KR102356083B1 - 고온 공정 처리 장치 - Google Patents

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박우윤
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(주)제이피오토메이션
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Abstract

본 발명은 고온공정 배관부재가 고온 환경에 노출되는 경우에도 각 구성의 연결 부분에서 본래의 진공 상태가 유지되도록 하는 고온 공정 처리 장치에 관한 기술로서, 공정 가스로부터 Radical 형태의 고순도 반응 소스를 형성하는 과정에서 고온공정 배관부재에 발생하는 열을 외부로 효과적으로 방출함에 따라 고온공정 배관부재의 주변에 구비되는 복수의 오링 부재가 파손됨 없이 본래의 내구성을 유지하도록 하는 기술에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 고온공정 배관부재가 고온 환경에 노출되는 경우에도 고온공정 배관부재의 본래 진공 상태를 그대로 유지시키는 장점이 있다.

Description

고온 공정 처리 장치 {handling device for high-temperature processes}
본 발명은 고온공정 배관부재가 고온 환경에 노출되는 경우에도 각 구성의 연결 부분에서 본래의 진공 상태가 유지되도록 하는 고온 공정 처리 장치에 관한 기술이다.
더욱 상세하게는, 본 발명은 공정 가스로부터 Radical 형태의 고순도 반응 소스를 형성하는 과정에서 고온공정 배관부재에 발생하는 열을 외부로 효과적으로 방출함에 따라 고온공정 배관부재의 주변에 구비되는 복수의 오링 부재가 파손됨 없이 본래의 내구성을 유지하도록 하는 기술에 관한 것이다.
최근 반도체 및 디스플레이 공정에서는 다양한 반응성을 갖는 공정 가스(예: H2, SiH4, B2H6, N2O, NH3, NF3, N2)들을 사용하는데 이러한 공정 가스들의 반응성을 높여 고품질의 박막 형성 및 식각, 세정 공정 등에 활용하려는 많은 노력들이 시도되고 있다.
여기서, 공정 가스의 반응성을 높이는 방법으로서는 공정 가스가 이동하는 배관을 고온으로 히팅하여 공정챔버로 인입 하는 방법과 공정챔버 내 고밀도의 플라즈마를 형성한 후 그 공정 가스를 해리시키는 방법이 사용되고 있다.
이때, 그 공정 가스를 기존 보다 높은 온도로 가열하고, 공정챔버 내 공정 가스의 인입 전에 소위 리모트 플라즈마(Remote plasma) 장치를 사용하여 그 공정 가스를 사전 분해하여 Radical 형태의 고순도 반응 소스를 형성 후 공정챔버 내로 인입하는 기술이 시도 되고 있다.
하지만, 이러한 공정 가스를 사전 분해하는 기술은 고온으로 가열된 기체를 발생시키는 것이므로 리모트 플라즈마(Remote plasma) 장치 내에 구비되는 고온공정 방전관의 진공 유지가 어렵다는 문제가 있다.
예컨대, 고온공정 방전관은 주변 구성과의 연결 부분에서 복수의 오링(O-ring)이 구비되는데 이 오링이 고열에 의해 제 기능을 구현하지 못하게 되는 문제점이 있다.
그에 따라, 고온 공정을 수행하는 고온공정 배관부재가 고온 환경에 장시간 노출되어도 장치 자체의 내구성이 유지되도록 그 장치의 구조를 개선함으로써 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결할 수 있는 기술 구현이 요구된다.
