KR102404005B1 - Display device and method of manufacturing the same - Google Patents

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KR102404005B1
KR102404005B1 KR1020170144331A KR20170144331A KR102404005B1 KR 102404005 B1 KR102404005 B1 KR 102404005B1 KR 1020170144331 A KR1020170144331 A KR 1020170144331A KR 20170144331 A KR20170144331 A KR 20170144331A KR 102404005 B1 KR102404005 B1 KR 102404005B1
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Abstract

본 명세서는 표시장치 및 그의 제조방법을 개시한다. 본 명세서의 다양한 실시예에 따른 표시장치는 화소들이 배치된 표시영역, 이를 둘러싼 비표시영역, 비표시영역의 에지(edge)부에 위치한 얼라인 마크 및 얼라인 마크와 이격거리를 가지며 배치된 표시장치의 다른 구성요소를 포함한다. 또한 얼라인 마크 및 기타 구성요소는 에지(edge)부에서 일정 곡률을 가지고 휘어짐으로써, 얼라인 마크가 외부의 산소 및 수분의 침투 경로가 되었던 종래 기술과 달리 본 발명에서는 이러한 투습을 방지할 수 있다.The present specification discloses a display device and a manufacturing method thereof. A display device according to various embodiments of the present specification includes a display area in which pixels are disposed, a non-display area surrounding the display area, an alignment mark located at an edge of the non-display area, and a display arranged at a distance from the alignment mark other components of the device. In addition, since the alignment mark and other components are bent with a certain curvature at the edge portion, unlike the prior art in which the alignment mark becomes a penetration path of external oxygen and moisture, in the present invention, such moisture permeation can be prevented. .

Description

표시장치 및 그의 제조방법{DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}Display device and manufacturing method thereof

본 명세서는 표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 표시장치의 에지(Edge)부에서 발생하는 수분 침투 및 이로 인한 신뢰성 하락을 감소시키기 위한 표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present specification relates to a display device, and more particularly, to a display device and a method of manufacturing the same for reducing moisture penetration occurring in an edge portion of the display device and deterioration of reliability thereof.

정보화 시대로의 도래는 영상을 표시하는 표시장치의 발전과 함께했다. 최근에 이르러, 표시장치의 발전은 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel), 유기발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Display)와 같은 다양한 형태로 이어졌다. 특히 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 장점에서 액정 디스플레이 장치와 발광 디스플레이 장치가 각광을 받고 있다.The advent of the information age coincided with the development of display devices that display images. Recently, the development of display devices has led to various forms such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting display (OLED). In particular, liquid crystal display devices and light emitting display devices are in the spotlight because of the advantages of mass production technology, ease of driving means, and realization of high quality.

표시장치들 중에서 유기발광표시장치는 자체발광형으로서, 액정표시장치(LCD)에 비해 시야각, 대조비 등이 우수하며, 별도의 백라이트가 필요하지 않아 경량 박형이 가능하며, 소비전력이 유리한 장점이 있다. 또한, 유기발광표시장치는 직류저전압 구동이 가능하고, 응답속도가 빠르며, 특히 제조비용이 저렴한 장점이 있다.Among display devices, the organic light emitting display device is a self-emission type display device, which has superior viewing angle and contrast ratio compared to a liquid crystal display device (LCD). . In addition, the organic light emitting display device can be driven with a low DC voltage, has a fast response speed, and has advantages of low manufacturing cost.

유기발광표시장치는 유기발광소자를 각각 포함하는 화소들, 및 화소들을 정의하기 위해 화소들을 구획하는 뱅크를 포함한다. 뱅크는 화소 정의막으로 역할을 할 수 있다. 유기발광소자는 애노드 전극(anode electrode), 정공 수송층(hole transporting layer), 유기발광층(organic light emitting layer), 전자 수송층(electron transporting layer), 및 캐소드 전극(cathode electrode)을 포함한다. 이 경우, 애노드 전극에 고전위전압이 인가되고 캐소드 전극에 저전위 전압이 인가되면 정공과 전자가 각각 정공수송층과 전자 수송층을 통해 유기발광층으로 이동되며, 유기발광층에서 서로 결합하여 발광하게 된다.The organic light emitting diode display includes pixels each including an organic light emitting diode, and a bank dividing the pixels to define the pixels. The bank may serve as a pixel defining layer. The organic light emitting diode includes an anode electrode, a hole transporting layer, an organic light emitting layer, an electron transporting layer, and a cathode electrode. In this case, when a high potential voltage is applied to the anode electrode and a low potential voltage is applied to the cathode electrode, holes and electrons move to the organic light emitting layer through the hole transport layer and the electron transport layer, respectively, and combine with each other in the organic light emitting layer to emit light.

유기발광소자는 외부의 수분, 산소와 같은 외적 요인에 의해 쉽게 열화가 일어나는 단점이 있다. 이를 방지하기 위하여, 유기발광표시장치는 외부의 수분, 산소가 유기발광소자에 침투되지 않도록 봉지막을 형성한다. 일반적으로, 봉지막은 무기층 및 유기층을 포함함으로써 유기발광소자에 수분 또는 산소가 침투하는 것을 최소화한다.The organic light emitting diode has a disadvantage in that it is easily deteriorated by external factors such as external moisture and oxygen. To prevent this, the organic light emitting display device forms an encapsulation film to prevent external moisture and oxygen from penetrating into the organic light emitting diode. In general, the encapsulation film minimizes penetration of moisture or oxygen into the organic light emitting device by including an inorganic layer and an organic layer.

봉지막의 이러한 역할은 외부에서 기인한 수분 및 산소의 근본적 침투를 막지는 못한다. 봉지막을 이루는 분자의 크기는 물 분자 및 산소 분자의 크기보다 클 수밖에 없고 봉지막에 침투한 수분 및 산소는 다소간의 시간을 거쳐 표시장치 내부로 유입될 수 있다.This role of the encapsulation film does not prevent the fundamental penetration of moisture and oxygen originating from the outside. The size of the molecules constituting the encapsulation film is inevitably larger than the size of water molecules and oxygen molecules, and moisture and oxygen penetrating into the encapsulation film may flow into the display device after some time.

따라서 표시장치의 성능 신뢰도에 영향을 미치는 수분 및 산소의 침투를 최소화하기 위해서는, 수분 및 산소가 표시장치 내부로 유입되는 이동경로의 최대화가 요구된다.Therefore, in order to minimize the penetration of moisture and oxygen affecting the performance reliability of the display device, it is required to maximize the movement path through which moisture and oxygen flow into the display device.

도 1은 종래 기술에 따른 표시장치를 도시한 도면이다. 그리고 도 2는 도 1의 모서리부인 X를 확대하여 나타낸 도면이다. 또한 도 3은 도 2의 I-I'선을 따라 절단한 단면도이다.1 is a view showing a display device according to the prior art. And FIG. 2 is an enlarged view of the corner X of FIG. 1 . Also, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line I-I' of FIG. 2 .

도 1 내지 도 3을 참조하면, 종래 기술에 따른 표시장치는, 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)으로 구분되며, 표시영역(DA)에는 화소들이 형성된다. 화소들 각각은 기판(100) 상에 박막 트랜지스터와 제1 전극(131), 유기발광층(133), 및 제2 전극(132)을 구비하는 유기발광소자를 포함할 수 있다. 화소들 각각은 박막 트랜지스터를 이용하여 게이트 라인으로부터 게이트 신호가 입력되는 경우 데이터 라인의 데이터 전압에 따라 유기발광소자에 소정의 전류를 공급한다. 이로 인해, 화소들 각각의 유기발광소자는 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광할 수 있다.1 to 3 , a display device according to the related art is divided into a display area DA and a non-display area NDA, and pixels are formed in the display area DA. Each of the pixels may include an organic light emitting diode including a thin film transistor, a first electrode 131 , an organic light emitting layer 133 , and a second electrode 132 on the substrate 100 . Each of the pixels supplies a predetermined current to the organic light emitting diode according to the data voltage of the data line when a gate signal is input from the gate line using a thin film transistor. Accordingly, the organic light emitting device of each of the pixels may emit light with a predetermined brightness according to a predetermined current.

비표시영역(NDA)에는 패드들이 형성되는 패드 영역, 댐(160) 및 얼라인 마크(align mark)가 배치될 수 있다.A pad area in which pads are formed, a dam 160 and an align mark may be disposed in the non-display area NDA.

