KR102339892B1 - Reductant supply device and method for operating reductant supply device - Google Patents

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Abstract

(과제) 장애물에서 기인한 편류의 영향에 의한 환원제의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제한다.
(해결 수단) 장애물이 배치된 배기 가스 유로 내에 있어서의 SCR 촉매의 상류에 환원제를 공급하는 환원제 공급 장치는, 배기 가스의 흐름 방향에 있어서의 장애물의 하류에 있어서, 배기 가스의 흐름 방향과 교차하는 일 방향을 따라 간격을 두고 배치된 복수의 분사 노즐과, 그 복수의 분사 노즐에 대해 환원제를 공급하는 복수의 환원제 공급 라인을 구비한다. 복수의 분사 노즐 중, 장애물의 하류에 위치하는 분사 노즐을 제 1 분사 노즐, 동 (同) 하류에 위치하지 않는 분사 노즐을 제 2 분사 노즐이라고 정의한 경우, 복수의 분사 노즐은, 동일한 환원제 공급 라인에 의해 환원제가 공급되는 적어도 하나의 분사 노즐을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로서, 제 1 분사 노즐을 포함하는 분사 노즐군인 제 1 분사 노즐군, 및 제 2 분사 노즐을 포함하는 분사 노즐군인 제 2 분사 노즐군을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로 구분된다.
(Task) Suppress the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent due to the influence of drift caused by the obstacle.
(Solution Means) A reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of the SCR catalyst in the exhaust gas flow path in which the obstacle is disposed, downstream of the obstacle in the exhaust gas flow direction, intersects the flow direction of the exhaust gas A plurality of spray nozzles arranged at intervals along one direction and a plurality of reducing agent supply lines for supplying a reducing agent to the plurality of spray nozzles are provided. Among the plurality of injection nozzles, when the injection nozzle located downstream of the obstacle is defined as the first injection nozzle and the injection nozzle not located downstream of the same is defined as the second injection nozzle, the plurality of injection nozzles have the same reducing agent supply line A plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle to which a reducing agent is supplied by It is divided into a plurality of injection nozzle groups including the injection nozzle group.

Description

환원제 공급 장치, 및 환원제 공급 장치의 운용 방법{REDUCTANT SUPPLY DEVICE AND METHOD FOR OPERATING REDUCTANT SUPPLY DEVICE}A reducing agent supply device, and the operating method of the reducing agent supply device TECHNICAL FIELD

본 개시는, 환원제 공급 장치, 및 환원제 공급 장치의 운용 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to a reducing agent supply device and a method for operating the reducing agent supply device.

종래, 예를 들어 화석 연료 등의 연소 배기 가스로부터 NOx 를 제거하기 위해서, 배기 가스 중에 암모니아 등의 환원제를 혼입하고, 탈질 촉매 (예를 들어 SCR 촉매 등) 를 사용하여 반응을 촉진시키도록 구성된 탈질 장치가 알려져 있다. 예를 들어 특허문헌 1 에는, 암모니아 공급관에 장착된 노즐의 방향 및 각도를, 배기 가스 덕트의 배기 가스 유로 형상을 따라 변화시켜, 노즐로부터 분출되는 암모니아를 배기 가스 중에 균일하게 분포시키도록 구성된 암모니아 주입 장치가 개시되어 있다.Conventionally, for example, in order to remove NOx from combustion exhaust gases such as fossil fuels, a reducing agent such as ammonia is mixed into the exhaust gas and a denitration catalyst (eg, SCR catalyst, etc.) is used to promote the reaction. The device is known. For example, in Patent Document 1, ammonia injection configured to uniformly distribute ammonia ejected from the nozzle in the exhaust gas by changing the direction and angle of a nozzle attached to the ammonia supply pipe along the shape of the exhaust gas flow path of the exhaust gas duct. An apparatus is disclosed.

일본 공개특허공보 평9-24246호Japanese Patent Laid-Open No. 9-24246

그런데, 상기와 같은 탈질 촉매는, 대략 배기 가스 유로의 전체 폭에 걸쳐 배치된다. 이 때문에, 배기 가스 유로의 폭 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포를 균일하게 하여 촉매를 통과시키기 위해, 암모니아 공급관에는 그 공급관의 연장 방향으로 간격을 두고 복수의 노즐이 배치될 수 있다. 한편, 유로 내에 있어서의 암모니아 공급관의 상류에는 배관이나 스트럿 등을 포함하는 여러 가지 장애물이 배치될 수 있다. 이와 같은 장애물의 하류에서는 국소적으로 편류가 발생하기 때문에, 장애물의 하류에서는 상기 폭 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포가 불균일해져, 탈질 촉매의 탈질 성능이 저하될 우려가 있다.By the way, the denitration catalyst as described above is disposed over substantially the entire width of the exhaust gas flow path. For this reason, in order to make the concentration distribution of the reducing agent uniform in the width direction of the exhaust gas flow path and to allow the catalyst to pass through, a plurality of nozzles may be arranged in the ammonia supply pipe at intervals in the extending direction of the supply pipe. On the other hand, upstream of the ammonia supply pipe in the flow path, various obstacles including pipes and struts may be disposed. Since a local drift occurs downstream of such an obstacle, the concentration distribution of the reducing agent in the said width direction becomes non-uniform|heterogenous downstream of an obstacle, and there exists a possibility that the nitrogen removal performance of a nitrogen removal catalyst may fall.

이 점에서, 특허문헌 1 에는, 암모니아 공급관의 상류에 위치하는 장애물의 존재에 의한 편류의 영향에 의한 환원제의 농도 분포의 언밸런스에 관한 지견은 개시되어 있지 않다.In this regard, Patent Document 1 does not disclose knowledge about the unbalance of the concentration distribution of the reducing agent due to the influence of drift due to the presence of an obstacle located upstream of the ammonia supply pipe.

상기 서술한 사정을 감안하여, 본 발명의 적어도 일 실시형태는, 장애물에서 기인한 편류의 영향에 의한 환원제의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제 가능한 환원제 공급 장치, 또는 환원제 공급 장치의 운용 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In view of the circumstances described above, at least one embodiment of the present invention provides a reducing agent supply device capable of suppressing an imbalance in the local concentration distribution of a reducing agent due to the influence of drift caused by an obstacle, or a method of operating a reducing agent supply device aim to do

(1) 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치는,(1) A reducing agent supply device according to at least one embodiment of the present invention,

장애물이 배치된 배기 가스의 유로 내에 있어서의 SCR 촉매의 상류에 환원제를 공급하기 위한 환원제 공급 장치로서,A reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path having an obstacle disposed therein, comprising:

상기 배기 가스의 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물의 하류에 있어서, 상기 배기 가스의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 간격을 두고 배치된 복수의 분사 노즐과,a plurality of injection nozzles disposed at intervals along one direction intersecting with respect to the flow direction of the exhaust gas downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas;

상기 복수의 분사 노즐에 대해 상기 환원제를 공급하도록 구성된 복수의 환원제 공급 라인을 구비하고,and a plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of spray nozzles,

상기 복수의 분사 노즐 중, 상기 장애물의 하류에 위치하는 분사 노즐을 제 1 분사 노즐, 상기 장애물의 하류에 위치하지 않는 분사 노즐을 제 2 분사 노즐이라고 정의한 경우에,Among the plurality of injection nozzles, when the injection nozzle located downstream of the obstacle is defined as the first injection nozzle and the injection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as the second injection nozzle,

상기 복수의 분사 노즐은, 동일한 상기 환원제 공급 라인에 의해 상기 환원제가 공급되도록 구성된 적어도 하나의 분사 노즐을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로서, 상기 제 1 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 1 분사 노즐군, 및 상기 제 2 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 2 분사 노즐군을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로 구분된다.The plurality of injection nozzles are a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and the first injection nozzle group including the first injection nozzle It is divided into a nozzle group and a plurality of spray nozzle groups including a second spray nozzle group, which is the spray nozzle group including the second spray nozzle.

상기 (1) 의 구성에 의하면, 배기 가스의 유로 내에 그 배기 가스의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 배치된 복수의 분사 노즐이, 장애물의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐을 포함하는 제 1 분사 노즐군과, 장애물의 하류에 위치하지 않는 제 2 분사 노즐을 포함하는 분사 노즐군으로 구분되고, 각각의 분사 노즐군에는 동일한 환원제 공급 라인에 의해 환원제가 공급된다. 이로써, 장애물의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐을 포함하는 제 1 분사 노즐군으로부터 분사하는 환원제의 분사량을 제 2 분사 노즐군과는 독립적으로 조정할 수 있다. 따라서, 만일 장애물의 존재에 의해 그 장애물의 하류에 편류가 발생해도, 제 1 분사 노즐군에 공급하는 환원제의 양을 적절히 조정하면, 상기 편류에서 기인하여 분사 노즐군의 하류에서 발생하는, 배기 가스의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제할 수 있다. 즉, 장애물에서 기인한 편류의 영향에 의한 환원제의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제 가능한 환원제 공급 장치를 제공할 수 있다.According to the configuration of (1) above, the plurality of injection nozzles arranged along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas in the flow path of the exhaust gas comprises a first injection nozzle located downstream of the obstacle. The first injection nozzle group and the injection nozzle group including the second injection nozzle not located downstream of the obstacle are divided, and a reducing agent is supplied to each injection nozzle group through the same reducing agent supply line. Thereby, the injection amount of the reducing agent injected from the 1st injection nozzle group including the 1st injection nozzle located downstream of an obstacle can be adjusted independently from the 2nd injection nozzle group. Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle due to the existence of the obstacle, if the amount of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group is appropriately adjusted, the exhaust gas generated downstream of the injection nozzle group due to the drift is It is possible to suppress the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction. That is, it is possible to provide a reducing agent supply device capable of suppressing the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent due to the influence of the drift caused by the obstacle.

