KR102405951B1 - 가열 가능한 진공 링 - Google Patents

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라파엘라 칸은기쟈
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쌩-고벵 글래스 프랑스
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Abstract

본 발명은 스택 시퀀스(2)를 탈기하기 위한 진공 링(1)에 관한 것으로, 진공 펌프(8)에 연결될 수 있고, 폐쇄된 링 형상이며, 내부(I)로의 개구부(4)를 가져서 측면 에지(5)를 따라 탈기 채널(6)을 형성하도록 링이 스택 시퀀스(2)의 외측면 에지(5)를 수용할 수 있는, 진공 안정된(vacuum-stable) 가요성 호스(3)를 적어도 포함하되, 진공 링(1)은 적어도 하나의 전기 가열부(7)를 갖는다.

Description

가열 가능한 진공 링
본 발명은 가열 가능한 진공 링(vacuum ring), 스택 시퀀스의 탈기 방법에서의 사용, 및 스택 시퀀스의 탈기 방법에 관한 것이다.
스택 시퀀스는 특히 복합 판유리 또는 태양광 발전기를 제조하는데 사용될 수 있다.
복합 판유리는 예를 들어 수상, 육상 또는 공중에서 차량의 차앞유리, 측면창, 후면창 또는 지붕 판넬과 같은 차량 판유리로서 뿐만 아니라, 건축용 판유리, 방화 판유리, 안전 글레이징으로서, 또는 이동식 또는 영구적으로 설치된 가구와 같은 가구에서 널리 사용된다.
복합 판유리는 통상 적어도 2개의 판유리들을 포함하는데, 예를 들어 기판 판유리 및 커버 판유리가, 예를 들어 열가소성 폴리비닐 부티랄(PVB) 필름으로 제조된 적어도 하나의 열가소성 중간층을 통해 열과 압력의 작용하에 적층공정에서 함께 결합된다.
태양광 발전기는 통상 태양 전지, 그 상부면 및 하부면에 배치된 열가소성 필름, 그리고 열과 압력의 작용하에 함께 결합된 2개의 외부 유리판들을 포함한다.
복합 판유리 및 태양광 발전기 모두에 있어서, 각각의 제조 공정 동안 스택 시퀀스의 각 층들 사이의 기포를 방지하고/하거나 제품의 품질을 향상하기 위해 각 층들 사이에 존재하는 기포를 제거하는 것이 대체로 바람직하다.
산업계에서 흔한 복합 판유리의 제조방법은 미국 특허 2,948,645 및 미국 특허 4,781,783에 개시된 바와 같이 일반적으로 오토클레이브 공정과 조합된 탈기 공정을 포함한다. 태양광 발전기를 제조하기 위해서도, 탈기 공정은 일반적으로 DE 3544080 A1에 개시된 바와 같이 오토클레이브 공정과 결합된다. 종래 기술의 방법은 전체 스택 시퀀스가 탈기된 스택 스퀀스의 에지 영역을 씰링하도록 가열되기 때문에 매우 에너지 집약적이다.
본 발명의 목적은 스택 시퀀스를 탈기시키고 스택 시퀀스의 측면 에지 영역 및/또는 측면 에지에 인접한 영역에서 국부적으로 가열하여 진공 하에서 씰링할 수 있도록 하는, 개선된 진공 링을 제공하는 데 있다.
본 발명의 목적은 독립항 1에 따른 진공 링에 의해 본 발명에 따라 달성된다. 바람직한 실시예들은 종속항들로부터 명백해진다.
"스택 시퀀스"라는 용어는 여기 및 이하에서 특히 판유리 및 열가소성 필름의 적층된 배치 또는 판유리, 태양 전지 및 열가소성 필름의 적층된 배치, 예를 들어 복합 판유리 또는 태양광 발전기를 제조하기 위한 스택 스퀀스를 지칭한다. 특히 바람직하게는, "스택 시퀀스"는 복합 판유리를 제조하기 위한 스택 시퀀스를 의미한다. 즉, 스택 시퀀스는 적어도 2개의 판유리들 및 적어도 하나의 열가소성 중간필름을 포함한다.
본 발명은 스택 시퀀스를 탈기하기 위한 진공 링에 관한 것이다. 본 발명에 따른 진공 링은 진공 펌프에 연결될 수 있는 진공 안정된(vacuum-stable) 가요성 호스를 포함한다. 호스는 폐쇄된 링 형상이다. 본 발명에 따르면, 호스는 내부로 개방된다. 즉, 호스에 의해 형성된 링의 내부로 개구부를 갖는다. 호스는 스택 시퀀스의 외측면 에지 주위에 배치되어 스택 시퀀스의 외측면 에지가 링의 개구부에서 수용되도록 한다. 이에 따라 진공 링의 호스는 스택 시퀀스의 외측면 에지 상에서 스택 시퀀스 주위에 둘레방향으로 배치될 수 있다. 호스의 개구부는 스택 시퀀스의 외측면 에지가 탈기 채널이 형성되도록 수용될 수 있게 구현된다. 예를 들어, 호스의 개구부는 실질적으로 오각형 형상이다. 그러나, 예를 들어 C자형 또는 U자형 개구부도 가능하다.
본 발명에 따른 진공 링은 스택 시퀀스의 측면 에지 및 스택 시퀀스의 개별 판유리들 및/또는 필름들 사이의 중간 공간을 완전히 둘러싸고, 진공 기술을 사용하여 씰링한다. 진공 링에 진공을 가한 결과, 공기는 탈기 채널 및 개별 판유리들 및/또는 필름들 사이의 중간 공간으로부터 제거될 수 있다.
