KR102388473B1 - 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛 - Google Patents

클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛 Download PDF

Info

Publication number
KR102388473B1
KR102388473B1 KR1020200100193A KR20200100193A KR102388473B1 KR 102388473 B1 KR102388473 B1 KR 102388473B1 KR 1020200100193 A KR1020200100193 A KR 1020200100193A KR 20200100193 A KR20200100193 A KR 20200100193A KR 102388473 B1 KR102388473 B1 KR 102388473B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
shutter
clean dry
dry air
additional pressure
piston
Prior art date
Application number
KR1020200100193A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20220019910A (ko
Inventor
남창호
홍성민
Original Assignee
(주)마스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)마스 filed Critical (주)마스
Priority to KR1020200100193A priority Critical patent/KR102388473B1/ko
Publication of KR20220019910A publication Critical patent/KR20220019910A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102388473B1 publication Critical patent/KR102388473B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D25/00—Pumping installations or systems
    • F04D25/02—Units comprising pumps and their driving means
    • F04D25/08—Units comprising pumps and their driving means the working fluid being air, e.g. for ventilation
    • F04D25/12—Units comprising pumps and their driving means the working fluid being air, e.g. for ventilation the unit being adapted for mounting in apertures
    • F04D25/14—Units comprising pumps and their driving means the working fluid being air, e.g. for ventilation the unit being adapted for mounting in apertures and having shutters, e.g. automatically closed when not in use
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00—Details, component parts, or accessories
    • F04D29/40—Casings; Connections of working fluid
    • F04D29/42—Casings; Connections of working fluid for radial or helico-centrifugal pumps
    • F04D29/4206—Casings; Connections of working fluid for radial or helico-centrifugal pumps especially adapted for elastic fluid pumps
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00—Details, component parts, or accessories
    • F04D29/70—Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning
    • F04D29/701—Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning especially adapted for elastic fluid pumps
    • F04D29/703—Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning especially adapted for elastic fluid pumps specially for fans, e.g. fan guards

Abstract

개시되는 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛이 유닛 케이스와, 셔터 부재와, 셔터 구동 수단을 포함함에 따라, 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도 조절이 필요한 경우, 상기 반도체 제조 공정 장비의 작동을 유지시키면서도, 외부 공기의 유입을 차단함과 함께, 클린 건조 공기를 공급시켜, 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도 조절이 가능해질 수 있게 되는 장점이 있다.

Description

클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛{Clean dry air shutter fan filter unit}
본 발명은 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 관한 것이다.
반도체 제조 공정 설비 중 세정 장비 등의 특정 장비에는 팬 필터 유닛이 설치되어, 상기 팬 필터 유닛에 의해 해당 장비의 내부에 하강 기류를 형성시켜주는데, 이러한 팬 필터 유닛의 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 특허문헌의 그 것이다.
상기 팬 필터 유닛의 내부에는 하강 기류를 형성하는 팬과, 상기 팬을 경유한 하강 기류 내의 이물질을 걸러내는 필터가 설치된다.
그러나, 종래의 팬 필터 유닛에 의하면, 상기 팬 필터 유닛이 설치된 반도체 제조 공정 장비의 가동이 지속됨에 따라, 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부로 공정 진행을 위해 유입되는 약액과 상기 팬 필터 유닛을 경유하여 유입되는 외부 공기 중의 수분에 의해, 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도가 상승하게 되는데, 이러한 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도의 상승은 반도체 제조 공정에 악영향을 미치게 됨에도 불구하고, 상기 반도체 제조 공정 장비를 오프시키는 등의 극단적인 방법 이외에 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도를 조절하는 수단이 마땅하지 않은 문제가 있었다.