(2) 몇 개의 실시형태에서는, 상기 (1) 의 구성에 있어서,(2) In some embodiments, in the configuration of (1) above,

하나의 상기 제 1 분사 노즐군에 포함되는 상기 제 1 분사 노즐의 수가, 하나의 상기 제 2 분사 노즐군에 포함되는 상기 제 2 분사 노즐의 수보다 적어도 된다.The number of the first injection nozzles included in one of the first injection nozzle groups is smaller than the number of the second injection nozzles included in the one second injection nozzle group.

상기 (2) 의 구성에 의하면, 배기 가스의 유로의 유로 단면적에서 차지하는 제 1 분사 노즐군의 비율이 제 2 분사 노즐군보다 작기 때문에, 제 2 분사 노즐군에서는 대응할 수 없는, 유로 단면적에서 차지하는 비율이 작은 장애물 (예를 들어 가느다란 배관이나 스트럿 등) 에 의한 국소적인 환원제의 농도 분포에 대한 영향을, 보다 미세하게 억제하여 농도 분포의 균일화를 도모할 수 있다.According to the configuration of (2), since the ratio of the first injection nozzle group to the flow path cross-sectional area of the exhaust gas flow path is smaller than that of the second injection nozzle group, the second injection nozzle group cannot cope with the ratio of the flow path cross-sectional area. The influence on the concentration distribution of the local reducing agent by this small obstacle (eg, a thin pipe or a strut, etc.) can be more finely suppressed, and the concentration distribution can be uniformed.

(3) 몇 개의 실시형태에서는, 상기 (1) 또는 (2) 의 구성에 있어서,(3) In some embodiments, in the configuration of (1) or (2) above,

상기 일 방향에 있어서의 상기 유로의 폭 (W), 상기 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물의 폭 (D) 으로서, 상기 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물과 상기 제 1 분사 노즐군의 거리 (L) 가, 다음 식 (i) 또는 (ii) 를 만족시켜도 된다.As the width (W) of the flow path in the one direction and the width (D) of the obstacle in the flow direction, the distance (L) between the obstacle and the first injection nozzle group in the flow direction is , the following formula (i) or (ii) may be satisfied.

L ≤ 2W … (i)L ≤ 2W … (i)

L ≤ 20D … (ii)L ≤ 20D … (ii)

장애물로부터 충분히 떨어진 하류의 위치에서는 그 장애물의 후류의 영향이 작아, 배기 가스의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포가 균일에 가까워지기 때문에, 분사 노즐군을 국소적으로 구분할 필요성은 저하된다. 한편, 장애물과 분사 노즐군의 거리가 가깝고, 후류의 영향이 현저한 위치에서는 국소적으로 분사 노즐군을 구분함으로써 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 효과적으로 저감시킬 수 있다.At a position sufficiently far downstream from the obstacle, the influence of the wake of the obstacle is small, and the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas becomes close to uniform, so that the injection nozzle group can be locally classified. need is diminished. On the other hand, in a position where the distance between the obstacle and the spray nozzle group is close and the influence of the wake is significant, the imbalance of the local concentration distribution can be effectively reduced by locally dividing the spray nozzle group.

이 점에서, 상기 (3) 의 구성에 의하면, 장애물의 후류의 영향이 큰 (i) 또는 (ii) 의 관계를 만족시키는 위치에 제 1 분사 노즐군을 배치함으로써, 상기 (1) 또는 (2) 에서 서술한 효과를 최대한으로 누릴 수 있다.In this regard, according to the configuration of (3) above, by arranging the first jet nozzle group at a position that satisfies the relationship of (i) or (ii), where the influence of the wake of the obstacle is large, (1) or (2) ), you can enjoy the effects described in

(4) 몇 개의 실시형태에서는, 상기 (1) ∼ (3) 중 어느 하나의 구성에 있어서,(4) In some embodiments, in the configuration in any one of (1) to (3),

상기 복수의 분사 노즐은, 상기 유로의 전체 폭에 걸쳐 이산적으로 배치되어 있어도 된다.The plurality of injection nozzles may be discretely arranged over the entire width of the flow path.

상기 (4) 의 구성에 의하면, 배기 가스의 유로의 전체 폭에 걸쳐 환원제의 농도 분포의 균일화를 도모할 수 있다. 따라서, 예를 들어 유로의 전체 폭에 걸쳐 형성된 SCR 촉매의 상류에 환원제 공급 장치가 배치된 경우에, 상기 (1) 에서 서술한 효과를 최대한으로 누려 상기 SCR 촉매의 탈질 성능을 최대한으로 발휘 시킬 수 있다.According to the structure of said (4), the concentration distribution of a reducing agent can be equalized|homogenized over the entire width of the flow path of exhaust gas. Therefore, for example, in the case where the reducing agent supply device is disposed upstream of the SCR catalyst formed over the entire width of the flow path, the effect described in (1) can be maximized to maximize the denitration performance of the SCR catalyst. have.

(5) 몇 개의 실시형태에서는, 상기 (1) ∼ (4) 중 어느 하나의 구성에 있어서,(5) In some embodiments, in the configuration in any one of (1) to (4),

환원제 공급 장치는,The reducing agent supply device,

상기 흐름 방향에 있어서 상기 복수의 분사 노즐군의 하류에 배치되어, 상기 일 방향에 있어서의 상기 배기 가스 중의 상기 환원제의 농도 분포를 측정하기 위한 농도 센서와,a concentration sensor disposed downstream of the plurality of injection nozzle groups in the flow direction to measure a concentration distribution of the reducing agent in the exhaust gas in the one direction;

상기 복수의 환원제 공급 라인의 각각에 대응하여 형성된 복수의 유량 조정 밸브 및 당해 복수의 유량 조정 밸브의 각각의 개도를 독립적으로 변경 가능한 복수의 밸브 액추에이터와,A plurality of flow control valves formed corresponding to each of the plurality of reducing agent supply lines and a plurality of valve actuators capable of independently changing the respective opening degrees of the plurality of flow control valves;

상기 농도 센서의 검출 신호에 따라 상기 일 방향에 있어서의 상기 환원제의 농도 분포를 균일화하도록 상기 밸브 액추에이터를 구동시키는 컨트롤러를 추가로 구비하고 있어도 된다.You may further comprise a controller which drives the said valve actuator so that the concentration distribution of the said reducing agent in the said one direction may be equalized according to the detection signal of the said density|concentration sensor.

상기 (5) 의 구성에 의하면, 농도 센서로부터의 검출 신호에 따라 컨트롤러가 배기 가스의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포를 균일화하도록 각각의 밸브 액추에이터를 피드백 제어할 수 있다. 이로써, 예를 들어 작업원에 의한 개별의 밸브의 개도 조정 작업을 필요로 하지 않고, 배기 가스의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포를 실시간으로 균일화할 수 있다.According to the configuration of (5) above, in response to the detection signal from the concentration sensor, the controller can feedback control each valve actuator to equalize the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas. Thereby, for example, the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas can be equalized in real time, without requiring an operation for adjusting the opening degree of individual valves by an operator.

(6) 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치의 운용 방법은,(6) A method of operating a reducing agent supply device according to at least one embodiment of the present invention,

장애물이 배치된 배기 가스의 유로 내에 있어서의 SCR 촉매의 상류에 환원제를 공급하기 위한 환원제 공급 장치의 운용 방법으로서,A method of operating a reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path having an obstacle disposed therein, comprising:

상기 환원제 공급 장치는,The reducing agent supply device,

상기 배기 가스의 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물의 하류에 있어서, 상기 배기 가스의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 간격을 두고 배치된 복수의 분사 노즐과,a plurality of injection nozzles disposed at intervals along one direction intersecting with respect to the flow direction of the exhaust gas downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas;

상기 복수의 분사 노즐에 대해 상기 환원제를 공급하도록 구성된 복수의 환원제 공급 라인을 구비하고,and a plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of spray nozzles,

상기 복수의 분사 노즐 중, 상기 장애물의 하류에 위치하는 분사 노즐을 제 1 분사 노즐, 상기 장애물의 하류에 위치하지 않는 분사 노즐을 제 2 분사 노즐이라고 정의한 경우에,Among the plurality of injection nozzles, when the injection nozzle located downstream of the obstacle is defined as the first injection nozzle and the injection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as the second injection nozzle,

상기 복수의 분사 노즐은, 동일한 상기 환원제 공급 라인에 의해 상기 환원제가 공급되도록 구성된 적어도 하나의 분사 노즐을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로서, 상기 제 1 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 1 분사 노즐군, 및 상기 제 2 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 2 분사 노즐군을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로 구분되고,The plurality of injection nozzles are a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and the first injection nozzle group including the first injection nozzle It is divided into a plurality of spray nozzle groups including a nozzle group, and a second spray nozzle group that is the spray nozzle group including the second spray nozzle,

상기 환원제 공급 장치의 운용 방법은,The operating method of the reducing agent supply device,

상기 배기 가스의 흐름 방향에 있어서의 상기 복수의 분사 노즐의 하류에서 상기 일 방향에 있어서의 상기 환원제 또는 NOx 의 농도 분포를 측정하는 스텝과,measuring the concentration distribution of the reducing agent or NOx in the one direction downstream of the plurality of injection nozzles in the flow direction of the exhaust gas;

상기 농도 분포의 측정 결과에 따라, 상기 제 1 분사 노즐군 및 상기 제 2 분사 노즐군에 공급하는 상기 환원제의 양을 개별적으로 조정하는 스텝을 구비하고 있다.and individually adjusting the amounts of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group and the second injection nozzle group according to the measurement result of the concentration distribution.