본 발명은 상기한 점을 감안하여 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 해당 장치가 고온 환경에 노출되는 경우에도 각 구성 간의 기밀유지를 위한 오링이 그 고열에 파손되지 않도록 신속한 방열이 가능한 고온 공정 처리 장치를 제공함에 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 고온의 공정가스가 이동 가능하도록 속이 빈 파이프 형태로 이루어지는 고온공정 배관부재(110); 고온공정 배관부재의 일단부 외표면을 감싸는 형태로 고온공정 배관부재의 일단부와 외부의 제 1 연결부재의 연통 연결을 지지하는 제 1 지지블록 부재(120); 고온공정 배관부재의 타단부 외표면을 감싸는 형태로 고온공정 배관부재의 타단부와 외부의 제 2 연결부재의 연통 연결을 지지하는 제 2 지지블록 부재(130); 고온공정 배관부재의 일단부 외표면과 마주하는 제 1 지지블록 부재의 내벽에 채워지며 고온공정 배관부재로부터 발생하는 열을 제 1 지지블록 부재로 전도시키는 서멀 구리스 부재(140);를 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 제 1 지지블록 부재(120)는, 고온공정 배관부재의 일단부 외표면과 마주하는 자신 몸체의 중앙부 내벽이 제 2 지지블록 부재와 마주하는 일면으로부터 제 1 연결부재이 위치하는 방향으로 소정 깊이 절개 형성되는 구리스 채움 함몰부재(121); 구리스 채움 함몰부재에 서멀 구리스 부재가 채워진 상태에서 구리스 채움 함몰부재에 끼움 결합됨에 따라 서멀 구리스 부재를 외부와 차폐시키는 구리스 채움 마감부재(122);를 구비할 수 있다.
그리고, 제 2 지지블록 부재(130)는, 고온공정 배관부재의 타단부 외표면과 마주하는 자신 몸체의 중앙부 내벽이 제 1 지지블록 부재와 마주하는 일면으로부터 제 1 연결부재가 위치하는 방향으로 소정 깊이 절개 형성되는 서브 구리스 채움 함몰부재(131); 서브 구리스 채움 함몰부재에 서멀 구리스가 채워진 상태에서 서브 구리스 채움 함몰부재에 끼움 결합됨에 따라 그 서멀 구리스를 외부와 차폐시키는 서브 구리스 채움 마감부재(132);를 구비할 수 있다.
한편, 본 발명은 속이 빈 파이프 형태로 이루어지고 자신의 내측에 제 1 지지블록 부재의 외표면과 제 2 지지블록 부재의 외표면이 끼워진 상태로 제 1 지지블록 부재와 제 2 지지블록 부재를 고정시키는 외관 하우징 부재(150); 제 1 지지블록 부재에 인접하는 외관 하우징 부재의 내벽에 복수 회 권선되게 배치되며 자신의 내측에 냉각수를 흘림에 따라 제 1 지지블록 부재에 인접하는 외관 하우징 부재 내의 열을 외부로 방출하는 냉각수 배관부재(160);를 더 포함하여 구성될 수 있다.
다른 한편, 고온공정 배관부재의 외표면 중 소정 구간에서 복수 회 권선된 상태로 고온공정 배관부재에 대해 고주파 전원이 공급되도록 가이드하는 고주파형 코일부재(180); 고주파형 코일부재에 전원을 공급하는 플라즈마 제너레이터와 고주파형 코일부재 사이에 구비되며 플라즈마 제너레이터로부터 고주파형 코일부재로 제공되는 전원을 고주파 패턴으로 매칭하는 고주파형 매쳐부재(190);를 더 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 고주파형 코일부재(180)는 냉각수 배관부재의 내부를 흐르는 냉각수가 자신 몸체의 내부를 흐를 수 있도록 속이 빈 파이프 형태로 형성되고 냉각수 배관부재와 연통 연결될 수 있다.
본 발명은 제 1 지지블록 부재, 제 2 지지블록 부재, 서멀 구리스 부재를 구비함에 따라 고온 환경에 노출되는 고온공정 배관부재의 열을 효율적으로 방출하여 그 고온공정 배관부재의 본래 진공 상태를 그대로 유지시킬 수 있다는 장점을 나타낸다.
또한, 본 발명은 고주파 메쳐부재를 구비함에 따라 고주파형 코일부재에 대해 고주파의 전원을 공급할 수 있는 장점을 나타낸다.
