KR102388833B1 - Vaporization system using canister with effective cell group - Google Patents

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Abstract

일 실시예에 따르면, 소스를 저장하기 위한 복수의 셀을 구비한 캐니스터에 있어서, 인렛; 아웃렛; 소스를 저장할 수 있는 복수의 셀들; 및 상기 인렛을 통해서 유입되는 캐리어 가스가 상기 복수의 셀들을 경유하여 순차적으로 이동한 후 상기 아웃렛을 통해서 배출되도록 하는 내부 유로; 상기 복수의 셀들은 서로 구획화되어 있고, 상기 복수의 셀들 중에서 상기 캐리어 가스가 경유하는 첫 번째 셀의 크기가 가장 큰 것을 특징으로 하는, 캐니스터가 제공될 수 있다. According to one embodiment, there is provided a canister having a plurality of cells for storing a source, comprising: an inlet; outlet; a plurality of cells capable of storing a source; and an internal flow path through which the carrier gas introduced through the inlet is discharged through the outlet after sequentially moving through the plurality of cells; The plurality of cells are partitioned from each other, and among the plurality of cells, a first cell through which the carrier gas passes has the largest size, a canister may be provided.

Description

이펙티브 셀 그룹을 구비한 캐니스터를 이용한 잔량이 최소화될 수 있는 기화기 시스템{VAPORIZATION SYSTEM USING CANISTER WITH EFFECTIVE CELL GROUP}Vaporizer system that can minimize the residual amount using a canister having an effective cell group {VAPORIZATION SYSTEM USING CANISTER WITH EFFECTIVE CELL GROUP}

본 발명은 이펙티브 셀 그룹을 구비한 캐니스터를 이용한 잔량이 최소화될 수 있는 기화기 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a vaporizer system in which a residual amount using a canister having an effective cell group can be minimized.

반도체, 디스플레이, 발광다이오드 등 전자재료의 제조 공정에 있어서 필수적인 박막을 입히는 화학기상장치(CVD)나 원자층 증착장치(ALD) 등과 같은 처리 장비에 사용되는 각종 원료(소스)는 가스, 액체, 또는 고체의 형태로 공급된다. Various raw materials (sources) used in processing equipment such as chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD), which coat a thin film essential in the manufacturing process of electronic materials such as semiconductors, displays, and light emitting diodes, are gas, liquid, or Supplied in solid form.

가스의 형태를 가진 원료의 경우는 압력을 조절하여 일정량을 공급할 수 있는 방법으로 사용되지만 액체나 고체의 경우에는 자체적인 압력이 매우 낮기 때문에 대부분 캐니스터라는 앰플에 담아서, 캐리어 가스(불활성 가스)를 이용한 버블링이나 가열을 통한 증기 발생을 통해서 기화를 시킨 이후에 반응 챔버로 공급하는 방법을 사용하고 있다. In the case of raw materials in the form of gas, it is used as a method that can supply a certain amount by controlling the pressure, but in the case of liquids or solids, since their own pressure is very low, most of them are put in an ampoule called a canister, After vaporization through steam generation through bubbling or heating, a method of supplying it to the reaction chamber is used.

캐니스터에 액체 형태의 원료를 넣은 후 일정량씩 기화시켜 사용하는 방법에 대하여 다양한 기술들이 공지되어 있고, 고체 형태의 원료를 기화시키기 위해서도 다양한 기술들이 공지되어 있다. 예를 들면, 고체 원료를 기화시키는 종래 기술의 하나로서 한국특허 공개공보 제10-2010-0137016호(2010. 12. 29)("기화기, 기화기 사용 방법, 기화 장치 사용 방법, 용기, 기화기 유닛 및 반도체 프로세스 챔버용 증기 발생 방법")에 공개된 것이 있다. Various techniques are known for a method of vaporizing a predetermined amount of a raw material in a liquid form into a canister and then using it, and various techniques are also known for vaporizing a raw material in a solid form. For example, as one of the prior art for vaporizing solid raw materials, Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2010-0137016 (2010. 12. 29) (“Vaporizer, method of using vaporizer, method of using vaporizer, container, vaporizer unit and Methods for generating vapors for semiconductor process chambers").

도 1은 종래의 기화기를 설명하기 위한 도면이다. 1 is a view for explaining a conventional vaporizer.

도 1을 참조하면, 종래의 기화기는 소스를 저장하는 소스 저장공간과 유로가 구비된 캐니스터(B)와, 캐니스터(B)로 유체를 주입하기 위한 인렛, 기화된 물질과 캐리어 가스를 외부로 배출하기 위한 아웃렛, 다양한 밸브들(V1, V2, V3, V4, V5, V6)과 라인들(L1, L2)을 포함한다. Referring to FIG. 1 , a conventional vaporizer includes a canister (B) having a source storage space and a flow path for storing a source, an inlet for injecting a fluid into the canister (B), and discharging the vaporized material and carrier gas to the outside. outlet, including various valves (V1, V2, V3, V4, V5, V6) and lines (L1, L2).

캐니스터(B)에는 소스가 채워진 저장공간에 유로가 인접하여 위치되어 있고, 그러한 유로를 통해서 캐리어 가스가 이동하면서 소스의 기화를 촉진시킨다. 유로에 채워진 소스는 소정의 압력과 온도에서 기화되며, 캐리어 가스와 접촉됨으로써 소스의 기화가 촉진될 수 있다.A flow path is located adjacent to the storage space filled with the source in the canister (B), and the carrier gas moves through the flow path to promote vaporization of the source. The source filled in the flow path is vaporized at a predetermined pressure and temperature, and by coming into contact with the carrier gas, vaporization of the source may be promoted.

기화기는 기화 모드와 퍼지 모드를 가지며, 기화 모드에서는 도 2에 도시된 바와 같이, 캐니스터(B)가 가열되고, 캐리어 가스가 밸브들(V1, V5)을 경유하여 인렛으로 주입되면, 캐니스터(B)에 저장된 소스가 기화되어 기화된 소스와 캐리어 가스가 밸브들(V6, V4)을 경유하여 처리 설비로 이동하는 동작이 수행된다. 기화 모드에서는 밸브들(V2, V3)는 유체가 흐르지 못하도록 폐쇄된 상태이다. The vaporizer has a vaporization mode and a purge mode, and in the vaporization mode, as shown in FIG. 2 , when the canister B is heated and the carrier gas is injected into the inlet via the valves V1 and V5, the canister B ) is vaporized and the vaporized source and carrier gas move to the processing facility via the valves V6 and V4. In the vaporization mode, the valves V2 and V3 are closed to prevent the fluid from flowing.

한편, 유로에서의 기화 패턴은 유로를 지날수록(즉, 캐리어 가스가 유입된 지점으로부터 멀어질수록) 포화도가 점차 증가하며, 유로의 후반부에서는 기화가 거의 발생하지 않는다(도 3 참조). 여기서, 포화도는 소스에 대한 것으로서 다음과 같이 정의될 수 있다. On the other hand, in the vaporization pattern in the flow path, the degree of saturation gradually increases as it passes through the flow path (ie, the farther away from the point where the carrier gas is introduced), and almost no vaporization occurs in the second half of the flow path (refer to FIG. 3 ). Here, the degree of saturation may be defined as for the source as follows.

포화도 = (현재 기화된 양/ 최대로 기화될 수 있는 양) * 100 (%)Saturation = (current vaporized amount / maximum vaporized amount) * 100 (%)

유로에서 소스의 기화가 진행됨에 따라 소스의 양이 줄어들기 때문에, 유로에 위치된 소스의 표면적(캐리어 가스와 접촉하는 부분)은 어느 순간부터 줄어들게 된다. 즉, 유로에 남은 소스(기화되지 않은 상태의 소스)의 표면적은 포화 표면적보다 적어지기 시작하며 이때부터 기화량이 급속히 줄어들기 시작한다(도 4 참조). 여기서, 포화 표면적은 소스의 포화도가 100%에 가까워지는 소스의 표면적을 의미한다.Since the amount of the source decreases as the source vaporizes in the flow path, the surface area (part in contact with the carrier gas) of the source positioned in the flow path decreases from a certain moment. That is, the surface area of the source remaining in the flow path (the source in a non-vaporized state) starts to become smaller than the saturated surface area, and from this point on, the vaporization amount starts to decrease rapidly (refer to FIG. 4 ). Here, the saturated surface area means the surface area of the source at which the saturation of the source approaches 100%.

기화량이 줄어들기 시작하는 순간부터는 캐니스터에 소스가 남아 있더라도 더 이상 캐니스터를 사용할 수 없으며(왜냐하면, 처리 설비에서는 일정량의 기화량이 필요하기 때문임), 이때 캐니스터에 남은 소스의 량을 잔량이라고 부른다. 잔량이 많을 수록 비경제적이므로, 캐니스터는 소스의 잔량이 최소화되도록 설계된다.From the moment when the vaporization amount starts to decrease, the canister can no longer be used even if there is still source in the canister (because the processing facility requires a certain amount of vaporization amount), and the amount of sauce remaining in the canister at this time is called the residual amount. Since it is uneconomical as the remaining amount is large, the canister is designed to minimize the remaining amount of the source.

예를 들면, 한국공개특허 10-2014-0133641에는 소스의 잔량을 줄이고 안정적인 기화량을 보장하기 위해 유로가 충분히 길도록 설계된 곡선형이면서 적층형 기화기가 개시되어 있다(도 5 참조). 도 5를 참조하면, 도관 3으로 유입된 캐리어 가스가 이동하는 경로(화살표로 표시되어 있음)가 하부로부터 상부로 가면서 최대한 길게 설계되어 있음을 알 수 있다. 참고로, 도 5에서의 도면 부호들은 한국공개특허 10-2014-0133641에서 부여된 것이므로, 본원 명세서의 상세한 설명에서 언급되는 도면번호들과는 무관한 것임을 당업자는 알아야 한다. For example, Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2014-0133641 discloses a curved and stacked vaporizer designed to have a sufficiently long flow path to reduce the residual amount of sauce and ensure a stable vaporization amount (see FIG. 5 ). Referring to FIG. 5 , it can be seen that the path (indicated by an arrow) through which the carrier gas introduced into the conduit 3 moves is designed to be as long as possible from the bottom to the top. For reference, since the reference numerals in FIG. 5 are given in Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0133641, those skilled in the art should know that they are irrelevant to the reference numbers mentioned in the detailed description of the present specification.

다른 예를 들면, 한국등록특허 10-1247824에도 유로가 길도록 설계된 기화기가 개시되어 있다. 여기서의 기화기도, 기화되는 물질이 가스(예를 들면, 캐리어 가스)에 노출되는 표면적이 증가되는 방향으로 설계되어 있음을 알 수 있다. As another example, Korean Patent No. 10-1247824 also discloses a vaporizer designed to have a long flow path. It can be seen that the vaporizer here is also designed in such a way that the surface area of the vaporized material exposed to the gas (eg, carrier gas) is increased.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 이펙티브 셀 그룹을 구비한 캐니스터를 이용한 잔량이 최소화될 수 있는 기화기 시스템이 제공된다. According to an embodiment of the present invention, there is provided a vaporizer system in which a residual amount using a canister having an effective cell group can be minimized.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기화기들을 직렬로 연결하여 사용함으로써 소스의 잔량이 최소화되도록 하는 기화기 시스템이 제공된다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a vaporizer system that minimizes the residual amount of the source by using the vaporizers connected in series.

일 실시예에 따르면, 소스를 저장하기 위한 복수의 셀을 구비한 캐니스터에 있어서, 인렛; 아웃렛; 소스를 저장할 수 있는 복수의 셀들; 및 상기 인렛을 통해서 유입되는 캐리어 가스가 상기 복수의 셀들을 경유하여 순차적으로 이동한 후 상기 아웃렛을 통해서 배출되도록 하는 내부 유로; 상기 복수의 셀들은 서로 구획화되어 있고, 상기 복수의 셀들 중에서 상기 캐리어 가스가 경유하는 첫 번째 셀의 크기가 가장 큰 것을 특징으로 하는, 캐니스터가 제공될 수 있다.According to one embodiment, there is provided a canister having a plurality of cells for storing a source, comprising: an inlet; outlet; a plurality of cells capable of storing a source; and an internal flow path through which the carrier gas introduced through the inlet is discharged through the outlet after sequentially moving through the plurality of cells; The plurality of cells are partitioned from each other, and among the plurality of cells, a first cell through which the carrier gas passes has the largest size, a canister may be provided.