본 발명에 따르면, 진공 링은 적어도 하나의 전기 가열부를 가지며, 따라서 가열 가능한 진공 링이다. 진공 링은, 예를 들어 1, 2, 3, 4, 5, 6개, 또는 그 이상의 가열부를 가질 수 있다.
여기 및 이하에 사용된 용어 "가열부(heating element)"는 전기 에너지를 열 에너지, 즉 열로 변환하는 전기적 구성 요소를 지칭한다.
바람직하게는, 전기 가열부는 전압원에 연결되기 위한 연결부를 갖는다. 연결부를 전압원에 연결하는 것은 접촉 유무에 관계없이 수행될 수 있다. 비접촉식 연결의 경우, 전압원의 전압은 연결부에서 유도된다(induced).
연결부는 전압원에 연결되기 적합한 임의의 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 플러그 연결부 또는 전압이 유도될 수 있는 플레이트일 수 있다.
전기 가열부에 전압을 인가한 결과, 가열부 및 결과적으로 가열부에 인접한 호스의 영역이 가열된다. 호스 및/또는 가열부의 가열된 영역에 인접하여 배치된 스택 시퀀스의 영역이 이것에 의해 마찬가지로 가열된다. 결과적으로, 스택 시퀀스의 적어도 하나의 열가소성 필름도 이 영역에서 가열되고, 예를 들어 70℃ 내지 100℃의 충분한 온도에서 용융 또는 연화된다. 이러한 방식으로, 스택 시퀀스의 판유리는 이 영역에서 서로 결합되어 기밀하게(airtightly) 씰링될 수 있다. 전기 가열부가 전압원에 연결되기 위한 연결부를 갖는 경우, 전압은 연결부를 전압원에 연결함으로써 전기 가열부에 인가된다.
일 실시예에서, 전기 가열부는 호스 내에, 보다 정확하게 호스의 질량체(mass) 내에 적어도 부분적으로 매립되고/되거나 호스에 접착된다.
바람직하게는, 전기 가열부는 호스 내에 적어도 부분적으로 매립된다.
유리한 일 실시예에서, 전기 가열부는 호스의 재료에 의해 완전히 둘러싸인다.
바람직한 일 실시예에서, 전기 가열부는 호스의 전체 길이에 걸쳐 연장된다. 이 실시예는 측면 에지에 인접한 영역에서 스택 시퀀스의 완전한 씰링을 가능하게 한다. 이에 따라, 공기가 배출되고 씰링된 이후에 스택 시퀀스의 개별 층들 사이로 공기가 다시 침투할 수 없게 된다.
다른 실시예에서, 개별 전기 가열부는 각각 호스의 개별 섹션에서 호스 내에 또는 호스 상에 배치된다. 이러한 방식으로, 호스의 개별 섹션을 선택적으로 가열할 수 있으며, 이에 따라 스택 시퀀스가 섹션별(section-wise)로 씰링될 수 있다.
전기 가열부는 임의의 적절한 형태를 가질 수 있다. 전기 가열부는 와이어 또는 스트립의 형태로 구현되는 것이 바람직하다.
와이어로 구현된 가열부는 바람직하게는 0.05 mm 내지 5 mm, 특히 바람직하게는 0.1 mm 내지 3 mm, 가장 특히 바람직하게는 0.3 mm 내지 2 mm, 예를 들어 1 mm의 직경을 갖는다.
스트립으로 구현된 가열부는 바람직하게는 5 mm 내지 12 mm, 특히 바람직하게는 6 mm 내지 10 mm, 가장 특히 바람직하게는 7 mm 내지 9 mm, 예를 들어 8 mm 또는 5 mm의 폭을 갖는다. 스트립으로 구현된 가열부의 두께는 바람직하게는 0.01 mm 내지 2 mm, 특히 바람직하게는 0.01 mm 내지 0.5 mm, 가장 특히 바람직하게는 0.03 mm 내지 0.1 mm, 예를 들어 0.05 mm 또는 0.1 mm이다.
호스의 치수, 즉 개구부의 크기 및 호스의 길이는 탈기될 스택 시퀀스의 두께 및 둘레에 맞추어진다. 호스의 벽 두께는 가열부의 두께 및 개수에 맞추어지며, 바람직하게는 3 mm 내지 10 mm, 특히 바람직하게는 5 mm 내지 7 mm이다.
유리한 실시예들에서, 전기 가열부는 물결 모양(wave-shaped), 꼬불꼬불한 모양(meander-shaped) 또는 나선형의 와이어 또는 파형, 꼬불꼬불한 모양 또는 나선형의 스트립으로 구현된다.
물결 모양, 꼬불꼬불한 모양 또는 나선형의 실시예는 가열부의 유연성 및 내구성에 유리한 효과를 갖는다. 호스의 재료가 팽창하는 경우, 이와 같이 구현된 가열부는 꼬임(kinks)이나 파손없이 변형될 수 있다.
일 실시예에서, 전기 가열부는 호스의 개구부에 직접적으로 인접하여 배치된다. 이 경우, 가열부는 진공 링의 탈기 동안 탈기될 스택 시퀀스와 직접 접촉할 수 있다. 가열부는 탈기될 스택 시퀀스의 외측면 에지와 접촉하지 않는 것이 바람직하다.