등록특허 제 10-1022781호, 등록일자: 2011.03.09., 발명의 명칭: 팬 필터 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치
본 발명은 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도 조절이 필요한 경우, 상기 반도체 제조 공정 장비의 작동을 유지시키면서도, 외부 공기의 유입을 차단해줄 수 있는 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛을 제공하는 것을 일 목적을 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛은 반도체 제조 공정 장비에 적용되어, 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부로 하강 기류를 형성시켜주는 것으로서,
상기 반도체 제조 공정 장비로 유동될 상기 하강 기류를 형성시키는 팬이 설치된 유닛 케이스; 상기 하강 기류의 형성을 위하여 상기 유닛 케이스 중 상기 팬을 향해 개방되어 외부 공기가 유입될 수 있는 공기 유입홀을 개폐시킬 수 있는 셔터 부재; 상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 개폐시킬 수 있도록, 상기 유닛 케이스에 설치되어, 상기 셔터 부재를 상기 유닛 케이스에 밀접시키거나, 상기 셔터 부재를 상기 유닛 케이스로부터 이격시킬 수 있는 셔터 구동 수단; 및 상기 셔터 구동 수단을 구성하는 피스톤과 상기 셔터 부재를 구성하는 셔터 몸체의 연결 부분에 배치되어, 상기 셔터 부재를 구성하는 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀을 막을 때 상기 셔터 마개부에 추가적인 압력을 제공하여 상기 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀에 밀착될 수 있도록 하는 추가압 밀착 부재;를 포함하고,
상기 추가압 밀착 부재는 상기 셔터 몸체의 중앙부에 고정되고, 그 내부가 빈 원형 실린더 형태로 형성되고, 그 상단은 외부에 대하여 개방되고, 그 바닥면의 중앙부에는 상기 피스톤이 관통하는 형태로 형성되는 추가압 밀착 케이스와, 상기 피스톤의 상부에서 상기 피스톤의 외측으로 원형 링 형태로 확장된 형태로 형성되어, 그 외면이 상기 추가압 밀착 케이스의 내면에 접촉한 상태로 상기 추가압 밀착 케이스의 내부를 따라 승강될 수 있는 피스톤 연결부와, 상기 피스톤 연결부를 관통하여 상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이의 공기가 상기 추가압 밀착 부재의 외부로 배출될 수 있고, 상기 추가압 밀착 부재의 외부의 공기가 상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이로 유입될 수 있도록 하는 공기 통로와, 상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이에 배치되어, 그 상단은 상기 피스톤 연결부의 저면에 접촉되고, 그 하단은 상기 추가압 밀착 케이스의 바닥면에 접촉되는 압축 스프링을 포함하고,
상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 개방한 상태에서는, 상기 압축 스프링은 최대로 신장되어, 상기 피스톤 연결부가 상기 추가압 밀착 케이스의 내부에서 최고점에 있게 되고,
상기 셔터 구동 수단을 구성하는 공압 실린더가 상기 피스톤을 하강시키는 초기에는, 상기 압축 스프링은 최대로 신장된 상태를 유지하고, 상기 피스톤 연결부도 상기 추가압 밀착 케이스의 내부에서 최고점에 있는 상태를 유지하다가, 상기 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀에 삽입되면, 상기 셔터 몸체는 상기 유닛 케이스의 상단에 걸려 상기 셔터 몸체의 하강이 정지됨에 따라, 상기 피스톤의 지속적인 하강에 따라 상기 피스톤 연결부가 상기 추가압 밀착 케이스의 내부에서 하강을 시작하게 됨으로써, 상기 피스톤 연결부가 상기 추가압 밀착 케이스의 바닥면으로 점진적으로 접근되고, 그에 따라 상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이의 공기가 상기 공기 통로를 통해 상기 추가압 밀착 부재의 외부로 배출되고, 상기 압축 스프링은 압축되면서 복원력을 축적하게 되고,
상기 피스톤이 최대로 하강되면서 상기 공압 실린더의 작동이 정지되면, 상기 압축 스프링은 최대로 압축되면서 최대로 복원력을 축적한 상태가 됨으로써, 상기 압축 스프링의 복원력에 의해 상기 압축 스프링이 상기 추가압 밀착 케이스의 바닥면을 가압하게 되고, 그에 따라 상기 추가압 밀착 케이스와 연결된 상기 셔터 몸체가 추가적으로 하강되어, 상기 셔터 마개부가 추가적으로 하강되면서 상기 공기 유입홀에 상대적으로 더 밀착될 수 있게 되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 의하면, 상기 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛이 유닛 케이스와, 셔터 부재와, 셔터 구동 수단을 포함함에 따라, 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도 조절이 필요한 경우, 상기 반도체 제조 공정 장비의 작동을 유지시키면서도, 외부 공기의 유입을 차단함과 함께, 클린 건조 공기를 공급시켜, 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도 조절이 가능해질 수 있게 되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛이 반도체 제조 공정 장비에 적용된 모습을 보이는 사시도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛을 구성하는 셔터 부재가 분리된 모습을 보이는 사시도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛을 구성하는 셔터 부재가 공기 유입홀을 개방한 모습을 보이는 정면도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛을 구성하는 셔터 부재가 공기 유입홀을 닫은 모습을 보이는 정면도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 대한 수직 단면도.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 추가압 밀착 부재가 적용된 모습을 확대한 단면도.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛이 반도체 제조 공정 장비에 적용된 모습을 보이는 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛을 구성하는 셔터 부재가 분리된 모습을 보이는 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛을 구성하는 셔터 부재가 공기 유입홀을 개방한 모습을 보이는 정면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛을 구성하는 셔터 부재가 공기 유입홀을 닫은 모습을 보이는 정면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 대한 수직 단면도이다.