상기 얼라인 마크는 공정 진행 시 셀(Cell) 전 공정 및 후 공정과 모듈 공정의 진행에서 카메라 등에 의해 인식될 수 있도록 상기 기판(100)의 외측으로 노출된 지점에 위치하게 되며 예를 들어, 상기 기판(100)의 최외곽부 모서리에 위치할 수 있다.The alignment mark is located at a point exposed to the outside of the substrate 100 so that it can be recognized by a camera or the like in a process before and after a cell process and a module process during the process, for example, It may be located at the outermost edge of the substrate 100 .

상기 얼라인 마크는 제1 금속층(170)에 의해 특정한 형상을 나타내며 도 2는 예시적으로 십자가의 형상의 얼라인 마크를 나타낸다. 도 2에 표기된 A, B, C는 이러한 형상의 일부분을 가리키며, A의 경우 상기 제1 금속층(170)이 양각의 형상으로 나타낸 십자가 부분을, B와 C는 십자가의 주변부를 표기한다. 상기 제1 금속층(170)이 나타내는 특정한 형상은 도 2의 십자가에 국한되지 않으며 다양한 형태로 나타낼 수 있다.The alignment mark shows a specific shape by the first metal layer 170, and FIG. 2 shows an alignment mark in the shape of a cross by way of example. A, B, and C indicated in FIG. 2 indicate a portion of this shape, in the case of A, the cross portion in which the first metal layer 170 is embossed, and B and C indicate the periphery of the cross. The specific shape represented by the first metal layer 170 is not limited to the cross of FIG. 2 and may be represented in various forms.

제1 유기막(121)은 상기 제1 금속층(170)을 덮으며 상기 얼라인 마크를 구성한다. 도 2에 따르면, 상기 제1 유기막(121)은 사각형의 형태로 상기 제1 금속층(170)을 덮으며 부분적으로 상기 제1 전극(131) 및 제2 금속층(140)과 맞닿는다. 상기 제1 유기막(121)이 나타내는 형태는 도2 의 사각형에 국한되지 않으며 다양한 형태로 나타낼 수 있다.The first organic layer 121 covers the first metal layer 170 and constitutes the alignment mark. Referring to FIG. 2 , the first organic layer 121 covers the first metal layer 170 in a rectangular shape and partially contacts the first electrode 131 and the second metal layer 140 . The shape of the first organic layer 121 is not limited to the square shown in FIG. 2 and may be represented in various shapes.

종래 기술에 따른 이러한 비표시영역의 구조는 수분 및 산소 침투를 효율적으로 방지하기 어렵다. 최외곽 에지부에 있어서, 수분 및 산소는 상기 얼라인 마크를 구성하는 상기 제1 유기막(121)에 가장 먼저 도달한다. 수분 및 산소는 상기 제1 유기막(121)을 투과해 상기 제1 유기막(121)과 맞닿아 있는 상기 제1 전극(131) 및 제2 금속층(140)으로 침투할 수 있다. 이 때, 수분 및 산소의 침투가 시작되는 표시장치의 말단부에서 상기 얼라인 마크를 구성하는 상기 제1 유기막(121)까지의 거리는 수분 및 산소의 침투를 지연시킬 충분한 거리를 갖지 못한다. 이러한 종래 기술의 표시장치 최외곽 에지부의 구성은 수분 및 산소의 침투를 방지할 새로운 구조로의 변경이 요구된다. The structure of the non-display area according to the prior art makes it difficult to effectively prevent moisture and oxygen from permeating. In the outermost edge portion, moisture and oxygen reach the first organic layer 121 constituting the alignment mark first. Moisture and oxygen may permeate through the first organic layer 121 and penetrate into the first electrode 131 and the second metal layer 140 that are in contact with the first organic layer 121 . In this case, the distance from the distal end of the display device where the penetration of moisture and oxygen starts to the first organic layer 121 constituting the alignment mark does not have a sufficient distance to delay penetration of moisture and oxygen. The configuration of the outermost edge portion of the display device of the prior art is required to be changed to a new structure that prevents penetration of moisture and oxygen.

표시장치의 최외곽 에지부에서의 투습을 최소화하여 박막 트랜지스터의 신뢰성을 향상시키기 위해, 발명자들은 최외곽부 모서리에서 외부 수분 및 산소가 표시장치 내부로 침투하는 경로를 극대화하는 구조를 도출하였다. 구체적으로 발명자들은 표시장치의 최외곽부 모서리부에 위치한 얼라인 마크에 있어서, 상기 얼라인 마크를 구성하는 구성 요소를 기판 위에서 산소 또는 수분의 침투 경로를 최대화하는 위치에 배치되도록 구성하였다.본 명세서는, 발명자들이 고안한 표시장치에 있어서 충분한 투습경로를 통해 투습 불량을 최소화하여 박막 트랜지스터 장치의 신뢰성을 확보하고자 한다.In order to improve the reliability of the thin film transistor by minimizing moisture permeation at the outermost edge portion of the display device, the inventors have derived a structure that maximizes the path through which external moisture and oxygen penetrate into the interior of the display device at the outermost edge portion. Specifically, in the alignment mark located at the outermost corner of the display device, the inventors have configured the components constituting the alignment mark to be disposed on the substrate at a position that maximizes the penetration path of oxygen or moisture. aims to secure the reliability of the thin film transistor device by minimizing the moisture vapor transmission defect through a sufficient vapor transmission path in the display device devised by the inventors.

본 명세서의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The tasks of the present specification are not limited to the tasks mentioned above, and other tasks not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 명세서의 다양한 실시예에 따른 표시장치에 따라, 최외곽 에지부에서의 투습경로를 최대화하여 투습으로 인한 신뢰성 하락을 방지하고자 한다. 표시장치는 최외곽 에지부에 위치한 얼라인 마크, 상기 얼라인 마크를 구성하는 제1 금속층 및 상기 제1 금속층을 덮는 제1 유기막, 소스 전극, 드레인 전극 및 그라운드 전극으로 구성될 수 있는 제2 금속층, 상기 제2 금속층의 일부를 덮는 제1 전극을 포함할 수 있다.According to the display device according to various embodiments of the present specification, it is intended to maximize the moisture permeation path in the outermost edge portion to prevent a decrease in reliability due to moisture permeation. The display device may include an alignment mark located at an outermost edge portion, a first metal layer constituting the alignment mark, a first organic layer covering the first metal layer, a source electrode, a drain electrode, and a ground electrode. A metal layer and a first electrode covering a portion of the second metal layer may be included.

본 명세서의 일 실시예에 따른 표시장치는 최외곽 모서리부에 배치된 얼라인 마크를 표시영역 및 일부 비표시영역의 구성요소와 격리시킨 것으로서, 종래 기술에 있어서 얼라인 마크를 덮는 봉지막을 투과한 외부의 수분 및 산소가 표시장치 내부로 침투해 성능 신뢰성을 하락시켰던 것과 대조적으로, 얼라인 마크의 봉지막에서 투습이 발생하더라도 얼라인 마크와 표시영역 및 일부 비표시영역이 격리되어 구성되었기에 이러한 투습에 기인한 성능 신뢰성 하락을 방지할 수 있다. 나아가 외부의 수분 및 산소가 표시장치 내부로 침투하는 투습 경로를 극대화하기 위해 표시장치 모서리부의 비표시영역 구성요소 일부를 곡률이 있도록 변경하여, 종래 기술에 있어서 직각으로 구성되었던 상기 모서리부의 비표시영역 구성요소와 대조적이다. 본 명세서의 일 실시예에 따른 표시장치는 얼라인 마크의 형상을 양각이 되도록 구성할 수 있으며, 이와 다르게 본 명세서의 다른 일 실시예에 따른 표시장치는 얼라인 마크의 형상을 음각이 되도록 구성할 수 있다.A display device according to an exemplary embodiment of the present specification separates the alignment mark disposed on the outermost corner portion from the components of the display area and some non-display area, and in the prior art, the alignment mark is transmitted through the encapsulation film covering the alignment mark. In contrast to the fact that moisture and oxygen from the outside penetrated into the display device and lowered the performance reliability, even if moisture permeation occurred in the sealing film of the align mark, the align mark, the display area, and some non-display areas were configured to be separated. It is possible to prevent deterioration of performance reliability due to Furthermore, in order to maximize the moisture permeation path through which external moisture and oxygen penetrate into the inside of the display device, some of the non-display area components of the corner of the display device are changed to have a curvature, so that the non-display area of the corner, which was configured at a right angle in the prior art In contrast to components. The display device according to an exemplary embodiment of the present specification may be configured to have an embossed shape of the alignment mark, and unlike the display device according to another exemplary embodiment of the present disclosure, the shape of the alignment mark may be configured to be embossed. can