유리한 일 실시예에서, 전기 가열부는 스택 시퀀스의 외측면 에지가 진공 링에 수용될 때, 가열부가 탈기된 상태에서 형성된 탈기 채널의 외부에, 특히 완전히 외부에 배치되도록 배치된다. 이로 인해 전기 가열부는 스택 시퀀스의 측면 에지와 접촉하지 않게 된다.
열가소성 중간층을 갖는 스택 시퀀스의 측면 에지와 접촉하게 되면, 가열부의 가열 및 진공 링의 탈기시, 열가소성 중간층이 부분적으로 탈기 채널로 빨려들어가고/거나 가열부는 스택 시퀀스로부터 나오는 열가소성 중간층에 결합된다. 또한, 측면 에지와 접촉하면 진공 링과 스택 시퀀스 사이의 씰링이 불량해져서 가열부의 가열 및 진공 링의 탈기시 스택 시퀀스의 탈기가 불량해질 수있다.
일 실시예에서, 전기 가열부는 금속 또는 금속 합금으로 제조된다. 바람직하게는, 전기 가열부는 구리, 구리 합금, 니켈 합금, 니켈-구리 합금 또는 니켈-크롬 합금으로 제조된다. 특히 바람직하게는, 전기 가열부는 구리 또는 구리 합금으로 제조된다. 전기 가열부는, 예를 들어 구리 와이어, 구리 스트립, 또는 구리 합금으로 제조된 와이어 또는 스트립일 수 있다.
전기 가열부는 경우에 따라서 적어도 하나의 절연층으로 적어도 부분적으로 코팅될 수 있다. 비전도성(nonconductive) 래커 및/또는 플라스틱은 절연층으로서 특히 적합하다. 절연층은, 예를 들어 부식 등과 같은 가열부의 손상을 방지하거나 적어도 최소화할 수 있다. 또한, 절연층은 진공 링의 사용자가 진공 링의 통전부(current-carrying parts)와 직접 접촉하는 것을 방지할 수 있다.
일 실시예에서, 전기 가열부는 절연층에 의해 완전히 둘러싸인다. 대안적인 일 실시예에서, 가열부는 절연층으로 부분적으로만 코팅된다.
적절한 전압을 인가한 결과, 즉 가열부를 전압원에 연결함으로써, 전기 가열부는 가열될 수 있다. 일 실시예에서, 전기 가열부는 전압을 인가할 때 20 ℃ 내지 160 ℃, 바람직하게는 50 ℃ 내지 150 ℃, 특히 바람직하게는 70 ℃ 내지 130 ℃, 가장 특히 바람직하게는 90 ℃ 내지 110 ℃, 예를 들어, 100 ℃로 가열된다.
전술된 바와 같이, 가열부를 전압원에 연결하는 것은, 예를 들어 가열부가 연결부를 가지며 이것이 전압원과 접촉되거나 접촉되지 않고 연결되어 달성될 수 있다.
유리한 일 실시예에서, 진공 링은 적어도 2개의 전기 가열부를 가지며, 적어도 하나의 전기 가열부는 호스의 개구부 위로 호스 내에 또는 호스 상에 배치되고, 적어도 하나의 전기 가열부는 호스의 개구부 아래로 호스 내에 또는 호스 상에 배치된다. 예를 들어, 진공 링은 정확히 2개의 전기 가열부를 가질 수 있으며, 그 중 하나는 개구부 위에 그리고 하나는 개구부 아래에 배치된다. 그러나, 진공 링은 또한 4개의 전기 가열부를 가질 수 있으며, 그 중 2개는 개구부 위에 그리고 2개는 개구부 아래에 배치된다. 다른 실시예에서, 진공 링은 6개의 전기 가열부를 가지며, 그 중 3개는 개구부 위에 및 3개는 개구부 아래에 배치된다.
유리한 일 실시예에서, 본 발명에 따른 진공 링의 진공 안정된(vacuum-stable) 가요성 호스는 엘라스토머(elastomer)로 제조된다. 예를 들어, 호스는 실리콘, 고무 또는 합성 고무, 특히 에틸렌-프로필렌-디엔 고무(EPDM)로 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 진공 링은 진공 호스를 통해 진공 펌프에 연결될 수 있다. 경우에 따라서, 진공 보상 탱크(vacuum compensation tank)가 진공 호스와 진공 펌프 사이에 배치될 수 있다. 진공 링과 진공 호스는, 예를 들어 진공 링에 삽입된 티(tee)를 통해 서로 연결될 수 있다. 진공 링과 진공 호스의 조합은 일체로 구현되는 것이 바람직하다.
적어도 하나의 가열부는, 특히 전술된 바와 같은 연결부를 통해, 전압원에 전기적으로 연결될 수 있다. 하나 이상의 가열부의 경우, 가열부는 모두 동일한 전압원에 또는 상이한 전압원들에 연결될 수 있으며, 다수의 가열부는 동일한 전압원에 연결되는 것이 바람직하다.
진공 링, 진공 호스, 선택 사양인(optional) 진공 보상 탱크, 진공 펌프, 및 적어도 하나의 전기적으로 연결된 전압원은 함께 본 발명에 따른 진공 시스템을 형성한다.
진공 시스템의 일 실시예에서, 선택 사양인 진공 보상 탱크를 통해 연결된 진공 펌프를 갖는 진공 호스와 적어도 하나의 전압원은 진공 링의 동일한 측면에, 바람직하게는 서로 인접하게 배치된다. 진공 시스템의 다른 실시예에서, 선택 사양인 진공 보상 탱크를 통해 연결된 진공 펌프를 갖는 진공 호스와 적어도 하나의 전압원은 진공 링의 대향면들에 배치된다. 원칙적으로, 선택 사양인 진공 보상 탱크를 통해 연결된 진공 펌프를 갖는 진공 호스의 배치 및 적어도 하나의 전압원의 배치는 진공 링의 임의의 위치에서 서로 독립적으로 수행될 수 있다.