도 1 내지 도 5를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛(100)은 반도체 제조 공정 장비(10)에 적용되어, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부로 하강 기류를 형성시켜주는 것으로서, 유닛 케이스(110)와, 셔터 부재(130)와, 셔터 구동 수단(140)을 포함한다.
본 실시예에서는, 상기 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛(100)이 클린 건조 공기 공급 부재(150)를 더 포함한다.
상기 유닛 케이스(110)는 직육면체 형태 등으로 형성되어, 그 내부에 팬(120)과, 필터(125)가 설치되고, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 상단에 얹히는 형태로 설치되는 것이다.
상기 팬(120)은 상기 유닛 케이스(110)의 내부 상측 공간에 설치되어, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)로 유동될 상기 하강 기류를 형성시키는 것이다.
상기 팬(120)은 복수 개, 예를 들어 두 개가 상기 유닛 케이스(110)에 서로 나란하게 설치될 수 있다.
상기 유닛 케이스(110)의 상면 중 상기 팬(120)에 대응되는 부분에는, 상기 하강 기류의 형성을 위하여 상기 팬(120)을 향해 개방되어 외부 공기가 유입될 수 있는 공기 유입홀(111)이 형성된다.
상기 공기 유입홀(111)은 상기 팬(120)에 대응되도록 원형으로 형성되고, 상기 팬(120)의 크기에 대응되는 크기로 형성될 수 있다.
상기 필터(125)는 상기 유닛 케이스(110)의 내부 하측 공간에 설치되어, 상기 팬(120)에 의해 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부로 하강되는 상기 하강 기류가 경유되면서 상기 하강 기류 중의 이물질이 제거되도록 하는 것이다.
상기 필터(125)는 상기 유닛 케이스(110)의 내부 하측 공간을 전체적으로 덮는 형태로 이루어질 수 있다.
상기 셔터 부재(130)는 상기 공기 유입홀(111)을 개폐시킬 수 있는 것이다.
상세히, 상기 셔터 부재(130)는 상기 공기 유입홀(111)을 커버할 수 있도록 소정 면적의 플레이트 형태로 형성되는 셔터 몸체(131)와, 상기 셔터 몸체(131)의 저면에서 돌출되어 상기 공기 유입홀(111)에 삽입됨으로써 상기 공기 유입홀(111)을 막을 수 있는 셔터 마개부(132)를 포함한다.
상기 셔터 마개부(132)는 상기 공기 유입홀(111)에 삽입되어 상기 공기 유입홀(111)을 막을 수 있도록, 상기 공기 유입홀(111)의 크기에 대응되는 크기로 상기 공기 유입홀(111)처럼 원형으로 형성될 수 있다.
상기 팬(120)이 복수 개 형성된 경우, 상기 셔터 몸체(131)는 복수 개의 상기 팬(120)을 모두 커버할 수 있는 플레이트 형태로 형성되고, 상기 셔터 마개부(132)는 상기 셔터 몸체(131)의 저면에서 상기 각 팬(120)의 위치에 대응되는 위치에 각각 형성될 수 있다.
상기 셔터 구동 수단(140)은 상기 셔터 부재(130)가 상기 공기 유입홀(111)을 개폐시킬 수 있도록, 상기 유닛 케이스(110)에 설치되어, 상기 셔터 부재(130)를 상기 유닛 케이스(110)에 밀접시키거나, 상기 셔터 부재(130)를 상기 유닛 케이스(110)로부터 이격시킬 수 있는 것이다.
본 실시예에서는, 상기 셔터 구동 수단(140)이 상기 유닛 케이스(110)에 설치되는 공압 실린더(141)와, 상기 공압 실린더(141)로부터 돌출되거나 상기 공압 실린더(141)의 내부로 수축될 수 있는 피스톤(142)으로 구성된다.
