KR102401014B1 - 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 품질 향상 및 공정이 단순화된 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법을 위하여, 일 면과 상기 일 면과 반대되는 측의 타 면을 가지며, 상기 일 면 상에 각각이 디스플레이부를 갖는 복수개의 셀들이 형성된 원장 상태의 디스플레이 패널을 형성하는 단계, 상기 디스플레이 패널의 상기 일 면 상에, 제1 점착층을 사이에 두고 제1 보호 필름을 부착하는 단계, 상기 디스플레이 패널의 상기 타 면 상에, 제2 점착층을 사이에 두고 제2 보호 필름을 부착하는 단계 및 상기 복수개의 셀들 사이에 대응하도록 상기 제1 파장을 갖는 레이저를 조사하여 상기 디스플레이 패널을 커팅하는 단계를 포함하고, 상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 상기 제1 파장과 동일한 파장의 광을 흡수하는 흡수제를 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법을 제공한다.
Description
본 발명은 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 품질 향상 및 공정이 단순화된 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
최근 플렉서블 디스플레이 장치에 관한 관심이 높아짐에 따라 이에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이러한 플렉서블 디스플레이 장치는 휴대폰 등과 같은 소형 제품의 디스플레이부로 사용되기도 하고, 텔레비전 등과 같은 대형 제품의 디스플레이부로 사용되기도 한다.
한편 플렉서블 디스플레이 장치를 구현하기 위해서는 종래의 글라스재 기판이 아닌 합성 수지 등과 같은 재질의 플렉서블 기판을 이용한다. 이러한 플렉서블 기판은 플렉서블 특성을 갖기에, 제조과정에서 핸들링이 용이하지 않아 충분한 강성(rigidity)을 갖는 지지 기판 상에 플렉서블 기판을 형성하여 제조 과정에서 플렉서블 기판이 평평한 상태를 유지하도록 한다.
이러한 지지 기판과 플렉서블 기판은 복수개의 플렉서블 디스플레이 패널을 동시에 제조할 수 있도록 원장 상태로 구비되며, 지지 기판과 플렉서블 기판을 분리하기 이전 또는 분리한 이후에 절단되어 개별의 플렉서블 디스플레이 패널로 분리된다.
그러나 이러한 종래의 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법에는, 우너장 상태에서 개별의 플렉서블 디스플레이 패널로 분리하는 과정에서 레이저를 이용한 커팅 과정을 거치는데, 이때 레이저 투과에 의해 플렉서블 디스플레이 패널이 열에 의해 손상되고 흄(Fume)발생하는 등의 문제점이 존재하였다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 품질 향상 및 공정이 단순화된 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 관점에 따르면, 일 면과 상기 일 면과 반대되는 측의 타 면을 가지며, 상기 일 면 상에 각각이 디스플레이부를 갖는 복수개의 셀들이 형성된 원장 상태의 디스플레이 패널을 형성하는 단계, 상기 디스플레이 패널의 상기 일 면 상에, 제1 점착층을 사이에 두고 제1 보호 필름을 부착하는 단계, 상기 디스플레이 패널의 상기 타 면 상에, 제2 점착층을 사이에 두고 제2 보호 필름을 부착하는 단계 및 상기 복수개의 셀들 사이에 대응하도록 상기 제1 파장을 갖는 레이저를 조사하여 상기 디스플레이 패널을 커팅하는 단계를 포함하고, 상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 상기 제1 파장과 동일한 파장의 광을 흡수하는 흡수제를 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법을 제공한다.
본 실시예에 따르면, 상기 레이저를 조사하여 상기 디스플레이 패널을 커팅하는 단계는, 상기 제1 보호 필름 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 제1 보호 필름을 커팅하는 단계, 상기 제1 점착층 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 상기 제1 점착층을 커팅하는 단계, 상기 복수개의 셀들 사이 영역에 레이저를 조사하여 상기 셀들을 커팅하는 단계, 상기 제2 점착층 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 상기 제2 점착층을 커팅하는 단계 및 상기 제2 보호 필름 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 상기 제2 보호 필름을 커팅하는 단계를 포함할 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 보호 필름 및 상기 제2 보호 필름은 제1 두께를 갖도록 형성되고, 상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 상기 제1 두께와 동일하거나 상기 제1 두께보다 두꺼운, 제2 두께를 갖도록 형성될 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 두께는 10 ㎛ 내지 100 ㎛로 형성되고, 상기 제2 두께는 10 ㎛ 내지 200 ㎛로 형성될 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질을 포함할 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 파장은 자외선(UV) 영역의 파장일 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 파장은 적외선(IR) 영역의 파장일 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 상기 제1 파장의 광에 대하여 0.1% 내지 1%의 투과율을 가질 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 보호 필름 및 상기 제2 보호 필름은 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 설파이드(PES; polyethylene sulfide), 폴리에틸렌(PE; polyethylene) 중 어느 하나의 물질로 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 관점에 따르면, 일 면과 상기 일 면과 반대되는 측의 타 면을 갖는, 플렉서블 기판, 상기 플렉서블 기판의 상기 일 면 상에 배치된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 발광 소자, 상기 플렉서블 기판의 상기 타 면 상에 배치된 보호 필름 및 상기 플렉서블 기판과 상기 보호 필름 사이에 개재되고, 제1 파장의 광을 흡수하는 흡수제를 포함하는, 점착층을 구비하는, 플렉서블 디스플레이 장치가 제공된다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 파장은 자외선(UV) 영역의 파장일 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 파장은 적외선(IR) 영역의 파장일 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 보호 필름은 제1 두께를 가지며, 상기 점착층은 제1 두께와 동일하거나 제1 두께보다 두꺼운, 제2 두께를 가질 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 제1 두께는 10 ㎛ 내지 100 ㎛로 형성되고, 상기 제2 두께는 10 ㎛ 내지 200 ㎛로 형성될 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 점착층은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질을 포함할 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 점착층은 상기 제1 파장의 광에 대하여 0.1% 내지 1%의 투과율을 가질 수 있다.