상기 (6) 의 방법에 의하면, 상기 (1) 에서 서술한 바와 같이, 배기 가스의 유로 내에 그 배기 가스의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 배치된 복수의 분사 노즐이, 장애물의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐을 포함하는 제 1 분사 노즐군과, 장애물의 하류에 위치하지 않는 제 2 분사 노즐을 포함하는 분사 노즐군으로 구분되고, 각각의 분사 노즐군에는 동일한 환원제 공급 라인에 의해 환원제가 공급된다. 이로써, 장애물의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐을 포함하는 제 1 분사 노즐군으로부터 분사하는 환원제의 분사량을 제 2 분사 노즐군과는 독립적으로 조정할 수 있다. 따라서, 만일 장애물의 존재에 의해 그 장애물의 하류에 편류가 발생해도, 제 1 분사 노즐군에 공급하는 환원제의 양을 적절히 조정하면, 상기 편류에서 기인하여 분사 노즐군의 하류에서 발생하는, 배기 가스의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제할 수 있다. 즉, 장애물에서 기인한 편류의 영향에 의한 환원제의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제 가능한 환원제 공급 장치의 운용 방법을 제공할 수 있다. 또, 상기 (5) 에서 서술한 바와 같이, 복수의 분사 노즐의 하류에서 측정된 배기 가스의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포에 따라 제 1 분사 노즐군 및 제 2 분사 노즐군에 공급하는 환원제의 양을 개별적으로 조정할 수 있다. 이로써, 예를 들어 작업원에 의한 개별의 분사 노즐의 개도 조정 작업을 필요로 하지 않고, 배기 가스의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포를 균일화할 수 있다.According to the method of (6), as described in (1) above, a plurality of injection nozzles arranged along one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas in the flow path of the exhaust gas are disposed downstream of the obstacle. It is divided into a first spray nozzle group including a first spray nozzle positioned and a spray nozzle group including a second spray nozzle that is not located downstream of the obstacle, and each spray nozzle group has a reducing agent through the same reducing agent supply line. is supplied Thereby, the injection amount of the reducing agent injected from the 1st injection nozzle group including the 1st injection nozzle located downstream of an obstacle can be adjusted independently from the 2nd injection nozzle group. Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle due to the existence of the obstacle, if the amount of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group is appropriately adjusted, the exhaust gas generated downstream of the injection nozzle group due to the drift is It is possible to suppress the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction. That is, it is possible to provide a method of operating a reducing agent supply device capable of suppressing the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent due to the influence of drift caused by the obstacle. Further, as described in (5) above, the first injection nozzle group and the second injection nozzle group according to the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas measured downstream of the plurality of injection nozzles The amount of reducing agent supplied to the group can be individually adjusted. Thereby, for example, the concentration distribution of the reducing agent in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas can be made uniform without requiring an operation for adjusting the opening degree of the individual injection nozzles by the operator.

본 발명의 적어도 일 실시형태에 의하면, 장애물에서 기인한 편류의 영향에 의한 환원제의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제 가능한 환원제 공급 장치, 및 환원제 공급 장치의 운용 방법을 제공할 수 있다.According to at least one embodiment of the present invention, it is possible to provide a reducing agent supply device capable of suppressing imbalance in the local concentration distribution of the reducing agent due to the influence of drift caused by an obstacle, and a method for operating the reducing agent supply device.

도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치가 적용되는 보일러 시스템의 배기 가스 유로 하류측의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 2 는, 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 측단면도이다.
도 3 은, 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면으로, 도 2 에 나타내는 III 부의 부분 확대도이다.
도 4 는, 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치에 의한 환원제의 농도 조정을 개략적으로 나타내는 측단면도이다.
도 5 는, 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치에 있어서의 제어계의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 6 은, 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 방법을 나타내는 플로 차트이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows the structure of the downstream side of the exhaust gas flow path of the boiler system to which the reducing agent supply apparatus which concerns on one Embodiment of this invention is applied.
Fig. 2 is a side cross-sectional view schematically showing the configuration of a reducing agent supply device according to an embodiment.
FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of a reducing agent supply device according to an embodiment, and is a partially enlarged view of part III shown in FIG. 2 .
Fig. 4 is a side cross-sectional view schematically showing adjustment of the concentration of the reducing agent by the reducing agent supply device according to the embodiment.
5 is a block diagram showing the configuration of a control system in the reducing agent supply device according to the embodiment.
6 is a flowchart showing a reducing agent supply method according to at least one embodiment of the present invention.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 몇 개의 실시형태에 대해 설명한다. 단, 실시형태로서 기재되어 있거나, 또는 도면에 나타나 있는 구성 부품의 치수, 재질, 형상, 그 상대적 배치 등은, 본 발명의 범위를 이것에 한정하는 취지가 아니고, 단순한 설명예에 지나지 않는다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, with reference to an accompanying drawing, some embodiment of this invention is described. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of components described as embodiments or shown in the drawings are not intended to limit the scope of the present invention thereto, and are merely illustrative examples.

예를 들어, 「어느 방향으로」, 「어느 방향을 따라」, 「평행」, 「직교」, 「중심」, 「동심」혹은 「동축」등의 상대적 혹은 절대적인 배치를 나타내는 표현은, 엄밀하게 그러한 배치를 나타낼 뿐만 아니라, 공차, 혹은 동일한 기능이 얻어지는 정도의 각도나 거리를 가지고 상대적으로 변위되어 있는 상태도 나타내는 것으로 한다.For example, expressions indicating a relative or absolute arrangement such as “in any direction”, “along a certain direction”, “parallel”, “orthogonal”, “center”, “concentric” or “coaxial” are strictly It is assumed that not only the arrangement is indicated, but also the state in which the tolerance is relatively displaced with an angle or distance sufficient to obtain the same function.

또 예를 들어, 사각 형상이나 원통 형상 등의 형상을 나타내는 표현은, 기하학적으로 엄밀한 의미에서의 사각 형상이나 원통 형상 등의 형상을 나타낼 뿐만 아니라, 동일한 효과가 얻어지는 범위에서, 요철부나 모따기부 등을 포함하는 형상도 나타내는 것으로 한다.Also, for example, expressions representing shapes such as a square shape or a cylindrical shape not only represent shapes such as a square shape or a cylindrical shape in a geometrically strict sense, but also include irregularities or chamfers within the range where the same effect is obtained. It is assumed that the shape including the shape is also shown.

한편, 하나의 구성 요소를 「준비한다」, 「갖춘다」, 「구비한다」, 「포함한다」, 또는 「갖는다」라는 표현은, 다른 구성 요소의 존재를 제외하는 배타적인 표현은 아니다.On the other hand, the expressions "prepare", "equip", "include", "include", or "have" one component are not exclusive expressions excluding the existence of other components.

도 1 은, 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치 (10) 가 적용되는 보일러 시스템의 배기 가스 유로 하류측의 구성을 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing the configuration of an exhaust gas flow path downstream of a boiler system to which a reducing agent supply device 10 according to at least one embodiment of the present invention is applied.

또한, 이하의 설명에서는, 일례로서 석탄 연소 보일러 (보일러 (4)) 의 배기 가스 유로 (2) 내에 탈질 장치 (1) 가 배치된 경우에 대해 설명한다. 보일러 (4) 는, 도 1 에 나타내는 화로 (5) 및 연소 장치 (도시 생략) 와, 배기 가스 유로 (2) 에 이어지는 연도 (煙道) (6) 를 구비하고 있다.In addition, the following description demonstrates the case where the denitration apparatus 1 is arrange|positioned in the exhaust gas flow path 2 of a coal-fired boiler (boiler 4) as an example. The boiler 4 is provided with the furnace 5 and combustion apparatus (not shown) shown in FIG. 1, and the flue 6 connected to the exhaust gas flow path 2 .

도 1 에 나타낸 바와 같이, 보일러 시스템 (100) 의 배기 가스 유로 (2) 하류측에는 탈질 장치 (1) 가 배치되어 있다. 이 탈질 장치 (1) 는, 보일러 (4) 로부터 배출되는 배기 가스 (G) 를 유도하는 배기 가스 유로 (2) 내의 하류측에, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 방향 (즉 배기 가스 유로 (2) 의 폭 방향) 을 따라 연장되도록 배치된 SCR 촉매 (3) 와, 배기 가스 유로 (2) 내에 있어서의 SCR 촉매 (3) 의 상류에 환원제 (8) (예를 들어 무수의 암모니아, 암모니아수, 요소, 요소수, 또는 이것들 중 적어도 하나와 공기의 혼합 기체 등) 를 공급하기 위한 환원제 공급 장치 (10) 를 구비하고 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 환원제 (8) 의 일례로서 암모니아 (보다 상세하게는 암모니아와 공기의 혼합 기체) 를 배기 가스 (G) 중에 분무하는 것으로 한다.As shown in FIG. 1 , the denitration device 1 is disposed on the downstream side of the exhaust gas flow path 2 of the boiler system 100 . This denitration device 1 is disposed on the downstream side in the exhaust gas flow path 2 that guides the exhaust gas G discharged from the boiler 4 in a direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G (that is, the exhaust gas The SCR catalyst 3 arranged so as to extend along the width direction of the flow passage 2), and the reducing agent 8 (for example, anhydrous ammonia; A reducing agent supply device 10 for supplying ammonia water, urea, urea water, or a mixed gas of at least one of these and air) is provided. In the following description, as an example of the reducing agent 8, ammonia (more specifically, a mixed gas of ammonia and air) is sprayed into the exhaust gas G. As shown in FIG.

SCR 촉매 (3) 는, 선택식 촉매 환원 (selective catalytic reduction : SCR) 탈질 장치에 사용되는 탈질 촉매이고, 예를 들어 탄소 함유 연료 등이 연소하여 발생한 배기 가스 (G) 중의 질소 산화물 (NOx) 과, 환원제 공급 장치 (10) 로부터 공급된 환원제 (8) 의 반응을 촉진시켜, 배기 가스 (G) 중의 NOx 성분을 제거하도록 구성되어 있다. 또한, SCR 촉매 (3) 의 상세한 설명은 생략하지만, 그 SCR 촉매 (3) 는, 예를 들어 여러 가지의 세라믹스나 산화티탄 등을 담체로서 사용하여 구성된다.The SCR catalyst 3 is a denitration catalyst used in a selective catalytic reduction (SCR) denitration apparatus, and includes, for example, nitrogen oxides (NOx) in the exhaust gas G generated by combustion of a carbon-containing fuel or the like; , promotes the reaction of the reducing agent 8 supplied from the reducing agent supply device 10 to remove the NOx component in the exhaust gas G. In addition, although detailed description of the SCR catalyst 3 is abbreviate|omitted, the SCR catalyst 3 is comprised using, for example, various ceramics, titanium oxide, etc. as a support|carrier.