상기 피스톤(142)의 말단부에 상기 셔터 부재(130)가 연결되고, 상기 피스톤(142)은 상기 유닛 케이스(110)의 상부 상공을 향해 돌출될 수 있다.
상기와 같이 구성되면, 상기 공압 실린더(141)로부터 상기 피스톤(142)이 돌출되도록 상기 공압 실린더(141)가 작동되면, 상기 셔터 부재(130)가 상기 유닛 케이스(110)의 상공으로 이격되고, 그에 따라 상기 셔터 부재(130)와 상기 유닛 케이스(110)의 상면 사이의 공간을 통해 유입된 상기 외부 공기가 상기 유닛 케이스(110)의 상면에 형성된 상기 공기 유입홀(111)을 통해 상기 팬(120) 쪽으로 유동될 수 있게 된다.
반면, 상기 공압 실린더(141)의 내부로 상기 피스톤(142)이 수축되도록 상기 공압 실린더(141)가 작동되면, 상기 셔터 부재(130)가 상기 공기 유입홀(111)을 막도록 하강되어, 상기 공기 유입홀(111)을 막게 되고, 그에 따라 상기 외부 공기가 상기 공기 유입홀(111) 쪽으로 유입되지 못하게 된다.
상기 공압 실린더(141)는 상기 유닛 케이스(110)의 중앙부에 설치되고, 상기 피스톤(142)은 상기 셔터 부재(130)의 저면 중앙부에 연결됨으로써, 상기 공압 실린더(141)에 의해 상기 셔터 부재(130)가 안정적으로 승강될 수 있게 됨은 물론, 복수 개의 상기 공기 유입홀(111)이 상기 각 셔터 마개부(132)에 의해 연동되어 함께 막히고 개방될 수 있게 된다.
상기 클린 건조 공기 공급 부재(150)는 상기 셔터 부재(130)가 상기 공기 유입홀(111)을 닫은 상태에서, 상기 팬(120)에 의해 상기 하강 기류를 형성하여 상기 반도체 제조 공정 장비(10)로 공급될 클린 건조 공기(Clean dry air, CDA)를 공급해주는 것이다.
상기 클린 건조 공기는 수분 및 불순물이 제거된 공기를 말한다.
상세히, 상기 클린 건조 공기 공급 부재(150)는 클린 건조 공기 공급 수단(151)과, 클린 건조 공기 공급 배관(152)과, 배관 개폐 밸브(153)를 포함한다.
상기 클린 건조 공기 공급 수단(151)은 상기 팬(120) 쪽으로 상기 클린 건조 공기를 공급해줄 수 있는 것으로, 상기 클린 건조 공기를 압축적으로 수용한 공급 탱크가 그 예로 제시될 수 있다.
상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)은 상기 클린 건조 공기 공급 수단(151)과 상기 유닛 케이스(110)의 하부를 연결하여, 상기 클린 건조 공기 공급 수단(151)에서 공급되는 상기 클린 건조 공기가 상기 팬(120) 쪽으로 유동되도록 하는 것이다.
상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)은 상기 유닛 케이스(110) 중 상기 필터(125)의 하측 공간에 해당되는 부분에 연결되어, 상기 유닛 케이스(110) 중 상기 필터(125)의 하측 공간에 해당되는 부분으로 상기 클린 건조 공기가 유동되도록 할 수 있다. 그러면, 상기 클린 건조 공기는 상기 필터(125) 등을 경유하지 아니하고, 상기 팬(120)에 의한 풍압에 의해 곧바로 상기 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부로 하강될 수 있게 된다.
상기 클린 건조 공기 공급 수단(151)에 공급된 상기 클린 건조 공기는 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 통해 상기 유닛 케이스(110)의 하부로 유동된 다음, 상기 팬(120)에 의해 불려져서 상기 하강 기류를 형성하면서 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부로 공급될 수 있다.
상기 배관 개폐 밸브(153)는 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 개폐시킬 수 있는 것이다.
상기 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛(100)을 구성하는 별도 제어부(미도시) 또는 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 제어부에 의해, 상기 셔터 구동 수단(140)과 상기 배관 개폐 밸브(153)의 작동이 연동되어 제어될 수 있다.
