KR102393375B1 - 박막 증착 장치 - Google Patents
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Abstract
박막 증착 장치를 개시한다. 본 발명은 기판이 수용되는 챔버와, 기판을 향하여 증착 물질을 증발시키는 증착 소스와, 챔버의 일측에 결합된 제 1 레이저 통과홀을 가지는 제 1 하우징에 설치되며, 제 1 레이저 통과홀을 통하여 기판과 증착 소스 사이에 배치되는 레이저 마스크용 제 1 레이저 빔을 조사하는 레이저 마스크 시스템과, 제 1 하우징에 설치되며, 증착 물질로부터 발생된 이물질이 레이저 마스크 시스템을 오염시키는 것을 차단하는 제 1 레이저 클리닝 장치를 포함한다.
Description
본 발명은 박막 증착 장치에 관한 것이다.
통상적으로, 디스플레이 장치는 스마트 폰, 랩 탑 컴퓨터, 디지털 카메라, 캠코더, 휴대 정보 단말기, 태블릿 퍼스널 컴퓨터와 같은 모바일 장치나, 데스크 탑 컴퓨터, 텔레비전, 옥외 광고판, 전시용 디스플레이 장치와 같은 전자 장치에 이용할 수 있다.
최근 들어서는, 보다 슬림화된 디스플레이 장치가 출시되고 있다.
플렉서블 디스플레이 장치(flexible display device)는 휴대하기가 용이하고, 다양한 형상의 장치에 적용할 수 있다. 이중에서, 유기 발광 디스플레이 기술을 기반으로 하는 플렉서블 디스플레이 장치가 가장 유력한 플렉서블 디스플레이 장치이다.
유기 발광 디스플레이 장치는 기판 상에 배치된 애노우드, 캐소우드, 및 애노우드와 캐소우드 사이에 개재된 유기 발광층을 포함한다. 유기 발광층은 증착 공정에 의하여 형성할 수 있다. 유기 발광층은 챔버 내에서 증착할 수 있다. 증착 공정 동안, 챔버 내에는 이물질이 발생할 수 있다.
본 발명의 실시예들은 레이저 빔을 이용하여 레이저 마스크 시스템의 오염을 방지한 박막 증착 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따른 박막 증착 장치는, 기판이 수용되는 챔버;와, 상기 기판을 향하여 증착 물질을 증발시키는 증착 소스;와, 상기 챔버의 일측에 결합된 제 1 레이저 통과홀을 가지는 제 1 하우징에 설치되며, 상기 제 1 레이저 통과홀을 통하여 상기 기판과 증착 소스 사이에 배치되는 레이저 마스크용 제 1 레이저 빔을 조사하는 레이저 마스크 시스템;과, 상기 제 1 하우징에 설치되며, 상기 증착 물질로부터 발생된 이물질이 상기 레이저 마스크 시스템을 오염시키는 것을 차단하는 제 1 레이저 클리닝 장치;를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 레이저 클리닝 장치는, 제 2 레이저 빔을 조사하는 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트;와, 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트로부터 조사되는 제 2 레이저 빔을 분기화시키는 제 1 제너레이션 모듈;과, 상기 제 1 제너레이션 모듈의 전방에 배치된 제 1 클리닝용 광학 유니트;와, 상기 제 1 하우징 내에 배치된 적어도 하나의 제 1 미러에 의하여 반사된 제 2 레이저 빔을 흡수하는 제 1 레이저 흡수 유니트;를 포함하되, 상기 제 2 레이저 빔은 상기 제 1 레이저 통과홀을 차단할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 2 레이저 빔의 진행 경로는 상기 제 1 하우징 내부를 둘러싸며, 상기 제 2 레이저 빔은 상기 제 1 하우징에 배치된 제 1 레이저 통과홀을 선택적으로 차단할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트 및 제 1 레이저 흡수 유니트는 상기 제 1 하우징의 외부에 배치되며, 이들과 대응되는 제 1 하우징에는 각각의 레이저 투과창이 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 레이저 통과홀에는 이물질이 외부로 배출되는 통로인 제 1 배기관이 연결될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 챔버의 타측에 결합된 제 2 레이저 통과홀을 가지는 제 2 하우징에 설치되며, 상기 레이저 마스크 시스템으로부터 조사된 제 1 레이저 빔을 수신하는 레이저 리시버를 포함하되, 상기 제 2 하우징에는 이물질이 상기 레이저 리시버를 오염시키는 것을 차단하는 제 2 레이저 클리닝 장치가 더 설치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 2 레이저 클리닝 장치는, 제 3 레이저 빔을 조사하는 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트;와, 상기 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트로부터 조사되는 제 3 레이저 빔을 분기화시키는 제 2 제너레이션 모듈;과, 상기 제 2 제너레이션 모듈의 전방에 배치된 제 2 클리닝용 광학 유니트;와, 상기 제 2 하우징 내에 배치된 적어도 하나의 제 2 미러에 의하여 반사된 제 3 레이저 빔을 흡수하는 제 2 레이저 흡수 유니트;를 포함하되, 상기 제 3 레이저 빔은 상기 제 2 레이저 통과홀을 차단할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 2 레이저 통과홀에는 이물질이 외부로 배출되는 통로인 제 2 배기관이 연결될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 레이저 통과홀에는 제 1 레이저 투과창이 배치되며, 상기 레이저 마스크 시스템은 상기 제 1 하우징 내에 배치된 제 3 하우징에 설치되며, 상기 제 3 하우징은 XYZ 이동 스테이지에 의하여 X축, Y축, Z축중 적어도 어느 한 축으로 이동가능할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 레이저 클리닝 장치는, 상기 제 3 하우징의 일단에 결합되며, Z축으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부;와, 상기 제 1 클리닝 승강부 상에 배치되며, 상기 제 1 클리닝 승강부의 승강 운동에 따라 제 1 레이저 빔을 상기 제 1 레이저 투과창에 집속시키는 제 1 클리닝용 광학 유니트;를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 제 1 클리닝용 광학 유니트는 마이크로 포커싱 렌즈 어레이를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 챔버의 타측에는 제 2 레이저 통과홀을 가지는 제 2 하우징에 결합되며, 상기 제 1 레이저 빔을 수신하는 레이저 리시버가 더 설치되고, 상기 제 2 레이저 통과홀에는 제 2 레이저 투과창이 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 제 3 하우징의 제 1 단에는 Z축으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부와, 상기 제 1 클리닝 승강부 상에 배치되며, 제 1 레이저 빔을 제 1 레이저 투과창에 집속시키는 제 1 클리닝용 광학 유니트를 구비하는 제 1 레이저 클리닝 장치가 설치되고, 상기 제 1 단에 마주보는 제 3 