[도 1]은 본 발명에 따른 고온 공정 처리 장치의 외관을 도시한 예시도,
[도 2]는 [도 1]을 다른 각도에서 도시한 도면,
[도 3]은 [도 1]에서 외관 하우징 부재를 제거하고 플라즈마 제너레이터와 고주파형 매쳐부재를 분리 도시한 도면,
[도 4]는 [도 2]에서 외관 하우징 부재를 제거하고 플라즈마 제너레이터와 고주파형 매쳐부재를 분리 도시한 도면,
[도 5]는 [도 3]의 주요 부분에 대한 단면도,
[도 6]은 [도 4]의 주요 부분에 대한 단면도,
[도 7]은 [도 6]을 정면에서 바라 본 도면,
[도 8]은 [도 7]에서 제 1 지지블록 부재의 인접 부분과 제 2 지지블록 부재의 인접 부분을 발췌하여 확대 도시한 도면,
[도 9]는 [도 8]에서 서멀 구리스 부재를 채운 상태를 도시한 도면이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
[도 1]은 본 발명에 따른 고온 공정 처리 장치의 외관을 도시한 예시도이고, [도 2]는 [도 1]을 다른 각도에서 도시한 도면이고, [도 3]은 [도 1]에서 외관 하우징 부재를 제거하고 플라즈마 제너레이터와 고주파형 매쳐부재를 분리 도시한 도면이고, [도 4]는 [도 2]에서 외관 하우징 부재를 제거하고 플라즈마 제너레이터와 고주파형 매쳐부재를 분리 도시한 도면이고, [도 5]는 [도 3]의 주요 부분에 대한 단면도이고, [도 6]은 [도 4]의 주요 부분에 대한 단면도이고, [도 7]은 [도 6]을 정면에서 바라 본 도면이고, [도 8]은 [도 7]에서 제 1 지지블록 부재의 인접 부분과 제 2 지지블록 부재의 인접 부분을 발췌하여 확대 도시한 도면이고, [도 9]는 [도 8]에서 서멀 구리스 부재를 채운 상태를 도시한 도면이다.
[도 1] 내지 [도 9]를 참조하면, 본 발명은 고온공정 배관부재(110), 제 1 지지블록 부재(120), 제 2 지지블록 부재(130), 서멀 구리스 부재(140), 외관 하우징 부재(150), 냉각수 배관부재(160), 고주파형 코일부재(180), 고주파형 매쳐부재(190)를 포함하여 구성될 수 있다.
고온공정 배관부재(110)는 고온의 공정가스가 이동 가능하도록 속이 빈 파이프 형태로 이루어질 수 있다.
고온공정 배관부재(110)는 [도 3] 내지 [도 7]에서와 같이 예컨대 가스공급원(10)과 공정챔버(20)를 연통 연결하고 가스공급원(10)으로부터 제공되는 가스가 공정챔버(20)로 이동하는 과정에서 이온화되도록 공간을 제공할 수 있다.
한편, 고온공정 배관부재(110)는 고주파형 코일부재(180)와의 전기적인 간섭을 차단할 수 있도록 절연 재질로 구성될 수 있다.
그리고, 고온공정 배관부재(110)는 바람직하게는 고주파 환경에서 강한 유동성을 갖는 플라즈마로부터 내마모성을 갖도록 세라믹, 쿼츠, ALN(Aluminium nitride) 중 어느 하나의 재질로 구성될 수 있다.
제 1 지지블록 부재(120)는 [도 3] 내지 [도 9]에서와 같이 고온공정 배관부재(110)의 일단부 외표면을 감싸는 형태로 고온공정 배관부재(110)의 일단부와 예컨대 공정챔버(20)에 연결될 외부의 제 1 연결부재 간의 연통 연결을 지지할 수 있다.
여기서, 제 1 지지블록 부재(120)는 고온공정 배관부재(110)에 발생하는 열을 외부로 방출할 수 있도록 바람직하게는 열전도가 양호한 알루미늄(Al) 재질로 구성될 수 있다.
그리고, 제 1 지지블록 부재(120)는 자신의 내측으로 냉각수 배관부재(160)가 경유하도록 함으로써 고온공정 배관부재(110)에서 발생하는 열을 외부로 방열함에 있어서 그 방열 효율을 높일 수 있다.
여기서, 제 1 지지블록 부재(120)는 [도 5] 내지 [도 9]를 참조하면 구리스 채움 함몰부재(121)와 구리스 채움 마감부재(122)를 구비할 수 있다.
구리스 채움 함몰부재(121)는 고온공정 배관부재(110)의 일단부 외표면과 마주하는 자신 몸체의 중앙부 내벽이 제 2 지지블록 부재(130)와 마주하는 일면으로부터 앞서 살펴 본 제 1 연결부재가 위치하는 방향으로 [도 5] 내지 [도 8]에서와 같이 소정 깊이 절개 형성될 수 있다.