본 실시예에 따르면, 상기 보호 필름은 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 설파이드(PES; polyethylene sulfide), 폴리에틸렌(PE; polyethylene) 중 어느 하나의 물질로 형성될 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
이러한 일반적이고 구체적인 측면이 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램, 또는 어떠한 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램의 조합을 사용하여 실시될 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 품질 향상 및 공정이 단순화된 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법을 구현할 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 커팅 전 원장 상태의 플렉서블 디스플레이 장치를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ 선을 따라 취한 단면을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 3 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 과정 중 커팅 공정을 개략적으로 도시한 단면도들이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 디스플레이 패널의 내부 구조를 확대하여 도시한 단면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 10은 도 9의 플렉서블 디스플레이 장치의 디스플레이 패널의 구조를 구체적으로 도시하여 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ 선을 따라 취한 단면을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 3 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 과정 중 커팅 공정을 개략적으로 도시한 단면도들이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 디스플레이 패널의 내부 구조를 확대하여 도시한 단면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 10은 도 9의 플렉서블 디스플레이 장치의 디스플레이 패널의 구조를 구체적으로 도시하여 나타낸 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
한편, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. 또한, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 다른 부분의 "바로 위에" 또는 "바로 상에" 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 커팅 전 원장 상태의 플렉서블 디스플레이 장치를 개략적으로 도시하는 사시도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ 선을 따라 취한 단면을 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법은, 먼저 지지 기판(미도시) 상에 디스플레이 패널(100)을 형성하는 단계를 거친다. 도면에서는 디스플레이 패널(100)이 지지 기판에서 분리된 상태를 도시하고 있으나, 디스플레이 패널(100)을 지지하는 플렉서블 기판(110, 도 3참조)이 플렉서블한 특성을 갖기에, 제조 과정에서 이를 지지할 수 있는 충분한 강성(Rigidity)를 갖는 지지 기판 상에서 디스플레이 패널(100)을 형성할 수 있다. 디스플레이 패널(100)은 일 면과 일 면에 반대되는 측의 타 면을 갖도록 형성될 수 있는데, 일 면 상에는 각각이 디스플레이부를 갖는 복수개의 셀(C)들이 형성될 수 있고, 타 면은 지지 기판과 접촉하는 면일 수 있다.
도면에 도시되어 있지는 않으나, 디스플레이 패널(100)을 제조하는 과정은, 먼저 지지 기판 상에 플렉서블 기판(110)을 형성할 수 있다. 이때 경우에 따라 지지 기판과 플렉서블 기판(110) 사이에 희생층(미도시) 등을 더 형성할 수도 있다. 희생층은 지지 기판 상에 디스플레이 패널(100)이 형성된 후 디스플레이 패널(100)을 지지 기판에서 분리할 때, 디스플레이 패널(100)이 지지 기판으로부터 용이하게 분리되도록 하는 역할을 수행한다. 이러한 희생층은 디스플레이 패널(100)이 지지 기판으로부터 분리되는 방법에 따라 다양한 물질로 형성될 수 있다.
한편, 디스플레이 패널(100)에는 각각이 디스플레이부를 갖는 복수개의 셀(C)들이 형성될 수 있다. 이러한 디스플레이부는 액정 디스플레이부일 수도 있고, 유기발광 디스플레이부일 수도 있다. 본 실시예에서는 유기발광 디스플레이부를 구비한 경우에 대하여 설명한다. 복수개의 셀(C)들은 도 1에 도시된 것과 같이 원장 상태로 형성될 수 있다. 이와 같이 복수개의 셀(C)들을 한꺼번에 형성한 후, 이를 커팅하여 각각 플렉서블 디스플레이 장치에 구비된다. 디스플레이 패널(100)의 상세한 구조는 도 3의 설명에서 자세히 후술한다.
이와 같이 디스플레이 패널(100)을 형성한 후, 디스플레이 패널(100)의 일 면 상에 제1 보호 필름(310)을 부착하는 단계를 거칠 수 있다. 제1 보호 필름(310)은 제1 두께(t1)를 갖도록 형성될 수 있으며, 제1 두께(t1)는 예컨대 10 ㎛ 내지 100 ㎛로 형성될 수 있다. 제1 보호 필름(310)은 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 설파이드(PES; polyethylene sulfide), 폴리에틸렌(PE; polyethylene) 중 어느 하나의 물질로 형성될 수 있다.
이때 디스플레이 패널(100)과 제1 보호 필름(310) 사이에는 제1 점착층(210)이 형성될 수 있다. 제1 점착층(210)은 디스플레이 패널(100)의 일 면 상에 직접 형성될 수도 있고, 제1 보호 필름(310)과 일체(一體)로 형성될 수도 있다. 제1 점착층(210)이 제1 보호 필름(310)과 일체로 형성되는 경우에는, 제1 점착층(210)이 디스플레이 패널(100)의 일 면에 접하도록 디스플레이 패널(100)의 일 면 상에 제1 보호 필름(310)을 부착할 수 있다.
이러한 제1 점착층(210)은 제1 파장(L)의 광을 흡수하는 흡수제를 포함할 수 있다. 이때 제1 파장(L)은 후술하는 레이저(400)를 이용한 셀 커팅 단계에서의 레이저(400)의 파장과 동일한 파장일 수 있다. 본 실시예에 있어서, 제1 파장(L)은 자외선(UV) 영역의 파장일 수 있으며, 또는 적외선(IR) 영역의 파장일 수도 있다.