하우징의 제 2 단에는 Z축으로 승강 운동하는 제 2 클리닝 승강부와, 상기 제 2 클리닝 승강부 상에 배치되며, 제 1 레이저 빔을 제 2 투과창에 집속시키는 제 2 클리닝 광학 유니트를 구비하는 제 2 레이저 클리닝 장치가 설치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 레이저 클리닝 장치는, 제 3 하우징의 일단에 결합되며, Z축으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부;와, 상기 제 1 클리닝 승강부 상에 설치되며, 제 1 레이저 빔을 상기 제 1 레이저 투과창에 집속시키는 제 1 클리닝용 광학 유니트;와, 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트 상에 설치되며, 제 1 레이저 빔을 상기 제 2 레이저 투과창에 집속시키는 제 2 클리닝 광학 유니트;를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 레이저 마스크 시스템은, 상기 제 1 레이저 빔을 조사하는 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트;와, 상기 제 1 레이저 빔을 분할하여 복수의 마스크 레이저 빔을 생성하는 레이저 마스크용 광학 유니트;를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 레이저 마스크 시스템은 레이저 마스크용 제 1 레이저 빔을 동시에 조사하는 복수의 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트를 포함한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 레이저 빔의 진행 경로 상에는 상기 기판과 증착 소스 사이를 통과한 제 1 레이저 빔을 상기 레이저 스캐닝 유니트가 설치된 방향으로 반사시키는 반사 미러가 더 설치될 수 있다.
이상과 같이, 본 발명의 박막 증착 장치는 레이저 클리닝 장치로부터 조사되는 레이저 빔을 이용하여 레이저 마스크를 형성하는 레이저 마스크 시스템의 오염을 방지할 수 있다.
본 발명의 효과는 상술한 내용 이외에도, 도면을 참조하여 이하에서 설명할 내용으로부터도 도출될 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치를 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 장치를 도시한 구성도이다.
도 3은 도 2의 제 1 레이저 클리닝 장치를 도시한 평면도이다.
도 4는 도 2의 변형예에 따른 레이저 클리닝 장치를 도시한 구성도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 장치를 도시한 구성도이다.
도 6 내지 도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 장치를 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 장치를 도시한 구성도이다.
도 3은 도 2의 제 1 레이저 클리닝 장치를 도시한 평면도이다.
도 4는 도 2의 변형예에 따른 레이저 클리닝 장치를 도시한 구성도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 장치를 도시한 구성도이다.
도 6 내지 도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 장치를 도시한 구성도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고, 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의하여 한정되어서는 안된다. 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함한다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 따른 박막 증착 장치의 일 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 장치(100)를 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 상기 박막 증착 장치(100)에는 챔버(101)가 마련되어 있다. 상기 챔버(101)는 외부 환경과 반응 공간을 서로 격리할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 챔버(101)는 증착 물질의 직진성을 확보하기 위하여 소정의 진공도를 유지할 수 있다.
상기 챔버(101) 내에는 기판(102)이 배치될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 기판(102)은 상기 챔버(101) 내의 상측에 배치되나, 상기 기판(102)의 위치는 어느 하나에 한정되는 것은 아니다. 상기 기판(102)은 증착 대상물이다. 일 실시예에 있어서, 상기 기판(102) 상에는 유기 발광층이 증착될 수 있다.
상기 기판(102) 상에는 상기 기판(102)을 지지하기 위한 서포트(103)가 설치될 수 있다. 상기 서포트(103)는 쿨링 플레이트(cooling plate)나, 정전척일 수 있다. 상기 서포트(103) 상에는 기판(102)을 승강 운동시키는 승강 유니트(104)가 설치될 수 있다.
상기 기판(102)의 하측에는 증착 소스(105)가 설치될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 증착 소스(105)는 증착 물질(107)을 수용하는 도가니(crucible)일 수 있다. 상기 증착 물질(107)은 노즐(106)을 통하여 증발시킬 수 있다. 증발된 증착 물질(107)은 기판(102)을 향하여 방사될 수 있다.
상기 기판(102)과 증착 소스(105) 사이에는 마스크가 배치될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 마스크는 레이저 마스크(laser mask, LM)일 수 있다. 상기 레이저 마스크(LM)는 상기 기판(102)에 소정 간격 이격되게 배치될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 레이저 마스크(LM)의 형상은 스트라이프형이나, 메쉬형일 수 있다.
상기 챔버(130)의 일측에는 상기 레이저 마스크(LM)를 형성하기 위한 레이저 마스크 시스템(laser mask system, LMS, 130)이 설치될 수 있다. 상기 레이저 마스크 시스템(130)은 상기 기판(102)을 향하여 조사되는 멀티 레이저 빔(L)을 이용하여 레이저 마스크(LM)를 형성할 수 있다.
상기 챔버(103)의 타측에는 상기 레이저 마스크 시스템(103)로부터 조사된 멀티 레이저 빔(L)을 수신하는 레이저 리시버(laser reciever, LR, 150)가 더 실치될 수 있다.
상기 증착 소스(104)로부터 증발된 증발 물질(107)은 상기 레이저 마스크 시스템(130)에 의하여 형성된 레이저 마스크(LM) 사이의 공간을 통과하여서, 기판(102)의 증착 영역(deposition area, DA)에 증착될 수 있다.
반면에, 상기 증착 물질(107)중 일부는 상기 레이저 마스크(LM)에 충돌할 수 있다. 충돌된 증착 물질(107)은 유기물의 분자 고리(molecular chain)가 끊어지게 되어서 유기물로서의 기능을 상실한다.