다른 실시예에 따르면, 소스를 저장하기 위한 복수의 셀을 구비한 캐니스터에 있어서,According to another embodiment, in a canister having a plurality of cells for storing a source,

인렛; 아웃렛; 소스를 저장할 수 있는 복수의 셀들; 및 상기 인렛을 통해서 유입되는 캐리어 가스가 상기 복수의 셀들을 경유하여 순차적으로 이동한 후 상기 아웃렛을 통해서 배출되도록 하는 내부 유로;를 포함하며, 상기 복수의 셀들은 서로 구획화되어 있고, 이펙티브 셀 그룹에 속한 셀들 중에서 캐리어 가스가 가장 먼저 경유하는 셀의 크기가 가장 크며, 상기 이펙티브 셀 그룹은 상기 복수의 셀들 중 적어도 2개 이상을 포함하는 것인, 캐니스터가 제공될 수 있다.inlet; outlet; a plurality of cells capable of storing a source; and an internal flow path for allowing the carrier gas introduced through the inlet to sequentially move through the plurality of cells and then to be discharged through the outlet; A canister may be provided, in which a cell through which the carrier gas first passes has the largest size among cells belonging to the group, and the effective cell group includes at least two or more of the plurality of cells.

다른 실시예에 따르면, 유체가 이동할 수 있는 경로인 제1유로, 제1유로와 연통되어 제1유로에게 유체를 주입하기 위한 제1인렛과, 제1유로와 연통되어 있고 기화된 물질을 외부로 배출하기 위한 제1아웃렛을 구비한 제1캐니스터를 포함하는 제1기화기; 및 유체가 이동할 수 있는 경로인 제2유로, 제2유로와 연통되어 제2유로에게 유체를 주입하기 위한 제2인렛과, 제2유로와 연통되어 있고 기화된 물질을 외부로 배출하기 위한 제2아웃렛을 구비한 제2캐니스터를 포함하는 제2기화기; 및According to another embodiment, a first flow path that is a path through which the fluid can move, a first inlet communicated with the first flow path to inject a fluid into the first flow path, and a first inlet communicated with the first flow path and vaporized material to the outside a first vaporizer comprising a first canister having a first outlet for discharging; and a second flow path through which the fluid can move, a second inlet communicating with the second flow path to inject a fluid into the second flow path, and a second communicating with the second flow path and for discharging the vaporized material to the outside a second vaporizer comprising a second canister having an outlet; and

제1기화기와 제2기화기를 직렬 연결시키는 연결 라인;을 포함하며,A connection line connecting the first vaporizer and the second vaporizer in series;

제1캐니스터와 제2캐니스터 중 적어도 하나는, 상술한 캐니스터이고,At least one of the first canister and the second canister is the canister described above,

제1기화기에서 기화된 물질이 상기 연결 라인을 통해서 제2기화기로 이동되는 것인, 기화 시스템이 제공될 수 있다.A vaporization system may be provided, wherein material vaporized in the first vaporizer is transferred to the second vaporizer through the connecting line.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 기화기들을 직렬로 연결하여 사용함으로써 소스의 잔량이 최소화되도록 할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, it is possible to minimize the remaining amount of the source by connecting and using the vaporizers in series.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 복수의 셀로 이루어진 캐니스터에서 각 셀에 저장된 잔량 소스가 편중되지 않게 된다. According to an embodiment of the present invention, in the canister composed of a plurality of cells, the residual amount source stored in each cell is not biased.

도 1 내지 도 5는 종래의 기화기를 설명하기 위한 도면들이다.
도 6과 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기화기 시스템을 설명하기 위한 도면들이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 기화기 시스템의 기술적인 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 제2실시예에 따른 기화 시스템을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 도 9의 실시예의 효과를 개념적으로 설명하기 위한 도면이다.
1 to 5 are views for explaining a conventional vaporizer.
6 and 7 are views for explaining a vaporizer system according to an embodiment of the present invention.
8 is a view for explaining the technical effect of the vaporizer system according to an embodiment of the present invention.
9 is a view for explaining a vaporization system according to the second embodiment.
FIG. 10 is a diagram for conceptually explaining an effect of the embodiment of FIG. 9 .

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.The above objects, other objects, features and advantages of the present invention will be easily understood through the following preferred embodiments in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed subject matter may be thorough and complete, and that the spirit of the present invention may be sufficiently conveyed to those skilled in the art.

본 명세서의 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장되거나 축소된 것이다. In the drawings of the present specification, the thickness of the components is exaggerated or reduced for effective description of technical content.

본 명세서의 다양한 실시예들에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 여기에 설명되고 예시되는 실시예들은 그것의 상보적인 실시예들도 포함한다. In various embodiments of the present specification, terms such as first, second, etc. are used to describe various components, but these components should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Embodiments described and illustrated herein also include complementary embodiments thereof.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In this specification, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, the terms 'comprises' and/or 'comprising' do not exclude the presence or addition of one or more other components.

용어Terms

본원 명세서에서, 용어 '유로'는 가스가 이동될 수 있는 공간을 의미한다. 가스는 예를 들면 캐리어 가스나 기화된 가스일 수 있다.In the present specification, the term 'channel' means a space through which a gas may be moved. The gas may be, for example, a carrier gas or a vaporized gas.

본원 명세서에서, 용어 '직렬'은 복수의 기화기를 연결하는 방식을 나타낸다. 예를 들면, 기화기 A와 기화기 B가 직렬로 연결되어 있다고 언급되면, 기화기 A의 아웃렛으로부터 배출되는 기화 물질이 기화기 B의 인렛으로 유입되도록 연결된 것을 의미한다.In the present specification, the term 'series' refers to a method of connecting a plurality of vaporizers. For example, when it is stated that the vaporizer A and the vaporizer B are connected in series, it means that the vaporized material discharged from the outlet of the vaporizer A is connected to enter the inlet of the vaporizer B.

본원 명세서에서, 용어 '연결'(또는 '연통')은 직접적인 연결(또는 직접적인 연통)과 간접적인 연결(또는 간접적인 연통)을 포함한다. 직접적인 연결은 연결되는 구성요소들 사이에 다른 구성요소가 게재되어 있지 않은 것이고, 간접적인 연결은 연결되는 구성요소들 사이에 다른 하나 이상의 구성요소들이 게재되어 있을 수 있는 것이다. As used herein, the term 'connection' (or 'communication') includes direct connection (or direct communication) and indirect connection (or indirect communication). A direct connection means that no other components are disposed between connected components, and an indirect connection indicates that one or more other components may be disposed between connected components.

본원 명세서에서, '흐름을 조절'한다고 함은 흐름을 막거나, 흐름을 허용하거나, 흐르는 양을 조절하는 것을 포함하는 개념이다. 예를 들면, 유체의 흐름을 조절할 수 있는 구성요소는 유체의 흐름을 막거나, 유체의 흐름을 허용하거나, 흐르는 유체의 양을 조절하는 있는 구성요소로서, 밸브나 유체 부하가 있을 수 있다.As used herein, 'controlling the flow' is a concept including blocking the flow, allowing the flow, or controlling the amount of flow. For example, a component capable of regulating the flow of a fluid is a component that blocks the flow of the fluid, permits the flow of the fluid, or regulates the amount of the flowing fluid, such as a valve or a fluid load.

본원 명세서에서, '밸브'는 유체의 흐름을 조절할 수 있는 구성요소이며, 유체의 흐름을 막거나 유체의 흐름을 허용하거나 흐르는 유체의 양을 조절할 수 있는 구성요소를 의미하며, 예를 들면 온-오프 밸브와 컨트롤 밸브와 같은 기기들일 수 있다.In the present specification, a 'valve' is a component that can control the flow of a fluid, and it means a component that can block the flow of the fluid, allow the flow of the fluid, or control the amount of the flowing fluid, for example, on- They may be devices such as off valves and control valves.

본원 명세서에서, '온-오프 밸브'는 유체의 흐름을 막거나 유체의 흐름을 허용하는 밸브를 의미하고, '컨트롤 밸브'는 유체의 흐름을 막거나 유체의 흐름을 허용하거나 흐르는 유체의 양을 조절할 수 있는 밸브를 의미한다.As used herein, the 'on-off valve' refers to a valve that blocks the flow of a fluid or allows the flow of a fluid, and the 'control valve' blocks the flow of a fluid or allows the flow of a fluid or controls the amount of a flowing fluid A valve that can be adjusted.

본원 명세서에서, '상류'와 '하류'는 유체가 흐르는 라인('유로')에서의 위치를 나타내기 위한 용어들로서, 구성요소 A가 구성요소 B보다 상류에 위치한다고 함은 유체가 구성요소 A에 먼저 도달하고 구성요소 A에 도달한 유체 중 적어도 일부의 유체가 구성요소 B에 도달하는 것을 의미한다. 또한, 구성요소 A가 구성요소 B보다 하류에 위치한다고 함은 유체가 구성요소 B에 먼저 도달하고 구성요소 B에 도달한 유체 중 적어도 일부의 유체가 구성요소 A에 도달하는 것을 의미한다. In this specification, 'upstream' and 'downstream' are terms for indicating a position in a line ('flow path') through which a fluid flows, and that the component A is located upstream than the component B means that the fluid is the component A It means that at least some of the fluids that arrive first and reach the component A reach the component B. Also, that the component A is located downstream of the component B means that the fluid arrives at the component B first, and that at least some of the fluids that reach the component B reach the component A.

본원 명세서에서, 용어 셀의 ‘크기’라고 함은 셀의 ‘깊이’ 또는 셀의 ‘체적’(부피)를 통칭하는 것으로 사용하기로 한다. In the present specification, the term 'size' of a cell is used to collectively refer to the 'depth' of the cell or the 'volume' (volume) of the cell.

본 발명자들은 긴 유로를 가지는 캐니스터의 경우 유체 입구로부터 기화가 시작되어 출구까지 점차 포화도가 증가하며, 포화도가 충분히 증가되면 캐니스터 출구쪽에 위치한 소스들은 기화 공정에 거의 사용되지 않는다는 점에 주목하였다. The present inventors noted that, in the case of a canister having a long flow path, vaporization starts from the fluid inlet and gradually increases to the outlet, and when the saturation is sufficiently increased, sources located at the outlet of the canister are hardly used in the vaporization process.

그러한 주목에 근거하여 도출된 본 발명에 따른 실시예들은 다음과 같다.Embodiments according to the present invention derived based on such attention are as follows.

첫째, 기화기를 2개 이상 직렬로 연결되도록 구성된 기화 시스템(이하, '제1실시예')First, a vaporization system configured to connect two or more vaporizers in series (hereinafter, 'first embodiment')

둘째, 복수의 셀(소스가 채워지는 공간)을 구비한 캐니스터에서, 셀의 크기를 달리하도록 구성된 기화 시스템(이하, '제2실시예')Second, in a canister having a plurality of cells (a space filled with a source), a vaporization system configured to have different sizes of cells (hereinafter, 'second embodiment')

셋째, 제1실시예와 제2실시예를 결합한 실시예('제3실시예')Third, the embodiment combining the first embodiment and the second embodiment ('third embodiment')

이하에서는, 이들 실시예들에 대하여 순차적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, these embodiments will be sequentially described.

제1실시예first embodiment

제1실시예에 따른 기화 시스템에 따르면, 첫번째 캐니스터에 채워진 소스가 완전히 사용하는 것이 가능하며 첫번째 캐니스터에 채워진 소스가 완전히 사용된 경우라도 두번째 캐니스터에 채워진 소스는 일정한 기화량을 보장할 수 있을 정도로 남아있게 된다. 따라서, 전체 소스 사용량 대비 잔량의 비율이 최소화될 수 있다. According to the vaporization system according to the first embodiment, it is possible to use the source filled in the first canister completely, and even when the source filled in the first canister is completely used, the source filled in the second canister remains sufficient to ensure a constant vaporization amount. there will be Accordingly, the ratio of the remaining amount to the total source usage can be minimized.