환원제 공급 장치 (10) 는, 상기 서술한 환원제 (8) 를 배기 가스 유로 (2) 내에 분무하기 위한 장치이다. 본 개시에서 서술하는 환원제 공급 장치 (10) 는, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 방향에 있어서 암모니아의 농도 분포가 균일해지도록 암모니아를 분사하도록 구성되어 있다.The reducing agent supply device 10 is a device for spraying the above-described reducing agent 8 into the exhaust gas flow passage 2 . The reducing agent supply device 10 described in the present disclosure is configured to inject ammonia so that the concentration distribution of ammonia becomes uniform in the direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G.

계속해서, 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치 (10) 에 대해 설명한다.Then, the reducing agent supply apparatus 10 which concerns on at least one Embodiment of this invention is demonstrated.

도 2 는 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 측단면도이다. 도 3 은 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2 에 나타내는 III 부의 부분 확대도이다.2 is a side cross-sectional view schematically showing the configuration of a reducing agent supply device according to an embodiment. FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of a reducing agent supply device according to an embodiment, and is a partially enlarged view of part III shown in FIG. 2 .

도 2 및 도 3 에 예시하는 바와 같이, 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치 (10) 는, 암모니아 주입 장치 또는 암모니아 주입 그리드 (ammonia injection grid : AIG) 로도 칭해지는 장치이며, 내부에 암모니아를 유통 가능하게 구성되어, 배기 가스 유로 (2) 내로 연장되는 적어도 하나의 헤더관 (12) 을 구비하고 있다. 또, 환원제 공급 장치 (10) 는, 장애물 (7) 이 배치된 배기 가스 (G) 의 유로 (배기 가스 유로 (2)) 내에 있어서의 SCR 촉매 (3) 의 상류에 환원제 (8) 를 공급하기 위한 환원제 공급 장치 (10) 로서, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 있어서의 장애물 (7) 의 하류에 있어서, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 간격을 두고 배치된 복수의 분사 노즐 (20) 과, 복수의 분사 노즐 (20) 에 대해 환원제 (8) 를 공급하도록 구성된 복수의 환원제 공급 라인 (30) 을 구비하고 있다.2 and 3 , the reducing agent supply apparatus 10 according to at least one embodiment of the present invention is an apparatus also referred to as an ammonia injection apparatus or an ammonia injection grid (AIG), and includes At least one header pipe (12) configured to allow ammonia to flow through and extending into the exhaust gas flow path (2) is provided. In addition, the reducing agent supply device 10 is configured to supply the reducing agent 8 upstream of the SCR catalyst 3 in the flow path (exhaust gas flow path 2) of the exhaust gas G on which the obstacle 7 is disposed. A reducing agent supply device (10) for A plurality of injection nozzles 20 and a plurality of reducing agent supply lines 30 configured to supply the reducing agent 8 to the plurality of injection nozzles 20 are provided.

복수의 분사 노즐 (20) 은 각각, 헤더관 (12) 에 대해 배기 가스 (G) 의 흐름 방향의 하류측에 있어서 그 헤더관 (12) 에 배치 형성되어 있고, 당해 하류를 향하여 환원제 (8) 를 분사하도록 형성되어 있다. 예를 들어 복수의 분사 노즐 (20) 은, 헤더관 (12) 의 연장 방향을 따라 등간격으로 떨어져 배치되어 있어도 된다.Each of the plurality of injection nozzles 20 is disposed in the header pipe 12 on the downstream side in the flow direction of the exhaust gas G with respect to the header pipe 12, and the reducing agent 8 is directed toward the downstream side. It is formed to spray. For example, the plurality of injection nozzles 20 may be arranged at equal intervals along the extension direction of the header pipe 12 .

그리고, 상기 복수의 분사 노즐 (20) 은, 당해 복수의 분사 노즐 (20) 중, 장애물 (7) 의 하류에 위치하는 분사 노즐 (20) 을 제 1 분사 노즐 (21A), 장애물 (7) 의 하류에 위치하지 않는 분사 노즐 (20) 을 제 2 분사 노즐 (22A) 이라고 정의한 경우에, 동일한 환원제 공급 라인 (30) 에 의해 환원제 (8) 가 공급되도록 구성된 적어도 하나의 분사 노즐 (20) 을 포함하는 복수의 분사 노즐군 (24) 으로서, 제 1 분사 노즐 (21A) 을 포함하는 분사 노즐군 (24) 인 제 1 분사 노즐군 (21), 및 제 2 분사 노즐 (22A) 을 포함하는 분사 노즐군 (24) 인 제 2 분사 노즐군 (22) 을 포함하는 복수의 분사 노즐군 (24) 으로 구분된다.And, the plurality of spray nozzles 20 is, among the plurality of spray nozzles 20 , the spray nozzles 20 located downstream of the obstacle 7 , the first spray nozzle 21A and the obstacle 7 . In the case where the injection nozzle 20 not located downstream is defined as the second injection nozzle 22A, comprising at least one injection nozzle 20 configured to supply the reducing agent 8 by the same reducing agent supply line 30 as a plurality of injection nozzle groups 24 to The group 24 is divided into a plurality of spray nozzle groups 24 including a second spray nozzle group 22 .

예를 들어 제 1 분사 노즐군 (21) 은, 배기 가스 유로 (2) 내에 있어서 제 1 분사 노즐군 (21) 의 상류에 위치하는 장애물 (7) 의, 하류로의 투영보다 상기 일 방향으로 폭이 넓은 제 1 헤더관 세그먼트 (12A) 에 배치되어 있어도 된다. 이 경우, 제 2 분사 노즐 (22A) 은, 제 1 헤더관 세그먼트 (12A) 보다 상기 일 방향으로 폭이 넓은 제 2 헤더관 세그먼트 (12B) 에 배치될 수 있다. 각 헤더관 세그먼트 (12A, 12B) 는, 각각의 환원제 공급 라인 (30) 으로부터 공급된 환원제를 각각의 분사 노즐 (20) 로 유도하기 위한 내부 유로를 포함하고 있어도 된다.For example, the first injection nozzle group 21 has a width in the one direction than the projection to the downstream of the obstacle 7 located upstream of the first injection nozzle group 21 in the exhaust gas flow path 2 . It may be arrange|positioned in this wide 1st header pipe segment 12A. In this case, the second injection nozzle 22A may be disposed in the second header pipe segment 12B, which is wider than the first header pipe segment 12A in the one direction. Each header pipe segment 12A, 12B may include an internal flow path for guiding the reducing agent supplied from each reducing agent supply line 30 to each injection nozzle 20 .

상기 복수의 환원제 공급 라인 (30) 은, 도시되지 않은 메인 공급 라인으로부터 분기되어 배기 가스 유로 (2) 내로 연장되어 있어도 되고, 각각에 대응하는 분사 노즐군 (24) 에 환원제를 공급하도록 구성될 수 있다.The plurality of reducing agent supply lines 30 may branch from a main supply line (not shown) and extend into the exhaust gas flow path 2, and may be configured to supply a reducing agent to the spray nozzle group 24 corresponding to each. have.

상기와 같이 구성된 환원제 공급 장치 (10) 에 의하면, 배기 가스 (G) 의 유로 (2) 내에 그 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 배치된 복수의 분사 노즐 (20) 이, 장애물 (7) 의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐 (21A) 을 포함하는 제 1 분사 노즐군 (21) 과, 장애물 (7) 의 하류에 위치하지 않는 제 2 분사 노즐 (22A) 을 포함하는 분사 노즐군 (24) 으로 구분되고, 각각의 분사 노즐군 (24) 에는 동일한 환원제 공급 라인 (30) 에 의해 환원제 (8) 가 공급된다. 이로써, 장애물 (7) 의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐 (21A) 을 포함하는 제 1 분사 노즐군 (21) 으로부터 분사하는 환원제 (8) 의 분사량을 제 2 분사 노즐군 (22) 과는 독립적으로 조정할 수 있다. 따라서, 만일 장애물 (7) 의 존재에 의해 그 장애물 (7) 의 하류에 편류가 발생해도, 제 1 분사 노즐군 (21) 에 공급하는 환원제 (8) 의 양을 적절히 조정하면, 상기 편류에서 기인하여 분사 노즐군 (24) 의 하류에서 발생하는, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제할 수 있다. 즉, 장애물 (7) 에서 기인한 편류의 영향에 의한 환원제 (8) 의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제 가능한 환원제 공급 장치 (10) 를 제공할 수 있다.According to the reducing agent supply device 10 configured as described above, in the flow path 2 of the exhaust gas G, a plurality of injection nozzles 20 are arranged along one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G. This includes a first injection nozzle group 21 including a first injection nozzle 21A located downstream of the obstacle 7 , and a second injection nozzle 22A not located downstream of the obstacle 7 . is divided into spray nozzle groups 24 , and a reducing agent 8 is supplied to each spray nozzle group 24 through the same reducing agent supply line 30 . Thereby, the injection amount of the reducing agent 8 injected from the 1st injection nozzle group 21 including the 1st injection nozzle 21A located downstream of the obstacle 7 is independent of the 2nd injection nozzle group 22 can be adjusted with Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle 7 due to the existence of the obstacle 7, if the amount of the reducing agent 8 supplied to the first injection nozzle group 21 is appropriately adjusted, the drift is caused Thus, it is possible to suppress the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G, which occurs downstream of the injection nozzle group 24 . That is, it is possible to provide the reducing agent supply device 10 capable of suppressing the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent 8 due to the influence of the drift caused by the obstacle 7 .