한편, 제1 점착층(210)은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질을 포함하도록 형성할 수 있다. 제1 점착층(210)은 박막 봉지층(160, 도 3참조)에 부착되어 공정을 진행하는 동안 부착이 유지되어야 하며, 후술할 셀 커팅 공정이 완료되면 벗겨 내어 다른 기능성층을 부착하여야 하므로, 점착력의 상/하한선이 필요하게 된다. 제1 점착층(210)은 대략 1 내지 50gf/inch. 의 점착력을 가질 수 있다. 제1 점착층(210)이 50gf/inch. 을 초과하는 점착력을 가지게 되면, 공정 진행 중 제1 보호 필름(310)의 벗겨짐/외곽부 떨어짐 현상 또는 제1 보호 필름(310)의 제거시 박막 봉지층(160)의 손상(표면 막 박리 등)을 야기하게 된다.
또한 제1 점착층(210)은 제2 두께(t2)를 갖도록 형성될 수 있으며, 제2 두께(t2)는 제1 보호 필름(310)의 제1 두께(t1)보다 두껍게 형성될 수 있다. 예컨대 제2 두께(t2)는 대략 10 ㎛ 내지 200 ㎛로 형성될 수 있다.
그 후, 디스플레이 패널(100)을 지지 기판으로부터 분리시키는 과정을 거칠 수 있다. 제1 보호 필름(310)은 이와 같이 디스플레이 패널(100)을 지지 기판으로부터 분리시키는 과정에서 디스플레이 패널(100)의 일 면에 배치된 부재들이 손상되지 않도록 보호하는 기능을 할 수 있다. 디스플레이 패널(100)을 지지 기판으로 분리시키는 방법은 예컨대, 레이저(400)를 이용하는 방법, 식각액을 이용하는 방법, 물리적 박리를 통해 분리하는 방법 등 해당 기술분야에서 알려진 다양한 방법들을 이용할 수 있다.
지지 기판으로부터 분리된 디스플레이 패널(100)의 타 면 상에는 제2 보호 필름(320)을 부착하는 단계를 거칠 수 있다. 지지 기판으로부터 분리된 디스플레이 패널(100)은 플렉서블 기판(110) 상에 각종 소자들이 형성된 형태가 되는데, 이러한 플렉서블 기판(110)은 외부 환경에 민감한 특성을 갖는다. 따라서 후속 공정들에서 디스플레이 패널(100)을 보호하기 위해 디스플레이 패널(100)의 타 면 상에 제2 보호 필름(320)을 부착할 수 있다. 이러한 제2 보호 필름(320)은 디스플레이 패널(100)을 지지 기판으로부터 분리한 후, 디스플레이 패널(100)의 플렉서블 기판(110)이 손상되는 것을 방지하고, 플렉서블 기판(110) 측으로 불순물 등이 유입되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다.
제2 보호 필름(320)은 제1 두께(t1)를 갖도록 형성될 수 있으며, 제1 두께(t1)는 예컨대 10 ㎛ 내지 100 ㎛로 형성될 수 있다. 제2 보호 필름(320)은 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 설파이드(PES; polyethylene sulfide), 폴리에틸렌(PE; polyethylene) 중 어느 하나의 물질로 형성될 수 있다.
이때 디스플레이 패널(100)과 제2 보호 필름(320) 사이에는 제2 점착층(220)이 형성될 수 있다. 제2 점착층(220)은 디스플레이 패널(100)의 타 면 상에 직접 형성될 수도 있고, 제2 보호 필름(320)과 일체(一體)로 형성될 수도 있다. 제2 점착층(220)이 제2 보호 필름(320)과 일체로 형성되는 경우에는, 제2 점착층(220)이 디스플레이 패널(100)의 타 면에 접하도록 디스플레이 패널(100)의 타 면 상에 제2 보호 필름(320)을 부착할 수 있다. 이러한 제2 점착층(220)은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질을 포함하도록 형성할 수 있다.
또한 제2 점착층(220)은 제2 두께(t2)를 갖도록 형성될 수 있으며, 제2 두께(t2)는 제2 보호 필름(320)의 제1 두께(t1)보다 두껍게 형성될 수 있다. 예컨대 제2 두께(t2)는 대략 10 ㎛ 내지 200 ㎛로 형성될 수 있다.
이러한 제2 점착층(220)은 제1 파장(L)의 광을 흡수하는 흡수제를 포함할 수 있다. 이때 제1 파장(L)은 후술하는 레이저(400)를 이용한 셀 커팅 단계에서의 레이저(400)의 파장과 동일한 파장일 수 있다. 본 실시예에 있어서, 제1 파장(L)은 자외선(UV) 영역의 파장일 수 있으며, 또는 적외선(IR) 영역의 파장일 수도 있다.
이와 같이 디스플레이 패널(100)의 일 면 상에 제1 보호 필름(310) 및 제1 점착층(210), 디스플레이 패널(100)의 타 면 상에 제2 보호 필름(320) 및 제2 점착층(220)이 각각 부착된 디스플레이 패널(100) 조립체(500)가 형성될 수 있다. 이러한 디스플레이 패널(100) 조립체(500)에 레이저(400)를 조사하여 디스플레이 패널(100)의 상에 형성된 복수개의 셀(C)들을 커팅하는 단계를 거칠 수 있다. 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 단계는, 도 1 및 도 2에 도시된 것과 같이, 셀(C)들 사이에 형성된 커팅 라인(CL)을 따라 커팅될 수 있다.