즉, 유로가 긴 2개의 캐니스터를 직렬로 연결하여 사용할 경우, 첫번째 캐니스터의 소스를 완전히 사용해도, 두번째 캐니스터의 소스의 표면적에 의해 기화량은 일정하게 유지된다. 첫번째 캐니스터가 완전히 사용되면, 두번째 캐니스터는 일부만 사용되고, 첫번째 캐니스터를 반복적으로 교체해서 사용할 경우, 전체 사용량에 대한 잔량의 비율을 상당히 줄일 수 있다.That is, when two canisters having a long flow path are connected in series and used, even if the source of the first canister is completely used, the vaporization amount is maintained constant by the surface area of the source of the second canister. When the first canister is fully used, the second canister is only partially used, and if the first canister is repeatedly replaced and used, the ratio of the remaining amount to the total usage can be significantly reduced.

한편, 아래에서 도 6 내지 도 8을 참조하여 구체적으로 설명되는 실시예들에서는, 2개의 캐니스터를 직렬로 연결하는 경우를 설명하였지만, 3개 이상의 캐니스터를 직렬로 연결할 경우에도 본원 발명의 기술적 효과는 발휘된다. 3개 이상의 캐니스터를 직렬로 연결할 경우에는, 소스의 사용량 대비 잔량의 비율은 더욱 더 급격이 줄어들게 된다. Meanwhile, in the embodiments described in detail with reference to FIGS. 6 to 8 below, the case of connecting two canisters in series has been described, but even when three or more canisters are connected in series, the technical effects of the present invention are is performed When three or more canisters are connected in series, the ratio of the remaining amount to the used amount of the source decreases even more rapidly.

본 발명의 제1실시예에 따른 기화 시스템은 제1기화기와 제2기화기를 포함하며, 제1기화기와 제2기화기는 연결 라인 - 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공함 -에 의해 직렬로 연결될 수 있다. 즉, 제1기화기와 제2기화기는, 제1기화기의 아웃렛으로부터 배출되는 기화 물질은 제2기화기의 인렛으로 유입되도록, 구성되어 있다.The vaporization system according to the first embodiment of the present invention includes a first vaporizer and a second vaporizer, and the first vaporizer and the second vaporizer may be connected in series by a connection line, which provides a path for the fluid to move. . That is, the first vaporizer and the second vaporizer are configured such that the vaporized material discharged from the outlet of the first vaporizer flows into the inlet of the second vaporizer.

본 발명의 제1실시예에 따르면, 연결 라인은 제1기화기의 아웃렛과 제2기화기의 인렛을 연결시키며, 제1기화기에서 기화된 물질이 연결 라인을 통해서 제2기화기로 이동될 수 있다. According to the first embodiment of the present invention, the connection line connects the outlet of the first vaporizer and the inlet of the second vaporizer, and the material vaporized in the first vaporizer may be moved to the second vaporizer through the connection line.

본 발명의 제1실시예에 따르면, 제1기화기의 타입이나 구성과 제2기화기의 타입이나 구성은 서로 동일할 필요는 없으며, 서로 다른 타입이나 구성을 가져도 본원 발명의 목적은 달성될 수 있다. According to the first embodiment of the present invention, the type or configuration of the first vaporizer and the type or configuration of the second vaporizer do not have to be identical to each other, and even if they have different types or configurations, the object of the present invention can be achieved .

본 발명의 제1실시예에 따르면, 제1기화기의 유로와 제2기화기의 유로 중 적어도 하나의 유로는 충분히 긴 유로이다. 예를 들면, 충분히 긴 유로는, R≥ 4를 만족하며, 여기서 R = L/A로 정의되고, L은 캐리어 가스가 이동되는 유로의 길이이고, A는 캐리어 가스가 이동되는 유로의 단면적이다.According to the first embodiment of the present invention, at least one of the flow path of the first vaporizer and the flow path of the second vaporizer is a sufficiently long flow path. For example, a sufficiently long flow path satisfies R≥4, where R = L/A, where L is the length of the flow path through which the carrier gas moves, and A is the cross-sectional area of the flow path through which the carrier gas moves.

본 발명의 제1실시예에 따르면, 제1기화기와 제2기화기 중 적어도 하나는 적층형 기화기이다. 이러한 적층형 기화기는 충분히 긴 유로를 가지며 유로가 상하로 적층되어 있는 구성을 가지는 기화기이다. According to a first embodiment of the present invention, at least one of the first vaporizer and the second vaporizer is a stacked vaporizer. Such a stacked vaporizer is a vaporizer having a sufficiently long flow path and has a configuration in which the flow paths are stacked up and down.

본 발명의 제1실시예에 따르면, 제1기화기와 제2기화기 중 적어도 하나는 버블형 기화기이다. 이러한 버블형 기화기는 충분히 긴 유로를 가지는 구성을 가진다. According to a first embodiment of the present invention, at least one of the first vaporizer and the second vaporizer is a bubble vaporizer. Such a bubble vaporizer has a configuration having a sufficiently long flow path.

본 발명의 제1실시예에 따르면, 제1기화기와 제2기화기 중 적어도 하나는 곡선형 유로를 가진 기화기이다. 이러한 곡선형 유로를 가진 기화기는 충분히 긴 유로를 가지는 구성을 가질 수 있다. According to a first embodiment of the present invention, at least one of the first vaporizer and the second vaporizer is a vaporizer having a curved flow path. A vaporizer having such a curved flow path may have a configuration having a sufficiently long flow path.

도 6 및 도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 기화 시스템을 설명하기 위한 도면이다. 6 and 7 are views for explaining the vaporization system according to the first embodiment of the present invention.

도 6과 도 7을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 기화 시스템은 제1기화기와 제2기화기를 포함할 수 있다. 여기서, 제1기화기와 제2기화기는 직렬로 연결되어 있다. 6 and 7, the vaporization system according to the first embodiment of the present invention may include a first vaporizer and a second vaporizer. Here, the first vaporizer and the second vaporizer are connected in series.

제1기화기와 제2기화기는 소스를 기화시켜서 처리 설비로 제공하기 위한 장치들이다.The first vaporizer and the second vaporizer are devices for vaporizing a source and providing it to a processing facility.

여기서, 처리 설비는 예를 들면 화학증기증착(CVD: chemical vapor deposition) 장치 또는 이온 주입장치(ion implanter)와 같은 반도체 가공장비의 공정챔버(process chamber)와 같은 장치들이 될 수 있다.Here, the processing equipment may be, for example, a chemical vapor deposition (CVD) apparatus or apparatus such as a process chamber of a semiconductor processing equipment such as an ion implanter.

도 6을 참조하면, 제1기화기는 소스를 저장할 수 있는 통 형상을 가지며 외부로부터 유체를 유입 받을 수 있는 인렛과 기화된 가스를 외부로 배출할 수 있는 아웃렛을 가진 캐니스터(B1), 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공하는 라인들, 라인들에 흐르는 유체들의 흐름을 조절하기 위한 구성요소들을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6 , the first vaporizer has a cylindrical shape that can store a source, and has an inlet that can receive a fluid from the outside and an outlet that can discharge the vaporized gas to the outside, the canister B1 in which the fluid moves. It may include lines that provide a path through which it is possible, and components for regulating the flow of fluids flowing through the lines.

캐니스터(B1)는 소스를 저장할 수 있는 소스 저장공간(미 도시), 그러한 소스 저장공간에 인접하여 유체가 이동할 수 있는 공간인 유로('제1유로')(미 도시)를 포함하며, 제1유로와 연통되어 제1유로에게 유체(예를 들면, 캐리어 가스)를 주입하기 위한 인렛('제1인렛')과, 제1유로와 연통되어 유체(예를 들면, 기화된 소스와 캐리어 가스)를 외부로 배출하기 위한 아웃렛('제1아웃렛')이 캐니스터(B1)의 상부에 위치된다. 상술한 제1유로를 통해서, 캐리어 가스나 기화된 소스와 같은 유체들이 이동하게 된다. The canister B1 includes a source storage space (not shown) that can store a source, and a flow path ('first flow path') (not shown) adjacent to the source storage space that is a space through which a fluid can move, An inlet ('first inlet') communicated with the flow path for injecting a fluid (eg, carrier gas) into the first flow path, and a fluid (eg, vaporized source and carrier gas) in communication with the first flow path An outlet ('first outlet') for discharging to the outside is located above the canister B1. Fluids such as a carrier gas or a vaporized source move through the above-described first flow path.

본원 발명의 일 실시예에 따르면, 소스는 고체 소스 또는 액체 소스일 수 있으며, 예를 들면 붕소(B: boron), 인(P: phosphorous), 구리(Cu: copper), 갈륨(Ga:gallium), 비소(As:arsenic), 루테늄(Ru: ruthenium), 인듐(In: indium), 안티몬(Sb: antimony), 란탄(La: lanthanum), 탄탈륨(Ta: tantalum), 이리듐(Ir: iridium), 데카보란(B10H14: decaborane), 사염화 하프늄(HfCl4: hafnium tetrachloride), 사염화 지르코늄(ZrCl4: zirconium tetrachloride), 삼염화 인듐(InCl3: indium trichloride), 금속 유기 베타-디케토네이트 착물(metal organic β-diketonate complex), 사이클로펜타디에닐 사이클로헵타트리에틸 티타늄(CpTiChT:cyclopentadienyl cycloheptatrienyl titanium), 삼염화 알루미늄(AlCl3: aluminum trichloride), 요오드화 티타늄(TixIy:titanium iodide), 사이클로옥타테트라엔 사이틀로펜타디에닐 티타늄((Cot)(Cp)Ti: cyclooctatetraene cyclopentadienyltitanium), 비스(사이클로펜타디에닐)티타늄 디아지드 [bis(cyclopentadienyl)titanium diazide], 텅스텐 카르보닐(Wx(CO)y: tungsten carbonyl)(여기서, x와 y는 자연수), 비스(사이클로펜타디에닐)루테늄(II)[Ru(Cp)2: bis(cyclopentadienyl)ruthenium (II)], 삼염화 루테늄(RuCl3: ruthenium trichloride), 및/또는 텅스텐 클로라이드(WxCly)(여기서, x와 y는 자연수)을 포함하는 물질일 수 있다. 상술한 소스들은 예시적인 것으로서 본원 발명은 그러한 소스들에만 한정되는 것이 아님을 당업자는 알아야 한다. According to an embodiment of the present invention, the source may be a solid source or a liquid source, for example, boron (B: boron), phosphorous (P: phosphorous), copper (Cu: copper), gallium (Ga: gallium) , arsenic (As: arsenic), ruthenium (Ru: ruthenium), indium (In: indium), antimony (Sb: antimony), lanthanum (La: lanthanum), tantalum (Ta: tantalum), iridium (Ir: iridium), Decaborane (B10H14: decaborane), hafnium tetrachloride (HfCl4), zirconium tetrachloride (ZrCl4: zirconium tetrachloride), indium trichloride (InCl3: indium trichloride), metal organic beta-diketonate complex ), cyclopentadienyl cycloheptatriethyl titanium (CpTiChT: cyclopentadienyl cycloheptatrienyl titanium), aluminum trichloride (AlCl3: aluminum trichloride), titanium iodide (TixIy: titanium iodide), cyclooctatetraene cyclopentadienyl titanium ((Cot) )(Cp)Ti: cyclooctatetraene cyclopentadienyltitanium), bis(cyclopentadienyl)titanium diazide [bis(cyclopentadienyl)titanium diazide], tungsten carbonyl (Wx(CO)y: tungsten carbonyl) (where x and y are natural numbers) ), bis(cyclopentadienyl)ruthenium(II)[Ru(Cp)2: bis(cyclopentadienyl)ruthenium(II)], ruthenium trichloride (RuCl3: ruthenium trichloride), and/or tungsten chloride (WxCly), where x and y are natural numbers). It should be appreciated by those skilled in the art that the sources described above are exemplary and that the present invention is not limited to such sources.

본원 발명의 일 실시예에 따르면, 캐리어 가스는 예를 들면 N2, Ar, 및/또는 He 와 같은 유체일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the carrier gas may be, for example, a fluid such as N2, Ar, and/or He.

제1기화기는 히터(미 도시)를 더 포함할 수 있고, 히터는 캐니스(B1)의 내부에 저장된 소스를 기화시키기 위해서 캐니스터(B1)에 열을 가할 수 있다. The first vaporizer may further include a heater (not shown), and the heater may apply heat to the canister B1 to vaporize the source stored in the canister B1 .