상기 구성에 있어서, 몇 개의 실시형태에서는, 예를 들어 도 3 에 예시하는 바와 같이, 하나의 제 1 분사 노즐군 (21) 에 포함되는 제 1 분사 노즐 (21A) 의 수가, 하나의 제 2 분사 노즐군 (22) 에 포함되는 제 2 분사 노즐 (22A) 의 수보다 적어도 된다.In the above configuration, in some embodiments, for example, as illustrated in FIG. 3 , the number of first injection nozzles 21A included in one first injection nozzle group 21 is one second injection. It may be less than the number of the 2nd injection nozzle 22A contained in the nozzle group 22. As shown in FIG.

이와 같이 하나의 제 1 분사 노즐군 (21) 에 포함되는 제 1 분사 노즐 (21A) 의 수가, 하나의 제 2 분사 노즐군 (22) 에 포함되는 제 2 분사 노즐 (22A) 의 수보다 적은 구성에 의하면, 배기 가스 유로 (2) 의 유로 단면적에서 차지하는 제 1 분사 노즐군 (21) 의 비율이 제 2 분사 노즐군 (22) 보다 작기 때문에, 제 2 분사 노즐군 (22) 에서는 대응할 수 없는, 유로 단면적에서 차지하는 비율이 작은 장애물 (7) (예를 들어 가느다란 배관이나 스트럿 등) 에 의한 국소적인 환원제 (8) 의 농도 분포에 대한 영향을, 보다 미세하게 억제하여 농도 분포의 균일화를 도모할 수 있다.In this way, the number of the first injection nozzles 21A included in the one first injection nozzle group 21 is smaller than the number of the second injection nozzles 22A included in the one second injection nozzle group 22 . According to [ The influence on the concentration distribution of the local reducing agent 8 by the obstacle 7 (for example, a thin pipe or a strut, etc.) having a small ratio in the flow passage cross-sectional area is more finely suppressed to achieve a uniform concentration distribution. can

상기 서술한 어느 하나의 구성에 있어서, 몇 개의 실시형태에서는, 예를 들어 도 2 및 도 3 에 예시하는 바와 같이, 상기 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 배기 가스 유로 (2) 의 폭 (W), 상기 흐름 방향에 있어서의 장애물 (7) 의 폭 (D) 으로서, 상기 흐름 방향에 있어서의 장애물 (7) 과 제 1 분사 노즐군 (21) 의 거리 (L) 가, 다음 식 (i) 또는 (ii) 를 만족시켜도 된다.In any one of the structures described above, in some embodiments, for example, as illustrated in FIGS. 2 and 3 , the exhaust gas flow path in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G The width (W) of (2), as the width (D) of the obstacle (7) in the flow direction, the distance (L) between the obstacle (7) and the first injection nozzle group (21) in the flow direction A, the following formula (i) or (ii) may be satisfied.

L ≤ 2W … (i)L ≤ 2W … (i)

L ≤ 20D … (ii)L ≤ 20D … (ii)

즉, 제 1 분사 노즐군 (21) 및 제 2 분사 노즐군 (22) 을 포함하는 분사 노즐군 (24) 과 장애물 (7) 의 배기 가스 유로 (2) 를 따른 거리 (L) 는, 배기 가스 유로 (2) 의 폭 (W) 의 대략 2 배 이하여도 되고, 또, 장애물 (7) 의 폭 (D) (예를 들어 배관 등이 장애물 (7) 인 경우에는 그 외경) 의 대략 20 배 이하여도 된다.That is, the distance L of the injection nozzle group 24 including the first injection nozzle group 21 and the second injection nozzle group 22 and the obstacle 7 along the exhaust gas flow path 2 is the exhaust gas It may be approximately twice the width W of the flow path 2 or less, or approximately 20 times or less the width D of the obstacle 7 (for example, when the pipe or the like is the obstacle 7, its outer diameter) may be

여기서, 장애물 (7) 로부터 충분히 떨어진 하류의 위치에서는 그 장애물 (7) 의 후류의 영향이 작아, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 농도 분포가 균일에 가까워지기 때문에, 분사 노즐군 (24) 을 국소적으로 구분할 필요성은 저하된다. 한편, 장애물 (7) 과 분사 노즐군 (24) 의 거리가 가깝고, 후류의 영향이 현저한 위치에서는 국소적으로 분사 노즐군 (24) 을 구분함으로써 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 효과적으로 저감시킬 수 있다.Here, at a position sufficiently far downstream from the obstacle 7, the influence of the wake of the obstacle 7 is small, and the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting with the flow direction of the exhaust gas G is Since it approaches uniformity, the necessity of dividing the injection nozzle group 24 locally falls. On the other hand, at a position where the distance between the obstacle 7 and the spray nozzle group 24 is close and the influence of the wake is significant, the local concentration distribution imbalance can be effectively reduced by dividing the spray nozzle group 24 locally.

이 점에서, 상기와 같이, 배기 가스 유로 (2) 의 폭 (W), 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 있어서의 장애물 (7) 의 폭 (D), 및 상기 흐름 방향에 있어서의 장애물 (7) 과 제 1 분사 노즐군 (21) 의 거리 (L) 가 상기 식 (i) 또는 식 (ii) 를 만족시키는 구성에 의하면, 장애물 (7) 의 후류의 영향이 큰 식 (i) 또는 식 (ii) 의 관계를 만족시키는 위치에 제 1 분사 노즐군 (21) 을 배치함으로써, 상기 서술한 어느 하나의 실시형태에서 서술한 효과를 최대한으로 누릴 수 있다.In this regard, as described above, the width W of the exhaust gas flow path 2, the width D of the obstacle 7 in the flow direction of the exhaust gas G, and the obstacle in the flow direction ( According to the configuration in which the distance L between 7) and the first injection nozzle group 21 satisfies the above formula (i) or (ii), the influence of the wake of the obstacle 7 is large in the formula (i) or formula By arranging the first injection nozzle group 21 at a position that satisfies the relation of (ii), the effects described in any one of the above-described embodiments can be maximally enjoyed.

또한, 상기 식 (i) 또는 (ii) 에 있어서의 거리 (L) 는, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 있어서 헤더관 (12) 의 하류측 단부, 즉 분사 노즐 (20) 의 기단부를 하류측단으로 해도 되고, 분사 노즐 (20) 의 하류측 단부를 하류측단으로 해도 된다. 또, 거리 (L) 의 상류측단은, 장애물 (7) 의 하류측 단부를 적용해도 되고, 장애물 (7) 의 중심 (예를 들어 도 3 에 있어서의 장애물 (7) 의 도심 (圖心)) 을 상류측단으로 해도 된다.In addition, the distance L in the said formula (i) or (ii) is the downstream end of the header pipe 12, ie, the proximal end of the injection nozzle 20, in the flow direction of the exhaust gas G It is good also as a side end, and it is good also considering the downstream end of the injection nozzle 20 as a downstream end. In addition, the downstream end of the obstacle 7 may be applied as the upstream end of the distance L, and the center of the obstacle 7 (for example, the centroid of the obstacle 7 in FIG. 3) may be taken as the upstream end.

상기 서술한 어느 하나의 구성에 있어서, 몇 개의 실시형태에서는, 예를 들어 도 3 에 예시하는 바와 같이, 제 1 분사 노즐군 (21) 은, 예를 들어 배기 가스 (G) 의 흐름 방향 내지 배기 가스 유로 (2) 의 관축에 대해 장애물 (7) 에 의한 편류가 미치는 각도 범위를 θ 로 한 경우에, 배기 가스 유로 (2) 의 폭 (W) 방향에 대해, D + 2Lsinθ 의 범위에 포함되는 분사 노즐 (20) 을 제 1 분사 노즐 (21A) 로서 포함하고 있어도 된다.In any one of the structures described above, in some embodiments, for example, as illustrated in FIG. 3 , the first injection nozzle group 21 is, for example, in the flow direction or exhaust of the exhaust gas G When the angular range of the drift by the obstacle 7 with respect to the pipe axis of the gas flow path 2 is set to θ, with respect to the width (W) direction of the exhaust gas flow path 2, it is included in the range of D + 2Lsinθ The injection nozzle 20 may be included as 21 A of 1st injection nozzles.

또, 몇 개의 실시형태에서는, 예를 들어 제 1 분사 노즐군 (21) 의 상류에 위치하는 장애물 (7) 의 흐름 방향으로의 투영에 대해 상기 일 방향으로 어긋나 배치된 분사 노즐 (20) 을 제 1 분사 노즐 (21A) 이라고 정의해도 된다. 예를 들어 제 1 분사 노즐 (21A) 은, 배기 가스 유로 (2) 의 하류를 향한 장애물 (7) 의 투영에 대해 그 배기 가스 유로 (2) 의 관축 방향에서 보아 전체가 오버랩되도록 배치되어 있어도 된다. 또, 제 1 분사 노즐 (21A) 은, 상기 장애물 (7) 의 투영에 대해 그 배기 가스 유로 (2) 의 관축 방향에서 보아 적어도 일부가 오버랩되도록 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 1 분사 노즐 (21A) 은, 상기 투영과는 오버랩되지 않도록 배기 가스 유로 (2) 의 폭 방향으로 어긋나 배치되어 있어도 된다.In addition, in some embodiments, for example, the injection nozzle 20 arranged to be shifted in the one direction with respect to the projection in the flow direction of the obstacle 7 located upstream of the first injection nozzle group 21 is eliminated. You may define as 21 A of 1 injection nozzles. For example, the first injection nozzle 21A may be arranged so that the entirety of the first injection nozzle 21A overlaps when viewed from the tube axis direction of the exhaust gas flow passage 2 with respect to the projection of the obstacle 7 toward the downstream side of the exhaust gas flow passage 2 . . Moreover, 21 A of 1st injection nozzles may be arrange|positioned with respect to the projection of the said obstacle 7, and may be arrange|positioned so that at least one part may overlap when viewed from the tube axis direction of the exhaust gas flow path 2 . In addition, 21 A of 1st injection nozzles may be shifted|shifted in the width direction of the exhaust gas flow path 2 so that it may not overlap with the said projection, and may be arrange|positioned.