상세히, 상기 셔터 구동 수단(140)에 의해 상기 셔터 부재(130)가 상기 공기 유입홀(111)을 열고 상기 배관 개폐 밸브(153)가 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 닫은 상태에서, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 작동 중에 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부 습도가 미리 설정된 소정 습도값 이상이 된 경우, 상기 셔터 구동 수단(140)에 의해 상기 셔터 부재(130)가 상기 공기 유입홀(111)을 닫게 되고, 상기 배관 개폐 밸브(153)가 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 열어서, 상기 공기 유입홀(111)을 통한 상기 외부 공기의 유입이 차단됨과 함께, 상기 클린 건조 공기 공급 수단(151)에서 공급된 상기 클린 건조 공기가 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 통해 상기 팬(120) 쪽으로 유동되어, 상기 클린 건조 공기가 상기 팬(120)을 통해 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부로 공급될 수 있다.
상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부 습도는 상기 반도체 제조 공정 장비(10)를 구성하는 습도 감지 센서에서 감지될 것이다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛(100)의 작동에 대하여 설명한다.
상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부 습도가 상기 미리 설정된 소정 습도값 미만인 경우, 상기 셔터 구동 수단(140)에 의해 상기 셔터 부재(130)가 상승되어 상기 공기 유입홀(111)을 열고 상기 배관 개폐 밸브(153)가 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 닫은 상태에서, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)가 작동되면서, 반도체 제조 공정이 수행된다.
이러한 상태에서는, 상기 셔터 부재(130)와 상기 유닛 케이스(110) 사이의 공간을 통해 상기 외부 공기가 유입되고, 상기 외부 공기가 상기 공기 유입홀(111)을 통해 상기 팬(120) 쪽으로 공급되어, 상기 외부 공기가 상기 팬(120)에 의해 상기 하강 기류로 형성되어 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부로 공급된다.
상기와 같은 상기 외부 공기 공급을 통한 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 작동 중에, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부 습도가 상기 미리 설정된 소정 습도값 이상이 된 경우, 상기 셔터 구동 수단(140)에 의해 상기 셔터 부재(130)가 하강되어 상기 공기 유입홀(111)을 닫게 되고, 상기 배관 개폐 밸브(153)가 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 열어준다.
그러면, 상기 공기 유입홀(111)을 통한 상기 외부 공기의 유입이 차단됨과 함께, 상기 클린 건조 공기 공급 수단(151)에서 공급된 상기 클린 건조 공기가 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 통해 상기 팬(120) 쪽으로 유동되어, 상기 클린 건조 공기가 상기 팬(120)에 의해 상기 하강 기류를 형성하여 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부로 공급된다.
상기와 같은 상기 클린 건조 공기 공급을 통한 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 작동 중에, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부 습도가 다시 상기 미리 설정된 소정 습도값 미만으로 환원된 경우, 상기 셔터 구동 수단(140)에 의해 상기 셔터 부재(130)가 재상승되어 상기 공기 유입홀(111)을 다시 열고 상기 배관 개폐 밸브(153)가 상기 클린 건조 공기 공급 배관(152)을 다시 닫은 상태에서, 상기 외부 공기 공급을 통한 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 작동이 다시 이루어질 수 있게 된다.
상기와 같이, 상기 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛(100)이 상기 유닛 케이스(110)와, 상기 셔터 부재(130)와, 상기 셔터 구동 수단(140)을 포함함에 따라, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부 습도 조절이 필요한 경우, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 작동을 유지시키면서도, 상기 외부 공기의 유입을 차단함과 함께, 상기 클린 건조 공기를 공급시켜, 상기 반도체 제조 공정 장비(10)의 내부 습도 조절이 가능해질 수 있게 된다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 대하여 설명한다. 이러한 설명을 수행함에 있어서, 상기된 본 발명의 일 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고, 여기서는 생략하기로 한다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 추가압 밀착 부재가 적용된 모습을 확대한 단면도이다.
도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛은 추가압 밀착 부재(260)를 더 포함한다.
상기 추가압 밀착 부재(260)는 셔터 구동 수단을 구성하는 피스톤(242)과 셔터 부재를 구성하는 셔터 몸체(231)의 연결 부분에 배치되어, 상기 셔터 부재를 구성하는 셔터 마개부가 유닛 케이스의 공기 유입홀을 막을 때 상기 셔터 마개부에 추가적인 압력을 제공하여 상기 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀에 밀착될 수 있도록 하는 것이다.
상세히, 상기 추가압 밀착 부재(260)는 추가압 밀착 케이스(261)와, 피스톤 연결부(262)와, 공기 통로(263)와, 압축 스프링(264)을 포함한다.