제1기화기의 인렛은 유체를 주입하기 위한 주입구를 포함한다. 주입구는 캐니스터(B1)의 상부에 형성될 수 있다. 제1기화기의 인렛은 밸브(V105)를 더 포함할 수 있다. 밸브(V105)는 예를 들면 주입구에 결합되어 주입구로 주입되는 유체의 흐름을 막거나 허용할 수 있는 온-오프 밸브일 수 있다. The inlet of the first vaporizer includes an inlet for injecting a fluid. The injection hole may be formed in the upper portion of the canister B1. The inlet of the first vaporizer may further include a valve (V105). The valve V105 may be, for example, an on-off valve coupled to the inlet to block or allow the flow of fluid injected into the inlet.

제1기화기의 아웃렛은 유체를 배출하기 위한 배출구를 포함한다. 여기서, 배출구는 캐니스터(B1)의 상부에 형성될 수 있다. 제1기화기의 아웃렛은 밸브(V106)를 더 포함할 수 있다. 밸브(V106)는 예를 들면 배출구에 결합되어 배출구로 배출되는 유체의 흐름을 막거나 허용할 수 있는 온-오프 밸브일 수 있다.The outlet of the first vaporizer includes an outlet for discharging the fluid. Here, the outlet may be formed in the upper portion of the canister (B1). The outlet of the first vaporizer may further include a valve (V106). Valve V106 may be, for example, an on-off valve coupled to the outlet to block or allow the flow of fluid discharged to the outlet.

제1기화기에 구비된 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공하는 라인들은, 제1라인(L111), 제2라인(L112), 및 분기 라인(L113)을 포함할 수 있다. Lines providing a path through which the fluid provided in the first vaporizer can move may include a first line L111 , a second line L112 , and a branch line L113 .

제1라인(L111)은 캐니스터(B1)의 인렛으로 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공할 수 있다. The first line L111 may provide a path through which the fluid may move to the inlet of the canister B1.

본 실시예에서, 제1라인(L111)에 질량유량제어기(MFC)(미 도시)와 밸브(V101)가 위치될 수 있다. 여기서 질량유량제어기(MFC)는 밸브(V101)의 상류에 위치한다. 밸브(V101)는 분기 라인(L113)이 분기되는 분기점(P11)으로부터 인렛 사이에 위치되는 구성요소이다. 한편, 밸브(V101)는 온-오프 밸브 또는 컨트롤 밸브로 구현될 수 있다.In the present embodiment, a mass flow controller MFC (not shown) and a valve V101 may be positioned in the first line L111. Here, the mass flow controller (MFC) is located upstream of the valve (V101). The valve V101 is a component positioned between the inlet from the branch point P11 to which the branch line L113 is branched. Meanwhile, the valve V101 may be implemented as an on-off valve or a control valve.

질량유량제어기(MFC)는 분기 라인(L113)이 분기되는 분기점(P11) 이전의 제1라인(L111)에 위치되어 제1라인(L111)에 흐르는 유체의 양을 일정하게 조절할 수 있다.The mass flow controller MFC may be positioned in the first line L111 before the branch point P11 at which the branch line L113 is branched to constantly control the amount of fluid flowing in the first line L111.

제2라인(L112)은 캐니스터(B1)의 아웃렛으로부터 제2기화기로 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공할 수 있다. The second line L112 may provide a path through which the fluid may move from the outlet of the canister B1 to the second vaporizer.

제2라인(L112)에는 밸브(V104)가 위치된다. 밸브(V104)는 온-오프 밸브 또는 컨트롤 밸브일 수 있다. 한편, 제2라인(L112)에 위치되는 밸브(V104)는 필수적인 구성요소는 아니며 당업자는 밸브(V104)를 제2라인(L112)에 필요에 따라 설치하거나 또는 설치하지 않을 수도 있다. A valve V104 is located in the second line L112. Valve V104 may be an on-off valve or a control valve. Meanwhile, the valve V104 located in the second line L112 is not an essential component, and a person skilled in the art may or may not install the valve V104 in the second line L112 as needed.

본 기화기 시스템은, 커플러들(C301, C303)을 포함하며, 커플러들(C301, C303)은 제1기화기와 제2기화기를 분리 가능하게 결합시키기 위한 것이다. 제1기화기와 제2기화기를 분리하고자 할 경우, 커플러들(C301, C303)을 해제함으로써 가능할 것이다. The vaporizer system includes couplers C301 and C303, and the couplers C301 and C303 are for detachably coupling the first vaporizer and the second vaporizer. If you want to separate the first carburetor and the second carburetor, it will be possible by releasing the couplers C301 and C303.

본 발명의 설명의 목적을 위해서, 커플러(C301)와 커플러(C302) 사이 부분을 연결 라인이라고 부르기로 한다. 한편, 연결 라인에서 제1기화기와 연결되는 부분을 '입구'라고 하고, 제2기화기와 연결되는 부분을 '출구'라고 한다. For the purpose of explanation of the present invention, a portion between the coupler C301 and the coupler C302 will be referred to as a connection line. Meanwhile, in the connection line, a portion connected to the first vaporizer is referred to as an 'inlet', and a portion connected to the second vaporizer is referred to as an 'outlet'.

연결 라인에 의해 제1기화기의 아웃렛과 제2기화기의 인렛은 연통되며, 제1기화기의 아웃렛을 통해서 배출되는 유체는 밸브들(V106, V104, V201, V205)을 경유하여 제2기화기의 인렛으로 유입될 수 있다. The outlet of the first vaporizer and the inlet of the second vaporizer communicate with each other by the connection line, and the fluid discharged through the outlet of the first vaporizer flows to the inlet of the second vaporizer via the valves V106, V104, V201, and V205. can be imported.

본 실시예에서, 연결 라인의 입구는 제1커플러에 의해 제1기화기에 분리 가능하도록 결합되고, 상기 연결 라인의 출구는 제2커플러에 의해 제2기화기에 분리 가능하도록 결합된다. In this embodiment, the inlet of the connection line is detachably coupled to the first vaporizer by the first coupler, and the outlet of the connection line is detachably coupled to the second vaporizer by the second coupler.

분기 라인(L113)에는 밸브(V103)가 추가적으로 위치될 수 있고, 밸브(V103)는 밸브(V102)의 하류에 위치된다. 예를 들면, 밸브(V103)는 밸브(V102)와 합류점(P12) 사이에 위치된다. 밸브(V103)는 온-오프 밸브 또는 컨트롤 밸브일 수 있다. 한편, 분기 라인(L113)에 위치되는 밸브(V103)는 필수적인 구성요소는 아니며 당업자는 밸브(V103)를 분기 라인(L113)에 필요에 따라 설치하거나 또는 설치하지 않을수도 있다. A valve V103 may be additionally located in the branch line L113 , and the valve V103 is located downstream of the valve V102 . For example, valve V103 is located between valve V102 and junction P12. The valve V103 may be an on-off valve or a control valve. On the other hand, the valve V103 located in the branch line L113 is not an essential component, and a person skilled in the art may or may not install the valve V103 to the branch line L113 as needed.

일 실시예에 따른 제1기화기는 커플러들(C101, C102)을 포함할 수 있다. 커플러(C101)는 분리 및 결합 가능한 구조를 가지며, 제1라인(L111)에 위치되어 인렛과 밸브(V101)를 연결시킬 수 있다. 또한, 커플러(C102)도 분리 및 결합 가능한 구조를 가지며, 제2라인(L112)에 위치되어 아웃렛과 밸브(V104)를 연결시킬 수 있다.The first vaporizer according to an embodiment may include couplers C101 and C102. The coupler C101 has a structure capable of being separated and coupled, and is located on the first line L111 to connect the inlet and the valve V101. In addition, the coupler C102 also has a structure capable of being separated and coupled, and is located in the second line L112 to connect the outlet and the valve V104.

도 6을 계속 참조하면, 제2기화기는 소스를 저장할 수 있는 통 형상을 가지며 외부로부터 유체를 유입 받을 수 있는 인렛과 기화된 가스를 외부로 배출할 수 있는 아웃렛을 가진 캐니스터(B2), 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공하는 라인들, 라인들에 흐르는 유체들의 흐름을 조절하기 위한 구성요소들을 포함할 수 있다.6, the second vaporizer has a cylindrical shape that can store the source and has an inlet that can receive a fluid from the outside and an outlet that can discharge the vaporized gas to the outside, the fluid is It may include lines that provide a path for movement, and components for regulating the flow of fluids flowing in the lines.

캐니스터(B2)는 소스를 저장할 수 있는 소스 저장공간(미 도시), 그러한 소스 저장공간에 인접하여 유체가 이동할 수 있는 공간인 유로('제2유로')(미 도시)를 포함하며, 제2유로와 연통되어 제2유로에게 유체(예를 들면, 캐리어 가스)를 주입하기 위한 인렛('제2인렛')과, 제2유로와 연통되어 유체(예를 들면, 기화된 소스와 캐리어 가스)를 외부로 배출하기 위한 아웃렛('제2아웃렛')이 캐니스터(B2)의 상부에 위치된다. 상술한 제2유로를 통해서, 캐리어 가스나 기화된 소스와 같은 유체들이 이동하게 된다. The canister B2 includes a source storage space (not shown) that can store a source, and a flow path ('second flow path') (not shown) adjacent to the source storage space that is a space through which a fluid can move, and a second An inlet ('second inlet') communicated with the flow path for injecting a fluid (eg, carrier gas) into the second flow path, and a fluid (eg, vaporized source and carrier gas) in communication with the second flow path An outlet ('second outlet') for discharging to the outside is located above the canister B2. Fluids such as a carrier gas or a vaporized source move through the second flow path described above.

제2기화기는 히터(미 도시)를 더 포함할 수 있고, 히터는 캐니스(B2)의 내부에 저장된 소스를 기화시키기 위해서 캐니스터(B2)에 열을 가할 수 있다. The second vaporizer may further include a heater (not shown), and the heater may apply heat to the canister B2 to vaporize the source stored in the canister B2 .

제2기화기의 인렛은 유체를 주입하기 위한 주입구를 포함한다. 주입구는 캐니스터(B2)의 상부에 형성될 수 있다.The inlet of the second vaporizer includes an inlet for injecting a fluid. The injection hole may be formed in the upper portion of the canister B2.

제2기화기의 인렛은 밸브(V205)를 더 포함할 수 있다. 밸브(V205)는 예를 들면 주입구에 결합되어 주입구로 주입되는 유체의 흐름을 막거나 허용할 수 있는 온-오프 밸브일 수 있다. The inlet of the second vaporizer may further include a valve V205. The valve V205 may be, for example, an on-off valve coupled to the inlet to block or allow the flow of fluid injected into the inlet.

제2기화기의 아웃렛은 유체를 배출하기 위한 배출구를 포함한다. 여기서, 배출구는 캐니스터(B2)의 상부에 형성될 수 있다. 제2기화기의 아웃렛은 밸브(V206)를 더 포함할 수 있다. 밸브(V206)는 예를 들면 배출구에 결합되어 배출구로 배출되는 유체의 흐름을 막거나 허용할 수 있는 온-오프 밸브일 수 있다.The outlet of the second vaporizer includes an outlet for discharging the fluid. Here, the outlet may be formed in the upper portion of the canister (B2). The outlet of the second vaporizer may further include a valve V206. Valve V206 may be, for example, an on-off valve coupled to the outlet to block or allow the flow of fluid discharged to the outlet.

제2기화기에 구비된 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공하는 라인들은, 제3라인(L211), 제4라인(L212), 및 분기 라인(L213)을 포함할 수 있다. Lines providing a path through which the fluid provided in the second vaporizer can move may include a third line L211 , a fourth line L212 , and a branch line L213 .

제3라인(L211)은 캐니스터(B2)의 인렛으로 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공할 수 있다. The third line L211 may provide a path through which the fluid may move to the inlet of the canister B2 .

본 실시예에서, 제3라인(L211)에 밸브(V201)가 위치될 수 있다. 여기서 밸브(V201)는 분기 라인(L213)이 분기되는 분기점(P21)으로부터 인렛 사이에 위치되는 구성요소이다. 한편, 밸브(V201)는 온-오프 밸브 또는 컨트롤 밸브로 구현될 수 있다.In this embodiment, the valve V201 may be located in the third line L211. Here, the valve V201 is a component located between the inlet from the branch point P21 to which the branch line L213 is branched. Meanwhile, the valve V201 may be implemented as an on-off valve or a control valve.