또한, 제 1 분사 노즐군 (21) 은, 상류에 위치하는 장애물 (7) 의 투영에 대해, 배기 가스 유로 (2) 의 폭 방향 (배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향) 에 있어서 상기 투영의 가장 가까이에 위치하는 분사 노즐 (20) 을 제 1 분사 노즐 (21A) 로서 포함하고 있어도 된다. 혹은, 제 1 분사 노즐군 (21) 은, 상류에 위치하는 장애물 (7) 의 후류의 영향을 받을 수 있는 범위에 포함되는 하나 또는 복수의 분사 노즐 (20) 을 제 1 분사 노즐 (21A) 로서 포함하고 있어도 된다.In addition, the first injection nozzle group 21 is disposed in the width direction of the exhaust gas flow path 2 (one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G) with respect to the projection of the obstacle 7 located upstream. In this case, the injection nozzle 20 positioned closest to the projection may be included as the first injection nozzle 21A. Alternatively, in the first spray nozzle group 21, one or a plurality of spray nozzles 20 included in the range that can be affected by the wake of the obstacle 7 located upstream is used as the first spray nozzle 21A. may be included.

여기서, 장애물 (7) 에서 기인한 편류는, 그 장애물 (7) 의 형상, 장애물 (7) 과 분사 노즐 (20) 의 거리 (L), 혹은 배기 가스 (G) 의 유속 등에 따라 다양하게 변화될 수 있기 때문에, 배기 가스 (G) 의 흐름에 있어서 장애물 (7) 의 엄밀한 하류 위치에 배치된 분사 노즐 (20) 로부터의 분사량을 조정하는 것만으로는 농도 분포의 균일화를 효율적으로 실시할 수 없을 우려가 있다.Here, the drift caused by the obstacle 7 may be variously changed depending on the shape of the obstacle 7, the distance L between the obstacle 7 and the injection nozzle 20, or the flow rate of the exhaust gas G, etc. Therefore, in the flow of the exhaust gas G, there is a fear that the uniformity of the concentration distribution cannot be efficiently performed only by adjusting the injection amount from the injection nozzle 20 arranged at a position strictly downstream of the obstacle 7 there is

이 점에서, 상기의 구성에 의하면, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 대한 장애물 (7) 의 투영에 대해, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향으로 어긋나 배치된 제 1 분사 노즐 (21A) 을 포함하는 제 1 분사 노즐군 (21) 에 대한 환원제 (8) 의 공급량을 개별적으로 조정할 수 있다. 따라서, 배기 가스 유로 (2) 내에 있어서의 장애물 (7) 등의 여러 가지 배치나 설계에 따라, 복수의 분사 노즐 (20) 중 제 1 분사 노즐군 (21) 으로서 구분하는 분사 노즐 (20) 을 결정할 때의 설계 자유도를 향상시킬 수 있다.In this regard, according to the above configuration, with respect to the projection of the obstacle 7 with respect to the flow direction of the exhaust gas G, the first injection nozzle disposed to be shifted in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G The supply amount of the reducing agent 8 to the first injection nozzle group 21 including 21A can be individually adjusted. Accordingly, according to various arrangements and designs of the obstacles 7 and the like in the exhaust gas flow path 2 , the injection nozzles 20 divided into the first injection nozzle group 21 among the plurality of injection nozzles 20 are selected. Design freedom when making decisions can be improved.

도 4 는 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치에 의한 환원제의 농도 조정을 개략적으로 나타내는 측단면도이다.Fig. 4 is a side sectional view schematically showing adjustment of the concentration of the reducing agent by the reducing agent supply device according to the embodiment.

상기 서술한 어느 하나의 구성에 있어서, 몇 개의 실시형태에서는, 예를 들어 도 2 ∼ 도 4 에 예시하는 바와 같이, 복수의 분사 노즐 (20) 은, 배기 가스 유로 (2) 의 전체 폭에 걸쳐 이산적으로 배치되어 있어도 된다. 각 분사 노즐 (20) 간의 간격이나, 배기 가스 유로 (2) 의 폭 방향에 있어서의 분사 노즐 (20) 의 수 등은 임의로 설정해도 된다.In any one of the structures described above, in some embodiments, for example, as illustrated in FIGS. 2 to 4 , the plurality of injection nozzles 20 span the entire width of the exhaust gas flow path 2 . You may arrange|position them discretely. You may set the space|interval between each injection nozzle 20, the number of the injection nozzles 20 in the width direction of the exhaust gas flow path 2, etc. arbitrarily.

이와 같이, 복수의 분사 노즐 (20) 이 배기 가스 유로 (2) 의 전체 폭에 걸쳐 이산적으로 배치된 구성에 의하면, 배기 가스 유로 (2) 의 전체 폭에 걸쳐 환원제 (8) 의 농도 분포의 균일화를 도모할 수 있다. 따라서, 예를 들어 배기 가스 유로 (2) 의 전체 폭에 걸쳐 형성된 SCR 촉매 (3) 의 상류에 환원제 공급 장치 (10) 가 배치된 경우에, 배기 가스 유로 (2) 의 폭 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포를 균일화하는 효과를 최대한으로 누려 상기 SCR 촉매 (3) 의 탈질 성능을 최대한으로 발휘시킬 수 있다.In this way, according to the configuration in which the plurality of injection nozzles 20 are discretely arranged over the entire width of the exhaust gas flow path 2 , the concentration distribution of the reducing agent 8 over the entire width of the exhaust gas flow path 2 is equalization can be achieved. Therefore, for example, when the reducing agent supply device 10 is disposed upstream of the SCR catalyst 3 formed over the entire width of the exhaust gas flow path 2 , the reducing agent in the width direction of the exhaust gas flow path 2 . It is possible to maximize the effect of equalizing the concentration distribution of the SCR catalyst (3), thereby maximizing the denitration performance of the SCR catalyst (3).

또한, 복수의 분사 노즐 (20) 은, 예를 들어 도 4 에 예시하는 바와 같이, 배기 가스 유로 (2) 내의 폭 방향에 있어서, 배기 가스 (G) 의 유속이 상이한 유속역별로 구분되어 있어도 된다.In addition, as illustrated in FIG. 4, for example, the some injection nozzle 20 WHEREIN: In the width direction in the exhaust gas flow path 2, the flow velocity of the exhaust gas G may be divided for each different flow velocity region. .

도 5 는 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치에 있어서의 제어계의 구성을 나타내는 블록도이다.It is a block diagram which shows the structure of the control system in the reducing agent supply apparatus which concerns on one Embodiment.

상기 서술한 어느 하나의 구성에 있어서, 몇 개의 실시형태에서는, 예를 들어 도 2, 도 4 및 도 5 에 예시하는 바와 같이, 환원제 공급 장치 (10) 는, 흐름 방향에 있어서 복수의 분사 노즐군 (24) 의 하류에 배치되어, 상기 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 배기 가스 (G) 중의 환원제 (8) 의 농도 분포를 측정하기 위한 농도 센서 (40) 와, 복수의 환원제 공급 라인 (30) 의 각각에 대응하여 형성된 복수의 유량 조정 밸브 (32) 및 당해 복수의 유량 조정 밸브 (32) 의 각각의 개도를 독립적으로 변경 가능한 복수의 밸브 액추에이터 (34) 와, 농도 센서 (40) 의 검출 신호에 따라 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 농도 분포를 균일화하도록 밸브 액추에이터 (34) 를 구동시키는 컨트롤러 (50) 를 추가로 구비하고 있어도 된다.In any one of the structures described above, in some embodiments, for example, as illustrated in FIGS. 2, 4, and 5 , the reducing agent supply device 10 includes a plurality of injection nozzle groups in the flow direction. a concentration sensor (40) disposed downstream of (24) for measuring a concentration distribution of the reducing agent (8) in the exhaust gas (G) in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas (G); A plurality of flow control valves 32 formed corresponding to each of the plurality of reducing agent supply lines 30 and a plurality of valve actuators 34 capable of independently changing the respective opening degrees of the plurality of flow control valves 32; A controller 50 for driving the valve actuator 34 to equalize the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G according to the detection signal of the concentration sensor 40 is added may be provided as

농도 센서 (40) 는, 예를 들어 배기 가스 유로 (2) 의 폭 방향에 있어서의 환원제의 농도 분포를 측정하도록 구성되어 있어도 된다.The concentration sensor 40 may be configured to measure the concentration distribution of the reducing agent in the width direction of the exhaust gas flow passage 2 , for example.

컨트롤러 (50) 는, 예를 들어 컴퓨터이며, CPU (51), 그 CPU (51) 가 실행하는 각종 프로그램이나 테이블 등의 데이터를 기억하기 위한 기억부로서의 ROM (Read Only Memory) (53), 각 프로그램을 실행할 때의 전개 영역이나 연산 영역 등의 워크 영역으로서 기능하는 RAM (Random Access Memory) (52) 외에, 도시되지 않은 대용량 기억 장치로서의 하드 디스크 드라이브 (HDD), 통신 네트워크에 접속하기 위한 통신 인터페이스, 및 외부 기억 장치가 장착되는 액세스부 등을 구비하고 있어도 된다. 이것들은 모두, 버스 (55) 를 통하여 접속되어 있다. 또한, 컨트롤러 (50) 는, 예를 들어, 키보드나 마우스, 터치 패널 등으로 이루어지는 입력부 (도시 생략) 및 데이터를 표시하는 액정 표시 장치 등으로 이루어지는 표시부 (도시 생략) 등과 접속되어 있어도 된다.The controller 50 is, for example, a computer, and includes a CPU 51 and a ROM (Read Only Memory) 53 as a storage unit for storing data such as various programs and tables executed by the CPU 51, each In addition to a RAM (Random Access Memory) 52 functioning as a work area such as a development area for executing a program or a arithmetic area, a hard disk drive (HDD) as a mass storage device (not shown), a communication interface for connecting to a communication network , and an access unit to which an external storage device is mounted may be provided. All of these are connected via the bus 55 . Further, the controller 50 may be connected to, for example, an input unit (not shown) composed of a keyboard, mouse, touch panel, or the like, and a display unit (not shown) composed of a liquid crystal display device for displaying data, or the like.