한편, 상기 챔버(101) 내에서 발생한 이물질, 이를테면, 상기 증착 물질(107)로부터 발생하는 유기물은 상기 레이저 마스크 시스템(130)이나, 레이저 리시버(150)를 오염시킬 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 장치(200)를 도시한 것이며, 도 3은 도 2의 제 1 레이저 클리닝 장치(230)를 도시한 것이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 레이저 장치(200)는 레이저 마스크 시스템(210), 제 1 레이저 클리닝 장치(230), 레이저 리시버(250), 및 제 2 레이저 클리닝 장치(270)를 포함한다. 일 실시예에 있어서, 상기 레이저 마스크 시스템(210)은 도 1의 레이저 마스크 시스템(130)에 대응되며, 상기 레이저 리시버(250)는 도 1의 레이저 리시버(150)에 대응될 수 있다. 상기 레이저 장치(200)는 도 1의 챔버(101)에 결합될 수 있다.
상기 레이저 마스크 시스템(210)은 제 1 하우징(201)에 결합될 수 있다. 상기 제 1 하우징(201)은 챔버(도 1의 101)의 일측에 결합될 수 있다. 상기 제 1 하우징(201)에는 챔버(101)에 연통되는 제 1 레이저 통과홀(203)이 배치될 수 있다.
상기 레이저 마스크 시스템(201)은 제 1 레이저 빔(L1)을 조사하는 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(LSU1, 211) 및 상기 제 1 레이저 빔(L1)을 분할하여 복수의 마스크 레이저 빔을 생성하는 레이저 마스크용 광학 유니트(214)를 포함한다.
광 케이블(212)은 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(211)와 레이저 마스크용 광학 유니트(214)를 서로 연결시킬 수 있다. 상기 광 케이블(212)은 제 1 레이저 빔(L1)의 이동 경로를 제공할 수 있다.
상기 레이저 마스크용 광학 유니트(214)는 복수의 제 1 렌즈(215), 빔 분할부(216), 및 콜리메이팅 렌즈(collimating lens, 217)를 포함한다. 상기 레이저 마스크용 광학 유니트(214)에 포함되는 렌즈들은 레이저 마스크를 형성할 수 있다면, 어느 하나에 한정되는 것은 아니다. 상기 레이저 마스크용 광학 유니트(214)는 제 3 하우징(213) 내에 설치될 수 있다. 상기 제 3 하우징(213)은 상기 제 1 하우징(201) 내에 설치될 수 있다.
상기 레이저 마스크 시스템(201)으로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)은 상기 제 1 레이저 통과홀(203)을 통과하여 기판(도 1의 102)과 증착 소스(도 1의 105) 사이에 레이저 마스크를 형성할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 증착 공정동안, 증착 물질(도 1의 107)로부터 발생하는 이물질은 상기 제 1 레이저 통과홀(203)을 통하여 상기 레이저 마스크용 광학 유니트(214)를 오염시킬 수 있다.
상기 제 1 하우징(201)에는 상기 레이저 마스크 시스템(201)의 오염을 방지하기 위한 제 1 레이저 클리닝 장치(230)가 설치될 수 있다. 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(230)는 증착 물질(107)로부터 발생한 이물질이 제 1 레이저 통과홀(203)을 통하여 상기 레이저 마스크용 광학 유니트(213)를 오염시키는 것을 차단시킬 수 있다.
상기 제 1 레이저 클리닝 장치(230)는 제 2 레이저 빔(L2)을 조사하는 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(LSU2, 231)를 포함한다. 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231)는 선형의 제 2 레이저 빔(L2)을 생성할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231)는 상기 제 1 하우징(201)의 외부에 설치될 수 있다.
상기 제 1 하우징(201)의 내부에는 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231)로부터 조사되는 제 2 레이저 빔(L2)을 분기화시키는 제 1 제너레이션 모듈(generation module, 232)이 설치될 수 있다. 상기 제 1 제너레이션 모듈(232)은 제 2 레이저 빔(L2)을 멀티 레이저 빔(L2a)으로 변환시킬 수 있다.
상기 제 1 제너레이션 모듈(232)의 전방에는 제 1 클리닝용 광학 유니트(233)가 설치될 수 있다. 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(233)는 상기 제 2 레이저 빔(L2)의 진행 경로 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(233)는 분기화된 제 2 레이저 빔(L2a)을 평행광(L2b)으로 변환시킬 수 있다. 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(233)는 제 2 레이저 빔(L2)을 평행광(L2b)으로 변환시킬 수 있는 구조라면, 어느 하나에 한정되는 것은 아니다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(233)는 에프-세타(f-θ) 렌즈나, 콜리메이팅 렌즈나, 포커싱 렌즈나, 실린더 렌즈나, 구면수차 보정용 렌즈나, 토릭 렌즈나, 주사 광학 렌즈등 다양한 렌즈의 조합이 가능하다.
상기 제 1 하우징(201) 내에는 복수의 제 1 미러(234)가 배치될 수 있다. 상기 제 1 미러(234)는 제 2 레이저 빔(L2)의 진행 경로 상에 설치될 수 있다. 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231)로부터 조사된 제 2 레이저 빔(L2)은 복수의 제 1 미러(234)에 의하여 반사될 수 있다.
반사된 제 2 레이저 빔(L2)은 제 1 레이저 흡수 유니트(235)로 흡수될 수 있다. 상기 제 1 레이저 흡수 유니트(235)는 상기 제 1 하우징(201)의 외부에 설치될 수 있다. 상기 제 1 레이저 흡수 유니트(235)는 흡수 하우징(236)을 구비한다. 상기 흡수 하우징(236) 내에는 흡수체(237)가 설치될 수 있다. 제 2 레이저 빔(L2)은 상기 흡수체(237)에 흡수될 수 있다.
상기 흡수 하우징(236)의 배면에는 냉각부(238)가 설치될 수 있다. 상기 냉각부(238)에는 냉각 매체가 유동할 수 있는 냉각 매체 채널이 설치될 수 있다. 냉각 매체로는 물이 사용될 수 있다. 상기 냉각부(238)는 흡수된 제 2 레이저 빔(L2)에 의하여 가열된 흡수 하우징(236)을 냉각시킬 수 있다.
상기 제 1 제너레이션 모듈(232), 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(232), 및 제 1 미러(234)는 상기 제 1 하우징(201) 내에서 상기 레이저 마스크 시스템(210)의 주변에 배치될 수 있다. 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231)로부터 조사된 제 2 레이저 빔(L2)의 진행 경로는 상기 레이저 마스크용 광학 유니트(214)가 설치된 제 3 하우징(213)을 둘러싸고 있다.