타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 명세서의 실시예들은 표시 장치에 관한 것으로, 표시 장치의 외부에서 기인한 투습 및 이러한 투습에 기인한 박막 트랜지스터의 신뢰성 하락을 막기 위해 표시장치 모서리에 위치한 얼라인 마크를 격리 배치하여, 얼라인 마크로 인한 투습 경로 증가를 최소화한 표시 장치 및 그의 제조방법을 제공할 수 있다.Embodiments of the present specification relate to a display device, and in order to prevent moisture permeation caused from the outside of the display device and a decrease in reliability of a thin film transistor due to such moisture permeation, an alignment mark located at a corner of the display device is isolated and disposed to form an alignment mark. It is possible to provide a display device that minimizes an increase in the moisture permeation path due to this, and a method for manufacturing the same.

본 명세서의 효과는 이상에서 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과는 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Effects of the present specification are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 종래 기술의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 2는 도 1의 모서리부인 X를 확대 표현한 평면도이다.
도 3은 도 2의 I-I'선을 따라 절단한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예 및 다른 일 실시예를 아우르는 표시 장치의 평면도이다.
도 5는 도 4의 모서리부인 Y를 확대 표현한 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 6은 도 5의 II-II'선을 따라 절단한 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 7은 도 4의 모서리부인 Y를 확대 표현한 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치의 평면도이다.
도 8은 도 7의 II-II'선을 따라 절단한 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment of the related art.
FIG. 2 is a plan view showing an enlarged representation of X, which is a corner portion of FIG. 1 .
3 is a cross-sectional view taken along line I-I' of FIG. 2 .
4 is a plan view of a display device including an exemplary embodiment and another exemplary embodiment of the present invention.
5 is a plan view of a display device according to an embodiment of the present invention, which is an enlarged representation of Y, which is a corner portion of FIG. 4 .
6 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment taken along line II-II′ of FIG. 5 .
FIG. 7 is a plan view of a display device according to another exemplary embodiment of the present invention, which is an enlarged representation of Y, which is a corner portion of FIG. 4 .
8 is a cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment taken along line II-II′ of FIG. 7 .

본 명세서의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present specification, and a method for achieving them, will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention belongs It is provided to fully inform the possessor of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 명세서의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 명세서가 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, proportions, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present specification are exemplary, and thus the present specification is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'including', 'having', 'consisting', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the case in which the plural is included is included unless otherwise explicitly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components, it is construed as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between two parts unless 'directly' is used.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적으로 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, when a temporal relationship is described in terms of 'after', 'following', 'after', 'before', etc., 'immediately' or 'directly' Unless ' is used, cases that are not continuous may be included.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although the first, second, etc. are used to describe various elements, these elements are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

본 명세서의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제2, A, B 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. In describing the components of the present specification, terms such as first, second, A, and B may be used. These terms are only for distinguishing the elements from other elements, and the nature, order, order, or number of the elements are not limited by the terms. When it is described that a component is “connected”, “coupled” or “connected” to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, but other components may be interposed between each component. It should be understood that each component may be “interposed” or “connected”, “coupled” or “connected” through another component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other or implemented together in a related relationship. may be

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The size and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the illustrated component.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 도시한 도면이다. 특히 도 5는 상기 도 4의 에지(edge)부인 Y를 확대 도시한 도면이다.4 and 5 are diagrams illustrating a display device according to an embodiment of the present invention. In particular, FIG. 5 is an enlarged view of Y, which is an edge portion of FIG. 4 .

도 5를 참조하면, 본 발명의 표시장치는, 표시영역(DA)과 이를 둘러싼 비표시영역(NDA)로 이루어지며, 비표시영역은 표시장치의 에지(edge)부를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5 , the display device of the present invention includes a display area DA and a non-display area NDA surrounding the display area, and the non-display area may include an edge portion of the display device.

도 6은 도 5의 II-II'선을 따른 표시장치를 도시한 도면이다. II-II'선은 상기 얼라인 마크, 곡률을 가진 에지부 구성요소를 가로지르는 선이다. 상기 얼라인 마크의 상기 형상을 나타낸 가로지르며, 상기 형상의 중심을 지나가도록 배치되었다.FIG. 6 is a view illustrating a display device taken along line II-II' of FIG. 5 . The line II-II' is the line crossing the alignment mark, the curvature edge part component. It was arranged to cross the shape of the alignment mark and to pass through the center of the shape.

도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 기판(210), 상기 기판(210)상에 배치된 보호막(210), 상기 보호막(210) 상에 배치되어 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)의 일부를 이루며 상기 비표시영역(NDA)에 배치된 상기 얼라인 마크를 포함한다.Referring to FIG. 6 , in the display device according to an embodiment of the present invention, a substrate 210 , a passivation layer 210 disposed on the substrate 210 , and a display area DA disposed on the passivation layer 210 . ) and the alignment mark forming a part of the non-display area NDA and disposed in the non-display area NDA.

상기 기판(210)은 플라스틱 필름(plastic film) 또는 유리 기판(glass substrate)일 수 있다.The substrate 210 may be a plastic film or a glass substrate.

상기 보호막(210)은 상기 기판(210)의 일면 전체에 배치된다. 상기 보호막(210)은 절연막으로서 역할을 할 수 있고 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.The passivation layer 210 is disposed on the entire surface of the substrate 210 . The protective film 210 may serve as an insulating film and may be formed of an inorganic film, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

상기 얼라인 마크는 상기 제1 금속층(270) 및 상기 제1 유기막(221)으로 구성된다. 상기 제1 금속층(270)은 상기 얼라인 마크를 구성함에 있어 육안에 의해 또는 광학 기기에 의해 인식가능한 형상을 가질 수 있으며, 양각으로 상기 형상을 나타낼 수 있다. 상기 제1 금속층(270)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The alignment mark includes the first metal layer 270 and the first organic layer 221 . The first metal layer 270 may have a shape recognizable by the naked eye or by an optical device in constituting the alignment mark, and may have a embossed shape. The first metal layer 270 may include any one of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). Or it may be a single layer or multiple layers made of an alloy thereof, but is not limited thereto.

상기 제1 유기막(221)은 상기 얼라인 마크를 기타 구성요소와 구획하기 위해 상기 제1 금속층(270)의 가장자리를 덮도록 형성될 수 있다. 상기 제1 유기막(221)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.The first organic layer 221 may be formed to cover an edge of the first metal layer 270 to separate the alignment mark from other components. The first organic film 221 is an organic film such as acrylic resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, polyimide resin, etc. can be formed.

상기 제1 금속층(270) 및 상기 제1 유기막(221)은 상기 기판(210) 위에서 산소 또는 수분의 침투 경로를 최대화하는 위치에 배치될 수 있다.The first metal layer 270 and the first organic layer 221 may be disposed on the substrate 210 at a position that maximizes the penetration path of oxygen or moisture.

상기 표시영역(DA)과 비표시영역(NDA)의 일부를 이루며 외부의 산소 및 수분의 침투로부터 보호되어야 하는 구성요소에는, 제2 금속층(240), 제2 유기막(220), 상기 제2 금속층(240) 및 상기 제2 유기막(220)의 상부에 배치된 제1 전극(231), 상기 비표시영역(NDA) 상 제1 전극(231)의 상부에 배치된 댐(260), 상기 표시영역(DA) 상 제1 전극(231)의 상부에 배치된 유기발광소자(230)를 포함한다.Components forming a part of the display area DA and the non-display area NDA and to be protected from penetration of external oxygen and moisture include a second metal layer 240 , a second organic layer 220 , and the second The first electrode 231 disposed on the metal layer 240 and the second organic layer 220 , the dam 260 disposed on the first electrode 231 on the non-display area NDA, the The organic light emitting diode 230 is disposed on the first electrode 231 in the display area DA.