디스플레이 패널(100)을 커팅하는 단계에서 사용되는 레이저(400)는 제1 파장(L)을 가질 수 있다. 이때 제1 파장(L)은 상술한 제1 점착층(210) 및 제2 점착층(220)에 포함된 흡수제가 흡수하는 광의 파장과 동일한 파장일 수 있다. 즉, 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 레이저(400)가 자외선(UV) 영역의 파장을 갖는 레이저(400)인 경우에는 제1 점착층(210) 및 제2 점착층(220)에 포함된 흡수제 역시 자외선(UV) 영역의 파장을 흡수하는 흡수제이고, 다른 실시예로 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 레이저(400)가 적외선(IR) 영역의 파장을 갖는 레이저(400)인 경우에는 제1 점착층(210) 및 제2 점착층(220)에 포함된 흡수제 역시 적외선(IR) 영역의 파장을 흡수하는 흡수제일 수 있다.
도 1 및 도 2에서는 레이저(400)가 제1 보호 필름(310) 측에서 제2 보호 필름(320) 방향(-Z 방향)으로 조사되는 것으로 도시되어 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 경우에 따라서는 레이저(400)가 제2 보호 필름(320) 측에서 제1 보호 필름(310) 방향(+Z 방향)으로 조사될 수도 있다.
한편 도 2를 참조하면, 제1 보호 필름(310)은 제1 두께(t1)를 갖도록 형성될 수 있고, 제1 점착층(210)은 제2 두께(t2)를 갖도록 형성될 수 있다. 이 경우 제2 두께(t2)는 제1 두께(t1)와 동일하거나 제1 두께(t1)보다 두껍게 형성될 수 있다. 이는 레이저(400)를 조사하여 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 단계에서 상술한 것과 같이 제1 보호 필름(310) 측으로 레이저(400)가 조사된다. 이와 같이 먼저 제1 보호 필름(310)이 가공 되는 과정에서 제1 보호 필름(310)을 투과한 광이 제1 점착층(210)을 가공시키기 때문에 제1 점착층(210)의 가공 시간을 실질적으로 더 짧아지게 된다. 따라서 제1 점착층(210)이 충분한 두께를 갖지 않는다면, 제1 보호 필름(310)이 가공 되는 동안 제1 점착층(210)이 먼저 가공되어 외부로 빠져나가지 못하는 흄(Fume)을 발생시켜 디스플레이 패널(100)이 손상될 수 있다.
따라서 본 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법에서는 제1 점착층(210)의 두께를 제1 보호 필름(310)의 두께와 동일하거나 더 두껍게 형성함으로써 제1 보호 필름(310)이 가공되는 동안 제1 점착층(210)이 선 가공되는 것을 방지할 수 있다.
마찬가지로, 제2 보호 필름(320)은 제1 보호 필름(310)과 같이 제 1두께를 갖도록 형성될 수 있고, 제2 점착층(220)은 제1 점착층(210)와 같이 제2 두께(t2)를 갖도록 형성될 수 있다. 이는 레이저(400)가 제2 보호 필름(320) 측에서 제1 보호 필름(310) 방향(+Z 방향)으로 조사되는 경우 상술한 것과 같은 효과를 가질 수 있다. 한편, 레이저(400)가 제1 보호 필름(310) 측에서 제2 보호 필름(320) 방향(-Z 방향)으로 조사되는 경우에는, 제1 보호 필름(310), 제1 점착층(210), 디스플레이 패널(100) 순으로 가공된 후 제2 점착층(220) 및 제2 보호 필름(320)이 가공될 수 있는데, 제2 점착층(220)의 두께를 충분히 확보함으로써 가공 속도 및 레이저(400) 흡수율을 조절하고, 제2 점착층(220) 및 제2 보호 필름(320)을 가공하는 동안 발생하는 불순물 등이 디스플레이 패널(100) 측으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
도 3 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 과정 중 커팅 공정을 개략적으로 도시한 단면도들이다. 도 3 내지 도 7을 참조하여 레이저(400)를 조사하여 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 단계를 상세히 설명한다.
먼저 도 3 및 도 4를 참조하면, 제1 보호 필름(310) 상에 제1 파장(L)의 레이저(400)를 조사하여 제1 보호 필름(310)을 커팅하는 단계를 거칠 수 있다. 그 후 제1 점착층(210) 상에 제1 파장(L)의 레이저(400)를 조사하여 제1 점착층(210)을 커팅하는 단계를 거칠 수 있다.
제1 보호 필름(310)이 커팅되는 동안, 제1 파장(L)의 레이저(400)의 일부가 제1 보호 필름(310)을 투과할 수 있다. 예를 들어, 제1 보호 필름(310)을 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate)로 형성하고 제1 파장(L)이 자외선(UV) 영역의 파장인 레이저(400)인 경우, 실험적으로 약 60% 이상의 투과율을 갖는다. 즉, 레이저(400)가 제1 보호 필름(310)을 가공하는 동안 약 60% 이상의 레이저(400)가 제1 보호 필름(310)을 투과하여 제1 점착층(210)을 가공할 수 있다.
만약 흡수제가 포함되지 않은 점착 물질로 형성된 점착층의 경우 가공 시간이 제1 보호 필름(310)보다 짧기 때문에 제1 보호 필름(310)이 다 커팅되기도 전에 점착층이 선 가공되어 디스플레이 패널(100)을 가공시키기 시작한다. 이러한 현상은 제1 보호 필름(310)이 완전히 가공 되기 전에 발생하는 것으로, 디스플레이 패널(100)을 가공하면서 발생하는 불순물 및 흄(Fume)이 외부로 빠져나갈 통로를 확보할 수 없어 디스플레이 패널(100) 내부에 머무르면서 디스플레이 패널(100)을 오염시킨다.