구리스 채움 마감부재(122)는 [도 9]에서와 같이 구리스 채움 함몰부재(121)에 서멀 구리스 부재(140)가 채워진 상태에서 [도 5] 내지 [도 9]에서와 같이 구리스 채움 함몰부재(121)에 끼움 결합됨에 따라 서멀 구리스 부재(140)를 외부와 차폐시킨다.
여기서, 구리스 채움 마감부재(122)에 인접하는 구리스 채움 함몰부재(121)의 내측에는 [도 5] 내지 [도 9]에서와 같이 오링이 구비됨에 따라 서멀 구리스 부재(140)가 구리스 채움 함몰부재(121)의 밖인 외관 하우징 부재(150)의 내측으로 흘러나가는 것을 차단하게 된다.
이처럼, 서멀 구리스 부재(140)를 통해 고온공정 배관부재(110)과 제 1 지지블록 부재(120) 간의 접촉이 양호하게 되고 그로 인해 고온공정 배관부재(110)에서 발생하는 열이 서멀 구리스 부재(140)를 통해 제 1 지지블록 부재(120)에 효과적으로 전도되고 그 전도된 열은 제 1 지지블록 부재(120)의 내부를 경유하는 냉각수 배관부재(160) 내의 쿨런트를 통해 효과적으로 방열될 수 있다.
제 2 지지블록 부재(130)는 고온공정 배관부재(110)의 타단부 외표면을 감싸는 형태로 고온공정 배관부재(110)의 타단부와 예컨대 가스공급원(10)에 연결될 외부의 제 2 연결부재 간의 연통 연결을 지지할 수 있다.
그리고, 제 2 지지블록 부재(130)는 [도 3] 내지 [도 9]에서와 같이 고온공정 배관부재(110)의 타단부와 가스공급원(10)의 연장 배관을 상호 연통 연결시킨 상태로 고온공정 배관부재(110)와 그 연장 배관을 지지할 수 있다.
이때, 제 2 지지블록 부재(130)는 고온공정 배관부재(110)에 발생하는 열을 외부로 방출할 수 있도록 바람직하게는 열전도가 양호한 알루미늄(Al) 재질로 구성될 수 있다.
또한, 제 2 지지블록 부재(130)는 자신의 내측으로 냉각수 배관부재(160)가 경유하도록 함으로써 고온공정 배관부재(110)에서 발생하는 열을 외부로 방열함에 있어서 그 방열 효율을 높일 수 있다.
여기서, 제 2 지지블록 부재(130)는 [도 5] 내지 [도 9]를 참조하면 서브 구리스 채움 함몰부재(131)와 서브 구리스 채움 마감부재(132)를 구비할 수 있다.
서브 구리스 채움 함몰부재(131)는 고온공정 배관부재(110)의 타단부 외표면과 마주하는 자신 몸체의 중앙부 내벽이 제 1 지지블록 부재(120)와 마주하는 일면으로부터 제 1 연결부재가 위치하는 방향으로 [도 5] 내지 [도 8]에서와 같이 소정 깊이 절개 형성될 수 있다.
한편, 고온공정 배관부재(110)와 제 1,2 지지블록 부재(120, 130)는 열팽창율이 상이하므로 직결시 파손 위험이 있으므로 이러한 파손을 방지하기 위해서는 고온공정 배관부재(110)와 제 1,2 지지블록 부재(120, 130) 간의 이격 공간을 확보할 수 있다.
여기서, 고온공정 배관부재(110)와 제 1,2 지지블록 부재(120, 130) 간의 기밀유지를 위해서는 바람직하게는 그 이격 공간에 기밀유지를 위한 소위 오링(O-ring)을 [도 5] 내지 [도 9]에서와 같이 하나 이상 체결할 수 있다.
이처럼, 고온공정 배관부재(110)와 제 1,2 지지블록 부재(120, 130) 간 이격 공간 등의 구조적인 한계로 인해 상호 맞닿는 면접촉이 불량하게 되어 고온공정 배관부재(110)에서 발생하는 고온의 열이 제 1,2 지지블록 부재(120, 130)로 전도되는 방열에 있어서 한계가 발생한다.