상기 제2 금속층(240)은 소스 전극(source electrode), 드레인 전극(drain electrode) 및 그라운드 전극(ground electrode) 중 하나로서 상기 보호막(210) 일면에 배치된다. 이러한 소스 전극, 드레인 전극 및 그라운드 전극은 도면 상 도식하지 않는 박막 트랜지스터(TFT)의 구성요소로 사용될 수 있다. 상기 박막 트랜지스터는 화소에 있어서 게이트 라인으로부터 게이트 신호가 입력되는 경우 데이터 라인의 데이터 전압에 따라 유기발광소자에 소정의 전류를 공급한다. 이로 인해, 화소들 각각의 유기발광소자는 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광할 수 있다. 상기 박막 트랜지스터는 게이트 전극이 액티브층의 상부에 위치하는 상부 게이트(탑 게이트, top gate) 방식, 게이트 전극이 액티브층의 하부에 위치하는 하부 게이트(바텀 게이트, bottom gate) 방식 또는 게이트 전극이 액티브층의 상부와 하부에 모두 위치하는 더블 게이트(double gate) 방식으로 형성될 수 있다. 소스 전극, 드레인 전극 및 그라운드 전극은 각각 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한 상기 제2 금속층(240)은 소스 전극, 드레인 전극 및 그라운드 전극에 한정되지 않으며 다른 전극 및 다른 용도로 사용될 수 있다.The second metal layer 240 is one of a source electrode, a drain electrode, and a ground electrode, and is disposed on one surface of the passivation layer 210 . Such a source electrode, a drain electrode, and a ground electrode may be used as components of a thin film transistor (TFT) not shown in the drawing. The thin film transistor supplies a predetermined current to the organic light emitting diode according to the data voltage of the data line when a gate signal is input from the gate line in the pixel. Accordingly, the organic light emitting device of each of the pixels may emit light with a predetermined brightness according to a predetermined current. In the thin film transistor, a top gate (top gate) method in which a gate electrode is positioned on the active layer, a bottom gate (bottom gate) method in which a gate electrode is positioned under the active layer, or a gate electrode is active It may be formed in a double gate method positioned both above and below the layer. The source electrode, drain electrode, and ground electrode are each of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a single layer or a multilayer made of any one or an alloy thereof, but is not limited thereto. In addition, the second metal layer 240 is not limited to the source electrode, the drain electrode, and the ground electrode, and may be used for other electrodes and other purposes.

상기 제2 유기막(220)은 상기 제2 금속층(240)의 일부를 덮으며 상기 보호막(210) 일면에 배치된다. 상기 제2 유기막(220)은 상기 박막 트랜지스터로 인한 단차를 평탄하게 하기 위한 평탄화막으로 형성될 수 있다. 상기 제2 유기막(220)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.The second organic layer 220 covers a portion of the second metal layer 240 and is disposed on one surface of the passivation layer 210 . The second organic layer 220 may be formed as a planarization layer for flattening a step caused by the thin film transistor. The second organic film 220 is an organic film such as acrylic resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, polyimide resin, etc. can be formed.

상기 제1 전극(231)은 상기 제2 유기막(220), 상기 보호막(210) 및 상기 비표시영역(NDA)에 배치된 상기 제2 금속층(240)을 덮도록 형성될 수 있다. 상기 제1 전극(231)은 애노드 전극(anode electrode)일 수 있다. 상기 제1 전극(231)은 상기 보호막(210)과 상기 제2 유기막(220)을 관통하는 콘택홀(contact hole)을 통해 도면 상 도시하지 않은 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 접속된다. 상기 제1 전극(231)은 알루미늄과 티타늄의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), APC 합금, 및 APC 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/APC/ITO)과 같은 반사율이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. APC 합금은 은(Ag), 팔라듐(Pd), 및 구리(Cu)의 합금이다.The first electrode 231 may be formed to cover the second organic layer 220 , the passivation layer 210 , and the second metal layer 240 disposed in the non-display area NDA. The first electrode 231 may be an anode electrode. The first electrode 231 is connected to a drain electrode of the thin film transistor (not shown) through a contact hole penetrating the passivation layer 210 and the second organic layer 220 . The first electrode 231 has a stacked structure of aluminum and titanium (Ti/Al/Ti), a stacked structure of aluminum and ITO (ITO/Al/ITO), an APC alloy, and a stacked structure of APC alloy and ITO (ITO/ APC/ITO) may be formed of a high reflectance metal material. The APC alloy is an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu).

상기 뱅크(234)는 발광영역을 구획하기 위해 상기 제2 유기막(220) 상에서 상기 제1 전극(231)의 일부를 덮도록 형성될 수 있다. 상기 뱅크(234)는 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.The bank 234 may be formed to cover a portion of the first electrode 231 on the second organic layer 220 in order to partition an emission region. The bank 234 may be formed of an organic film such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin. have.

상기 제2 유기막 및 상기 제1 전극(231) 상에는 상기 유기발광소자(230)가 형성된다. 상기 유기발광소자(230)는 상기 제1 전극(231), 상기 제2 전극(232) 및 유기발광층(233)을 포함한다. 상기 제2 전극(232)은 캐소드 전극(cathode electrode)일 수 있다. 상기 유기발광층(233)은 상기 제1 전극(231)과 상기 댐(234) 상에 형성된다. 상기 유기발광층(233)은 정공 수송층(hole transporting layer), 적어도 하나의 발광층(light emitting layer), 및 전자 수송층(electron transporting layer)을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 제1 전극(231)과 상기 제2 전극(232)에 전압이 인가되면 정공과 전자가 각각 정공 수송층과 전자 수송층을 통해 발광층으로 이동하게 되며, 발광층에서 서로 결합하여 발광하게 된다.The organic light emitting device 230 is formed on the second organic layer and the first electrode 231 . The organic light emitting device 230 includes the first electrode 231 , the second electrode 232 , and an organic light emitting layer 233 . The second electrode 232 may be a cathode electrode. The organic light emitting layer 233 is formed on the first electrode 231 and the dam 234 . The organic light emitting layer 233 may include a hole transporting layer, at least one light emitting layer, and an electron transporting layer. In this case, when a voltage is applied to the first electrode 231 and the second electrode 232 , holes and electrons move to the emission layer through the hole transport layer and the electron transport layer, respectively, and combine with each other in the emission layer to emit light.

유기발광층(233)은 백색 광을 발광하는 백색 발광층으로 이루어질 수 있다. 이 경우, 제1 전극(231)과 뱅크(234)를 덮도록 형성될 수 있다. 이 경우 상기 기판(200) 상에는 도면 상에 도시 되지 않은 컬러필터가 형성될 수 있다.The organic light emitting layer 233 may be formed of a white light emitting layer emitting white light. In this case, it may be formed to cover the first electrode 231 and the bank 234 . In this case, a color filter not shown in the drawing may be formed on the substrate 200 .

유기발광층(233)은 적색 광을 발광하는 적색 발광층, 녹색 광을 발광하는 녹색 발광층, 또는 청색 광을 발광하는 청색 발광층으로 이루어질 수 있다. 이 경우, 유기발광층(233)는 제1 전극(231)에 대응되는 영역에 형성될 수 있으며, 상기 기판(200) 상에는 컬러필터가 형성되지 않을 수 있다.The organic emission layer 233 may include a red emission layer emitting red light, a green emission layer emitting green light, or a blue emission layer emitting blue light. In this case, the organic light emitting layer 233 may be formed in a region corresponding to the first electrode 231 , and a color filter may not be formed on the substrate 200 .

상기 제2 전극(232)은 유기발광층(233) 상에 형성된다. 유기발광표시장치가 상부 발광(top emission) 구조로 형성되는 경우, 제2 전극(232)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다. 제2 전극(232) 상에는 캡핑층(capping layer)이 형성될 수 있다.The second electrode 232 is formed on the organic light emitting layer 233 . When the organic light emitting display device is formed in a top emission structure, the second electrode 232 is a transparent metal material (TCO, Transparent Conductive Material) such as ITO or IZO that can transmit light, or magnesium (Mg). ), silver (Ag), or may be formed of a semi-transmissive conductive material such as an alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag). A capping layer may be formed on the second electrode 232 .