이에 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법에서는, 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 레이저(400)와 동일한 파장 영역의 광을 흡수하는 흡수제를 제1 점착층(210)에 첨가한다. 따라서 도 3에 도시된 것과 같이 제1 보호 필름(310)이 커팅되는 동안에 제1 보호 필름(310)을 투과한 레이저(400)는 제1 점착층(210)에 흡수될 수 있다. 이러한 제1 점착층(210)은 제1 파장(L) 광에 대하여 약 0.1% 내지 1%의 투과율을 갖는다. 즉, 제1 파장(L)을 갖는 레이저(400)는 제1 점착층(210)을 투과하는 비율이 매우 미미하기 때문에 제1 보호 필름(310) 및 제1 점착층(210)이 완전히 가공 되기 전에 디스플레이 패널(100)이 선 가공되어 디스플레이 패널(100)이 오염되는 현상을 획기적으로 감소시킬 수 있다.
예컨대 제1 파장(L)이 자외선(UV) 영역의 파장인 경우, 흡수제는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 히드록시페닐트리아진계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조에이트계 자외선 흡수제 등 중 어느 하나의 물질을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-(octyloxy)benzophenone 등을 사용할 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 실시예로 제1 파장(L)이 적외선(IR) 영역의 파장인 경우, 흡수제는 적외선 흡수제를 이용할 수 있다.
그 후 도 5를 참조하면, 디스플레이 패널(100) 상에 제1 파장(L)의 레이저(400)를 조사하여 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 단계를 거칠 수 있다. 도 1에 도시된 것과 같이 디스플레이 패널(100)을 커팅하는 단계는, 복수개의 셀(C)들 사이의 영역에 레이저(400)를 조사하여 셀(C)들을 커팅하는 단계일 수 있다. 따라서 도면에는 도시되어 있지 않으나, 커팅 라인(CL) 상에는 디스플레이부가 형성되지 않는다.
한편, 디스플레이 패널(100)이 가공되는 동안 디스플레이 패널(100)을 투과한 레이저(400)의 일부는 제2 점착층(220)에 흡수될 수 있다. 제2 점착층(220)에 흡수된 레이저(400)는 제2 점착층(220)의 가공 시간을 단축시킬 수 있다.
그 후 도 6 및 도 7을 참조하면, 제2 점착층(220) 상에 제1 파장(L)의 레이저(400)를 조사하여 제2 점착층(220)을 커팅하는 단계를 거쳐, 제2 보호 필름(320) 상에 제1 파장(L)의 레이저(400)를 조사하여 제2 보호 필름(320)을 커팅하는 단계를 거칠 수 있다. 제1 보호 필름(310), 제1 점착층(210), 디스플레이 패널(100) 순으로 가공된 후 제2 점착층(220) 및 제2 보호 필름(320)이 가공되는 과정에서, 제2 점착층(220)에 제1 파장(L)의 광을 흡수하는 흡수제를 포함시킴으로써 가공 속도 및 레이저(400) 흡수율을 조절하고, 제2 점착층(220) 및 제2 보호 필름(320)을 가공하는 동안 발생하는 불순물 등이 디스플레이 패널(100) 측으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치의 디스플레이 패널(100)의 내부 구조를 확대하여 도시한 단면도이다.
플렉서블 기판(110)은 내열성 및 내구성이 우수하며, 곡면 구현이 가능한 플렉서블 특성을 갖는 것으로서, 금속재, 또는PET(Polyethylen terephthalate), PEN(Polyethylen naphthalate), 폴리이미드(Polyimide) 등과 같은 플라스틱재 등, 다양한 재료로 형성된 것일 수 있다.
플렉서블 기판(110) 상에는 박막트랜지스터(TFT)가 배치될 수 있다. 박막트랜지스터(TFT)는 비정질실리콘, 다결정실리콘 또는 유기반도체물질을 포함하는 반도체층(102), 게이트전극(104), 소스전극(106s) 및 드레인전극(106d)을 포함한다. 이하 박막트랜지스터(TFT)의 일반적인 구성을 자세히 설명한다.
먼저 플렉서블 기판(110) 상에는 플렉서블 기판(110)의 면을 평탄화하기 위해 또는 박막트랜지스터(TFT)의 반도체층(102)으로 불순물 등이 침투하는 것을 방지하기 위해, 실리콘옥사이드 또는 실리콘나이트라이드 등으로 형성된 버퍼층(101)이 배치되고, 이 버퍼층(101) 상에 반도체층(102)이 위치하도록 할 수 있다.
반도체층(102)의 상부에는 게이트전극(104)이 배치되는데, 이 게이트전극(104)에 인가되는 신호에 따라 소스전극(106s) 및 드레인전극(106d)이 전기적으로 소통된다. 게이트전극(104)은 인접층과의 밀착성, 적층되는 층의 표면 평탄성 그리고 가공성 등을 고려하여, 예컨대 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 금(Au), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 이리듐(Ir), 크롬(Cr), 리튬(Li), 칼슘(Ca), 몰리브덴(Mo), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 구리(Cu) 중 하나 이상의 물질로 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.
이때 반도체층(102)과 게이트전극(104)과의 절연성을 확보하기 위하여, 실리콘옥사이드 및/또는 실리콘나이트라이드 등으로 형성되는 게이트절연막(103)이 반도체층(102)과 게이트전극(104) 사이에 개재될 수 있다.
게이트전극(104)의 상부에는 층간절연막(105)이 배치될 수 있는데, 이는 실리콘옥사이드 또는 실리콘나이트라이드 등의 물질로 단층으로 형성되거나 또는 다층으로 형성될 수 있다.