한편, 고온공정 배관부재(110)와 제 1,2 지지블록 부재(120, 130) 사이에 구비되는 하나 이상의 오링(O-ring)은 고온공정 배관부재(110)의 열에 의해서도 파손되지 않고 내구성을 유지할 수 있어야 한다.
이를 위해서는, 고온공정 배관부재(110)에서 발생한 열이 오래 머물지 않고 고온공정 배관부재(110)으로부터 제 1,2 지지블록 부재(120, 130)으로 신속하게 열전도가 이루어지도록 할 필요가 있다.
그 결과, 고온공정 배관부재(110)와 제 1,2 지지블록 부재(120, 130)의 사이에 별도의 공간으로서 앞서 살펴 본 구리스 채움 함몰부재(121)와 서브 구리스 함몰부재(131)를 마련한 후, 그 공간에 채워지는 각각의 서멀 구리스 부재(140)와 서멀 구리브(140')를 채택하였다.
다른 한편, 서브 구리스 채움 마감부재(132)는 [도 9]와 같이 서브 구리스 채움 함몰부재(131)에 서멀 구리스(140')가 채워진 상태에서 [도 5] 내지 [도 9]에서와 같이 서브 구리스 채움 함몰부재(131)에 끼움 결합됨에 따라 그 서멀 구리스(140')를 외부와 차폐시킨다.
여기서, 서브 구리스 채움 마감부재(132)에 인접하는 서브 구리스 채움 함몰부재(131)의 내측에는 [도 5] 내지 [도 9]에서와 같이 오링(O-ring)이 구비됨에 따라 서멀 구리스(140')가 서브 구리스 채움 함몰부재(131)의 밖인 외관 하우징 부재(150)의 내측으로 흘러나가는 것을 차단하게 된다.
이처럼, 서멀 구리스(140')를 통해 고온공정 배관부재(110)과 제 2 지지블록 부재(130) 간의 접촉이 양호하게 되고 그로 인해 고온공정 배관부재(110)에서 발생하는 열이 서멀 구리스(140')를 통해 제 2 지지블록 부재(130)에 효과적으로 전도되고 그 전도된 열은 제 2 지지블록 부재(130)의 내부를 경유하는 냉각수 배관부재(160) 내의 쿨런트를 통해 효과적으로 방열될 수 있다.
서멀 구리스 부재(140)는 고온공정 배관부재(110)의 일단부 외표면과 마주하는 제 1 지지블록 부재(120)의 내벽에 [도 9]와 같이 채워지며 고온공정 배관부재(110)로부터 발생하는 열을 제 1 지지블록 부재(120)로 전도시킴에 따라 결과적으로 고온공정 배관부재(110)의 열을 제 1 지지블록 부재(120)를 통해 외부로 방출하도록 인터페이스한다.
이러한 서멀 구리스 부재(140)의 구비로 인해 고온공정 배관부재(110)와 제 1 지지블록 부재(120) 간의 접촉을 양호하게 하여 결과적으로는 고온공정 배관부재(110)에서 발생한 열의 전도 효율을 향상시키게 된다.
외관 하우징 부재(150)는 [도 1]과 [도 2]를 참조하면 속이 빈 파이프 형태로 이루어지고 자신의 내측에 제 1 지지블록 부재(120)의 외표면과 제 2 지지블록 부재(130)의 외표면이 끼워진 상태로 제 1 지지블록 부재(120)와 제 2 지지블록 부재(130)를 고정시킨다.
냉각수 배관부재(160)는 [도 3] 내지 [도 7]을 참조하면 제 1 지지블록 부재(120)에 인접하는 외관 하우징 부재(150)의 내벽에 복수 회 권선되게 배치될 수 있다.
냉각수 배관부재(160)는 자신의 내측에서 냉각수가 흐르도록 구성됨에 따라 제 1 지지블록 부재(120)에 인접하는 외관 하우징 부재(150) 내의 열을 외부로 방출할 수 있다.
여기서, 냉각수 배관부재(160)는 [도 3] 내지 [도 7]을 참조하면 고온공정 배관부재(110)에 복수 회 권선된 상태에서 제 1 지지블록 부재(120)와 제 2 지지블록 부재(130)를 경유하여 외부와 연통되도록 배치될 수 있다.