상기 추가압 밀착 케이스(261)는 상기 셔터 몸체(231)의 중앙부에 고정되고, 그 내부가 빈 원형 실린더 형태로 형성되고, 그 상단은 외부에 대하여 개방되고, 그 바닥면의 중앙부에는 상기 피스톤(242)이 관통하는 형태로 형성되는 것이다.
상기 피스톤 연결부(262)는 상기 피스톤(242)의 상부에서 상기 피스톤(242)의 외측으로 원형 링 형태로 확장된 형태로 형성되어, 그 외면이 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 내면에 접촉한 상태로 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 내부를 따라 승강될 수 있는 것이다.
상기 공기 통로(263)는 상기 피스톤 연결부(262)를 관통하여 상기 추가압 밀착 케이스(261)와 상기 피스톤 연결부(262) 사이의 공기가 상기 추가압 밀착 부재(260)의 외부로 배출될 수 있고, 상기 추가압 밀착 부재(260)의 외부의 공기가 상기 추가압 밀착 케이스(261)와 상기 피스톤 연결부(262) 사이로 유입될 수 있도록 하는 것이다.
상기 압축 스프링(264)은 상기 추가압 밀착 케이스(261)와 상기 피스톤 연결부(262) 사이에 배치되어, 그 상단은 상기 피스톤 연결부(262)의 저면에 접촉되고, 그 하단은 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 바닥면에 접촉되는 것이다.
상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 개방한 상태에서는, 상기 압축 스프링(264)은 최대로 신장되어, 상기 피스톤 연결부(262)가 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 내부에서 최고점(가장 높은 높이)에 있게 된다.
이러한 상태에서, 상기 셔터 구동 수단을 구성하는 공압 실린더가 상기 피스톤(242)을 하강시키는 초기에는, 상기 압축 스프링(264)은 최대로 신장된 상태를 유지하고, 상기 피스톤 연결부(262)도 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 내부에서 최고점에 있는 상태를 유지하다가, 상기 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀에 삽입되면, 상기 셔터 몸체(231)는 상기 유닛 케이스의 상단에 걸려 상기 셔터 몸체(231)의 하강이 정지됨에 따라, 상기 피스톤(242)의 지속적인 하강에 따라 상기 피스톤 연결부(262)가 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 내부에서 하강을 시작하게 된다. 그러면, 상기 피스톤 연결부(262)가 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 바닥면으로 점진적으로 접근되고, 그에 따라 상기 추가압 밀착 케이스(261)와 상기 피스톤 연결부(262) 사이의 공기가 상기 공기 통로(263)를 통해 상기 추가압 밀착 부재(260)의 외부로 배출되고, 상기 압축 스프링(264)은 압축되면서 복원력을 축적하게 된다.
상기 피스톤(242)이 최대로 하강되면서 상기 공압 실린더의 작동이 정지되면, 상기 압축 스프링(264)은 최대로 압축되면서 최대로 복원력을 축적한 상태가 되고, 그에 따라 상기 압축 스프링(264)의 복원력에 의해 상기 압축 스프링(264)이 상기 추가압 밀착 케이스(261)의 바닥면을 가압하게 되고, 그에 따라 상기 추가압 밀착 케이스(261)와 연결된 상기 셔터 몸체(231)가 추가적으로 하강되어, 상기 셔터 마개부가 추가적으로 하강되면서 상기 공기 유입홀에 상대적으로 더 밀착될 수 있게 된다.
상기와 같이 구성됨으로써, 상기 추가압 밀착 부재(260)에 의해, 상기 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀에 자동으로 추가적으로 더 밀착될 수 있게 된다.
상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛에 의하면, 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도 조절이 필요한 경우, 상기 반도체 제조 공정 장비의 작동을 유지시키면서도, 외부 공기의 유입을 차단해줄 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.