제 2 레이저 빔(L2)의 진행 경로 전방에는 상기 제 1 하우징(201)에 배치된 제 1 레이저 통과홀(203)이 위치할 수 있다. 제 2 레이저 빔(L2)은 상기 제 1 레이저 통과홀(203)을 선택적으로 차단시킬 수 있다.
상기 챔버(도 1의 101) 내에서 발생된 이물질이 상기 제 1 레이저 통과홀(203)을 통하여 상기 제 1 하우징(201)의 내부로 침투할 경우, 이물질은 패턴화된 제 2 레이저 빔(L2)에 충돌하여 분해될 수 있다. 상기 제 2 레이저 빔(L2)은 상기 제 1 레이저 통과홀(203)을 차단하는 커튼 역할을 할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 하우징(201)의 제 1 레이저 통과홀(203)은 상기 챔버(101)에 연통되며, 상기 챔버(101) 및 제 1 하우징(201)은 진공 상태일 수 있다. 상기 제 1 하우징(201)의 내부를 진공 상태로 유지하기 위하여, 상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231)로부터 조사되어 상기 제 1 레이저 흡수 유니트(235)로 흡수되는 제 2 레이저 빔(L2)의 진행 경로에 대응되는 제 1 하우징(201)에는 각각의 레이저 투과창(202)이 설치될 수 있다.
상기 챔버(도 1의 101)에는 상기 레이저 마스크 시스템(210)으로부터 조사된 제 1 레이저 빔(L1)을 수신하는 레이저 리시버(250)가 더 설치될 수 있다. 상기 레이저 리시버(250)는 제 2 하우징(204)에 결합될 수 있다. 상기 제 2 하우징(204)은 챔버(도 1의 101)의 타측에 결합될 수 있다. 상기 제 2 하우징(204)에는 챔버(101)에 연통되는 제 2 레이저 통과홀(206)이 배치될 수 있다. 상기 제 2 레이저 통과홀(206)에는 레이저 마스크를 형성한 제 1 레이저 빔(L1)이 통과할 수 있다.
상기 레이저 리시버(250)는 제 4 하우징(251)에 설치되는 리시버(252)를 포함한다. 상기 제 4 하우징(251)은 상기 제 2 하우징(204) 내부에 설치될 수 있다. 상기 리시버(252)는 상기 제 2 레이저 통과홀(206)을 통과한 제 1 레이저 빔(L1)을 수신할 수 있다.
상기 제 2 하우징(204)에는 제 2 레이저 클리닝 장치(270)가 설치될 수 있다. 상기 제 2 레이저 클리닝 장치(270)는 이물질이 상기 레이저 리시버(250)를 오염시키는 것을 차단시킬 수 있다.
상기 제 2 레이저 클리닝 장치(270)는 제 3 레이저 빔(L3)을 조사하는 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(LSU3, 271)를 구비한다. 제 2 하우징(204) 내부에는 상기 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(271)로부터 조사된 제 3 레이저 빔(L3)을 분기화시키는 제 2 제너레이션 모듈(272)이 설치될 수 있다. 상기 제 3 레이저 빔(L3)의 진행 경로 상에는 제 2 클리닝용 광학 유니트(273)가 배치될 수 있다. 제 2 미러(274)는 상기 제 2 하우징(204) 내에 복수개 배치될 수 있다.
복수의 제 2 미러(274)에 의하여 반사된 제 3 레이저 빔(L3)은 제 2 레이저 흡수 유니트(275)로 흡수될 수 있다. 상기 제 2 레이저 흡수 유니트(275)는 흡수 하우징(276), 상기 흡수 하우징(236) 내에 배치된 흡수체(277), 및 상기 흡수 하우징(276)의 배면에 설치된 냉각부(278)를 포함한다.
상기 제 2 레이저 클리닝 장치(270)의 구조 및 작용은 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(230)와 동일하므로, 여기서는 설명을 생략하기로 한다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(271) 및 제 2 레이저 흡수 유니트(275)에 대응되는 제 2 하우징(204)에는 각각의 레이저 투과창(205)이 설치될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 레이저 마스크 시스템(210)의 주변에는 제 1 레이저 클리닝 장치(230)가 설치되고, 상기 레이저 리시버(250)의 주변에는 제 2 레이저 클리닝 장치(270)가 설치될 수 있다.
상기 제 2 레이저 빔(L2)은 상기 제 1 레이저 통과홀(203)를 차단하는 커튼 역할을 하고, 상기 제 3 레이저 빔(L3)은 상기 제 2 레이저 통과홀(206)을 차단하는 커튼 역할을 할 수 있다.
이에 따라, 상기 챔버(도 1의 101) 내부로부터 발생한 이물질이 상기 레이저 마스크 시스템(210) 및 레이저 리시버(250)를 오염시키는 것을 방지할 수 있다.
이하, 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조번호는 동일한 기능을 하는 동일한 부재를 가리키므로, 중복되는 설명을 생략하며, 각각의 실시예의 주요 특징부만 선택적으로 설명하기로 한다.
도 4는 도 2의 변형예에 따른 레이저 클리닝 장치(400)를 도시한 구성도이다.
도면을 참조하면, 제 1 하우징(201) 내에는 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(410)가 설치될 수 있다. 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(410)는 제 3 하우징(413) 내에 설치될 수 있다.
도 2의 레이저 마스크 시스템(210)과는 달리, 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(410)는 복수개를 포함하며, 상기 제 3 하우징(413)의 내부에 소정 간격 배열될 수 있다. 복수의 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(410)는 기판(도 1의 102)의 하측으로 동시에 조사할 수 있으며, 복수의 레이저 마스크용 제 1 레이저 빔(L1)을 조사할 수 있다.
제 1 레이저 클리닝 장치(230)는 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(410) 주변에 설치되며, 제 2 레이저 빔(L2)은 상기 제 1 하우징(201)에 배치된 제 1 레이저 통과홀(203)을 선택적으로 차단할 수 있다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 장치(500)를 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 상기 레이저 장치(500)는 제 1 하우징(501)에 결합된 레이저 마스크 시스템(210) 및 제 1 레이저 클리닝 장치(230), 제 2 하우징(504)에 결합된 레이저 리시버(250), 및 제 2 레이저 클리닝 장치(270)를 포함한다.