제4라인(L212)은 캐니스터(B2)의 아웃렛으로부터 처리 설비로 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공할 수 있다. The fourth line L212 may provide a path through which the fluid may move from the outlet of the canister B2 to the processing facility.

제4라인(L212)에는 밸브(V204)가 위치된다. 밸브(V204)는 온-오프 밸브 또는 컨트롤 밸브일 수 있다. 한편, 제4라인(L212)에 위치되는 밸브(V204)는 필수적인 구성요소는 아니며 당업자는 밸브(V204)를 제4라인(L212)에 설치하거나 또는 설치하지 않을 수도 있다. A valve V204 is located in the fourth line L212. Valve V204 may be an on-off valve or a control valve. On the other hand, the valve V204 located in the fourth line (L212) is not an essential component, and those skilled in the art may or may not install the valve (V204) in the fourth line (L212).

분기 라인(L213)에는 밸브(V203)가 추가적으로 위치될 수 있고, 밸브(V203)는 밸브(V202)의 하류에 위치된다. 예를 들면, 밸브(V203)는 밸브(V202)와 합류점(P22) 사이에 위치된다. 밸브(V203)는 온-오프 밸브 또는 컨트롤 밸브일 수 있다. 한편, 분기 라인(L213)에 위치되는 밸브(V203)는 필수적인 구성요소는 아니며 당업자는 밸브(V203)를 분기 라인(L213)에 설치하거나 또는 설치하지 않을수도 있다. A valve V203 may be additionally located in the branch line L213 , and the valve V203 is located downstream of the valve V202 . For example, valve V203 is located between valve V202 and confluence point P22. The valve V203 may be an on-off valve or a control valve. Meanwhile, the valve V203 located in the branch line L213 is not an essential component, and a person skilled in the art may or may not install the valve V203 to the branch line L213.

일 실시예에 따른 제2기화기는 커플러들(C201, C202)을 포함할 수 있다. 커플러(C201)는 분리 및 결합 가능한 구조를 가지며, 제3라인에 위치되어 인렛과 밸브(V201)를 연결시킬 수 있다. 또한, 커플러(C202)도 분리 및 결합 가능한 구조를 가지며, 제4라인에 위치되어 아웃렛과 밸브(V204)를 연결시킬 수 있다.The second vaporizer according to an embodiment may include couplers C201 and C202. The coupler C201 has a structure that can be separated and coupled, and is located on the third line to connect the inlet and the valve V201. In addition, the coupler C202 also has a structure capable of being separated and coupled, and is located on the fourth line to connect the outlet and the valve V204.

한편, 제1실시예에서 제1기화기와 제2기화기가 동일한 구성을 가진 것을 예로 들었지만, 제1기화기와 제2기화기의 구성이 서로 동일하지 않아도 된다.Meanwhile, although the first vaporizer and the second vaporizer have the same configuration in the first embodiment as an example, the configuration of the first vaporizer and the second vaporizer does not have to be identical to each other.

본 발명의 일 실시예에 따른 기화 시스템은 기화 모드와 퍼지 모드를 포함할 수 있으며, 이들 동작모드들을 순차적으로 설명하기로 한다.The vaporization system according to an embodiment of the present invention may include a vaporization mode and a purge mode, and these operation modes will be sequentially described.

기화 vaporization 모드mode

도 6과 도 7을 참조하면, 기화 모드는 캐니스터들(B1, B2)에 저장된 소스가 기화되는 동작이 수행되는 모드이며, 소스의 기화를 위한 열이 히터(미 도시)에 의해 캐니스터들(B1, B2)에게 각각 제공된다.6 and 7 , the vaporization mode is a mode in which an operation in which the source stored in the canisters B1 and B2 is vaporized is performed, and heat for vaporization of the source is generated by a heater (not shown) in the canisters B1 , B2) respectively.

기화 모드에서, 제1기화기는, 제1라인(L111)에 위치된 밸브(V101)와 밸브(V105)는 제1라인(L111)에 캐리어 가스가 캐니스터(B1)로 흐르도록 개방되어 있고, 분기라인(L113)에 위치된 컨트롤 밸브(V102)는 분기 라인(L113)에 유체가 흐르지 못하도록 폐쇄되어 있고, 밸브(V103)는 폐쇄되어 있고, 밸브(V104)와 밸브(V106)는 캐니스터(B1)에서 기화된 소스가 처리 설비 방향으로 흐르도록 개방된 상태이다.In the vaporization mode, the first vaporizer, the valve V101 and the valve V105 located in the first line L111 are open to the first line L111 to flow the carrier gas to the canister B1, branch Control valve V102 located in line L113 is closed to prevent fluid from flowing in branch line L113, valve V103 is closed, and valve V104 and valve V106 are canister B1 is open to allow the vaporized source to flow in the direction of the treatment facility.

질량유량제어기(MFC)(미 도시)는 제1라인(L111)으로 일정한 양의 캐리어 가스가 흐르도록 동작한다.The mass flow controller MFC (not shown) operates to flow a predetermined amount of carrier gas to the first line L111.

또한, 기화 모드에서, 제2기화기는, 제3라인(L211)에 위치된 밸브(V201)와 밸브(V205)는 제3라인(L211)에 캐리어 가스가 캐니스터(B2)로 흐르도록 개방되어 있고, 분기라인(L213)에 위치된 컨트롤 밸브(V202)는 분기 라인(L213)에 유체가 흐르지 못하도록 폐쇄되어 있고, 밸브(V203)는 폐쇄되어 있고, 밸브(V204)는 캐니스터(B2)에서 기화된 소스가 처리 설비 방향으로 흐르도록 개방된 상태이다.Further, in the vaporization mode, the second vaporizer, the valve V201 and the valve V205 located in the third line L211 are open to the third line L211 to allow the carrier gas to flow into the canister B2, , the control valve V202 located in the branch line L213 is closed to prevent fluid from flowing to the branch line L213, the valve V203 is closed, and the valve V204 is vaporized in the canister B2. The source is open to flow towards the processing facility.

퍼지 Fudge 모드mode

퍼지 모드는 캐니스터들(B1, B2)에 연결된 라인들(L111, L112, L113, L211, L212, L213)과 밸브들을 청소시키기 위한 동작이 수행되는 모드이다. The purge mode is a mode in which an operation for cleaning the lines L111, L112, L113, L211, L212, L213 and the valves connected to the canisters B1 and B2 is performed.

퍼지 모드는, 제1기화기와 제2기화기가 연결되지 않은 상태(제3라인을 제거한 상태)에서 기화기별로 수행되거나, 또는 제1기화기와 제2기화기가 직렬로 연결된 상태에서 수행될 수 있다. The purge mode may be performed for each vaporizer in a state in which the first vaporizer and the second vaporizer are not connected (a state in which the third line is removed), or may be performed in a state in which the first vaporizer and the second vaporizer are connected in series.

먼저, 제1기화기를 기준으로 기화기별로 퍼지 모드가 수행되는 동작을 설명한다. First, an operation in which the purge mode is performed for each vaporizer based on the first vaporizer will be described.

퍼지 모드에서, 캐리어 가스는 모두 분기 라인(L113)으로 흐르게 된다. In the purge mode, all of the carrier gas flows to the branch line L113.

퍼지 모드에서, 밸브들(V101, V104)은 폐쇄된(Closed) 상태이고 밸브(V102)와 밸브(V103)는 개방된 상태이다. 따라서, 퍼지 가스는 분기 라인을 통해서 외부로 배출된다.In the purge mode, the valves V101 and V104 are in the closed state and the valve V102 and the valve V103 are in the open state. Accordingly, the purge gas is discharged to the outside through the branch line.

이제, 제1기화기와 제2기화기가 직렬로 연결된 상태에서 퍼지 모드가 수행되는 동작을 설명한다. Now, an operation in which the purge mode is performed in a state in which the first vaporizer and the second vaporizer are connected in series will be described.

퍼지 모드에서, 캐리어 가스는 모두 분기 라인들(L113 L213)로 흐르게 된다.In the purge mode, all of the carrier gas flows to the branch lines L113 and L213.

퍼지 모드에서, 밸브들(V101, V104)은 폐쇄된(Closed) 상태이고 밸브(V102)와 밸브(V103)는 개방된 상태이다. 또한, 밸브들(V201, V204)은 폐쇄된(Closed) 상태이고 컨트롤 밸브(V202)와 밸브(V203)는 개방된 상태이다. 따라서 퍼지 가스는, 제1라인(L111)을 따라서 이동하다가 분기점(P11)을 만나면 분기 라인(L113)으로 이동하며, 분기 라인(L113)을 따라 이동하다가 합류점(P12)를 만나면 연결 라인을 따라서 제2기화기로 이동한다. 연결 라인을 따라 이동하던 퍼지 가스는 분기점(P21)을 만나면 분기 라인(L213)으로 이동하며, 분기 라인(L213)을 따라 이동하다가 합류점(P22)를 만나면 제4라인(L212)를 따라서 이동하다가 외부로 배출된다. 이상 설명한 동작들을 통해서 퍼지 모드가 수행되게 된다. In the purge mode, the valves V101 and V104 are in the closed state and the valve V102 and the valve V103 are in the open state. Also, the valves V201 and V204 are in a closed state, and the control valve V202 and the valve V203 are in an open state. Therefore, when the purge gas moves along the first line L111 and meets the branch point P11, it moves to the branch line L113, and when it moves along the branch line L113 and meets the confluence point P12, it moves along the connection line. Go to the 2nd carburetor. When the purge gas moving along the connection line meets the branch point P21, it moves to the branch line L213, and when it moves along the branch line L213 and meets the junction P22, it moves along the fourth line L212 and then moves to the outside. is emitted as The purge mode is performed through the above-described operations.

도 8은 본 발명의 제1실시예에 따른 기화 시스템의 효과를 설명하기 위한 도면이다. 8 is a view for explaining the effect of the vaporization system according to the first embodiment of the present invention.

도 8은, 도 6과 도 7을 참조하여 설명한 기화 시스템이 기화 모드에서 동작할 때, 제1기화기와 제2기화기에서 각각 잔류하는 소스의 양이 시간에 따라서 변화되는 정도를 설명하기 위한 도면이다. FIG. 8 is a view for explaining the degree to which the amount of the source remaining in each of the first vaporizer and the second vaporizer changes with time when the vaporization system described with reference to FIGS. 6 and 7 operates in vaporization mode .

도 8에 (a)는 제1기화기의 시간에 따른 잔량을 설명하기 위한 도면이고, (b)는 제2기화기의 시간에 따른 잔량을 설명하기 위한 도면이다. In FIG. 8, (a) is a diagram for explaining the remaining amount of the first vaporizer over time, and (b) is a diagram for explaining the remaining amount of the second vaporizer over time.

한편, 본 발명의 설명의 목적을 위해서, 제1기화기와 제2기화기의 각각의 소스 저장공간의 길이가 L1이고, 높이가 H1이라고 가정하고, 제1기화기와 제2기화기가 각각 단독으로 사용되었을 때의 잔량은 25%라고 가정한다. On the other hand, for the purpose of explanation of the present invention, it is assumed that the length of each source storage space of the first vaporizer and the second vaporizer is L1 and the height is H1, and the first vaporizer and the second vaporizer are each used alone. It is assumed that the remaining amount is 25%.

도 8을 다시 참조하면, 시각 T=0은 기화 시스템이 동작하기 전의 제1기화기와 제2기화기의 소스 저장공간에서의 소스 상태를 나타낸 것이다. Referring back to FIG. 8 , time T=0 represents the source state in the source storage space of the first vaporizer and the second vaporizer before the vaporization system is operated.

시각 T=1 에서는, 제1기화기의 25%의 소스가 사용된 상태이고, 제2기화기의 소스는 사용되지 않은 상태이다. At time T=1, 25% of the sources of the first vaporizer are used, and the sources of the second vaporizer are unused.

시각 T=2 에서는, 제1기화기의 75%의 소스가 사용된 상태(즉, 제1기화기의 25% 소스가 남은 상태)이고, 제2기화기의 소스는 사용되지 않은 상태이다. At time T=2, 75% of the sources of the first vaporizer are used (ie, 25% of the sources of the first vaporizer remain), and the sources of the second vaporizer are unused.

시각 T=3에서는, 제1기화기의 소스는 모두 사용된 상태이고, 제2기화기의 소스의 25%가 사용된 상태이다. At time T=3, the sources of the first vaporizer are all used up, and 25% of the sources of the second vaporizer are used up.