몇 개의 실시형태에서는, ROM (53) 내에, 예를 들어 농도 센서 (40) 로부터의 검출 신호에 따라, 배기 가스 유로 (2) 의 폭 방향에 있어서의 환원제의 농도가 균일해지도록, 각각의 밸브 액추에이터 (34) 를 구동시켜 유량 조정 밸브 (32) 의 개도를 조정하고, 각각의 제 1 분사 노즐군 (21) 또는 제 2 분사 노즐군 (22) 의 분사 노즐 (20) 로부터 분사되는 환원제의 분사량을 조정하기 위한 환원제 분사량 조정 프로그램 (54) 이 격납되어 있어도 된다.In some embodiments, in the ROM 53 , for example, in response to a detection signal from the concentration sensor 40 , each valve is configured such that the concentration of the reducing agent in the width direction of the exhaust gas flow path 2 becomes uniform. The actuator 34 is driven to adjust the opening degree of the flow control valve 32 , and the injection amount of the reducing agent injected from the injection nozzles 20 of each of the first injection nozzle group 21 or the second injection nozzle group 22 . A reducing agent injection amount adjustment program 54 for adjusting .

이와 같이 농도 센서 (40), 유량 조정 밸브 (32), 밸브 액추에이터 (34) 및 컨트롤러 (50) 를 추가로 구비한 구성에 의하면, 농도 센서 (40) 로부터의 검출 신호에 따라 컨트롤러 (50) 가 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 농도 분포를 균일화하도록 각각의 밸브 액추에이터 (34) 를 피드백 제어할 수 있다. 이로써, 예를 들어 작업원에 의한 개별의 유량 조정 밸브 (32) 의 개도 조정 작업을 필요로 하지 않고, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 농도 분포를 실시간으로 균일화할 수 있다.According to the configuration further provided with the concentration sensor 40, the flow rate control valve 32, the valve actuator 34, and the controller 50 in this way, the controller 50 according to the detection signal from the concentration sensor 40 Each of the valve actuators 34 can be feedback-controlled so that the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G may be equalized. Thereby, for example, the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G is not required, without requiring an operation for adjusting the opening degree of the individual flow control valve 32 by an operator. can be equalized in real time.

계속해서 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 방법에 대해 설명한다.Subsequently, a reducing agent supply method according to at least one embodiment of the present invention will be described.

도 6 은 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 방법을 나타내는 플로 차트이다.6 is a flowchart showing a reducing agent supply method according to at least one embodiment of the present invention.

도 6 에 예시하는 바와 같이, 본 발명의 적어도 일 실시형태에 관련된 환원제 공급 장치 (10) 의 운용 방법은, 장애물 (7) 이 배치된 배기 가스 유로 (2) 내에 있어서의 SCR 촉매 (3) 의 상류에 환원제 (8) 를 공급하기 위한 환원제 공급 장치 (10) 의 운용 방법이다.As illustrated in FIG. 6 , in the operating method of the reducing agent supply device 10 according to at least one embodiment of the present invention, the SCR catalyst 3 in the exhaust gas flow path 2 in which the obstacle 7 is disposed. It is an operating method of the reducing agent supply apparatus 10 for supplying the reducing agent 8 upstream.

이 방법에 있어서의 환원제 공급 장치 (10) 는, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 있어서의 장애물 (7) 의 하류에 있어서, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 간격을 두고 배치된 복수의 분사 노즐 (20) 과, 복수의 분사 노즐 (20) 에 대해 환원제 (8) 를 공급하도록 구성된 복수의 환원제 공급 라인 (30) 을 구비하고 있다. 복수의 분사 노즐 (20) 중, 장애물 (7) 의 하류에 위치하는 분사 노즐 (20) 을 제 1 분사 노즐 (21A), 장애물 (7) 의 하류에 위치하지 않는 분사 노즐 (20) 을 제 2 분사 노즐 (22A) 이라고 정의한 경우에, 복수의 분사 노즐 (20) 은, 동일한 환원제 공급 라인 (30) 에 의해 환원제 (8) 가 공급되도록 구성된 적어도 하나의 분사 노즐 (20) 을 포함하는 복수의 분사 노즐군 (24) 으로서, 제 1 분사 노즐 (21A) 을 포함하는 분사 노즐군 (24) 인 제 1 분사 노즐군 (21), 및 제 2 분사 노즐 (22A) 을 포함하는 분사 노즐군 (24) 인 제 2 분사 노즐군 (22) 을 포함하는 복수의 분사 노즐군 (24) 으로 구분된다.In this method, the reducing agent supply device 10 is spaced along one direction intersecting with respect to the flow direction of the exhaust gas G, downstream of the obstacle 7 in the flow direction of the exhaust gas G A plurality of injection nozzles 20 arranged so as to be disposed therebetween, and a plurality of reducing agent supply lines 30 configured to supply the reducing agent 8 to the plurality of injection nozzles 20 are provided. Among the plurality of injection nozzles 20 , the first injection nozzle 21A is the injection nozzle 20 located downstream of the obstacle 7 , and the injection nozzle 20 that is not located downstream of the obstacle 7 is the second When defined as the spray nozzle 22A, the plurality of spray nozzles 20 is a plurality of spray nozzles including at least one spray nozzle 20 configured to be supplied with the reducing agent 8 by the same reducing agent supply line 30 . As the nozzle group 24 , a first injection nozzle group 21 which is an injection nozzle group 24 including the first injection nozzle 21A, and a injection nozzle group 24 including the second injection nozzle 22A It is divided into a plurality of injection nozzle groups 24 including the phosphorus second injection nozzle group 22 .

그리고, 환원제 공급 장치 (10) 의 운용 방법은, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 있어서의 복수의 분사 노즐 (20) 의 하류에서 상기 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 또는 NOx 의 농도 분포를 측정하는 스텝 (스텝 S10) 과, 그 농도 분포의 측정 결과에 따라, 제 1 분사 노즐군 (21) 및 제 2 분사 노즐군 (22) 에 공급하는 환원제 (8) 의 양을 개별적으로 조정하는 스텝 (스텝 S20) 을 구비하고 있다.And, in the operating method of the reducing agent supply device 10, downstream of the plurality of injection nozzles 20 in the flow direction of the exhaust gas G, in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G, measuring the concentration distribution of the reducing agent 8 or NOx (step S10), and the reducing agent supplied to the first injection nozzle group 21 and the second injection nozzle group 22 according to the measurement result of the concentration distribution A step (step S20) of individually adjusting the amount of (8) is provided.

이 방법에 의하면, 배기 가스 (G) 의 유로 (2) 내에 그 배기 가스 (G) 의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 배치된 복수의 분사 노즐 (20) 이, 장애물 (7) 의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐 (21A) 을 포함하는 제 1 분사 노즐군 (21) 과, 장애물 (7) 의 하류에 위치하지 않는 제 2 분사 노즐 (22A) 을 포함하는 분사 노즐군 (24) 으로 구분되고, 각각의 분사 노즐군 (24) 에는 동일한 환원제 공급 라인 (30) 에 의해 환원제 (8) 가 공급된다. 이로써, 장애물 (7) 의 하류에 위치하는 제 1 분사 노즐 (21A) 을 포함하는 제 1 분사 노즐군 (21) 으로부터 분사하는 환원제 (8) 의 분사량을 제 2 분사 노즐군 (22) 과는 독립적으로 조정할 수 있다. 따라서, 만일 장애물 (7) 의 존재에 의해 그 장애물 (7) 의 하류에 편류가 발생해도, 제 1 분사 노즐군 (21) 에 공급하는 환원제 (8) 의 양을 적절히 조정하면, 상기 편류에서 기인하여 분사 노즐군 (24) 의 하류에서 발생하는, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제할 수 있다. 또한, 복수의 분사 노즐 (20) 의 하류에서 측정된 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 농도 분포에 따라 환원제 (8) 의 농도 분포를 균일화하도록 제 1 분사 노즐군 (21) 및 제 2 분사 노즐군 (22) 에 공급하는 환원제 (8) 의 양을 개별적으로 조정할 수 있다. 이로써, 예를 들어 작업원에 의한 개별의 분사 노즐 (20) 의 개도 조정 작업을 필요로 하지 않고, 배기 가스 (G) 의 흐름 방향과 교차하는 일 방향에 있어서의 환원제 (8) 의 농도 분포를 균일화할 수 있다.According to this method, in the flow path 2 of the exhaust gas G, a plurality of injection nozzles 20 arranged along one direction intersecting with respect to the flow direction of the exhaust gas G are disposed downstream of the obstacle 7 . a first spray nozzle group 21 including a first spray nozzle 21A positioned at are separated, and the reducing agent 8 is supplied to each injection nozzle group 24 by the same reducing agent supply line 30 . Thereby, the injection amount of the reducing agent 8 injected from the 1st injection nozzle group 21 including the 1st injection nozzle 21A located downstream of the obstacle 7 is independent of the 2nd injection nozzle group 22 can be adjusted with Therefore, even if a drift occurs downstream of the obstacle 7 due to the existence of the obstacle 7, if the amount of the reducing agent 8 supplied to the first injection nozzle group 21 is appropriately adjusted, the drift is caused Thus, it is possible to suppress the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G, which occurs downstream of the injection nozzle group 24 . In addition, according to the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G measured downstream of the plurality of injection nozzles 20, the concentration distribution of the reducing agent 8 is equalized. The quantity of the reducing agent 8 supplied to the 1 injection nozzle group 21 and the 2nd injection nozzle group 22 can be adjusted individually. Thereby, for example, the concentration distribution of the reducing agent 8 in one direction intersecting the flow direction of the exhaust gas G is obtained without requiring an operation for adjusting the opening degree of the individual injection nozzles 20 by an operator. can be equalized.