상기 제 1 하우징(501)에는 레이저 마스크 시스템(210)으로부터 조사되며, 레이저 마스크를 형성하는 제 1 레이저 빔(L1)이 통과하는 제 1 레이저 통과홀(503)이 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 하우징(501)의 내부는 진공 상태를 유지할 수 있다. 상기 제 1 하우징(501)의 제 1 레이저 통과홀(503)은 진공 챔버(101)에 연통될 수 있다. 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(230)에 구비된 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231) 및 제 1 레이저 흡수 유니트(235)는 상기 제 1 하우징(501)의 외부에 배치될 수 있다.
상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(231)로부터 조사되어 상기 제 1 레이저 흡수 유니트(235)로 흡수되는 제 2 레이저 빔(L2)의 진행 경로에 대응되는 제 1 하우징(501)에는 상기 제 1 하우징(501)의 내부를 진공 상태로 유지하기 위하여 각각의 레이저 투과창(502)이 설치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 하우징(501)에 배치된 제 1 레이저 통과홀(503)에는 상기 제 2 레이저 빔(L2)에 의하여 분해된 이물질이 외부로 배출될 수 있는 통로인 제 1 배기관(504)이 연결될 수 있다.
상기 제 2 하우징(504)에는 레이저 마스크를 형성한 제 1 레이저 빔(L1)이 통과할 수 있는 제 2 레이저 통과홀(506)이 배치될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 제 2 레이저 클리닝 장치(270)에 구비된 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트(271) 및 제 2 레이저 흡수 유니트(275)에 대응되는 제 2 하우징(504)에는 각각의 레이저 투과창(505)이 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 2 하우징(504)에 배치된 제 2 레이저 통과홀(506)에는 제 2 레이저 클리닝 장치(270)로부터 조사된 제 3 레이저 빔(L3)에 의하여 분해된 이물질이 외부로 배출될 수 있는 통로인 제 2 배기관(507)이 연결될 수 있다.
이처럼, 제 1 하우징(501)에 배치된 제 1 레이저 통과홀(503)에는 제 1 배기관(503)이 연결되고, 제 2 하우징(504)에 배치된 제 2 레이저 통과홀(506)에는 제 2 배기관(507)이 연결되므로, 이물질은 펌핑(pumping)에 의하여 신속하게 챔버(도 1의 101) 외부로 배출될 수 있다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 장치(600)를 도시한 구성도이다.
도면을 참조하면, 상기 레이저 장치(600)는 제 1 하우징(601)에 결합된 레이저 마스크 시스템(610)을 포함한다.
상기 레이저 마스크 시스템(610)은 챔버(도 1의 101)의 일측에 배치된 제 1 하우징(601)에 결합될 수 있다. 상기 제 1 하우징(601)에는 제 1 레이저 통과홀(603)이 설치될 수 있다. 앞선 실시예들과는 달리, 상기 제 1 레이저 통과홀(603)에는 제 1 레이저 투과창(602)이 배치될 수 있다.
상기 레이저 마스크 시스템(610)은 레이저 마스크를 형성하는 제 1 레이저 빔(L1)을 조사하는 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611)를 포함한다. 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611)는 제 1 하우징(601)의 외부에 설치될 수 있다.
상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611)는 광 케이블(612)를 매개로 하여 레이저 마스크 광학 유니트(614)에 연결될 수 있다. 상기 레이저 마스크용 레이저 마스크 광학 유니트(614)는 복수의 제 1 렌즈(615), 빔 분할부(616), 및 콜리메이팅 렌즈(617)를 포함한다. 상기 레이저 마스크 광학 유니트(614)는 제 3 하우징(613) 내에 설치될 수 있다. 상기 제 3 하우징(613)은 상기 제 1 하우징(601) 내에 위치할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 제 3 하우징(613)은 XYZ 이동 스테이지(618)에 의하여 X축, Y축, Z축중 적어도 어느 한 축으로 이동할 수 있다. 상기 XYZ 이동 스테이지(618)의 수평 운동, 또는, 수직 운동에 의하여 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)은 상기 제 1 레이저 투과창(602)을 투과할 수 있다.
상기 제 3 하우징(613)에는 제 1 레이저 투과창(602)이 배치되므로, 증착 공정동안 발생한 이물질은 제 1 레이저 통과홀(603)을 통하여 상기 레이저 마스크 광학 유니트(614)를 오염시키지 않을 수 있다. 그러나, 상기 제 1 레이저 투과창(602)에는 이물질이 축적되어서 오염될 수 있다.
상기 제 1 하우징(601)에는 제 1 레이저 투과창(602)에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 제 1 레이저 클리닝 장치(630)가 설치될 수 있다.
상기 제 1 레이저 투과창(602)에 마주보는 상기 제 3 하우징(613)의 일단(619)에는 제 1 클리닝 승강부(631)가 설치될 수 있다. 상기 제 1 클리닝 승강부(631)는 공압 실린더를 이용하여 수직 방향(Z 방향)으로 승강 운동할 수 있다.
상기 제 1 클리닝 승강부(631) 상에는 제 1 클리닝용 광학 유니트(632)가 배치될 수 있다. 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(632)는 제 1 클리닝 승강부(631)의 승강 운동에 따라 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)의 경로 상에 선택적으로 배치될 수 있다.
상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(632)는 마이크로 포커싱 렌즈 어레이를 포함한다. 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(632)는 분기화된 제 1 레이저 빔(L1)과 동일한 수의 마이크로 포커싱 렌즈 어레이를 가질 수 있다. 이에 따라, 각각의 제 1 레이저 빔(L1)은 상기 제 1 레이저 투과창(602)에 집속될 수 있다.
상기 제 1 레이닝 클리닝 장치(630)는 상기 레이저 마스크 시스템(610)을 이용하여 레이저 마스크를 형성하기 이전에 작동할 수 있다.
상기 XYZ 이동 스테이지(618)를 이용하여 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611), 또는, 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(632)를 X 방향, Y 방향, Z 방향중 어느 한 방향으로 이동시킬 수 있다.