전기 가열부가 전압원에 연결되기 위한 연결부를 갖는 실시예에서, 선택 사양인 진공 보상 탱크를 통해 연결된 진공 펌프를 갖는 진공 호스와 전압원에 연결되기 위한 연결부는 진공 링의 동일한 측면에, 바람직하게는 서로 인접하게 배치된다. 진공 시스템의 다른 실시예에서, 선택 사양인 진공 보상 탱크를 통해 연결된 진공 펌프를 갖는 진공 호스와 전압원에 연결되기 위한 연결부는 진공 링의 대향면들에 배치된다. 원칙적으로, 선택 사양인 진공 보상 탱크를 통해 연결된 진공 펌프에 연결된 진공 호스의 배치 및 전압원에 연결되기 위한 연결부의 배치는 진공 링의 임의의 위치에서 서로 독립적으로 수행될 수 있다.
진공 보상 탱크는, 예를 들어 1 m3의 부피를 갖는다. 진공 펌프는, 예를 들어 펌핑 용량이 300 m3/h이고 최대 최종 압력(final pressure)이 0.1 mbar에 이른다.
또한, 본 발명은 스택 시퀀스의 탈기 방법에 관한 것으로, 스택 시퀀스를 배치하는 단계, 스택 시퀀스의 외측면 에지 주위에 본 발명에 따른 진공 링을 배치하는 단계, 진공(즉, 부압)을 진공 링에 가하는 단계, 및 본 발명에 따른 진공 링이 구비한 적어도 하나의 전기 가열부에 전압을 인가하는 단계를 적어도 포함한다. 진공 링에, 예를 들어 적어도 -0.9 bar의 부압을 가한 결과, 스택 시퀀스의 층들 사이의 공기가 제거된다. 전압원의 전기 에너지는 전기 가열부에 의해 열 에너지로 변환되고 가열부는 가열된다. 앞서 상세히 설명된 바와 같이, 이것은 또한 스택 시퀀스가 이 영역에서 같이 결합되도록 스택 시퀀스 및 그 안에 포함된 적어도 하나의 열가소성 필름을 국부적으로 가열한다. 진공을 가하는 것과 적어도 하나의 가열부에 전압을 인가하는 것은 심지어 동시에 수행될 수 있다.
진공을 가하는 것과 적어도 하나의 가열부에 전압을 인가하는 것이 동시에 일어나는 실시예는, 본 발명에 따른 방법의 특히 바람직한 실시예이다.
일 실시예에서, 전기 가열부를 20 ℃ 내지 160 ℃, 바람직하게는 50 ℃ 내지 150 ℃, 특히 바람직하게는 70 ℃ 내지 130 ℃, 가장 특히 바람직하게는 90 ℃ 내지 110 ℃, 예를 들어, 100 ℃로 가열하기에 적합한, 전압이 전기 가열부에 인가된다.
또한, 본 발명은 스택 시퀀스의 탈기 방법에서 본 발명에 따른 진공 링의 사용을 포함하며, 여기서 스택 시퀀스는 특히 복합 판유리 또는 태양광 발전기를 제조하기 위한 스택 시퀀스이다.
적층 시퀀스의 판유리는 바람직하게는 유리, 특히 바람직하게는 평평한 유리, 더욱 바람직하게는 플로트(float) 유리, 그리고 특히 석영 유리, 붕규산 유리, 소다 석회 유리, 또는 투명 플라스틱, 바람직하게는 단단한 투명 플라스틱, 특히 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리 염화비닐 및/또는 이들의 혼합물을 함유한다. 판유리는 특히 스택 시퀀스로부터 제조된 복합 판유리를 차량의 차앞유리 또는 후면창 또는 높은 광 투과율이 바람직한 다른 용도들로 사용하기 위해 투명한 것이 바람직하다. 본 발명에서, "투명한"은 가시 스펙트럼 범위에서 70% 초과의 투과율을 갖는 판유리를 지칭한다. 그러나, 운전자의 교통 관련 시야 내에 있지 않은 판유리(예를 들면, 지붕 패널)의 경우, 투과율도 예를 들어 5% 보다 훨씬 낮을 수 있다.
판유리의 두께는 광범위하게 변할 수 있으며, 따라서 개별 사안의 요구 사항에 맞추어질 수 있다. 차량 유리의 경우, 0.5 mm 내지 25 mm, 바람직하게는 1.4 mm 내지 2.5 mm, 가구, 기기(appliances) 및 건물, 특히 전기 라디에이터의 경우, 바람직하게는 4 mm 내지 25 mm의 표준 두께가 사용되는 것이 바람직하다. 창의 크기는 광범위하게 변할 수 있으며 애플리케이션의 크기에 좌우된다. 예를 들어 자동차 제조 및 건축 분야에서, 이 판유리들은 200 cm²에서 20 m²까지의 통상적인 면적을 갖는다.