봉지막(250)은 상기 표시 영역(DA)에 형성된 유기발광소자(230)를 덮도록 형성되어 상기 유기발광소자(230)에 산소 또는 수분이 침투되는 것을 방지한다. 이때, 봉지막(250)은 적어도 하나의 무기막 및 적어도 하나의 유기막을 포함한다. 예를 들어, 봉지막(290)은 제1 봉지막(251), 제2 봉지막(252) 및 제3 봉지막(253)을 포함할 수 있고 상기 제1 봉지막(251) 및 상기 제3 봉지막(253)은 무기막으로서, 상기 제2 봉지막(252)은 유기막으로서 형성될 수 있다. 이 경우, 제1 봉지막(251)은 제2 전극(232)을 덮도록 형성된다. 제2 봉지막(252)은 제1 봉지막(251) 상에 형성되고, 제3 봉지막(253)은 제2 봉지막(252)을 덮도록 형성된다.The encapsulation layer 250 is formed to cover the organic light emitting device 230 formed in the display area DA to prevent oxygen or moisture from penetrating into the organic light emitting device 230 . In this case, the encapsulation layer 250 includes at least one inorganic layer and at least one organic layer. For example, the encapsulation film 290 may include a first encapsulation film 251 , a second encapsulation film 252 , and a third encapsulation film 253 , and the first encapsulation film 251 and the third encapsulation film 251 . The encapsulation layer 253 may be formed as an inorganic layer, and the second encapsulation layer 252 may be formed as an organic layer. In this case, the first encapsulation layer 251 is formed to cover the second electrode 232 . The second encapsulation film 252 is formed on the first encapsulation film 251 , and the third encapsulation film 253 is formed to cover the second encapsulation film 252 .

상기 제1 봉지막(251) 및 상기 제3 봉지막(253)은 실리콘 질화물, 알루미늄 질화물, 지르코늄 질화물, 티타늄 질화물, 하프늄 질화물, 탄탈륨 질화물, 실리콘 산화물, 알루미늄 산화물 또는 티타늄 산화물로 형성될 수 있다. 상기 제1 봉지막(251) 및 상기 제3 봉지막(253)은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 기법 또는 ALD(Atomic Layer Deposition) 기법으로 증착될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The first encapsulation layer 251 and the third encapsulation layer 253 may be formed of silicon nitride, aluminum nitride, zirconium nitride, titanium nitride, hafnium nitride, tantalum nitride, silicon oxide, aluminum oxide, or titanium oxide. The first encapsulation layer 251 and the third encapsulation layer 253 may be deposited using a chemical vapor deposition (CVD) technique or an atomic layer deposition (ALD) technique, but is not limited thereto.

상기 제2 봉지막(252)는 상기 유기발광층(253)에서 발광된 광을 통과시키기 위해 투명하게 형성될 수 있다. 상기 제2 봉지막(252)은 상기 유기발광층(253)에서 발광된 광을 99% 이상 통과시킬 수 있는 유기물질 예컨대, 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin) 또는 폴리이미드 수지(polyimide resin)로 형성될 수 있다. 유기막(292)은 유기물을 사용하는 기상 증착(vapour deposition), 프린팅(printing), 슬릿 코팅(slit coating) 기법으로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않으며, 상기 제2 봉지막(252)은 잉크젯(ink-jet) 공정으로 형성될 수도 있다.The second encapsulation layer 252 may be formed to be transparent to allow light emitted from the organic light emitting layer 253 to pass therethrough. The second encapsulation layer 252 is formed of an organic material capable of passing 99% or more of the light emitted from the organic light emitting layer 253, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, or a phenolic resin. ), polyamide resin or polyimide resin. The organic layer 292 may be formed by, but not limited to, vapor deposition, printing, or slit coating using an organic material, and the second encapsulation layer 252 may be formed by ink jetting. It can also be formed by an (ink-jet) process.

상기 댐(260)은 상기 표시 영역(DA)의 외곽을 둘러싸도록 형성되어 상기 봉지막(250)을 구성하는 상기 제2 봉지막(252)의 흐름을 차단한다. 또한, 상기 댐(260)은 상기 표시 영역(DA)과 패드 영역 사이에 배치되어 상기 봉지막(250)을 구성하는 상기 제2 봉지막(252)이 패드 영역을 침범하지 못하도록 상기 제2 봉지막(252)의 흐름을 차단한다. 이를 통해, 상기 댐(260)은 상기 제2 봉지막(252)이 표시장치의 외부로 노출되거나 패드 영역을 침범하는 것을 방지할 수 있다.The dam 260 is formed to surround the periphery of the display area DA to block the flow of the second encapsulation film 252 constituting the encapsulation film 250 . In addition, the dam 260 is disposed between the display area DA and the pad area to prevent the second encapsulation film 252 constituting the encapsulation film 250 from encroaching on the pad area. Block the flow of (252). Accordingly, the dam 260 may prevent the second encapsulation film 252 from being exposed to the outside of the display device or from encroaching on the pad area.

이러한 상기 댐(260)은 화소의 상기 제2 유기막(220) 또는 상기 뱅크(234)와 동시에 형성될 수 있으며, 상기 제2 유기막(220) 또는 상기 뱅크(234)와 같은 물질로 이루어질 수 있다. 이와 같은 경우, 상기 댐(260)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 물질로 형성될 수 있다.The dam 260 may be formed simultaneously with the second organic layer 220 or the bank 234 of the pixel, and may be made of the same material as the second organic layer 220 or the bank 234 . have. In this case, the dam 260 is formed of an organic material such as an acrylic resin, an epoxy resin, a phenolic resin, a polyamide resin, or a polyimide resin. can be formed with

상기 봉지막(250)은 상기 표시 영역(DA)과 상기 댐(260) 및 상기 얼라인 마크를 덮는다. 보다 구체적으로, 상기 봉지막(250)을 이루는 상기 제2 봉지막(252)은 상기 댐(260)에 의하여 흐름이 차단되므로, 상기 댐(260)과 같은 형상을 가진다.The encapsulation layer 250 covers the display area DA, the dam 260 and the alignment mark. More specifically, since the flow of the second encapsulation film 252 constituting the encapsulation film 250 is blocked by the dam 260 , it has the same shape as the dam 260 .

반면, 상기 봉지막(250)을 이루는 상기 제1 봉지막(251) 및 상기 제3 봉지막(253)은 마스크(mask)를 이용한 CVD 기법 또는 ALD 기법으로 증착되므로, 마스크(mask)의 형상에 따라 형성 영역이 달라진다. 예를 들어, 상기 제2 봉지막(253)을 CVD기법으로 증착하는 경우, 상기 제2 봉지막(252)이 형성된 기판 상에 마스크를 배치하고 제3 봉지막(253)을 구성하는 원소를 포함하는 가스를 기판 위에 공급한다. 상기 공급된 가스는 마스크가 형성되지 않은 영역, 즉, 마스크의 오픈 영역과 대응되는 영역의 기판 표면에서 화학적 반응이 일어나고, 이에 따라, 제3 봉지막(253)을 마스크의 오픈 영역과 대응되는 영역의 기판 표면에 형성하게 된다. 즉, 상기 제2 봉지막(253)은 마스크의 오픈 영역과 같은 형상을 가진다.On the other hand, since the first encapsulation film 251 and the third encapsulation film 253 constituting the encapsulation film 250 are deposited by a CVD method or an ALD method using a mask, the shape of the mask depends on the shape of the mask. The formation area varies accordingly. For example, when the second encapsulation layer 253 is deposited by a CVD method, a mask is disposed on the substrate on which the second encapsulation layer 252 is formed, and an element constituting the third encapsulation layer 253 is included. gas is supplied to the substrate. The supplied gas undergoes a chemical reaction on the surface of the substrate in the region where the mask is not formed, that is, in the region corresponding to the open region of the mask. Accordingly, the third encapsulation layer 253 is formed in the region corresponding to the open region of the mask. formed on the surface of the substrate. That is, the second encapsulation layer 253 has the same shape as the open area of the mask.

마스크는 일반적으로 습식 에칭(wet etching) 방법에 의하여 제조된다. 마스크는 오픈 영역의 에지부를 직각 또는 볼록한 곡선 형상으로 제조할 수 있다.The mask is generally manufactured by a wet etching method. The mask may be manufactured in the shape of a right angle or a convex curved edge portion of the open region.