상기 제 1 클리닝 승강부(631)를 승강 운동에 의하여, 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(632)는 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)의 경로 상에 위치할 수 있다.
상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(611)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)은 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(632)를 통과하게 되고, 상기 제 1 레이저 투과창(602)에 집속할 수 있다.
이에 따라, 상기 제 1 레이저 투과창(602)을 세정하게 된다.
한편, 챔버(도 1의 101)의 타측에는 제 1 레이저 빔(L1)을 수신하는 레이저 리시버(650)가 설치될 수 있다. 상기 레이저 리시버(650)는 제 4 하우징(651)에 설치된 리시버(652)를 포함한다. 제 4 하우징(651)에는 제 1 레이저 빔(L1)이 통과되는 경로에 제 2 레이저 투과창(605)이 설치될 수 있다. 상기 리시버(652)는 상기 제 2 레이터 투과창(605)을 통과한 제 1 레이저 빔(L1)을 수신할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 레이저 리시버(659)에 레이저 클리닝 장치가 설치될 수 있음은 물론이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 장치(700)를 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 상기 레이저 장치(700)는 제 1 하우징(701) 내에 설치된 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)를 포함한다. 일 실시예에 있어서, 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)는 제 3 하우징(713)에 결합될 수 있다. 상기 제 3 하우징(713)은 상기 제 1 하우징(701) 내부에 설치될 수 있다.
도 6의 레이저 마스크 시스템(610)과는 달리, 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)는 수평 방향, 또는, 수직 방향으로 소정 간격 이격되게 배열될 수 있다. 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)는 복수의 레이저 마스크용 제 1 레이저 빔(L1)을 동시에 조사할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 제 3 하우징(713)은 XYZ 이동 스테이지(718)에 의하여 X축, Y축, Z축중 적어도 어느 한 축으로 이동할 수 있다. 제 3 하우징(713)에는 제 1 레이저 통과홀(703)에 제 1 레이저 투과창(702)이 배치될 수 있다.
상기 제 1 하우징(701)에는 제 1 레이저 투과창(702)에 잔존하는 이물질을 제거하기 위한 제 1 레이저 클리닝 장치(730)가 설치될 수 있다. 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(730)는 제 3 하우징(713)의 일단에 결합되며, Z 방향으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부(731)와, 상기 제 1 클리닝 승강부(731) 상에 배치되며, 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)의 경로상에 배치된 제 1 클리닝용 광학 유니트(732)를 포함한다. 일 실시예에 있어서, 제 1 클리닝용 광학 유니트(732)는 마이크로 포커싱 렌즈 어레이를 포함한다.
한편, 챔버(도 1의 101)의 타측에는 제 1 레이저 빔(L1)을 반사시키는 반사 유니트(750)가 설치될 수 있다. 상기 반사 유니트(750)는 제 2 하우징(751) 내에 배치된 반사 미러(752)를 포함한다.
상기 반사 미러(752)는 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)의 경로 상에 배치될 수 있다. 상기 반사 미러(752)는 기판(102)의 하측으로 진행하는 제 1 레이저 빔(L1)을 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)가 설치된 방향으로 반사시킬 수 있다.
상기 반사 미러(752)는 소정의 각도를 가지고 설치될 수 있다. 반사된 제 1 레이저 빔(L1)은 복수의 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)로부터 조사된 이웃하는 제 1 레이저 빔(L1) 사이로 진행할 수 있다. 이에 따라, 레이저 마스크를 형성하기 위한 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(710)의 개수를 줄일 수 있다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 장치(800)를 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 상기 레이저 장치(800)는 제 1 하우징(801)에 결합되는 레이저 마스크 시스템(810)을 포함한다. 상기 제 1 하우징(801)에는 제 1 레이저 통과홀(803)이 설치될 수 있다. 상기 제 1 레이저 통과홀(803)에는 제 1 레이저 투과창(802)이 배치될 수 있다.
상기 레이저 마스크 시스템(810)은 레이저 마스크를 형성하는 제 1 레이저 빔(L1)을 조사하는 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(811)를 포함한다.
상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(811)는 광 케이블(812)를 매개로 하여 레이저 마스크 광학 유니트(814)에 연결될 수 있다. 상기 레이저 마스크 광학 유니트(814)는 복수의 제 1 렌즈(815), 빔 분할부(816), 및 콜리메이팅 렌즈(817)를 포함한다. 상기 레이저 마스크 광학 유니트(814)는 제 3 하우징(813) 내에 설치될 수 있다. 상기 제 3 하우징(813)은 상기 제 1 하우징(801) 내에 배치할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 제 3 하우징(813)은 XYZ 이동 스테이지(818)에 의하여 X축, Y축, Z축중 적어도 어느 한 축으로 이동할 수 있다. 제 3 하우징(813)에는 제 1 레이저 통과홀(803)에 제 1 레이저 투과창(802)이 배치될 수 있다.
챔버(도 1의 101)의 타측에는 제 1 레이저 빔(L1)을 수신하는 레이저 리시버(850)가 설치될 수 있다. 상기 레이저 리시버(850)는 제 4 하우징(851)에 설치된 리시버(852)를 포함한다. 제 4 하우징(851)에는 제 1 레이저 빔(L1)이 통과되는 경로에 제 2 레이저 투과창(805)이 설치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 하우징(801)에는 복수의 레이저 클리닝 장치(830)(840)가 설치될 수 있다. 도 7의 제 1 레이저 클리닝 장치(730)와는 달리, 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(830)는 제 3 하우징(813)의 양단에 결합될 수 있다.
상기 제 1 레이저 투과창(802)에 마주보는 상기 제 3 하우징(813)의 제 1 단(819)에는 제 1 레이저 클리닝 장치(830)가 설치되며, Z축 방향으로 상기 제 3 하우징(813)의 제 1 단(819)에 마주보는 제 3 하우징(813)의 제 2 단(820)에는 제 2 레이저 클리닝 장치(830)가 설치될 수 있다.