100 : 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛
110 : 유닛 케이스
130 : 셔터 부재
140 : 셔터 구동 수단
150 : 클린 건조 공기 공급 부재

Claims (3)

  1. 반도체 제조 공정 장비에 적용되어, 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부로 하강 기류를 형성시켜주는 것으로서,
    상기 반도체 제조 공정 장비로 유동될 상기 하강 기류를 형성시키는 팬이 설치된 유닛 케이스;
    상기 하강 기류의 형성을 위하여 상기 유닛 케이스 중 상기 팬을 향해 개방되어 외부 공기가 유입될 수 있는 공기 유입홀을 개폐시킬 수 있는 셔터 부재;
    상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 개폐시킬 수 있도록, 상기 유닛 케이스에 설치되어, 상기 셔터 부재를 상기 유닛 케이스에 밀접시키거나, 상기 셔터 부재를 상기 유닛 케이스로부터 이격시킬 수 있는 셔터 구동 수단; 및
    상기 셔터 구동 수단을 구성하는 피스톤과 상기 셔터 부재를 구성하는 셔터 몸체의 연결 부분에 배치되어, 상기 셔터 부재를 구성하는 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀을 막을 때 상기 셔터 마개부에 추가적인 압력을 제공하여 상기 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀에 밀착될 수 있도록 하는 추가압 밀착 부재;를 포함하고,
    상기 추가압 밀착 부재는
    상기 셔터 몸체의 중앙부에 고정되고, 그 내부가 빈 원형 실린더 형태로 형성되고, 그 상단은 외부에 대하여 개방되고, 그 바닥면의 중앙부에는 상기 피스톤이 관통하는 형태로 형성되는 추가압 밀착 케이스와,
    상기 피스톤의 상부에서 상기 피스톤의 외측으로 원형 링 형태로 확장된 형태로 형성되어, 그 외면이 상기 추가압 밀착 케이스의 내면에 접촉한 상태로 상기 추가압 밀착 케이스의 내부를 따라 승강될 수 있는 피스톤 연결부와,
    상기 피스톤 연결부를 관통하여 상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이의 공기가 상기 추가압 밀착 부재의 외부로 배출될 수 있고, 상기 추가압 밀착 부재의 외부의 공기가 상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이로 유입될 수 있도록 하는 공기 통로와,
    상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이에 배치되어, 그 상단은 상기 피스톤 연결부의 저면에 접촉되고, 그 하단은 상기 추가압 밀착 케이스의 바닥면에 접촉되는 압축 스프링을 포함하고,
    상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 개방한 상태에서는, 상기 압축 스프링은 최대로 신장되어, 상기 피스톤 연결부가 상기 추가압 밀착 케이스의 내부에서 최고점에 있게 되고,
    상기 셔터 구동 수단을 구성하는 공압 실린더가 상기 피스톤을 하강시키는 초기에는, 상기 압축 스프링은 최대로 신장된 상태를 유지하고, 상기 피스톤 연결부도 상기 추가압 밀착 케이스의 내부에서 최고점에 있는 상태를 유지하다가, 상기 셔터 마개부가 상기 공기 유입홀에 삽입되면, 상기 셔터 몸체는 상기 유닛 케이스의 상단에 걸려 상기 셔터 몸체의 하강이 정지됨에 따라, 상기 피스톤의 지속적인 하강에 따라 상기 피스톤 연결부가 상기 추가압 밀착 케이스의 내부에서 하강을 시작하게 됨으로써, 상기 피스톤 연결부가 상기 추가압 밀착 케이스의 바닥면으로 점진적으로 접근되고, 그에 따라 상기 추가압 밀착 케이스와 상기 피스톤 연결부 사이의 공기가 상기 공기 통로를 통해 상기 추가압 밀착 부재의 외부로 배출되고, 상기 압축 스프링은 압축되면서 복원력을 축적하게 되고,
    상기 피스톤이 최대로 하강되면서 상기 공압 실린더의 작동이 정지되면, 상기 압축 스프링은 최대로 압축되면서 최대로 복원력을 축적한 상태가 됨으로써, 상기 압축 스프링의 복원력에 의해 상기 압축 스프링이 상기 추가압 밀착 케이스의 바닥면을 가압하게 되고, 그에 따라 상기 추가압 밀착 케이스와 연결된 상기 셔터 몸체가 추가적으로 하강되어, 상기 셔터 마개부가 추가적으로 하강되면서 상기 공기 유입홀에 상대적으로 더 밀착될 수 있게 되는 것을 특징으로 하는 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛은
    상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 닫은 상태에서, 상기 팬에 의해 상기 하강 기류를 형성하여 상기 반도체 제조 공정 장비로 공급될 클린 건조 공기(Clean dry air, CDA)를 공급해주는 클린 건조 공기 공급 부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 클린 건조 공기 공급 부재는
    상기 팬 쪽으로 상기 클린 건조 공기를 공급해줄 수 있는 클린 건조 공기 공급 수단과,
    상기 클린 건조 공기 공급 수단에서 공급되는 상기 클린 건조 공기가 상기 팬 쪽으로 유동되도록 하는 클린 건조 공기 공급 배관과,
    상기 클린 건조 공기 공급 배관을 개폐시킬 수 있는 배관 개폐 밸브를 포함하고,
    상기 셔터 구동 수단에 의해 상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 열고 상기 배관 개폐 밸브가 상기 클린 건조 공기 공급 배관을 닫은 상태에서, 상기 반도체 제조 공정 장비의 작동 중에 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부 습도가 미리 설정된 소정 습도값 이상이 된 경우, 상기 셔터 구동 수단에 의해 상기 셔터 부재가 상기 공기 유입홀을 닫게 되고, 상기 배관 개폐 밸브가 상기 클린 건조 공기 공급 배관을 열어서, 상기 공기 유입홀을 통한 상기 외부 공기의 유입이 차단됨과 함께, 상기 클린 건조 공기 공급 수단에서 공급된 상기 클린 건조 공기가 상기 클린 건조 공기 공급 배관을 통해 상기 팬 쪽으로 유동되어, 상기 클린 건조 공기가 상기 팬을 통해 상기 반도체 제조 공정 장비의 내부로 공급되는 것을 특징으로 하는 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛.