도 6을 참조하면, 외부의 산소 및 수분 침투로 인한 표시장치의 성능 하락을 막기 위해 상기 봉지막(250)의 좌우 넓이와 상하 두께를 다르게 구성할 수 있다. 상기 봉지막(250)의 상하 두께는 도 6에서와 달리 충분히 두껍게 하여 표시장치 상측으로부터의 산소 및 수분 침투를 억제할 수 있다. 하지만 상기 봉지막(250)의 좌우 넓이 조절은 비표시영역(NDA)의 제한된 넓이로 한계가 있다. 이에 따라 상기 얼라인 마크를 구성하는 상기 제1 금속층(270) 및 상기 제1 유기막(221)으로의 산소 및 수분 침투는 억제하기 어렵다. 하지만 본 발명에 따른 다양한 실시예에 따르면 상기 얼라인 마크로의 산소 및 수분 침투에도 불구하고 상기 얼라인 마크를 구성하는 상기 제1 금속층(270) 및 상기 제1 유기막(221)을 상기 기판 위에서 산소 또는 수분의 침투 경로를 최대화하는 위치에 배치시킬 수 있다. 상기 산소 및 수분의 침투 경로는 상기 봉지막(250)과 상기 제1 유기막(221) 사이의 경로로 정의될 수 있다. 상기 댐(260), 상기 제2 금속층(240) 및 상기 제1 전극(231)으로의 투습 거리 증대는 상기 유기발광소자(230)로의 수분 및 산소 침투를 억제시킬 수 있고 상기 유기발광소자(230)로의 투습으로 인한 열화를 방지할 수 있다.Referring to FIG. 6 , in order to prevent deterioration in performance of the display device due to infiltration of external oxygen and moisture, the encapsulation film 250 may be configured to have different left and right widths and vertical thicknesses. Unlike in FIG. 6 , the upper and lower thicknesses of the encapsulation layer 250 may be sufficiently thick to suppress penetration of oxygen and moisture from the upper side of the display device. However, the left and right width adjustment of the encapsulation layer 250 is limited due to the limited width of the non-display area NDA. Accordingly, it is difficult to suppress the penetration of oxygen and moisture into the first metal layer 270 and the first organic layer 221 constituting the alignment mark. However, according to various embodiments of the present disclosure, the first metal layer 270 and the first organic layer 221 constituting the alignment mark are oxygenated on the substrate despite the penetration of oxygen and moisture into the alignment mark. Alternatively, it may be disposed at a position that maximizes the penetration path of moisture. The oxygen and moisture permeation path may be defined as a path between the encapsulation layer 250 and the first organic layer 221 . Increasing the moisture permeation distance to the dam 260 , the second metal layer 240 , and the first electrode 231 may suppress penetration of moisture and oxygen into the organic light emitting device 230 , and the organic light emitting device 230 . ) to prevent deterioration due to moisture permeation.

도 5를 참조하면, 상기 댐(260), 상기 제2 금속층(240) 및 상기 제1 전극(231)로의 투습거리를 극대화하기 위해 에지에서 둥근 사각 형상을 가진다. 보다 구체적으로, 상기 댐(260)은 제1 방향으로 형성된 제1 직선 구조물과 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 형성된 제2 직선 구조물이 연결되고, 연결되는 지점에서 일정한 곡률을 가지는 구조물을 가진다. 결과적으로, 상기 댐(260)은 에지(edge)가 둥근 사각 형상을 가진다.Referring to FIG. 5 , the dam 260 , the second metal layer 240 , and the first electrode 231 have a rounded rectangular shape at the edge to maximize the moisture permeation distance. More specifically, the dam 260 has a structure in which a first straight structure formed in a first direction and a second linear structure formed in a second direction perpendicular to the first direction are connected, and a structure having a constant curvature is formed at the connection point. . As a result, the dam 260 has a rectangular shape with rounded edges.

상기 댐(260)의 하부에는 상기 제2 금속층(240) 및 상기 제1 전극(231)이 배치될 수 있다. 상기 댐(260)이 에지에서 둥근 사각 형상을 가지는 것과 같이, 상기 제2 금속층(240) 및 상기 제1 전극(231) 역시 에지에서 둥근 사각 형상을 가질 수 있다. 도 5를 참조하면 상기 댐(260), 상기 제2 금속층(240) 및 상기 제1 전극(231)이 에지에서 곡률을 가진 채 휘어져 구성될 수 있다.The second metal layer 240 and the first electrode 231 may be disposed under the dam 260 . Just as the dam 260 has a rounded rectangular shape at the edge, the second metal layer 240 and the first electrode 231 may also have a rounded rectangular shape at the edge. Referring to FIG. 5 , the dam 260 , the second metal layer 240 , and the first electrode 231 may be bent while having a curvature at an edge thereof.

상기 제2 유기막(220)은 에지부가 제1 곡률을 가진 곡선 형상이다. 이 때, 제1 곡률은 0보다 크다.The second organic layer 220 has a curved shape with an edge portion having a first curvature. In this case, the first curvature is greater than zero.

상기 에지부 좌측 하단에는 얼라인 마크(align mark)가 위치한다. 상기 얼라인 마크는 도 5에 도시한 상기 에지부 뿐만 아니라 다른 에지부에도 위치할 수 있다. 상기 얼라인 마크는 제1 금속층(270) 및 상기 제1 금속층을 덮는 제1 유기막(221)에 의해 구성된다. 상기 제1 금속층(270)은 상기 얼라인 마크를 구성함에 있어 육안에 의해 또는 광학 기기에 의해 인식가능한 형상을 가질 수 있으며, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 제1 금속층(270)은 양각(embossed engraving)으로 상기 형상을 나타낸다. 즉, 도 5에 나타난 십자가 형상의 내부는 상기 제1 금속층(270)이 위치해 양각으로서 나타내고 이러한 상기 형상을 상기 제1 유기막(221)이 덮는다.An align mark is positioned at the lower left side of the edge part. The alignment mark may be located not only on the edge portion shown in FIG. 5 but also on other edge portions. The alignment mark is formed by a first metal layer 270 and a first organic layer 221 covering the first metal layer. The first metal layer 270 may have a shape recognizable by the naked eye or by an optical device in constituting the alignment mark, and the first metal layer 270 according to an embodiment of the present invention is embossed ( The shape is indicated by embossed engraving. That is, the first metal layer 270 is positioned and embossed inside the cross shape shown in FIG. 5 , and the first organic layer 221 covers this shape.

도 5에서와 같이 제1 곡률과는 상이한 그리고 제1 곡률보다 큰 제2 곡률을 가지며 원형으로 구성될 수 있다.As shown in FIG. 5 , it may have a second curvature different from the first curvature and greater than the first curvature and may be configured in a circular shape.

도 7 내지 도 8은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시장치로서 도 4 내지 도 6에 나타난 구성요소와 동일한 내용의 경우, 이하에서는 이들에 대한 설명을 생략하기로 한다. 7 to 8 are the display device according to another embodiment of the present invention, and in the case of the same content as the components shown in FIGS. 4 to 6 , a description thereof will be omitted below.

도 7은 도 4에 도시하지 않은 표시장치의 에지부인 B를 확대 도시한 도면이다. 도 7의 비표시영역(NDA)에는 패드들이 형성되는 패드 영역, 댐(260) 및 얼라인 마크(align mark)가 배치될 수 있다.FIG. 7 is an enlarged view of an edge portion B of the display device not shown in FIG. 4 . In the non-display area NDA of FIG. 7 , a pad area in which pads are formed, a dam 260 and an align mark may be disposed.