상기 제 1 레이저 클리닝 장치(830)는 Z축 방향으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부(831)와, 상기 제 1 클리닝 승강부(831) 상에 배치되며, 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(810)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)의 경로 상에 선택적으로 배치되는 제 1 클리닝용 광학 유니트(832)를 포함한다. 일 실시예에 있어서, 제 1 클리닝용 광학 유니트(732)는 마이크로 포커싱 렌즈 어레이를 포함한다. 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(830)는 상기 제 1 레이저 투과창(802)을 세정할 수 있다.
상기 제 2 레이저 클리닝 장치(840)는 제 2 클리닝 승강부(841)와, 제 2 클리닝 승강부(841) 상에 설치된 제 2 클리닝용 광학 유니트(842)를 포함한다. 상기 제 2 레이저 클리닝 장치(840)의 구성 및 구동 방식은 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(830)의 구성 및 구동 방식이 동일할 수 있다. 상기 제 2 레이저 클리닝 장치(840)는 상기 제 2 레이저 투과창(805)을 세정할 수 있다.
이처럼, 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(830) 및 제 2 레이저 클리닝 장치(840)는 선택적으로 제 1 레이저 빔(L1)의 경로 상에 배치되어서, 제 1 레이저 투과창(802) 및 제 2 레이저 투과창(805)을 세정할 수 있다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 장치(900)를 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 상기 레이저 장치(900)는 제 1 하우징(901)에 결합된 레이저 마스크 시스템(910)을 포함한다. 상기 제 1 하우징(901)에는 제 1 레이저 통과홀(903)이 설치될 수 있다. 상기 제 1 레이저 통과홀(903)에는 제 1 레이저 투과창(902)이 배치될 수 있다.
상기 레이저 마스크 시스템(910)은 레이저 마스크를 형성하는 제 1 레이저 빔(L1)을 조사하는 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(911)를 포함한다. 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(911)는 광 케이블(912)를 매개로 하여 레이저 마스크 광학 유니트(914)에 연결될 수 있다. 상기 레이저 마스크 광학 유니트(914)는 복수의 제 1 렌즈(915), 빔 분할부(916), 및 콜리메이팅 렌즈(917)를 포함한다. 상기 레이저 마스크 광학 유니트(914)는 제 3 하우징(913) 내에 설치될 수 있다. 상기 제 3 하우징(913)은 상기 제 1 하우징(901) 내에 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 제 3 하우징(913)은 XYZ 이동 스테이지(918)에 의하여 X축, Y축, Z축중 적어도 어느 한 축으로 이동할 수 있다.
챔버(도 1의 101)의 타측에는 제 1 레이저 빔(L1)을 수신하는 레이저 리시버(950)가 설치될 수 있다. 상기 레이저 리시버(950)는 제 4 하우징(951)에 설치된 리시버(952)를 포함한다. 제 4 하우징(951)에는 제 1 레이저 빔(L1)이 통과되는 경로에 제 2 레이저 투과창(905)이 설치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 하우징(901)에는 제 1 레이저 클리닝 장치(930)가 설치될 수 있다. 도 8의 복수의 레이저 클리닝 장치(830)(840)와는 달리, 상기 제 1 레이저 클리닝 장치(930)는 제 3 하우징(913)의 일단(919)에 설치되어서, 상기 제 1 레이저 투과창(902) 및 제 2 레이저 투과창(905)을 선택적으로 세정할 수 있다.
상기 제 1 레이저 투과창(902)에 마주보는 상기 제 3 하우징(913)의 제 1 단(919)에는 제 1 레이저 클리닝 장치(930)가 설치될 수 있다.
상기 제 1 레이저 클리닝 장치(930)는 Z축 방향으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부(931)를 구비한다. 상기 제 1 클리닝 승강부(931) 상에는 제 1 클리닝용 광학 유니트(932)가 설치될 수 있다. 상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(932) 상에는 제 2 클리닝용 광학 유니트(933)가 설치될 수 있다.
상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(932) 및 제 2 클리닝용 광학 유니트(933)는 상기 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트(910)로부터 조사되는 제 1 레이저 빔(L1)의 경로 상에 선택적으로 배치될 수 있다.
상기 제 1 클리닝용 광학 유니트(932)를 통과한 제 1 레이저 빔(L1)은 제 1 레이저 투과창(902)을 세정할 수 있고, 제 2 클리닝용 광학 유니트(933)를 통과한 제 1 레이저 빔(L1)은 제 2 레이저 투과창(905)을 세정할 수 있다.
100...박막 증착 장치 101...챔버
102...기판 105...증착 소스
130...레이저 마스크 시스템 150...레이저 리시버
200...레이저 장치 201...제 1 하우징
203...제 1 레이저 통과홀 206...제 2 레이저 통과홀
210...레이저 마스크 시스템 211...레이저 스캐닝 유니트
230...제 1 레이저 클리닝 장치 250...레이저 리시버
270...제 2 레이저 클리닝 장치
102...기판 105...증착 소스
130...레이저 마스크 시스템 150...레이저 리시버
200...레이저 장치 201...제 1 하우징
203...제 1 레이저 통과홀 206...제 2 레이저 통과홀
210...레이저 마스크 시스템 211...레이저 스캐닝 유니트
230...제 1 레이저 클리닝 장치 250...레이저 리시버
270...제 2 레이저 클리닝 장치
Claims (17)
- 기판이 수용되는 챔버;
상기 기판을 향하여 증착 물질을 증발시키는 증착 소스;
상기 챔버의 일측에 결합된 제 1 레이저 통과홀을 가지는 제 1 하우징에 설치되며, 상기 제 1 레이저 통과홀을 통하여 상기 기판과 증착 소스 사이에 배치되는 레이저 마스크용 제 1 레이저 빔을 조사하는 레이저 마스크 시스템; 및
상기 제 1 하우징에 설치되며, 상기 증착 물질로부터 발생된 이물질이 상기 레이저 마스크 시스템을 오염시키는 것을 차단하는 제 1 레이저 클리닝 장치;를 포함하는 박막 증착 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 레이저 클리닝 장치는,
제 2 레이저 빔을 조사하는 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트;