층간절연막(105)의 상부에는 소스전극(106s) 및 드레인전극(106d)이 배치된다. 소스전극(106s) 및 드레인전극(106d)은 층간절연막(105)과 게이트절연막(103)에 형성되는 컨택홀을 통하여 반도체층(102)에 각각 전기적으로 연결된다. 소스전극(106s) 및 드레인전극(106d)은 도전성 등을 고려하여 예컨대 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 금(Au), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 이리듐(Ir), 크롬(Cr), 리튬(Li), 칼슘(Ca), 몰리브덴(Mo), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 구리(Cu) 중 하나 이상의 물질로 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.
한편 도면에는 도시되지 않았으나, 이러한 구조의 박막트랜지스터(TFT)의 보호를 위해 박막트랜지스터(TFT)를 덮는 보호막(미도시)이 배치될 수 있다. 보호막은 예컨대 실리콘옥사이드, 실리콘나이트라이드 또는 실리콘옥시나이트라이드 등과 같은 무기물로 형성될 수 있다.
한편, 플렉서블 기판(110)의 상에 제1절연막(107)이 배치될 수 있다. 이 경우 제1절연막(107)은 평탄화막일 수도 있고 보호막일 수도 있다. 이러한 제1절연막(107)은 박막트랜지스터(TFT) 상부에 유기발광소자가 배치되는 경우 박막트랜지스터(TFT) 의 상면을 대체로 평탄화하게 하고, 박막트랜지스터(TFT) 및 각종 소자들을 보호하는 역할을 한다. 이러한 제1절연막(107) 은 예컨대 아크릴계 유기물 또는 BCB(Benzocyclobutene) 등으로 형성될 수 있다. 이때 버퍼층(101), 게이트절연막(103), 층간절연막(105) 및 제1절연막(107)은 플렉서블 기판(110)의 전면(全面)에 형성될 수 있다.
한편, 박막트랜지스터(TFT) 상부에는 제2절연막(108)이 배치될 수 있다. 이경우 제2절연막(108)은 화소정의막일 수 있다. 제2절연막(108)은 상술한 제1절연막(107) 상에 위치할 수 있으며, 개구를 가질 수 있다. 이러한 제2절연막(108)은 플렉서블 기판(110) 상에 화소영역을 정의하는 역할을 한다.
이러한 제2절연막(108)은 예컨대 유기 절연막으로 구비될 수 있다. 그러한 유기 절연막으로는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)와 같은 아크릴계 고분자, 폴리스티렌(PS), phenol그룹을 갖는 고분자 유도체, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 혼합물 등을 포함할 수 있다.
한편, 제2절연막(108) 상에는 유기발광소자(150)가 배치될 수 있다. 유기발광소자(150)는 화소전극(120), 발광층(EML: Emission Layer)을 포함하는 중간층(130) 및 대향전극(140)을 포함할 수 있다.
화소전극(120)은 (반)투명 전극 또는 반사형 전극으로 형성될 수 있다. (반)투명 전극으로 형성될 때에는 예컨대 ITO, IZO, ZnO, In2O3, IGO 또는 AZO로 형성될 수 있다. 반사형 전극으로 형성될 때에는 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 및 이들의 화합물 등으로 형성된 반사막과, ITO, IZO, ZnO, In2O3, IGO 또는 AZO로 형성된 층을 가질 수 있다. 물론 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니고 다양한 재질로 형성될 수 있으며, 그 구조 또한 단층 또는 다층이 될 수 있는 등 다양한 변형이 가능하다.
제2절연막(108)에 의해 정의된 화소영역에는 중간층(130)이 각각 배치될 수 있다. 이러한 중간층(130)은 전기적 신호에 의해 빛을 발광하는 발광층(EML: Emission Layer)을 포함하며, 발광층(EML)을 이외에도 발광층(EML)과 화소전극(120) 사이에 배치되는 홀 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 홀 수송층(HTL: Hole Transport Layer) 및 발광층(EML)과 대향전극(140) 사이에 배치되는 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있다. 물론 중간층(130)은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 다양한 구조를 가질 수도 있음은 물론이다.
발광층(EML)을 포함하는 중간층(130)을 덮으며 화소전극(120)에 대향하는 대향전극(140)이 플렉서블 기판(110) 전면(全面)에 걸쳐서 배치될 수 있다. 대향전극(140)은 (반)투명 전극 또는 반사형 전극으로 형성될 수 있다.
대향전극(140)이 (반)투명 전극으로 형성될 때에는 일함수가 작은 금속 즉, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Ag, Mg 및 이들의 화합물로 형성된 층과 ITO, IZO, ZnO 또는 In2O3 등의 (반)투명 도전층을 가질 수 있다. 대향전극(140)이 반사형 전극으로 형성될 때에는 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Ag, Mg 및 이들의 화합물로 형성된 층을 가질 수 있다. 물론 대향전극(140)의 구성 및 재료가 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 변형이 가능함은 물론이다.
한편, 대향 전극(140)을 덮도록 플렉서블 기판(110) 상에 박막 봉지층(160)이 배치될 수 있다. 도면에 도시되지는 않았으나, 박막 봉지층(160)은 하나 이상의 무기막과 유기막이 적층된 다층구조일 수 있다. 이러한 박막 봉지층(160)은 외부로부터 디스플레이 패널(100)로 산소나 수분 및 불순물이 유입되는 것을 방지하고, 유기발광소자(150)를 외부로부터 밀봉하는 기능을 한다.
지금까지는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법에 대해서만 주로 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대 이러한 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법을 이용하여 제조된 플렉서블 디스플레이 장치 역시 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치를 개략적으로 도시하는 단면도이고, 도 10은 도 9의 플렉서블 디스플레이 장치의 디스플레이 패널(100)의 구조를 구체적으로 도시하여 나타낸 단면도이다.
도 9 및 도 10를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 관한 플렉서블 디스플레이 장치는 플렉서블 기판(110), 플렉서블 기판(110) 상에 배치된 박막 트랜지스터 및 발광 소자, 보호 필름 및 플렉서블 기판(110)과 보호 필름 사이에 개재되는 점착층을 구비한다.