시각 T=4 에서는, 제1기화기의 소스는 모두 사용된 상태이고, 제2기화기의 75% 소스가 사용된 상태(즉, 제1기화기의 25% 소스가 남은 상태)이다. At time T=4, the sources of the first vaporizer are all used up, and 75% of the sources of the second vaporizer are used (ie, 25% of the sources of the first vaporizer remain).

즉, 제1기화기의 소스가 25% 이하가 남은 경우라도, 원하는 기화량을 위한 소스의 표면(캐리어 가스와 접하는 면적)은 제2기화기의 소스의 표면으로부터 얻을 수 있으므로, 제1기화기의 잔량이 남지 않을 때까지 사용될 수 있을 것이다. That is, even if 25% or less of the source of the first vaporizer remains, the surface of the source (area in contact with the carrier gas) for the desired vaporization amount can be obtained from the surface of the source of the second vaporizer, so that the remaining amount of the first vaporizer It can be used until there are no leftovers.

본원 발명의 제1실시예에 따라 잔량이 최소화되는 기술적인 효과를 발휘하기 위해서는 제1기화기와 제2기화기 중 적어도 하나의 기화기는 충분히 긴 유로를 가져야 한다. In order to exhibit the technical effect of minimizing the residual amount according to the first embodiment of the present invention, at least one of the first vaporizer and the second vaporizer must have a sufficiently long flow path.

제2실시예second embodiment

제2실시예에 따른 기화 시스템에 따르면, 크기가 다른 복수의 셀로 이루어진 캐니스터를 포함하며, 여기서 복수의 셀은 소스가 저장되는 공간으로서 서로 구획되어 있다.According to the vaporization system according to the second embodiment, it includes a canister made of a plurality of cells having different sizes, wherein the plurality of cells are partitioned from each other as a space for storing the source.

제2실시예의 일 실시예에 따르면, 기화모드에서 캐리어 가스는 복수의 셀을 순차적으로 경유하며, 복수의 셀들 중에서 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 크기가 가장 크도록 구성된다. 여기서, 셀의 크기는 셀의 체적 또는 셀의 깊이를 의미한다. 일 예를 들면, 복수의 셀들 중에서 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 깊이가 가장 깊도록 구성되거나, 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 체적이 가장 크도록 구성될 수 있다. According to one embodiment of the second embodiment, in the vaporization mode, the carrier gas sequentially passes through a plurality of cells, and among the plurality of cells, the cell in which the carrier gas first meets is configured to have the largest size. Here, the size of the cell means the volume of the cell or the depth of the cell. For example, among the plurality of cells, a cell in which the carrier gas first meets may have the deepest depth, or a cell in which the carrier gas first meets may have the largest volume.

제2실시예의 다른 실시예에 따른 기화시스템에서, 캐니스터에 포함된 복수의 셀들은 N개의 셀들(S1, S2, S3, … , SN/2, … , SN)로 이루어져 있고, 여기서, S1은 캐리어 가스가 캐니스터에 주입되었을 때 가장 먼저 만나는 셀이고, S2는 캐리어 가스가 두번째로 만나는 셀이고, S3은 캐리어 가스가 세번째로 만나는 셀이고, SN/2는 캐리어 가스가 N/2 번째로 만나는 셀이며(N이 홀수일 경우는 N/2의 연산결과에서 소수점 이하는 버림 또는 올림 처리)을 의미하고, SN은 캐리어 가스가 마지막에 만나는 셀이며, 나머지 셀들도 상술한 방식으로 배치되어 있다.In the vaporization system according to another embodiment of the second embodiment, the plurality of cells included in the canister consists of N cells (S1, S2, S3, ..., SN/2, ..., SN), where S1 is a carrier When gas is injected into the canister, it is the first cell encountered, S2 is the second cell that the carrier gas meets, S3 is the third cell the carrier gas meets, and SN/2 is the N/2 cell where the carrier gas meets the second. (If N is an odd number, the decimal point is rounded off or rounded up in the calculation result of N/2), SN is the cell where the carrier gas meets last, and the remaining cells are also arranged in the above-described manner.

상술한 N개의 셀 들에서, 셀의 크기는 적어도 S1 > S2 > S3 를 만족하며, 아래 식들 1) 또는 2)에 정의한 바와 같이 셀들에 충진되는 소스의 량(충진량)은 총 충진량의 50% 또는 60% 이상이, SN/2 번째 셀까지 충진 되도록 구성된다. In the above-described N cells, the size of the cell satisfies at least S1 > S2 > S3, and as defined in Equations 1) or 2) below, the amount of source (filling amount) filled in the cells is 50% of the total filling amount or 60% or more is configured to be filled up to the SN/2-th cell.

1) C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)/21) C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)/2

2) C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)*0.62) C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)*0.6

여기서, C_S1은 셀 S1에 충진된 량, C_S2는 셀 S2에 충진된 량, C_S3는 셀 S2에 충진된 량, C_SN/2는 셀 SN/2에 충진된 량이고, C_total 은 N개의 셀들에 채워진 총 충진량)Here, C_S1 is the amount filled in cell S1, C_S2 is the amount filled in cell S2, C_S3 is the amount filled in cell S2, C_SN/2 is the amount filled in cell SN/2, and C_total is the amount filled in N cells total filling amount)

제2실시예의 또 다른 실시예에 따른 기화시스템은, 복수의 셀들(S1, S2, S3, … , SN/2, … , SN)로 이루어진 캐니스터를 포함하며, 아래 식 (3)에 정의한 바와 같이 캐니스터로 주입되는 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 크기가 나머지 셀들의 크기의 합의 20% 이상이다. A vaporization system according to another embodiment of the second embodiment includes a canister consisting of a plurality of cells (S1, S2, S3, ..., SN/2, ..., SN), and as defined in Equation (3) below, The size of the cell first met by the carrier gas injected into the canister is 20% or more of the sum of the sizes of the remaining cells.

(3) V_S1 ≥ (V_total)*0.2(3) V_S1 ≥ (V_total)*0.2

여기서, V_S1은 셀 S1의 크기, V_total 은 N개의 셀들의 크기의 총합)Here, V_S1 is the size of cell S1, and V_total is the sum of the sizes of N cells)

한편, 상술한 1), 2), 및 3) 식들은 본 발명자들에 의해 본 발명의 다양한 실시를 통해서 경험적으로 도출된 것들이다.On the other hand, the above-mentioned equations 1), 2), and 3) are empirically derived by the present inventors through various implementations of the present invention.

제2실시예의 또 다른 실시예에 따르면, 이펙티브 셀 그룹(effective cell group)에서 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 크기가 가장 깊다. 여기서, 셀의 크기는 셀의 체적 또는 셀의 깊이를 의미한다. 일 예를 들면, 이펙티브 셀 그룹에 포함된 복수의 셀들 중에서 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 깊이가 가장 깊도록 구성되거나, 이펙티브 셀 그룹에 포함된 복수의 셀들 중에서 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 체적이 가장 크도록 구성될 수 있다. According to another embodiment of the second embodiment, the size of the cell that the carrier gas first meets in the effective cell group is the deepest. Here, the size of the cell means the volume of the cell or the depth of the cell. For example, the cell in which the carrier gas first meets the depth is the deepest among the plurality of cells included in the effective cell group, or the volume of the cell in which the carrier gas first meets the first among the plurality of cells included in the effective cell group This can be configured to be the largest.

한편, 본원 명세서에서 이펙티브 셀 그룹(effective cell group)은 소스 잔량에 영향을 많이 미치는 셀들을 의미한다. 이펙티브 셀 그룹은 셀들의 총 개수나 배치에 따라서 본원 발명이 속하는 기술분야에 속하는 자(이하, ‘당업자’)에 의해 경험적으로 결정되어 정해질 수 있다. Meanwhile, in the present specification, an effective cell group refers to cells that greatly affect the remaining amount of a source. The effective cell group may be empirically determined and determined by a person belonging to the technical field to which the present invention pertains (hereinafter, 'person skilled in the art') according to the total number or arrangement of cells.

이펙티브 셀 그룹은 예를 들면 캐리어 가스가 캐니스터로 주입되어 가장 먼저 만나는 셀과 두 번째 만나는 셀로 정의될 수 있다.The effective cell group may be defined as, for example, a cell in which a carrier gas is injected into the canister and meets first and a cell meets second.

이펙티브 셀 그룹은 다른 예를 들면 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀과 두번째 만나는 셀과 세번째 만나는 셀로 정의될 수 있다. The effective cell group may be defined as another, for example, a cell in which the carrier gas meets first, a cell in which the carrier gas meets a second cell, and a cell in which the carrier gas meets the third.

이펙티브 셀 그룹에 포함되는 셀의 갯수는 예시적인 것으로서, 그러한 셀의 갯수에 본원 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니다.The number of cells included in the effective cell group is exemplary, and the scope of the present invention is not limited to the number of such cells.

본원 명세서에서, '이펙티브 셀 그룹을 구비한 캐니스터'라고 함은 복수의 셀을 구비한 캐니스터로서, 이펙티브 셀 그룹에 속한 셀들 중에서 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 크기가 가장 크도록 구성된 캐니스터를 의미한다.As used herein, the term 'canister having an effective cell group' refers to a canister having a plurality of cells, and is configured such that a cell in which the carrier gas meets first among cells belonging to the effective cell group has the largest size. .

이하에서는, 설명의 목적을 위해서 6개의 셀로 이루어진 캐니스터를 예로 하여 제2실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, for the purpose of explanation, a second embodiment will be described using a canister composed of six cells as an example.

도 9는 제2실시예에 따른 기화 시스템을 설명하기 위한 도면이다.9 is a view for explaining a vaporization system according to the second embodiment.

도 9를 참조하면, 제2실시예에 따른 기화 시스템은 소스를 저장할 수 있는 통 형상을 가지며 외부로부터 유체를 유입 받을 수 있는 인렛과 기화된 가스를 외부로 배출할 수 있는 아웃렛을 가진 캐니스터(B3), 유체가 이동할 수 있는 경로를 제공하는 라인들, 및 라인들에 흐르는 유체들의 흐름을 조절하기 위한 구성요소들(예를 들면 밸브들)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 9 , the vaporization system according to the second embodiment has a cylindrical shape capable of storing a source, and a canister B3 having an inlet capable of receiving a fluid from the outside and an outlet capable of discharging the vaporized gas to the outside. ), lines that provide a path for the fluid to travel, and components (eg, valves) for regulating the flow of fluids flowing in the lines.

캐니스터(B3)는 내부에 소스를 저장할 수 있는 복수의 셀들과, 그러한 셀들을 순차적으로 경유하여 캐리어 가스가 이동할 수 있는 경로를 제공하는 내부유로(미 도시)를 포함하며, 내부유로에게 유체(예를 들면, 캐리어 가스)를 주입하기 위한 인렛과, 내부유로와 연통되어 유체(예를 들면, 기화된 소스와 캐리어 가스)를 외부로 배출하기 위한 아웃렛이 캐니스터(B3)의 상부에 위치된다. 상술한 내부유로를 통해서, 캐리어 가스나 기화된 소스와 같은 유체들이 이동하게 된다. The canister B3 includes a plurality of cells capable of storing a source therein, and an internal flow path (not shown) that sequentially passes through such cells to provide a path for the carrier gas to move, and provides the internal flow path with a fluid (eg, For example, an inlet for injecting a carrier gas) and an outlet for discharging a fluid (eg, a vaporized source and a carrier gas) to the outside in communication with the internal flow path are located above the canister B3. Fluids such as carrier gas or vaporized source move through the above-described internal flow path.

캐니스터(B3)의 내부 유로(미 도시)는 인렛을 통해서 유입되는 캐리어 가스가 복수의 셀들을 경유하여 순차적으로 이동한 후 아웃렛을 통해서 배출되도록 하는 기능을 제공한다.The internal flow path (not shown) of the canister B3 provides a function of allowing the carrier gas introduced through the inlet to sequentially move through a plurality of cells and then discharged through the outlet.

제2실시예에 따른 기화 시스템도, 역시, 기화 모드와 퍼지 모드에서 동작할 수 있으며, 기화 모드와 퍼지 모드에서의 동작은 제1실시예의 것과 동일하므로, 제1실시예의 설명을 참조하기 바란다. The vaporization system according to the second embodiment can also operate in the vaporization mode and the purge mode, and the operations in the vaporization mode and the purge mode are the same as those of the first embodiment, so please refer to the description of the first embodiment.

