이미지를 나타낸 도이고, 도 6은 본원 실시예 1에 따른 신축성 기판에서 비신축성 패턴 하나를 확대한 SEM 이미지를 나타낸다.Specifically, FIG. 4 is a view of an SEM photograph before stretching the stretchable substrate according to Example 1 of the present application, and FIG. 5 is a view showing an SEM image in a state in which the stretchable substrate according to Example 1 of the present application is stretched by 30%. , FIG. 6 shows an enlarged SEM image of one non-stretchable pattern in the stretchable substrate according to Example 1 of the present application.

도 4 내지 도 6에서 확인할 수 있듯, 본 출원에 따른 신축성 기판의 경우 강한 외력에 따른 신장/회복을 반복하여도 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름 사이에 이격이 발생하지 않음을 확인할 수 있었다.As can be seen in FIGS. 4 to 6 , in the case of the stretchable substrate according to the present application, it was confirmed that there was no gap between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film even when stretching/recovering according to a strong external force was repeated.

상기 비교예 1 및 비교예 2의 경우, 신축성 기판의 접착층으로 실리콘계 접착층을 사용하지 않은 경우로, 접착층과 신축성 고분자 필름의 접착력이 낮게 형성되어 수 회 신장/원복을 반복하는 경우, 접착층과 신축성 고분자 필름의 계면이 들뜨게 되고, 이로 인하여 전자 소자의 내구성이 나빠짐을 확인할 수 있었으며, 특히 비교예 1의 경우, 신축성 고분자 필름의 modulus 값이 2 MPa를 초과하는 경우로, 신장 내구성이 매우 좋지 않음을 확인할 수 있었다.In the case of Comparative Examples 1 and 2, when the silicone-based adhesive layer was not used as the adhesive layer of the stretchable substrate, and the adhesive layer and the stretchable polymer film were formed to have low adhesion and repeated stretching/returning several times, the adhesive layer and the stretchable polymer It was confirmed that the interface of the film was lifted, and thus the durability of the electronic device deteriorated. In particular, in Comparative Example 1, when the modulus value of the stretchable polymer film exceeded 2 MPa, it was confirmed that the elongation durability was very poor. could

도 7은 본원의 비교예 1에 따른 신축성 기판에서 비신축성 패턴 하나를 확대한 SEM 이미지를 나타낸다. 도 6에서 확인할 수 있듯, 상기 실시예 1과 같은 외력으로 신장/회복 평가를 진행하는 경우, 비신축성 패턴과 신축성 고분자 필름 사이에 이격이 발생하였음을 확인할 수 있으며, 이와 같은 신축성 기판은 내구성이 좋지 않음을 확인할 수 있었다.7 shows an enlarged SEM image of one non-stretchable pattern in the stretchable substrate according to Comparative Example 1 of the present application. As can be seen in FIG. 6 , when the elongation/recovery evaluation is performed with the same external force as in Example 1, it can be confirmed that a gap has occurred between the non-stretchable pattern and the stretchable polymer film, and such a stretchable substrate has poor durability. could confirm that it was not.

1: 신축성 고분자 필름
2: 비신축성 패턴
3: 실리콘계 접착층
100: 비신축성 패턴의 선폭
200: 인접한 비신축성 패턴간의 거리
300: 비신축성 패턴의 선고
400: 신축성 고분자 필름의 두께
500: 실리콘계 접착층의 두께
1: Stretchable polymer film
2: Non-stretch pattern
3: silicone adhesive layer
100: line width of non-stretch pattern
200: distance between adjacent non-stretch patterns
300: sentence of inelastic pattern
400: the thickness of the stretchable polymer film
500: the thickness of the silicone-based adhesive layer

Claims (13)