KR1020200100193A 2020-08-11 2020-08-11 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛 KR102388473B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200100193A KR102388473B1 (ko) 2020-08-11 2020-08-11 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200100193A KR102388473B1 (ko) 2020-08-11 2020-08-11 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220019910A KR20220019910A (ko) 2022-02-18
KR102388473B1 true KR102388473B1 (ko) 2022-04-20

Family

ID=80495237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200100193A KR102388473B1 (ko) 2020-08-11 2020-08-11 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102388473B1 (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008219047A (ja) 2008-06-02 2008-09-18 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法，記録媒体及び基板処理装置
JP2014179525A (ja) 2013-03-15 2014-09-25 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法および基板処理装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101022781B1 (ko) 2008-11-26 2011-03-17 세메스 주식회사 팬 필터 유닛과, 이를 구비한 기판 처리 장치
KR101374114B1 (ko) * 2012-03-20 2014-03-14 (주)신성이엔지 팬 필터 유닛의 역류 방지 댐퍼 및 그 조립 방법
JP6026241B2 (ja) * 2012-11-20 2016-11-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP6392143B2 (ja) * 2015-02-24 2018-09-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法および基板処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008219047A (ja) 2008-06-02 2008-09-18 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法，記録媒体及び基板処理装置
JP2014179525A (ja) 2013-03-15 2014-09-25 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法および基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220019910A (ko) 2022-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970007648B1 (ko) 클린룸용 개방형 에어샤워장치
JP6166774B2 (ja) 真空化装置
WO2016000558A1 (zh) 吸尘器
KR102388473B1 (ko) 클린 건조 공기 셔터 팬 필터 유닛
JP2009127781A (ja) 作動油貯留装置
US20060144767A1 (en) Fuel filter
CA2693025C (en) Liquid separator
KR101709465B1 (ko) 분진제거용 싸이클론
KR100826827B1 (ko) 제습 클린 부스
KR101732273B1 (ko) 공기유도판이 구비된 내부 포집형 집진기
KR102145595B1 (ko) 압축공기용 정화장치
KR102433030B1 (ko) 롤러 이동 팬 필터 유닛
KR100841249B1 (ko) 공기압축설비용 드레인 유닛의 응축수 배출구조
KR200383744Y1 (ko) 공기압축설비용 드레인 유닛의 응축수 배출구조
JP6885132B2 (ja) Ｅｆｅｍ及びｅｆｅｍのガス置換方法
US8651828B2 (en) Vacuum pump with combined debris catcher and pressure relief valve
WO2023162339A1 (ja) 集塵装置、樹脂成形装置、及び、フィルタ部材
JP2005329474A (ja) 吸着装置
TWI768477B (zh) 萃取空間隔離裝置
JP2012125710A (ja) 粉粒体処理装置
JPS5855053Y2 (ja) 車高調整装置
KR20170050579A (ko) 수분의 유입이 방지되는 흡기유닛의 상부덕트
TWM524323U (zh) 自我壓力密封蓋
JP2023175569A (ja) フィルタ逆洗用バルブ
TWI586588B (zh) Self-pressure seal

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right