상기 얼라인 마크는 상기 기판(200)의 최외곽 에지부에 위치할 수 있다. 상기 얼라인 마크는 제1 금속층(270)에 의해 구성되고, 상기 제1 금속층(270)은 상기 얼라인 마크를 구성함에 있어 육안에 의해 또는 광학기기에 의해 인식가능한 형상을 나타내며,도 7는 예시적으로 십자가의 형상을 나타냈다. 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시장치는 상기 제1 금속층(270)이 상기 형상을 나타냄에 있어 상기 형상의 테두리부에 위치하고, 상기 테두리부를 통해 음각으로 상기 형상을 나타낼 수 있다. 상기 제1 금속층(270)이 나타내는 특정한 형상은 도 7의 십자가에 국한되지 않으며 다양한 형태로 나타낼 수 있다.The alignment mark may be located at the outermost edge of the substrate 200 . The alignment mark is constituted by a first metal layer 270, and the first metal layer 270 represents a shape recognizable by the naked eye or by an optical device in constituting the alignment mark, FIG. 7 is an example It was shown in the shape of a cross. In the display device according to another embodiment of the present invention, when the first metal layer 270 represents the shape, the first metal layer 270 may be positioned on the edge of the shape, and the shape may be represented by an intaglio through the edge part. The specific shape represented by the first metal layer 270 is not limited to the cross of FIG. 7 and may be represented in various forms.

도 8은 도 7의 III-III'선을 따른 표시장치를 도시한 도면이다. III-III'선은 상기 얼라인 마크, 곡률을 가진 에지부 구성요소를 가로지르는 선이다. 특히 상기 얼라인 마크의 상기 형상을 나타낸 가로지르며, 상기 형상의 중심을 지나가도록 배치되었다.FIG. 8 is a view illustrating a display device taken along line III-III' of FIG. 7 . The line III-III' is the line crossing the alignment mark, the curvature edge part component. In particular, the alignment marks were arranged to cross the shape of the alignment mark and pass through the center of the shape.

도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치는, 기판(210), 상기 기판(210)상에 배치된 보호막(210), 상기 기판(210)의 비표시영역(NDA)에 배치된 얼라인 마크와 상기 얼라인 마크는 상기 기판 위에서 산소 또는 수분의 침투 경로를 최대해화 하는 위치를 가지도록 구성될 수 있다.Referring to FIG. 8 , a display device according to another exemplary embodiment includes a substrate 210 , a protective layer 210 disposed on the substrate 210 , and a non-display area NDA of the substrate 210 . The alignment mark and the alignment mark disposed on the substrate may be configured to have a position that maximizes the penetration path of oxygen or moisture on the substrate.

도시 하지 않았지만 본 발명의 다양한 실시예에 따른 표시장치는 특징적인 제조 공정을 가질 수 있다.Although not shown, the display device according to various embodiments of the present disclosure may have a characteristic manufacturing process.

상기 기판(200) 상 상기 비표시영역(NDA)에 상기 얼라인 마크를 형성할 수 있다. 이 때, 상기 얼라인 마크의 형상을 형성하는데 상기 제1 금속층(270)이 사용되며, 제1 도전막을 형성한 후 포토리소그래피공정(photolithography) 공정을 이용하여 상기 제1 도전막을 선택적으로 패터닝함으로써 상기 기판(200) 상부에 상기 제1 금속층(270)을 형성한다. The alignment mark may be formed in the non-display area NDA on the substrate 200 . At this time, the first metal layer 270 is used to form the shape of the alignment mark, and after forming the first conductive layer, the first conductive layer is selectively patterned using a photolithography process. The first metal layer 270 is formed on the substrate 200 .

여기서 상기 제1 도전막으로, 예를 들어 예를 들어 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(Al alloy), 텅스텐(W), 구리(Cu), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo)과 같은 저저항 도전물질로 이루어질 수 있다.Here, as the first conductive layer, for example, low-resistance conductive material such as aluminum (Al), aluminum alloy (Al alloy), tungsten (W), copper (Cu), chromium (Cr), or molybdenum (Mo). It can be made of material.

추가적으로 상기 제1 금속층(270)을 형성하는 공정은 편의를 위해 제1 공정으로 지칭될 수 있다.Additionally, the process of forming the first metal layer 270 may be referred to as a first process for convenience.

상기 제1 공정은 상기 비표시영역(NDA)에 위치한 상기 제1 금속층(270) 뿐 아니라 상기 얼라인 마크와 이격거리를 가지며 소스, 드레인 및 그라운드 전극으로 사용될 수 있는 상기 제2 금속층(240)을 형성하는 공정을 포함할 수 있다.In the first process, not only the first metal layer 270 located in the non-display area NDA, but also the second metal layer 240 having a separation distance from the alignment mark and used as source, drain, and ground electrodes is performed. It may include a forming process.

상기 제1 공정은 상기 제1 도전막을 형성한 후 포토리소그래피공정을 진행하며, 상기 제1 금속층(270)을 선택적으로 형성할 뿐 아니라 상기 제2 금속층(240) 역시 선택적으로 형성할 수 있다.In the first process, a photolithography process is performed after forming the first conductive layer, and not only the first metal layer 270 but also the second metal layer 240 may be selectively formed.

상기 제1 금속층(270) 및 상기 제2 금속층(240)의 형성은 동시에 이루어질 수 있고, 동일한 물질로 이루어질 수 있다.The first metal layer 270 and the second metal layer 240 may be formed at the same time and may be made of the same material.

다음으로, 상기 제1 공정 이후, 상기 제1 금속층(270)이 형성된 상기 기판(200)의 전면에 제 2 도전막을 형성한 후, 포토리소그래피공정을 이용하여 상기 제2 도전막을 선택적으로 패터닝함으로써 상기 제1 금속층(270) 상부에 상기 제2 도전막으로 이루어진 상기 제1 유기막(221, 22)을 형성할 수 있다.Next, after the first process, a second conductive film is formed on the entire surface of the substrate 200 on which the first metal layer 270 is formed, and then the second conductive film is selectively patterned using a photolithography process. The first organic layers 221 and 22 including the second conductive layer may be formed on the first metal layer 270 .

여기서 상기 제2 도전막으로, 예를 들어 평탄화 특성이 우수하며 감광성(photosensitivity)을 가지는 유기 물질로 이루어질 수 있다.Here, the second conductive layer may be formed of, for example, an organic material having excellent planarization characteristics and photosensitivity.

추가적으로 상기 제1 유기막(221, 222)을 형성하는 공정은 편의를 위해 제2 공정으로 지칭될 수 있다.Additionally, the process of forming the first organic layers 221 and 222 may be referred to as a second process for convenience.

상기 제2 공정은 상기 비표시영역(NDA)에 위치한 상기 제1 유기막(221, 222) 뿐 아니라 상기 제2 금속층(240)을 덮으며 얼라인 마크와 이격거리를 가지는 상기 제2 유기막(220)을 형성하는 공정을 포함할 수 있다.In the second process, the second organic layer covering the second metal layer 240 as well as the first organic layers 221 and 222 positioned in the non-display area NDA and having a separation distance from the alignment mark ( 220) may include a process of forming.

상기 제2 공정은 상기 제2 도전막을 형성한 후 포토리소그래피공정을 진행하며, 상기 제1 유기막(221, 222)을 선택적으로 형성할 뿐 아니라 상기 제2 유기막(220) 역시 선택적으로 형성할 수 있다.In the second process, a photolithography process is performed after forming the second conductive film, and the first organic films 221 and 222 are selectively formed as well as the second organic film 220 is selectively formed. can

상기 제1 유기막(221, 222) 및 상기 제2 유기막(220)의 형성은 동시에 이루어질 수 있고, 동일한 물질로 이루어질 수 있다.The first organic layers 221 and 222 and the second organic layer 220 may be formed at the same time, and may be made of the same material.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서의 실시예들을 상세하게 설명하였으나, 본 명세서는 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 그 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 당업자에 의해 기술적으로 다양하게 연동 및 구동될 수 있으며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시되거나 연관 관계로 함께 실시될 수도 있다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present specification have been described in detail with reference to the accompanying drawings, the present specification is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made without departing from the technical spirit thereof. Therefore, the embodiments disclosed in the present specification are for explanation rather than limiting the technical spirit of the present invention, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, and may be technically variously linked and operated by those skilled in the art, and each embodiment may be implemented independently of each other or together in a related relationship. may be carried out. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100 : 기판
110 : 보호막
121 : 제1 유기막
122 : 제2 유기막
131 : 제1 전극
132 : 제2 전극
133 : 유기발광층
134 : 뱅크
140 : 제2 금속층
151 : 제1 봉지막
152 : 제2 봉지막
153 : 제3 봉지막
160 : 댐
170 : 제1 금속층
200 : 기판
210 : 보호막
220 : 제2 유기막
221, 222 : 제1 유기막
231 : 제1 전극
232 : 제2 전극
233 : 유기발광층
234 : 뱅크
240 : 제2 금속층
251 : 제1 봉지막
252 : 제2 봉지막
253 : 제3 봉지막
260 : 댐
270 : 제1 금속층
100: substrate
110: shield
121: first organic layer
122: second organic layer
131: first electrode
132: second electrode
133: organic light emitting layer
134: bank
140: second metal layer
151: first encapsulation film
152: second encapsulation film
153: third encapsulation film
160: dam
170: first metal layer
200: substrate
210: Shield
220: second organic film
221, 222: first organic layer
231: first electrode
232: second electrode
233: organic light emitting layer
234 : bank
240: second metal layer
251: first encapsulation film
252: second encapsulation film
253: third encapsulation film
260: dam
270: first metal layer