도 9를 참조하면, 제2실시예에 따른 캐니스터(B3)는 깊이가 다른 복수의 셀(S1, S2, S3, S4, S5, S6)을 포함할 수 있으며, 복수의 셀은 소스가 저장되는 공간으로서 서로 구획되어 있다. 도 9에 도시된 복수의 셀의 갯수와 배치는 예시적인 것이므로 본원 발명의 권리범위가 그러한 갯수와 배치에만 한정되는 것이 아님을 당업자는 용이하게 이해할 수 있을 것이다.Referring to FIG. 9 , the canister B3 according to the second embodiment may include a plurality of cells S1 , S2 , S3 , S4 , S5 , and S6 having different depths, and the plurality of cells stores a source. They are spaced apart from each other. Those skilled in the art will readily understand that the number and arrangement of a plurality of cells shown in FIG. 9 are exemplary and that the scope of the present invention is not limited only to the number and arrangement.

캐니스터(B3)의 내부에는, 인렛을 통해서 유입되는 캐리어 가스가 복수의 셀들(S1, S2, S3, S4, S5, S6)을 순차적으로 경유(이동)하도록 하기 위한 내부 유로(미 도시)가 형성되어 있다.Inside the canister B3, an internal flow path (not shown) is formed so that the carrier gas introduced through the inlet passes (moves) sequentially through the plurality of cells S1, S2, S3, S4, S5, S6. has been

내부 유로(미 도시)의 구성은 당업자가 용이하게 구현할 수 있는 것이므로 본원 명세서에서는 상세한 설명을 생략하기로 한다. 내부 유로(미 도시)는 캐니스터의 크기, 복수의 셀의 갯수, 복수의 셀의 배치 등에 따라 달라질 수 있으며, 복수의 셀들을 캐리어 가스가 순차적으로 경유하도록 구성될 수 있다.Since the configuration of the internal flow path (not shown) can be easily implemented by those skilled in the art, a detailed description thereof will be omitted herein. The internal flow path (not shown) may vary depending on the size of the canister, the number of cells, the arrangement of the plurality of cells, and the like, and may be configured such that the carrier gas sequentially passes through the plurality of cells.

본원 명세서에서, 복수의 셀들을 순차적으로 경유한다고 함은 셀 1개씩 순차적으로 경유하는 것(셀 S1을 경유하고, 다음에 셀 S2를 경유하고, 다음에 셀 S3를 경유하고, 다음에 셀 S4를 경유하고, 다음에 셀 S5를 경유하고, 그리고 셀 S6을 경유하는 것) 뿐만 아니라, 셀을 2개 이상 동시에 순차적으로 경유하는 것도 포함하는 의미로 사용된다. 예를 들면, 셀 S1과 셀 S2를 통시에 경유하고, 다음에 셀 S3를 경유하고, 다음에 셀 S4와 셀 S5를 경유하고, 그리고 셀 S6을 경유하는 것도 가능할 것이다. In this specification, sequentially passing through a plurality of cells means sequentially passing through one cell at a time (via cell S1, then through cell S2, then through cell S3, then through cell S4) via, then via cell S5, and then via cell S6) as well as sequentially passing through two or more cells simultaneously. For example, it may be possible to pass through cell S1 and cell S2 simultaneously, then through cell S3, then through cell S4 and cell S5, and then through cell S6.

도 9를 참조하면, 제2실시예에 따른 캐니스터(B3)에서 캐리어 가스가 셀 S1을 경유하고, 다음에 셀 S2를 경유하고, 다음에 셀 S3를 경유하고, 다음에 셀 S4를 경유하고, 다음에 셀 S5를 경유하고, 그리고 셀 S6을 경유하도록 내부 유로(미 도시)가 형성되어 있다.9, in the canister B3 according to the second embodiment, the carrier gas passes through cell S1, then through cell S2, then through cell S3, then through cell S4, Next, an internal flow path (not shown) is formed to pass through the cell S5 and pass through the cell S6.

제2실시예에 따른 캐니스터(B3)에서, 복수의 셀들(S1, S2, S3, S4, S5, S6) 중에서 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 깊이가 가장 깊다. 즉, 셀 S1의 깊이(h1)가 나머지 셀들의 깊이보다 깊다.In the canister B3 according to the second embodiment, the depth of the cell where the carrier gas first meets among the plurality of cells S1, S2, S3, S4, S5, and S6 is the deepest. That is, the depth h1 of the cell S1 is greater than the depth of the other cells.

도 9의 실시예에서는, 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는(즉, 경유하는) 셀 S1의 깊이가 가장 깊고, 캐리어 가스가 두번째 만나는 셀 S2의 깊이는 셀 S1의 깊이보다 얕고, 캐리어 가스가 세 번째 만나는 셀 S3의 깊이는 셀 S2보다 얕다.In the embodiment of FIG. 9 , the depth of cell S1 where the carrier gas first meets (that is, through) is the deepest, the depth of cell S2 where the carrier gas meets second is shallower than the depth of cell S1, and the depth of cell S1 where the carrier gas meets the third The depth of cell S3 is shallower than that of cell S2.

캐니스터(B3)의 소스의 잔량이 캐리어 가스가 초기에 만나는 셀들의 깊이와는 밀접한 관계가 있기 때문에, 초기에 만나는 셀들 S1, S2, 및 S3의 깊이를 위와 같이 조절하였고, 이후의 셀들 S4, S5, 및 S6는 큰 영향이 없으므로 깊이 조절을 하지 않고 일정하게 유지하였다. Since the remaining amount of the source of the canister B3 has a close relationship with the depth of the cells initially met by the carrier gas, the depths of the cells S1, S2, and S3 initially met were adjusted as above, and the subsequent cells S4 and S5 , and S6 had no significant effect, so the depth was kept constant without adjusting the depth.

상술한 바와 같이, 기화모드에서의 캐니스터(B3)의 소스의 잔량은 캐리어 가스가 초기에 만나는 셀들의 크기와 밀접한 관계가 있기 때문에, 본원 명세서에는 이펙티브 셀 그룹(effective cell group)을 정의하였고, 이러한 이펙티브 셀 그룹은 캐리어 가스가 초기에 만나는 셀들로 정의된다. 이펙티브 셀 그룹에 속하지 않은 셀들의 크기는 당업자가 캐니스터의 크기나 셀의 개수에 맞도록 임의적으로 조절해도 무방하다. As described above, since the remaining amount of the source of the canister B3 in the vaporization mode is closely related to the size of the cells initially met by the carrier gas, an effective cell group is defined in the present specification, and such An effective cell group is defined as the cells that the carrier gas initially encounters. The size of cells not belonging to the effective cell group may be arbitrarily adjusted by a person skilled in the art to fit the size of the canister or the number of cells.

한편, 당업자는 제2실시예의 최적화를 위해서 이펙티브 셀 그룹에 속하지 않은 나머지 셀들의 크기가, 이펙티브 셀 그룹에 속한 셀들의 크기보다 얕아지도록 구성하는 것이 바람직하다.Meanwhile, for those skilled in the art, in order to optimize the second embodiment, it is preferable to configure the size of the remaining cells not belonging to the effective cell group to be shallower than the size of the cells belonging to the effective cell group.

제2실시예의 일 실시예에 따르면, 이펙티브 셀 그룹에 속하는 셀들의 크기를 서로 비교할 때, 캐리어 가스를 먼저 만나는 셀의 크기가 가장 크고 순차적으로 셀의 크기가 작아지도록 구성된다. 예를 들면, 캐리어 가스를 가장 먼저 만나는 셀의 깊이가 가장 크고 순차적으로 셀의 깊이가 작아지도록 구성될 수 있다.According to one embodiment of the second embodiment, when the sizes of cells belonging to the effective cell group are compared with each other, the size of the cell that meets the carrier gas first is the largest, and the size of the cell is sequentially decreased. For example, it may be configured such that the depth of the cell first meeting the carrier gas is the largest and the depth of the cell is sequentially decreased.

예를 들면, 이펙티브 셀 그룹이 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀 S1과 두번째 만나는 셀 S2로 이루어지도록 정의될 수 있다. 이러할 경우, 셀 S1의 깊이(h1)가 모든 셀 중에서 가장 깊고, 셀 S2의 깊이(h2)는 셀 S1의 깊이(h1)보다 얕거나 같도록 구성된다.For example, the effective cell group may be defined to include a cell S1 where the carrier gas meets first and a cell S2 where the carrier gas meets second. In this case, the depth h1 of the cell S1 is the deepest among all the cells, and the depth h2 of the cell S2 is shallower than or equal to the depth h1 of the cell S1.

다른 예를 들면, 이펙티브 셀 그룹이 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀 S1과 두번째 만나는 셀 S2과 세 번째 만나는 셀 S3으로 이루어지도록 정의될 수 있다. 이러할 경우, 셀 S1의 깊이(h1)가 모든 셀 중에서 가장 깊고, 셀 S2의 깊이(h2)는 셀 S1의 깊이(h1)보다 얕도록 구성되고, 셀 S3의 깊이(h3)는 셀 S2의 깊이(h2)보다 얕거나 같도록 구성된다. 이처럼, 이펙티스 셀 그룹을 구성하는 셀들은, 캐리어 가스가 가장 먼저 만나는 셀의 깊이가 가장 깊고, 이후의 셀들의 깊이는 순차적으로 얕거나 같도록 구성된다.As another example, the effective cell group may be defined to include a cell S1 where the carrier gas meets first, a cell S2 where the carrier gas meets second, and a cell S3 where the carrier gas meets the third. In this case, the depth h1 of the cell S1 is the deepest among all the cells, the depth h2 of the cell S2 is shallower than the depth h1 of the cell S1, and the depth h3 of the cell S3 is the depth of the cell S2. It is constructed to be shallower than or equal to (h2). As such, the cells constituting the effect cell group are configured such that the depth of the cell where the carrier gas first meets is the deepest, and the depths of subsequent cells are sequentially shallow or the same.

도 9의 실시예는 이펙티브 셀 그룹이 셀들 S1, S2, 및 S3로 정의되어 구성된 경우이다. 이펙티브 셀 그룹에 속하지 않은 나머지 셀들 S4, S5, 및 S6의 깊이는 당업자가 캐니스터의 크기나 갯수에 따라서 임의적으로 조절되어도 무방하다.9 is a case in which an effective cell group is defined and configured with cells S1, S2, and S3. The depths of the remaining cells S4, S5, and S6 not belonging to the effective cell group may be arbitrarily adjusted by those skilled in the art according to the size or number of canisters.

상술한 바가 있지만, 제2실시예의 최적화를 위해서 이펙티브 셀 그룹에 속하지 않은 나머지 셀들의 깊이가, 이펙티브 셀 그룹에 속한 셀들의 깊이보다 순차적으로 얕아지도록 구성하는 것이 바람직하다.As described above, for the optimization of the second embodiment, it is preferable to configure the depths of the remaining cells not belonging to the effective cell group to be sequentially shallower than the depths of the cells belonging to the effective cell group.

제2실시예의 다른 최적화를 위해서, 캐리어 가스가 순차적으로 경유하는 복수의 셀들의 깊이가 순차적으로 얕아지도록 구성(즉, 캐리어 가스가 먼저 경유하는 셀의 깊이가 나중에 경유하는 셀의 깊이보다 항상 깊도록 구성되고)될 수 있다.For another optimization of the second embodiment, the depth of the plurality of cells through which the carrier gas sequentially passes is sequentially made shallow (that is, the depth of the cell through which the carrier gas first passes is always greater than the depth of the cell through which the carrier gas passes later. can be configured).