이를 위해, 제 1 지지블록 부재(120)에는 [도 3]과 [도 4]에서와 같이 냉각수 배관부재(160)의 단부와 연통 연결되는 제 1 냉각수 출입부재(161)가 구비될 수 있다.
그리고, 제 2 지지블록 부재(130)에는 [도 3]과 [도 4]에서와 같이 냉각수 배관부재(160)의 단부와 연통 연결되는 제 2 냉각수 출입부재(162)가 구비될 수 있다.
그 결과, 고온공정 배관부재(110)에 접촉된 상태로 그 고온공정 배관부재(110)의 열을 담고 있는 제 1 지지블록 부재(120)와 제 2 지지블록 부재(130)는 자신에 전도된 열을 냉각수 배관부재(160)의 쿨런트를 통해 외부로 방출할 수 있게 된다.
고주파형 코일부재(180)는 바람직하게는 구리 재질로 구성될 수 있다. 고주파형 코일부재(180)는 고온공정 배관부재(110)의 외표면 중 소정 구간에서 [도 3] 내지 [도 7]에서와 같이 복수 회 권선된 상태로 고온공정 배관부재(110)에 대해 고주파 전원이 공급되도록 가이드한다.
즉, [도 3]과 [도 4]를 참조하면 플라즈마 제너레이터(30)로부터 공급되는 전원이 고주파 매쳐부재(190)를 통해 고주파로 전환된 후 고주파형 코일부재(180)에 제공될 수 있다.
이를 위해, 고주파 매쳐부재(190)는 [도 3]과 [도 4]에서와 같이 고주파형 코일부재(180)에 전원을 공급하는 플라즈마 제너레이터(30)와 고주파형 코일부재(180) 사이에 구비되며 플라즈마 제너레이터(30)로부터 고주파형 코일부재(180)로 제공되는 전원을 고주파 패턴으로 매칭한다.
한편, 고주파형 코일부재(180)는 [도 3]과 [도 4]에서와 같이 냉각수 배관부재(160)의 내부를 흐르는 냉각수가 자신 몸체의 내부를 흐를 수 있도록 속이 빈 파이프 형태로 형성되고 냉각수 배관부재(160)와 연통 연결될 수 있다.
[도 5] 내지 [도 7]을 참조하면, 고주파형 코일부재(180)는 속이 빈 파이프 형태로 구성될 수 있다.
그리고, [도 3]과 [도 4]를 참조하면 고주파형 코일부재(180)는 자신의 일단부가 제 1 냉각수 조인트 부재(171)를 통해 냉각수 배관부재(160)와 연통 연결되고 자신의 타단부는 제 2 냉각수 조인트 부재(172)를 통해 냉각수 배관부재(160)와 연통 연결될 수 있다.
그 결과, 고주파형 코일부재(180)에 발생하는 열도 냉각수 배관부재(160) 내의 쿨런트를 통해 외부로 방열될 수 있게 된다.
10 : 가스공급원
20 : 공정챔버
30 : 플라즈마 제너레이터
100 : 본 발명에 따른 고온 공정 처리 장치
110 : 고온공정 배관부재
120 : 제 1 지지블록 부재
121 : 구리스 채움 함몰부재
122 : 구리스 채움 마감부재
130 : 제 2 지지블록 부재
131 : 서브 구리스 채움 함몰부재
132 : 서브 구리스 채움 마감부재
140 : 서멀 구리스 부재
150 : 외관 하우징 부재
160 : 냉각수 배관부재
161 : 제 1 냉각수 출입부재
162 : 제 2 냉각수 출입부재
171 : 제 1 냉각수 조인트 부재
172 : 제 2 냉각수 조인트 부재
180 : 고주파형 코일부재
190 : 고주파형 매쳐부재

Claims (6)

  1. 속이 빈 파이프 형태로 이루어져 고온의 공정가스가 이동하면서 이온화가 가능하도록 공간을 제공하는 고온공정 배관부재(110);
    상기 고온공정 배관부재의 일단부 외표면을 감싸는 형태로 상기 고온공정 배관부재의 일단부와 외부의 제 1 연결부재의 연통 연결을 지지하고 상기 고온공정 배관부재에 발생하는 열을 전도에 의해 외부로 방출시키는 제 1 지지블록 부재(120);
    상기 고온공정 배관부재의 타단부 외표면을 감싸는 형태로 상기 고온공정 배관부재의 타단부와 외부의 제 2 연결부재의 연통 연결을 지지하고 상기 고온공정 배관부재에 발생하는 열을 전도에 의해 외부로 방출시키는 제 2 지지블록 부재(130);
    상기 고온공정 배관부재의 일단부 외표면과 마주하는 상기 제 1 지지블록 부재의 내벽에 흘러나가지 않도록 채워지며 상기 고온공정 배관부재로부터 발생하는 열을 상기 제 1 지지블록 부재로 전도시키는 서멀 구리스 부재(140);