스택 시퀀스의 판유리는 적어도 하나의 중간층에 의해 서로 결합된다. 중간층은 투명한 것이 바람직하다. 중간층은 적어도 하나의 플라스틱, 바람직하게는 폴리비닐 부티랄(PVB), 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA), 및/또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 함유하는 것이 바람직하다. 그러나, 중간층은, 예를 들어 폴리우레탄(PU), 폴리프로필렌(PP), 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리 염화비닐, 폴리아세테이트 수지, 주조 수지, 아크릴레이트, 불소화 에틸렌 프로필렌, 폴리비닐 플루오라이드 및/또는 에틸렌 테트라플루오로에틸렌, 또는 이들의 공중합체 또는 혼합물을 함유할 수도 있다.
중간층은 하나가 다른 하나 위에 배치된 하나 또는 복수의 필름에 의해 형성될 수 있으며, 필름의 두께는 바람직하게는 0.025 mm 내지 2 mm, 통상 0.38 mm 또는 0.76 mm 또는 1.52 mm이다. 다시 말해, 중간층은 각각 하나 또는 복수의 필름으로부터 구성될 수 있다. 이 경우에는, 예를 들어 EP 0763420 A1 또는 EP 0844075 A1에 공지된 바와 같이 상이한 가소성 또는 탄성을 번갈아 가며 하나가 다른 하나 위에 배치된 적어도 3개의 필름, 특히 폴리비닐 부티랄 필름이 바람직하다.
중간층은 바람직하게는 열가소성일 수 있고, 가열 이후에 판유리 및 임의의 추가적인 중간층을 서로 결합시킬 수 있다.
탈기될 스택 시퀀스의 총 두께는 2 mm 내지 30 mm인 것이 바람직하다.
탈기될 스택 시퀀스의 총 두께에 맞추어진 개구부를 갖는, 스택 시퀀스의 판유리의 크기에 맞추어진 본 발명에 따른 진공 링은, 본 발명에 따른 진공 링이 스택 시퀀스의 측면 에지를 완전히 둘러싸고, 스택 시퀀스의 개별 판유리들 및/또는 필름들 사이의 중간 공간은 진공 기술을 사용하여 씰링된다.
본 발명에 따른 진공 링은, 예를 들어 적어도 하나의 전기 가열부를 배치한 후 그 주위로 호스의 질량체를 압출함으로써 제조될 수 있다. 이 제조 방법은 적어도 하나의 전기 가열부가 호스의 질량체에 적어도 부분적으로 매립되는, 본 발명에 따른 진공 링에 특히 적합하다.
적어도 하나의 전기 가열부가 호스의 질량체에 접착되는, 본 발명에 따른 진공 링은, 예를 들어 먼저 압출 방법을 사용하여 호스를 제조한 다음 적어도 하나의 전기 가열부를 내열성 접착제로 호스에 접착함으로써 제조될 수 있다.
본 발명의 다양한 실시예들은 개별적으로 또는 임의의 조합으로 구현될 수 있다. 특히, 앞에서 언급되고 이하에 설명된 특징들은 언급된 조합뿐만 아니라 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 한, 다른 조합으로 또는 분리하여 사용될 수 있다.
전기 가열부에 대해 설명된 실시예들은, 진공 링이 하나 이상의 전기 가열부를 갖는 경우, 각각의 개수의 전기 가열부들로 적용될 수 있음은 물론이다.
본 발명은 이제 예시적인 실시예들을 사용하고 첨부 도면들을 참조하여 상세하게 설명된다. 도면들은 결코 본 발명을 제한하지 않는다. 도면들은 단순화되어 축척에는 맞지 않다.
도 1은 본 발명에 따른 진공 시스템의 일 실시예의 평면도이고,
도 2는 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 3은 정상 압력에서, 탈기될 스택 시퀀스가 대략적으로 도시된 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 4는 진공이 가해진 이후, 탈기될 스택 시퀀스가 대략적으로 도시된 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 5는 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 6은 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 7은 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 8은 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 9는 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 10은 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 11은 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 12는 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 13은 본 발명에 따른 진공 링의 일 실시예의 상세 단면도이고,
도 14는 가열부의 연결부가 도시된 본 발명에 따른 진공 링의 다른 실시예의 상세 단면도이고,
도 15는 스택 시퀀스가 수용되는 본 발명에 따른 진공 시스템의 평면도이고,
도 16은 도 15의 Z영역의 확대도이고,
도 17 내지 도 23은 물결 모양 및 꼬불꼬불한 모양의 가열부의 다양한 실시 예들을 상세히 도시한 것이고,
도 24는 본 발명에 따른 방법의 일 실시예의 순서도이다.
도 1은 본 발명에 따른 진공 링(1), 진공 호스(9), 진공 펌프(8) 및 전압원(10)을 포함하는, 본 발명에 따른 진공 시스템(11)의 평면도이다. 진공 링(1)은 링의 형상을 가지며 진공 호스(9)를 통해 진공 펌프(8)에 연결되는, 진공 안정된(vacuum-stable) 가요성 호스(3)를 포함한다. 호스(3)에 의해 형성된 링의 내부는 도 1에서는 I로 식별된다. 도 1에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)과 진공 호스(9)는 일체로 구현된다. 즉, 진공 링(1)과 진공 호스(9)는 일체로 같이 제조된다. 이 실시예는 바람직하다. 진공 링(1)은 연결부(12)를 통해 전압원(10)에 연결된 적어도 하나의 전기 가열부(7)(호스(3)의 상부면에 의해 도 1에서는 숨겨져 있음)를 갖는다. 도 1에 도시된 실시예에서, 진공 펌프(8)를 함께 갖는 진공 호스(9) 및 그것에 연결된 전압원(10)을 갖는 연결부(12)는 진공 링(1)의 상이한, 대향면들 상에 배치된다. 그러나, 진공 펌프(8)를 갖는 진공 호스(9)의 배치 및 전압원(10)을 함께 갖는 연결부(12)의 배치는 임의로 선택될 수 있다. 예를 들어, 이 구성들은 진공 링의 동일한 면 상에 배치될 수도 있다.