상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트로부터 조사되는 제 2 레이저 빔을 분기화시키는 제 1 제너레이션 모듈;
상기 제 1 제너레이션 모듈의 전방에 배치된 제 1 클리닝용 광학 유니트; 및
상기 제 1 하우징 내에 배치된 적어도 하나의 제 1 미러에 의하여 반사된 제 2 레이저 빔을 흡수하는 제 1 레이저 흡수 유니트;를 포함하되,
상기 제 2 레이저 빔은 상기 제 1 레이저 통과홀을 차단하는 박막 증착 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 레이저 빔의 진행 경로는 상기 제 1 하우징 내부를 둘러싸며, 상기 제 2 레이저 빔은 상기 제 1 하우징에 배치된 제 1 레이저 통과홀을 선택적으로 차단하는 박막 증착 장치. - 제 3 항에 있어서,
상기 제 1 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트 및 제 1 레이저 흡수 유니트는 상기 제 1 하우징의 외부에 배치되며, 이들과 대응되는 제 1 하우징에는 각각의 레이저 투과창이 배치된 박막 증착 장치. - 제 3 항에 있어서,
상기 제 1 레이저 통과홀에는 이물질이 외부로 배출되는 통로인 제 1 배기관이 연결된 박막 증착 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 챔버의 타측에 결합된 제 2 레이저 통과홀을 가지는 제 2 하우징에 설치되며, 상기 레이저 마스크 시스템으로부터 조사된 제 1 레이저 빔을 수신하는 레이저 리시버를 포함하되, 상기 제 2 하우징에는 이물질이 상기 레이저 리시버를 오염시키는 것을 차단하는 제 2 레이저 클리닝 장치가 더 설치된 박막 증착 장치. - 제 6 항에 있어서,
상기 제 2 레이저 클리닝 장치는,
제 3 레이저 빔을 조사하는 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트;
상기 제 2 클리닝용 레이저 스캐닝 유니트로부터 조사되는 제 3 레이저 빔을 분기화시키는 제 2 제너레이션 모듈;
상기 제 2 제너레이션 모듈의 전방에 배치된 제 2 클리닝용 광학 유니트; 및
상기 제 2 하우징 내에 배치된 적어도 하나의 제 2 미러에 의하여 반사된 제 3 레이저 빔을 흡수하는 제 2 레이저 흡수 유니트;를 포함하되,
상기 제 3 레이저 빔은 상기 제 2 레이저 통과홀을 차단하는 박막 증착 장치. - 제 7 항에 있어서,
상기 제 2 레이저 통과홀에는 이물질이 외부로 배출되는 통로인 제 2 배기관이 연결된 박막 증착 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 레이저 통과홀에는 제 1 레이저 투과창이 배치되며,
상기 레이저 마스크 시스템은 상기 제 1 하우징 내에 배치된 제 3 하우징에 설치되며, 상기 제 3 하우징은 XYZ 이동 스테이지에 의하여 X축, Y축, Z축중 적어도 어느 한 축으로 이동가능한 박막 증착 장치. - 제 9 항에 있어서,
상기 제 1 레이저 클리닝 장치는,
상기 제 3 하우징의 일단에 결합되며, Z축으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부; 및
상기 제 1 클리닝 승강부 상에 배치되며, 상기 제 1 클리닝 승강부의 승강 운동에 따라 제 1 레이저 빔을 상기 제 1 레이저 투과창에 집속시키는 제 1 클리닝용 광학 유니트;를 포함하는 박막 증착 장치. - 제 10 항에 있어서,
제 1 클리닝용 광학 유니트는 마이크로 포커싱 렌즈 어레이를 포함하는 박막 증착 장치. - 제 9 항에 있어서,
상기 챔버의 타측에는 제 2 레이저 통과홀을 가지는 제 2 하우징에 결합되며, 상기 제 1 레이저 빔을 수신하는 레이저 리시버가 더 설치되고, 상기 제 2 레이저 통과홀에는 제 2 레이저 투과창이 배치된 박막 증착 장치. - 제 12 항에 있어서,
제 3 하우징의 제 1 단에는 Z축으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부와, 상기 제 1 클리닝 승강부 상에 배치되며, 제 1 레이저 빔을 제 1 레이저 투과창에 집속시키는 제 1 클리닝용 광학 유니트를 구비하는 제 1 레이저 클리닝 장치가 설치되고,
상기 제 1 단에 마주보는 제 3 하우징의 제 2 단에는 Z축으로 승강 운동하는 제 2 클리닝 승강부와, 상기 제 2 클리닝 승강부 상에 배치되며, 제 1 레이저 빔을 제 2 투과창에 집속시키는 제 2 클리닝 광학 유니트를 구비하는 제 2 레이저 클리닝 장치가 설치된 박막 증착 장치. - 제 12 항에 있어서,
상기 제 1 레이저 클리닝 장치는,
제 3 하우징의 일단에 결합되며, Z축으로 승강 운동하는 제 1 클리닝 승강부;
상기 제 1 클리닝 승강부 상에 설치되며, 제 1 레이저 빔을 상기 제 1 레이저 투과창에 집속시키는 제 1 클리닝용 광학 유니트; 및
상기 제 1 클리닝용 광학 유니트 상에 설치되며, 제 1 레이저 빔을 상기 제 2 레이저 투과창에 집속시키는 제 2 클리닝 광학 유니트;를 포함하는 박막 증착 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 레이저 마스크 시스템은,
상기 제 1 레이저 빔을 조사하는 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트; 및
상기 제 1 레이저 빔을 분할하여 복수의 마스크 레이저 빔을 생성하는 레이저 마스크용 광학 유니트;를 포함하는 박막 증착 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 레이저 마스크 시스템은 레이저 마스크용 제 1 레이저 빔을 동시에 조사하는 복수의 레이저 마스크용 레이저 스캐닝 유니트를 포함하는 박막 증착 장치. - 제 16 항에 있어서,
상기 제 1 레이저 빔의 진행 경로 상에는 상기 기판과 증착 소스 사이를 통과한 제 1 레이저 빔을 상기 레이저 스캐닝 유니트가 설치된 방향으로 반사시키는 반사 미러가 더 설치된 박막 증착 장치.
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|---|---|---|---|
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Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003171757A (ja) | 2001-12-07 | 2003-06-20 | Imt Co Ltd | レーザを用いる乾式表面クリーニング装置 |
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|---|---|---|---|---|
| US20090242526A1 (en) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser micromachining through a protective member |
-
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- 2016-02-05 KR KR1020160015005A patent/KR102393375B1/ko active IP Right Grant
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