실리콘계 접착층;
상기 실리콘계 접착층의 일면 상에 구비된 비신축성 패턴; 및
상기 비신축성 패턴이 구비된 상기 실리콘계 접착층의 면 상에 상기 비신축성 패턴을 매립하도록 구비된 신축성 고분자 필름;
을 포함하고,
상기 신축성 고분자 필름의 영률(Young's Modulus)은 G1이고,
상기 비신축성 패턴의 영률(Young's Modulus)은 G2이며,
상기 G1 및 G2는 하기 식 1 내지 식 3을 만족하고,
[식 1]
G1 ≤ 2 MPa
[식 2]
G2 ≥ 1000 MPa
[식 3]
G2/G1 ≥ 500
상기 비신축성 패턴은 광경화성 고분자 재료를 포함하고,
상기 실리콘계 접착층의 두께는 5μm 이상 30μm 이하인 것인 신축성 기판.
silicone-based adhesive layer;
a non-stretchable pattern provided on one surface of the silicone-based adhesive layer; and
a stretchable polymer film provided to embed the non-stretchable pattern on the surface of the silicone-based adhesive layer provided with the non-stretchable pattern;
including,
The Young's Modulus of the stretchable polymer film is G1,
The Young's Modulus of the non-stretchable pattern is G2,
Wherein G1 and G2 satisfy the following formulas 1 to 3,
[Equation 1]
G1 ≤ 2 MPa
[Equation 2]
G2 ≥ 1000 MPa
[Equation 3]
G2/G1 ≥ 500
The non-stretchable pattern includes a photocurable polymer material,
The silicon-based adhesive layer has a thickness of 5 μm or more and 30 μm or less.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 비신축성 패턴은 상기 신축성 고분자 필름에 의하여 이격된 2 이상의 섬(island) 구조로 매립된 구조를 가지며,
상기 비신축성 패턴의 선폭은 D1이고,
상기 신축성 고분자 필름에 매립된 2개의 인접한 상기 비신축성 패턴간의 거리는 D2이며,
상기 D1 및 D2는 하기 식 4 및 식 5를 만족하는 것인 신축성 기판:
[식 4]
30μm ≤ D1 ≤ 1000μm
[식 5]
D1/D2 ≤ 4.
The method according to claim 1,
The non-stretchable pattern has a structure embedded in two or more island structures spaced apart by the stretchable polymer film,
The line width of the non-stretchable pattern is D1,
A distance between two adjacent non-stretchable patterns embedded in the stretchable polymer film is D2,
Wherein D1 and D2 is a stretchable substrate that satisfies Equations 4 and 5 below:
[Equation 4]
30μm ≤ D1 ≤ 1000μm
[Equation 5]
D1/D2 ≤ 4.
청구항 1에 있어서,
상기 비신축성 패턴의 선고는 5μm 이상 100μm 이하인 것인 신축성 기판.
The method according to claim 1,
The line height of the non-stretchable pattern is 5 μm or more and 100 μm or less.
청구항 1에 있어서,
상기 신축성 고분자 필름의 파단 신장율(elongation at break)이 100% 이상인 폴리디메틸실록산(PDMS)인 것인 신축성 기판.
The method according to claim 1,
The stretchable substrate of polydimethylsiloxane (PDMS) having an elongation at break of 100% or more of the stretchable polymer film.
청구항 1에 있어서,
상기 실리콘계 접착층의 상기 신축성 고분자 필름과 접하는 면의 반대면을 폴리이미드 필름(PI, Polyimide)에 대하여 접합 후, 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치 후의 접착력이 300 gf/inch 이상인 것인 신축성 기판.
The method according to claim 1,
After bonding the opposite side of the silicone-based adhesive layer to the surface in contact with the stretchable polymer film to a polyimide film (PI, Polyimide), the adhesive strength after standing at 23° C. and 50 RH% for 1 hour is 300 gf/inch or more. The stretchable substrate .
청구항 1에 있어서,
상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층이 접하는 면에 대하여,
상기 신축성 고분자 필름과 상기 실리콘계 접착층을 접합 후, 23℃, 50 RH%에서 1시간 방치 후의 접착력이 300gf/inch 이상인 것인 신축성 기판.
The method according to claim 1,
With respect to the surface in contact with the elastic polymer film and the silicone-based adhesive layer,
After bonding the stretchable polymer film and the silicone-based adhesive layer, the adhesive strength after standing at 23° C. and 50 RH% for 1 hour is 300 gf/inch or more.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 신축성 고분자 필름의 두께는 100 μm 이상 1000 μm 이하인 것인 신축성 기판.
The method according to claim 1,
The stretchable substrate has a thickness of 100 μm or more and 1000 μm or less of the stretchable polymer film.
청구항 1에 있어서,
상기 실리콘계 접착층의 상기 신축성 고분자 필름과 접하는 면의 반대면에 이형 필름을 포함하는 것인 신축성 기판.
The method according to claim 1,
A stretchable substrate comprising a release film on a surface opposite to the surface of the silicone-based adhesive layer in contact with the stretchable polymer film.
청구항 1에 있어서,
상기 신축성 기판의 신장율이 20% 이상인 것인 신축성 기판.
The method according to claim 1,
The stretchable substrate having an elongation of 20% or more of the stretchable substrate.
청구항 1, 청구항 3 내지 청구항 7 및 청구항 9 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 따른 신축성 기판; 및
상기 신축성 기판의 접착층 상에 구비된 전자 소자;
를 포함하는 전자 장치로,
상기 전자 소자는 상기 신축성 기판의 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성되는 것인 전자 장치.
The stretchable substrate according to any one of claims 1, 3 to 7, and 9 to 11; and
an electronic device provided on the adhesive layer of the stretchable substrate;
An electronic device comprising:
and the electronic device is formed on a position where the non-stretchable pattern of the stretchable substrate is buried.
청구항 12에 있어서,
상기 전자 소자는,
유기 광전 소자, 유기 트랜지스터, 유기 태양 전지, 마이크로 LED 소자 및 유기 발광 소자로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 전자 장치.
13. The method of claim 12,
The electronic device is
An electronic device selected from the group consisting of an organic photoelectric device, an organic transistor, an organic solar cell, a micro LED device, and an organic light emitting device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016221812A (en) * 2015-05-29 2016-12-28 大日本印刷株式会社 Organic glass laminate containing heating wire layer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6524675B1 (en) 1999-05-13 2003-02-25 3M Innovative Properties Company Adhesive-back articles
KR102074705B1 (en) * 2013-08-19 2020-02-10 한국전자통신연구원 Method of fabricating stretchable substrate and the stretchable substrate formed thereby
KR101865441B1 (en) * 2014-09-29 2018-06-07 주식회사 엘지화학 Heating element and method for preparing the same
KR102489110B1 (en) * 2016-02-04 2023-01-16 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR20180075310A (en) * 2016-12-26 2018-07-04 주식회사 엘지화학 Method of transferring micro electronic device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016221812A (en) * 2015-05-29 2016-12-28 大日本印刷株式会社 Organic glass laminate containing heating wire layer

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