도 2는 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 2에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 와이어로 구현된 2개의 가열부(7)를 갖는다. 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 매립되고 하나의 가열부(7)는 호스(3)의 질량체 내의 개구부(4) 아래에 매립된다. 도 2에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 오각형 형상을 갖는다. 와이어로 구현된 가열부(7)의 직경은, 예를 들어 1 mm이다. 도 2에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 2개의 가열부(7)를 갖는다. 그러나, 전술한 바와 같이, 진공 링(1)은 예를 들어 하나의 가열부(7)만을 가질 수도 있다.
도 3은 도 2와 동일한 단면을 도시하며, 추가적으로, 탈기될 스택 시퀀스(2)가 대략적으로 도시되어 있으며 아직 진공이 가해지지 않았다. 도 3에 도시된 실시예에서, 스택 시퀀스(2)는 기판 판유리(2a), 커버 판유리(2b) 및 그 사이에 위치된 열가소성 필름(2c)으로 구성된다. 본 발명에 따른 진공 링은 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5), 기판 판유리(2a)와 필름(2c) 사이의 중간 공간, 및 필름(2c)과 커버 판유리(2b) 사이의 중간 공간을 둘러싸고, 진공 기술을 사용하여 이 영역을 씰링한다. 측면 에지(5)를 따라 형성된 탈기 채널(6)은 도 3에서 알 수 있다. 도 3으로부터, 개구부(4)를 오각형으로 성형하는 것이 탈기 채널(6)의 형성에 유리한 효과를 갖는 것도 알 수 있다.
도 4는 탈기된 상태에서, 즉 진공이 탈기 채널(6)에 가해지는 동안, 도 3과 동일한 단면을 도시한다. 도 4로부터, 개구부(4)가 오각형으로 형성되고 진공이 가해지고 실질적으로 삼각형의 탈기 채널(6)이 존재할 때, 호스(3)의 상부는 커버 판유리(2b)의 상부면(2b1)에 대해 놓이고 호스(3)의 하부는 기판 판유리(2a)의 하부면(2a1)에 대해 놓인다는 것을 알 수 있다.
도 5는 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 5에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 와이어로 구현된 4개의 가열부(7)를 갖는다. 2개의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 매립되고 2개의 가열부(7)는 호스(3)의 질량체 내의 개구부(4) 아래에 매립된다. 도 5에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 오각형 형상을 갖는다. 와이어로 구현된 가열부(7)의 직경은, 예를 들어 1 mm이다.
도 6은 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 6에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 와이어로 구현된 6개의 가열부(7)를 갖는다. 3개의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 매립되고 3개의 가열부(7)는 호스(3)의 질량체 내의 개구부(4) 아래에 매립된다. 도 6에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 오각형 형상을 갖는다. 와이어로 구현된 가열부(7)의 직경은, 예를 들어 1 mm이다.
도 7은 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 7에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 스트립으로 구현된 2개의 가열부(7)를 갖는다. 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 배치되고 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 아래에 배치된다. 도 7에 도시된 실시예에서, 가열부(7)는 호스(3)의 질량체에 부분적으로 매립된다. 따라서, 가열부(7)의 일측면은 개구부(4)에 수용된 스택 시퀀스(2)(도 7에 미도시)와 접촉할 수 있다. 도 7에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 오각형 형상을 갖는다. 스트립 형상을 갖는 가열부(7)가 호스(3)의 질량체에 의해 완전히 둘러싸이는 것도 가능하다. 그러나, 이 실시예는 도 7에는 도시되지 않았다. 스트립으로 구현된 가열부(7)의 폭은 예를 들어 5 mm이고, 두께는 예를 들어 0.1 mm이다. 도 7에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 2개의 가열부(7)를 갖는다. 그러나, 전술한 바와 같이, 진공 링(1)은, 예를 들어 하나의 가열부(7)만을 가질 수도 있다.
도 8은 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 8에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 스트립으로 구현된 2개의 가열부(7)를 갖는다. 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 배치되고 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 아래에 배치된다. 도 8에 도시된 실시예에서, 가열부는 호스(3)의 질량체에 접착된다. 따라서, 가열부(7)의 일측면은, 특히 탈기된 상태에서 개구부(4)에 수용된 스택 시퀀스(2)(도 8에 미도시)와 접촉할 수 있다. 도 8에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 오각형 형상을 갖는다. 스트립으로 구현된 가열부(7)의 폭은 예를 들어 8 mm이고, 두께는 예를 들어 0.05 mm이다. 도 8에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 2개의 가열부(7)를 갖는다. 그러나, 전술된 바와 같이, 진공 링(1)은, 예를 들어 하나의 가열부(7)만을 가질 수도 있다.
도 9는 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 9에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 와이어로 구현된 2개의 가열부(7)를 갖는다. 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 매립되고 하나의 가열부(7)는 호스(3)의 질량체 내의 개구부(4) 아래에 매립된다. 도 9에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 실질적으로 오각형 형상을 가지며, 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)가 수용될 때 측면 에지(5)에 대향하는 오각형의 모퉁이(corner)는 오각형의 추가적인 홈(4a)으로서 구현된다. 와이어로 구현된 가열부(7)의 직경은 예를 들어 1 mm이다. 도 9에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 2개의 가열부(7)를 갖는다. 그러나, 전술된 바와 같이, 진공 링(1)은, 예를 들어 하나의 가열부(7)만을 가질 수도 있다.