플렉서블 기판(110)은 일 면과 일 면과 반대되는 측의 타 면을 가질 수 있다. 플렉서블 기판(110)은 내열성 및 내구성이 우수하며, 곡면 구현이 가능한 플렉서블 특성을 갖는 것으로서, 금속재, 또는PET(Polyethylen terephthalate), PEN(Polyethylen naphthalate), 폴리이미드(Polyimide) 등과 같은 플라스틱재 등, 다양한 재료로 형성된 것일 수 있다.
플렉서블 기판(110)의 일 면 상에는 박막트랜지스터(TFT) 및 박막트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결된 발광소자가 배치될 수 있다. 발광 소자는 액정 소자일 수도 있고, 유기발광소자일 수도 있다. 본 실시예에서는 발광 소자로 유기발광소자를 구비한 경우에 대하여 설명한다.
박막트랜지스터(TFT)는 비정질실리콘, 다결정실리콘 또는 유기반도체물질을 포함하는 반도체층(102), 게이트전극(104), 소스전극(106s) 및 드레인전극(106d)을 포함한다. 이하 박막트랜지스터(TFT)의 일반적인 구성을 설명하되, 전술한 도 8의 설명과 중복되는 부분은 생략한다.
플렉서블 기판(110) 상에는 버퍼층(101), 게이트절연막(103), 층간절연막(105) 등과 같은 공통층이 플렉서블 기판(110)의 전면(全面)에 배치될 수 있고, 채널영역, 소스컨택영역 및 드레인컨택영역을 포함하는 패터닝된 반도체층(102)이 배치될 수 있으며, 이러한 패터닝된 반도체층(102)과 함께 박막트랜지스터(TFT)의 구성요소가 되는 게이트전극(104), 소스전극(106s) 및 드레인전극(106d)이 배치될 수 있다.
또한, 이러한 박막트랜지스터(TFT)를 덮으며 그 상면이 대략 평탄한 제1 절연막(107)이 플렉서블 기판(110)의 전면에 형성될 수 있다. 이러한 제1 절연막(107) 상에는 패터닝된 화소전극(120), 플렉서블 기판(110)의 전면에 대략 대응하는 대향전극(140), 그리고 화소전극(120)과 대향전극(140) 사이에 개재되며 발광층을 포함하는 다층 구조의 중간층(130)을 포함하는, 유기발광소자(OLED)가 위치하도록 배치될 수 있다. 물론 중간층(130)은 도시된 것과 달리 일부 층은 플렉서블 기판(110)의 전면에 대략 대응하는 공통층일 수 있고, 다른 일부 층은 화소전극(120)에 대응하도록 패터닝된 패턴층일 수 있다. 화소전극(120)은 비아홀을 통해 박막트랜지스터(TFT)에 전기적으로 연결될 수 있다. 물론 화소전극(120)의 가장자리를 덮으며 각 화소영역을 정의하는 개구를 갖는 제2 절연막(108)이 플렉서블 기판(110)의 전면에 대략 대응하도록 제1 절연막(107) 상에 위치할 수 있다.
한편 대향 전극(140)을 덮도록 플렉서블 기판(110) 상에 박막 봉지층(160)이 배치될 수 있다. 도면에 도시되지는 않았으나, 박막 봉지층(160)은 하나 이상의 무기막과 유기막이 적층된 다층구조일 수 있다. 이러한 박막 봉지층(160)은 외부로부터 디스플레이 패널(100)로 산소나 수분 및 불순물이 유입되는 것을 방지하고, 유기발광소자(150)를 외부로부터 밀봉하는 기능을 한다.
한편, 플렉서블 기판(110)의 타 면 상에는 보호 필름(320)이 배치될 수 있다. 제조 과정에서 지지 기판으로부터 분리된 디스플레이 패널(100)은 플렉서블 기판(110) 상에 각종 소자들이 형성된 형태가 되는데, 이러한 플렉서블 기판(110)은 외부 환경에 민감한 특성을 갖는다. 따라서 후속 공정들에서 디스플레이 패널(100)을 보호하기 위해 플렉서블 기판(110)의 타 면 상에 보호 필름(320)을 부착할 수 있다. 이러한 보호 필름(320)은 디스플레이 패널(100)의 플렉서블 기판(110)이 손상되는 것을 방지하고, 플렉서블 기판(110) 측으로 불순물 등이 유입되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다.
이러한 보호 필름(320)은 제1 두께(t1)를 갖도록 형성될 수 있으며, 제1 두께(t1)는 예컨대 10 ㎛ 내지 100 ㎛로 형성될 수 있다. 보호 필름(320)은 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 설파이드(PES; polyethylene sulfide), 폴리에틸렌(PE; polyethylene) 중 어느 하나의 물질로 형성될 수 있다.
한편, 플렉서블 기판(110)과 보호 필름(320) 사이에는 점착층(220)이 배치될 수 있다. 또한 점착층(220)은 제2 두께(t2)를 갖도록 형성될 수 있으며, 제2 두께(t2)는 보호 필름(320)의 제1 두께(t1)보다 두껍게 형성될 수 있다. 예컨대 제2 두께(t2)는 대략 10 ㎛ 내지 200 ㎛로 형성될 수 있다.
본 실시예에 따른 점착층(220)은 제1 파장(L)의 광을 흡수하는 흡수제를 포함할 수 있다. 이때 제1 파장(L)은 플렉서블 디스플레이 장치의 제조과정에서, 레이저(400)를 이용한 셀 커팅 단계에서의 레이저(400)의 파장과 동일한 파장일 수 있다. 본 실시예에 있어서, 제1 파장(L)은 자외선(UV) 영역의 파장일 수 있으며, 또는 적외선(IR) 영역의 파장일 수도 있다. 예컨대 자외선 영역의 파장의 경우 343nm 또는 355nm의 파장을 가질 수 있다.