    를 포함하여 구성되고,
    상기 제 1 지지블록 부재(120)는,
    상기 서멀 구리스 부재가 채워질 수 있도록 상기 고온공정 배관부재의 일단부 외표면과 마주하는 자신 몸체의 중앙부 내벽이 상기 제 2 지지블록 부재와 마주하는 일면으로부터 상기 제 1 연결부재가 위치하는 방향으로 소정 깊이 절개 형성되는 구리스 채움 함몰부재(121);
    상기 구리스 채움 함몰부재에 채워진 상기 서멀 구리스 부재가 상기 구리스 채움 함몰부재 내에서 외부로의 흐름이 막혀 차폐되도록 상기 고온공정 배관부재의 외표면을 감싸는 형태로 상기 구리스 채움 함몰부재에 끼움 결합되는 구리스 채움 마감부재(122);
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 고온 공정 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 2 지지블록 부재(130)는,
    상기 고온공정 배관부재의 타단부 외표면과 마주하는 자신 몸체의 중앙부 내벽이 상기 제 1 지지블록 부재와 마주하는 일면으로부터 상기 제 1 연결부재가 위치하는 방향으로 소정 깊이 절개 형성되는 서브 구리스 채움 함몰부재(131);
    상기 서브 구리스 채움 함몰부재에 서멀 구리스가 채워진 상태에서 상기 서브 구리스 채움 함몰부재에 끼움 결합됨에 따라 그 서멀 구리스를 외부와 차폐시키는 서브 구리스 채움 마감부재(132);
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 고온 공정 처리 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    속이 빈 파이프 형태로 이루어지고 자신의 내측에 상기 제 1 지지블록 부재의 외표면과 상기 제 2 지지블록 부재의 외표면이 끼워진 상태로 상기 제 1 지지블록 부재와 상기 제 2 지지블록 부재를 고정시키는 외관 하우징 부재(150);
    상기 제 1 지지블록 부재에 인접하는 상기 외관 하우징 부재의 내벽에 복수 회 권선되게 배치되며 자신의 내측에 냉각수를 흘림에 따라 상기 제 1 지지블록 부재에 인접하는 상기 외관 하우징 부재 내의 열을 외부로 방출하는 냉각수 배관부재(160);
    를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고온 공정 처리 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 고온공정 배관부재의 외표면 중 소정 구간에서 복수 회 권선된 상태로 상기 고온공정 배관부재에 대해 고주파 전원이 공급되도록 가이드하는 고주파형 코일부재(180);
    상기 고주파형 코일부재에 전원을 공급하는 플라즈마 제너레이터와 상기 고주파형 코일부재 사이에 구비되며 상기 플라즈마 제너레이터로부터 상기 고주파형 코일부재로 제공되는 전원을 고주파 패턴으로 매칭하는 고주파형 매쳐부재(190);
    를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고온 공정 처리 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 고주파형 코일부재(180)는 상기 냉각수 배관부재의 내부를 흐르는 냉각수가 자신 몸체의 내부를 흐를 수 있도록 속이 빈 파이프 형태로 형성되고 상기 냉각수 배관부재와 연통 연결되는 것을 특징으로 하는 고온 공정 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140007888A (ko) * 2011-02-03 2014-01-20 테크나 플라즈마 시스템 인코포레이티드 고성능 유도 플라즈마 토치
KR20170028289A (ko) * 2015-09-03 2017-03-13 인투코어테크놀로지 주식회사 유도 결합 플라즈마 장치
KR20180125091A (ko) * 2017-05-12 2018-11-22 세메스 주식회사 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

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