제2실시예의 또 다른 최적화를 위해서, 캐리어 가스가 순차적으로 경유하는 복수의 셀들의 깊이가 순차적으로 얕아지고(즉, 캐리어 가스가 먼저 경유하는 셀의 깊이가 나중에 경유하는 셀의 깊이보다 항상 깊도록 구성되고), 동시에 복수의 셀들의 표면적(캐리어 가스가 이동할때 소스와 접하는 면적)도 순차적으로 작아지도록(즉, 캐리어 가스가 먼저 경유하는 셀의 표면적이 나중에 경유하는 셀의 표면적보다 항상 넓도록) 구성될 수 있다. 예를 들어, 도 9와 도 10(b)의 실시예는 이펙티브 셀 그룹에 속하는 셀(S1, S2, 및 S3)의 표면적이 이펙티브 셀 그룹에 속하지 않은 나머지 셀(S4, S5, 및 S6)의 표면적보다 크도록 구성된 실시예를 예시적으로 나타낸 경우이다. For another optimization of the second embodiment, the depth of the plurality of cells through which the carrier gas sequentially passes is sequentially shallow (ie, so that the depth of the cell through which the carrier gas first passes is always greater than the depth of the cell through which the carrier gas passes later) ), and at the same time, the surface area of the plurality of cells (the area in contact with the source when the carrier gas moves) is also sequentially smaller (that is, the surface area of the cell through which the carrier gas first passes is always larger than the surface area of the cell through which the carrier gas passes later). can be configured. For example, in the embodiment of FIGS. 9 and 10( b ), the surface area of cells S1 , S2 , and S3 belonging to the effective cell group is that of the remaining cells S4 , S5 , and S6 not belonging to the effective cell group. An embodiment configured to be larger than the surface area is exemplarily shown.

도 10은 도 9의 실시예의 효과를 개념적으로 설명하기 위한 도면이다. FIG. 10 is a diagram for conceptually explaining an effect of the embodiment of FIG. 9 .

도 10을 참조하면, 도 10(a)는 종래 동일한 깊이를 가진 복수의 셀로 구성된 캐니스터에서의 소스 잔량(기화 모드에서 동작한 결과)을 개념적으로 표시한 것이고, 도 10(b)는 도 9의 실시예에 따라서 캐리어 가스가 가장 먼저 경유하는 셀의 깊이를 가장 깊도록 구성된 캐니스터에서의 소스 잔량을 개념적으로 표시한 것이다. Referring to FIG. 10, FIG. 10(a) conceptually shows the remaining amount of source (result of operation in vaporization mode) in a canister composed of a plurality of cells having the same depth in the prior art, and FIG. According to the embodiment, the remaining amount of the source in the canister configured to have the deepest depth of the cell through which the carrier gas first passes is conceptually indicated.

이상 도 9 내지 도 10을 참조하여 설명한 제2실시예는 복수의 셀이 6개로 배치된 경우를 예로 들어 설명하였으나, 본원 발명이 그러한 셀의 갯수나 배치에만 한정되지 않음을 당업자는 용이하게 이해할 수 있을 것이다.Although the second embodiment described above with reference to FIGS. 9 to 10 has been described with reference to a case in which a plurality of cells are arranged in six, those skilled in the art can easily understand that the present invention is not limited only to the number or arrangement of such cells. There will be.

제3실시예3rd embodiment

제3실시예는, 도 6 내지 도 8을 참조하여 설명한 제1실시예와 제 9 내지 도 10을 참조하여 설명한 제2실시예를 결합한 실시예이다. The third embodiment is an embodiment in which the first embodiment described with reference to FIGS. 6 to 8 and the second embodiment described with reference to FIGS. 9 to 10 are combined.

제3실시예에 따르면, 제1실시예에서 직렬로 연결된 캐니스터들(B1, B2) 중 적어도 하나의 캐니스터를 제2실시예에서의 캐니스터(B3)로 대치하는 구성을 가진다.According to the third embodiment, it has a configuration in which at least one canister among the canisters B1 and B2 connected in series in the first embodiment is replaced with the canister B3 in the second embodiment.

제3실시예의 일 예에 따르면, 제1실시예에서 직렬로 연결된 캐니스터들(B1, B2) 중 캐니스터(B1)를 제2실시예에서의 캐니스터(B3)로 대치할 수 있다. According to an example of the third embodiment, the canister B1 among the canisters B1 and B2 connected in series in the first embodiment may be replaced with the canister B3 in the second embodiment.

제3실시예의 다른 예에 따르면, 제1실시예에서 직렬로 연결된 캐니스터들(B1, B2) 중 캐니스터(B2)를 제2실시예에서의 캐니스터(B3)로 대치할 수 있다. According to another example of the third embodiment, among the canisters B1 and B2 connected in series in the first embodiment, the canister B2 may be replaced with the canister B3 in the second embodiment.

제3실시예의 또 다른 예에 따르면, 제1실시예에서 직렬로 연결된 캐니스터들(B1, B2)을 모두 제2실시예에서의 캐니스터(B3)로 대치할 수 있다.According to another example of the third embodiment, all of the canisters B1 and B2 connected in series in the first embodiment may be replaced with the canister B3 in the second embodiment.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.As such, the present invention is not limited to the described embodiments, and it is apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, it should be said that such modifications or variations belong to the claims of the present invention.

캐니스터: B, B1, B2, B3
밸브들: V1, V2, V3, V4, V5, V101, V102, V103, V104. V105, V201, V202, V203, V204, V205
라인들: L1, L2, L111, L112, L113, L211, L212, L213
Canister: B, B1, B2, B3
Valves: V1, V2, V3, V4, V5, V101, V102, V103, V104. V105, V201, V202, V203, V204, V205
Lines: L1, L2, L111, L112, L113, L211, L212, L213

Claims (15)

소스를 저장하기 위한 복수의 셀을 구비한 캐니스터에 있어서,
인렛;
아웃렛;
소스를 저장할 수 있는 복수의 셀들; 및
상기 인렛을 통해서 유입되는 캐리어 가스가 상기 복수의 셀들을 경유하여 순차적으로 이동한 후 상기 아웃렛을 통해서 배출되도록 하는 내부 유로;를 포함하며,
상기 복수의 셀들은 캐리어 가스 경로상에 S1 부터 SN까지(S1, S2, S3, …, SN/2, …, SN)(여기서, N은 4 이상의 자연수)의 셀들로 이루어져 있고,
상기 복수의 셀들 중 S1부터 순차적으로 적어도 2개 이상의 소정 개수의 셀까지를 소스 잔량에 영향을 미치는 이펙티브 셀 그룹으로 정의하고,
상기 이펙티브 셀 그룹의 셀들은 셀의 크기가 서로 상이하되, S1의 셀의 크기가 가장 크고 캐리어 가스 경로를 따라 하류로 갈수록 순차적으로 셀의 크기가 작아지도록 구성되고,
상기 이펙티브 셀 그룹에 속하지 않는 나머지 셀들의 크기는 상기 이펙티브 셀 그룹의 마지막 셀의 크기보다 작은 크기로 구성되고,
상기 이펙티브 셀 그룹의 셀들의 표면적이 상기 이펙티브 셀 그룹에 속하지 않는 나머지 셀들의 표면적 보다 크도록 구성됨으로써,
캐니스터 교체시 캐니스터에 남은 소스의 잔량을 최소화 할 수 있는 것을 특징으로 하는, 캐니스터.
A canister having a plurality of cells for storing a source, the canister comprising:
inlet;
outlet;
a plurality of cells capable of storing a source; and
and an internal flow path through which the carrier gas flowing in through the inlet sequentially moves through the plurality of cells and then discharged through the outlet;
The plurality of cells consists of cells from S1 to SN (S1, S2, S3, ..., SN/2, ..., SN) (where N is a natural number greater than or equal to 4) on the carrier gas path,
Among the plurality of cells, sequentially from S1 to at least two or more predetermined number of cells are defined as an effective cell group that affects the remaining amount of the source,
The cells of the effective cell group have different cell sizes, but the cell size of S1 is the largest and the cell size sequentially decreases as it goes downstream along the carrier gas path,
The size of the remaining cells not belonging to the effective cell group is smaller than the size of the last cell of the effective cell group,
By configuring the surface area of the cells of the effective cell group to be larger than the surface area of the remaining cells not belonging to the effective cell group,
A canister, characterized in that it is possible to minimize the remaining amount of the source remaining in the canister when the canister is replaced.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
셀의 크기는 적어도 S1 > S2 > S3 를 만족하며, 상기 셀들은 다음 수식
C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)/2
을 만족하도록 구성되어 있고, 여기서, C_S1은 셀 S1에 충진된 량, C_S2는 셀 S2에 충진된 량, C_S3는 셀 S2에 충진된 량, C_SN/2는 셀 SN/2에 충진된 량이고, C_total 은 N개의 셀들에 채워진 총 충진량인 것인, 캐니스터.
The method of claim 1,
The size of the cell satisfies at least S1 > S2 > S3, and the cells are
C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)/2
, where C_S1 is the amount filled in cell S1, C_S2 is the amount filled in cell S2, C_S3 is the amount filled in cell S2, and C_SN/2 is the amount filled in cell SN/2, C_total is the total fill amount filled in N cells.
제1항에 있어서,
셀의 크기는 적어도 S1 > S2 > S3 를 만족하며, 상기 셀들은 다음 수식
C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)*0.6
을 만족하도록 구성되어 있고, 여기서, C_S1은 셀 S1에 충진된 량, C_S2는 셀 S2에 충진된 량, C_S3는 셀 S2에 충진된 량, C_SN/2는 셀 SN/2에 충진된 량이고, C_total 은 N개의 셀들에 채워진 총 충진량인 것인, 캐니스터.
The method of claim 1,
The size of the cell satisfies at least S1 > S2 > S3, and the cells are
C_S1 + C_S2 + C_S3 + … + C_SN/2 ≥ (C_total)*0.6
, where C_S1 is the amount filled in cell S1, C_S2 is the amount filled in cell S2, C_S3 is the amount filled in cell S2, and C_SN/2 is the amount filled in cell SN/2, C_total is the total fill amount filled in N cells.
제1항에 있어서,
상기 셀들의 크기는 다음 수식
V_S1 ≥ (V_total)*0.2
을 만족하도록 구성되어 있고, 여기서, V_S1은 셀 S1의 크기, V_total 은 N개의 셀들의 크기의 총합인 것인, 캐니스터.
The method of claim 1,
The size of the cells is determined by the following formula
V_S1 ≥ (V_total)*0.2
, wherein V_S1 is the size of cell S1 and V_total is the sum of the sizes of N cells.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 유체가 이동할 수 있는 경로인 제1유로, 제1유로와 연통되어 제1유로에게 유체를 주입하기 위한 제1인렛과, 제1유로와 연통되어 있고 기화된 물질을 외부로 배출하기 위한 제1아웃렛을 구비한 제1캐니스터를 포함하는 제1기화기; 및
유체가 이동할 수 있는 경로인 제2유로, 제2유로와 연통되어 제2유로에게 유체를 주입하기 위한 제2인렛과, 제2유로와 연통되어 있고 기화된 물질을 외부로 배출하기 위한 제2아웃렛을 구비한 제2캐니스터를 포함하는 제2기화기; 및
제1기화기와 제2기화기를 직렬 연결시키는 연결 라인;을 포함하며,
제1캐니스터와 제2캐니스터 중 적어도 하나는, 제1항, 제4항 내지 제6항 중 어느 하나의 항에 따른 캐니스터이고,
제1기화기에서 기화된 물질이 상기 연결 라인을 통해서 제2기화기로 이동되는 것인, 기화 시스템.
A first flow path through which the fluid can move, a first inlet communicating with the first flow path to inject a fluid into the first flow path, and a first outlet communicating with the first flow path and discharging a vaporized material to the outside A first vaporizer comprising a first canister having a; and
A second flow path through which the fluid can move, a second inlet communicating with the second flow path to inject fluid into the second flow path, and a second outlet communicating with the second flow path and discharging vaporized material to the outside a second vaporizer comprising a second canister; and
A connection line connecting the first vaporizer and the second vaporizer in series;
At least one of the first canister and the second canister is the canister according to any one of claims 1 to 6,
wherein material vaporized in the first vaporizer is transferred to the second vaporizer through the connecting line.
제10항에 있어서,
제1유로와 제2유로 중 적어도 하나는 적층형 유로인 것인, 기화 시스템.
11. The method of claim 10,
At least one of the first flow path and the second flow path is a stacked flow path, the vaporization system.
제10항에 있어서,
제1기화기와 제2기화기 중 적어도 하나는 버블형 기화기인 것인, 기화 시스템.
11. The method of claim 10,
wherein at least one of the first vaporizer and the second vaporizer is a bubble vaporizer.
제10항에 있어서,
제1유로와 제2유로 중 적어도 하나는 곡선형 유로인 것인, 기화 시스템.
11. The method of claim 10,
wherein at least one of the first flow path and the second flow path is a curved flow path.
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