이러한 점착층(220)은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질을 포함하도록 형성할 수 있다. 즉 점착층(220)은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질과 자외선(UV) 영역의 파장 또는 적외선(IR) 영역의 파장을 흡수하는 흡수제가 혼합된 물질일 수 있다. 따라서 점착층(220)은 상기 자외선(UV) 영역의 파장 또는 적외선(IR) 영역의 파장의 광에 대하여 0.1% 내지 1%의 투과율을 가질 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것 이다.
100: 디스플레이 패널
110: 플렉서블 기판
150: 유기발광소자
160: 박막 봉지층
210: 제1 점착층
220: 점착층
310: 제1 보호 필름
320: 보호 필름
400: 레이저
110: 플렉서블 기판
150: 유기발광소자
160: 박막 봉지층
210: 제1 점착층
220: 점착층
310: 제1 보호 필름
320: 보호 필름
400: 레이저
Claims (17)
- 일 면과 상기 일 면과 반대되는 측의 타 면을 가지며, 상기 일 면 상에 각각이 디스플레이부를 갖는 복수개의 셀들이 형성된 원장 상태의 디스플레이 패널을 형성하는 단계;
상기 디스플레이 패널의 상기 일 면 상에, 제1 점착층을 사이에 두고 제1 보호 필름을 부착하는 단계;
상기 디스플레이 패널의 상기 타 면 상에, 제2 점착층을 사이에 두고 제2 보호 필름을 부착하는 단계; 및
상기 복수개의 셀들 사이에 대응하도록 제1 파장을 갖는 레이저를 조사하여 상기 디스플레이 패널을 커팅하는 단계;를 포함하고,
상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 상기 제1 파장과 동일한 파장의 광을 흡수하는 흡수제를 포함하고,
상기 제1 보호 필름 및 상기 제2 보호 필름은 상기 제1 파장의 광에 대하여 60% 이상의 투과율을 갖고,
상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 상기 제1 파장의 광에 대하여 0.1% 내지 1%의 투과율을 갖는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 레이저를 조사하여 상기 디스플레이 패널을 커팅하는 단계는,
상기 제1 보호 필름 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 제1 보호 필름을 커팅하는 단계;
상기 제1 점착층 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 상기 제1 점착층을 커팅하는 단계;
상기 복수개의 셀들 사이 영역에 레이저를 조사하여 상기 셀들을 커팅하는 단계;
상기 제2 점착층 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 상기 제2 점착층을 커팅하는 단계; 및
상기 제2 보호 필름 상에 상기 제1 파장의 레이저를 조사하여 상기 제2 보호 필름을 커팅하는 단계;
를 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 제1 보호 필름 및 상기 제2 보호 필름은 제1 두께를 갖도록 형성되고, 상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 상기 제1 두께와 동일하거나 상기 제1 두께보다 두꺼운, 제2 두께를 갖도록 형성되는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 제3항에 있어서,
상기 제1 두께는 10 ㎛ 내지 100 ㎛로 형성되고, 상기 제2 두께는 10 ㎛ 내지 200 ㎛로 형성되는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 제1 점착층 및 상기 제2 점착층은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질을 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 제1 파장은 자외선(UV) 영역의 파장인, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 제1 파장은 적외선(IR) 영역의 파장인, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 제1 보호 필름 및 상기 제2 보호 필름은 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 설파이드(PES; polyethylene sulfide), 폴리에틸렌(PE; polyethylene) 중 어느 하나의 물질로 형성되는, 플렉서블 디스플레이 장치의 제조방법. - 일 면과 상기 일 면과 반대되는 측의 타 면을 갖는, 플렉서블 기판;
상기 플렉서블 기판의 상기 일 면 상에 배치된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터에 전기적으로 연결된 발광 소자;
상기 플렉서블 기판의 상기 타 면 상에 배치된 보호 필름; 및
상기 플렉서블 기판과 상기 보호 필름 사이에 개재되고, 제1 파장의 광을 흡수하는 흡수제를 포함하므로써 상기 보호 필름과는 상이한 광 투과율을 갖는, 점착층;을 구비하고,
상기 보호 필름은 상기 제1 파장의 광에 대하여 60% 이상의 투과율을 갖고,
상기 점착층은 상기 제1 파장의 광에 대하여 0.1% 내지 1%의 투과율을 갖고,
상기 제1 파장은 자외선(UV) 영역의 파장 또는 적외선(IR) 영역의 파장인, 플렉서블 디스플레이 장치. - 삭제
- 삭제
- 제10항에 있어서,
상기 보호 필름은 제1 두께를 가지며, 상기 점착층은 제1 두께와 동일하거나 제1 두께보다 두꺼운, 제2 두께를 갖는, 플렉서블 디스플레이 장치. - 제13항에 있어서,
상기 제1 두께는 10 ㎛ 내지 100 ㎛로 형성되고, 상기 제2 두께는 10 ㎛ 내지 200 ㎛로 형성되는, 플렉서블 디스플레이 장치. - 제10항에 있어서,
상기 점착층은 실리콘(Silicone), 우레탄(Urethane) 또는 아크릴(Acryl) 계열의 점착 물질을 포함하는, 플렉서블 디스플레이 장치. - 삭제
- 제10항에 있어서,
상기 보호 필름은 폴레에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 설파이드(PES; polyethylene sulfide), 폴리에틸렌(PE; polyethylene) 중 어느 하나의 물질로 형성되는, 플렉서블 디스플레이 장치.
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