도 10은 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 10에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 와이어로 구현된 4개의 가열부(7)를 갖는다. 2개의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 매립되고 2개의 가열부(7)는 호스(3)의 질량체 내의 개구부(4) 아래에 매립된다. 도 10에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 실질적으로 오각형 형상을 가지며, 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)가 수용될 때 측면 에지(5)에 대향하는 오각형의 모퉁이는 오각형의 추가적인 홈(4a)으로서 구현된다. 와이어로 구현된 가열부(7)의 직경은 예를 들어 1 mm이다.
도 11은 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 11에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 와이어로 구현된 6개의 가열부(7)를 갖는다. 3개의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 매립되고 3개의 가열부(7)는 호스(3)의 질량체 내의 개구부(4) 아래에 매립된다. 도 11에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 실질적으로 오각형 형상을 가지며, 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)가 수용될 때 측면 에지(5)에 대향하는 오각형의 모퉁이는 오각형의 추가적인 홈(4a)으로서 구현된다. 와이어로 구현된 가열부(7)의 직경은 예를 들어 1 mm이다.
도 12는 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 12에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 스트립으로 구현된 2개의 가열부(7)를 갖는다. 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 배치되고 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 아래에 배치된다. 도 12에 도시된 실시예에서, 가열부(7)는 부분적으로 호스(3)의 질량체에 매립된다. 따라서, 가열부(7)의 일측면은 개구부(4)에 수용된 스택 시퀀스(2)(도 12에 미도시)와 접촉할 수 있다. 도 12에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 실질적으로 오각형 형상을 가지며, 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)가 수용될 때 측면 에지(5)에 대향하는 오각형의 모퉁이는 오각형의 추가적인 홈(4a)으로서 구현된다. 스트립 형상을 갖는 가열부(7)가 호스(3)의 질량체에 의해 완전히 둘러싸이는 것도 가능하다. 그러나, 이 실시예는 도 12에는 도시되지 않았다. 스트립으로 구현된 가열부(7)의 폭은 예를 들어 8 mm이고, 두께는 예를 들어 0.1 mm이다. 도 12에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 2개의 가열부(7)를 갖는다. 그러나, 전술한 바와 같이, 진공 링(1)은, 예를 들어 하나의 가열부(7)만을 가질 수도 있다.
도 13은 본 발명에 따른 진공 링(1)의 일 실시예의 상세 단면도이다. 도 13에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 스트립으로 구현된 2개의 가열부(7)를 갖는다. 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 위에 배치되고 하나의 가열부(7)는 개구부(4) 아래에 배치된다. 도 13에 도시된 실시예에서, 가열부는 호스(3)의 질량체에 접착된다. 따라서, 가열부(7)의 일측면은, 특히 탈기된 상태에서 개구부(4)에 수용된 스택 시퀀스(2)(도 13에 미도시)와 접촉할 수 있다. 도 13에 도시된 실시예에서, 개구부(4)는 오각형 형상을 가지며, 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)가 수용될 때 측면 에지(5)에 대향하는 오각형의 모퉁이는 오각형의 추가적인 홈(4a)으로서 구현된다. 스트립으로 구현된 가열부(7)의 폭은 예를 들어 8 mm이고, 두께는 예를 들어 0.05 mm이다. 도 13에 도시된 실시예에서, 진공 링(1)은 2개의 가열부(7)를 갖는다. 그러나, 전술한 바와 같이, 진공 링(1)은, 예를 들어 하나의 가열부(7)만을 가질 수도 있다.
도 14는 본 발명에 따른 진공 링(1)의 다른 실시예의 상세 단면도이다. 도 14에 도시된 실시예는 2개의 가열부(7) 각각이 전압원에 연결되기 위한 연결부(12)를 갖는다는 점에서만 도 9와 상이하다. 2개의 가열부(7)는 동일한 전압원에 연결될 수도 있다.
도 2 내지 도 13에 도시된 실시예에서도, 가열부는 각각 전압원에 연결되기 위한 연결부를 가질 수 있음은 물론이다. 이 경우, 본 발명에 따른 진공 링(1)의 모든 가열부는 동일한 전압원에 연결될 수도 있다.
도 15는 스택 시퀀스(2)가 그 안에 수용된 본 발명에 따른 진공 시스템(11)의 평면도이고, 도 16은 도 15의 Z 영역의 확대도이다. 도 15에 도시된 진공 시스템(11)의 진공 링(1)은, 예를 들어 도 2에 도시된 실시예에 대응한다. 도 15 및 도 16에서, 진공 링(1)에서 스택 시퀀스(2)의 배치를 설명하기 위해, 스택 시퀀스(2)는 점으로 도시된다. 도 15의 Z 영역 확대도에서, 호스(3)는 개구부(4) 위에 배치된 가열부(7)가 보여지도록 투명하게 도시된다. 가열부(7)는 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)에 인접한 영역을 가열할 수 있도록 배치된다. 개구부(4) 위에 배치된 가열부(7)는 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)와 접촉하지 않는다. 개구부(4) 아래에 배치된 가열부(7)는 도 16에서 볼 수 없는데, 이는 점으로 도시된 스택 시퀀스(2) 아래에 배치되어 있기 때문이다. 그러나, 개구부(4) 아래에 배치된 가열부(7)도 스택 시퀀스(2)의 측면 에지(5)와 접촉하지 않는다. 도 15 및 도 16에 도시된 실시예에서 가열부(7)는 호스(3)의 전체 길이에 걸쳐 물결 모양으로 연장되는 와이어로서 구현된다.