이상 서술한 본 발명의 적어도 일 실시형태에 의하면, 장애물 (7) 에서 기인한 편류의 영향에 의한 환원제 (8) 의 국소적인 농도 분포의 언밸런스를 억제 가능한 환원제 공급 장치 (10), 및 환원제 공급 장치 (10) 의 운용 방법을 제공할 수 있다.According to at least one embodiment of the present invention described above, the reducing agent supply device 10 capable of suppressing the imbalance of the local concentration distribution of the reducing agent 8 due to the influence of the drift caused by the obstacle 7 , and the reducing agent supply device (10) can provide an operating method.

본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되지 않고, 상기 서술한 실시형태에 변형을 더한 형태나, 이들 형태를 적절히 조합한 형태도 포함한다.This invention is not limited to embodiment mentioned above, The form which added the deformation|transformation to the above-mentioned embodiment, and the form which combined these forms suitably are also included.

1 : 탈질 장치
2 : 배기 가스 유로 (유로/연도)
3 : SCR 촉매 (탈질 촉매)
4 : 보일러
5 : 화로
6 : 연도
7 : 장애물
8 : 환원제
10 : 환원제 공급 장치
12 : 헤더관
12A : 제 1 헤더관 세그먼트
12B : 제 2 헤더관 세그먼트
20 : 분사 노즐
21 : 제 1 분사 노즐군
21A : 제 1 분사 노즐
22 : 제 2 분사 노즐군
22A : 제 2 분사 노즐
24 : 분사 노즐군
30 : 환원제 공급 라인
32 : 유량 조정 밸브
34 : 밸브 액추에이터
40 : 농도 센서
50 : 컨트롤러
51 : CPU
52 : RAM
53 : ROM
54 : 환원제 분사량 조정 프로그램
55 : 버스
100 : 보일러 시스템
G : 배기 가스
1: denitrification device
2: exhaust gas flow path (euro/year)
3: SCR catalyst (denitration catalyst)
4: Boiler
5: Brazier
6: year
7: obstacle
8: reducing agent
10: reducing agent supply device
12: header tube
12A: first header tube segment
12B: second header tube segment
20: spray nozzle
21: first injection nozzle group
21A: first injection nozzle
22: 2nd injection nozzle group
22A: second injection nozzle
24: spray nozzle group
30: reducing agent supply line
32: flow control valve
34: valve actuator
40: concentration sensor
50 : controller
51: CPU
52: RAM
53 : ROM
54: reducing agent injection amount adjustment program
55 : bus
100: boiler system
G: exhaust gas

Claims (6)

장애물이 배치된 배기 가스의 유로 내에 있어서의 SCR 촉매의 상류에 환원제를 공급하기 위한 환원제 공급 장치로서,
상기 배기 가스의 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물의 하류에 있어서, 상기 배기 가스의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 간격을 두고 배치된 복수의 분사 노즐과,
상기 복수의 분사 노즐에 대해 상기 환원제를 공급하도록 구성된 복수의 환원제 공급 라인을 구비하고,
상기 복수의 분사 노즐 중, 상기 장애물의 하류에 위치하는 분사 노즐을 제 1 분사 노즐, 상기 장애물의 하류에 위치하지 않는 분사 노즐을 제 2 분사 노즐이라고 정의한 경우에,
상기 복수의 분사 노즐은, 동일한 상기 환원제 공급 라인에 의해 상기 환원제가 공급되도록 구성된 적어도 하나의 분사 노즐을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로서, 상기 제 1 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 1 분사 노즐군, 및 상기 제 2 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 2 분사 노즐군을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로 구분되는, 환원제 공급 장치.
A reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path having an obstacle disposed therein, comprising:
a plurality of injection nozzles arranged at intervals along one direction intersecting with respect to the flow direction of the exhaust gas downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas;
and a plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of spray nozzles,
Among the plurality of injection nozzles, when the injection nozzle located downstream of the obstacle is defined as the first injection nozzle and the injection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as the second injection nozzle,
The plurality of injection nozzles are a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and the first injection nozzle group including the first injection nozzle The reducing agent supply device, which is divided into a plurality of spray nozzle groups including a nozzle group, and a second spray nozzle group that is the spray nozzle group including the second spray nozzle.
제 1 항에 있어서,
하나의 상기 제 1 분사 노즐군에 포함되는 상기 제 1 분사 노즐의 수가, 하나의 상기 제 2 분사 노즐군에 포함되는 상기 제 2 분사 노즐의 수보다 적은, 환원제 공급 장치.
The method of claim 1,
The number of the first injection nozzles included in one of the first injection nozzle groups is smaller than the number of the second injection nozzles included in the one second injection nozzle group, the reducing agent supply device.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 일 방향에 있어서의 상기 유로의 폭 (W), 상기 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물의 폭 (D) 으로서, 상기 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물과 상기 제 1 분사 노즐군의 거리 (L) 가, W 의 2 배 이하, 또는 D 의 20 배 이하인, 환원제 공급 장치.
3. The method of claim 1 or 2,
As the width (W) of the flow path in the one direction and the width (D) of the obstacle in the flow direction, the distance (L) between the obstacle and the first injection nozzle group in the flow direction is , 2 times or less of W, or 20 times or less of D, a reducing agent supply device.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 복수의 분사 노즐은, 상기 유로의 전체 폭에 걸쳐 이산적으로 배치되어 있는, 환원제 공급 장치.
3. The method of claim 1 or 2,
The plurality of injection nozzles are discretely arranged over the entire width of the flow path.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 흐름 방향에 있어서 상기 복수의 분사 노즐군의 하류에 배치되어, 상기 일 방향에 있어서의 상기 배기 가스 중의 상기 환원제 또는 NOx 의 농도 분포를 측정하기 위한 농도 센서와,
상기 복수의 환원제 공급 라인의 각각에 대응하여 형성된 복수의 유량 조정 밸브 및 당해 복수의 유량 조정 밸브의 각각의 개도를 독립적으로 변경 가능한 복수의 밸브 액추에이터와,
상기 농도 센서의 검출 신호에 따라 상기 밸브 액추에이터를 구동시키는 컨트롤러를 추가로 구비한, 환원제 공급 장치.
3. The method of claim 1 or 2,
a concentration sensor disposed downstream of the plurality of injection nozzle groups in the flow direction to measure a concentration distribution of the reducing agent or NOx in the exhaust gas in the one direction;
A plurality of flow control valves formed corresponding to each of the plurality of reducing agent supply lines and a plurality of valve actuators capable of independently changing the respective opening degrees of the plurality of flow control valves;
A reducing agent supply device further comprising a controller for driving the valve actuator in accordance with the detection signal of the concentration sensor.
장애물이 배치된 배기 가스의 유로 내에 있어서의 SCR 촉매의 상류에 환원제를 공급하기 위한 환원제 공급 장치의 운용 방법으로서,
상기 환원제 공급 장치는,
상기 배기 가스의 흐름 방향에 있어서의 상기 장애물의 하류에 있어서, 상기 배기 가스의 흐름 방향에 대해 교차하는 일 방향을 따라 간격을 두고 배치된 복수의 분사 노즐과,
상기 복수의 분사 노즐에 대해 상기 환원제를 공급하도록 구성된 복수의 환원제 공급 라인을 구비하고,
상기 복수의 분사 노즐 중, 상기 장애물의 하류에 위치하는 분사 노즐을 제 1 분사 노즐, 상기 장애물의 하류에 위치하지 않는 분사 노즐을 제 2 분사 노즐이라고 정의한 경우에,
상기 복수의 분사 노즐은, 동일한 상기 환원제 공급 라인에 의해 상기 환원제가 공급되도록 구성된 적어도 하나의 분사 노즐을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로서, 상기 제 1 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 1 분사 노즐군, 및 상기 제 2 분사 노즐을 포함하는 상기 분사 노즐군인 제 2 분사 노즐군을 포함하는 복수의 분사 노즐군으로 구분되고,
상기 환원제 공급 장치의 운용 방법은,
상기 배기 가스의 흐름 방향에 있어서의 상기 복수의 분사 노즐의 하류에서 상기 일 방향에 있어서의 상기 환원제 또는 NOx 의 농도 분포를 측정하는 스텝과,
상기 농도 분포의 측정 결과에 따라, 상기 제 1 분사 노즐군 및 상기 제 2 분사 노즐군에 공급하는 상기 환원제의 양을 개별적으로 조정하는 스텝을 구비하는, 환원제 공급 장치의 운용 방법.
A method of operating a reducing agent supply device for supplying a reducing agent upstream of an SCR catalyst in an exhaust gas flow path having an obstacle disposed therein, comprising:
The reducing agent supply device,
a plurality of injection nozzles arranged at intervals along one direction intersecting with respect to the flow direction of the exhaust gas downstream of the obstacle in the flow direction of the exhaust gas;
and a plurality of reducing agent supply lines configured to supply the reducing agent to the plurality of spray nozzles,
Among the plurality of injection nozzles, when the injection nozzle located downstream of the obstacle is defined as the first injection nozzle and the injection nozzle not located downstream of the obstacle is defined as the second injection nozzle,
The plurality of injection nozzles are a plurality of injection nozzle groups including at least one injection nozzle configured to supply the reducing agent through the same reducing agent supply line, and the first injection nozzle group including the first injection nozzle It is divided into a plurality of spray nozzle groups including a nozzle group, and a second spray nozzle group that is the spray nozzle group including the second spray nozzle,
The operating method of the reducing agent supply device,
measuring the concentration distribution of the reducing agent or NOx in the one direction downstream of the plurality of injection nozzles in the flow direction of the exhaust gas;
and individually adjusting the amounts of the reducing agent supplied to the first injection nozzle group and the second injection nozzle group according to a measurement result of the concentration distribution.
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