Claims (16)

화소들이 배치된 표시영역 및 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역을 포함하는 기판;
상기 기판의 비표시영역에 배치된 제1 금속층;
상기 제1 금속층을 덮는 제1 유기막; 및
상기 기판의 일부를 덮는 제2 유기막을 포함하고,
상기 제1 금속층 및 상기 제1 유기막은 얼라인 마크(align mark)를 구성하고,
상기 얼라인 마크의 상기 제1 금속층 및 상기 제1 유기막은 상기 기판 위에서 산소 또는 수분의 침투 경로를 최대화하는 위치를 가지고,
상기 제2 유기막은 평면 상 다수의 에지(Edge)부를 가지며, 상기 얼라인 마크가 근접한 적어도 하나의 에지부에서 제1 곡률을 가지고,
상기 제1 유기막은 평면 상 상기 제1 곡률과 상이한 제2 곡률을 가지는, 표시장치.
a substrate including a display area on which pixels are disposed and a non-display area surrounding the display area;
a first metal layer disposed in a non-display area of the substrate;
a first organic layer covering the first metal layer; and
a second organic layer covering a portion of the substrate;
The first metal layer and the first organic layer constitute an align mark,
The first metal layer and the first organic layer of the alignment mark have a position on the substrate to maximize the penetration path of oxygen or moisture,
The second organic layer has a plurality of edge portions on a plane, and has a first curvature at at least one edge portion adjacent to the alignment mark;
The display device of claim 1, wherein the first organic layer has a second curvature different from the first curvature on a plane.
제1 항에 있어서,
상기 기판을 덮는 봉지막을 더 포함하고,
상기 봉지막은 상기 제1 유기막을 덮고, 상기 산소 또는 수분의 침투 경로는 상기 봉지막과 상기 제1 유기막 사이의 경로로 정의되는, 표시장치.
According to claim 1,
Further comprising an encapsulation film covering the substrate,
The encapsulation layer covers the first organic layer, and the permeation path of the oxygen or moisture is defined as a path between the encapsulation layer and the first organic layer.
제1 항에 있어서,
상기 제1 금속층은 상기 얼라인 마크를 구성함에 있어 육안에 의해 또는 광학 기기에 의해 인식가능한 형상을 가지는 표시장치.
According to claim 1,
The first metal layer has a shape recognizable by the naked eye or by an optical device in constituting the alignment mark.
제2 항에 있어서,
상기 제1 금속층은 양각(embossed engraving)으로 상기 얼라인 마크의 형상을 나타내는 표시장치.
3. The method of claim 2,
The first metal layer is embossed engraving to indicate the shape of the alignment mark.
제2 항에 있어서,
상기 제1 금속층은 상기 얼라인 마크의 형상을 나타냄에 있어 상기 얼라인 마크의 형상의 테두리부에 위치하고, 상기 테두리부를 통해 음각(depressed engraving)으로 상기 얼라인 마크의 형상을 나타내는 표시장치.
3. The method of claim 2,
In representing the shape of the alignment mark, the first metal layer is positioned on an edge of the shape of the alignment mark, and the display device represents the shape of the alignment mark by depressed engraving through the edge.
제2 항에 있어서,
상기 기판의 표시영역에 배치되어 소스, 드레인 및 그라운드 전극으로 사용될 수 있는 제2 금속층; 및
상기 제1 금속층은 상기 제2 금속층과 동일한 구성을 가지는 표시장치.
3. The method of claim 2,
a second metal layer disposed on the display area of the substrate and used as source, drain, and ground electrodes; and
The first metal layer has the same configuration as the second metal layer.
화소들이 배치된 표시영역 및 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역을 포함하는 기판;
상기 비표시영역에 배치된 얼라인 마크(align mark);
상기 얼라인 마크의 형상을 구성하는 제1 금속층;
상기 제1 금속층을 덮는 제1 유기막;
상기 얼라인 마크를 제외한 상기 기판의 일부를 덮는 제2 유기막; 및
상기 제2 유기막은 평면 상 다수의 에지(Edge)부를 가지며, 상기 얼라인 마크가 근접한 적어도 하나의 에지부에서 제1 곡률을 가지고,
상기 제1 유기막은 평면 상 상기 제1 곡률과 상이한 제2 곡률을 가지는 표시장치.
a substrate including a display area on which pixels are disposed and a non-display area surrounding the display area;
an align mark disposed on the non-display area;
a first metal layer constituting a shape of the alignment mark;
a first organic layer covering the first metal layer;
a second organic layer covering a portion of the substrate except for the alignment mark; and
The second organic layer has a plurality of edge portions on a plane, and has a first curvature at at least one edge portion adjacent to the alignment mark;
The first organic layer has a second curvature different from the first curvature in a plan view.
제7 항에 있어서,
상기 제1 유기막은 상기 제2 유기막과 맞닿지 아니하게 상기 기판을 덮는 표시장치.
8. The method of claim 7,
The first organic layer covers the substrate so as not to contact the second organic layer.
삭제delete 제7 항에 있어서,
상기 제1 유기막은 평면 상 상기 제2 곡률로 휘어져 원형으로 형성된 표시장치.
8. The method of claim 7,
The first organic layer is curved at the second curvature on a plane to have a circular shape.
제7 항에 있어서,
상기 제1 곡률은 0보다 큰 곡률을 가지는 표시장치.
8. The method of claim 7,
The first curvature has a curvature greater than zero.
제7 항에 있어서,
상기 기판의 소스, 드레인 및 그라운드 전극으로 사용될 수 있는 제2 금속층;
상기 제2 금속층의 일부를 덮는 제1 전극; 및
상기 비표시영역에 배치된 댐(dam)을 포함하는 표시장치.
8. The method of claim 7,
a second metal layer that can be used as a source, drain, and ground electrode of the substrate;
a first electrode covering a portion of the second metal layer; and
and a dam disposed in the non-display area.
제12 항에 있어서,
상기 제2 금속층, 상기 제1 전극 및 상기 댐은 상기 에지부에서 곡률을 가지며 휘어지는 표시장치.
13. The method of claim 12,
The second metal layer, the first electrode, and the dam have a curvature at the edge portion and are bent.
기판 상 비표시영역에 얼라인 마크의 형상을 형성하는데 사용되는 제1 금속층을 형성하고, 상기 기판 상에 제1 금속층과 이격거리를 가지며 소스, 드레인 및 그라운드 전극으로 사용될 수 있는 제2 금속층을 형성하는 제1 공정; 및
상기 제1 공정 이후 상기 제1 금속층을 덮는 제1 유기막을 형성하고, 상기 제2 금속층의 일부를 덮는 제2 유기막을 형성하는 제2 공정을 포함하고,
상기 제2 유기막은 평면 상 다수의 에지(Edge)부를 가지며, 상기 얼라인 마크가 근접한 적어도 하나의 에지부에서 제1 곡률을 가지고,
상기 제1 유기막은 평면 상 상기 제1 곡률과 상이한 제2 곡률을 가지는 표시장치의 제조방법.
A first metal layer used to form an alignment mark shape is formed in a non-display area on a substrate, and a second metal layer that is spaced apart from the first metal layer and can be used as source, drain, and ground electrodes is formed on the substrate. a first process; and
a second step of forming a first organic layer covering the first metal layer after the first step and forming a second organic layer covering a part of the second metal layer;
The second organic layer has a plurality of edge portions on a plane, and has a first curvature at at least one edge portion adjacent to the alignment mark;
The method of manufacturing a display device, wherein the first organic layer has a second curvature different from the first curvature on a plane.
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