도 17 내지 도 23은 특히 파장, 진폭 및/또는 곡률 반경 면에서 서로 상이한, 물결 모양(wave-shaped) 및 꼬불꼬불한 모양(meander-shaped) 가열부(7)의 다양한 실시예들을 상세하게 도시한다.
도 24는 스택 시퀀스(2)를 탈기하기 위한 본 발명에 따른 방법의 일 실시예의 순서도이다.
방법은, 제 1 단계(I)에서 스택 시퀀스(2)를 배치하는 단계를 포함한다. 제 2 단계(II)에서, 방법은 스택 시퀀스(2)의 외측면 에지(5) 주위에 본 발명에 따른 진공 링(1)을 배치하는 단계를 포함한다. 제 3 단계(III)에서, 방법은 진공을 진공 링(1)에 가하는 단계를 포함한다. 제 4 단계(IV)에서, 방법은 전기 가열부(7)에 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 제 3 및 제 4 단계들(III, IV)는 심지어 동시에 수행될 수 있다.
1: 진공 링
2: 스택 시퀀스
2a: 기판 판유리
2a1: 기판 판유리의 하부면
2b: 커버 판유리
2b1: 커버 판유리의 상부면
2c: 중간층
3: 호스
4: 개구부
4a: 홈
5: 측면 에지
6: 탈기 채널
7: 전기 발열부
8: 진공 펌프
9: 진공 호스
10: 전압원
11: 진공 시스템
12: 연결부
I: 호스에 의해 형성된 링의 내부

Claims (15)

  1. 스택 시퀀스(2)를 탈기하기 위한 진공 링(1)으로,
    진공 펌프(8)에 연결될 수 있고, 폐쇄된 링 형상이며, 내부(I)로의 개구부(4)를 가져서 측면 에지(5)를 따라 탈기 채널(6)을 형성하도록 링이 스택 시퀀스(2)의 외측면 에지(5)를 수용할 수 있는, 진공 안정된(vacuum-stable) 가요성 호스(3)를 적어도 포함하되,
    진공 링(1)은 적어도 하나의 전기 가열부(7)를 가지며, 전기 가열부(7)는 전압원(10)에 연결되기 위한 연결부(12)를 갖는, 진공 링(1).
  2. 제1항에 있어서,
    전기 가열부(7)는 호스(3) 내에 적어도 부분적으로 매립되거나 호스(3)에 접착되는, 진공 링(1).
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    전기 가열부(7)는 호스(3)의 전체 길이에 걸쳐 연장되는, 진공 링(1).
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    전기 가열부(7)는 와이어 또는 스트립 형태로 구현되는, 진공 링(1).
  5. 제4항에 있어서,
    전기 가열부(7)는 물결 모양(wave-shaped), 꼬불꼬불한 모양(meander-shaped) 또는 나선형으로 구현되는, 진공 링(1).
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    전기 가열부(7)는 개구부(4)에 직접적으로 인접하여 배치되는, 진공 링(1).
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    전기 가열부(7)는, 스택 시퀀스(2)의 외측면 에지(5)가 탈기된 상태에서 진공 링(1)에 수용될 때 형성되는, 탈기 채널(6)의 외부에 배치되는, 진공 링(1).
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    전기 가열부(7)는 금속 또는 금속 합금, 또는 구리, 구리 합금, 니켈 합금, 니켈-구리 합금 또는 니켈-크롬 합금으로 제조되는, 진공 링(1).
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    전기 가열부(7)는 절연층, 또는 비전도성(non-conductive) 래커, 또는 플라스틱으로 적어도 부분적으로 코팅되는, 진공 링(1).
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    진공 링(1)은 적어도 2개의 전기 가열부(7)를 가지며, 이 중에 적어도 하나는 개구부(4) 위에 배치되고, 적어도 하나는 개구부(4) 아래에 배치되는, 진공 링(1).
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    호스(3)는 엘라스토머(elastomer), 또는 실리콘, 고무 또는 합성 고무, 또는 에틸렌-프로필렌-디엔 고무(EPDM)로 제조되는, 진공 링(1).
  12. 진공 시스템(11)으로, 적어도
    - 제1항 또는 제2항에 따른 진공 링(1),
    - 일단은 진공 링(1)에 연결되고 타단은 진공 펌프(8)에 연결되는 진공 호스(9), 및
    - 적어도 하나의 가열부(7)에 전기적으로 연결된 적어도 하나의 전압원(10)을 포함하는, 진공 시스템(11).
  13. 스택 시퀀스(2)의 탈기 방법으로, 적어도
    - 스택 시퀀스(2)를 배치하는 단계,
    - 스택 시퀀스(2)의 외측면 에지(5) 주위에 제1항 또는 제2항에 따른 진공 링(1)을 배치하는 단계,
    - 진공 링(1)에 진공을 가하는 단계,
    - 전기 가열부(7)에 전압을 인가하는 단계를 포함하는, 방법.
  14. 복합 판유리를 제조하기 위한 스택 시퀀스(2)를 탈기하기 위한 방법에서 사용되는, 제1항 또는 제2항에 따른 진공 링(1).
  15. 태양열 발전기를 제조하기 위한 스택 시퀀스(2)를 탈기하기 위한 방법에서 사용되는, 제1항 또는 제2항에 따른 진공 링(1).
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